JPH10293396A

JPH10293396A - 画像形成材料及び画像形成方法

Info

Publication number: JPH10293396A
Application number: JP9100216A
Authority: JP
Inventors: Katsura Hirai; 桂平井
Original assignee: Konica Minolta Inc
Current assignee: Konica Minolta Inc
Priority date: 1997-04-17
Filing date: 1997-04-17
Publication date: 1998-11-04

Abstract

(57)【要約】【課題】赤外感度が向上し、印刷における地汚れが防
止され、露光後の加熱処理を短縮することができる画像
形成材料及び画像形成方法を提供する。【解決手段】（１）支持体上に、活性光線の照射により
酸を発生し得る化合物、赤外線吸収剤及び下記〜の
何れかを含有する感光層を有する画像形成材料。シラ
ノール化合物、カルボン酸又はその誘導体を含む化合
物、及びヒドロキシル基を有する化合物、カチオン重
合性の二重結合を有する化合物、芳香族基を有する二
級又は三級アルコール、メチロール基、アルコキシメ
チル基又はアセトキシメチル基を有する芳香環を分子中
に有するアルカリ可溶性ポリマー、アミノプラスト、
安息香酸誘導体、脂環式又は複素環式アルコール。
（２）上記画像形成材料の感光層に赤外線を用いて画像
を描画し、加熱処理した後、アルカリ性現像液で未露光
部を除去する画像形成方法。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、赤外線による露光
で画像形成が可能な、活性光の照射により酸を発生する
化合物、酸の存在下で現像液に不溶化しうる化合物及び
赤外線吸収剤を含有するネガ型感光層を有する画像形成
材料及びそれを用いた画像形成方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】赤外線感光性のネガ型の感光層を有する
画像形成材料として、米国特許第５，３４０，６９９号
明細書には、酸発生剤、レゾール樹脂（架橋剤）、ノボ
ラック樹脂及び赤外線吸収剤を含有する感光層を有し、
画像露光の後、現像処理前に加熱処理を施すことにより
ネガ型の画像形成材料として使用され、上記加熱処理を
施さないとポジ型の画像形成材料として使用される技術
が開示されている。

【０００３】しかし、該画像形材料は、赤外線に対する
感度が十分でなく、半導体レーザ等による画像露光（描
画）に時間がかかる問題がある。また、現像性について
も、支持体上に色素が残存し印刷で地汚れが発生するな
どの問題がある。また、画像露光後の加熱処理に比較的
長時間を要する問題がある。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、第１
に、感度の向上した画像形成材料及び画像形成方法を提
供することであり、第２に印刷における地汚れが防止さ
れた画像形成材料及び画像形成方法を提供することであ
り、第３に露光後の加熱処理を短縮することができる画
像形成材料及び画像形成方法を提供することである。

【０００５】

【課題を解決するための手段】本発明の上記目的を達成
する本発明は下記（１）〜（９）である。

【０００６】（１）支持体上に、活性光線の照射により
酸を発生し得る化合物、赤外線吸収剤及びシラノール化
合物を含有する感光層を有することを特徴とする画像形
成材料。

【０００７】（２）支持体上に、活性光線の照射により
酸を発生し得る化合物、赤外線吸収剤、カルボン酸又は
その誘導体を含む化合物及びヒドロキシル基を有する化
合物を含有する感光層を有することを特徴とする画像形
成材料。

【０００８】（３）支持体上に、活性光線の照射により
酸を発生し得る化合物、赤外線吸収剤及びカチオン重合
性の二重結合を有する化合物を含有する感光層を有する
ことを特徴とする画像形成材料。

【０００９】（４）支持体上に、活性光線の照射により
酸を発生し得る化合物、赤外線吸収剤及び芳香族基を有
する二級又は三級アルコールを含有する感光層を有する
ことを特徴とする画像形成材料。

【００１０】（５）支持体上に、活性光線の照射により
酸を発生し得る化合物、赤外線吸収剤及びメチロール
基、アルコキシメチル基又はアセトキシメチル基を有す
る芳香環を分子中に有するアルカリ可溶性ポリマーを含
有する感光層を有することを特徴とする画像形成材料。

【００１１】（６）支持体上に、活性光線の照射により
酸を発生し得る化合物、赤外線吸収剤及びアミノプラス
トを含有する感光層を有することを特徴とする画像形成
材料。

【００１２】（７）支持体上に、活性光線の照射により
酸を発生し得る化合物、赤外線吸収剤及び下記一般式
（Ａ）で表される化合物を含有する感光層を有すること
を特徴とする画像形成材料。

【００１３】

【化２】

【００１４】〔式中、Ｒは水素原子、炭素数３以下のア
ルキル基、アリール基又はトリル基を表し、Ｒ₁、Ｒ₂、
Ｒ₃及びＲ₄は各々、水素原子、炭素数３以下のアルキル
基又は炭素数３以下のアルコキシ基を表す。〕（８）支持体上に、活性光線の照射により酸を発生し得
る化合物、赤外線吸収剤並びに脂環式アルコール及び／
又は複素環式アルコールを含有する感光層を有すること
を特徴とする画像形成材料。

【００１５】（９）上記（１）〜（８）のいずれか１項
に記載の画像形成材料の感光層に赤外線を用いて画像を
描画し、加熱処理した後、アルカリ性現像液で未露光部
を除去することを特徴とする画像形成方法。

【００１６】以下、本発明について詳述する。

【００１７】請求項１〜９に係る発明において、活性光
線の照射により酸を発生し得る化合物（以下「光酸発生
剤」という）としては、公知の化合物及び混合物を用い
ることができる。例えばジアゾニウム、ホスホニウム、
スルホニウム、及びヨードニウムのそれぞれＢＦ₄ ^-、Ｐ
Ｆ₆ ^-、ＳｂＦ₆ ^-、ＳｉＦ₆ ^2-、ＣｌＯ₄ ^-等の塩、有機ハ
ロゲン化合物、オルトキノン−ジアジドスルホニルクロ
リド、及び有機金属／有機ハロゲン化合物も活性光線の
照射の際に酸を形成又は分離する活性光線感光性成分で
あり、本発明において光酸発生剤として使用することが
できる。原理的には遊離基形成性の光開始剤として知ら
れるすべての有機ハロゲン化合物は、ハロゲン化水素酸
を形成する化合物で、本発明の画像形成材料の光酸発生
剤として使用することができる。

【００１８】前記のハロゲン化水素酸を形成する化合物
の例としては、米国特許第３，５１５，５５２号、同第
３，５３６，４８９号及び同第３，７７９，７７８号及
び西ドイツ国特許公開公報第２，２４３，６２１号に記
載されている化合物が挙げられ、また、例えば西ドイツ
国特許公開公報第２，６１０，８４２号に記載の光分解
により酸を発生させる化合物も使用することができる。

【００１９】また、特開昭５０−３６２０９号公報に記
載されているｏ−ナフトキノンジアジド−４−スルホン
酸ハロゲニドを用いることができる。

【００２０】請求項１〜９に係る発明において、光酸発
生剤としては有機ハロゲン化合物が赤外線露光による画
像形成における感度及び画像形成材料の保存性の面から
好ましい。該有機ハロゲン化合物としては、ハロゲン置
換アルキル基を有するトリアジン類及びハロゲン置換ア
ルキル基を有するオキサジアゾール類が好ましく、ハロ
ゲン置換アルキル基を有するｓ−トリアジン類が特に好
ましい。

【００２１】ハロゲン置換アルキル基を有するオキサジ
アゾール類の具体例としては、特開昭５４−７４７２８
号、特開昭５５−２４１１３号、特開昭５５−７７７４
２号、特開昭６０−３６２６号及び特開昭６０−１３８
５３９号各公報に記載の２−ハロメチル−１，３，４−
オキサジアゾール系化合物が挙げられる。２−ハロメチ
ル−１，３，４−オキサジアゾール系光酸発生剤の好ま
しい化合物例を下記に挙げる。

【００２２】

【化３】

【００２３】上記ハロゲン置換アルキル基を有するｓ−
トリアジン類としては、下記一般式（１）で表される化
合物が好ましい。

【００２４】

【化４】

【００２５】一般式（１）において、Ｒはアルキル基、
ハロゲン置換アルキル基、アルコキシ基で置換されてい
てもよいフェニルビニレン基又はアリール基（例えばフ
ェニル基、ナフチル基等）若しくはその置換体を表し、
Ｘはハロゲン原子を表す。

【００２６】一般式（１）で表されるｓ−トリアジン系
光酸発生剤の化合物例を次に示す。

【００２７】

【化５】

【００２８】

【化６】

【００２９】請求項１〜９に係る発明において、光酸発
生剤の含有量は、その化学的性質及び本発明の画像形成
材料の感光層の組成あるいは物性によって広範囲に変え
ることができるが、感光層の固形分の全重量に対して約
０．１〜約２０重量％の範囲が適当であり、好ましくは
０．２〜１０重量％の範囲である。

【００３０】請求項１〜９に係る発明において、赤外線
吸収剤としては、波長７００ｎｍ以上に吸収を持つ赤外
吸収色素、カーボンブラック、磁性粉等を使用すること
ができる。特に好ましい赤外線吸収剤は７００〜８５０
ｎｍに吸収ピークを有し、ピークでのモル吸光係数εが
１０⁵以上である赤外吸収色素である。

【００３１】上記赤外吸収色素としては、シアニン系色
素、スクアリリウム系色素、クロコニウム系色素、アズ
レニウム系色素、フタロシアニン系色素、ナフタロシア
ニン系色素、ポリメチン系色素、ナフトキノン系色素、
チオピリリウム系色素、ジチオール金属錯体系色素、ア
ントラキノ系色素、インドアニリン金属錯体系色素、分
子間ＣＴ色素等が挙げられる。

【００３２】また、上記赤外吸収色素として、特開昭６
３−１３９１９１号、同６４−３３５４７号、特開平１
−１６０６８３号、同１−２８０７５０号、同１−２９
３３４２号、同２−２０７４号、同３−２６５９３号、
同３−３０９９１号、同３−３４８９１号、同３−３６
０９３号、同３−３６０９４号、同３−３６０９５号、
同３−４２２８１号、同３−１０３４７６号等に記載の
化合物が挙げられる。

【００３３】赤外線吸収剤として、下記一般式（２）又
は（３）で表されるシアニン染料が特に好ましい。

【００３４】

【化７】

【００３５】一般式（２）及び（３）において、Ｚ₁及
びＺ₂は各々硫黄原子、セレン原子又は酸素原子を表
し、Ｘ₁及びＸ₂は各々置換基を有していてもよいベンゾ
縮合環又はナフト縮合環を形成するのに必要な非金属原
子群を表し、Ｒ₃及びＲ₄は各々置換基を表し、Ｒ₃及び
Ｒ₄のどちらか一方はアニオン性解離性基を有する。
Ｒ₅、Ｒ₆、Ｒ₇及びＲ₈は各々炭素原子数１〜３のアルキ
ル基、水素原子又はハロゲン原子を表す。Ｌは炭素原子
数５〜１３の共役結合の連鎖を表す。

【００３６】一般式（２）又は（３）で表されるシアニ
ン色素は、前記一般式（２）又は（３）がカチオンを形
成し、対アニオンを有するものを包含する。この場合、
対アニオンとしては、Ｃｌ^-、Ｂｒ^-、ＣｌＯ₄ ^-、Ｂ
Ｆ₄ ^-、ｔ−ブチルトリフェニルホウ素等のアルキルホウ
素等が挙げられる。

【００３７】一般式（２）及び（３）において、Ｌで表
される共役結合の連鎖の炭素原子数（ｎ）は、画像露光
の光源として赤外線を放射するレーザーが使用される場
合、該レーザーの発信波長に合わせて有効な値を選択す
ることが好ましい。例えば、発信波長１０６０ｎｍのＹ
ＡＧレーザーを使用する場合は、ｎは９〜１３が好まし
い。また、この共役結合部分は任意の置換基を有するこ
とができ、また、共役結合部分は複数の置換基により環
を形成させてもよい。

【００３８】一般式（２）及び（３）において、Ｘ₁で
表される環及びＸ₂で表される環には任意の置換基を有
することができる。該置換基としてハロゲン原子、炭素
原子数１〜５のアルキル基、炭素原子数１〜５のアルコ
キシ基、−ＳＯ₃Ｍ及び−ＣＯＯＭ（Ｍは水素原子又は
アルカリ金属原子）から選ばれる基が好ましい。

【００３９】Ｒ₃及びＲ₄は各々任意の置換基であるが、
好ましくは、炭素原子数１〜５のアルキル基若しくは炭
素原子数１〜５のアルコキシ基；−（ＣＨ₂）_n−Ｏ−）
_k−（ＣＨ₂）_mＯＲ（ｎ及びｍは各々１〜３の整数、ｋ
は０又は１、Ｒは炭素原子数１〜５のアルキル基を表
す。）；Ｒ₃及びＲ₄の一方が−Ｒ−ＳＯ₃Ｍで他方が−
Ｒ−ＳＯ₃ ^-（Ｒは炭素原子数１〜５のアルキル基、Ｍは
アルカリ金属原子を表す）；又はＲ₃及びＲ₄の一方が−
Ｒ−ＣＯＯＭで他方が−Ｒ−ＣＯＯ^-（Ｒは炭素原子数
１〜５のアルキル基、Ｍはアルカリ金属原子を表す。）
である。Ｒ₃及びＲ₄は、感度及び現像性の点から、Ｒ₃
及びＲ₄の一方が−Ｒ−ＳＯ₃ ^-又は−Ｒ−ＣＯＯ^-、他方
が−Ｒ−ＳＯ₃Ｍ又は−Ｒ−ＣＯＯＭであることが好ま
しい。

【００４０】一般式（２）又は（３）で表されるシアニ
ン色素は、画像露光の光源として半導体レーザーを使用
する場合は７５０〜９００ｎｍにおいて、ＹＡＧレーザ
ーを使用する場合は９００〜１２００ｎｍにおいて吸収
ピークを示し、ε＞１×１０⁵のモル吸光係数を有する
ものが好ましい。

【００４１】好ましく用いられる赤外線吸収剤の代表的
具体例を以下に挙げるが、これらに限定されるものでは
ない。

【００４２】

【化８】

【００４３】

【化９】

【００４４】

【化１０】

【００４５】

【化１１】

【００４６】

【化１２】

【００４７】

【化１３】

【００４８】

【化１４】

【００４９】

【化１５】

【００５０】

【化１６】

【００５１】

【化１７】

【００５２】

【化１８】

【００５３】

【化１９】

【００５４】

【化２０】

【００５５】

【化２１】

【００５６】これらの色素は公知の方法によって合成す
ることができるが、下記のような市販品を用いることも
できる。

【００５７】日本化薬：ＩＲ７５０（アントラキノン
系）；ＩＲ００２，ＩＲ００３（アルミニウム系）；Ｉ
Ｒ８２０（ポリメチン系）；ＩＲＧ０２２，ＩＲＧ０３
３（ジインモニウム系）；ＣＹ−２，ＣＹ−４，ＣＹ−
９，ＣＹ−２０三井東圧：ＫＩＲ１０３，ＳＩＲ１０３（フタロシアニ
ン系）；ＫＩＲ１０１，ＳＩＲ１１４（アントラキノン
系）；ＰＡ１００１，ＰＡ１００５，ＰＡ１００６，Ｓ
ＩＲ１２８（金属錯体系）大日本インキ化学：Ｆａｓｔｏｇｅｎｂｌｕｅ８１２
０みどり化学：ＭＩＲ−１０１，１０１１，１０２１その他、日本感光色素、住友化学、富士写真フィルム等
の各社からも市販されている。

【００５８】赤外線吸収剤の添加量は、０．５〜１０ｗ
ｔ％の範囲が好ましい。

【００５９】請求項１に係る発明の感光層に含有させる
シラノール化合物は、シリコン原子１個当たり、シリコ
ン原子に結合したヒドロキシル基を平均して１個以上有
するものである。ここに平均とは、例えば化合物中にヒ
ドロキシル基が結合していないシリコン原子が１個あっ
ても、ヒドロキシル基が２個結合しているシリコン原子
が１個あれば同様な効果が得られることである。このよ
うなシラノール化合物として、例えば、ジフェニルシラ
ンジオール、トリフェニルシラノール、シス−（１，
３，５，７−テトラヒドロキシ）−１，３，５，７−テ
トラフェニルシクロテトラシロキサン等を用いることが
できる。

【００６０】シラノール化合物の量は、５〜７０重量％
の範囲であることが好ましい。

【００６１】請求項２に係る発明において感光層が含有
するカルボン酸又はカルボン酸誘導体としてはケイ皮
酸、安息香酸、トリル酢酸、トルイル酸、イソフタル酸
等の芳香族カルボン酸、イソフタル酸ジメチル、イソフ
タル酸ジ−ｔ−ブチル等の芳香族エステル、無水グルタ
ル酸、無水コハク酸、無水安息香酸等の酸無水物、スチ
レン−無水マレイン酸共重合体、スチレン−メタクリル
酸共重合体等の共重合体が挙げられる。

【００６２】請求項２に係る発明において感光層が含有
するヒドロキシル基を有する化合物としては、グリセリ
ン等の多価アルコール、ポリｐ−ヒドロキシスチレン、
ｐ−ヒドロキシスチレン・スチレン共重合体、ノボラッ
ク樹脂等の高分子化合物が挙げられる。

【００６３】請求項２に係る発明における感光層におい
て、カルボン酸又はその誘導体とヒドロキシル基を有す
る化合物との組成比は当量比で１：３０〜３０〜１の範
囲であることが好ましい。

【００６４】請求項２に係る発明においては、ヒドロキ
シル基を有する化合物及びカルボン酸又はその誘導体の
一方が高分子化合物である場合がある。ヒドロキシル基
を有する化合物が高分子化合物であるとき、この高分子
化合物１００に対しカルボン酸又はその誘導体を重量比
で１〜５０の範囲の量を用いることが好ましい。またカ
ルボン酸又はその誘導体が高分子化合物であるとき、こ
の高分子化合物１００に対しヒドロキシル基を有する化
合物を重量比で１〜２０の範囲の量を用いることが好ま
しい。

【００６５】請求項２に係る発明において、塗膜形成性
の点から、カルボン酸及びヒドロキシル基を有する化合
物の少なくともどちらかが高分子化合物であることが好
ましい。しかし、両者が低分子であっても、高分子化合
物を混合する等の方法で、塗膜形成を可能とすればよ
い。該高分子化合物としては、前記請求項１におけるア
ルカリ可溶性ポリマーが好ましいものとして挙げられ
る。

【００６６】また、請求項２に係る発明においては、ヒ
ドロキシル基を有する化合物とカルボン酸又はカルボン
酸誘導体の両方を同時に有する高分子化合物を用いるこ
とができる。この高分子化合物としてはヒドロキシル基
を有するｐ−ヒドロキシスチレンとカルボン酸又はカル
ボン酸誘導体であるメタクリル酸メチル等のメタクリル
酸エステル、アクリル酸メチル等のアクリル酸エステ
ル、無水マレイン酸、メタクリル酸、アクリル酸等のモ
ノマーの共重合体を用いることができる。

【００６７】これらの高分子化合物の重量平均分子量
は、１０００から５００００の範囲内であることが望ま
しい。分子量が１０００未満であると十分な耐熱性や塗
布特性が得られない。また分子量が５００００を越える
とアルカリ水溶液への溶解性が十分でなく、膨潤による
パターンの変形が認められるので高解像性が得られな
い。

【００６８】カルボン酸又はその誘導体、及びヒドロキ
シル基を有する化合物の量は、５〜５０重量％の範囲で
あることが好ましい。

【００６９】請求項３に係る発明において、感光層に含
有させるカチオン重合性の二重結合を有する化合物とし
てはｐ−ジイソプロペニルベンゼン、ｍ−ジイソプロペ
ニルベンゼン、ジフェニルエチレン、インデノン、アセ
ナフテン、２−ノルボルネン、２，５−ノルボルナジエ
ン、２，３−ベンゾフラン、インドール、５−メトキシ
インドール、５−メトキシ−２−メチルインドール、Ｎ
−ビニル−２−ピロリドン、Ｎ−ビニルカルバゾールで
表される群から選ばれた少なくとも一種類の化合物を挙
げることができる。

【００７０】カチオン性二重結合を有する化合物の量
は、５〜５０重量％の範囲であることが好ましい。

【００７１】請求項４に係る発明において、芳香族基を
有する２級又は３級アルコールとしては、例えばビフェ
ニル誘導体、ナフタレン誘導体及びトリフェニル誘導体
が挙げられ、具体的には、下記一般式（５）〜（８）で
表される化合物が挙げられる。

【００７２】

【化２２】

【００７３】一般式（５）〜（８）において、Ｒ₁及び
Ｒ₂は、同一でも異なっていてもよく、各々水素原子、
メチル基又はエチル基を表し、Ｘは水素原子、ハロゲン
原子、メチル基又はメトキシ基を表し、Ｙは、−ＳＯ₂
−、−ＣＨ₂−、−Ｓ−、−Ｃ（ＣＨ₃）₂−を表し、ｎ
は１又は２を表す。

【００７４】具体的化合物としては、例えば、４，４′
−ビス（α−ヒドロキシイソプロピル）ビフェニル、
３，３′−ビス（α−ヒドロキシイソプロピル）ビフェ
ニル、２，４，２′，４′−テトラ（α−ヒドロキシイ
ソプロピル）ビフェニル、３，５，３′，５′−テトラ
（α−ヒドロキシイソプロピル）ビフェニル、４，４′
−ビス（α−ヒドロキシイソプロピル）ビフェニルスル
ホン、３，３′−ビス（α−ヒドロキシイソプロピル）
ビフェニルスルホン、４，４′−ビス（α−ヒドロキシ
イソプロピル）ビフェニルメタン、３，３′−ビス（α
−ヒドロキシイソプロピル）ビフェニルメタン、４，
４′−ビス（α−ヒドロキシイソプロピル）ビフェニル
スルフィド、３，３′−ビス（α−ヒドロキシイソプロ
ピル）ビフェニルスルフィド、２，２−ビス（４−α−
ヒドロキシイソプロピルフェニル）プロパン、２，２−
ビス（３−α−ヒドロキシイソプロピルフェニル）プロ
パンなどがある。ナフタレン誘導体は１，５−ビス（１
−ヒドロキシプロピル）ナフタレン、２，６−ビス（α
−ヒドロキシプロピル）ナフタレンなどがある。トリフ
ェニル誘導体はトリス（４−α−ヒドロキシイソプロピ
ルフェニル）メタン、トリス（３−α−ヒドロキシイソ
プロピルフェニル）メタン、１，１，１−トリス（４−
α−ヒドロキシイソプロピルフェニル）エタン、１，
１，１−トリス（３−α−ヒドロキシイソプロピルフェ
ニル）エタンなどがある。

【００７５】芳香族基を有する二級又は三級アルコール
として、下記一般式（９）〜（１１）で表される化合物
を挙げることができる。

【００７６】

【化２３】

【００７７】一般式（９）において、Ｒ₁及びＲ₂は同一
でも異なっていてもよく、各々水素原子、ハロゲン原子
又はメトキシ基を表し、Ｒ₃は水素原子、フェニル基又
はシクロプロピル基を表す。

【００７８】一般式（１０）において、Ｒ₄及びＲ₅は同
一でも異なっていてもよく、各々水素原子又はフェニル
基を表す。

【００７９】一般式（１１）において、Ａは炭素数４以
下のアルキル基又はメチロール基を表す。

【００８０】本発明で用いられる芳香環に直接結合した
炭素にヒドロキシル基を有する二級又は三級アルコール
には、フェニルメタノール誘導体、芳香環を有する脂環
式アルコール等がある。

【００８１】このフェニルメタノール誘導体としては、
例えばジフェニルメタノール、４，４′−ジフルオロジ
フェニルメタノール、４，４′−ジクロロ−ジフェニル
メタノール、４，４′−ジメチル−ジフェニルメタノー
ル、４，４′−ジメトキシジフェニルメタノール、トリ
フェニルメタノール、α−（４−ピリジル）−ベンズヒ
ドロール、ベンジルフェニルメタノール、１，１−ジフ
ェニルエタノール、シクロプロピルジフェニルメタノー
ル、１−フェニルエチルアルコール、２−フェニル−２
−プロパノール、２−フェニル−２−ブタノール、１−
フェニル−１−ブタノール、２−フェニル−３−ブチン
−２−オール、１−フェニル−１−プロパノール、１，
２−ジフェニルエチレングリコール、テトラフェニルエ
チレングリコール、２，３−ジフェニル−２，３−ブタ
ンジオール、α−ナフトールベンゼイン、α，α′−ジ
ヒドロキシ−ｐ−ジイソプロピルベンゼン、α，α′−
ジヒドロキシ−ｍ−ジイソプロピルベンゼン等が挙げら
れる。

【００８２】また、芳香環を有する脂環式アルコールと
しては、１−インダノール、２−ブロモインダノール、
クロマノール、９−フルオレノール、９−ヒドロキシ−
３−フルオレン、９−ヒドロキシキサンテン、１−アセ
ナフテノール、９−ヒドロキシ−３−ニトロフルオレ
ン、チオクロマン−４−オール、９−フェニルキサンテ
ン−９−オール、１，５−ジヒドロキシ−１，２，３，
４−テトラヒドロナフタレン、ジベンゾスベレノール、
ジベンゾスベロール等が挙げられる。

【００８３】さらに、上記の他に、請求項４に係る発明
に用いられる二級又は三級アルコールとして１−（９−
アンスリル）エタノール、２，２，２−トリフルオロ−
１−（９−アンスリル）エタノール、１−ナフチルエタ
ノール等が挙げられる。

【００８４】請求項５に係る発明において、感光層に含
有させるメチロール基、アルコキシメチル基又はアセト
キシメチル基を有する芳香環を分子中に有するアルカリ
可溶性ポリマーとしては、下記一般式（１２）で表され
る化合物の芳香環上の水素原子を１又は２除いた基を分
子中に有するポリマーが挙げられる。

【００８５】

【化２４】

【００８６】一般式（１２）において、Ｘはメチロール
基、炭素数１〜５のアルコキシメチル基又はアセトキシ
メチル基を表す。Ｙはアルキル基、ヒドロキシル基、ハ
ロゲン原子、水素原子又はアルコキシ基を表す。

【００８７】さらに、請求項５に係る発明の感光層に含
有させるアルカリ可溶性ポリマーとしては、下記一般式
（１３）又は（１４）で表される繰り返し単位を有する
高分子化合物が好ましい。

【００８８】

【化２５】

【００８９】一般式（１３）及び（１４）において、Ｒ
₁はアルキル基、水素原子、ハロゲン原子又はシアノ基
を表し、Ｌは単結合、−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯＮ
Ｒ₃−、−ＣＯＮＲ₃ＣＯ−、−ＣＯＮＲ₃ＳＯ₂−、−Ｎ
Ｒ₃−、−ＮＲ₃ＣＯ−、−ＮＲ₃ＳＯ₂−、−ＳＯ₂−、
−ＳＯ₂ＮＲ₃−又は−ＳＯ₂ＮＲ₃ＣＯ−（Ｒ₃は水素原
子、アルキル基、アラルキル基又は芳香環基を表す）を
表す。Ｘ及びＹは一般式（１２）のＸ及びＹと同義であ
る。

【００９０】上記一般式（１３）又は（１４）で表され
る繰り返し単位は、ビニルベンジルアルコール、α−メ
チルビニルベンジルアルコール、ビニルベンジルアセテ
ート、α−メチルビニルベンジルアセテート、ｐ−メト
キシスチレン、４−メチロールフェニルメタクリルアミ
ド等のモノマーと共重合させるのが好ましい。

【００９１】請求項６に係る発明において、感光層に含
有させるアミノプラストとしては、下記一般式（１５）
で表される化合物が好ましい。

【００９２】

【化２６】

【００９３】一般式（１５）において、Ｚは−ＮＲＲ′
又はフェニル基を表す。Ｒ、Ｒ′、Ｒ₁₀〜Ｒ₁₃は各々水
素原子、−ＣＨ₂ＯＨ、−ＣＨ₂ＯＲ_a又は−ＣＯ−ＯＲ_a
を表す。Ｒ_aはアルキル基を表す。

【００９４】一般式（１５）で表されるメラミン又はベ
ンゾグアナミンは市販品として簡単に入手でき、またそ
れらのメチロール体はメラミン又はベンソグアナミンと
ホルマリンとの縮合によって得られる。また、エーテル
類はメチロール体を公知の方法により各種アルコールで
変性することにより得られる。一般式（１５）のＲ_aで
示されるアルキル基としては、直鎖又は分岐していても
よい炭素数１〜４のアルキル基が好ましい。

【００９５】一般式（１５）で表される化合物の具体例
としては下記等が挙げられるが、これらに限定されるも
のではない。

【００９６】

【化２７】

【００９７】

【化２８】

【００９８】請求項６に係る発明において、感光層に含
有させるアミノプラストとして、下記一般式（１６）で
表される化合物、下記一般式（１７）で表されるような
結合を介して複数のトリアジン核が結合したメラミン樹
脂、及び下記一般式（１８）又は（１９）で表される化
合物も使用することができる。

【００９９】

【化２９】

【０１００】一般式（１６）〜（１９）において、Ｒは
水素原子又は炭素数１〜４のアルキル基を表す。

【０１０１】請求項７に係る発明において、前記一般式
（Ａ）で表される化合物として、ｏ−アセチル安息香
酸、ｏ−アルデヒド安息香酸、ｏ−ベンゾイル安息香
酸、ｏ−トルオイル安息香酸、ｏ−アセトキシ安息香酸
を用いることが望ましい。

【０１０２】感光層中の一般式（Ａ）で表される化合物
の含有量は５〜５０重量％の範囲が適当であり、好まし
くは１０〜３０重量％である。

【０１０３】請求項８に係る発明で用いられる脂環式ア
ルコールとしては、例えば、２−アダマンタノール、２
−メチル−２−アダマンタノール、２−エチル−２−ア
ダマンタノール、２−プロピル−２−アダマンタノー
ル、２−ブチル−２−アダマンタノール、ｅｘｏ−ノル
ボルネオール、ｅｎｄｏ−ノルボルネオール、ボルネオ
ール、ＤＬ−イソボルネオール、テルピネン−４−オー
ル、Ｓ−シス−ベルベノール、イソピノカンフェノー
ル、ピナンジオール等が挙げられる。

【０１０４】複素環式アルコールとしては、例えば１，
４−ジオキサン−２，３−ジオール、５−メチル−１，
４−ジオキサン−２，３−ジオール、５，６−ジメチル
−１，４−ジオキサン−２，３−ジオール、ＤＬ−ｅｘ
ｏ−ヒドロキシトロピノン、４−ヒドロキシ−４−フェ
ニルピペリジン、３−キヌシリジノール、４−クロマノ
ール、チオクロマン−４−オール、ＤＬ−マバロン酸ラ
クトン等が挙げられる。複素環式アルコールは、複素環
にＯ又はＳを含むものが好ましい。

【０１０５】請求項８に係る発明においては、上記アル
コールとして、脂環式アルコール、複素環式アルコール
の他に、さらに２級又は３級アルコールを加えて用いて
もよい。

【０１０６】感光層中の脂環式又は複素環式アルコール
の含有量は５〜５０重量％が適当であり、好ましくは１
０〜３０重量％である。

【０１０７】請求項１〜６に係る発明の画像形成材料の
感光層にはアルカリ可溶性ポリマーを含有させることが
好ましい。アルカリ可溶性ポリマーとしては、例えばノ
ボラック樹脂やヒドロキシスチレン単位を有する重合体
や後記する一般式（４）で表される構造単位を有する重
合体、その他公知のアクリル樹脂等を挙げることができ
る。

【０１０８】上記ノボラック樹脂としては、例えばフェ
ノール・ホルムアルデヒド樹脂、クレゾール・ホルムア
ルデヒド樹脂、特開昭５５−５７８４１号公報に記載さ
れているようなフェノール・クレゾール・ホルムアルデ
ヒド共重縮合体樹脂、特開昭５５−１２７５５３号公報
に記載されているようなｐ−置換フェノールとフェノー
ル若しくはクレゾールとホルムアルデヒドとの共重縮合
体樹脂等が挙げられる。ノボラック樹脂は感光層に対し
て２０〜８０重量％の範囲で含有させることが好まし
い。

【０１０９】ヒドロキシスチレン単位を有する重合体と
しては、例えば特公昭５２−４１０５０号公報に記載さ
れているポリヒドロキシスチレンやヒドロキシスチレン
共重合体等を挙げることができる。

【０１１０】一般式（４）で表される構造単位を有する
重合体とは、該構造単位のみの繰り返し構造を有する単
独重合体、あるいは該構造単位と他のビニル系単量体の
不飽和二重結合を開裂せしめた構造で示される構造単位
１種以上とを組み合わせた共重合体である。

【０１１１】

【化３０】

【０１１２】一般式（４）において、Ｒ₁及びＲ₂は各
々、水素原子、メチル基やエチル基などのアルキル基又
はカルボキシル基を表し、好ましくは水素原子である。
Ｒ₃は水素原子、塩素原子や臭素原子等のハロゲン原子
又はメチル基、エチル基等のアルキル基を表し、好まし
くは水素原子又はメチル基である。Ｒ₄は水素原子、メ
チル基やエチル基等のアルキル基、フェニル基又はナフ
チル基を表す。

【０１１３】Ｙは置換基を有するものも含むフェニレン
基又はナフチレン基を表し、置換基としてはメチル基や
エチル基等のアルキル基、塩素原子や臭素原子等のハロ
ゲン原子、カルボキシル基、メトキシ基やエトキシ基等
のアルコキシ基、ヒドロキシル基、スルホ基、シアノ
基、ニトロ基、アシル基等が挙げられるが、好ましくは
置換基を有しないか、あるいはメチル基で置換されてい
るものである。Ｘは窒素原子と芳香族炭素原子とを連結
する２価の有機基で、ｎは０〜５の整数を表し、好まし
くはｎが０のときである。

【０１１４】一般式（４）で表される構造単位を有する
重合体は、さらに具体的に、例えば下記（ａ）〜（ｆ）
で表すことができる。

【０１１５】

【化３１】

【０１１６】（ａ）〜（ｆ）において、Ｒ₁〜Ｒ₅はそれ
ぞれ水素原子、アルキル基又はハロゲン原子を表し、Ｘ
はアルキル基又はハロゲン原子を表す。またｍ、ｎ、
ｌ、ｋ及びｓはそれぞれの構造単位のモル％を表す。

【０１１７】また、ノボラック樹脂、ヒドロキシスチレ
ン単位を有する重合体、一般式（４）で表される構造単
位を有する重合体及びアクリル樹脂を併用することもで
きる。

【０１１８】上記アクリル樹脂は、アクリル酸、メタク
リル酸、又はこれらのエステル類を構成単位とする重合
体であり、好ましくは前記一般式（４）で表される単量
体単位を有する重合体である。

【０１１９】アルカリ可溶性ポリマーは感光層に対して
２０〜８０重量％の範囲で含有させることが好ましい。

【０１２０】請求項１〜６に係る発明の画像形成材料の
感光層には下記文献に記載の不溶化剤を併用することが
できる。特開平２−２５８５０号、特開平２−１２０３
６６号、特開平２−１５０８４６号、特開平２−１７０
１６５号、特開平２−１７３６４７号、特開平２−２４
４７８９号、特開平２−２４５７５６号、特開平３−１
７９３５５号、特開平３−１９２３６１号、特開平４−
４２１５８号、特開平４−５１２４３号、特開平４−２
８７０４３号、特開平５−６６５６２号、特開平５−１
２７３７１号、特開平５−１４２７７４号、特開平５−
１４８７７４号、特開平５−１８８５９７号、特開平５
−３１３３７２号、特開平５−３４１５２９号、特開平
６−５１５１７号、特開平６−２６６１０８号、特開平
６−３４８０１５号、特開平７−２８２４６号、特開平
７−７７８０２号、特開平７−１０４４７３号、特開平
７−１２０９２８号、特開平７−１４０６６１号、特開
平７−２１９２２６号、特開平７−２２５４８０号、特
開平７−２３９５４７号、特開平７−２４８６２４号、
特開平７−３１１４６７号、特開平８−６２５１号、特
開平８−６２８３２号、特開平８−９５２４８号、特開
平８−１１０６３８号、特開平８−１４６６０９号、特
開平８−２４０９０７号、特開平８−２５４８１９号、
特開平８−２９２５６０号、特開平８−２９２５６１
号、特開平９−６１９９５号、特開平４−１６５３５９
号、特開平３−１５６４６３号、特開平７−１５９９９
３号、特開平７−１５９９９２号、特開平５−１９４７
９号、特開平５−１５０４５４号、特開平４−２６９７
５４号、特開平４−２１６５５６号、特開平５−１８１
２６５号、特開平８−１９０１９１号、特開平８−３２
０５６３号、特開平８−３２８２５６号各公報。

【０１２１】請求項１〜８に係る発明の画像形成材料の
感光層には上記各公報に記載の増感剤、安定化剤及び光
酸発生剤の技術を適用することができる。

【０１２２】請求項１〜８に係る発明の画像形成材料の
感光層は、ノニオン界面活性剤を含有させることができ
る。ノニオン界面活性剤としては、ポリオキシエチレン
アルキルエーテル、ポリオキシエチレンアルキルアリル
エーテル、ポリオキシエチレン誘導体、オキシエチレン
・オキシプロピレンブロックコポリマー、ソルビタン脂
肪酸エステル、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エ
ステル、ポリオキシエチレンソルビトール脂肪酸エステ
ル、グリセリン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレン脂
肪酸エステル、ポリオキシエチレンアルキルアミン、ア
ルキルアルカノールアミド、ポリエチレングリコール等
が挙げられる。ノニオン界面活性剤は感光層に対して
０．０１〜１０重量％の範囲で含有させることが好まし
い。

【０１２３】更に、請求項１〜８に係る発明の感光層に
は、感光層の感脂性を向上するために親油性の樹脂を添
加することができる。親油性の樹脂としては、例えば、
特開昭５０−１２５８０６号公報に記載されているよう
な、炭素数３〜１５のアルキル基で置換されたフェノー
ル類とアルデヒドの縮合物、例えばｔ−ブチルフェノー
ルホルムアルデヒド樹脂などが使用可能である。

【０１２４】請求項１〜８に係る発明の画像形成材料の
感光層には、必要に応じて更に上記以外の色素、顔料、
増感剤等を含有させることができる。

【０１２５】請求項１〜８に係る発明の画像形成材料
は、感光層を形成する各成分を溶媒に溶解させて、適当
な支持体の表面に塗布し乾燥することにより感性層を設
けて製造することができる。

【０１２６】上記溶媒としては、プロピレングリコール
モノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチル
エーテル、メチルセロソルブ、メチルセロソルブアセテ
ート、エチルセロソルブ、エチルセロソルブアセテー
ト、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、ジ
オキサン、アセトン、シクロヘキサノン、トリクロロエ
チレン、メチルエチルケトン等が挙げられる。これら溶
媒は、単独であるいは２種以上混合して使用する。

【０１２７】塗布方法は、従来公知の方法、例えば、回
転塗布、ワイヤーバー塗布、ディップ塗布、エアーナイ
フ塗布、ロール塗布、ブレード塗布及びカーテン塗布等
が可能である。塗布量は用途により異なるが、例えば、
感光性平版印刷版の場合は固形分として０．５〜５．０
ｇ／ｍ²が好ましい。

【０１２８】請求項１〜８に係る発明において、支持体
としては、アルミニウム、亜鉛、鋼、銅等の金属板、並
びにクロム、亜鉛、銅、ニッケル、アルミニウム、鉄等
がメッキ又は蒸着された金属板、紙、プラスチックフィ
ルム及びガラス板、樹脂が塗布された紙、アルミニウム
等の金属箔が張られた紙、親水化処理したプラスチック
フィルム等が挙げられる。

【０１２９】請求項１〜８に係る発明を感光性平版印刷
版に適用するとき、支持体として砂目立て処理、陽極酸
化処理及び必要に応じて封孔処理等の表面処理等が施さ
れているアルミニウム板を用いることが好ましい。これ
らの処理には公知の方法を適用することができる。

【０１３０】砂目立て処理の方法としては、例えば機械
的方法、電解によりエッチングする方法が挙げられる。
機械的方法としては、例えばボール研磨法、ブラシ研磨
法、液体ホーニングによる研磨法、バフ研磨法等が挙げ
られる。アルミニウム材の組成等に応じて上述の各種方
法を単独あるいは組合わせて用いることができる。

【０１３１】電解によりエッチングするには、リン酸、
硫酸、塩酸、硝酸等の無機の酸を単独ないし２種以上混
合した浴を用いて行われる。砂目立て処理の後、必要に
応じてアルカリあるいは酸の水溶液によってデスマット
処理を行い中和して水洗する。

【０１３２】陽極酸化処理は、電解液として、硫酸、ク
ロム酸、シュウ酸、リン酸、マロン酸等を１種又は２種
以上含む溶液を用い、アルミニウム板を陽極として電解
して行われる。形成された陽極酸化被膜量は１〜５０ｍ
ｇ／ｄｍ²が適当であり、好ましくは１０〜４０ｍｇ／
ｄｍ²であり、特に好ましくは２５〜４０ｍｇ／ｄｍ²で
ある。陽極酸化被膜量は、例えばアルミニウム板をリン
酸クロム酸浴液（リン酸８５％液：３５ｍｌ、酸化クロ
ム（ＩＶ）：２０ｇを１ｌの水に溶解して作製）に浸漬
し、酸化被膜を溶解し、板の被膜溶解前後の重量変化測
定から求められる。

【０１３３】封孔処理は、沸騰水処理、水蒸気処理、ケ
イ酸ソーダ処理、重クロム酸塩水溶液処理等が具体例と
して挙げられる。この他にアルミニウム板支持体に対し
て、水溶性高分子化合物や、フッ化ジルコン酸等の金属
塩の水溶液による下引き処理を施すこともできる。

【０１３４】請求項１〜８に係る発明の画像形成材料
は、画像露光に赤外線を用いる。赤外光源としては、半
導体レーザー、Ｈｅ−Ｎｅレーザー、ＹＡＧレーザー、
炭酸ガスレーザー等が挙げられる。出力は５０ｍＷ以上
が適当であり、好ましくは１００ｍＷ以上である。

【０１３５】請求項１〜８に係る発明の画像形成材料
は、画像露光の後に感光層を加熱処理する。この加熱処
理は、８０〜２００℃、好ましくは１００〜１３０℃で
１０秒〜５分の処理を行うことが適当である。加熱手段
としては、赤外線ヒーターからの輻射、加熱ロールによ
るニップ等公知の方法を用いることができる。

【０１３６】請求項１〜８に係る発明の画像形成材料
は、アルカリ性現像液で非露光部を溶出除去して画像を
形成する。アルカリ性現像液としては水系アルカリ現像
液が好適である。水系アルカリ現像液としては、例え
ば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウ
ム、炭酸カリウム、メタケイ酸ナトリウム、メタケイ酸
カリウム、第二リン酸ナトリウム、第三リン酸ナトリウ
ム等のアルカリ金属塩の水溶液が挙げられる。アルカリ
金属塩の濃度は０．０５〜２０重量％の範囲で用いるの
が好適であり、より好ましくは、０．１〜１０重量％で
ある。

【０１３７】水系アルカリ性現像液には、必要に応じア
ニオン性界面活性剤、両性界面活性剤やアルコール等の
有機溶剤を加えることができる。

【０１３８】有機溶剤としては、プロピレングリコー
ル、エチレングリコールモノフェニルエーテル、ベンジ
ルアルコール、ｎ−プロピルアルコール等が有用であ
る。

【０１３９】

【実施例】次に、本発明を実施例で更に具体的に説明す
る。なお、以下の実施例及び比較例において「部」は
「重量部」を意味する。

【０１４０】実施例１支持体の作成厚さ０．２４ｍｍのアルミニウム板（材質１０５０、調
質Ｈ１６）を５％苛性ソーダ水溶液中で６０℃で１分間
脱脂処理を行った後、０．５モル１ｌの塩酸水溶液中で
温度２５℃、電流密度６０Ａ／ｄｍ²、処理時間３０秒
の条件で電解エッチング処理を行った。次いで、５％苛
性ソーダ水溶液中で６０℃、１０秒間のデスマット処理
を施した後、２０％硫酸溶液中で温度２０℃、電流密度
３Ａ／ｄｍ²、処理時間１分間の条件で陽極酸化処理を
行った。更に又、３０℃の熱水で２０秒間熱水封孔処理
を行い、平版印刷版材料用支持体であるアルミニウム板
を作製した。

【０１４１】前記アルミニウム板の支持体上に下記組成
の感光層塗布液１を乾燥後の膜厚が２ｇ／ｍ²になるよ
うに回転塗布機を用いて塗布し９０℃で２分間乾燥して
画像形成材料を得た。

【０１４２】感光層塗布液１赤外吸収色素（ＩＲ４９）２部光酸発生剤（例示化合物（１２））３部シラノール化合物Ａ（シス−（１，３，５，７−テトラヒドロキシ）−１，３，５，７−テトラフェニルシクロテトラシロキサン）２０部ノボラック樹脂Ａ(下記) ７０部

【０１４３】

【化３２】

【０１４４】プロピレングリコールモノメチルエーテル１０００部この画像形成材料を、半導体レーザー（波長８３０ｎ
ｍ、出力５００ｍＷ）で画像露光を行った。レーザー光
径はピークにおける強度の１／ｅ²で１３μｍであっ
た。また、解像度は走査方向、副走査方向とも２０００
ｄｐｉとした。画像露光の後、画像形成材料を１２０℃
で３分間加熱処理し、コニカＰＳ版現像液ＳＤＲ−１
（コニカ（株）製）を水で容積比６倍に希釈した２７℃
の現像液に３０秒間浸漬して現像し非画像部（未露光
部）を除去した後、水洗し平版印刷版を製造した。

【０１４５】上記条件において、感度を露光部が現像さ
れるに必要な露光エネルギー（ｍＪ／ｃｍ²）で評価
し、印刷による地汚れを評価した。

【０１４６】実施例２感光層塗布液の組成を下記感光層塗布液２に変えた以外
は実施例１と同様の実験を行った。

【０１４７】感光層塗布液２赤外吸収色素（ＩＲ４９）２部光酸発生剤（例示化合物（１））３部シラノール化合物Ｂ（ジフェニルシランジオール）２０部ノボラック樹脂Ａ７０部プロピレングリコールモノメチルエーテル１０００部実施例３感光層塗布液の組成を下記感光層塗布液３に変えた以外
は実施例１と同様の実験を行った。

【０１４８】感光層塗布液３赤外吸収色素（ＩＲ４９）２部光酸発生剤（例示化合物（１））３部ノボラック樹脂Ａ８５部イソフタル酸ジメチル５部プロピレングリコールモノメチルエーテル１０００部実施例４感光層塗布液の組成を下記感光層塗布液４に変えた以外
は実施例１と同様の実験を行った。

【０１４９】感光層塗布液４赤外吸収色素（ＩＲ４９）２部光酸発生剤（例示化合物（１））３部ポリ−ｐ−ヒドロキシスチレン８５部無水安息香酸５部プロピレングリコールモノメチルエーテル１０００部実施例５感光層塗布液の組成を下記感光層塗布液５に変えた以外
は実施例１と同様の実験を行った。

【０１５０】感光層塗布液５上記感光層塗布液１のシラノール化合物Ａをジイソプロ
ペニルベンゼンに変更した以外は感光層用塗布液１に同
じ。

【０１５１】実施例６感光層塗布液の組成を下記感光層塗布液６に変えた以外
は実施例１と同様の実験を行った。

【０１５２】感光層塗布液６上記感光層用塗布液１のシラノール化合物Ａをインドー
ルに変更した以外は感光層塗布液１に同じ。

【０１５３】実施例７感光層塗布液の組成を下記感光層塗布液７に変えた以外
は実施例１と同様の実験を行った。

【０１５４】感光層塗布液７赤外吸収色素（ＩＲ４９）２部光酸発生剤（例示化合物（１））３部ノボラック樹脂Ａ７０部ジフェニルメタノール２０部プロピレングリコールモノメチルエーテル１０００部実施例８感光層塗布液の組成を下記感光層塗布液８に変えた以外
は実施例１と同様の実験を行った。

【０１５５】感光層塗布液８感光層塗布液７のジフェニルメタノールを４，４−ジメ
トキシフェニルメタノールに変更した以外は感光層塗布
液７に同じ。

【０１５６】実施例９感光層塗布液の組成を下記感光層塗布液９に変えた以外
は実施例１と同様の実験を行った。

【０１５７】感光層塗布液９感光層塗布液７のジフェニルメタノールをベンズピナコ
ールに変更した以外は感光層塗布液７に同じ。

【０１５８】実施例１０感光層塗布液の組成を下記感光層塗布液１０に変えた以
外は実施例１と同様の実験を行った。

【０１５９】感光層塗布液１０感光層塗布液７のジフェニルメタノールをα，α′-ジ
ヒドロキシ−ｐ−ジイソプロピルベンゼンに変更した以
外は感光層塗布液７に同じ。

【０１６０】実施例１１感光層塗布液の組成を下記感光層塗布液１１に変えた以
外は実施例１と同様の実験を行った。

【０１６１】感光層塗布液１１感光層塗布液７のジフェニルメタノールを１−インダノ
ールに変更した以外は感光層塗布液７に同じ。

【０１６２】実施例１２感光層塗布液の組成を下記感光層塗布液１２に変えた以
外は実施例１と同様の実験を行った。

【０１６３】感光層塗布液１２感光層塗布液７のジフェニルメタノールを９−ヒドロキ
シキサンテンに変更した以外は感光層塗布液７に同じ。

【０１６４】実施例１３感光層塗布液の組成を下記感光層塗布液１３に変えた以
外は実施例１と同様の実験を行った。

【０１６５】感光層塗布液１３感光層塗布液７のジフェニルメタノールを４，４′−ビ
ス（α−ヒドロキシイソプロピル）ビフェニルに変更し
た以外は感光層塗布液７に同じ。

【０１６６】実施例１４感光層塗布液の組成を下記感光層塗布液１４に変えた以
外は実施例１と同様の実験を行った。

【０１６７】感光層塗布液１４感光層塗布液７のジフェニルメタノールを２，６−ビス
（１−ヒドロキシイソプロピル）ナフタレンに変更した
以外は感光層塗布液７に同じ。

【０１６８】実施例１５感光層塗布液の組成を下記感光層塗布液１５に変えた以
外は実施例１と同様の実験を行った。

【０１６９】感光層塗布液１５感光層塗布液１４の組成中の赤外吸収色素（ＩＲ４９）
を赤外吸収色素（ＩＲ５３）に変更した以外は感光層塗
布液１４に同じ。

【０１７０】実施例１６感光層塗布液の組成を下記感光層塗布液１６に変えた以
外は実施例１と同様の実験を行った。

【０１７１】感光層塗布液１６赤外吸収色素（ＩＲ４９）２部光酸発生剤（例示化合物（１））３部ノボラック樹脂Ａ５０部樹脂Ａ（下記）４０部プロピレングリコールモノメチルエーテル１０００部樹脂Ａの合成温度計、還流冷却管、撹拌装置、加熱装置、窒素気流導
入管を備えた５００ｍｌの四首フラスコ中に、アセトン
１２５ｍｌとメタノール１２５ｍｌの混合溶媒を入れ、
モノマーとしてエチルアクリレート９．０ｇ（０．０９
ｍｏｌ）、エチルメタクリレート３４．２ｇ（０．３０
ｍｏｌ）アクリロニトリル１５．９ｇ（０．３０ｍｏ
ｌ）、メタクリル酸０．８６ｇ（０．０１ｍｏｌ）、ビ
ニルベンジルアセテート３５．２ｇ（０．２ｍｏｌ）、
及び４−ヒドロキシフェニルメタクリルアミド５１．６
ｇ（０．３０ｍｏｌ）を溶解した。更に重合開始剤とし
てアゾビスイソブチロニトリル３．２８ｇ（０．０２ｍ
ｏｌ）を溶解し、窒素気流下で強撹拌しながら加熱し、
約６０℃で６時間還流させた。反応終了後、反応液を室
温まで冷却させた後、水中に投じて高分子化合物を沈殿
させた。これをろ取し、５０℃で２４時間真空乾燥させ
たところ、アルカリ可溶性アクリル共重合体（樹脂１）
が１００ｇ得られた。モノマー合計量からの収率は９０
％であった。

【０１７２】得られたアルカリ可溶性アクリル共重合体
（樹脂Ａ）の重量平均分子量は、ゲルパーミエーション
クロマトグラフィー（ＧＰＣ）によりプルラン標準、
Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）溶媒で測定し
たところ、５００００であった。

【０１７３】実施例１７感光層塗布液の組成を下記感光層塗布液１７に変えた以
外は実施例１と同様の実験を行った。

【０１７４】感光層塗布液１７赤外吸収色素（ＩＲ４９）２部光酸発生剤（例示化合物（１））３部ノボラック樹脂Ａ７０部ヘキサメトキシメチルメラミン２０部プロピレングリコールモノメチルエーテル１０００部実施例１８感光層塗布液の組成を下記感光層塗布液１８に変えた以
外は実施例１と同様の実験を行った。

【０１７５】感光層塗布液１８感光層塗布液１７の組成中のヘキサメトキシメチルメラ
ミンをテトラメトキシベンゾグアナミンに変更した以外
は感光層塗布液１４に同じ。

【０１７６】実施例１９感光層塗布液の組成を下記感光層塗布液１９に変えた以
外は実施例１と同様の実験を行った。

【０１７７】感光層塗布液１９赤外吸収色素（ＩＲ４９）２部光酸発生剤（例示化合物（１））３部ノボラック樹脂Ａ７０部ｏ−アセチル安息香酸２０部プロピレングリコールモノメチルエーテル１０００部実施例２０感光層塗布液の組成を下記感光層塗布液２０に変えた以
外は実施例１と同様の実験を行った。

【０１７８】感光層塗布液２０赤外吸収色素（ＩＲ４９）２部光酸発生剤（例示化合物（１））３部ノボラック樹脂Ａ７０部ｏ−アセトキシ安息香酸２０部プロピレングリコールモノメチルエーテル１０００部実施例２１感光層塗布液の組成を下記感光層塗布液２１に変えた以
外は実施例１と同様の実験を行った。

【０１７９】感光層塗布液２１赤外吸収色素（ＩＲ４９）２部光酸発生剤（例示化合物（１））３部ノボラック樹脂Ａ７０部１，４−ジオキサン−２，３−ジオール２０部プロピレングリコールモノメチルエーテル１０００部実施例２２感光層塗布液の組成を下記感光層塗布液２２に変えた以
外は実施例１と同様の実験を行った。

【０１８０】感光層塗布液２２赤外吸収色素（ＩＲ４９）２部光酸発生剤（例示化合物（１））３部ノボラック樹脂Ａ７０部２−メチル−２−アダマンタノール２０部プロピレングリコールモノメチルエーテル１０００部比較例感光層塗布液１の組成中のシラノールをレゾール（昭和
高分子製、ショーノールＣＫＰ９１８）に変えた以外は
実施例１と同様の実験を行った。

【０１８１】以上の結果を下記表１に示す。

【０１８２】

【表１】

【０１８３】表１中、印刷汚れの欄の記号の意味は下記
である。

【０１８４】 ○：全くなし △：わずかに汚れる

【０１８５】

【発明の効果】請求項１〜９に係る発明の効果は下記
〜である。

【０１８６】感度の向上した画像形成材料及び画像形
成方法が提供される。

【０１８７】印刷における地汚れが防止された画像形
成材料及び画像形成方法が提供される。

【０１８８】露光後の加熱処理を短縮することができ
る画像形成材料及び画像形成方法が提供される。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号ＦＩＧ０３Ｆ 7/30 Ｇ０３Ｆ 7/30 7/38 ５１１ 7/38 ５１１

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】支持体上に、活性光線の照射により酸を
発生し得る化合物、赤外線吸収剤及びシラノール化合物
を含有する感光層を有することを特徴とする画像形成材
料。
【請求項２】支持体上に、活性光線の照射により酸を
発生し得る化合物、赤外線吸収剤、カルボン酸又はその
誘導体を含む化合物及びヒドロキシル基を有する化合物
を含有する感光層を有することを特徴とする画像形成材
料。
【請求項３】支持体上に、活性光線の照射により酸を
発生し得る化合物、赤外線吸収剤及びカチオン重合性の
二重結合を有する化合物を含有する感光層を有すること
を特徴とする画像形成材料。
【請求項４】支持体上に、活性光線の照射により酸を
発生し得る化合物、赤外線吸収剤及び芳香族基を有する
二級又は三級アルコールを含有する感光層を有すること
を特徴とする画像形成材料。
【請求項５】支持体上に、活性光線の照射により酸を
発生し得る化合物、赤外線吸収剤及びメチロール基、ア
ルコキシメチル基又はアセトキシメチル基を有する芳香
環を分子中に有するアルカリ可溶性ポリマーを含有する
感光層を有することを特徴とする画像形成材料。
【請求項６】支持体上に、活性光線の照射により酸を
発生し得る化合物、赤外線吸収剤及びアミノプラストを
含有する感光層を有することを特徴とする画像形成材
料。
【請求項７】支持体上に、活性光線の照射により酸を
発生し得る化合物、赤外線吸収剤及び下記一般式（Ａ）
で表される化合物を含有する感光層を有することを特徴
とする画像形成材料。【化１】〔式中、Ｒは水素原子、炭素数３以下のアルキル基、ア
リール基又はトリル基を表し、Ｒ₁、Ｒ₂、Ｒ₃及びＲ₄は
各々、水素原子、炭素数３以下のアルキル基又は炭素数
３以下のアルコキシ基を表す。〕
【請求項８】支持体上に、活性光線の照射により酸を
発生し得る化合物、赤外線吸収剤並びに脂環式アルコー
ル及び／又は複素環式アルコールを含有する感光層を有
することを特徴とする画像形成材料。
【請求項９】請求項１〜８のいずれか１項に記載の画
像形成材料の感光層に赤外線を用いて画像を描画し、加
熱処理した後、アルカリ性現像液で未露光部を除去する
ことを特徴とする画像形成方法。