JPH10270742A5 - - Google Patents

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JPH10270742A5
JPH10270742A5 JP1997077480A JP7748097A JPH10270742A5 JP H10270742 A5 JPH10270742 A5 JP H10270742A5 JP 1997077480 A JP1997077480 A JP 1997077480A JP 7748097 A JP7748097 A JP 7748097A JP H10270742 A5 JPH10270742 A5 JP H10270742A5
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Description

【0007】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために、本発明では、1のp型層と、該第1のp型層上に形成されたn型層を有し、n型層側から光を受けて光電変換し、生成した電荷をn型層から出力するフォトダイオードにおいて、前記n型層上に第2のp型層を設けて、前記第1のp型層および前記第2のp型層を、これらをローインピーダンスとする所定電位に接続した構成とする。
光は第2のp型層より入射し、第2のp型層とn型層およびn型層と第1のp型層の接合面で光電変換が行われる。光電変換によって生成された電荷はn型層から出力するが、n型層の上部には第2のp型層が設けられている。この第2のp型層は、グランド電位のような所定電位に接続されてローインピーダンスになっているためシールド効果をもち、外部からの電磁ノイズを遮断することができる。したがって、n型層に電磁ノイズが達することはなく、n型層からノイズによって発生した電荷が出力されることはない。
n型層から電荷を出力するための第1電極と、第1のp型層および第2のp型層を前記所定電位に接続するための第2電極とをさらに備えるとよい。
前記第1および第2電極はいずれもn型層側の表面に備えるようにするとよい。この場合、アノード電極とカソード電極がフォトダイオードの表面に併設されることになる。
さらに、前記第2のp型層は、前記第1電極と前記n型層との接続部以外の部分で前記n型層の上部を覆うように形成されていることが好ましい。
また、前記第1電極は、前記n型層にオーミック接続されていることが好ましい。
さらに、前記n型層において、前記第1電極とのオーミック接続部には、周囲よりも高濃度にn型不純物を含む高濃度層が配置されていることが好ましい。
また、前記第1のp型層および第2のp型層は、直接接続されていてもよい。
また、前記第2電極は、前記第1のp型層および第2のp型層の両方に直接接続されていてもよい。
第1の電極15は開口14aの上に設けられており、n型層12に接続している。第2の電極16は、開口14bと開口14cの上に設けられており、第2のp型層13に接続し、p型帯11aを介して第1のp型層11に接続している。電極15は、n型層12にオーミック接続されており、このオーミック接続は、n型層12において、電極15とのオーミック接続部に、周囲よりも高濃度にn型不純物を含む高濃度層を配置して形成されている。同様にして、電極16は、第2のp型層13およびp型帯11aにオーミック接続されている。
電極16はグランド電位に接続される。これにより、第1のp型層11と第2のp型層13が共にグランド電位となる。
【0023】
【発明の効果】
この発明のフォトダイオードによるときは、外部からの電磁ノイズが第2のp型層によって遮断されるため、ノイズに起因する信号を出力することがない。このため、シールドケースでフォトダイオードを覆う必要がなくなり、また、コストを低減し製造工程数を減少させることができる。
また、アノード電極とカソード電極ともにフォトダイオード表面に形成しておけば、両電極を同じ方法によって回路基板の配線に接続することができる。したがって、実装の工程が容易になる。

Claims (8)

  1. 1のp型層と、該第1のp型層上に形成されたn型層を有し、n型層側から光を受けて光電変換し、生成した電荷をn型層から出力するフォトダイオードにおいて、
    前記n型層上に第2のp型層を設けて、前記第1のp型層および前記第2のp型層を、これらをローインピーダンスとする所定電位に接続したことを特徴とするフォトダイオード。
  2. 前記n型層から電荷を出力するための第1電極と、前記第1のp型層および前記第2のp型層を前記所定電位に接続するための第2電極さらに備えることを特徴とする請求項1に記載のフォトダイオード。
  3. 前記第1電極および第2電極を、n型層側の表面に備えることを特徴とする請求項2記載のフォトダイオード。
  4. 前記第2のp型層は、前記第1電極と前記n型層との接続部以外の部分で前記n型層の上部を覆うように形成されていることを特徴とする請求項2または3記載のフォトダイオード。
  5. 前記第1電極は、前記n型層にオーミック接続されていることを特徴とする請求項2ないし4のいずれかに記載のフォトダイオード。
  6. 前記n型層において、前記第1電極とのオーミック接続部には、周囲よりも高濃度にn型不純物を含む高濃度層が配置されていることを特徴とする請求項5記載のフォトダイオード。
  7. 前記第1のp型層および第2のp型層は、直接接続されていることを特徴とする請求項1ないし6のいずれかに記載のフォトダイオード。
  8. 前記第2電極は、前記第1のp型層および第2のp型層の両方に直接接続されていることを特徴とする請求項2ないし6のいずれかに記載のフォトダイオード。
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