JPH10287691A - パラジウム錯体触媒を用いる不斉ワッカー型環化反応 - Google Patents
パラジウム錯体触媒を用いる不斉ワッカー型環化反応Info
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- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
Landscapes
- Furan Compounds (AREA)
- Pyrane Compounds (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 軸不斉を有する光学活性ビアリール型オ
キサゾリン−パラジウム錯体の存在下、オレフィン化合
物より光学活性複素環化合物を効率よく製造する。 【解決手段】 式(1) 【化1】 [式中、A1、A2、A3及びA4は、C1〜C6アルキル基
を意味し、A3とA4は、結合するベンゼン環と一緒にな
ってナフチル環を形成してもよい。W1及びW2はC1〜
C6アルキル基を、Xはアセトキシ基、トリフルオロ酢
酸基、トリフルオロメタンスルホニル基、シアノ基及び
ハロゲン原子を、*は不斉炭素を意味し、炭素原子の絶
対配置はRかSを示す。]で表される軸不斉を有する光
学活性ビアリール型オキサゾリン−パラジウム錯体。
キサゾリン−パラジウム錯体の存在下、オレフィン化合
物より光学活性複素環化合物を効率よく製造する。 【解決手段】 式(1) 【化1】 [式中、A1、A2、A3及びA4は、C1〜C6アルキル基
を意味し、A3とA4は、結合するベンゼン環と一緒にな
ってナフチル環を形成してもよい。W1及びW2はC1〜
C6アルキル基を、Xはアセトキシ基、トリフルオロ酢
酸基、トリフルオロメタンスルホニル基、シアノ基及び
ハロゲン原子を、*は不斉炭素を意味し、炭素原子の絶
対配置はRかSを示す。]で表される軸不斉を有する光
学活性ビアリール型オキサゾリン−パラジウム錯体。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、軸不斉を有する光
学活性ビアリール型オキサゾリン−パラジウム錯体及び
該錯体を使用するオレフィン化合物の不斉ワッカー型環
化反応に関する。本発明の不斉ワッカー型環化反応によ
り、光学活性な医農薬の製造中間体及び光学活性な機能
性材料化合物等を製造する際に有用な光学活性な複素環
化合物が効率良く得られる。
学活性ビアリール型オキサゾリン−パラジウム錯体及び
該錯体を使用するオレフィン化合物の不斉ワッカー型環
化反応に関する。本発明の不斉ワッカー型環化反応によ
り、光学活性な医農薬の製造中間体及び光学活性な機能
性材料化合物等を製造する際に有用な光学活性な複素環
化合物が効率良く得られる。
【0002】
【従来の技術】不斉ワッカー型環化反応により得られる
光学活性な複素環化合物としては、光学活性ジヒドロベ
ンゾフラン化合物、光学活性テトラヒドロベンゾピラン
化合物、光学活性インドリン化合物、光学活性テトラヒ
ドロキノリン化合物及び光学活性ジヒドロベンゾチオフ
ェン化合物等が挙げられる。
光学活性な複素環化合物としては、光学活性ジヒドロベ
ンゾフラン化合物、光学活性テトラヒドロベンゾピラン
化合物、光学活性インドリン化合物、光学活性テトラヒ
ドロキノリン化合物及び光学活性ジヒドロベンゾチオフ
ェン化合物等が挙げられる。
【0003】従来、不斉ワッカー型環化反応による光学
活性複素環化合物の製造法としては、J.Am.Che
m.Soc.,103,2318(1981)及びJ.
Org.Chem.,50,1282(1985)に記
載されている光学活性π−アリルパラジウム錯体を触媒
とし、酢酸銅を酸化剤として用いた酸素雰囲気下におけ
る光学活性ジヒドロベンゾフラン化合物の製造法のみが
知られている。
活性複素環化合物の製造法としては、J.Am.Che
m.Soc.,103,2318(1981)及びJ.
Org.Chem.,50,1282(1985)に記
載されている光学活性π−アリルパラジウム錯体を触媒
とし、酢酸銅を酸化剤として用いた酸素雰囲気下におけ
る光学活性ジヒドロベンゾフラン化合物の製造法のみが
知られている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】上記の不斉ワッカー型
環化反応は、得られる光学活性ジヒドロベンゾフラン化
合物の光学純度が最高29%eeと満足のできる結果が
得られていない。
環化反応は、得られる光学活性ジヒドロベンゾフラン化
合物の光学純度が最高29%eeと満足のできる結果が
得られていない。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明者等は、上記課題
を解決すべく鋭意検討した結果、軸不斉を有する光学活
性ビアリール型オキサゾリン−パラジウム錯体を触媒と
して使用すると、オレフィン化合物を効率よく、不斉ワ
ッカー型環化反応できることを見出し、本発明を完成す
るに至った。
を解決すべく鋭意検討した結果、軸不斉を有する光学活
性ビアリール型オキサゾリン−パラジウム錯体を触媒と
して使用すると、オレフィン化合物を効率よく、不斉ワ
ッカー型環化反応できることを見出し、本発明を完成す
るに至った。
【0006】即ち、本発明は、式(1)
【0007】
【化4】
【0008】[式中、A1、A2、A3及びA4は、独立に
水素原子、C1〜C6アルキル基、C2〜C6アルケニル
基、C2〜C6アルキニル基、C1〜C6アルコキシ基(該
アルキル基、アルケニル基、アルキニル基及びアルコキ
シ基は、ハロゲン原子、水酸基、トリC1〜C6アルキル
シリル基、C1〜C6アルキルジフェニルシリル基、ジC
1〜C6アルキルフェニルシリル基、C1〜C6アルコキシ
基、C6〜C10芳香族基及び複素環基で任意に置換され
ていてもよい。)、シアノ基、ニトロ基、ハロゲン原
子、C2〜C10アルコキシカルボニル基、C2〜C10アル
カノイル基、ホルミル基、トリC1〜C6アルキルシリル
基、C1〜C6アルキルジフェニルシリル基、ジC1〜C6
アルキルフェニルシリル基、N−モノC1〜C10アルキ
ルカルバモイル基及びN,N−ジC1〜C10アルキルカ
ルバモイル基を意味する。
水素原子、C1〜C6アルキル基、C2〜C6アルケニル
基、C2〜C6アルキニル基、C1〜C6アルコキシ基(該
アルキル基、アルケニル基、アルキニル基及びアルコキ
シ基は、ハロゲン原子、水酸基、トリC1〜C6アルキル
シリル基、C1〜C6アルキルジフェニルシリル基、ジC
1〜C6アルキルフェニルシリル基、C1〜C6アルコキシ
基、C6〜C10芳香族基及び複素環基で任意に置換され
ていてもよい。)、シアノ基、ニトロ基、ハロゲン原
子、C2〜C10アルコキシカルボニル基、C2〜C10アル
カノイル基、ホルミル基、トリC1〜C6アルキルシリル
基、C1〜C6アルキルジフェニルシリル基、ジC1〜C6
アルキルフェニルシリル基、N−モノC1〜C10アルキ
ルカルバモイル基及びN,N−ジC1〜C10アルキルカ
ルバモイル基を意味する。
【0009】A3とA4は、それらの結合するベンゼン環
と一緒になってナフチル環を形成してもよい{該ナフチ
ル環は、無置換並びに単数又は複数のC1〜C6アルキル
基、C2〜C6アルケニル基、C2〜C6アルキニル基、C
1〜C6アルコキシ基(該アルキル基、アルケニル基、ア
ルキニル基及びアルコキシ基は、ハロゲン原子、水酸
基、トリC1〜C6アルキルシリル基、C1〜C6アルキル
ジフェニルシリル基、ジC1〜C6アルキルフェニルシリ
ル基、C1〜C6アルコキシ基、C6〜C10芳香族基及び
複素環基で任意に置換されていてもよい。)、シアノ
基、ニトロ基、ハロゲン原子、C2〜C10アルコキシカ
ルボニル基、C2〜C10アルカノイル基及びフェニル基
(該フェニル基は、C1〜C6アルキル基、C1〜C6アル
コキシ基、シアノ基、ニトロ基及びハロゲン原子で任意
に置換されていてもよい。)で任意に置換されていても
よい。}。
と一緒になってナフチル環を形成してもよい{該ナフチ
ル環は、無置換並びに単数又は複数のC1〜C6アルキル
基、C2〜C6アルケニル基、C2〜C6アルキニル基、C
1〜C6アルコキシ基(該アルキル基、アルケニル基、ア
ルキニル基及びアルコキシ基は、ハロゲン原子、水酸
基、トリC1〜C6アルキルシリル基、C1〜C6アルキル
ジフェニルシリル基、ジC1〜C6アルキルフェニルシリ
ル基、C1〜C6アルコキシ基、C6〜C10芳香族基及び
複素環基で任意に置換されていてもよい。)、シアノ
基、ニトロ基、ハロゲン原子、C2〜C10アルコキシカ
ルボニル基、C2〜C10アルカノイル基及びフェニル基
(該フェニル基は、C1〜C6アルキル基、C1〜C6アル
コキシ基、シアノ基、ニトロ基及びハロゲン原子で任意
に置換されていてもよい。)で任意に置換されていても
よい。}。
【0010】W1及びW2は、独立に、水素原子(但し、
W1及びW2は、同時に水素原子ではない。)、C1〜C6
アルキル基、フェニル基(該フェニル基は、C1〜C6ア
ルキル基、C1〜C6アルコキシ基、シアノ基、ニトロ基
及びハロゲン原子で任意に置換されていてもよい。)及
びベンジル基(該ベンジル基は、C1〜C6アルキル基、
C1〜C6アルコキシ基、シアノ基、ニトロ基及びハロゲ
ン原子で任意に置換されていてもよい。)を意味する。
W1及びW2は、同時に水素原子ではない。)、C1〜C6
アルキル基、フェニル基(該フェニル基は、C1〜C6ア
ルキル基、C1〜C6アルコキシ基、シアノ基、ニトロ基
及びハロゲン原子で任意に置換されていてもよい。)及
びベンジル基(該ベンジル基は、C1〜C6アルキル基、
C1〜C6アルコキシ基、シアノ基、ニトロ基及びハロゲ
ン原子で任意に置換されていてもよい。)を意味する。
【0011】Xは、アセトキシ基、トリフルオロ酢酸
基、トリフルオロメタンスルホニル基、シアノ基及びハ
ロゲン原子を意味する。*は不斉炭素を意味し、炭素原
子の絶対配置はRかSを示す。]で表される軸不斉を有
する光学活性ビアリール型オキサゾリン−パラジウム錯
体及び該錯体の存在下、式(2)
基、トリフルオロメタンスルホニル基、シアノ基及びハ
ロゲン原子を意味する。*は不斉炭素を意味し、炭素原
子の絶対配置はRかSを示す。]で表される軸不斉を有
する光学活性ビアリール型オキサゾリン−パラジウム錯
体及び該錯体の存在下、式(2)
【0012】
【化5】
【0013】[式中、Zは、酸素原子、硫黄原子及びN
H基を意味する。Rは、水素原子、C1〜C10アルキル
基、C3〜C10シクロアルキル基(該アルキル基及びシ
クロアルキル基は、ハロゲン原子、C6〜C10芳香族基
及び複素環基で任意に置換されていてもよい。)、C6
〜C10芳香族基及び複素環基(該芳香族基及び複素環基
は、C1〜C10アルキル基、C1〜C10アルコキシ基、ハ
ロゲン原子、ニトロ基及びシアノ基で任意に置換されて
いてもよい。)を意味する。
H基を意味する。Rは、水素原子、C1〜C10アルキル
基、C3〜C10シクロアルキル基(該アルキル基及びシ
クロアルキル基は、ハロゲン原子、C6〜C10芳香族基
及び複素環基で任意に置換されていてもよい。)、C6
〜C10芳香族基及び複素環基(該芳香族基及び複素環基
は、C1〜C10アルキル基、C1〜C10アルコキシ基、ハ
ロゲン原子、ニトロ基及びシアノ基で任意に置換されて
いてもよい。)を意味する。
【0014】R1、R2、R3及びR4は、水素原子、C1
〜C10アルキル基、C1〜C10アルコキシ基、C3〜C10
シクロアルキル基(該アルキル基、アルコキシ基及びシ
クロアルキル基は、ハロゲン原子、C6〜C10芳香族基
及び複素環基で任意に置換されていてもよい。)、C6
〜C10芳香族基及び複素環基(該芳香族基及び複素環基
は、C1〜C10アルキル基、C1〜C10アルコキシ基、ハ
ロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、C2〜C10アルコキ
シカルボニル基及びC2〜C10アルカノイル基で任意に
置換されていてもよい。)、ハロゲン原子、ニトロ基、
シアノ基、C2〜C10アルコキシカルボニル基及びC2〜
C10アルカノイル基を意味する。
〜C10アルキル基、C1〜C10アルコキシ基、C3〜C10
シクロアルキル基(該アルキル基、アルコキシ基及びシ
クロアルキル基は、ハロゲン原子、C6〜C10芳香族基
及び複素環基で任意に置換されていてもよい。)、C6
〜C10芳香族基及び複素環基(該芳香族基及び複素環基
は、C1〜C10アルキル基、C1〜C10アルコキシ基、ハ
ロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、C2〜C10アルコキ
シカルボニル基及びC2〜C10アルカノイル基で任意に
置換されていてもよい。)、ハロゲン原子、ニトロ基、
シアノ基、C2〜C10アルコキシカルボニル基及びC2〜
C10アルカノイル基を意味する。
【0015】nは1〜3の整数を意味する。]で表され
るオレフィン化合物を酸化することを特徴とする 式(3)
るオレフィン化合物を酸化することを特徴とする 式(3)
【0016】
【化6】
【0017】[式中、Z、R、R1、R2、R3、R4、
n、*は、前記に同じ。]で表される光学活性複素環化
合物の製造法に関するものである。
n、*は、前記に同じ。]で表される光学活性複素環化
合物の製造法に関するものである。
【0018】
【発明の実施の形態】以下、更に詳細に本発明を説明す
る。先ず、R、R1、R2、R3、R4、A1、A2、A3、
A4、X、W1及びW2について説明する。C1〜C6アル
キル基としては、メチル基、エチル基、n−プロピル
基、i−プロピル基、n−ブチル基、i−ブチル基、s
−ブチル基、t−ブチル基、1−ペンチル基、2−ペン
チル基、3−ペンチル基、i−ペンチル基、ネオペンチ
ル基、t−ペンチル基、1−ヘキシル基、2−ヘキシル
基、3−ヘキシル基、1−メチル−1−エチル−n−ペ
ンチル基、1,1,2−トリメチル−n−プロピル基、
1,2,2−トリメチル−n−プロピル基、3,3−ジ
メチル−n−ブチル基、1−ヘプチル基、2−ヘプチル
基、1−エチル−1,2−ジメチル−n−プロピル基及
び1−エチル−2,2−ジメチル−n−プロピル基等が
挙げられ、好ましくはメチル基、エチル基、n−プロピ
ル基、i−プロピル基、n−ブチル基、i−ブチル基、
s−ブチル基、t−ブチル基、1−ペンチル基及び1−
ヘキシル基等が挙げられる。
る。先ず、R、R1、R2、R3、R4、A1、A2、A3、
A4、X、W1及びW2について説明する。C1〜C6アル
キル基としては、メチル基、エチル基、n−プロピル
基、i−プロピル基、n−ブチル基、i−ブチル基、s
−ブチル基、t−ブチル基、1−ペンチル基、2−ペン
チル基、3−ペンチル基、i−ペンチル基、ネオペンチ
ル基、t−ペンチル基、1−ヘキシル基、2−ヘキシル
基、3−ヘキシル基、1−メチル−1−エチル−n−ペ
ンチル基、1,1,2−トリメチル−n−プロピル基、
1,2,2−トリメチル−n−プロピル基、3,3−ジ
メチル−n−ブチル基、1−ヘプチル基、2−ヘプチル
基、1−エチル−1,2−ジメチル−n−プロピル基及
び1−エチル−2,2−ジメチル−n−プロピル基等が
挙げられ、好ましくはメチル基、エチル基、n−プロピ
ル基、i−プロピル基、n−ブチル基、i−ブチル基、
s−ブチル基、t−ブチル基、1−ペンチル基及び1−
ヘキシル基等が挙げられる。
【0019】C1〜C10アルキル基としては、メチル
基、エチル基、n−プロピル基、i−プロピル基、n−
ブチル基、i−ブチル基、s−ブチル基、t−ブチル
基、1−ペンチル基、2−ペンチル基、3−ペンチル
基、i−ペンチル基、ネオペンチル基、t−ペンチル
基、1−ヘキシル基、2−ヘキシル基、3−ヘキシル
基、1−メチル−1−エチル−n−ペンチル基、1,
1,2−トリメチル−n−プロピル基、1,2,2−ト
リメチル−n−プロピル基、3,3−ジメチル−n−ブ
チル基、1−ヘプチル基、2−ヘプチル基、1−エチル
−1,2−ジメチル−n−プロピル基、1−エチル−
2,2−ジメチル−n−プロピル基、1−オクチル基、
3−オクチル基、4−メチル−3−n−ヘプチル基、6
−メチル−2−n−ヘプチル基、2−プロピル−1−n
−ヘプチル基、2,4,4−トリメチル−1−n−ペン
チル基、1−ノニル基、2−ノニル基、2,6−ジメチ
ル−4−n−ヘプチル基、3−エチル−2,2−ジメチ
ル−3−n−ペンチル基、3,5,5−トリメチル−1
−n−へキシル基、1−デシル基、2−デシル基、4−
デシル基、3,7−ジメチル−1−n−オクチル基及び
3,7−ジメチル−3−n−オクチル基等が挙げられ、
好ましくはメチル基、エチル基、n−プロピル基、i−
プロピル基、n−ブチル基、i−ブチル基、s−ブチル
基、t−ブチル基、1−ペンチル基、1−ヘキシル基、
1−ヘプチル基、1−オクチル基、1−ノニル基及び1
−デシル基等が挙げられる。
基、エチル基、n−プロピル基、i−プロピル基、n−
ブチル基、i−ブチル基、s−ブチル基、t−ブチル
基、1−ペンチル基、2−ペンチル基、3−ペンチル
基、i−ペンチル基、ネオペンチル基、t−ペンチル
基、1−ヘキシル基、2−ヘキシル基、3−ヘキシル
基、1−メチル−1−エチル−n−ペンチル基、1,
1,2−トリメチル−n−プロピル基、1,2,2−ト
リメチル−n−プロピル基、3,3−ジメチル−n−ブ
チル基、1−ヘプチル基、2−ヘプチル基、1−エチル
−1,2−ジメチル−n−プロピル基、1−エチル−
2,2−ジメチル−n−プロピル基、1−オクチル基、
3−オクチル基、4−メチル−3−n−ヘプチル基、6
−メチル−2−n−ヘプチル基、2−プロピル−1−n
−ヘプチル基、2,4,4−トリメチル−1−n−ペン
チル基、1−ノニル基、2−ノニル基、2,6−ジメチ
ル−4−n−ヘプチル基、3−エチル−2,2−ジメチ
ル−3−n−ペンチル基、3,5,5−トリメチル−1
−n−へキシル基、1−デシル基、2−デシル基、4−
デシル基、3,7−ジメチル−1−n−オクチル基及び
3,7−ジメチル−3−n−オクチル基等が挙げられ、
好ましくはメチル基、エチル基、n−プロピル基、i−
プロピル基、n−ブチル基、i−ブチル基、s−ブチル
基、t−ブチル基、1−ペンチル基、1−ヘキシル基、
1−ヘプチル基、1−オクチル基、1−ノニル基及び1
−デシル基等が挙げられる。
【0020】C3〜C10シクロアルキル基としては、シ
クロプロピル基、1−メチルシクロプロピル基、2−メ
チルシクロプロピル基、4−メチルシクロヘキシル基、
シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル
基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、シクロノニ
ル基及びシクロデシル基等が挙げられ、好ましくはシク
ロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基及び
シクロヘキシル基が挙げられる。
クロプロピル基、1−メチルシクロプロピル基、2−メ
チルシクロプロピル基、4−メチルシクロヘキシル基、
シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル
基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、シクロノニ
ル基及びシクロデシル基等が挙げられ、好ましくはシク
ロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基及び
シクロヘキシル基が挙げられる。
【0021】C2〜C6アルケニル基としては、エテニル
基、1−プロぺニル基、2−プロぺニル基、1−メチル
ビニル基、1−ブテニル基、2−ブテニル基、3−ブテ
ニル基、1−メチル−1−プロぺニル基、1−メチル−
2−プロぺニル基、2−メチル−2−プロぺニル基、1
−エチル−2−ビニル基、1−ペンテニル基、2−ペン
テニル基、3−ペンテニル基、4−ペンテニル基、1,
2−ジメチル−1−プロぺニル基、1,2−ジメチル−
2−プロぺニル基、1−エチル−1−プロぺニル基、1
−エチル−2−プロぺニル基、1−メチル−1−ブテニ
ル基、1−メチル−2−ブテニル基、2−メチル−1−
ブテニル基、1−i−プロピルビニル基、2,4−ペン
タジエニル基、1−ヘキセニル基、2−ヘキセニル基、
3−ヘキセニル基、4−ヘキセニル基、5−ヘキセニル
基、2,4−ヘキサジエニル基及び1−メチル−1−ペ
ンテニル基等が挙げられ、好ましくはエテニル基、1−
プロぺニル基、3−ブテニル基、1−メチル−1−プロ
ぺニル基、1−ペンテニル基、4−ペンテニル基、1−
ヘキセニル基及び5−ヘキセニル基等が挙げられる。
基、1−プロぺニル基、2−プロぺニル基、1−メチル
ビニル基、1−ブテニル基、2−ブテニル基、3−ブテ
ニル基、1−メチル−1−プロぺニル基、1−メチル−
2−プロぺニル基、2−メチル−2−プロぺニル基、1
−エチル−2−ビニル基、1−ペンテニル基、2−ペン
テニル基、3−ペンテニル基、4−ペンテニル基、1,
2−ジメチル−1−プロぺニル基、1,2−ジメチル−
2−プロぺニル基、1−エチル−1−プロぺニル基、1
−エチル−2−プロぺニル基、1−メチル−1−ブテニ
ル基、1−メチル−2−ブテニル基、2−メチル−1−
ブテニル基、1−i−プロピルビニル基、2,4−ペン
タジエニル基、1−ヘキセニル基、2−ヘキセニル基、
3−ヘキセニル基、4−ヘキセニル基、5−ヘキセニル
基、2,4−ヘキサジエニル基及び1−メチル−1−ペ
ンテニル基等が挙げられ、好ましくはエテニル基、1−
プロぺニル基、3−ブテニル基、1−メチル−1−プロ
ぺニル基、1−ペンテニル基、4−ペンテニル基、1−
ヘキセニル基及び5−ヘキセニル基等が挙げられる。
【0022】C2〜C6アルキニル基としては、エチニル
基、1−プロピニル基、2−プロピニル基、1−ブチニ
ル基、2−ブチニル基、3−ブチニル基、1−ペンチニ
ル基、2−ペンチニル基、3−ペンチニル基、4−ペン
チニル基、1−ヘキシニル基、2−ヘキシニル基、3−
ヘキシニル基、4−ヘキシニル基及び5−ヘキシニル基
等が挙げられ、好ましくはエチニル基、1−プロピニル
基、1−ブチニル基、1−ペンチニル基、4−ペンチニ
ル基、1−ヘキシニル基及び5−ヘキシニル基等が挙げ
られる。
基、1−プロピニル基、2−プロピニル基、1−ブチニ
ル基、2−ブチニル基、3−ブチニル基、1−ペンチニ
ル基、2−ペンチニル基、3−ペンチニル基、4−ペン
チニル基、1−ヘキシニル基、2−ヘキシニル基、3−
ヘキシニル基、4−ヘキシニル基及び5−ヘキシニル基
等が挙げられ、好ましくはエチニル基、1−プロピニル
基、1−ブチニル基、1−ペンチニル基、4−ペンチニ
ル基、1−ヘキシニル基及び5−ヘキシニル基等が挙げ
られる。
【0023】C6〜C10芳香族基としては、フェニル
基、1−インデニル基、2−インデニル基、3−インデ
ニル基、4−インデニル基、5−インデニル基、6−イ
ンデニル基、7−インデニル基、1−ナフチル基、2−
ナフチル基、1−テトラヒドロナフチル基、2−テトラ
ヒドロナフチル基、5−テトラヒドロナフチル基及び6
−テトラヒドロナフチル基等が挙げられ、好ましくは、
フェニル基、1−ナフチル基、2−ナフチル基、1−テ
トラヒドロナフチル基及び2−テトラヒドロナフチル基
が挙げられる。
基、1−インデニル基、2−インデニル基、3−インデ
ニル基、4−インデニル基、5−インデニル基、6−イ
ンデニル基、7−インデニル基、1−ナフチル基、2−
ナフチル基、1−テトラヒドロナフチル基、2−テトラ
ヒドロナフチル基、5−テトラヒドロナフチル基及び6
−テトラヒドロナフチル基等が挙げられ、好ましくは、
フェニル基、1−ナフチル基、2−ナフチル基、1−テ
トラヒドロナフチル基及び2−テトラヒドロナフチル基
が挙げられる。
【0024】複素環基としては、芳香族系複素環基及び
非芳香族系複素環基が挙げられる。芳香族系複素環基と
しては、5〜7員環の単環式複素環基、構成原子数が8
〜10の縮合二環式複素環基が挙げられ、酸素原子、窒
素原子、硫黄原子が1〜3原子単独叉は組合わせて含む
ことができる。非芳香族系複素環基としては、5〜7員
環の単環式複素環基、構成原子数が6〜10の縮合二環
式複素環基が挙げられ、酸素原子、窒素原子、硫黄原子
が1〜3原子単独叉は組合わせて含むことができる。
非芳香族系複素環基が挙げられる。芳香族系複素環基と
しては、5〜7員環の単環式複素環基、構成原子数が8
〜10の縮合二環式複素環基が挙げられ、酸素原子、窒
素原子、硫黄原子が1〜3原子単独叉は組合わせて含む
ことができる。非芳香族系複素環基としては、5〜7員
環の単環式複素環基、構成原子数が6〜10の縮合二環
式複素環基が挙げられ、酸素原子、窒素原子、硫黄原子
が1〜3原子単独叉は組合わせて含むことができる。
【0025】芳香族系複素環基としては、2−チエニル
基、3−チエニル基、2−フリル基、3−フリル基、2
−ピラニル基、3−ピラニル基、4−ピラニル基、2−
ベンゾフラニル基、3−ベンゾフラニル基、4−ベンゾ
フラニル基、5−ベンゾフラニル基、6−ベンゾフラニ
ル基、7−ベンゾフラニル基、1−イソベンゾフラニル
基、4−イソベンゾフラニル基、5−イソベンゾフラニ
ル基、2−ベンゾチエニル基、3−ベンゾチエニル基、
4−ベンゾチエニル基、5−ベンゾチエニル基、6−ベ
ンゾチエニル基、7−ベンゾチエニル基、1−イソベン
ゾチエニル基、4−イソベンゾチエニル基、5−イソベ
ンゾチエニル基、2−クロメニル基、3−クロメニル
基、4−クロメニル基、5−クロメニル基、6−クロメ
ニル基、7−クロメニル基、8−クロメニル基、1−ピ
ロリル基、2−ピロリル基、3−ピロリル基、1−イミ
ダゾリル基、2−イミダゾリル基、4−イミダゾリル
基、1−ピラゾリル基、3−ピラゾリル基、4−ピラゾ
リル基、2−チアゾリル基、4−チアゾリル基、5−チ
アゾリル基、3−イソチアゾリル基、4−イソチアゾリ
ル基、5−イソチアゾリル基、2−オキサゾリル基、4
−オキサゾリル基、5−オキサゾリル基、3−イソオキ
サゾリル基、4−イソオキサゾリル基、5−イソオキサ
ゾリル基、2−ピリジル基、3−ピリジル基、4−ピリ
ジル基、2−ピラジニル基、2−ピリミジニル基、4−
ピリミジニル基、5−ピリミジニル基、3−ピリダジニ
ル基、4−ピリダジニル基、1−インドリジニル基、2
−インドリジニル基、3−インドリジニル基、5−イン
ドリジニル基、6−インドリジニル基、7−インドリジ
ニル基、8−インドリジニル基、1−イソインドリル
基、4−イソインドリル基、5−イソインドリル基、1
−インドリル基、2−インドリル基、3−インドリル
基、4−インドリル基、5−インドリル基、6−インド
リル基、7−インドリル基、1−インダゾリル基、2−
インダゾリル基、3−インダゾリル基、4−インダゾリ
ル基、5−インダゾリル基、6−インダゾリル基、7−
インダゾリル基、1−プリニル基、2−プリニル基、3
−プリニル基、6−プリニル基、7−プリニル基、8−
プリニル基、2−キノリル基、3−キノリル基、4−キ
ノリル基、5−キノリル基、6−キノリル基、7−キノ
リル基、8−キノリル基、1−イソキノリル基、3−イ
ソキノリル基、4−イソキノリル基、5−イソキノリル
基、6−イソキノリル基、7−イソキノリル基、8−イ
ソキノリル基、1−フタラジニル基、5−フタラジニル
基、6−フタラジニル基、2−ナフチリジニル基、3−
ナフチリジニル基、4−ナフチリジニル基、2−キノキ
サリニル基、5−キノキサリニル基、6−キノキサリニ
ル基、2−キナゾリニル基、4−キナゾリニル基、5−
キナゾリニル基、6−キナゾリニル基、7−キナゾリニ
ル基、8−キナゾリニル基、3−シンノリニル基、4−
シンノリニル基、5−シンノリニル基、6−シンノリニ
ル基、7−シンノリニル基、8−シンノリニル基、2−
プテニジニル基、4−プテニジニル基、6−プテニジニ
ル基、7−プテニジニル基及び3−フラザニル基等が挙
げられる。
基、3−チエニル基、2−フリル基、3−フリル基、2
−ピラニル基、3−ピラニル基、4−ピラニル基、2−
ベンゾフラニル基、3−ベンゾフラニル基、4−ベンゾ
フラニル基、5−ベンゾフラニル基、6−ベンゾフラニ
ル基、7−ベンゾフラニル基、1−イソベンゾフラニル
基、4−イソベンゾフラニル基、5−イソベンゾフラニ
ル基、2−ベンゾチエニル基、3−ベンゾチエニル基、
4−ベンゾチエニル基、5−ベンゾチエニル基、6−ベ
ンゾチエニル基、7−ベンゾチエニル基、1−イソベン
ゾチエニル基、4−イソベンゾチエニル基、5−イソベ
ンゾチエニル基、2−クロメニル基、3−クロメニル
基、4−クロメニル基、5−クロメニル基、6−クロメ
ニル基、7−クロメニル基、8−クロメニル基、1−ピ
ロリル基、2−ピロリル基、3−ピロリル基、1−イミ
ダゾリル基、2−イミダゾリル基、4−イミダゾリル
基、1−ピラゾリル基、3−ピラゾリル基、4−ピラゾ
リル基、2−チアゾリル基、4−チアゾリル基、5−チ
アゾリル基、3−イソチアゾリル基、4−イソチアゾリ
ル基、5−イソチアゾリル基、2−オキサゾリル基、4
−オキサゾリル基、5−オキサゾリル基、3−イソオキ
サゾリル基、4−イソオキサゾリル基、5−イソオキサ
ゾリル基、2−ピリジル基、3−ピリジル基、4−ピリ
ジル基、2−ピラジニル基、2−ピリミジニル基、4−
ピリミジニル基、5−ピリミジニル基、3−ピリダジニ
ル基、4−ピリダジニル基、1−インドリジニル基、2
−インドリジニル基、3−インドリジニル基、5−イン
ドリジニル基、6−インドリジニル基、7−インドリジ
ニル基、8−インドリジニル基、1−イソインドリル
基、4−イソインドリル基、5−イソインドリル基、1
−インドリル基、2−インドリル基、3−インドリル
基、4−インドリル基、5−インドリル基、6−インド
リル基、7−インドリル基、1−インダゾリル基、2−
インダゾリル基、3−インダゾリル基、4−インダゾリ
ル基、5−インダゾリル基、6−インダゾリル基、7−
インダゾリル基、1−プリニル基、2−プリニル基、3
−プリニル基、6−プリニル基、7−プリニル基、8−
プリニル基、2−キノリル基、3−キノリル基、4−キ
ノリル基、5−キノリル基、6−キノリル基、7−キノ
リル基、8−キノリル基、1−イソキノリル基、3−イ
ソキノリル基、4−イソキノリル基、5−イソキノリル
基、6−イソキノリル基、7−イソキノリル基、8−イ
ソキノリル基、1−フタラジニル基、5−フタラジニル
基、6−フタラジニル基、2−ナフチリジニル基、3−
ナフチリジニル基、4−ナフチリジニル基、2−キノキ
サリニル基、5−キノキサリニル基、6−キノキサリニ
ル基、2−キナゾリニル基、4−キナゾリニル基、5−
キナゾリニル基、6−キナゾリニル基、7−キナゾリニ
ル基、8−キナゾリニル基、3−シンノリニル基、4−
シンノリニル基、5−シンノリニル基、6−シンノリニ
ル基、7−シンノリニル基、8−シンノリニル基、2−
プテニジニル基、4−プテニジニル基、6−プテニジニ
ル基、7−プテニジニル基及び3−フラザニル基等が挙
げられる。
【0026】非芳香族複素環としては、1−ピロリジニ
ル基、2−ピロリジニル基、3−ピロリジニル基、1−
ピロリニル基、2−ピロリニル基、3−ピロリニル基、
4−ピロリニル基、5−ピロリニル基、1−イミダゾリ
ジニル基、2−イミダゾリジニル基、4−イミダゾリジ
ニル基、1−イミダゾリニル基、2−イミダゾリニル
基、4−イミダゾリニル基、1−ピラゾリジニル基、3
−ピラゾリジニル基、4−ピラゾリジニル基、1−ピラ
ゾリニル基、2−ピラゾリニル基、3−ピラゾリニル
基、4−ピラゾリニル基、5−ピラゾリニル基、1−ピ
ペリジル基、2−ピペリジル基、3−ピペリジル基、4
−ピペリジル基、1−ピペラジニル基、2−ピペラジニ
ル基、3−ピペラジニル基、1−インドリニル基、2−
インドリニル基、3−インドリニル基、4−インドリニ
ル基、5−インドリニル基、6−インドリニル基、7−
インドリニル基、1−イソインドリニル基、2−イソイ
ンドリニル基、4−イソインドリニル基、5−イソイン
ドリニル基、2−キヌクリジニル基、3−キヌクリジニ
ル基、4−キヌクリジニル基、2−モルフォリニル基、
3−モルフォリニル基、4−モルフォリニル基、1−ア
ゼチジニル基、2−アゼチジニル基、3−アゼチジニル
基、1−アゼチジノニル基、3−アゼチジノニル基及び
4−アゼチジノニル基等が挙げられる。
ル基、2−ピロリジニル基、3−ピロリジニル基、1−
ピロリニル基、2−ピロリニル基、3−ピロリニル基、
4−ピロリニル基、5−ピロリニル基、1−イミダゾリ
ジニル基、2−イミダゾリジニル基、4−イミダゾリジ
ニル基、1−イミダゾリニル基、2−イミダゾリニル
基、4−イミダゾリニル基、1−ピラゾリジニル基、3
−ピラゾリジニル基、4−ピラゾリジニル基、1−ピラ
ゾリニル基、2−ピラゾリニル基、3−ピラゾリニル
基、4−ピラゾリニル基、5−ピラゾリニル基、1−ピ
ペリジル基、2−ピペリジル基、3−ピペリジル基、4
−ピペリジル基、1−ピペラジニル基、2−ピペラジニ
ル基、3−ピペラジニル基、1−インドリニル基、2−
インドリニル基、3−インドリニル基、4−インドリニ
ル基、5−インドリニル基、6−インドリニル基、7−
インドリニル基、1−イソインドリニル基、2−イソイ
ンドリニル基、4−イソインドリニル基、5−イソイン
ドリニル基、2−キヌクリジニル基、3−キヌクリジニ
ル基、4−キヌクリジニル基、2−モルフォリニル基、
3−モルフォリニル基、4−モルフォリニル基、1−ア
ゼチジニル基、2−アゼチジニル基、3−アゼチジニル
基、1−アゼチジノニル基、3−アゼチジノニル基及び
4−アゼチジノニル基等が挙げられる。
【0027】C1〜C6アルコキシ基としては、メトキシ
基、エトキシ基、n−プロポキシ基、i−プロポキシ
基、n−ブトキシ基、sec−ブトキシ基、t−ブトキ
シ基、n−ペンチルオキシ基及びn−ヘキシルオキシ基
等が挙げられ、好ましくはメトキシ基、エトキシ基、n
−プロポキシ基、i−プロポキシ基、n−ブトキシ基、
sec−ブトキシ基及びt−ブトキシ基等が挙げられ
る。
基、エトキシ基、n−プロポキシ基、i−プロポキシ
基、n−ブトキシ基、sec−ブトキシ基、t−ブトキ
シ基、n−ペンチルオキシ基及びn−ヘキシルオキシ基
等が挙げられ、好ましくはメトキシ基、エトキシ基、n
−プロポキシ基、i−プロポキシ基、n−ブトキシ基、
sec−ブトキシ基及びt−ブトキシ基等が挙げられ
る。
【0028】C1〜C10アルコキシ基としては、メトキ
シ基、エトキシ基、n−プロポキシ基、i−プロポキシ
基、n−ブトキシ基、sec−ブトキシ基、t−ブトキ
シ基、n−ペンチルオキシ基、n−ヘキシルオキシ基、
n−ヘプチルオキシ基、n−オクチルオキシ基、n−ノ
ニルオキシ基及びn−デシルオキシ基等が挙げられ、好
ましくはメトキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ基、
i−プロポキシ基、n−ブトキシ基、sec−ブトキシ
基、t−ブトキシ基等が挙げられる。
シ基、エトキシ基、n−プロポキシ基、i−プロポキシ
基、n−ブトキシ基、sec−ブトキシ基、t−ブトキ
シ基、n−ペンチルオキシ基、n−ヘキシルオキシ基、
n−ヘプチルオキシ基、n−オクチルオキシ基、n−ノ
ニルオキシ基及びn−デシルオキシ基等が挙げられ、好
ましくはメトキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ基、
i−プロポキシ基、n−ブトキシ基、sec−ブトキシ
基、t−ブトキシ基等が挙げられる。
【0029】ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素
原子、臭素原子及びヨウ素原子が挙げられる。C2〜C
10アルコキシカルボニル基としては、メトキシカルボニ
ル基、エトキシカルボニル基、n−プロポキシカルボニ
ル基、i−プロポキシカルボニル基、n−ブトキシカル
ボニル基、sec−ブトキシカルボニル基、t−ブトキ
シカルボニル基、n−ペンチルオキシカルボニル基、n
−ヘキシルオキシカルボニル基、n−ヘプチルオキシカ
ルボニル基、n−オクチルオキシカルボニル基、および
n−ノニルオキシカルボニル基等が挙げられる。
原子、臭素原子及びヨウ素原子が挙げられる。C2〜C
10アルコキシカルボニル基としては、メトキシカルボニ
ル基、エトキシカルボニル基、n−プロポキシカルボニ
ル基、i−プロポキシカルボニル基、n−ブトキシカル
ボニル基、sec−ブトキシカルボニル基、t−ブトキ
シカルボニル基、n−ペンチルオキシカルボニル基、n
−ヘキシルオキシカルボニル基、n−ヘプチルオキシカ
ルボニル基、n−オクチルオキシカルボニル基、および
n−ノニルオキシカルボニル基等が挙げられる。
【0030】C2〜C10アルカノイル基としては、アシ
ル基、エチルカルボニル基、n−プロピルカルボニル
基、i−プロピルカルボニル基、n−ブチルカルボニル
基、i−ブチルカルボニル基、sec−ブチルカルボニ
ル基、t−ブチルカルボニル基、n−ペンチルカルボニ
ル基、n−ヘキシルカルボニル基、n−ヘプチルカルボ
ニル基、n−オクチルカルボニル基及びn−ノニルカル
ボニル基等が挙げられる。
ル基、エチルカルボニル基、n−プロピルカルボニル
基、i−プロピルカルボニル基、n−ブチルカルボニル
基、i−ブチルカルボニル基、sec−ブチルカルボニ
ル基、t−ブチルカルボニル基、n−ペンチルカルボニ
ル基、n−ヘキシルカルボニル基、n−ヘプチルカルボ
ニル基、n−オクチルカルボニル基及びn−ノニルカル
ボニル基等が挙げられる。
【0031】トリC1〜C6アルキルシリル基としては、
上述のC1〜C6アルキルでトリ置換されたシリル基を示
す。例えば、トリメチルシリル基、トリエチルシリル
基、トリ−n−プロピルシリル基、トリ−n−ブチルシ
リル基、トリ−n−ぺンチルシリル基及びトリ−n−ヘ
キシルシリル基等が挙げられ、好ましくはトリメチルシ
リル基等が挙げられる。
上述のC1〜C6アルキルでトリ置換されたシリル基を示
す。例えば、トリメチルシリル基、トリエチルシリル
基、トリ−n−プロピルシリル基、トリ−n−ブチルシ
リル基、トリ−n−ぺンチルシリル基及びトリ−n−ヘ
キシルシリル基等が挙げられ、好ましくはトリメチルシ
リル基等が挙げられる。
【0032】C1〜C6アルキルジフェニルシリル基とし
ては、上述のC1〜C6アルキルでモノ置換されたジフェ
ニルシリル基を示す。例えば、メチルジフェニルシリル
基、エチルジフェニルシリル基、n−ブチルジフェニル
シリル基及びt−ブチルジフェニルシリル基等が挙げら
れ、好ましくはt−ブチルジフェニルシリル基等が挙げ
られる。
ては、上述のC1〜C6アルキルでモノ置換されたジフェ
ニルシリル基を示す。例えば、メチルジフェニルシリル
基、エチルジフェニルシリル基、n−ブチルジフェニル
シリル基及びt−ブチルジフェニルシリル基等が挙げら
れ、好ましくはt−ブチルジフェニルシリル基等が挙げ
られる。
【0033】ジC1〜C6アルキルフェニルシリル基は、
上述のC1〜C6アルキルでジ置換されたフェニルシリル
基を示す。例えば、ジメチルフェニルシリル基、ジエチ
ルフェニルシリル基、ジ−n−ブチルフェニルシリル基
及びジ−t−ブチルフェニルシリル基等が挙げられ、好
ましくはジメチルフェニルシリル基及びジ−t−ブチル
フェニルシリル基等が挙げられる。
上述のC1〜C6アルキルでジ置換されたフェニルシリル
基を示す。例えば、ジメチルフェニルシリル基、ジエチ
ルフェニルシリル基、ジ−n−ブチルフェニルシリル基
及びジ−t−ブチルフェニルシリル基等が挙げられ、好
ましくはジメチルフェニルシリル基及びジ−t−ブチル
フェニルシリル基等が挙げられる。
【0034】N−モノC1〜C10アルキルカルバモイル
基としては、N−モノメチルカルバモイル基、N−モノ
エチルカルバモイル基、N−モノn−プロピルカルバモ
イル基、N−モノi−プロピルカルバモイル基、N−モ
ノn−ブチルカルバモイル基、N−モノi−ブチルカル
バモイル基、N−モノsec−ブチルカルバモイル基、
N−モノt−ブチルカルバモイル基、N−モノn−ペン
チルカルバモイル基、N−モノn−ヘキシルカルバモイ
ル基、N−モノn−ヘプチルカルバモイル基、N−モノ
n−オクチルカルバモイル基、N−モノn−ノニルカル
バモイル基及びN−モノn−デシルカルバモイル基等が
挙げられる。
基としては、N−モノメチルカルバモイル基、N−モノ
エチルカルバモイル基、N−モノn−プロピルカルバモ
イル基、N−モノi−プロピルカルバモイル基、N−モ
ノn−ブチルカルバモイル基、N−モノi−ブチルカル
バモイル基、N−モノsec−ブチルカルバモイル基、
N−モノt−ブチルカルバモイル基、N−モノn−ペン
チルカルバモイル基、N−モノn−ヘキシルカルバモイ
ル基、N−モノn−ヘプチルカルバモイル基、N−モノ
n−オクチルカルバモイル基、N−モノn−ノニルカル
バモイル基及びN−モノn−デシルカルバモイル基等が
挙げられる。
【0035】N,N−ジC1〜C10アルキルカルバモイ
ル基としては、N,N−ジメチルカルバモイル基、N,
N−ジエチルカルバモイル基、N,N−ジn−プロピル
カルバモイル基、N,N−ジi−プロピルカルバモイル
基、N,N−ジn−ブチルカルバモイル基、N,N−ジ
i−ブチルカルバモイル基、N,N−ジsec−ブチル
カルバモイル基、N,N−ジt−ブチルカルバモイル
基、N,N−ジn−ペンチルカルバモイル基、N,N−
ジn−ヘキシルカルバモイル基、N,N−ジn−ヘプチ
ルカルバモイル基、N,N−ジn−オクチルカルバモイ
ル基、N,N−ジn−ノニルカルバモイル基及びN,N
−ジn−デシルカルバモイル基等が挙げられる。
ル基としては、N,N−ジメチルカルバモイル基、N,
N−ジエチルカルバモイル基、N,N−ジn−プロピル
カルバモイル基、N,N−ジi−プロピルカルバモイル
基、N,N−ジn−ブチルカルバモイル基、N,N−ジ
i−ブチルカルバモイル基、N,N−ジsec−ブチル
カルバモイル基、N,N−ジt−ブチルカルバモイル
基、N,N−ジn−ペンチルカルバモイル基、N,N−
ジn−ヘキシルカルバモイル基、N,N−ジn−ヘプチ
ルカルバモイル基、N,N−ジn−オクチルカルバモイ
ル基、N,N−ジn−ノニルカルバモイル基及びN,N
−ジn−デシルカルバモイル基等が挙げられる。
【0036】式(1)の軸不斉を有する光学活性ビアリ
ール型オキサゾリン−パラジウム錯体は、置換叉は無置
換の光学活性ビフェニル型オキサゾリン−パラジウム錯
体並びに置換叉は無置換の光学活性ビナフチル型オキサ
ゾリン−パラジウム錯体を包含し、そのアリール−アリ
ール間の結合は、R叉はS配置である。式(1)の軸不
斉を有する光学活性ビアリール型オキサゾリン−パラジ
ウム錯体は、光学活性ビアリール型オキサゾリン化合物
と二価のパラジウム塩より製造することができる。
ール型オキサゾリン−パラジウム錯体は、置換叉は無置
換の光学活性ビフェニル型オキサゾリン−パラジウム錯
体並びに置換叉は無置換の光学活性ビナフチル型オキサ
ゾリン−パラジウム錯体を包含し、そのアリール−アリ
ール間の結合は、R叉はS配置である。式(1)の軸不
斉を有する光学活性ビアリール型オキサゾリン−パラジ
ウム錯体は、光学活性ビアリール型オキサゾリン化合物
と二価のパラジウム塩より製造することができる。
【0037】光学活性ビアリール型オキサゾリン化合物
としては、下記の化合物及びそれらのエナンチオマー等
が挙げられる。
としては、下記の化合物及びそれらのエナンチオマー等
が挙げられる。
【0038】
【化7】
【0039】二価のパラジウム塩としては、塩化パラジ
ウム、臭化パラジウム、ヨウ化パラジウム、酢酸パラジ
ウム、トリフルオロ酢酸パラジウム、硫酸パラジウム、
硝酸パラジウム、シアン化パラジウム及びトリフルオロ
メタンスルホン酸パラジウム等が挙げられ、好ましく
は、酢酸パラジウム及びトリフルオロ酢酸パラジウム等
が挙げられる。
ウム、臭化パラジウム、ヨウ化パラジウム、酢酸パラジ
ウム、トリフルオロ酢酸パラジウム、硫酸パラジウム、
硝酸パラジウム、シアン化パラジウム及びトリフルオロ
メタンスルホン酸パラジウム等が挙げられ、好ましく
は、酢酸パラジウム及びトリフルオロ酢酸パラジウム等
が挙げられる。
【0040】光学活性ビアリール型オキサゾリン化合物
と二価のパラジウム塩の反応モル比としては、0.1:
1〜10:1、好ましくは、0.5:1〜4:1であ
る。反応温度としては、通常−100℃から用いられる
反応溶媒の還流温度までであり、好ましくは、−20〜
50℃である。反応溶媒としては、反応に関与しないも
のであればよく、通常ベンゼン、トルエン、ヘキサン等
の炭化水素系溶媒、テトラヒドロフラン、ジエチルエー
テル、1,4−ジオキサン等のエーテル系溶媒、メタノ
ール、エタノール、1−プロパノール、2−プロパノー
ル、1−ブタノール、2−ブタノール、イソブタノー
ル、シクロヘキサノール等のアルコール系溶媒、ホルム
アミド、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチル
アセトアミド、N−メチルピロリドン、ヘキサメチルリ
ン酸トリアミド等のアミド系溶媒、クロロホルム、塩化
メチレン、エチレンジクロリド等のハロゲン系溶媒、ア
セトン、メチルエチルケトン、メチル−i−ブチルケト
ン等のケトン系溶媒、その他、アセトニトリル、プロピ
オニトリル、ジメチルスルホキシド等の溶媒、或いは、
これらの混合溶媒を挙げることができ、好ましくは、メ
タノール、テトラヒドロフラン、塩化メチレン、ジメチ
ルホルムアミドが挙げられる。
と二価のパラジウム塩の反応モル比としては、0.1:
1〜10:1、好ましくは、0.5:1〜4:1であ
る。反応温度としては、通常−100℃から用いられる
反応溶媒の還流温度までであり、好ましくは、−20〜
50℃である。反応溶媒としては、反応に関与しないも
のであればよく、通常ベンゼン、トルエン、ヘキサン等
の炭化水素系溶媒、テトラヒドロフラン、ジエチルエー
テル、1,4−ジオキサン等のエーテル系溶媒、メタノ
ール、エタノール、1−プロパノール、2−プロパノー
ル、1−ブタノール、2−ブタノール、イソブタノー
ル、シクロヘキサノール等のアルコール系溶媒、ホルム
アミド、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチル
アセトアミド、N−メチルピロリドン、ヘキサメチルリ
ン酸トリアミド等のアミド系溶媒、クロロホルム、塩化
メチレン、エチレンジクロリド等のハロゲン系溶媒、ア
セトン、メチルエチルケトン、メチル−i−ブチルケト
ン等のケトン系溶媒、その他、アセトニトリル、プロピ
オニトリル、ジメチルスルホキシド等の溶媒、或いは、
これらの混合溶媒を挙げることができ、好ましくは、メ
タノール、テトラヒドロフラン、塩化メチレン、ジメチ
ルホルムアミドが挙げられる。
【0041】このように製造した式(1)の軸不斉を有
する光学活性ビアリール型オキサゾリン−パラジウム錯
体は、反応溶液のまま或いは単離して不斉ワッカー型環
化反応に用いることができる。次に、不斉ワッカー型環
化反応について説明する。式(2)のオレフィン化合物
としては、下記のo−アリルフェノール誘導体、o−ホ
モアリルフェノール誘導体、o−アリルチオフェノール
誘導体、o−ホモアリルチオフェノール誘導体、o−ア
リルアニリン誘導体、o−ホモアリルアニリン誘導体等
が挙げられる(R1、R2、R3及びR4は、前記に同
じ。)
する光学活性ビアリール型オキサゾリン−パラジウム錯
体は、反応溶液のまま或いは単離して不斉ワッカー型環
化反応に用いることができる。次に、不斉ワッカー型環
化反応について説明する。式(2)のオレフィン化合物
としては、下記のo−アリルフェノール誘導体、o−ホ
モアリルフェノール誘導体、o−アリルチオフェノール
誘導体、o−ホモアリルチオフェノール誘導体、o−ア
リルアニリン誘導体、o−ホモアリルアニリン誘導体等
が挙げられる(R1、R2、R3及びR4は、前記に同
じ。)
【0042】
【化8】
【0043】式(1)の軸不斉を有する光学活性ビアリ
ール型オキサゾリン−パラジウム錯体の使用量として
は、式(2)のオレフィン化合物に対し、0.1〜50
モル%の範囲、好ましくは、0.1〜20モル%の範囲
である。酸化剤としては、ベンゾキノン、塩化(II)銅
−酸素、酢酸(II)銅−酸素、tert−ブチルヒドロ
パーオキシド、クメンヒドロパーオキシド等が挙げら
れ、好ましくは、ベンゾキノン等が挙げられる。
ール型オキサゾリン−パラジウム錯体の使用量として
は、式(2)のオレフィン化合物に対し、0.1〜50
モル%の範囲、好ましくは、0.1〜20モル%の範囲
である。酸化剤としては、ベンゾキノン、塩化(II)銅
−酸素、酢酸(II)銅−酸素、tert−ブチルヒドロ
パーオキシド、クメンヒドロパーオキシド等が挙げら
れ、好ましくは、ベンゾキノン等が挙げられる。
【0044】反応溶媒としては、式(1)の軸不斉を有
する光学活性ビアリール型オキサゾリン−パラジウム錯
体の製造に使用する溶媒と同一叉は異なっていてもよ
く、ベンゼン、トルエン、ヘキサン等の炭化水素系溶
媒、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、1,4−
ジオキサン等のエーテル系溶媒、メタノール、エタノー
ル、1−プロパノール、2−プロパノール、1−ブタノ
ール、2−ブタノール、イソブタノール、シクロヘキサ
ノール等のアルコール系溶媒、ホルムアミド、N,N−ジ
メチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、N
−メチルピロリドン、ヘキサメチルリン酸トリアミド等
のアミド系溶媒、クロロホルム、塩化メチレン、エチレ
ンジクロリド等のハロゲン系溶媒、アセトン、メチルエ
チルケトン、メチル−i−ブチルケトン等のケトン系溶
媒、その他、アセトニトリル、プロピオニトリル、ジメ
チルスルホキシド等の溶媒、或いは、これらの混合溶媒
を挙げることができ、好ましくは、メタノール、テトラ
ヒドロフラン、ベンゼン、塩化メチレンが挙げられる。
する光学活性ビアリール型オキサゾリン−パラジウム錯
体の製造に使用する溶媒と同一叉は異なっていてもよ
く、ベンゼン、トルエン、ヘキサン等の炭化水素系溶
媒、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、1,4−
ジオキサン等のエーテル系溶媒、メタノール、エタノー
ル、1−プロパノール、2−プロパノール、1−ブタノ
ール、2−ブタノール、イソブタノール、シクロヘキサ
ノール等のアルコール系溶媒、ホルムアミド、N,N−ジ
メチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、N
−メチルピロリドン、ヘキサメチルリン酸トリアミド等
のアミド系溶媒、クロロホルム、塩化メチレン、エチレ
ンジクロリド等のハロゲン系溶媒、アセトン、メチルエ
チルケトン、メチル−i−ブチルケトン等のケトン系溶
媒、その他、アセトニトリル、プロピオニトリル、ジメ
チルスルホキシド等の溶媒、或いは、これらの混合溶媒
を挙げることができ、好ましくは、メタノール、テトラ
ヒドロフラン、ベンゼン、塩化メチレンが挙げられる。
【0045】反応温度としては、通常−100℃から用
いられる反応溶媒の還流温度までであり、好ましくは、
−20〜70℃である。反応時間は、通常0.1〜10
00時間である。反応終了後は、例えば、反応液に水を
加えて反応をクエンチした後、適当な溶媒により抽出
し、溶媒を減圧濃縮してシリカゲルカラムクロマトグラ
フィー叉は蒸留等により分離精製すると、式(3)の光
学活性複素環化合物を得ることができる。
いられる反応溶媒の還流温度までであり、好ましくは、
−20〜70℃である。反応時間は、通常0.1〜10
00時間である。反応終了後は、例えば、反応液に水を
加えて反応をクエンチした後、適当な溶媒により抽出
し、溶媒を減圧濃縮してシリカゲルカラムクロマトグラ
フィー叉は蒸留等により分離精製すると、式(3)の光
学活性複素環化合物を得ることができる。
【0046】得られた式(3)の光学活性複素環化合物
の光学純度は、光学活性クロマトグラフィーカラムや旋
光度によって分析することができる。
の光学純度は、光学活性クロマトグラフィーカラムや旋
光度によって分析することができる。
【0047】
【実施例】以下、本発明を実施例を挙げて更に詳しく説
明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。 実施例1(光学活性ビアリール型オキサゾリン−パラジ
ウム錯体の合成)
明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。 実施例1(光学活性ビアリール型オキサゾリン−パラジ
ウム錯体の合成)
【0048】
【化9】
【0049】ビス(アセトニトリル)塩化(II)パラジ
ウム152mg(0.586mmol)をジクロロメタ
ン5mlに加えて溶解し、ビナフチルオキサゾリン化合
物(1)323mg(0.678mmol)のジクロロ
メタン5ml溶液を ℃で滴下した。5分間激しく撹
拌した後、不溶物を濾過し、濾液を減圧下濃縮した。
ウム152mg(0.586mmol)をジクロロメタ
ン5mlに加えて溶解し、ビナフチルオキサゾリン化合
物(1)323mg(0.678mmol)のジクロロ
メタン5ml溶液を ℃で滴下した。5分間激しく撹
拌した後、不溶物を濾過し、濾液を減圧下濃縮した。
【0050】濃縮物に、ジクロロメタン3mlとヘキサ
ン6mlを加えて結晶を析出させた。 結晶を濾取後、
乾燥し、光学活性ビアリール型オキサゾリン−パラジウ
ム錯体(2)275mg(収率72%)を得た。以下に
分析値を示す。 融点:243〜264℃(分解)1 H-NMR(270MHz,CD2Cl2) 0.013(3H,d,J=6.93Hz),0.741(1H,dtt,J=7.59,6.93,6.60
Hz),1.263(3H,d,J=6.60Hz),3.466(1H,dd,J=8.60,6.26H
z),4.171(1H,dd,J=9.90,8.60Hz),4.800(1H,ddd,J=9.90,
7.59,6.27Hz),7.011(1H,bd,J=8.58Hz),7.339(1H,bt,J=
8.58Hz),7.584(1H,bt,J=7.92Hz),7.785(1H,bd,J=8.25H
z),7.990(1H,bd,J=7.92Hz),8.152(1H, bd,J=8.25Hz) 旋光度[α]D 20−54.1(c0.10、CH2C
l2) 実施例2(光学活性ビアリール型オキサゾリン−パラジ
ウム錯体の合成)
ン6mlを加えて結晶を析出させた。 結晶を濾取後、
乾燥し、光学活性ビアリール型オキサゾリン−パラジウ
ム錯体(2)275mg(収率72%)を得た。以下に
分析値を示す。 融点:243〜264℃(分解)1 H-NMR(270MHz,CD2Cl2) 0.013(3H,d,J=6.93Hz),0.741(1H,dtt,J=7.59,6.93,6.60
Hz),1.263(3H,d,J=6.60Hz),3.466(1H,dd,J=8.60,6.26H
z),4.171(1H,dd,J=9.90,8.60Hz),4.800(1H,ddd,J=9.90,
7.59,6.27Hz),7.011(1H,bd,J=8.58Hz),7.339(1H,bt,J=
8.58Hz),7.584(1H,bt,J=7.92Hz),7.785(1H,bd,J=8.25H
z),7.990(1H,bd,J=7.92Hz),8.152(1H, bd,J=8.25Hz) 旋光度[α]D 20−54.1(c0.10、CH2C
l2) 実施例2(光学活性ビアリール型オキサゾリン−パラジ
ウム錯体の合成)
【0051】
【化10】
【0052】ビナフチルオキサゾリン化合物(1)47
7mg(1.0mmol)及びトリフルオロ酢酸(II)
パラジウム330mg(0.99mmol)をメタノー
ル20mlに加えて溶解し、25℃で5分間激しく撹拌
した。次に、反応溶液を10ml程度まで濃縮し、ベン
ゼン20mlを加えて結晶を析出させ、結晶を濾取後、
乾燥し、光学活性ビアリール型オキサゾリン−パラジウ
ム錯体(3)565mg(収率70%)を得た。
7mg(1.0mmol)及びトリフルオロ酢酸(II)
パラジウム330mg(0.99mmol)をメタノー
ル20mlに加えて溶解し、25℃で5分間激しく撹拌
した。次に、反応溶液を10ml程度まで濃縮し、ベン
ゼン20mlを加えて結晶を析出させ、結晶を濾取後、
乾燥し、光学活性ビアリール型オキサゾリン−パラジウ
ム錯体(3)565mg(収率70%)を得た。
【0053】以下に分析値を示す。 融点:227〜243℃(分解)1 H-NMR(270MHz,CD2Cl2) 0.020(3H,d,J=6.59Hz),0.677(1H,dtt,J=7.59,6.60,6.59
Hz),1.191(3H,d,J=6.60Hz),3.560(1H,ddd,J=9.24,7.59,
6.27Hz),3.597(1H,dd,J=8.91,6.27Hz),4.190(1H,dd,J=
9.24,8.91Hz),7.005(1H,bd,J=8.25Hz),7.353(1H,bt,J=
7.26Hz),7.963(1H,bd,J=8.58Hz),8.043(1H,bd,J=8.25H
z),8.248(1H,bd,J=8.57Hz) 旋光度[α]D 20−24.4(c0.11、CH2C
l2) X線データ C36H32O6N2PdF6 格子定数:a=16.25(1)Å b=15.207(6)Å c=14.316(5)Å 空間群 :P212121(#19) R=6.5%
Hz),1.191(3H,d,J=6.60Hz),3.560(1H,ddd,J=9.24,7.59,
6.27Hz),3.597(1H,dd,J=8.91,6.27Hz),4.190(1H,dd,J=
9.24,8.91Hz),7.005(1H,bd,J=8.25Hz),7.353(1H,bt,J=
7.26Hz),7.963(1H,bd,J=8.58Hz),8.043(1H,bd,J=8.25H
z),8.248(1H,bd,J=8.57Hz) 旋光度[α]D 20−24.4(c0.11、CH2C
l2) X線データ C36H32O6N2PdF6 格子定数:a=16.25(1)Å b=15.207(6)Å c=14.316(5)Å 空間群 :P212121(#19) R=6.5%
【0054】
【化11】
【0055】実施例3(o−アリルフェノールの不斉ワ
ッカー型環化反応)
ッカー型環化反応)
【0056】
【化12】
【0057】光学活性ビアリール型オキサゾリン−パラ
ジウム錯体(3)12.1mg(0.015mmol)
をメタノール0.1mlに加えて溶解し、25℃で撹拌
した。 次に、p−ベンゾキノン65mg(0.60m
mol)及びメタノール0.1mlを加えてよく撹拌し
た後、o−アリルフェノール(4)26.4mg(0.
15mmol)及びメタノール0.1mlを25℃で加
え、60℃で24時間撹拌した。
ジウム錯体(3)12.1mg(0.015mmol)
をメタノール0.1mlに加えて溶解し、25℃で撹拌
した。 次に、p−ベンゾキノン65mg(0.60m
mol)及びメタノール0.1mlを加えてよく撹拌し
た後、o−アリルフェノール(4)26.4mg(0.
15mmol)及びメタノール0.1mlを25℃で加
え、60℃で24時間撹拌した。
【0058】反応終了後、反応混合物をシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィー(溶離液:ベンゼン)で精製し、
光学活性ジヒドロベンゾフラン化合物(5)19.6m
g(収率75%)を得た。光学純度は、光学活性体分離
用カラム(Cyclodexβ236M)を用いてガス
クロ分析したところ、96%eeであった。
ムクロマトグラフィー(溶離液:ベンゼン)で精製し、
光学活性ジヒドロベンゾフラン化合物(5)19.6m
g(収率75%)を得た。光学純度は、光学活性体分離
用カラム(Cyclodexβ236M)を用いてガス
クロ分析したところ、96%eeであった。
【0059】以下に分析値を示す。1 H-NMR(270MHz,CDCl3) 1.55(3H,s),1.82(3H,brs),3.01(1H,d,J=16.2Hz),3.26(1
H,d,J=16.2Hz),4.84(1H,brs),5.09(1H,brs),6.79(1H,br
d,J=7.8Hz),6.82(1H,t,J=7.3Hz),7.11(1H,brt,J=7.2H
z),7.13(1H,brd,J=7.3Hz) Mass:174(M+),159(bp),141,131 旋光度[α]D 20−83.1(c0.23、CHCl3) 実施例4(o−ホモアリルフェノールの不斉ワッカー型
環化反応)
H,d,J=16.2Hz),4.84(1H,brs),5.09(1H,brs),6.79(1H,br
d,J=7.8Hz),6.82(1H,t,J=7.3Hz),7.11(1H,brt,J=7.2H
z),7.13(1H,brd,J=7.3Hz) Mass:174(M+),159(bp),141,131 旋光度[α]D 20−83.1(c0.23、CHCl3) 実施例4(o−ホモアリルフェノールの不斉ワッカー型
環化反応)
【0060】
【化13】
【0061】o−アリルフェノール(4)の代わりにo
−ホモアリルフェノール(6)を用いた他は、実施例3
と同様に反応及び操作を行なったところ、光学活性ジヒ
ドロベンゾピラン化合物(7)16.9mg(収率60
%)を得た。光学純度は、97%eeであった。以下に
分析値を示す。1 H-NMR(270MHz,CDCl3) 1.46(3H,s),1.78(3H,brs),1.77-1.87(1H,m),2.13(1H,d
t,J=4.9,13.9Hz),2.63-2.68(2H,m),4.84(1H,brs),4.94
(1H,brs),6.78(1H,d,J=7.3Hz),6.82(1H,t,J=7.3Hz),7.0
0(1H,d,J=7.3Hz),7.11(1H,t,J=7.3Hz) Mass:188(M+),173(bp),145,107 旋光度[α]D 20−34.2(c0.24、CHCl3)
−ホモアリルフェノール(6)を用いた他は、実施例3
と同様に反応及び操作を行なったところ、光学活性ジヒ
ドロベンゾピラン化合物(7)16.9mg(収率60
%)を得た。光学純度は、97%eeであった。以下に
分析値を示す。1 H-NMR(270MHz,CDCl3) 1.46(3H,s),1.78(3H,brs),1.77-1.87(1H,m),2.13(1H,d
t,J=4.9,13.9Hz),2.63-2.68(2H,m),4.84(1H,brs),4.94
(1H,brs),6.78(1H,d,J=7.3Hz),6.82(1H,t,J=7.3Hz),7.0
0(1H,d,J=7.3Hz),7.11(1H,t,J=7.3Hz) Mass:188(M+),173(bp),145,107 旋光度[α]D 20−34.2(c0.24、CHCl3)
【0062】
【発明の効果】本発明に従えば、軸不斉を有する光学活
性ビアリール型オキサゾリン−パラジウム錯体の存在
下、オレフィン化合物より光学活性複素環化合物を効率
よく製造することができる。
性ビアリール型オキサゾリン−パラジウム錯体の存在
下、オレフィン化合物より光学活性複素環化合物を効率
よく製造することができる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 FI C07M 7:00
Claims (10)
- 【請求項1】 式(1) 【化1】 [式中、A1、A2、A3及びA4は、独立に水素原子、C
1〜C6アルキル基、C2〜C6アルケニル基、C2〜C6ア
ルキニル基、C1〜C6アルコキシ基(該アルキル基、ア
ルケニル基、アルキニル基及びアルコキシ基は、ハロゲ
ン原子、水酸基、トリC1〜C6アルキルシリル基、C1
〜C6アルキルジフェニルシリル基、ジC 1〜C6アルキ
ルフェニルシリル基、C1〜C6アルコキシ基、C6〜C
10芳香族基及び複素環基で任意に置換されていてもよ
い。)、シアノ基、ニトロ基、ハロゲン原子、C2〜C
10アルコキシカルボニル基、C2〜C10アルカノイル
基、ホルミル基、トリC1〜C6アルキルシリル基、C1
〜C6アルキルジフェニルシリル基、ジC1〜C6アルキ
ルフェニルシリル基、N−モノC1〜C10アルキルカル
バモイル基及びN,N−ジC1〜C10アルキルカルバモ
イル基を意味する。A3とA4は、それらの結合するベン
ゼン環と一緒になってナフチル環を形成してもよい{該
ナフチル環は、無置換並びに単数又は複数のC1〜C6ア
ルキル基、C2〜C6アルケニル基、C2〜C6アルキニル
基、C1〜C6アルコキシ基(該アルキル基、アルケニル
基、アルキニル基及びアルコキシ基は、ハロゲン原子、
水酸基、トリC1〜C6アルキルシリル基、C1〜C6アル
キルジフェニルシリル基、ジC1〜C6アルキルフェニル
シリル基、C1〜C6アルコキシ基、C6〜C10芳香族基
及び複素環基で任意に置換されていてもよい。)、シア
ノ基、ニトロ基、ハロゲン原子、C2〜C10アルコキシ
カルボニル基、C2〜C10アルカノイル基及びフェニル
基(該フェニル基は、C1〜C6アルキル基、C1〜C6ア
ルコキシ基、シアノ基、ニトロ基及びハロゲン原子で任
意に置換されていてもよい。)で任意に置換されていて
もよい。}。W1及びW2は、独立に、水素原子(但し、
W1及びW2は、同時に水素原子ではない。)、C1〜C6
アルキル基、フェニル基(該フェニル基は、C1〜C6ア
ルキル基、C1〜C6アルコキシ基、シアノ基、ニトロ基
及びハロゲン原子で任意に置換されていてもよい。)及
びベンジル基(該ベンジル基は、C1〜C6アルキル基、
C1〜C6アルコキシ基、シアノ基、ニトロ基及びハロゲ
ン原子で任意に置換されていてもよい。)を意味する。
Xは、アセトキシ基、トリフルオロ酢酸基、トリフルオ
ロメタンスルホニル基、シアノ基及びハロゲン原子を意
味する。*は不斉炭素を意味し、炭素原子の絶対配置は
RかSを示す。]で表される軸不斉を有する光学活性ビ
アリール型オキサゾリン−パラジウム錯体。 - 【請求項2】 A3とA4が、置換叉は無置換のナフチル
環を形成した請求項1記載の軸不斉を有する光学活性ビ
アリール型オキサゾリン−パラジウム錯体。 - 【請求項3】 Xがトリフルオロ酢酸基である請求項2
記載の軸不斉を有する光学活性ビアリール型オキサゾリ
ン−パラジウム錯体。 - 【請求項4】 Xが塩素原子である請求項2記載の軸不
斉を有する学活性ビアリール型オキサゾリン−パラジウ
ム錯体。 - 【請求項5】 W1がイソプロピル基である請求項3記
載の軸不斉を有する光学活性ビアリール型オキサゾリン
−パラジウム錯体。 - 【請求項6】 W1がフェニル基である請求項3記載の
軸不斉を有する光学活性ビアリール型オキサゾリン−パ
ラジウム錯体。 - 【請求項7】 W1がベンジル基である請求項3記載の
軸不斉を有する光学活性ビアリール型オキサゾリン−パ
ラジウム錯体。 - 【請求項8】 式(2) 【化2】 [式中、Zは、酸素原子、硫黄原子及びNH基を意味す
る。Rは、水素原子、C1〜C10アルキル基、C3〜C10
シクロアルキル基(該アルキル基及びシクロアルキル基
は、ハロゲン原子、C6〜C10芳香族基及び複素環基で
任意に置換されていてもよい。)、C6〜C10芳香族基
及び複素環基(該芳香族基及び複素環基は、C1〜C10
アルキル基、C1〜C10アルコキシ基、ハロゲン原子、
ニトロ基及びシアノ基で任意に置換されていてもよ
い。)を意味する。R1、R2、R3及びR4は、水素原
子、C1〜C10アルキル基、C1〜C10アルコキシ基、C
3〜C10シクロアルキル基(該アルキル基、アルコキシ
基及びシクロアルキル基は、ハロゲン原子、C6〜C10
芳香族基及び複素環基で任意に置換されていてもよ
い。)、C6〜C10芳香族基及び複素環基(該芳香族基
及び複素環基は、C1〜C10アルキル基、C1〜C10アル
コキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、C2〜
C10アルコキシカルボニル基及びC2〜C10アルカノイ
ル基で任意に置換されていてもよい。)、ハロゲン原
子、ニトロ基、シアノ基、C2〜C10アルコキシカルボ
ニル基及びC2〜C10アルカノイル基を意味する。nは
1〜3の整数を意味する。]で表されるオレフィン化合
物を、請求項1記載の軸不斉を持つ光学活性ビアリール
型オキサゾリン−パラジウム錯体の存在下、酸化するこ
とを特徴とする 式(3) 【化3】 [式中、*は、不斉炭素を意味し、炭素原子の絶対配置
はRかSを示す。Z、R、R1、R2、R3、R4及びn
は、前記に同じ。]で表される光学活性複素環化合物の
製造法。 - 【請求項9】 Zが酸素原子である請求項8記載の光学
活性複素環化合物の製造法。 - 【請求項10】 酸化剤がベンゾキノンである請求項8
記載の光学活性複素環化合物の製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9099959A JPH10287691A (ja) | 1997-04-17 | 1997-04-17 | パラジウム錯体触媒を用いる不斉ワッカー型環化反応 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9099959A JPH10287691A (ja) | 1997-04-17 | 1997-04-17 | パラジウム錯体触媒を用いる不斉ワッカー型環化反応 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10287691A true JPH10287691A (ja) | 1998-10-27 |
Family
ID=14261232
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9099959A Pending JPH10287691A (ja) | 1997-04-17 | 1997-04-17 | パラジウム錯体触媒を用いる不斉ワッカー型環化反応 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10287691A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7164026B2 (en) | 2002-11-15 | 2007-01-16 | Takasago International Corporation | Polymer-carrying optically active binaphthyl type oxazoline compound |
| JP2009522210A (ja) * | 2005-12-29 | 2009-06-11 | 上海交通大学 | 2,2’,6,6’−テトラオキサゾリンビフェニル配位子およびその調製方法 |
| CN114621295A (zh) * | 2022-03-23 | 2022-06-14 | 合肥工业大学智能制造技术研究院 | 一种手性噁唑啉钯配合物晶体及用途 |
-
1997
- 1997-04-17 JP JP9099959A patent/JPH10287691A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7164026B2 (en) | 2002-11-15 | 2007-01-16 | Takasago International Corporation | Polymer-carrying optically active binaphthyl type oxazoline compound |
| JP2009522210A (ja) * | 2005-12-29 | 2009-06-11 | 上海交通大学 | 2,2’,6,6’−テトラオキサゾリンビフェニル配位子およびその調製方法 |
| CN114621295A (zh) * | 2022-03-23 | 2022-06-14 | 合肥工业大学智能制造技术研究院 | 一种手性噁唑啉钯配合物晶体及用途 |
| CN114621295B (zh) * | 2022-03-23 | 2023-08-22 | 合肥工业大学智能制造技术研究院 | 一种手性噁唑啉钯配合物晶体及用途 |
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