JPH10326013A5 - - Google Patents

Claims (5)

1. 下記一般式〔Ｉ〕で表される単量体と分子内にアミン構造を有する単量体を繰り返し構造単位として含有し、酸の作用により分解しアルカリに対する溶解性が増加する樹脂と、活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物とを含有することを特徴とする遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物。
   （式中、Ｒ₁ は水素原子又はメチル基を表す。Ｒ₂ はアルキル基、環状アルキル基、又は置換アルキル基を表す。Ｒ₃ 、Ｒ₄ は、同じでも異なっていてもよく、水素原子又はアルキル基を表すが、Ｒ₃ とＲ₄ のうち少なくとも１つは水素原子である。Ｒ₂ とＲ₃ あるいはＲ₄ とが結合して環を形成してもよい。Ａは、単結合、アルキレン基、置換アルキレン基、エーテル基、チオエーテル基、カルボニル基、エステル基、アミド基、スルフォンアミド基、ウレタン基、ウレア基の中から選ばれる１つの基もしくはそれら２つ以上を組み合わせた基を表す。）
2. 前記分子内にアミン構造を有する単量体に相当する繰り返し構造単位の樹脂中の含有量が、全繰り返し単位に対して０．００１モル％〜１０モル％であることを特徴とする請求項１に記載の遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物。
3. 前記分子内にアミン構造を有する単量体が、下記一般式〔II〕で示される単量体であることを特徴とする請求項１又は２に記載の遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物。
   （式中、Ｒ₁ 及びＡは請求項１に記載のものと同義である。Ｒ₅ 、Ｒ₆ は、同じでも異なっていてもよく、アルキル基又は置換アルキル基を表し、Ｒ₅ とＲ₆ が結合して、ヘテロ原子を含んでいてもよい環を形成してもよい。Ｒ₇ 、Ｒ₈ は、同じでも異なっていてもよく、水素原子、アルキル基又は置換アルキル基を表す。）
4. 前記樹脂が、更に脂肪族環状炭化水素部位を分子内に有する繰り返し構造単位を含むことを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物。
5. 請求項１〜４のいずれかに記載の遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物によりポジ型フォトレジスト膜を形成し、遠紫外線を用いて該ポジ型フォトレジスト膜を露光、現像することを特徴とするポジ型パターン形成方法。