JPH10270618A - リードフレーム、リードフレームの製造方法および半導体装置 - Google Patents

リードフレーム、リードフレームの製造方法および半導体装置

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JPH10270618A
JPH10270618A JP9070267A JP7026797A JPH10270618A JP H10270618 A JPH10270618 A JP H10270618A JP 9070267 A JP9070267 A JP 9070267A JP 7026797 A JP7026797 A JP 7026797A JP H10270618 A JPH10270618 A JP H10270618A
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JP
Japan
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lead
etching
lead frame
metal material
resist
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JP9070267A
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Kazuhiko Suzuki
和彦 鈴木
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Seiko Epson Corp
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Seiko Epson Corp
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Publication date
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    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10WGENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10W72/00Interconnections or connectors in packages
    • H10W72/50Bond wires
    • H10W72/541Dispositions of bond wires
    • H10W72/5449Dispositions of bond wires not being orthogonal to a side surface of the chip, e.g. fan-out arrangements
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10WGENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10W90/00Package configurations
    • H10W90/701Package configurations characterised by the relative positions of pads or connectors relative to package parts
    • H10W90/751Package configurations characterised by the relative positions of pads or connectors relative to package parts of bond wires
    • H10W90/756Package configurations characterised by the relative positions of pads or connectors relative to package parts of bond wires between a chip and a stacked lead frame, conducting package substrate or heat sink

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  • Weting (AREA)
  • Lead Frames For Integrated Circuits (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】リードフレームのリード幅を広く形成すること
のできる製造方法および構造およびそれを用いた半導体
装置を提供することにある。 【解決手段】エッチングによりリードフレームを形成す
る際の工程において、リードフレームのベースである金
属素材10の表裏を別々にエッチングして各リードを形
成する。また、金属素材10の表裏を別々にエッチング
した後に、さらにもう一度エッチングを行いリードを形
成する。 【効果】インナーリード4およびアウターリード7の表
裏どちらか片側または表裏両面の平坦幅を広くすること
ができ、組立工程内での不良発生を抑えることができ
る。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、集積回路チップを
搭載する集積回路用エッチングリードフレーム及びその
製造方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】以下、従来の技術を図5および図6を用
いて説明する。
【0003】図5は集積回路チップを搭載するリードフ
レームの一例を示す平面図である。フレーム枠1は略中
央に集積回路チップを搭載固着するダイパッド2を有し
ている。更にダイパッド2はタイバー3によってフレー
ム枠1に支持されている。又フレーム枠1の内壁からは
多数の細いインナーリード4が前記ダイパッド2に向か
って延在しており、各インナーリード4はモールド工程
でモールドエリア5内の樹脂封止時に樹脂の流出を防止
する為のダムバー6で支持されている。このダムバー6
はダイパッド2に搭載固着された集積回路チップとイン
ナーリード4のダイパッド側先端部をワイヤで配線する
際の補強部材にもなっており樹脂封止後各リード間のダ
ムバー6を切断する。ダムバー6の切断によってその外
側部分のアウターリード7はそれぞれ分離される。
【0004】図6はインナーリード4またはアウターリ
ード7の形状が形成される過程を示した断面図である。
脱脂処理を済ませたエッチングリードフレームの金属素
材10の表裏両面にレジスト11を塗布する。続いて露
光、現像を行い金属素材10をエッチングした後レジス
トを剥離し、インナーリード4およびアウターリード7
の形状を形成する。もちろんこの時ダイパッド2、タイ
バー3、ダムバー6などの部分の形状も同時に形成され
る。図6は露光、現像後の状態から示したものである
が、このとき金属素材10の表裏両面から同時にエッチ
ングが行われインナーリード4およびアウターリード7
の形状が形成される。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】上記のように半導体用
エッチングリードフレームの製造過程では、図6のよう
に金属素材10の表裏両面から同時にエッチングが行わ
れインナーリード4、アウターリード7および他の部分
の形状が形成される。このように形状を形成されたイン
ナーリード4およびアウターリード7の表面、裏面の平
坦部の幅は、深さ方向と同時にサイド方向へ金属素材1
0のエッチングが進行するためリードの表面、裏面共々
図6に示したレジスト11の幅よりもどうしてもかなり
狭いものとなってしまう。数値的にはレジストの幅を1
20〜150μmとった場合、出来上がりのリードの幅
は70〜100μm程度になってしまう。インナーリー
ドピッチが微細な多ピンリードフレームではレジストの
幅を狭めなければならず、サイドエッチング量を考える
とワイヤーボンディング時に必要なリードの平坦幅が得
られない。
【0006】現在生産の行われている半導体装置は、イ
ンナーリードの微細化が進んでいる状況にある。
【0007】インナーリード4の平坦幅がワイヤーボン
ディングに必要十分とされる幅よりも狭いと、集積回路
チップとインナーリード4のダイパッド側先端部をワイ
ヤで圧着する際にワイヤーとインナーリード4との未圧
着や圧着強度不足などの不良が多発する。つまり、これ
らの不良はワイヤとインナーリード4を圧着する際に、
ワイヤ自体に形成されるボール径よりもインナーリード
4の幅が狭いこと、またウインドクランパーによりイン
ナーリード4を押さえるときにインナーリード面の裏面
の幅が狭いとインナーリード4が不安定となりリードが
ガタつくことに起因している。
【0008】また、表裏の平坦幅が狭いアウターリード
7は、樹脂封止の後に行われるフォーミング工程におい
てアウターリード7が左右どちらかに曲がってしまった
り表面実装型のパッケージでは各リードの高さが不均一
になるなどの不良の原因となっている。
【0009】したがってインナーリード4およびアウタ
ーリード7の表裏両面あるいは表裏片面の平坦幅を図6
に示したレジスト11の幅と同等の幅に形成することの
できるリードフレームを提供することが強く望まれた。
【0010】
【課題を解決するための手段】集積回路チップを搭載す
る略四角形のダイパッドと前記ダイパッドの周縁に配置
され、一端をダイパッドに向けたインナーリードによっ
て構成されるエッチングリードフレームにおいて、金属
素材を表裏別々にエッチングしリードの形状を形成した
ことで達成される。
【0011】また、エッチングリードフレームの金属素
材を表裏別々にエッチングした後にさらにもう1回のエ
ッチングを施しリードの形状を形成したことで達成され
る。
【0012】
【作用】リードフレームの金属素材10を表裏別々にエ
ッチングまたは表裏別々にエッチングした後にさらにも
う1回のエッチングを施しリードの形状を形成すること
により、リード部の平坦幅をエッチング前のレジストの
幅と同等にすることができる。
【0013】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施例を図1〜図
4を用いて説明する。
【0014】図1は本発明の第1の実施例で、インナー
リード4またはアウターリード7の断面を製造順に列挙
したエッチングリードフレームの製造工程概略図であ
る。
【0015】脱脂処理を済ませた金属素材10の表裏両
面にレジスト11を塗布し、続いて露光、現像を行った
のが図(a)である。
【0016】次に表裏どちらかの面に耐エッチング液性
の樹脂12を充填するか、あるいは既に塗布してあるレ
ジスト11と種類の異なるレジスト12を塗布する。こ
のとき既に塗布してあるレジスト11と種類の違うレジ
スト12を塗布するのは、レジスト剥離が選択的に行え
ることを目的としている。
【0017】その後、図(b)に示したように前記の耐
エッチング液性の樹脂またはレジスト12で覆った面と
反対の面の金属素材10のエッチングを行う。このとき
従来技術である金属素材10を両面同時にエッチングし
たものよりも深さ方向へ進行しないようにエッチング時
間等のエッチングレートを変えて制御する。
【0018】こうすることにより、サイド方向へのエッ
チングも従来技術により形成した場合よりも抑えられる
ことになり、平坦幅の広いリードの形成が可能となる。
【0019】続いて図(c)のように前記の耐エッチン
グ液性の樹脂またはレジスト12を剥離し、今度はエッ
チングした反対面に耐エッチング液性の樹脂12を充填
するか、あるいは既に塗布してあるレジスト11と種類
の異なるレジスト12を塗布する。前記の耐エッチング
液性の樹脂またはレジスト12で覆った面と反対の面の
金属素材10のエッチングを行い、形状形成を完結させ
る。
【0020】最後に前記の耐エッチング液性の樹脂また
はレジスト12と前記レジスト11を剥離し、インナー
リード4またはアウターリード7の形状作製を完了す
る。
【0021】つまり図1のようにリードを形成すること
により、金属素材10の深さ方向へのエッチングは、素
材の表裏どちらか片側では従来技術により形成された場
合よりも浅いものとなる。必然的にサイド方向へのエッ
チングも素材の表裏どちらか片側では従来技術により形
成された場合よりも進行を抑えられる。つまり形成され
るインナーリード4またはアウターリード7の片側面の
平坦幅を従来技術により形成された場合より広くするこ
とができる。
【0022】図2は本発明の第2の実施例で、インナー
リード4またはアウターリード7の断面を製造順に列挙
したエッチングリードフレームの製造工程概略図であ
る。
【0023】表裏どちらかの面に耐エッチング液性の樹
脂12を充填するか、あるいはレジスト11と種類の違
うレジスト12を塗布しエッチングを行うところまで図
1で示した第1の実施例と全く同様である。
【0024】次ぎに前記の耐エッチング液性の樹脂12
またはレジスト12を剥離し、今度はエッチングした反
対面に耐エッチング液性の樹脂12を充填するか、ある
いは既に塗布してあるレジスト11と種類の異なるレジ
スト12を塗布する。前記の耐エッチング液性の樹脂ま
たはレジスト12で覆った面と反対の面の金属素材10
のエッチングを行う。このとき反対面のエッチングと同
様に、従来技術である金属素材10を両面同時にエッチ
ングしたものよりも深さ方向へ進行しないように制御す
る。
【0025】次ぎに既に塗布してあるレジスト11と種
類の異なるレジスト12を金属素材10の全面に塗布す
る。
【0026】このように処理した金属素材10のインナ
ーリード4またはアウターリード7の全体を露光、現像
処理し、間隔部分をエッチングする。
【0027】最後に2種類のレジスト11、12を剥離
し、インナーリード4またはアウターリード7の形状作
製を完了する。
【0028】こうすることにより、表裏両面ともサイド
方向へのエッチングが従来技術により製造したものより
も抑えられることになり、平坦幅の広いリードの形成が
可能となる。
【0029】図3は本発明の第3の実施例で、インナー
リード4またはアウターリード7の断面を製造順に列挙
したエッチングリードフレームの製造工程概略図であ
る。
【0030】これは図2で示した本発明の第2の実施例
とその製造方法は全く同様であるが、表裏片面のレジス
トの幅を広くしたものである。
【0031】また、図3は本発明の第3の実施例で、イ
ンナーリード4またはアウターリード7の断面を製造順
に列挙したエッチングリードフレームの製造工程概略図
である。
【0032】これもまた、図2で示した本発明の第2の
実施例とその製造方法は全く同様であるが、表裏両面の
レジストの幅を広くしたものである。
【0033】このようにレジストの幅を製造工程能力内
で変更することにより、従来技術に比べて平坦幅の広い
リードが得られる上に選択的に表裏の幅やそのバランス
をコントロールすることも可能となる。
【0034】以上、本発明に係わる実施例を説明してき
た。本実施例ではレジストおよび耐エッチング性樹脂の
材質や厚さ等を限定しない例として説明しているが、こ
れらは本発明の実施例が達成できるものであればどのよ
うなものでもよい。また素材の深さ方向、サイド方向の
エッチング量についても特定していないが、これもまた
本発明の実施例が達成できるものであればどのように設
定してもかまわない。
【0035】
【発明の効果】以上述べてきたように、本発明は、エッ
チングリードフレームの金属素材を表裏別々にエッチン
グするか、表裏別々にエッチングしたあとさらにもう1
回のエッチングをしリードの形状を形成することによっ
て、インナーリードおよびアウターリードの表裏どちら
か片側または表裏両面の平坦幅を従来技術で製作したリ
ードよりも広くすることが可能となる。このためワイヤ
ーボンディングの際の圧着強度不足不良や樹脂封止の後
に行われるフォーミング工程においてアウターリードが
左右どちらかに曲がってしまうリードスキュー不良、さ
らには表面実装型のパッケージでの各リードの高さが不
均一になるコープラナリティー不良などのを防ぐことが
できるという優れた効果がある。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1の実施例を示すリード形成過程図
(断面図)。
【図2】本発明の第2の実施例を示すリード形成過程図
(断面図)。
【図3】本発明の第3の実施例を示すリード形成過程図
(断面図)。
【図4】本発明の第4の実施例を示すリード形成過程図
(断面図)。
【図5】リードフレーム全体図(平面図)。
【図6】従来の方法を示すリード形成過程図(平面
図)。
【符号の説明】
1…フレーム枠 2…ダイパッド 3…タイバー 4…インナーリード 5…モールドエリア 6…ダムバー 7…アウターリード 8…ICチップ 9…金ワイヤー 10…フレーム素材 11…レジスト 12…耐エッチング液性の樹脂・レジスト

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】集積回路チップを搭載する略四角形のダイ
    パッドと前記ダイパッドの周縁に配置され、一端をダイ
    パッドに向けたインナーリードによって構成されるエッ
    チングリードフレームにおいて、金属素材を表裏別々に
    エッチングしリードの形状を形成したことを特徴とする
    リードフレーム。
  2. 【請求項2】集積回路チップを搭載する略四角形のダイ
    パッドと前記ダイパッドの周縁に配置され、一端をダイ
    パッドに向けたインナーリードによって構成されるエッ
    チングリードフレームにおいて、金属素材を表裏別々に
    エッチングした後にさらにもう1回のエッチングを施し
    リードの形状を形成したことを特徴とするリードフレー
    ム。
  3. 【請求項3】請求項1記載の前記エッチングリードフレ
    ームにおいて、金属素材を表裏別々にエッチングしリー
    ドの形状を形成したことを特徴とするリードフレームの
    製造方法。
  4. 【請求項4】請求項1記載の前記エッチングリードフレ
    ームにおいて、金属素材を表裏別々にエッチングした後
    にさらにもう1回のエッチングを施しリードの形状を形
    成したことを特徴とするリードフレームの製造方法。
  5. 【請求項5】金属素材を表裏別々にエッチングしリード
    の形状を形成したことを特徴とする請求項1記載のリー
    ドフレームを用いた半導体装置。
  6. 【請求項6】金属素材を表裏別々にエッチングした後に
    さらにもう1回のエッチングを施しリードの形状を形成
    したことを特徴とする請求項2記載のリードフレームを
    用いた半導体装置。
JP9070267A 1997-03-24 1997-03-24 リードフレーム、リードフレームの製造方法および半導体装置 Withdrawn JPH10270618A (ja)

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