JPH10261224A - 磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 体積記録密度の大きな金属磁性薄膜型の磁気
記録媒体を作製すること。 【解決手段】 金属磁性薄膜の蒸着時の熱負荷に耐えら
れる充分な厚みを持った多層構造のベースフィルムを使
用して、金属磁性膜をフィルム３３の表面上に蒸着した
後の工程で、ベースフィルムの構造に適した方法で、走
行面側のベースフィルム３４を剥離して、通常の蒸着方
法ではフィルムの溶解や破断が起きて作製不可能だった
極めて薄い蒸着テープを作製することができる。フィル
ム３０を剥離する方法については、フィルム３０の各層
の物性の違いを利用する。例えば熱処理をする方法や、
薬品による溶解方法を用いる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は非磁性支持体上に磁
性層として金属蒸着型磁性薄膜を有する、いわゆる金属
磁性薄膜の磁気記録媒体の製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】例えばビデオテープレコーダー等の分野
においては、高画質化を図るために、高密度化が一層強
く要求されており、これに対する磁気記録媒体として、
金属あるいはＣｏＮｉ等の合金からなる磁性材料を鍍金
や真空薄膜形成技術（真空蒸着法、スパッタリング法、
イオンプレーティング法等）により、直接非磁性支持体
上に被着せしめて磁性層を形成する、いわゆる金属薄膜
型の磁気記録媒体が提案されている。

【０００３】この金属磁性薄膜型の磁気記録媒体は、保
持力、角型比及び短波長域における電磁変換特性に優れ
るばかりでなく、磁性層の薄膜化が可能であるために磁
性材料の充填密度を高くできること等、数々の利点を有
している。その中でも真空蒸着法によって磁性層を形成
する蒸着テープは、高生産効率と安定した特性のために
既にハイバンド８ミリ用テープ及び家庭用ディジタルビ
デオテープとして商品化されており、今後、更に高密度
記録の需要が高まると考えられる。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】今後、更に体積記録密
度の大きな蒸着テープを作製するためには、よりテープ
の全厚を薄くしなければならない。そのためにはより薄
いベースフィルムを使用するのが望ましいが、蒸着時の
熱負荷に耐えるためには、ある程度以上の厚みが必要で
ある。そのため、ベースフィルムを薄くするのには自ず
と限界があるのが実状である。また、本発明の課題は全
厚が薄くて、体積記録密度の大きな金属磁性薄膜型の磁
気記録媒体を提供することである。

【０００５】

【課題を解決するための手段】我々は鋭意研究の結果、
多層構造のベースフィルムに蒸着し、その後でベースフ
ィルムの一部の層を剥離することで、より全厚の薄い蒸
着テープを製造することができることを見出した。

【０００６】本発明の上記課題は次の構成によって解決
される。すなわち、蒸着型金属磁性薄膜磁気記録媒体の
製造方法において、多層構造からなる非磁性支持体の表
面に金属磁性薄膜の蒸着をほどこし、その後で非磁性支
持体の一部の層を剥離することを特徴とする磁気記録媒
体の製造方法である。

【０００７】たとえば、前記多層構造からなる非磁性支
持体は表面に金属磁性薄膜の蒸着をほどこしたフィルム
層と該フィルム層とその他のフィルム層の間は接着剤に
より接着された構成からなり、当該接着剤層部分を剥離
することで本発明の磁気記録媒体を製造することができ
る。

【０００８】本発明の非磁性支持体としては塩素を含有
するアラミドフィルムとポリエチレンテレフタレートか
らなる二層構造ベース、アラミドフィルムルムとポリエ
チレンナフタレートからなる二層構造ベースなどを使用
し、それぞれの二層構造ベースの一方のフィルムに金属
磁性薄膜を蒸着した後で、他方のフィルムを剥離するで
本発明の磁気記録媒体が製造できる。本発明の非磁性支
持体の多層構造は二層構造に限らず、三層以上の多層構
造体を用いることができる。

【０００９】

【作用】金属磁性薄膜の蒸着時の熱負荷に耐えられる充
分な厚みを持った多層構造のベースフィルムを使用す
る。前記蒸着の後の工程で、ベースフィルムの構造に適
した方法で、ベースフィルムの一部の層を剥離して、通
常の蒸着方法ではフィルムの溶解や破断が起きて作製不
可能だった極めて薄い蒸着テープを作製することができ
る。

【００１０】ベースフィルムを剥離する方法については
実施例で述べるように、ベースフィルムの各層の物性の
違いを利用する。例えば熱処理をする方法や、薬品によ
る溶解がある。また、剥離すべき２層からフィルム間に
それぞれのフィルムに対して剥離性の高いリムーバーフ
ィルム層を設けても良い。

【００１１】

【発明の実施の形態】本発明の実施の形態について説明
する。 実施例１〜５ 蒸着テープ：その磁性面はアラミドフィルム、その走行
面はポリエチレンテレフタレートフィルムの実施例 図１にベースフィルムの断面構造を示す。各層の厚みを
さまざまに変化させたものを表１のような組合せで用意
した。この二層ベースフィルムの製造方法は各層を所望
の厚みで成膜した後で、ポリエステル樹脂系の接着剤を
塗布して張り合わせる方法をとった。ここで、使用した
接着剤は後の剥離工程で熱を加えたときに接着力が弱ま
って剥離ができるように、ガラス転移点を１００℃のも
のを使用した。接着剤の塗布厚みは２０ｎｍである。

【００１２】また、比較例として、単層の上記アラミド
フィルムについても検討を行った。用意したベースフィ
ルムを図２に示すような連続巻き取り式蒸着機２０でア
ラミドフィルム面に蒸着を行った。蒸着機２０の内部は
真空ポンプによって１０−２Ｐａ程度に保たれており、
ルツボ２１においたコバルト塊２２に電子銃２３から電
子線を照射し、コバルト塊２２を加熱溶解して蒸発さ
せ、冷却キャン２４に巻き付けたベースフィルム２５の
表面に蒸着する。ベースフィルム２５は巻き出しロール
２６から巻き出され、冷却キャン２４を介して巻き取り
ロール２７によって巻き取られる仕組みである。冷却キ
ャン２４はベースフィルム２５の熱溶解を避けるために
−２０℃に冷却してある。また、蒸着のベースフィルム
２５に対する入射角を制限する目的で、マスク２８を設
けてある。

【００１３】使用したベースフィルム２５の幅は６００
ｍｍであり、送り速度は５０ｍ／ｍｉｎで、蒸着層が２
００ｎｍの厚みになるように電子線のパワーを調節しな
がらコバルトの蒸着を行った。蒸着層の膜厚は光透過率
計２９の値を参考にして調節した。マスク２８の近傍の
導入口３０からは、蒸着層の磁気特性の調節の目的で酸
素ガスを１２００ｃｃ／ｍｉｎの割合で導入した。以上
のような蒸着条件で、表１に示したベースフィルム２５
について蒸着を行った。

【００１４】蒸着時にベースフィルム２５に大きな熱が
加わるので、フィルム２５の熱溶解や破断が懸念される
が、本実施例では、表１に示したベースフィルム２５に
はそのような熱溶解、破断は生じなかった。

【００１５】次に剥離工程について説明する。図３に剥
離工程の概要を示した。蒸着工程を経たフィルム３０
が、ドライヤーユニット３１によって加熱され、多層ベ
ースフィルム材料間の熱収縮率の違いによってベースフ
ィルムに歪みが生じる。加えて、ベースフィルム層間を
接着している接着剤がガラス転移点に達して接着力が弱
まるので、ベースフィルムが剥離し易い状態になる。一
対のガイドローラ３２の設置によって、ベースフィルム
の剥離開始の境界が直線状になってスムーズに剥離が行
われるようにした。

【００１６】剥離後のフィルムは蒸着層側フィルム３３
と走行面側フィルム３４に分かれてそれぞれ巻き取りロ
ール３５および３６に巻き取られる。ドライヤー３１の
温度はフィルム材料と接着剤材料によって適当な温度を
選定する必要があるが、本実施例では接着剤のガラス転
移点が１００℃なので、それよりも高い１２０℃に固定
して実験を行った。

【００１７】なお、剥離工程にフィルム３０を通紙する
段階では、剥離しない状態のまま巻き取りロール３５に
巻き取り、定速度で走行させる。次に、ドライヤー３１
を通過したフィルム３０がドライヤー３１から出てきた
ところで走行を停止して接着剤が柔らかいうちに図示し
ない粘着テープを使ってフィルム３０の走行面側フィル
ム３４を剥離し、これを巻き取りロール３６に巻き付け
て走行を開始すると巻き取りロール３５側には磁性面側
フィルム３３のみが巻き取られる。剥離工程中のフィル
ムの走行速度は５０ｍ／ｍｉｎで行った。

【００１８】得られた蒸着テープについては、蒸着工程
でベースフィルムの溶解や破断等の異常がないかどう
か、蒸着が正常にできたものについては剥離工程におい
て剥離がベースフィルムの破損なく正常に行うことがで
きたかどうかについて評価を行った。表１に蒸着工程と
剥離工程の評価結果を○×で表示した。○が正常に行わ
れた場合、×が異常が発生した場合である。

【００１９】

【表１】 表１の結果から、従来のようにアラミド単層のベースフ
ィルムを用いた場合は、厚み３．３μｍよりも薄い場合
にはベースフィルムの溶解あるいは切断が起こり、正常
に蒸着できないことがわかる。

【００２０】一方、厚み１．５μｍ以上のアラミドフィ
ルムに全厚が４．８μｍ以上となるようにポリエチレン
テレフタレートフィルムを張り合わせたベースフィルム
を使用すると、蒸着、剥離工程ともに正常に行われたこ
とが分かる。その結果、従来の単層アラミドフィルムで
はできなかった、極端に薄い蒸着テープを作ることがで
きる。

【００２１】表１で正常に蒸着および剥離工程をするこ
とができたサンプルのうち、もっとも薄い実施例５につ
いて、後工程としてバック層を０．５μｍ塗布し、磁性
面にフッ素系の潤滑剤の塗布を行い、６．３５ｍｍの幅
に裁断して実用特性の評価を行った。図４にサンプルの
作製フローを示す。

【００２２】家庭用デジタルＶＴＲで実用特性について
の走行評価を行った。このサンプルは極めて薄いテープ
なので、懸念されるのはテープの剛性の弱さから磁性層
が割れることと、テープのエッジが折れるなどのダメー
ジが入ることであるため、この点の評価を行った。ＶＴ
Ｒはソニー（株）製のＶＸ−１０００を用い、室温で１
００回走行を行ったあと、テープをデッキから取り出し
て、顕微鏡および目視で観察したところ、形状劣化がな
い極めて良好な状態であった。

【００２３】以上により、アラミドフィルムとポリエチ
レンテレフタレートフィルムを張り合わせたベースフィ
ルムを用いて、これに金属磁性材料を蒸着し、後工程で
前記２層のベースフィルムを剥離する製造方法によっ
て、これまでにない薄いテープを作製することができ、
著しい体積記録密度の向上が可能となった。

【００２４】実施例６〜１０ 蒸着テープ：磁性面アラミドフィルム、走行面ポリエチ
レンナフタレートフィルムの実施例 実施例１〜５と同様の実験を、磁性面アルミドフィル
ム、走行面ポリエチレンナフタレートについて行った。
ベース構造と実験結果を表２に示す。

【表２】

【００２５】厚み１．５μｍ以上のアラミドフィルムに
全厚が４．８μｍ以上となるようにポリエチレンナフタ
レートフィルムを張り合わせたベースフィルムを使用す
ると、蒸着、剥離工程ともに正常に行われることがわか
る。その結果、従来のアラミド単層フィルムではできな
かった、極端に薄い蒸着テープを作ることができる。

【００２６】作製したサンプルのうちで最も薄い実施例
１０について、実施例５と同様の実用特性の評価を行っ
たところ、１００回走行後においても磁性層割れ、エッ
ジダメージ等の異常はなく、良好な結果が得られた。

【００２７】実施例１１〜１４ 蒸着テープ：磁性面ポリエチレンテレフタレートフィル
ム、走行面アラミドフィルムの実施例 実施例１〜５と同様の実験を、磁性面ポリエチレンテレ
フタレートフィルム、走行面アラミドフィルムについて
行った。実施例１で用いたベースフィルムと同一製品を
用いた。ベースフィルムの構造と実験結果を表３に示
す。

【００２８】

【表３】 表３の結果から、従来のようにポリエチレンテレフタレ
ート単層のフィルムを用いた場合は、厚み４．０μｍよ
りも薄い場合にはフィルムの溶解あるいは切断が起こ
り、正常に蒸着できないことがわかる。

【００２９】一方、厚み２．１μｍ以上のポリエチレン
テレフタレートフィルムに厚み２．０μｍ以上のアラミ
ドフィルムを張り合わせたベースフィルムを使用する
と、蒸着、剥離工程ともに正常に行われることがわか
る。その結果、従来のポリエチレンテレフタレート単層
フィルムではできなかった。極端に薄い蒸着テープを作
ることができる。

【００３０】作製したサンプルのうちで最も薄い実施例
１１について、実施例５と同様の実用特性の評価を行っ
たところ、１００回走行後においても磁性層割れ、エッ
ジダメージ等の異常はなく、良好な結果が得られた。

【００３１】実施例１５〜１７ 蒸着テープ：磁性面ポリエチレンナフタレートフィル
ム、走行面アラミドフィルムの実施例 実施例１〜５と同様の実験を、磁性面ポリエチレンナフ
タレートフィルム、走行面アラミドフィルムについて行
った。ベースフィルムの構造と実験結果を表４に示す。

【００３２】

【表４】 表４の結果から、従来のようにポリエチレンナフタレー
ト単層のフィルムを用いた場合は、厚み４．０μｍより
も薄い場合にはフィルムの溶解あるいは切断が起こり、
正常に蒸着できないことがわかる。

【００３３】一方、厚み２．１μｍ以上のポリエチレン
ナフタレートフィルムに厚み２．０μｍ以上のアラミド
フィルムを張り合わせたベースフィルムを使用すると、
蒸着、剥離工程ともに正常に行われることがわかる。そ
の結果、従来のポリエチレンのナフタレート単層フィル
ムではできなかった、極端に薄い蒸着テープを作ること
ができる。

【００３４】作製したサンプルのうちで最も薄い実施例
１５について、実施例５同様の実用特性の評価を行った
ところ、１００回走行後においても磁性層割れ、エッジ
ダメージ等の異常はなく、良好な結果が得られた。本発
明の上記実施例では二層構造のベースフィルムを検討し
たが、上記実施例以外の組合せや、三層以上の多層構造
ベースフィルムであっても同様の効果を発揮する。

【００３５】また、前記実施例は、蒸着層としてＣｏ系
金属を用いた、Ｃｏの他に、Ｆｅ、Ｎｉ等の金属やＣｏ
−Ｎｉ系合金、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｐｔ系合金、Ｆｅ−Ｃｏ−
Ｎｉ系合金、Ｆｅ−Ｎｉ−Ｂ系合金、Ｆｅ−Ｃｏ−Ｂ系
合金、Ｆｅ−Ｃｏ−Ｎｉ−Ｂ系合金等からなる面内磁化
記録金属磁性膜や、Ｃｏ−Ｃｒ系合金薄膜、Ｃｏ−Ｏ系
薄膜等の垂直磁化記録金属磁性薄膜に関する場合におい
ても、同様に有効である。

【００３６】

【発明の効果】本発明によれば、少なくとも二層構造の
ベースフィルムを使用して金属磁性薄膜を蒸着し、その
後でベースフィルムを剥離して、従来の製造方法では作
ることのできない程に薄い蒸着テープを作製することが
できた。

【図面の簡単な説明】

【図１】 本発明の一実施例の二層構造ベースフィルム
の断面図である。

【図２】 本発明の一実施例の連続巻き取り式蒸着機の
略図である。

【図３】 本発明の一実施例の二層構造ベースフィルム
の剥離工程の概略図である。

【図４】 本発明の一実施例の二層構造ベースフィルム
のサンプル作製フローである。

【符号の説明】

２０ 蒸着機 ２１ ルツボ ２２ コバルト塊 ２３ 電子銃 ２４ 冷却キャン ２５ ベースフ
ィルム ２６ 巻き出しロール ２７ 巻き取り
ロール ２８ マスク ２９ 光透過率
計 ３０ 酸素ガス導入口

Claims (6)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 蒸着型金属磁性薄膜磁気記録媒体の製造
   方法において、多層構造からなる非磁性支持体の表面に
   金属磁性薄膜の蒸着をほどこし、その後で非磁性支持体
   の一部の層を剥離することを特徴とする磁気記録媒体の
   製造方法。
2. 【請求項２】 多層構造からなる非磁性支持体は表面に
   金属磁性薄膜の蒸着をほどこしたフィルム層と該フィル
   ム層とその他のフィルム層の間は接着剤により接着され
   た構成からなり、当該接着剤層部分を剥離することを特
   徴とする請求項１記載の磁気記録媒体の製造方法。
3. 【請求項３】 非磁性支持体として塩素を含有するアラ
   ミドフィルムとポリエチレンテレフタレートからなる二
   層構造ベースを使用し、アラミドフィルム面に金属磁性
   薄膜を蒸着した後で、ポリエチレンテレフタレートフィ
   ルムを剥離することを特徴とする請求項１記載の磁気記
   録媒体の製造方法。
4. 【請求項４】 非磁性支持体として塩素を含有するアラ
   ミドフィルムとポリエチレンナフタレートからなる二層
   構造ベースを使用し、アラミドフィルム面に金属磁性薄
   膜を蒸着した後で、ポリエチレンナフタレートフィルム
   を剥離することを特徴とする請求項１記載の磁気記録媒
   体の製造方法。
5. 【請求項５】 非磁性支持体としてアラミドフィルムと
   ポリエチレンテレフタレートからなる二層構造ベースを
   使用し、ポリエチレンテレフタレート側に金属磁性薄膜
   を蒸着した後で、アラミドフィルムを剥離することを特
   徴とする請求項１記載の磁気記録媒体の製造方法。
6. 【請求項６】 非磁性支持体としてアラミドフィルムと
   ポリエチレンナフタレートからなる二層構造ベースを使
   用し、ポリエチレンナフタレート側に金属磁性薄膜を蒸
   着した後で、アラミドフィルムを剥離することを特徴と
   する請求項１記載の磁気記録媒体の製造方法。