JPH04370509A - 磁気ヘッドおよびその製造方法 - Google Patents
磁気ヘッドおよびその製造方法Info
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- JPH04370509A JPH04370509A JP3148769A JP14876991A JPH04370509A JP H04370509 A JPH04370509 A JP H04370509A JP 3148769 A JP3148769 A JP 3148769A JP 14876991 A JP14876991 A JP 14876991A JP H04370509 A JPH04370509 A JP H04370509A
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- JP
- Japan
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- film
- magnetic head
- gap
- glass
- alloy thin
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、ＶＴＲ、ＤＡＴ、ＦＤ
Ｄ等に使用される磁気ヘッドおよびその製造方法に関す
る。
Ｄ等に使用される磁気ヘッドおよびその製造方法に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】近年、磁気記録技術の動向はビデオヘッ
ド等、高周波領域での特性が要求されるに従い、サブミ
クロンの記録波長に十分対応できる磁気ヘッドおよび記
録媒体が要望されている。このような現状の中で磁気ヘ
ッドは、保磁力Ｈｃの高い記録媒体（例えばメタル、Ｂ
ａ−Ｆｅテープ）に十分な書き込みを行うため、フェラ
イト等の非金属磁性材料と比べより飽和磁束密度Ｂｓの
高い軟磁性合金薄膜（例えばセンダスト、非晶質材料な
ど）をフェライトのギャップ近傍に配した構造の磁気ヘ
ッドの開発が行われ一部は実用化され、８ｍｍやＤＡＴ
用に搭載されている。
ド等、高周波領域での特性が要求されるに従い、サブミ
クロンの記録波長に十分対応できる磁気ヘッドおよび記
録媒体が要望されている。このような現状の中で磁気ヘ
ッドは、保磁力Ｈｃの高い記録媒体（例えばメタル、Ｂ
ａ−Ｆｅテープ）に十分な書き込みを行うため、フェラ
イト等の非金属磁性材料と比べより飽和磁束密度Ｂｓの
高い軟磁性合金薄膜（例えばセンダスト、非晶質材料な
ど）をフェライトのギャップ近傍に配した構造の磁気ヘ
ッドの開発が行われ一部は実用化され、８ｍｍやＤＡＴ
用に搭載されている。
【０００３】以下、図面を参照しながら従来の磁気ヘッ
ドの製造方法について説明する。図４は、磁気ギャップ
近傍に数μｍの軟磁性合金薄膜を配する従来の磁気ヘッ
ドの製造方法を示す工程図であり、同図（ａ）は、一対
で磁気ヘッドとなるコア半体１３の少なくともどちらか
一方に巻き線溝１４が加工され、ギャップ接合面は鏡面
に研磨されている状態を示している。
ドの製造方法について説明する。図４は、磁気ギャップ
近傍に数μｍの軟磁性合金薄膜を配する従来の磁気ヘッ
ドの製造方法を示す工程図であり、同図（ａ）は、一対
で磁気ヘッドとなるコア半体１３の少なくともどちらか
一方に巻き線溝１４が加工され、ギャップ接合面は鏡面
に研磨されている状態を示している。
【０００４】同図（ｂ）は、ギャップ接合面にトラック
幅規制溝１５が加工された一対のコア半体１３である。
幅規制溝１５が加工された一対のコア半体１３である。
【０００５】同図（ｃ）は、ギャップ接合面に軟磁性合
金薄膜１６とギャップ材としてＳｉＯ２膜，ガラス膜（
図では省略）を形成した一対のコア半体１３を示す。
金薄膜１６とギャップ材としてＳｉＯ２膜，ガラス膜（
図では省略）を形成した一対のコア半体１３を示す。
【０００６】同図（ｄ）は、ギャップ接合面を突き合わ
せた状態でガラス１７をトラック幅規制溝１５にモール
ドして組み立てられた磁気コア１８であり、以後所定の
サイズ（図中のＸ−Ｘ線にそって）に切断し、同図（ｅ
）に示すヘッドチップ１９を得る。
せた状態でガラス１７をトラック幅規制溝１５にモール
ドして組み立てられた磁気コア１８であり、以後所定の
サイズ（図中のＸ−Ｘ線にそって）に切断し、同図（ｅ
）に示すヘッドチップ１９を得る。
【０００７】また図では省略しているが、切断されたヘ
ッドチップは、その後、金属ベース等に接着するととも
に搭載するシステムに応じた曲率に磁気テープ等の媒体
との摺動面を前面研磨し巻線を行い、磁気ヘッドとして
完成する。
ッドチップは、その後、金属ベース等に接着するととも
に搭載するシステムに応じた曲率に磁気テープ等の媒体
との摺動面を前面研磨し巻線を行い、磁気ヘッドとして
完成する。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら上記従来
のギャップ面に軟磁性合金薄膜１６を用いた磁気ヘッド
では、ギャップ形成時にガラス１７と軟磁性合金薄膜１
６の反応からガラス１７が脆くなり、チップ切断やテー
プ摺動面研磨などの加工負荷により、ギャップ面で剥離
が生じたり、また反応層でギャップ深さ（ＧａｐＤｅｐ
ｔｈ）の測定が正確にできないという課題があった。本
発明は、このような従来の課題を解決するもので、信頼
性の高い磁気ヘッドとその製造方法を提供することを目
的とする。
のギャップ面に軟磁性合金薄膜１６を用いた磁気ヘッド
では、ギャップ形成時にガラス１７と軟磁性合金薄膜１
６の反応からガラス１７が脆くなり、チップ切断やテー
プ摺動面研磨などの加工負荷により、ギャップ面で剥離
が生じたり、また反応層でギャップ深さ（ＧａｐＤｅｐ
ｔｈ）の測定が正確にできないという課題があった。本
発明は、このような従来の課題を解決するもので、信頼
性の高い磁気ヘッドとその製造方法を提供することを目
的とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】本発明は上記目的を達成
するために、軟磁性合金薄膜を形成した後、金属酸化膜
、非磁性金属膜、ガラス膜を順次形成し軟磁性合金薄膜
とガラスとの反応を防止するものである。
するために、軟磁性合金薄膜を形成した後、金属酸化膜
、非磁性金属膜、ガラス膜を順次形成し軟磁性合金薄膜
とガラスとの反応を防止するものである。
【００１０】その製造方法としては、巻き線溝加工を行
いギャップ突き合わせ面を鏡面に研磨する工程と、トラ
ック幅規制溝加工を行う工程と、軟磁性合金薄膜を形成
する工程と、ギャップ材として金属酸化膜、非磁性金属
膜、ガラス膜を順次形成する工程と、一対のコア半体の
ギャップ面を突き合わせた状態でガラスをトラック幅規
制溝にモールドし接合する工程よりなるものである。
いギャップ突き合わせ面を鏡面に研磨する工程と、トラ
ック幅規制溝加工を行う工程と、軟磁性合金薄膜を形成
する工程と、ギャップ材として金属酸化膜、非磁性金属
膜、ガラス膜を順次形成する工程と、一対のコア半体の
ギャップ面を突き合わせた状態でガラスをトラック幅規
制溝にモールドし接合する工程よりなるものである。
【００１１】
【作用】したがって本発明によれば、高温で安定な材料
をギャップ部材として用いることによって、ガラスと軟
磁性合金薄膜との反応を抑制し、信頼性に優れた磁気ヘ
ッドを得ることができ、また製造方法としてはギャップ
部分の膜形成における工程が増えるだけで製造でき量産
性にも優れている。
をギャップ部材として用いることによって、ガラスと軟
磁性合金薄膜との反応を抑制し、信頼性に優れた磁気ヘ
ッドを得ることができ、また製造方法としてはギャップ
部分の膜形成における工程が増えるだけで製造でき量産
性にも優れている。
【００１２】
【実施例】以下、本発明の一実施例の磁気ヘッドについ
て図面を参照しながら説明する。図１（ａ）は本発明の
一実施例における磁気ヘッドの構成を示すものであり、
同図（ｂ）は同磁気ヘッドのギャップ近傍の拡大図であ
る。
て図面を参照しながら説明する。図１（ａ）は本発明の
一実施例における磁気ヘッドの構成を示すものであり、
同図（ｂ）は同磁気ヘッドのギャップ近傍の拡大図であ
る。
【００１３】図に示すようにフェライト等よりなるとコ
ア材１のギャップ面にセンダスト等のＦｅ−Ａｌ−Ｓｉ
系合金または厚み方向に窒素の組成変調された構造を有
するＣｏａＭｂまたはＦｅａＭｂ等の軟磁性合金薄膜２
が成膜され、そのセンダスト等よりなる軟磁性合金薄膜
（以下センダスト膜と記す）２の上には同図（ｂ）に示
すように、ギャップ材としてＳｉＯ２膜等よりなる金属
酸化膜３を１０００Å、Ｃｒ，Ｗ，Ｐｔ，Ｉｒ，Ｎｂ，
Ｔａ，Ｔｉ，Ｚｒ，Ｈｆのいずれかよりなる非磁性金属
膜（本実施例ではＣｒを用いる）４を２５０Å、ガラス
膜５を１５０Å形成する。
ア材１のギャップ面にセンダスト等のＦｅ−Ａｌ−Ｓｉ
系合金または厚み方向に窒素の組成変調された構造を有
するＣｏａＭｂまたはＦｅａＭｂ等の軟磁性合金薄膜２
が成膜され、そのセンダスト等よりなる軟磁性合金薄膜
（以下センダスト膜と記す）２の上には同図（ｂ）に示
すように、ギャップ材としてＳｉＯ２膜等よりなる金属
酸化膜３を１０００Å、Ｃｒ，Ｗ，Ｐｔ，Ｉｒ，Ｎｂ，
Ｔａ，Ｔｉ，Ｚｒ，Ｈｆのいずれかよりなる非磁性金属
膜（本実施例ではＣｒを用いる）４を２５０Å、ガラス
膜５を１５０Å形成する。
【００１４】コア材１には、巻き線窓６が設けられてお
り、一対のコア材１の接合用のガラス７で接合されてい
る。ＳｉＯ２膜３とＣｒ膜４とガラス膜５との合計膜厚
が３０００Åを超えるとギャップ長損により高周波領域
の記録再生特性が低下する。
り、一対のコア材１の接合用のガラス７で接合されてい
る。ＳｉＯ２膜３とＣｒ膜４とガラス膜５との合計膜厚
が３０００Åを超えるとギャップ長損により高周波領域
の記録再生特性が低下する。
【００１５】このように、ギャップ材としてＳｉＯ２膜
３上にＣｒ膜４とガラス膜５を配することによってセン
ダスト膜２とガラス７の反応のない信頼性の高い磁気ヘ
ッドが得られる。
３上にＣｒ膜４とガラス膜５を配することによってセン
ダスト膜２とガラス７の反応のない信頼性の高い磁気ヘ
ッドが得られる。
【００１６】なお、上記ＣｏａＭｂで表される軟磁性合
金薄膜２において、ＭはＮｂ，Ｔａ，Ｚｒ，Ｈｆ，Ｔｉ
，Ｎｏ，Ｗから選ばれる１種類以上の元素からなり、原
子比で表わされるａおよびｂがそれぞれ０．８０≦ａ≦
０．９５、０．０５≦ｂ≦０．２０でａ＋ｂ＝１．０で
あるか、またはＦｅａＭｂで表される軟磁性合金薄膜２
の場合は、ＭがＮｂ，Ｔａ，Ｚｒ，Ｈｆ，Ｔｉ，Ｍｏ，
Ｃｒ，Ｗ，Ｍｎ，Ｒｅ，Ｒｕから選ばれる１種類以上の
元素からなり、ａおよびｂがそれぞれ０．７０≦ａ≦０
．９５、０．０５≦ｂ≦０．３０でａ＋ｂ＝１．０であ
るものを使用することができ、同様の効果が得られる。
金薄膜２において、ＭはＮｂ，Ｔａ，Ｚｒ，Ｈｆ，Ｔｉ
，Ｎｏ，Ｗから選ばれる１種類以上の元素からなり、原
子比で表わされるａおよびｂがそれぞれ０．８０≦ａ≦
０．９５、０．０５≦ｂ≦０．２０でａ＋ｂ＝１．０で
あるか、またはＦｅａＭｂで表される軟磁性合金薄膜２
の場合は、ＭがＮｂ，Ｔａ，Ｚｒ，Ｈｆ，Ｔｉ，Ｍｏ，
Ｃｒ，Ｗ，Ｍｎ，Ｒｅ，Ｒｕから選ばれる１種類以上の
元素からなり、ａおよびｂがそれぞれ０．７０≦ａ≦０
．９５、０．０５≦ｂ≦０．３０でａ＋ｂ＝１．０であ
るものを使用することができ、同様の効果が得られる。
【００１７】次に本発明の一実施例の磁気ヘッドの製造
方法について図面を参照しながら説明する。図２は、本
発明の一実施例の磁気ヘッドの製造方法を示す工程図で
あり、同図（ａ）は、一対で磁気ヘッドとなるフェライ
ト等よりなるコア材１に巻き線溝８を形成した後、ギャ
ップ突き合わせ面９を鏡面に加工したものである。
方法について図面を参照しながら説明する。図２は、本
発明の一実施例の磁気ヘッドの製造方法を示す工程図で
あり、同図（ａ）は、一対で磁気ヘッドとなるフェライ
ト等よりなるコア材１に巻き線溝８を形成した後、ギャ
ップ突き合わせ面９を鏡面に加工したものである。
【００１８】同図（ｂ）はトラック幅規制溝１０を形成
した状態を示すものである。同図（ｃ）は、磁気テープ
等の媒体の走行面側からトラック部を見た図であり、ギ
ャップ突き合わせ面９の上にセンダスト膜２を４μｍ程
度形成した後、ギャップ材としてＳｉＯ２膜３、Ｃｒ膜
４、ガラス膜５を形成したものである。
した状態を示すものである。同図（ｃ）は、磁気テープ
等の媒体の走行面側からトラック部を見た図であり、ギ
ャップ突き合わせ面９の上にセンダスト膜２を４μｍ程
度形成した後、ギャップ材としてＳｉＯ２膜３、Ｃｒ膜
４、ガラス膜５を形成したものである。
【００１９】同図（ｄ）は、センダスト膜２の良好な特
性が得られる温度で、ギャップ接合したコアブロック１
１であり、そのコアブロック１１の接合にガラス７を用
いている。
性が得られる温度で、ギャップ接合したコアブロック１
１であり、そのコアブロック１１の接合にガラス７を用
いている。
【００２０】同図（ｅ）は同図（ｄ）に示すコアブロッ
ク１１を所定の寸法（図中のＸ−Ｘ線）で切断して得ら
れたヘッドチップ１２である。
ク１１を所定の寸法（図中のＸ−Ｘ線）で切断して得ら
れたヘッドチップ１２である。
【００２１】図３は、フェライト基板上にセンダスト膜
２等のＦｅ−Ａｌ−Ｓｉ系合金膜を４μｍ、ＳｉＯ２膜
３を０．１μｍ形成した後、Ｃｒ膜４を所定量形成した
試料の上でガラス７を溶融したとき生じるガラス７とセ
ンダスト膜２との反応層を測定したものであり、Ｃｒ膜
４の着膜量が５０Å程度から反応の抑制に対し効果が見
られ、２５０Åになると反応はほとんど観察できなかっ
た。
２等のＦｅ−Ａｌ−Ｓｉ系合金膜を４μｍ、ＳｉＯ２膜
３を０．１μｍ形成した後、Ｃｒ膜４を所定量形成した
試料の上でガラス７を溶融したとき生じるガラス７とセ
ンダスト膜２との反応層を測定したものであり、Ｃｒ膜
４の着膜量が５０Å程度から反応の抑制に対し効果が見
られ、２５０Åになると反応はほとんど観察できなかっ
た。
【００２２】他の金属酸化膜３または他の非磁性金属膜
４でも反応の減少の仕方に違いは見られたが、同様の効
果が得られた。ＳｉＯ２膜３は光学顕微鏡でギャップ長
を測定するために軟磁性合金薄膜２とＣｒ膜４の境界を
示すものとして必要であり、その膜厚と測定状況を（表
１）に示す。
４でも反応の減少の仕方に違いは見られたが、同様の効
果が得られた。ＳｉＯ２膜３は光学顕微鏡でギャップ長
を測定するために軟磁性合金薄膜２とＣｒ膜４の境界を
示すものとして必要であり、その膜厚と測定状況を（表
１）に示す。
【００２３】
【表１】
【００２４】（表１）に示すようにＳｉＯ２膜３の膜厚
が３００Å程度より薄いとギャップ長の測定は困難にな
った。
が３００Å程度より薄いとギャップ長の測定は困難にな
った。
【００２５】またＣｒ膜４の上に接着用のガラス膜５を
設けていないまたはその膜厚が１００Å以下の磁気ヘッ
ドは、テープ走行中にギャップ突き合わせ面９に磁性粉
かたまり信頼性に問題があった。したがって、上記のデ
ータを考慮すると、ＳｉＯ２膜３は少なくとも３００Å
以上、反応防止用のＣｒ膜４は５０Å以上、ギャップ部
の接合用のガラス膜５は１００Å以上形成する必要があ
る。
設けていないまたはその膜厚が１００Å以下の磁気ヘッ
ドは、テープ走行中にギャップ突き合わせ面９に磁性粉
かたまり信頼性に問題があった。したがって、上記のデ
ータを考慮すると、ＳｉＯ２膜３は少なくとも３００Å
以上、反応防止用のＣｒ膜４は５０Å以上、ギャップ部
の接合用のガラス膜５は１００Å以上形成する必要があ
る。
【００２６】このように上記実施例によれば、ギャップ
突き合わせ面９の近傍に設けられているセンダスト膜２
の上面にＳｉＯ２膜３と、Ｃｒ膜４と、ガラス膜５とを
順次形成しているため、ギャップ面からガラス７が剥離
するようなことがなくなり、高い信頼性を得ることがで
きた。
突き合わせ面９の近傍に設けられているセンダスト膜２
の上面にＳｉＯ２膜３と、Ｃｒ膜４と、ガラス膜５とを
順次形成しているため、ギャップ面からガラス７が剥離
するようなことがなくなり、高い信頼性を得ることがで
きた。
【００２７】
【発明の効果】本発明は上記実施例より明らかなように
、ギャップ部分に金属酸化膜と、高温で安定な非磁性金
属膜と、ガラス膜とを形成しているので、軟磁性合金薄
膜とガラスの反応が抑制され、信頼性の高い磁気ヘッド
が少ない工程で製造できるという効果を有する。
、ギャップ部分に金属酸化膜と、高温で安定な非磁性金
属膜と、ガラス膜とを形成しているので、軟磁性合金薄
膜とガラスの反応が抑制され、信頼性の高い磁気ヘッド
が少ない工程で製造できるという効果を有する。
【図１】（ａ）は本発明の一実施例における磁気ヘッド
の斜視図 （ｂ）は同磁気ヘッドのギャップ近傍の要部拡大平面図
の斜視図 （ｂ）は同磁気ヘッドのギャップ近傍の要部拡大平面図
【図２】（ａ）は本発明の一実施例における磁気ヘッド
の製造方法において用いるコア材の外観形状図（ｂ）は
同実施例におけるコア材にトラック幅規制溝の形成工程
を実施した後のコア材の外観図 （ｃ）は同実施例における薄膜形成工程後の磁気ヘッド
のトラック部の外観図 （ｄ）は同実施例におけるコア接合工程後のコアブロッ
クの外観図 （ｅ）は同実施例におけるチップ切断工程によりコアブ
ロックから得られた磁気ヘッドの外観図
の製造方法において用いるコア材の外観形状図（ｂ）は
同実施例におけるコア材にトラック幅規制溝の形成工程
を実施した後のコア材の外観図 （ｃ）は同実施例における薄膜形成工程後の磁気ヘッド
のトラック部の外観図 （ｄ）は同実施例におけるコア接合工程後のコアブロッ
クの外観図 （ｅ）は同実施例におけるチップ切断工程によりコアブ
ロックから得られた磁気ヘッドの外観図
【図３】本発明の一実施例におけるＣｒ膜の膜厚と、ガ
ラスとセンダスト膜の反応層との関係を示す特性図
ラスとセンダスト膜の反応層との関係を示す特性図
【図
４】（ａ）は従来の磁気ヘッドの製造方法において用い
るコア材の外観形状図 （ｂ）は同従来例におけるコア材にトラック幅規制溝の
形成工程を実施した後のコア材の外観図 （ｃ）は同従来例における薄膜形成工程後のコアの外観
図（ｄ）は同従来例におけるコア接合工程後のコアブロ
ックの外観図 （ｅ）は同従来例におけるチップ切断工程によりコアブ
ロックから得られた磁気ヘッドの外観図
４】（ａ）は従来の磁気ヘッドの製造方法において用い
るコア材の外観形状図 （ｂ）は同従来例におけるコア材にトラック幅規制溝の
形成工程を実施した後のコア材の外観図 （ｃ）は同従来例における薄膜形成工程後のコアの外観
図（ｄ）は同従来例におけるコア接合工程後のコアブロ
ックの外観図 （ｅ）は同従来例におけるチップ切断工程によりコアブ
ロックから得られた磁気ヘッドの外観図
１ コア材
２ センダスト膜（軟磁性合金薄膜）３ ＳｉＯ２
膜（金属酸化膜） ４ Ｃｒ膜（非磁性金属膜） ５ ガラス膜 ７ ガラス
膜（金属酸化膜） ４ Ｃｒ膜（非磁性金属膜） ５ ガラス膜 ７ ガラス
Claims (7)
- 【請求項１】強磁性酸化物を主なコア材としギャップ部
分に軟磁性合金薄膜を配する磁気ヘッドの前記ギャップ
部分および前記軟磁性合金薄膜とトラック幅を規制する
ガラスとの境界部に、金属酸化膜、非磁性金属膜、ガラ
ス膜を順次形成したことを特徴とする磁気ヘッド。 - 【請求項２】金属酸化膜，非磁性金属膜，ガラス膜の膜
厚をそれぞれ３００Å以上、５０Å以上、１００Å以上
とし、その合計膜厚を３０００Å以下としたことを特徴
とする請求項１記載の磁気ヘッド。 - 【請求項３】非磁性金属膜としてＣｒ，Ｗ，Ｐｔ，Ｉｒ
，Ｎｂ，Ｔａ，Ｔｉ，Ｚｒ，Ｈｆのいずれかを用いたこ
とを特徴とする請求項１記載の磁気ヘッド。 - 【請求項４】軟磁性合金薄膜としてセンダスト等のＦｅ
−Ａｌ−Ｓｉ系合金を用いたことを特徴とする請求項１
記載の磁気ヘッド。 - 【請求項５】軟磁性合金薄膜としてＣｏａＭｂで表され
、厚み方向に窒素の組成変調された構造になっているこ
とを特徴とする請求項１記載の磁気ヘッド。ここでＭは
、Ｎｂ，Ｔａ，Ｚｒ，Ｈｆ，Ｔｉ，Ｍｏ，Ｗから選ばれ
る１種類以上の元素からなり、ａ，ｂは原子比を表し、
次の式を満足するものとする。 ０．８０≦ａ≦０．９５ ０．０５≦ｂ≦０．２０ ａ＋ｂ＝１．０ - 【請求項６】軟磁性合金薄膜としてＦｅａＭｂで表され
、厚み方向に窒素の組成変調された構造になっているこ
とを特徴とする請求項１記載の磁気ヘッド。ここでＭは
、Ｎｂ，Ｔａ，Ｚｒ，Ｈｆ，Ｔｉ，Ｍｏ，Ｃｒ，Ｗ，Ｍ
ｎ，Ｒｅ，Ｒｕから選ばれる１種類以上の元素からなり
、ａ，ｂは原子比を表し、次の式を満足するものとする
。 ０．７０≦ａ≦０．９５ ０．０５≦ｂ≦０．３０ ａ＋ｂ＝１．０ - 【請求項７】主なコア材が強磁性酸化物を主体とする磁
気ヘッドにおいて、一対で磁気ヘッドとなるコア半体の
ギャップ形成面を鏡面に研磨する工程と、巻き線溝とト
ラック幅規制溝を形成する工程と、軟磁性合金薄膜を形
成する工程と、ギャップ材として金属酸化膜、非磁性金
属膜、ガラス膜の膜厚が全体で所定のギャップ長になる
ように順次形成する工程と、一対のコア半体のギャップ
面を突き合わせた状態でガラスをトラック幅規制溝にモ
ールドし接合する工程よりなることを特徴とする磁気ヘ
ッドの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3148769A JPH04370509A (ja) | 1991-06-20 | 1991-06-20 | 磁気ヘッドおよびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3148769A JPH04370509A (ja) | 1991-06-20 | 1991-06-20 | 磁気ヘッドおよびその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04370509A true JPH04370509A (ja) | 1992-12-22 |
Family
ID=15460249
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3148769A Pending JPH04370509A (ja) | 1991-06-20 | 1991-06-20 | 磁気ヘッドおよびその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04370509A (ja) |
-
1991
- 1991-06-20 JP JP3148769A patent/JPH04370509A/ja active Pending
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