JPH10274944A - 液晶表示デバイス用基板およびその製法 - Google Patents

液晶表示デバイス用基板およびその製法

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JPH10274944A
JPH10274944A JP8134897A JP8134897A JPH10274944A JP H10274944 A JPH10274944 A JP H10274944A JP 8134897 A JP8134897 A JP 8134897A JP 8134897 A JP8134897 A JP 8134897A JP H10274944 A JPH10274944 A JP H10274944A
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gas barrier
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liquid crystal
group
display device
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Tetsuya Yamamoto
哲也 山本
Akio Naka
昭夫 中
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Nippon Shokubai Co Ltd
Original Assignee
Nippon Shokubai Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 （修正有） 【課題】 プラスチックフィルムを液晶表示デバイス用
基板として用いる場合に起るガスバリア性の問題を解決
し、液晶表示デバイスの薄型化に貢献する。 【解決手段】 液晶表示デバイスの液晶セルを挟持する
ための基板であって、プラスチックフィルム基材の片面
に、ガスバリア性の薄膜と透明導電性物質の薄膜を順次
形成し、ガスバリア性の薄膜が、 Ｒ1 mＭ（ＯＲ2 ）n で示される有機金属化合物及び／又はその加水分解縮合
物を必須成分として含有するガスバリア用組成物を基材
にコーティングする。（Ｍは金属元素、Ｒ1 は異なって
いてもよく、水素原子、低級アルキル基、アリール基、
ビニル基又は炭素鎖に直結したメルカプト基、又は（メ
タ）アクリロイル基を表し、Ｒ2 は異なっていてもよ
く、水素原子、低級アルキル基またはアシル基を表し、
ｍは０または正の整数、ｎは１以上の整数でかつｍ＋ｎ
は金属元素Ｍの原子価と一致する）

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、液晶表示デバイス
用のプラスチックフィルム基板およびその製法に関する
ものである。
【０００２】
【従来の技術】液晶を用いた表示デバイスは、時計、電
卓、自動車のパネル、ページャ等を始めとして様々な分
野に用いられている。図１には単純な構造の液晶表示デ
バイスの概略図を示した。液晶表示デバイス１は、対向
する２枚の基板２，２と配向膜３，３と透明電極４，４
がそれぞれ積層されて形成されたセルの中に液晶組成物
５がエポキシ樹脂６により封入されて構成されている。
液晶表示デバイスの適用範囲の拡大に伴って、デバイス
の薄膜化、軽量化、低コスト化の要求が高まり、最近で
は、基板２として従来のガラスに代わってプラスチック
フィルムが利用されることが多くなってきた。
【０００３】基板に要求される特性としては、耐熱性、
可撓性、透明性、耐湿性、耐溶剤性等であり、これらを
満足するプラスチックフィルムが基板に用いられてい
る。しかし、液晶組成物は、基板で挟持されるセル内に
減圧で封入されることから、プラスチックフィルム基板
の気体透過性が大きいと酸素や窒素等の気体がプラスチ
ックフィルムを通過してしまい、セル内に気泡が生じる
という問題が起こる。
【０００４】このため、基板用のプラスチックフィルム
にガスバリア性を付与することが提案されている。しか
し従来のガスバリア性フィルム、例えばエチレン−ビニ
ルアルコール共重合体や芳香族系ナイロン等の気体不透
過性素材は、耐湿性が悪く、ガスバリア性に湿度依存性
があるため不適である。
【０００５】一方、液晶表示デバイスの需要は日々増大
し、基板としてガラスの代わりにプラスチック素材を使
用するだけでは、小型化、低コスト化の要求に応じるこ
とができなくなっている。この観点から、液晶表示デバ
イスに不可欠な透明電極の薄型化も検討されている。現
在、透明電極として汎用されているＩＴＯ（indiumtin
oxide ；スズドープインジウム酸化物) 膜は、ＩＴＯの
支持体用透明プラスチックフィルムに、ＩＴＯがスパッ
タリングやコーティングされて形成されているが、ＩＴ
Ｏとプラスチックフィルムの密着性を上げるためにアン
ダーコート層を介在させており、薄型化には限度があっ
た。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】そこで本発明では、プ
ラスチックフィルムを液晶表示デバイス用基板として用
いる場合に起るガスバリア性の問題を解決し、しかも液
晶表示デバイスの薄型化に貢献することのできる基板お
よびその製法の提供を課題として掲げた。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明の液晶表示デバイ
ス用基板は、液晶表示デバイスの液晶セルを挟持するた
めの基板であって、この基板が、プラスチックフィルム
基材の少なくとも片面に、ガスバリア性の薄膜と透明導
電性物質の薄膜が順次形成されてなり、かつ、前記ガス
バリア性の薄膜が、下記一般式で示される有機金属化合
物(I) および／またはその加水分解縮合物、 Ｒ1 mＭ（ＯＲ2 ）n …(I) （式中Ｍは金属元素、Ｒ1 は同一または異なっていても
よく、水素原子、低級アルキル基、アリール基、ビニル
基または炭素鎖に直結したメルカプト基、または（メ
タ）アクリロイル基を表し、Ｒ2 は同一または異なって
いてもよく、水素原子、低級アルキル基またはアシル基
を表し、ｍは０または正の整数、ｎは１以上の整数でか
つｍ＋ｎは金属元素Ｍの原子価と一致する）を必須成分
として含有するガスバリア用組成物を前記プラスチック
フィルム基材にコーティングすることにより形成された
ものであるところに要旨を有する。
【０００８】すなわち、本発明では、ガスバリア層上に
直接透明導電性薄膜を設けているので、透明導電性物質
の薄膜用の支持体が不必要となり、前記した支持体と透
明導電性物質との間のアンダーコート層の必要性もなく
なるので、液晶表示デバイス全体の薄型化に、大きく貢
献することができる。
【０００９】ガスバリア用組成物に、さらに、分子内に
１級および／または２級アミノ基を有する有機化合物(I
I)が含まれている構成は、ガスバリア性薄膜を形成する
際の成膜性を良好にし、また得られるガスバリア性薄膜
の可撓性やガスバリア性等の物性が向上するため好まし
い。下記一般式で示される有機シラン化合物(III) およ
び／またはその加水分解縮合物、あるいはポリエチレン
イミン類のような加水分解性のＳｉ（ＯＲ6 ）基（ただ
しＲ6 の意味は上記と同じ）を持たない有機化合物(IV)
を、単独でまたは併用して、有機化合物(II)として使用
することができる。
【００１０】
【化１】
【００１１】［式中Ａ1 はアルキレン基、Ｒ3 は水素原
子、低級アルキル基、または
【００１２】
【化２】
【００１３】（式中Ａ2 は直接結合またはアルキレン基
を、Ｒ7,Ｒ8 は水素原子または低級アルキル基を示す）
で表わされる基、Ｒ4 は水素原子または低級アルキル
基、Ｒ5は同一または異なる低級アルキル基、アリール
基または不飽和脂肪族残基、Ｒ6は水素原子、低級アル
キル基またはアシル基を意味し（ただしＲ3,Ｒ4,Ｒ7,Ｒ
8のうち少なくとも１つが水素原子である）、ｗは０、
１、２のいずれか、ｚは１、２、３のいずれかの整数を
表わす（ただしｗ＋ｚ＝３である）］。
【００１４】ガスバリア用組成物は、さらに、アミノ基
と反応し得る官能基を分子内に有する化合物(V) を含有
していてもよく、一層ガスバリア性が向上する。透明導
電性物質としては、電気伝導性に優れたＩＴＯ（indium
tin oxide) 、スズドープインジウム酸化物系化合物を
用いることが好ましい。
【００１５】本発明には、上記ガスバリア用組成物を、
プラスチックフィルム基材の少なくとも片面にコーティ
ングすることによりガスバリア性の薄膜を形成した後、
透明導電性物質の薄膜を前記ガスバリア性の薄膜上に形
成することを特徴とする液晶表示デバイス用基板の製法
も含まれる。
【００１６】
【発明の実施の形態】本発明者らは、液晶表示デバイス
用のプラスチックフィルム基板にガスバリア性を付与す
るため、本発明において使用されるガスバリア性組成物
が極めて有用であることを見出し、既に出願した（特願
平７−１６９８０７号）。しかし、さらなるデバイスの
薄型化、小型化を課題として検討を続けた結果、上記ガ
スバリア層とＩＴＯ膜の密着性が非常に優れていること
を見出し、本発明に想到した。本発明では、基板上に設
けたガスバリア層の上に、透明導電性膜を直接設けるこ
とにより、透明導電性物質用の支持体が不要となったの
で、デバイス自体の薄型化を達成することができた上
に、液晶表示デバイス用基板として必要な特性、すなわ
ち耐熱性、可撓性、透明性、耐湿性、耐溶剤性等にも優
れており、工業上極めて有用な発明である。以下詳細に
説明する。
【００１７】本発明は、液晶表示デバイスの液晶セルを
挟持する基板およびその製法を開示するものであり、こ
の基板は、プラスチックフィルム基材表面にガスバリア
性の薄膜と透明導電性物質の薄膜が順次形成されている
ところに最大のポイントを有する。ガスバリア性の薄膜
（以下ガスバリア層ということがある）および透明導電
性物質の薄膜（以下透明導電層ということがある）は、
プラスチックフィルム基材の片面だけに設けられても、
両面に設けられてもよいが、透明導電層は電極として一
対存在していればよく、本発明の基板はデバイス中少な
くとも２枚は使用されるので、特に必要がない以上、片
面にだけ設ければよい。
【００１８】本発明において、ガスバリア層の上に直接
透明導電層を形成することができたのは、下記一般式で
示される有機金属化合物(I) および／またはその加水分
解縮合物 Ｒ1 mＭ（ＯＲ2 ）n …(I) （ただし、Ｍ、Ｒ1 、Ｒ2 、ｍ、ｎの意味は前記した通
り）を必須成分として含有するガスバリア用組成物でガ
スバリア層を形成したことによる。すなわち、このガス
バリア用組成物からなるガスバリア層は透明導電層との
密着性に極めて優れており、ガスバリア層の上に、直
接、透明導電層を形成しても透明導電層の剥離や脱落等
の問題が起こらないのである。本発明者らの検討によれ
ば、例えば、ポリ塩化ビニリデンやその他のガスバリア
用組成物からなる層は、透明導電層との密着性が悪く、
透明電極として使用することができないことが見出され
ている。本発明で用いられるガスバリア用組成物が、透
明導電層と密着性がよいのは、必須成分として含まれる
上記有機金属化合物中に金属元素が含まれており、透明
導電層膜との親和性がよいためではないかと考えられ
る。
【００１９】本発明のガスバリア用組成物の必須成分と
して用いられる有機金属化合物(I)は、下記一般式で表
されるものである。 Ｒ1 mＭ（ＯＲ2 ）n …(I) （ただし、Ｍ、Ｒ1 、Ｒ2 、ｍ、ｎの意味は前記した通
り）
【００２０】具体的には、テトラメトキシシラン、テト
ラエトキシシラン、テトライソプロポキシシラン、テト
ラブトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチル
トリエトキシシラン、メチルトリイソプロポキシシラ
ン、メチルトリブトキシシラン、エチルトリメトキシシ
ラン、エチルトリエトキシシラン、エチルトリイソプロ
ポキシシラン、エチルトリブトキシシラン、ジメチルジ
メトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジメチル
ジイソプロポキシシラン、ジメチルジブトキシシラン、
ジエチルジメトキシシラン、ジエチルジエトキシシラ
ン、ジエチルジイソプロポキシシラン、ジエチルジブト
キシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエ
トキシシラン、ビニルトリイソプロポキシシラン、ビニ
ルトリブトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメ
トキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリエトキシシ
ラン、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラ
ン、γ−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン等
のアルコキシシラン類、チタニウムテトラエトキシド、
チタニウムテトライソプロポキシド、チタニウムテトラ
ブトキシド等のチタニウムアルコキシド類、ジルコニウ
ムテトラエトキシド、ジルコニウムテトライソプロポキ
シド、ジルコニウムテトラブトキシド等のジルコニウム
アルコキシド類、アルミニウムトリエトキシド、アルミ
ニウムトリイソプロポキシド、アルミニウムトリブトキ
シド等のアルミニウムアルコキシド類、テトラアセトキ
シシラン、メチルトリアセトキシシラン等のアシロキシ
シラン類、トリメチルシラノール等のシラノール類等が
挙げられ、これらの１種または２種以上を用いることが
できる。中でも、ガスバリア特性の湿度依存性（高湿度
下でガスバリア性が悪化すること）を小さくする点から
は、特に、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラ
ンが好ましい。
【００２１】ガスバリア用組成物をコーティングした後
の乾燥の際に有機金属化合物(I) の蒸発を防ぐために
は、有機金属化合物(I) を予め加水分解縮合して高分子
量化しておくことが好ましい。後述する有機化合物(II
I) と、あるいは化合物(VI)と共加水分解縮合を行って
もよい。この（共）加水分解縮合反応は公知の触媒を用
いることができ、また後述の溶媒中で反応させるのが有
利である。
【００２２】本発明のガスバリア用組成物には、分子内
に１級および／または２級アミノ基を有する有機化合物
(II)が含まれていてもよい。有機化合物(II)の使用は、
ガスバリア層を形成する際の成膜性を良好にし、また得
られるガスバリア層の可撓性やガスバリア性等の物性を
向上させる働きを有する。この有機化合物(II)は、１級
および／または２級アミノ基をその分子内に少なくとも
１個有する化合物であればよく、低分子化合物であって
も高分子化合物であってもよい。
【００２３】有機化合物(II)は、上記アミノ基と共に加
水分解性基を有する有機シラン化合物(III) である場合
と、加水分解性基であるＳｉ（ＯＲ6 ）基（ただしＲ6
の意味は前記した通り）を持たない有機化合物(IV)とに
分けられるが、有機シラン化合物(III) と有機化合物(I
V)を併用してもよい。有機シラン化合物(III) は、下記
一般式で示される。
【００２４】
【化３】 （式中Ａ1 、Ｒ3 、Ｒ4 、Ｒ5 、Ｒ6 、ｗ、ｚの意味は
前記の通り）
【００２５】上記(III) の具体例としては、Ｎ−β−
（アミノエチル）−γ−アミノプロピルトリメトキシシ
ラン、Ｎ−β−（アミノエチル）−γ−アミノプロピル
トリエトキシシラン、Ｎ−β−（アミノエチル）−γ−
アミノプロピルトリイソプロポキシシラン、Ｎ−β−
（アミノエチル）−γ−アミノプロピルトリブトキシシ
ラン、Ｎ−β−（アミノエチル）−γ−アミノプロピル
メチルジメトキシシラン、Ｎ−β−（アミノエチル）−
γ−アミノプロピルメチルジエトキシシラン、Ｎ−β−
（アミノエチル）−γ−アミノプロピルメチルジイソプ
ロポキシシラン、Ｎ−β−（アミノエチル）−γ−アミ
ノプロピルメチルジブトキシシラン、Ｎ−β−（アミノ
エチル）−γ−アミノプロピルエチルジメトキシシラ
ン、Ｎ−β−（アミノエチル）−γ−アミノプロピルエ
チルジエトキシシラン、Ｎ−β−（アミノエチル）−γ
−アミノプロピルエチルジイソプロポキシシラン、Ｎ−
β−（アミノエチル）−γ−アミノプロピルエチルジブ
トキシシラン、Ｎ−β−（Ｎ−ビニルベンジルアミノエ
チル）−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−
β−（Ｎ−ビニルベンジルアミノエチル）−γ−アミノ
プロピルトリエトキシシラン、Ｎ−β−（Ｎ−ビニルベ
ンジルアミノエチル）−γ−アミノプロピルトリイソプ
ロポキシシラン、Ｎ−β−（Ｎ−ビニルベンジルアミノ
エチル）−γ−アミノプロピルトリブトキシシラン、Ｎ
−β−（Ｎ−ビニルベンジルアミノエチル）−γ−アミ
ノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ−β−（Ｎ−ビ
ニルベンジルアミノエチル）−γ−アミノプロピルメチ
ルジエトキシシラン、Ｎ−β−（Ｎ−ビニルベンジルア
ミノエチル）−γ−アミノプロピルメチルジイソプロポ
キシシラン、Ｎ−β−（Ｎ−ビニルベンジルアミノエチ
ル）−γ−アミノプロピルメチルジブトキシシラン、Ｎ
−β−（Ｎ−ビニルベンジルアミノエチル）−γ−アミ
ノプロピルエチルジメトキシシラン、Ｎ−β−（Ｎ−ビ
ニルベンジルアミノエチル）−γ−アミノプロピルエチ
ルジエトキシシラン、Ｎ−β−（Ｎ−ビニルベンジルア
ミノエチル）−γ−アミノプロピルエチルジイソプロポ
キシシラン、Ｎ−β−（Ｎ−ビニルベンジルアミノエチ
ル）−γ−アミノプロピルエチルジブトキシシラン、γ
−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロ
ピルトリエトキシシラン、γ−アミノプロピルトリイソ
プロポキシシラン、γ−アミノプロピルトリブトキシシ
ラン、γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ
−アミノプロピルメチルジエトキシシラン、γ−アミノ
プロピルメチルジイソプロポキシシラン、γ−アミノプ
ロピルメチルジブトキシシラン、γ−アミノプロピルエ
チルジメトキシシラン、γ−アミノプロピルエチルジエ
トキシシラン、γ−アミノプロピルエチルジイソプロポ
キシシラン、γ−アミノプロピルエチルジブトキシシラ
ン、γ−アミノプロピルトリアセトキシシラン等が挙げ
られ、これらの１種または２種以上を用いることができ
る。
【００２６】また有機化合物(IV)は、加水分解性基であ
るＳｉ（ＯＲ6)基（ただしＲ6 の意味は前記した通り）
を持たず、１級および／または２級アミノ基を有する有
機化合物である。具体的には、アリルアミン、ジアリル
アミン、イソプロピルアミン、ジイソプロピルアミン、
イミノビスプロピルアミン、エチルアミン、ジエチルア
ミン、２−エチルヘキシルアミン、３−エトキシプロピ
ルアミン、ジイソブチルアミン、３−ジエチルアミノプ
ロピルアミン、ジ−２−エチルヘキシルアミン、ジブチ
ルアミノプロピルアミン、プロピルアミン、ジメチルア
ミノプロピルアミン、メチルイミノビスプロピルアミ
ン、３−メトキシプロピルアミン、エチレンジアミン、
１，４−ジアミノブタン、１，２−ジアミノプロパン、
１，３−ジアミノプロパン、ヘキサメチレンジアミン、
エタノールアミン、ジエタノールアミン等の低分子有機
化合物、ポリエチレンイミン類、例えば日本触媒社製エ
ポミンシリーズ（エポミンＳＰ−００３、エポミンＳＰ
−００６、エポミンＳＰ−０１２、エポミンＳＰ−０１
８、エポミンＳＰ−１０３、エポミンＳＰ−１１０、エ
ポミンＳＰ−２００、エポミンＳＰ−３００、エポミン
ＳＰ−１０００、エポミンＳＰ−１０２０等）、ポリア
リルアミン類（例えば日東紡績社製ＰＡＡ−Ｌ、ＰＡＡ
−Ｈ等）、ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレー
ト、ジエチルアミノエチル（メタ）アクリレート等のア
ミノ基含有（メタ）アクリレートのホモポリマーや、こ
れらのアミノ基含有（メタ）アクリレートと他の（メ
タ）アクリレート類や（メタ）アクリル酸とのコポリマ
ー、ポリオキシエチレンアルキルアミン類等の高分子有
機化合物が挙げられる。
【００２７】特にガスバリア性に優れているのは、上記
有機シラン化合物(III) として例示した化合物全て、有
機化合物(IV)の中のエタノールアミン、および高分子有
機化合物である。成膜性をさらに良好にするためには、
加水分解性基を有する有機化合物(III) として例示した
化合物を予め（共）加水分解縮合させて高分子量化して
用いるか、有機化合物(IV)の中の高分子有機化合物を用
いることが推奨される。
【００２８】高分子有機化合物の中では、得られるガス
バリア層のガスバリア性やその他の特性が良好であるポ
リエチレンイミン類の使用が特に好ましい。有機化合物
(IV)として高分子有機化合物を用いる場合の好ましい分
子量は２５０〜２０万である。より好ましくは２５０〜
１０万の範囲である。分子量が２５０より小さいと形成
された塗膜の可撓性に劣り、逆に２０万より大きいと透
明性が劣り、液晶表示デバイス用基板としては好ましく
ないためである。
【００２９】有機金属化合物(I) と有機化合物(II)［以
下特に限定しない限り、有機化合物(III) および(IV)が
含まれる。］の使用量は、有機金属化合物(I) に対し
て、有機化合物(II)を５〜２００重量％であることが好
ましい。有機化合物(II)の使用量が５重量％より少ない
とガスバリア層の可撓性が悪化する。２００重量％を超
えて使用すると、透明導電層との密着性が劣る傾向にあ
る。より好ましい有機化合物(II)の使用量は有機化合物
(I) に対して７〜２００重量％であり、最も好ましい範
囲は７〜１２５重量％である。
【００３０】本発明では、ガスバリア用組成物中に、有
機化合物(II)のアミノ基と反応し得る官能基を有する化
合物(V) を存在させることが好ましい。化合物(V) は架
橋剤として働き、より緻密でガスバリア性に優れた層を
得ることができる。化合物(V) 中のアミノ基と反応し得
る官能基とは、エポキシ基、カルボキシル基、イソシア
ネート基、オキサゾリニル基、ヒドロキシル基、アルコ
キシシリル基等である。この官能基は、化合物(V) 中複
数である方が好ましく、その場合の官能基は同一であっ
ても異なっていてもよい。上記官能基中最も反応性の良
いのはエポキシ基である。塗膜の耐水性をより向上させ
るためには、化合物(V) が芳香環またはその水素添加環
を有していることが好ましい。
【００３１】なお、前記有機化合物(II)として、加水分
解性基を持たない有機化合物(IV)を用いる場合には、化
合物(V) の全部または一部として、アミノ基と反応し得
る上記官能基と共に、下記加水分解性基
【００３２】
【化４】
【００３３】（ただしＲ5,Ｒ6,ｗ，ｚの意味は前記した
通り）を有する化合物(VI)を用いることが好ましい。化
合物(VI)は、有機化合物(IV)中のアミノ基と反応すると
共に、単独であるいは有機金属化合物(I) との（共）加
水分解縮重合反応も起こすため、(I) と(IV)と(VI)が結
合した緻密でかつ可撓性等に優れたガスバリア層を形成
し得るためである。有機化合物(II)が、有機シラン化合
物(III) である場合には、有機化合物(III) が上記加水
分解性基を有しているので、化合物(V) が化合物(VI)で
ある必要はなく、有機化合物(III) 単独または有機金属
化合物(I) との（共）加水分解縮合反応と、(III) と化
合物(V) の架橋剤的反応によって高性能なガスバリア層
を形成し得る。もちろん化合物(VI)を併用しても構わな
い。
【００３４】本発明で利用できる化合物(V) の具体例と
しては、エチレングリコールジグリシジルエーテル、ジ
エチレングリコールジグリシジルエーテル、トリエチレ
ングリコールジグリシジルエーテル、テトラエチレング
リコールジグリシジルエーテル、ノナエチレングリコー
ルジグリシジルエーテル、プロピレングリコールジグリ
シジルエーテル、ジプロピレングリコールジグリシジル
エーテル、トリプロピレングリコールジグリシジルエー
テル、１，６−ヘキサンジオールジグリシジルエーテ
ル、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、グ
リセロールジグリシジルエーテル等の脂肪族ジグリシジ
ルエーテル類；グリセロールトリグリシジルエーテル、
ジグリセロールトリグリシジルエーテル、トリグリシジ
ルトリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、
トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、ペン
タエリスリトールテトラグリシジルエーテル等のポリグ
リシジルエーテル類；アジピン酸ジグリシジルエステ
ル、ｏ−フタル酸ジグリシジルエステル等の脂肪族およ
び芳香族ジグリシジルエステル類；ビスフェノールＡジ
グリシジルエーテル、レゾルシンジグリシジルエーテ
ル、ヒドロキノンジグリシジルエーテル、ビスフェノー
ルＳジグリシジルエーテル、ビスフェノールＦジグリシ
ジルエーテル、および次式で表される化合物類
【００３５】
【化５】
【００３６】等の芳香環またはその水素添加環（核置換
誘導体も含む）を有するグリシジル類；あるいはグリシ
ジル基を官能基として有するオリゴマー類（例えばビス
フェノールＡジグリシジルエーテルオリゴマーの場合は
下式の様に表せる）；
【００３７】
【化６】
【００３８】ヘキサメチレンジイソシアネート、トリレ
ンジイソシアネート、１，４−ジフェニルメタンジイソ
シアネート、１，５−ナフタレンジイソシアネート、ト
リフェニルメタントリイソシアネート、トリジンジイソ
シアネート、キシリレンジイソシアネート、ジシクロヘ
キシルメタンジイソシアネート等のイソシアネート類；
酒石酸、アジピン酸等のジカルボン酸類；ポリアクリル
酸等の含カルボキシル基重合体；オキサゾリニル基含有
重合体等が挙げられ、これらのうち１種または２種以上
を用いることができる。なお、上記例示した化合物(V)
の中でも芳香環またはその水素添加環（核置換誘導体も
含む）を有する化合物は、ガスバリア層の耐水性を一層
向上させる作用がある。
【００３９】化合物(VI)の具体例としては、β−（３，
４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラ
ン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルト
リエトキシシラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキ
シル）エチルトリイソプロポキシシラン、β−（３，４
−エポキシシクロヘキシル）エチルメチルジメトキシシ
ラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチル
メチルジエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルト
リメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリエト
キシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリイソプロポ
キシシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジメト
キシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジエトキ
シシラン等（以下エポキシ基含有シランカップリング剤
と省略することがある）；γ−イソシアノプロピルトリ
メトキシシラン、γ−イソシアノプロピルトリエトキシ
シラン、γ−イソシアノプロピルメチルジメトキシシラ
ン、γ−イソシアノプロピルメチルジエトキシシラン等
（以下イソシアネート基含有シランカップリング剤と省
略することがある）が挙げられ、これらの１種または２
種以上を用いることができる。
【００４０】化合物(V) ［以下特に限定しない場合、化
合物(VI)も含まれる］を用いる場合には、有機化合物(I
I)中のアミノ基の官能基当量（Ｘ）に対して、化合物
(V) 中の官能基当量（Ｙ）が、Ｙ／Ｘとして０．０１〜
１．０となる様に使用することが推奨される。好ましく
はＹ／Ｘが０．０５〜０．７の範囲、より好ましくは
０．０５〜０．３である。Ｙ／Ｘが０．０１より小さい
とガスバリア層の可撓性が不充分となりやすく、Ｙ／Ｘ
が１．０を超えると、ガスバリア性や耐熱性が低下する
ことがある。
【００４１】ガスバリア用組成物は、溶媒によって溶液
状態としておくことが好ましい。コーティングしやすい
し、また加水分解縮合反応を行うを提供する作用もある
ためである。溶媒としては特に限定されないが、ガスバ
リア用組成物の構成成分を溶解する、もしくは分散させ
得る溶媒が好ましい。例えば、メタノール、エタノー
ル、２−プロパノール、ブタノール、エチレングリコー
ル等のアルコール類、アセトン、メチルエチルケトン、
メチルイソブチルケトン等のケトン類、トルエン、ベン
ゼン、キシレン等の芳香族炭化水素類、ヘキサン、ヘプ
タン、オクタン等の炭化水素類、酢酸エチル、酢酸ブチ
ル等のエステル類、その他、テトラヒドロフラン、プロ
ピルエーテル、水等があげられ、これらの１種または２
種以上を混合して用いることができる。
【００４２】本発明における基板にガスバリア性の薄膜
を形成するためのガスバリア用組成物は、以上説明した
ように、有機金属化合物(I) を必須成分とし、有機化合
物(II)と化合物(V) および溶媒を必要に応じて含むもの
である。有機化合物(II)が有機シラン化合物(III) であ
る場合、また化合物(V) が化合物(VI)である場合、有機
金属化合物(I) も含め、いずれも加水分解性基を有して
いるので、それぞれ単独で、もしくはこれらの２種以上
を用いて、予め（共）加水分解縮合反応を進行させてお
くことが推奨される。これらの化合物を加水分解縮合に
よって高分子量化しておけば、成膜性が良好になり、得
られるガスバリア層の均一性、平滑性がより一層向上す
るので、ガスバリア層の上に直接形成される透明導電層
の均一性も高まり、透明性・低抵抗といった特性をさら
に良好にすることができる。
【００４３】（共）加水分解縮合反応は、空気中の水分
でも進行するが、前記溶媒中で行うことが、これをその
ままガスバリア用組成物としてコーティング工程に利用
できるため好ましい。また反応触媒として公知の酸や塩
基を添加して行っても良い。
【００４４】ガスバリア用組成物の調製方法は特に限定
されないが、化合物(V) を用いる場合には、有機化合物
(II)のアミノ基と化合物(V) 中の官能基を反応させてか
ら、有機金属化合物(I) またはその加水分解縮合物を添
加すると、組成物の安定性が良好となる。有機化合物(I
I)が(III) であるか、化合物(V) が(VI)であるときは、
アミノ基の架橋反応の後、有機金属化合物(I) を加える
前か、加えてから加水分解縮合反応を行うと良い。
【００４５】上記ガスバリア用組成物には、本発明の効
果を損なわない範囲で、硬化触媒、濡れ性改良剤、可塑
剤、消泡剤、増粘剤等の無機・有機系各種添加剤を必要
に応じて添加してもよい。
【００４６】本発明の液晶表示デバイス用基板は、上記
ガスバリア用組成物をプラスチックフィルム基材表面に
コーティングしてガスバリア性の薄膜を形成した後、こ
の薄膜上に透明導電性の薄膜を形成することにより製造
される。プラスチックフィルム基材として利用できる樹
脂は、特に限定されないが、例えばポリエチレンテレフ
タレート、ポリエチレンイソフタレート、ポリエチレン
−２，６−ナフタレート、ポリブチレンテレフタレート
やこれらの共重合体等のポリエステル、ポリカーボネー
ト、ポリエーテルサルホン、ポリサルホン、ポリエーテ
ルエーテルケトン、ポリイミド、ポリエーテルイミド、
ポリアリレート等の耐熱性に優れた透明の樹脂が好まし
く使用できる。耐熱性、光学特性、透明性の点では、ポ
リカーボネート、ポリエーテルサルホン、ポリアリレー
トが最も好ましいものとして挙げられる。フィルム基材
の厚みは特に限定されないが、１０〜５００μｍが好ま
しい。薄過ぎると液晶組成物の支持体としての強度に劣
り、厚過ぎると、液晶表示デバイスの薄型化の目的に反
する。
【００４７】ガスバリア用組成物を上記フィルム基材に
塗布する方法は特に限定されず、例えばロールコーティ
ング法、ディップコーティング法、バーコーティング
法、ダイコーティング法等やこれらを組み合わせた方法
を採用できる。中でも、ダイコーティング法は、ガスバ
リア用組成物の安定性を維持できる理由で好ましい。
【００４８】ガスバリア層（ガスバリア性薄膜）の厚み
は、乾燥後で０．１〜１０μｍの範囲が適している。好
ましくは０．３〜５μｍ、さらに好ましくは０．５〜３
μｍである。ガスバリア層が０．１μｍより薄いと基板
のガスバリア性が不充分となって本発明の目的を達成で
きない。逆に１０μｍより厚いとガスバリア層にクラッ
クが生じ、やはり優れたガスバリア性を基板に付与する
ことができない。
【００４９】ガスバリア層を形成した後は、透明導電性
物質の薄膜（透明導電層）をガスバリア層の上に直接形
成する。透明導電性物質としては、現在ＩＴＯが一般的
であるが、ＳｎＯ2 系やＺｎＯ系等であってもよく、基
板の形成に際して不都合がなければ、特に限定されな
い。
【００５０】透明導電性物質の薄膜の形成方法は、蒸
着、スパッタリング、コーティング等の公知の方法が利
用され、なるべくプラスチックフィルム基板に負担をか
けないように低温で行える薄膜形成方法（例えば、低電
圧スパッタ法等）を利用することが推奨される。透明導
電層の厚みは、２００〜２０００Åが好ましい。
【００５１】フィルム基材上にガスバリア層および透明
導電層をこの順序で設けた後は、保護層を透明導電層の
上に設けてもよい。また、フィルム基材の片面にのみガ
スバリア層と透明導電層を設けた場合には、これらの層
が設けられていないフィルム基材面に、ガスバリア層を
単独で設けたり、ウレタン樹脂系等のアンカーコート層
を介してガスバリア層を設け、必要に応じてこれらの上
に保護層を設ける等、種々の応用が可能である。
【００５２】本発明の基板は、液晶セルの挟持に使用さ
れる。本発明の基板を適用した液晶表示デバイスの一例
を図２に示す。もちろん、この図例以外の使用例も存在
する。図２の液晶表示デバイスＬにおいて、基板７１
は、フィルム基材８の片面にガスバリア層９が形成さ
れ、このガスバリア層９に隣接して透明導電層１０が設
けられ、さらに配向膜３が設けられた構成となってい
る。一方、基板７２はフィルム基材８の両面にガスバリ
ア層９１，９２が形成され、ガスバリア層９１に隣接し
て透明導電層１０が設けられ、さらに配向膜３が設けら
れた構成となっている。両方の基板７１，７２によって
作られる液晶セル中に液晶組成物５を入れてエポキシ樹
脂６等で基板７１，７２を貼り合わせ、補償板１１と偏
光板１２，１２および対向基板１３で全体を挟持すれ
ば、液晶表示デバイスＬとなる。
【００５３】
【実施例】以下実施例によって本発明をさらに詳述する
が、下記実施例は本発明を制限するものではなく、前・
後記の趣旨を逸脱しない範囲で変更実施することは全て
本発明の技術範囲に包含される。
【００５４】なお実施例で用いた特性の評価方法は、下
記の通りである。 ［酸素透過度］ＭＯＣＯＮ社製の酸素透過率測定装置に
用いて、２０℃、９０％ＲＨで測定した。 ［透明性］ガスバリア層および透明導電層形成後の基板
の全光線透過の濁度が、プラスチックフィルム基材と比
べて、低下率が１０％以内のものを○とした。
【００５５】［密着性］セロハンテープによる碁盤目剥
離試験によって、剥離のないものを○、剥離があったも
のを×とした。 ［耐溶剤性］γ−ブチロラクトンに２０℃で１分間浸漬
し、外観に変化がないものを○、白濁等の変化があるも
のを×とした。
【００５６】実施例１ ５０．０ｋｇのγ−アミノプロピルトリメトキシシラン
に、レゾルシノールジグリシジルエーテル１５．０ｋｇ
と、メタノール５０．０ｋｇを加え、窒素雰囲気下で撹
拌しながら６５℃で２時間反応させた。反応液に、メタ
ノール７０．０ｋｇと水７．０ｋｇの混合液を３０分か
けて滴下して室温に冷却した後、メタノール２０．０ｋ
ｇとテトラメトキシシランのオリゴマーである「Ｍ−シ
リケート５１」３０．０ｋｇをさらに３０分かけて滴下
して加え、ガスバリア用組成物１を得た。
【００５７】上記ガスバリア用組成物を乾燥後の厚みが
１．５μｍになるように、厚さ１００μｍのポリカーボ
ネートフィルム（以下ＰＣフィルムという）の両面にコ
ーティングし、次いで、片面のガスバリア層の上に直
接、スパッタ法で、透明導電性物質ＩＴＯを厚さ１００
０Åに成膜した。得られた基板の特性評価結果を表１に
示した。
【００５８】実施例２〜４および比較例１〜３ 表１に示したように、プラスチックフィルム基材の種
類、ガスバリア用組成物の組成、透明導電性物質の膜厚
を代えた以外は、実施例１と同様にして液晶表示デバイ
ス用基板を作製した。評価結果を表１に併記した。
【００５９】なお表１において、酸素透過度の単位はｃ
ｃ／ｍ2 ・２４ｈｒｓ・ａｔｍであり、ガスバリア用組
成物の表現には、下記の略号を用いた。 Ｍ−５１ ：Ｍ−シリケート５１（テトラメトキシシラ
ンオリゴマー） ＥＳ ：テトラエトキシシラン ＡＰＴＭＳ：γ−アミノプロピルトリメトキシシラン ＡＰＴＥＳ：γ−アミノプロピルトリエトキシシラン ＧＴＭＯＳ：γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシ
ラン ＲＤＧＥ ：レゾルシノールジグリシジルエーテル ＰＥＩ ：ポリエチレンイミン（日本触媒社製「ＳＰ
０８１」）
【００６０】
【表１】
【００６１】
【発明の効果】本発明の液晶表示デバイス用基板は、プ
ラスチックフィルム基材の表面にガスバリア層と透明導
電層を設けた構成であるので、液晶セルをこの基板で挟
持して真空状態で液晶組成物を封入しても、セル内で気
泡等が発生することはなく、またガスバリア層と透明導
電層の密着性にも優れている。さらに、透明導電層をガ
スバリア層の上に直接設ける構成によって、他の支持体
の上にアンダーコート層を介して透明導電層を形成し、
必要に応じて保護層等も設けてからガラス基板と積層し
なければならなかった従来の液晶表示デバイスに比べ、
極めて薄型なものを低コストで製造することができるよ
うになった。
【図面の簡単な説明】
【図１】従来の液晶表示デバイスの概略図である。
【図２】本発明の液晶表示デバイス用基板を用いた液晶
表示デバイスの説明図である。
【符号の説明】
１ 液晶パネル Ｌ 液晶表示デバイス ２ ガラス基板 ３ 配向膜 ４ 透明電極 ５ 液晶組成物 ６ エポキシ樹脂 ７１，７２ 液晶表示デバイス用基板 ８ フィルム基材 ９，９１，９２ ガスバリア層 １０ 透明導電層 １１ 補償板 １２ 偏光板 １３ 対向基板

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 液晶表示デバイスの液晶セルを挟持する
    ための基板であって、 基板が、プラスチックフィルム基材の少なくとも片面
    に、ガスバリア性の薄膜と透明導電性物質の薄膜が順次
    形成されてなり、 かつ、前記ガスバリア性の薄膜が、下記一般式で示され
    る有機金属化合物(I)および／またはその加水分解縮合
    物、 Ｒ1 mＭ（ＯＲ2 ）n …(I) （式中Ｍは金属元素、Ｒ1 は同一または異なっていても
    よく、水素原子、低級アルキル基、アリール基、ビニル
    基または炭素鎖に直結したメルカプト基、または（メ
    タ）アクリロイル基を表し、Ｒ2 は同一または異なって
    いてもよく、水素原子、低級アルキル基またはアシル基
    を表し、ｍは０または正の整数、ｎは１以上の整数でか
    つｍ＋ｎは金属元素Ｍの原子価と一致する）を必須成分
    として含有するガスバリア用組成物を前記プラスチック
    フィルム基材にコーティングすることにより形成された
    ものであることを特徴とする液晶表示デバイス用基板。
  2. 【請求項２】 ガスバリア用組成物に、さらに、分子内
    に１級および／または２級アミノ基を有する有機化合物
    (II)が含まれているものである請求項１に記載の液晶表
    示デバイス用基板。
  3. 【請求項３】 ガスバリア用組成物が、さらに、アミノ
    基と反応し得る官能基を分子内に有する化合物(V) を含
    有する請求項２に記載の液晶表示デバイス用基板。
  4. 【請求項４】 液晶表示デバイスの液晶セルを挟持する
    ための基板を製造する方法であって、下記一般式で示さ
    れる有機金属化合物(I) および／またはその加水分解縮
    合物 Ｒ1 mＭ（ＯＲ2 ）n …(I) （式中Ｍは金属元素、Ｒ1 は同一または異なっていても
    よく、水素原子、低級アルキル基、アリール基、ビニル
    基または炭素鎖に直結したメルカプト基、または（メ
    タ）アクリロイル基を表し、Ｒ2 は同一または異なって
    いてもよく、水素原子、低級アルキル基またはアシル基
    を表し、ｍは０または正の整数、ｎは１以上の整数でか
    つｍ＋ｎは金属元素Ｍの原子価と一致する）を必須成分
    として含有するガスバリア用組成物を、プラスチックフ
    ィルム基材の少なくとも片面にコーティングすることに
    よりガスバリア性の薄膜を形成した後、透明導電性物質
    の薄膜を前記ガスバリア性の薄膜上に形成することを特
    徴とする液晶表示デバイス用基板の製法。
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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6312085B1 (en) * 1997-06-26 2001-11-06 Pelikan Produktions Ag Ink jet printing head with elements made of organosilicic compounds
JPH11261676A (ja) * 1998-03-10 1999-09-24 Toshiba Corp 液晶表示器および液晶表示器を備えた小型電子機器
US6908955B2 (en) * 1999-07-09 2005-06-21 Construction Research & Technology Gmbh Oligomeric dispersant
US7279205B2 (en) * 2001-02-07 2007-10-09 Sonoco Development, Inc. Packaging material
US6926951B2 (en) * 2001-04-04 2005-08-09 Sonoco Development, Inc. Laminate for gum packaging
US20060022309A1 (en) * 2002-12-12 2006-02-02 Denki Kagaku Kogyo Kabushiki Kaisha Surface protective film
US7294400B2 (en) * 2003-03-17 2007-11-13 Hewlett-Packard Development Company, L.P. Flexible barrier film structure
US20040244907A1 (en) * 2003-06-06 2004-12-09 Huffer Scott W. Methods of making printed labels and labeling articles
US20050100753A1 (en) * 2003-11-07 2005-05-12 Reese Barry R. Mono-web directional tear packaging film
US20050274933A1 (en) * 2004-06-15 2005-12-15 Peng Chen Formulation for printing organometallic compounds to form conductive traces
US7371459B2 (en) 2004-09-03 2008-05-13 Tyco Electronics Corporation Electrical devices having an oxygen barrier coating
US20060078740A1 (en) * 2004-10-07 2006-04-13 Zern John R Barrier coatings
WO2008042408A2 (en) * 2006-10-03 2008-04-10 Wyeth Lyophilization methods and apparatuses
JP4671050B2 (ja) * 2006-11-27 2011-04-13 信越化学工業株式会社 含ケイ素水溶性高分子化合物及びその製造方法、プライマー組成物、コーティング剤組成物、並びに該組成物が被覆・処理された物品
JP4998702B2 (ja) * 2007-01-17 2012-08-15 信越化学工業株式会社 コーティング剤組成物で被覆又は表面処理されてなる物品
US8236203B2 (en) * 2009-04-15 2012-08-07 Hihara Lloyd H Corrosion protection coatings and methods of making the same
US8525809B2 (en) * 2009-07-02 2013-09-03 Applied Vacuum Coating Technologies Co., Ltd. Digital capacitive touch panel structure
EP2521755B1 (en) * 2010-01-07 2016-10-26 The University Of Hawaii Corrosion protection coatings and methods of making the same
MX2022007808A (es) 2019-12-23 2022-07-19 Sonoco Dev Inc Hoja y charola reciclable de alta barrera.

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3166527A (en) * 1960-10-03 1965-01-19 Union Carbide Corp Anti-corrosion, amino-organosiliconepoxy finishing compositions
US3287160A (en) * 1962-07-12 1966-11-22 Union Carbide Corp Tetrafunctional silyl-oxymethylene compounds as curing agents for epoxy resins
US3271331A (en) * 1963-10-10 1966-09-06 Union Carbide Corp Phenolic foams stabilized by siloxane-oxyalkylene copolymers
JPH0719079B2 (ja) * 1983-06-03 1995-03-06 富士ゼロックス株式会社 静電荷像現像用キャリヤ粒子
WO1995009211A1 (en) * 1993-09-29 1995-04-06 Nippon Shokubai Co., Ltd. Surface treatment composition and surface-treated resin molding
JP3162887B2 (ja) * 1993-10-01 2001-05-08 パウダーテック株式会社 電子写真現像剤用樹脂コートキャリアおよびその製造方法、並びに該キャリアを用いた現像剤
JPH07160058A (ja) * 1993-12-07 1995-06-23 Mitsubishi Chem Corp 静電荷像現像用キャリアおよび現像剤

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004025732A (ja) * 2002-06-27 2004-01-29 Fuji Photo Film Co Ltd ガスバリア性フィルム

Also Published As

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