JPH10228995A - 1次ダイヤフラム装置を含むx線装置 - Google Patents
1次ダイヤフラム装置を含むx線装置Info
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Abstract
露出されないように放射線ビームが厳しく制限されると
きX線量を増加させ、過剰露出されたX線像を生じる。 【解決手段】 X線装置は、X線ビームを制限する一次
ダイヤフラム装置(3) と、自動露出制御用の制御回路(1
0)とからなり、制御回路はX線量率を測定する少なくと
も一つの測定場(31)を備えた検出器(9) を有する。本発
明によるX線装置は、測定場の露出領域(33)の寸法に依
存し、測定場の一部が露出されていない場合でもX線量
の増加を防止するように制御回路に作用する補正値(K)
を決定する手段(12,14,15,16,17)が設けられている。
Description
するX線ソースと、X線を検出しX線像を形成するX線
像変換器と、X線ビームを制限するため放射線ソースと
被検査対象との間に設けられている一次ダイヤフラム装
置と、X線量率を測定する少なくとも一つの測定場を備
えた検出器を含む自動露出制御用の制御回路とからなる
X線装置に関する。
出願第30 06 774 号により公知である。その制御回路
は、2個のメモリ値を基準値に重ね合わせる加算器を含
み、第1のメモリ値は、電極電圧に対するX線像変換器
として使用されるX線像増倍器の変換率の依存性を具体
化し、第2のメモリ値は、像フォーマットを決定する一
次ダイヤフラム装置のアパーチャに対するX線像増倍器
の背景(残存輝度)の依存性を具体化する。X線像増倍
器によって歪められた自動露出制御のための測定値は、
かくして補正される。
定の平均濃度を有する。検出器の測定場は、この関心の
ある領域と位置合わせされ、露出中に既に印加されたX
線量は、X線量率の測定によりこの測定場内で連続的に
測定される。平均濃度に対応した所定のX線量に達した
とき、自動露出制御はX線のスイッチを切る。
過された領域の寸法を医学的要求条件に適合させ、必要
に応じて、散乱された放射線のコントラスト劣化の影響
を低減するため、X線ビームを制限する一次ダイヤフラ
ム装置がX線ソースと、被検査対象、例えば、患者との
間に設けられる。しかし、制限が非常に広い場合、即
ち、ダイヤフラムのアパーチャが非常に小さくされてい
る場合、測定場の部品は一次ダイヤフラム装置のシャッ
ターによって覆われるので、それらの部品が露出される
ことはなくなり、通常の露出制御システムが利用された
とき、過剰露出されたX線像が得られる。その理由は、
測定場の領域がシャッターで覆われて露出されない場合
でも、検出器が平均化によって全測定場内の線量を測定
するからである。従って、広い制限の場合に、全測定場
に亘って平均された線量は測定場の露出領域で得られた
線量よりも少ない。通常の自動露出制御システムは、所
定のX線量に達するまで、X線量を増加する。このた
め、殆どの場合に重要な像情報が失われた過剰露出され
たX線像が生じ、患者に対する線量が増加する。
を有するX線像を生成する上記の種類のX線装置を提供
することである。
用いる場合、上記目的は、制御回路に影響を与え、測定
場の露出領域の寸法に依存した補正値を決定し、測定場
の一部が露出されていない場合でもX線量が実質的に同
じに保たれるように制御回路に影響を与える手段を設け
ることにより達成される。
チャの値は限界値よりも下がるので、制御において測定
場の非露出部分が直接考慮に入れられる。その場合、重
要な像情報が失われる過剰露出されたX線像の形成を防
止するため、補正値による介入が制御回路で直接行われ
る。制御は、小形一次ダイヤフラムアパーチャ(及び、
完全に露出された測定場)の場合に、X線量が実質的に
一定に保たれるように行われる。この制御は、一次ダイ
ヤフラムアパーチャが小さい時にX線量が実質的に増加
される一般的な制御と比べて対照的である。かくして、
本発明はビーム制限が厳しい場合に放射線量の増加を防
止する。
制御回路は、線量実際値と、線量基準値とを決定し、上
記線量実際値と上記線量基準値とを比較することによっ
てX線ソースを制御する制御信号を決定する手段を含
む。本発明によれば、制御回路は、一次ダイヤフラムア
パーチャが小さいため測定場が部分的に覆われている場
合に、上記線量基準値が所与の線量標準基準値及び/又
は測定場内で検出器によって検出された線量実際値から
減少されるように、補正値による影響を受ける。線量基
準値は、メモリに格納され、予め決定され、又は、X線
装置の異なるセッティング、例えば、X線ソースとX線
像変換器との間の距離、及び、X線像変換器の倍率に依
存して選択若しくは決定してもよい。計算された制御信
号は、管電流、管電圧及び/又は露出時間を動かすこと
により、X線ソース又はX線発生器を制御する役目を果
たす。
いて補正値を決定する手段は、測定場の総表面積に対す
る測定場の露出領域の表面積の割合を形成することによ
り補正値を決定する演算ユニットを含み、制御回路は、
一定の線量標準基準値を補正値で乗算することにより線
量基準値を決定する乗算ユニットを含む。これにより、
補正値及び線量基準値を決定する簡単な解決手段が構成
され、高速露出制御が可能になる。
証するため、本発明によるX線装置の他の一実施例にお
いて補正値を決定する手段は、補正値を所定の最小値と
最大値1とに制限する制限器ユニットを含む。制限器ユ
ニットは、ある種の境界の場合に制御の不正確な動作を
防止するように機能する。一次ダイヤフラムアパーチャ
が非常に小さく、例えば、測定場の中の20%未満の非
常に小さい部分だけが露出されるときに、例えば、0.
20に達する最小値が適用される。補正値の最大値は1
に達するべきであり、一次ダイヤフラムアパーチャが非
常に大きく、測定場全体が露出されるときに適用され
る。
定する手段は、一次ダイヤフラム装置のアパーチャの値
を決定するセンサを含む。その結果として、この測定値
は、例えば、線量基準値を決定するため制御回路に直接
適用してもよい。本発明の他の一実施例における補正値
を決定する装置は、X線ソースとX線像変換器との間の
距離を決定するセンサを含む。
は、パルス型蛍光透視のため構成され、補正値を決定す
る手段は、補正値が各蛍光透視パルス毎に決定されるよ
うに構成されている。本発明によるX線装置は、特に簡
単かつ高速な制御システムを含んでいるので、特にパル
ス型蛍光透視に適している。
電されるX線管1が示されている。X線管1の放射線出
口開口部の前面に、放射するX線を制限し、X線ビーム
のアパーチャ角を決定し得る一次ダイヤフラム3が設け
られている。更にビーム路には、被検査対象4が配置さ
れ、その次に、光学装置6及びテレビジョンカメラ7と
組み合わされて一つのユニットを形成するX線像増倍器
5が置かれる。X線像の表示用のモニタ8はテレビジョ
ンカメラ7に接続されている。
される制御信号Sを発生させ、管電流、管電圧及び/又
はX線のスイッチオン時間を制御するため機能する制御
回路10が設けられている。制御回路10は、例えば、
ビームスプリッタ又は部分的に透明なミラーを用いて、
X線増倍器5の出口スクリーン上に形成された像の光線
の一部分が光学装置6から結合されている光センサ9を
有する。光センサ9は、分離された光学像の輝度値を光
信号に変換する。光センサ9の固定領域は、露出制御用
の線量が画像の輝度を用いて間接的に測定される測定場
として作用する。このため、平均画像輝度は、測定場全
体に関する積分により測定され、線量実際値Di は出力
値として決定される。この線量実際値Di は、比較ユニ
ット11において線量基準値Ds と比較され、そのた
め、例えば、線量実際値Di 及び線量基準値Ds の二つ
の値は一方が他方から減算される。線量基準値Ds は、
X線像が測定場の領域で平均濃度値に到達し、X線像が
実現可能な最高画質を有することを保証するために、露
出の値が取るべき値に関する情報を含む。比較ユニット
11における比較は、線量基準値Ds に達していない場
合にX線量を更に増加させるための情報を含み、それ以
外の場合にX線を切るための情報を含む制御信号Sを発
生させる。
本発明に従って、乗算ユニット12において線量標準基
準値Ds0を補正値Kで乗ずることによって計算される。
線量標準基準値Ds0は、異なる画像増倍器フォーマット
と、ユーザにより選択された線量レベルと、異なる検査
モードと、異なるパルスレート(パルス型蛍光透視の場
合)とに対して線量標準基準値Ds0が格納されたメモリ
ユニット13によって供給される。
る。センサ15は、一次ダイヤフラム装置3のアパーチ
ャの値を判定し、X線ソース1とX線像像倍器5との間
の距離はセンサ17を用いて判定される。これらの値
は、算術ユニット16に供給される。算術ユニット16
は、光センサ9の測定場の寸法と関係し、並びに、X線
像倍器5に関する測定場の相対位置に関係した情報を格
納する。
露出され、かつ、一次ダイヤフラム装置3のシャッター
により覆われていない測定場の表面の部分の寸法を決定
する。測定場の露出され(覆われていない)部分とは、
X線が選択された測定場の露出領域と関連したX線像像
倍器5の入口スクリーンの領域に入射し、画像輝度がそ
こで生成されることを意味する。同様に、測定場の露出
されていない(覆われた)領域とは、一次ダイヤフラム
装置3のアパーチャが非常に小さいことに起因してX線
像像倍器の入口スクリーンの関連した領域に入射するX
線が無く、画像輝度が生成されないと言うことを意味す
る。測定場の露出領域の寸法は、測定場の位置及び寸
法、並びに、一次ダイヤフラム装置3のアパーチャの値
に依存して変化する。
環状光センサの表面は参照番号30で示されている。破
線で囲まれた領域31は、図示された例では、光センサ
3の全画像表面積の約50%に達する測定場を形成す
る。一次ダイヤフラム装置3のアパーチャが小さいた
め、一次ダイヤフラムシャッターによって覆われた表面
積は参照番号32で示されている。かくして、表面積3
2は露出されない。露出は、測定場31の表面積の中の
(陰影付き)一部分33だけで生じ、この部分33で平
均化により測定されたX線量が露出制御を左右するべき
である。
に対する覆われていない表面33の割合から補正値Kを
計算し、これにより、図2に示された例の場合に約0.
75のKの値が得られる。しかし、測定場の覆われてい
ない表面33の寸法は直接測定することができないの
で、算術ユニットに供給された一次ダイヤフラムアパー
チャの値、並びに、X線ソースとX線像変換器との間の
距離が、覆われていない表面積33の準間接計算のため
使用される。
から、Kに対して最小値よりも小さい値が得られた場合
に補正値Kを最小値に制限し、又は、全測定場31が露
出された場合に値Kを値1に設定する。最小値と値1と
の間にあるKの値はそのまま残される。次に、乗算ユニ
ット12において、補正値Kは線量標準基準値Ds0によ
り乗算され、線量基準値Ds を生ずる。線量標準基準値
Ds0は、測定場31が部分的に覆われている場合に減少
させられる。制御信号Sは、通常の露出制御のように、
未だ平均濃度値が達していないのでX線量を増加すべき
であるという情報を不当に格納することが防止され、平
均濃度値が測定場の露出領域で達成されたとき、X線は
既に切られている。かくして、本発明は、X線像の過剰
露出、従って、重要な像情報の損失を防止する。また、
本発明によれば、患者は最適ではない制御のために不必
要に高い線量に晒されることがないという利点が得られ
る。
覆われている場合に、線量標準基準値を削減する代わり
に、線量実際値が補正値を用いて適切に増加されるよう
に構成することが可能である。放射線の一部を分離し、
露出を測定するビームスプリッタ及び光センサの代わり
に、例えば、被検査対象4とX線像像倍器5との間に設
けられた電離箱、又は、半導体放射線受信器のような他
の公知のセンサを利用することが可能である。X線像像
倍器、光学装置及びテレビジョンカメラの代わりに、一
般的なフィルムカセットをX線像変換器として使用して
もよい。
化させる手段が設けられる。本発明を実施するため、こ
のようなX線装置には、瞬時的な測定場の寸法に関する
情報を算術ユニット16に供給する手段、例えば、測定
場センサが設けられる。一方、X線ソースとX線像変換
器との間の距離が変化し得ないX線装置、例えば、C字
形アームが備え付けられたX線装置の場合には、センサ
17を無しで済ますことが可能である。
作モードに限定されない。しかし、本発明による制御
は、非常に高速かつ簡単であり、従って、制御信号Sを
各蛍光透視パルス毎に決定することができるので、特
に、本発明はパルス型蛍光透視に使用することにより効
果が得られる。
す図である。
Claims (7)
- 【請求項1】 X線ビームを放出するX線ソース
(1)と、 X線を検出し、X線像を形成するX線像変換器(5,
6,7)と、 X線ビームを制限するため、上記X線ソース(1)と被
検査対象との間に設けられている一次ダイヤフラム装置
(3)と、 X線量率を測定する少なくとも一つの測定場(31)を
備えた検出器(9)を含む自動露出制御用の制御回路
(10)とからなるX線装置において、 上記制御回路(10)に影響を与え、上記測定場(3
1)の露出領域(33)の寸法に依存している補正値
(K)を決定し、上記測定場(31)の一部が露出され
ていない場合でもX線量が実質的に同じに保たれるよう
に上記制御回路(10)に影響を与える手段(12,1
4,15,16,17)が設けられていることを特徴と
するX線装置。 - 【請求項2】 上記制御回路(10)は、線量実際値
(Di )と、線量基準値(Ds )とを決定し、上記線量
実際値(Di )と上記線量基準値(Ds )とを比較する
ことによって上記X線ソース(1)を制御する制御信号
(S)を決定する手段(9,11,12,13)を含む
ことを特徴とする請求項1記載のX線装置。 - 【請求項3】 上記補正値(K)を決定する手段は、上
記測定場(31)の総表面積に対する上記測定場(3
1)の露出領域(33)の表面積の割合を形成すること
により上記補正値(K)を決定する演算ユニット(1
6)を含み、 上記制御回路(10)は、所与の線量標準基準値
(Ds0)を上記補正値(K)で乗算することにより上記
線量基準値(Ds )を決定する乗算ユニット(12)を
更に有することを特徴とする請求項1又は2記載のX線
装置。 - 【請求項4】 上記補正値(K)を決定する手段は、上
記補正値(K)を所定の最小値と最大値1とに制限する
制限器ユニット(14)を更に有することを特徴とする
請求項1乃至3のうちいずれか1項記載のX線装置。 - 【請求項5】 上記補正値(K)を決定する手段は、上
記一次ダイヤフラム装置(3)のアパーチャの値を決定
するセンサ(15)を更に有することを特徴とする請求
項1乃至4のうちいずれか1項記載のX線装置。 - 【請求項6】 上記補正値(K)を決定する手段は、上
記X線ソース(1)と上記X線像変換器(5,6,7)
との間の距離を決定するセンサ(17)を更に有するこ
とを特徴とする請求項1乃至5のうちいずれか1項記載
のX線装置。 - 【請求項7】 パルス型蛍光透視用に構成され、 上記補正値(K)を決定する手段が補正値(K)が各蛍
光透視パルス毎に決定されるように構成されていること
を特徴とする請求項1乃至6のうちいずれか1項記載の
X線装置。
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