JPH10228606A - 磁気ヘッドおよびその製造方法 - Google Patents
磁気ヘッドおよびその製造方法Info
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- JPH10228606A JPH10228606A JP9031594A JP3159497A JPH10228606A JP H10228606 A JPH10228606 A JP H10228606A JP 9031594 A JP9031594 A JP 9031594A JP 3159497 A JP3159497 A JP 3159497A JP H10228606 A JPH10228606 A JP H10228606A
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- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/187—Structure or manufacture of the surface of the head in physical contact with, or immediately adjacent to the recording medium; Pole pieces; Gap features
- G11B5/1875—"Composite" pole pieces, i.e. poles composed in some parts of magnetic particles and in some other parts of magnetic metal layers
- G11B5/1877—"Composite" pole pieces, i.e. poles composed in some parts of magnetic particles and in some other parts of magnetic metal layers including at least one magnetic thin film
- G11B5/1878—"Composite" pole pieces, i.e. poles composed in some parts of magnetic particles and in some other parts of magnetic metal layers including at least one magnetic thin film disposed immediately adjacent to the transducing gap, e.g. "Metal-In-Gap" structure
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- G—PHYSICS
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- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/133—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive with cores composed of particles, e.g. with dust cores, with ferrite cores with cores composed of isolated magnetic particles
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- B32B17/06—Layered products essentially comprising sheet glass, or glass, slag, or like fibres comprising glass as the main or only constituent of a layer, next to another layer of a specific material
- B32B17/10—Layered products essentially comprising sheet glass, or glass, slag, or like fibres comprising glass as the main or only constituent of a layer, next to another layer of a specific material of synthetic resin
- B32B17/10005—Layered products essentially comprising sheet glass, or glass, slag, or like fibres comprising glass as the main or only constituent of a layer, next to another layer of a specific material of synthetic resin laminated safety glass or glazing
- B32B17/10009—Layered products essentially comprising sheet glass, or glass, slag, or like fibres comprising glass as the main or only constituent of a layer, next to another layer of a specific material of synthetic resin laminated safety glass or glazing characterized by the number, the constitution or treatment of glass sheets
- B32B17/10082—Properties of the bulk of a glass sheet
- B32B17/10119—Properties of the bulk of a glass sheet having a composition deviating from the basic composition of soda-lime glass, e.g. borosilicate
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- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Magnetic Heads (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 ＭＩＧヘッドのギャップ精度をより向上させ
ることで、歩留まりが高く、信頼性の高いＭＩＧヘッド
およびその製造方法を提供する。 【解決手段】 少なくとも片側の磁気コアが強磁性酸化
物のギャップ対向面上に金属磁性膜が形成されたＭＩＧ
ヘッドの磁気ギャップが、Ｃｒ2Ｏ3、あるいはＣｒ2Ｏ3
をＳｉＯ2を主成分とする非磁性酸化物で挟持した構造
のギャップ材で形成されていることを特徴とする磁気ヘ
ッドである。
ることで、歩留まりが高く、信頼性の高いＭＩＧヘッド
およびその製造方法を提供する。 【解決手段】 少なくとも片側の磁気コアが強磁性酸化
物のギャップ対向面上に金属磁性膜が形成されたＭＩＧ
ヘッドの磁気ギャップが、Ｃｒ2Ｏ3、あるいはＣｒ2Ｏ3
をＳｉＯ2を主成分とする非磁性酸化物で挟持した構造
のギャップ材で形成されていることを特徴とする磁気ヘ
ッドである。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明はデジタルＶＴＲやデ
ータストリーマ等のシステムに用いられる高保磁力の磁
気記録媒体に高密度に情報を記録再生するのに適した磁
気ヘッド、及びその製造方法に関するものである。
ータストリーマ等のシステムに用いられる高保磁力の磁
気記録媒体に高密度に情報を記録再生するのに適した磁
気ヘッド、及びその製造方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】ＶＴＲやデータストリーマ等の磁気記録
システムの高密度化が要求される中、高密度磁気記録再
生に適した磁気ヘッドとして、従来のフェライト材料よ
りも飽和磁束密度Ｂｓの高い材料であるＣｏ系アモルフ
ァス膜やＦｅ系窒化膜等の金属磁性材料を用いた磁気ヘ
ッド、その中でも特にＭＩＧヘッドの開発が盛んに行わ
れている。
システムの高密度化が要求される中、高密度磁気記録再
生に適した磁気ヘッドとして、従来のフェライト材料よ
りも飽和磁束密度Ｂｓの高い材料であるＣｏ系アモルフ
ァス膜やＦｅ系窒化膜等の金属磁性材料を用いた磁気ヘ
ッド、その中でも特にＭＩＧヘッドの開発が盛んに行わ
れている。
【０００３】従来のＭＩＧヘッドの構造としては、おも
に図１に示すように磁気コアであるフェライト２の磁気
ギャップ対向面上に飽和磁束密度の高い金属磁性膜１を
形成し、金属磁性膜間に磁気ギャップ６を設けた構造が
主流で、その磁気ギャップは主にＣｒ８をＳｉＯ2７で
挟持した構造となっていた。
に図１に示すように磁気コアであるフェライト２の磁気
ギャップ対向面上に飽和磁束密度の高い金属磁性膜１を
形成し、金属磁性膜間に磁気ギャップ６を設けた構造が
主流で、その磁気ギャップは主にＣｒ８をＳｉＯ2７で
挟持した構造となっていた。
【０００４】また、従来のＭＩＧヘッドの製造方法を図
２ー（ａ）〜（ｆ）に示す。まず、一対のフェライトコ
ア２に巻線溝１２及びバックガラス溝１３を形成し、次
にトラック溝１４を形成する。次にギャップ対向面１５
を研磨した後に金属磁性膜１をギャップ対向面上に形成
し、その上にギャップ材として、ＳｉＯ2７とＣｒ８を
順次スパッタリングで形成する。そして一対のコア半体
をギャップ面で突き合わせ、低融点鉛ガラス４を熱処理
によりＣｒ８上にモールドしてコアをギャップで接合
し、一つのギャップドバーを作成する。
２ー（ａ）〜（ｆ）に示す。まず、一対のフェライトコ
ア２に巻線溝１２及びバックガラス溝１３を形成し、次
にトラック溝１４を形成する。次にギャップ対向面１５
を研磨した後に金属磁性膜１をギャップ対向面上に形成
し、その上にギャップ材として、ＳｉＯ2７とＣｒ８を
順次スパッタリングで形成する。そして一対のコア半体
をギャップ面で突き合わせ、低融点鉛ガラス４を熱処理
によりＣｒ８上にモールドしてコアをギャップで接合
し、一つのギャップドバーを作成する。
【０００５】また、従来は熱処理中の雰囲気を不活性ガ
スであるＮ2フロー中としている。その理由としては使
用している金属磁性膜の熱処理による酸化を防ぐためで
ある。その後、所定のヘッドチップコア幅、アジマス角
度でヘッドチップに切断し、摺動面を研磨してヘッドチ
ップが完成する。
スであるＮ2フロー中としている。その理由としては使
用している金属磁性膜の熱処理による酸化を防ぐためで
ある。その後、所定のヘッドチップコア幅、アジマス角
度でヘッドチップに切断し、摺動面を研磨してヘッドチ
ップが完成する。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】ところが、従来の構造
のＭＩＧヘッドは、ギャップ長精度が悪く特性が安定し
ないという問題や、ギャップ長を光学顕微鏡で測定する
際にギャップ材として使用しているＣｒに光が反射し
て、ギャップ長を精度良く測定しにくい等の製造上の問
題が生じた。
のＭＩＧヘッドは、ギャップ長精度が悪く特性が安定し
ないという問題や、ギャップ長を光学顕微鏡で測定する
際にギャップ材として使用しているＣｒに光が反射し
て、ギャップ長を精度良く測定しにくい等の製造上の問
題が生じた。
【０００７】そこで、原因を解析した結果、従来のギャ
ップ材構成では、図３に示すようにギャップ材として使
用したＣｒが熱処理中の残留酸素や低融点鉛ガラス４中
の酸素により、部分的に酸化して不均一なＣｒ酸化物９
となって体積膨張し、膜厚が不均一になるために、ギャ
ップ長１０が安定しないことがわかった。
ップ材構成では、図３に示すようにギャップ材として使
用したＣｒが熱処理中の残留酸素や低融点鉛ガラス４中
の酸素により、部分的に酸化して不均一なＣｒ酸化物９
となって体積膨張し、膜厚が不均一になるために、ギャ
ップ長１０が安定しないことがわかった。
【０００８】また、従来Ｃｒをギャップ材として使用し
ている目的は、低融点鉛ガラスの濡れ性を向上させるた
めであり、Ｃｒを用いずＳｉＯ2等の酸化物だけでは、
図４に示すように低融点鉛カラス４の流れが悪くチップ
強度も大きく劣化するという課題があった。
ている目的は、低融点鉛ガラスの濡れ性を向上させるた
めであり、Ｃｒを用いずＳｉＯ2等の酸化物だけでは、
図４に示すように低融点鉛カラス４の流れが悪くチップ
強度も大きく劣化するという課題があった。
【０００９】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するた
め、本発明の磁気ヘッドは、少なくとも片側の磁気コア
が強磁性酸化物のギャップ対向面上に金属磁性膜が形成
されたＭＩＧヘッドの磁気ギャップが、Ｃｒ2Ｏ3からな
るギャップ材で形成されていることを特徴とする、ある
いは、少なくとも片側の磁気コアが強磁性酸化物のギャ
ップ対向面上に金属磁性膜が形成されたＭＩＧヘッドの
磁気ギャップが、Ｃｒ2Ｏ3をＳｉＯ2を主成分とする非
磁性酸化物で挟持した構造のギャップ材で形成されてい
ることを特徴とするものである。
め、本発明の磁気ヘッドは、少なくとも片側の磁気コア
が強磁性酸化物のギャップ対向面上に金属磁性膜が形成
されたＭＩＧヘッドの磁気ギャップが、Ｃｒ2Ｏ3からな
るギャップ材で形成されていることを特徴とする、ある
いは、少なくとも片側の磁気コアが強磁性酸化物のギャ
ップ対向面上に金属磁性膜が形成されたＭＩＧヘッドの
磁気ギャップが、Ｃｒ2Ｏ3をＳｉＯ2を主成分とする非
磁性酸化物で挟持した構造のギャップ材で形成されてい
ることを特徴とするものである。
【００１０】また、その磁気ヘッドの製造方法は、一対
の強磁性酸化物に溝を形成し、その後上記強磁性酸化物
の少なくとも片側のギャップ対向面上に金属磁性膜を形
成して、一対のコア半体を作製する工程と、上記コア半
体のギャップ対向面及び溝の表面にＣｒ2Ｏ3を形成、あ
るいはＳｉＯ2を主成分とする非磁性酸化物とＣｒ2Ｏ 3
を形成し、一対のコア半体同士をギャップ対向面上のＣ
ｒ2Ｏ3面で突き合わせ、ＰｂＯを主成分とする低融点ガ
ラスを上記溝中のＣｒ2Ｏ3上に熱処理によりモールド
し、コアを接合する工程とを有するＭＩＧヘッドの製造
において、上記熱処理の昇温過程で、少なくとも、 Ｔｇー８５℃≦Ｔ≦Ｔｇー３５℃ （但し、Ｔｇは上記低融点ガラスのガラス転移点であ
る）の温度範囲Ｔでは酸素を含有する雰囲気中で熱処理
することを特徴とするものである。
の強磁性酸化物に溝を形成し、その後上記強磁性酸化物
の少なくとも片側のギャップ対向面上に金属磁性膜を形
成して、一対のコア半体を作製する工程と、上記コア半
体のギャップ対向面及び溝の表面にＣｒ2Ｏ3を形成、あ
るいはＳｉＯ2を主成分とする非磁性酸化物とＣｒ2Ｏ 3
を形成し、一対のコア半体同士をギャップ対向面上のＣ
ｒ2Ｏ3面で突き合わせ、ＰｂＯを主成分とする低融点ガ
ラスを上記溝中のＣｒ2Ｏ3上に熱処理によりモールド
し、コアを接合する工程とを有するＭＩＧヘッドの製造
において、上記熱処理の昇温過程で、少なくとも、 Ｔｇー８５℃≦Ｔ≦Ｔｇー３５℃ （但し、Ｔｇは上記低融点ガラスのガラス転移点であ
る）の温度範囲Ｔでは酸素を含有する雰囲気中で熱処理
することを特徴とするものである。
【００１１】図５に、ＭＩＧヘッドの製造に用いている
電気炉でＣｒとＣｒ2Ｏ3を熱処理した後のそれぞれの膜
厚の変化を示す。５２０℃１０min.の熱処理ではＣｒが
約７０％膜厚増加しているのに対して、Ｃｒ2Ｏ3はほと
んど膜厚の変化がないことがわかる。これは、Ｃｒが熱
処理中の残留酸素により酸化して、Ｃｒ酸化物になり体
積膨張しているのに対して、Ｃｒ2Ｏ3は初めから酸化し
ているので熱処理による新たな酸化はなく、体積が一定
しているためである。
電気炉でＣｒとＣｒ2Ｏ3を熱処理した後のそれぞれの膜
厚の変化を示す。５２０℃１０min.の熱処理ではＣｒが
約７０％膜厚増加しているのに対して、Ｃｒ2Ｏ3はほと
んど膜厚の変化がないことがわかる。これは、Ｃｒが熱
処理中の残留酸素により酸化して、Ｃｒ酸化物になり体
積膨張しているのに対して、Ｃｒ2Ｏ3は初めから酸化し
ているので熱処理による新たな酸化はなく、体積が一定
しているためである。
【００１２】このことから、ＭＩＧヘッドの磁気ギャッ
プをＣｒ2Ｏ3、あるいはＣｒ2Ｏ3をＳｉＯ2を主成分と
する非磁性酸化物で挟持した構造のギャップ材で形成す
ることにより、熱処理による膜厚変化がなく、安定した
ギャップ長が実現できる。
プをＣｒ2Ｏ3、あるいはＣｒ2Ｏ3をＳｉＯ2を主成分と
する非磁性酸化物で挟持した構造のギャップ材で形成す
ることにより、熱処理による膜厚変化がなく、安定した
ギャップ長が実現できる。
【００１３】さらに、Ｃｒと異なりＣｒ2Ｏ3は透明であ
るので、従来Ｃｒで課題であった光のＣｒによる反射に
よりギャップ長を精度良く測定できない等の製造上の問
題がなくなる。
るので、従来Ｃｒで課題であった光のＣｒによる反射に
よりギャップ長を精度良く測定できない等の製造上の問
題がなくなる。
【００１４】ところが、現状のＣｒをＣｒ2Ｏ3にするだ
けでは、Ｃｒ2Ｏ3上でのガラスの流れはＳｉＯ2上に比
べ良いものの、従来のＣｒ上に比べ悪く、ＭＩＧヘッド
のギャップ強度が充分でないという課題がある。
けでは、Ｃｒ2Ｏ3上でのガラスの流れはＳｉＯ2上に比
べ良いものの、従来のＣｒ上に比べ悪く、ＭＩＧヘッド
のギャップ強度が充分でないという課題がある。
【００１５】そこで、Ｃｒ2Ｏ3上にガラスを充分に流す
手段について説明する。従来は熱処理中の雰囲気はＮ2
フローとしていたが、ガラスの濡れ性を改善することを
目的に、熱処理の昇温過程で一部大気（酸素を約２０％
含有）中熱処理を施こす検討を行った。図６は、熱処理
（最高温度５１０℃で１０ｍｉｎ．キープ）の昇温過程
で、ある温度Ｔｃまでは大気中熱処理を行い、その後Ｎ
2フロー中熱処理を行った時のＣｒ上及びＣｒ2Ｏ3上で
の低融点鉛ガラス（ガラス転移点Ｔｇ＝３８５℃）の濡
れ角を調べたものである。この結果より、低融点鉛ガラ
スはＣｒ2Ｏ3上でも大気置換温度Ｔｃ＝３５０℃以上の
熱処理を行うことで、Ｃｒ上とほぼ同等の濡れ性が実現
できることがわかった。したがって、Ｃｒ2Ｏ3上に低融
点鉛ガラスを流すには、熱処理の昇温過程で少なくとも
３００℃（ガラス転移点Ｔｇー８５℃）〜３５０℃（ガ
ラス転移点Ｔｇー３５℃）の温度範囲では大気中での熱
処理が必要である。また、ＳｉＯ2においても同等の検
討を行ったが、Ｔｃを５１０℃まで上げてもＣｒと同等
の濡れ性は実現できなかった。
手段について説明する。従来は熱処理中の雰囲気はＮ2
フローとしていたが、ガラスの濡れ性を改善することを
目的に、熱処理の昇温過程で一部大気（酸素を約２０％
含有）中熱処理を施こす検討を行った。図６は、熱処理
（最高温度５１０℃で１０ｍｉｎ．キープ）の昇温過程
で、ある温度Ｔｃまでは大気中熱処理を行い、その後Ｎ
2フロー中熱処理を行った時のＣｒ上及びＣｒ2Ｏ3上で
の低融点鉛ガラス（ガラス転移点Ｔｇ＝３８５℃）の濡
れ角を調べたものである。この結果より、低融点鉛ガラ
スはＣｒ2Ｏ3上でも大気置換温度Ｔｃ＝３５０℃以上の
熱処理を行うことで、Ｃｒ上とほぼ同等の濡れ性が実現
できることがわかった。したがって、Ｃｒ2Ｏ3上に低融
点鉛ガラスを流すには、熱処理の昇温過程で少なくとも
３００℃（ガラス転移点Ｔｇー８５℃）〜３５０℃（ガ
ラス転移点Ｔｇー３５℃）の温度範囲では大気中での熱
処理が必要である。また、ＳｉＯ2においても同等の検
討を行ったが、Ｔｃを５１０℃まで上げてもＣｒと同等
の濡れ性は実現できなかった。
【００１６】したがって、Ｃｒ2Ｏ3上では、熱処理にお
ける昇温過程で少なくとも（Ｔｇー８５℃）〜（Ｔｇー
３５℃）の温度範囲では大気中で熱処理を行う方法で、
Ｃｒ上と同等のガラスの濡れ性が実現できることがわか
る（但しＴｇは用いるガラスのガラス転移点である）。
ける昇温過程で少なくとも（Ｔｇー８５℃）〜（Ｔｇー
３５℃）の温度範囲では大気中で熱処理を行う方法で、
Ｃｒ上と同等のガラスの濡れ性が実現できることがわか
る（但しＴｇは用いるガラスのガラス転移点である）。
【００１７】
【発明の実施の形態】本発明の磁気ヘッドの実施形態に
ついて、図面を参照しながら説明する。
ついて、図面を参照しながら説明する。
【００１８】（実施例１）図７は本発明の実施例１の磁
気ヘッドの斜視図、及び摺動面から見た磁気ギャップ近
傍の拡大図を示す。磁気コアであるフェライト２の磁気
ギャップ対向面上に飽和磁束密度の高い金属磁性膜１が
形成され、金属磁性膜間にＣｒ2Ｏ3からなる磁気ギャッ
プ６が形成されている。また、コアのギャップにおける
接合は低融点鉛ガラス４で行われている。本実施例で
は、フェライトはＭｎーＺｎフェライト、金属磁性膜は
飽和磁束密度Ｂｓ＝１．６ＴのＦｅＴａＮ膜を用いた。
また、コアの接合に用いるガラスはＰｂＯを主成分とす
る低融点ガラスで、ガラス転移点Ｔｇ＝３８５℃のもの
を用いた。このヘッドの製造方法で従来と異なる点は、
図２に示した従来の磁気ヘッドの製造方法の中で、ギャ
ップ材をＣｒ2Ｏ3のみに変えてスパッタリングで形成す
る点と、その後低融点鉛ガラスを熱処理によりモールド
し、コアをギャップで接合する熱処理工程では、図６に
示すように、昇温時にＴｃ＝３５０℃まで大気中で熱処
理し、その後はＮ2フロー中で熱処理を行う方法に変え
ている点である。本実施例ではＣｒ2Ｏ3の厚みは１００
０Åとした。図８に従来のＣｒギャップ（ａ）の磁気ヘ
ッドと本発明のＣｒ2Ｏ3ギャップ（ｂ）の磁気ヘッドを
試作した時のＧＬ（ギャップ長）分布を示す。本発明の
Ｃｒ 2Ｏ3ギャップの磁気ヘッドはＧＬ分布が従来品に比
べ非常にシャープでバラツキが小さいことがわかる。ま
た、Ｃｒ2Ｏ3と金属磁性膜であるＦｅＴａＮとの反応も
ないことがわかった。このように本実施例の結果、ＧＬ
精度が向上し、安定したヘッド特性を得ることができ、
ヘッド製造歩留まりが大きく向上した。また、従来のＣ
ｒギャップに比べギャップ長も精度良く測定することが
可能となり、従来のようなヘッド製造上の課題を解決す
ることができた。
気ヘッドの斜視図、及び摺動面から見た磁気ギャップ近
傍の拡大図を示す。磁気コアであるフェライト２の磁気
ギャップ対向面上に飽和磁束密度の高い金属磁性膜１が
形成され、金属磁性膜間にＣｒ2Ｏ3からなる磁気ギャッ
プ６が形成されている。また、コアのギャップにおける
接合は低融点鉛ガラス４で行われている。本実施例で
は、フェライトはＭｎーＺｎフェライト、金属磁性膜は
飽和磁束密度Ｂｓ＝１．６ＴのＦｅＴａＮ膜を用いた。
また、コアの接合に用いるガラスはＰｂＯを主成分とす
る低融点ガラスで、ガラス転移点Ｔｇ＝３８５℃のもの
を用いた。このヘッドの製造方法で従来と異なる点は、
図２に示した従来の磁気ヘッドの製造方法の中で、ギャ
ップ材をＣｒ2Ｏ3のみに変えてスパッタリングで形成す
る点と、その後低融点鉛ガラスを熱処理によりモールド
し、コアをギャップで接合する熱処理工程では、図６に
示すように、昇温時にＴｃ＝３５０℃まで大気中で熱処
理し、その後はＮ2フロー中で熱処理を行う方法に変え
ている点である。本実施例ではＣｒ2Ｏ3の厚みは１００
０Åとした。図８に従来のＣｒギャップ（ａ）の磁気ヘ
ッドと本発明のＣｒ2Ｏ3ギャップ（ｂ）の磁気ヘッドを
試作した時のＧＬ（ギャップ長）分布を示す。本発明の
Ｃｒ 2Ｏ3ギャップの磁気ヘッドはＧＬ分布が従来品に比
べ非常にシャープでバラツキが小さいことがわかる。ま
た、Ｃｒ2Ｏ3と金属磁性膜であるＦｅＴａＮとの反応も
ないことがわかった。このように本実施例の結果、ＧＬ
精度が向上し、安定したヘッド特性を得ることができ、
ヘッド製造歩留まりが大きく向上した。また、従来のＣ
ｒギャップに比べギャップ長も精度良く測定することが
可能となり、従来のようなヘッド製造上の課題を解決す
ることができた。
【００１９】（実施例２）図９は本発明の実施例２の磁
気ヘッドの斜視図、及び摺動面から見た磁気ギャップ近
傍の拡大図を示す。磁気コアであるフェライト２の磁気
ギャップ対向面上に飽和磁束密度の高い金属磁性膜１が
形成され、金属磁性膜間にＣｒ2Ｏ3をＳｉＯ2で挟持し
た構造からなる磁気ギャップ６が形成されている。その
他の部分及び製造方法は実施例１と同様である。本実施
例ではＳｉＯ2の膜厚は６００Å、Ｃｒ2Ｏ3の膜厚は４
００Åとし、それぞれスパッタリングで形成した。その
結果、このヘッドのＧＬ分布は実施例１とほぼ同様で、
従来に比べＧＬ精度が向上し、安定したヘッド特性を得
ることができ、ヘッド製造歩留まりが大きく向上した。
また、ギャップ長の測定も精度良く測定することがで
き、従来のようなヘッド製造上の課題を解決することが
できた。
気ヘッドの斜視図、及び摺動面から見た磁気ギャップ近
傍の拡大図を示す。磁気コアであるフェライト２の磁気
ギャップ対向面上に飽和磁束密度の高い金属磁性膜１が
形成され、金属磁性膜間にＣｒ2Ｏ3をＳｉＯ2で挟持し
た構造からなる磁気ギャップ６が形成されている。その
他の部分及び製造方法は実施例１と同様である。本実施
例ではＳｉＯ2の膜厚は６００Å、Ｃｒ2Ｏ3の膜厚は４
００Åとし、それぞれスパッタリングで形成した。その
結果、このヘッドのＧＬ分布は実施例１とほぼ同様で、
従来に比べＧＬ精度が向上し、安定したヘッド特性を得
ることができ、ヘッド製造歩留まりが大きく向上した。
また、ギャップ長の測定も精度良く測定することがで
き、従来のようなヘッド製造上の課題を解決することが
できた。
【００２０】次に本実施例特有の効果を説明する。実施
例１のＣｒ2Ｏ3のみのギャップでは、熱処理温度が３５
０℃以上でのＮ2フロー雰囲気中に残留酸素があると、
雰囲気内の残留酸素と金属磁性膜であるＦｅＴａＮが反
応を起こし、ヘッド特性が劣化する場合があることがわ
かった。その原因としては、１０００ÅのＣｒ2Ｏ3のみ
では雰囲気中の残留酸素とＦｅＴａＮとの反応を抑制す
る効果が小さいことが考えられる。しかし、本実施例で
は、熱処理温度が３５０℃以上のＮ2フロー雰囲気中に
残留酸素があっても、雰囲気内の残留酸素と金属磁性膜
であるＦｅＴａＮとは反応を起こさないことがわかっ
た。この原因は６００ÅのＳｉＯ２が雰囲気中の残留酸
素とＦｅＴａＮとの反応を防止するためであると考えら
れる。したがってこの実施例２は実施例１に比べ熱処理
中の雰囲気に対する余裕度が大きく、製造上有利である
ことがわかった。
例１のＣｒ2Ｏ3のみのギャップでは、熱処理温度が３５
０℃以上でのＮ2フロー雰囲気中に残留酸素があると、
雰囲気内の残留酸素と金属磁性膜であるＦｅＴａＮが反
応を起こし、ヘッド特性が劣化する場合があることがわ
かった。その原因としては、１０００ÅのＣｒ2Ｏ3のみ
では雰囲気中の残留酸素とＦｅＴａＮとの反応を抑制す
る効果が小さいことが考えられる。しかし、本実施例で
は、熱処理温度が３５０℃以上のＮ2フロー雰囲気中に
残留酸素があっても、雰囲気内の残留酸素と金属磁性膜
であるＦｅＴａＮとは反応を起こさないことがわかっ
た。この原因は６００ÅのＳｉＯ２が雰囲気中の残留酸
素とＦｅＴａＮとの反応を防止するためであると考えら
れる。したがってこの実施例２は実施例１に比べ熱処理
中の雰囲気に対する余裕度が大きく、製造上有利である
ことがわかった。
【００２１】（実施例３）図１０に本発明の実施例３の
摺動面のギャップ近傍の拡大図を示す。実施例１、２と
異なる点はトラック幅の規制を放電加工により行ってい
る点である。
摺動面のギャップ近傍の拡大図を示す。実施例１、２と
異なる点はトラック幅の規制を放電加工により行ってい
る点である。
【００２２】このようなヘッドにおいてもＣｒ2Ｏ3ある
いは、Ｃｒ2Ｏ3をＳｉＯ2で挟持した構造のギャップ材
により実施例１、２と同等の高精度の磁気ギャップを実
現することができた。
いは、Ｃｒ2Ｏ3をＳｉＯ2で挟持した構造のギャップ材
により実施例１、２と同等の高精度の磁気ギャップを実
現することができた。
【００２３】またこれらヘッドの製造方法は、図２−
（ｅ）において、まずバック溝中に低融点鉛ガラスをモ
ールドし、その後トラック規制の放電加工を施し、その
後トラック溝中に低融点鉛ガラスをモールドするという
点が実施例１、２とは異なり、低融点鉛ガラスをモール
ドする熱処理工程では、昇温時にＴｃ＝３５０℃まで大
気中で熱処理し、その後はＮ2フロー中で熱処理を行う
方法で行った。その結果、ガラスの流れは良好であり、
チップ強度が劣化するといった問題は見られなかった。
（ｅ）において、まずバック溝中に低融点鉛ガラスをモ
ールドし、その後トラック規制の放電加工を施し、その
後トラック溝中に低融点鉛ガラスをモールドするという
点が実施例１、２とは異なり、低融点鉛ガラスをモール
ドする熱処理工程では、昇温時にＴｃ＝３５０℃まで大
気中で熱処理し、その後はＮ2フロー中で熱処理を行う
方法で行った。その結果、ガラスの流れは良好であり、
チップ強度が劣化するといった問題は見られなかった。
【００２４】また実施例１〜３では、金属磁性膜とし
て、ＦｅＴａＮを使用した時について述べたが、金属磁
性膜としてＣｏ系アモルファス膜や、センダスト、Ｆｅ
ＧａＳｉＲｕの金属磁性膜を用いた磁気ヘッドに応用し
ても同様の効果が得られる。
て、ＦｅＴａＮを使用した時について述べたが、金属磁
性膜としてＣｏ系アモルファス膜や、センダスト、Ｆｅ
ＧａＳｉＲｕの金属磁性膜を用いた磁気ヘッドに応用し
ても同様の効果が得られる。
【００２５】また実施例２、３では、ＳｉＯ2の代わり
にパイレックス等のＳｉＯ2を主成分とした非磁性酸化
物を用いても同様の効果が得られる。
にパイレックス等のＳｉＯ2を主成分とした非磁性酸化
物を用いても同様の効果が得られる。
【００２６】
【発明の効果】本発明の磁気ヘッド及びその製造方法に
より、磁気ギャップの精度を大幅に向上させ、さらにギ
ャップ長の測定精度を改善することができ、磁気ヘッド
製造歩留まりを大きく上昇させることができた。
より、磁気ギャップの精度を大幅に向上させ、さらにギ
ャップ長の測定精度を改善することができ、磁気ヘッド
製造歩留まりを大きく上昇させることができた。
【図１】従来の磁気ヘッドの構造を示す斜視図及び摺動
面から見た磁気ギャップ近傍の拡大図
面から見た磁気ギャップ近傍の拡大図
【図２】従来の磁気ヘッドの製造方法を示す斜視図
【図３】従来の磁気ヘッドの課題を示す図
【図４】従来の製造方法で作製した磁気ヘッドの斜視図
【図５】Ｃｒ及びＣｒ2Ｏ3の熱処理後の膜厚変化を示す
図
図
【図６】熱処理条件によるＣｒ及びＣｒ2Ｏ3上での低融
点鉛ガラスの濡れ角を示す図
点鉛ガラスの濡れ角を示す図
【図７】本発明の実施例１の磁気ヘッドの構造を示す斜
視図及び摺動面から見た磁気ギャップ近傍の拡大図
視図及び摺動面から見た磁気ギャップ近傍の拡大図
【図８】従来の磁気ヘッドと本発明の磁気ヘッドのＧＬ
（ギャップ長）分布を示す図
（ギャップ長）分布を示す図
【図９】本発明の実施例２の磁気ヘッドの構造を示す斜
視図及び摺動面から見た磁気ギャップ近傍の拡大図
視図及び摺動面から見た磁気ギャップ近傍の拡大図
【図１０】本発明の実施例３の磁気ヘッドの摺動面から
見た磁気ギャップ近傍の拡大図
見た磁気ギャップ近傍の拡大図
１ 金属磁性膜 ２ フェライト ３ Ｃｒ2Ｏ3 ４ 低融点鉛ガラス ６ 磁気ギャップ ７ ＳｉＯ2 ８ Ｃｒ ９ Ｃｒ酸化物 １０ ギャップ長 １１ 放電加工 １２ 巻線溝 １３ バック溝 １４ トラック溝 １５ ギャップ面
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 高橋 健 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内
Claims (3)
- 【請求項１】 少なくとも片側の磁気コアが強磁性酸化
物のギャップ対向面上に金属磁性膜が形成されたＭＩＧ
ヘッドの磁気ギャップが、Ｃｒ2Ｏ3からなるギャップ材
で形成されていることを特徴とする磁気ヘッド。 - 【請求項２】 少なくとも片側の磁気コアが強磁性酸化
物のギャップ対向面上に金属磁性膜が形成されたＭＩＧ
ヘッドの磁気ギャップが、Ｃｒ2Ｏ3をＳｉＯ2を主成分
とする非磁性酸化物で挟持した構造のギャップ材で形成
されていることを特徴とする磁気ヘッド。 - 【請求項３】 一対の強磁性酸化物に溝を形成し、その
後上記強磁性酸化物の少なくとも片側のギャップ対向面
上に金属磁性膜を形成して一対のコア半体を作製する工
程と、上記コア半体のギャップ対向面及び溝の表面にＣ
ｒ2Ｏ3を形成、あるいはＳｉＯ2を主成分とする非磁性
酸化物とＣｒ2Ｏ3を形成し、一対のコア半体同士をギャ
ップ対向面上のＣｒ2Ｏ3面で突き合わせ、ＰｂＯを主成
分とする低融点鉛ガラスを上記溝中のＣｒ2Ｏ3上に熱処
理によりモールドし、コアを接合する工程とを有するＭ
ＩＧヘッドの製造において、上記熱処理の昇温過程で、
少なくとも、 Ｔｇー８５℃≦Ｔ≦Ｔｇー３５℃ （但し、Ｔｇは上記低融点ガラスのガラス転移点であ
る）の温度範囲Ｔでは酸素を含有する雰囲気中で熱処理
することを特徴とする磁気ヘッドの製造方法。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9031594A JPH10228606A (ja) | 1997-02-17 | 1997-02-17 | 磁気ヘッドおよびその製造方法 |
| SG9800311A SG90706A1 (en) | 1997-02-17 | 1998-02-12 | Magnetic head and method for manufacturing the same |
| KR1019980004862A KR100282214B1 (ko) | 1997-02-17 | 1998-02-17 | 자기 헤드 및 그 제조방법 |
| CN98107042A CN1196549A (zh) | 1997-02-17 | 1998-02-17 | 磁头及其制造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9031594A JPH10228606A (ja) | 1997-02-17 | 1997-02-17 | 磁気ヘッドおよびその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10228606A true JPH10228606A (ja) | 1998-08-25 |
Family
ID=12335531
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9031594A Pending JPH10228606A (ja) | 1997-02-17 | 1997-02-17 | 磁気ヘッドおよびその製造方法 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10228606A (ja) |
| KR (1) | KR100282214B1 (ja) |
| CN (1) | CN1196549A (ja) |
| SG (1) | SG90706A1 (ja) |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0273496B1 (en) * | 1986-12-03 | 1991-04-10 | Koninklijke Philips Electronics N.V. | Magnetic head having an electro-chemically inert gap of hard material |
| JPH0258714A (ja) * | 1988-08-23 | 1990-02-27 | Nippon Mining Co Ltd | 磁気ヘッド |
| EP0378214A1 (en) * | 1989-01-13 | 1990-07-18 | Sanyo Electric Co., Ltd. | Magnetic head |
| KR940008711B1 (ko) * | 1992-03-11 | 1994-09-26 | 삼성전관 주식회사 | 플라즈마 디스플레이 판넬의 구동방법 |
-
1997
- 1997-02-17 JP JP9031594A patent/JPH10228606A/ja active Pending
-
1998
- 1998-02-12 SG SG9800311A patent/SG90706A1/en unknown
- 1998-02-17 CN CN98107042A patent/CN1196549A/zh active Pending
- 1998-02-17 KR KR1019980004862A patent/KR100282214B1/ko not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| KR100282214B1 (ko) | 2001-03-02 |
| KR19980071437A (ko) | 1998-10-26 |
| SG90706A1 (en) | 2002-08-20 |
| CN1196549A (zh) | 1998-10-21 |
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