JPH1165105A - 画像形成材料及び画像形成方法 - Google Patents

画像形成材料及び画像形成方法

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JPH1165105A
JPH1165105A JP9311928A JP31192897A JPH1165105A JP H1165105 A JPH1165105 A JP H1165105A JP 9311928 A JP9311928 A JP 9311928A JP 31192897 A JP31192897 A JP 31192897A JP H1165105 A JPH1165105 A JP H1165105A
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 近赤外〜赤外線領域による露光で画像形成が
可能で、特に該領域に発光領域を有するレーザーを用い
て記録することによりコンピューター等のデジタルデー
タから直接製版が可能で、該領域に対する感度が高く、
かつドット変動抑制性を有するポジ型或いはネガ型の直
接製版用画像形成材料の提供。又該領域に発光領域を有
するレーザーを用い画像形成材料に画像を形成する方法
の提供。 【解決手段】 皮膜量１０以上６０ｍｇ／ｍ2以下の陽
極酸化皮膜を有する金属支持体上に、活性光線の照射に
より酸を発生し得る化合物、酸により架橋する基を有す
る化合物及び赤外線吸収剤を含有する感光層を有してな
ることを特徴とする画像形成材料。皮膜量１０以上６０
ｍｇ／ｍ2以下の陽極酸化皮膜を有する金属支持体上
に、活性光線の照射により酸を発生し得る化合物、酸に
より分解し得る結合部を有する化合物及び赤外線吸収剤
を含有する感光層を有してなることを特徴とする画像形
成材料。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、オフセット印刷マ
スターとして使用可能なポジ型、或いはネガ型の画像形
成材料に関し、更に詳しくは、近赤外〜赤外線に領域を
有する半導体レーザー等を用いて記録することにより、
コンピューター等のデジタルデータから直接製版できる
ダイレクト製版用の平版印刷板として用いられる画像形
成材料に関する。又、前記画像形成材料に画像を形成す
る方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、活性光の照射によって可溶化する
ポジ型の感光層として、酸発生剤と酸分解性化合物とを
含有する感光層を有する画像形成材料が知られている。
即ち、米国特許第３，７７９，７７８号明細書には、酸
発生剤と酸で分解する特定の基を有する水不溶性化合物
とを含有する感光性組成物が、特開昭５３−１３３４２
９号には、酸発生剤と主鎖にアセタール又はケタール基
を有する化合物とを含有する感光性組成物が、又特開昭
６０−３７５４９号には、酸発生剤とシリルエーテル基
を有する化合物とを含有する組成物が開示されている。
これらはいずれも紫外線に感度を有し、紫外線による露
光によってアルカリ可溶化して非画像部を形成し、又未
露光部は画像部を形成するというものである。一般的に
は、マスクフィルム等を介してハロゲンランプ、高圧水
銀灯などから照射紫外線により画像露光を行なってお
り、アルゴンレーザー、ヘリウム−カドミウムレーザー
などの短波長レーザーによる露光も可能であるが、装置
が高価で大きいため使用の際は煩わしい場合もあり、又
感光材料の感度の点でも十分満足のいくものばかりでは
なかった。
【０００３】感光層の感度向上を図るために本発明者ら
は粘度の異なる混合溶剤を添加したポジ型感光材料（特
願平７−１５２６２３号）或いは感光体に対する良溶剤
／貧溶剤からなる混合溶剤を添加したポジ型感光材料
（特願平７−１５８５８０号）を提案したが、紫外線に
よる画像露光では依然として上記したようなハード面で
の問題が残り、安価で簡易な方法が望まれていた。
【０００４】一方、安価でコンパクトな半導体レーザー
のような赤外線で画像露光が可能な技術として、酸発生
剤、レゾール樹脂、ノボラック樹脂及び赤外線吸収剤を
含有する感光層を有する画像形成材料を画像露光の後、
現像処理前に加熱処理を施すことによりネガ型の画像を
形成する方法が米国特許第５，３４０，６９９号明細書
に開示され、又上記加熱処理を施さない場合はポジ型の
画像形成材料として使用される技術が開示されている。
又特開昭５３−１３３４２９号には、酸発生剤、酸で分
解する化合物及び青色染料（クリスタルバイオレット）
とを含有する感光層を有する画像形成材料について開示
されている。しかしながらこれらの技術は、レーザー光
が支持体表面の反射により散漫になりやすく本来の画像
を呈しない即ちドットゲインの変動が大きく、良好な画
像を得ることが困難である。特に支持体としてアルミニ
ウム等の金属板を使用した平版印刷板に半導体レーザー
で露光した場合、レーザーが反射して熱エネルギーが散
乱してドットゲインが低下し、優れた感度を得られず画
像形成に大幅な負荷を生じさせるという問題を有してい
た。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】本発明は上記事情に鑑
みてなされたものであり、その目的は近赤外〜赤外線領
域による露光で画像形成が可能で、特に該領域に発光領
域を有するレーザーを用いて記録することによりコンピ
ューター等のデジタルデータから直接製版が可能で、該
領域に対する感度が高く、かつドット変動抑制性を有す
るポジ型或いはネガ型の直接製版用画像形成材料を提供
することである。又該レーザーを用い画像形成材料に画
像を形成する方法を提供することである。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明の上記目的は、以
下の構成により達成された。
【０００７】〈１〉皮膜量１０以上６０ｍｇ／ｄｍ2以
下の陽極酸化皮膜を有する金属支持体上に、活性光線の
照射により酸を発生し得る化合物、酸により架橋する基
を有する化合物及び赤外線吸収剤を含有する感光層を有
してなることを特徴とする画像形成材料。
【０００８】〈２〉皮膜量１０以上６０ｍｇ／ｄｍ2以
下の陽極酸化皮膜を有する金属支持体上に、活性光線の
照射により酸を発生し得る化合物、酸により分解し得る
結合部を有する化合物及び赤外線吸収剤を含有する感光
層を有してなることを特徴とする画像形成材料。
【０００９】〈３〉金属支持体上に、皮膜量０．００１
以上１０ｍｇ／ｍ2以下の断熱層、活性光線の照射によ
り酸を発生し得る化合物、酸により架橋する基を有する
化合物及び赤外線吸収剤を含有する感光層を有してなる
ことを特徴とする画像形成材料。
【００１０】〈４〉金属支持体上に、皮膜量０．００１
以上１０ｍｇ／ｍ2以下の断熱層、活性光線の照射によ
り酸を発生し得る化合物、酸により分解し得る結合部を
有する化合物及び赤外線吸収剤を含有する感光層を有し
てなることを特徴とする画像形成材料。
【００１１】好ましい態様として、上記断熱層が支持体
と感光層との間に設けられていること、上記断熱層が現
像液可溶な樹脂を有してなること、上記金属支持体の表
面の中心線平均粗さ（Ｒａ）が０．３以上０．７μｍ以
下、平均粗さ（Ｒｚ）が３．０以上６．０μｍ以下であ
り、感光層を除去した際の支持体の表面エネルギーγ
（Ｈ：水素結合力）が、下記式で１５以上５０ｄｙｎ／
ｃｍ以下であること γ（Ｈ）ｄｙｎ／ｃｍ＝〔（１．１５９＋２．１５９×
ｃｏｓ（接触角：Ｈ2Ｏ）−ｃｏｓ（接触角：ＣＨ
2Ｉ2）〕／０．３７９2 （接触角はＨ2Ｏ：１．７μｌ、ＣＨ2Ｉ2：１．３μｌ
を滴下し３０秒後に測定）、上記金属支持体がアルミニ
ウム板であること、が挙げられる。
【００１２】〈５〉上記の画像形成材料の感光層を有す
る表面を活性光線を照射して画像を形成することを特徴
とする画像形成方法。
【００１３】即ち本発明者らは、近赤外〜赤外線に発光
領域を有する半導体レーザー等を用いて記録することに
より、コンピューター等のデジタルデータから直接製版
が可能であり、該領域に対する感度が高く、かつドット
変動抑制性に優れたヒートモード書き込み型ダイレクト
製版用画像形成材料を得るべく鋭意検討した結果、レー
ザー露光を効率良く行うためには金属支持体表面を断熱
するのが効果的であるとの知見に基づき、本発明に至っ
たものであり、該支持体表面に特定皮膜量の断熱層或い
は特定皮膜量の陽極酸化皮膜を設けることにより達成し
たものであり、その結果本発明の目的を達成しえる性能
を有するというものである。
【００１４】以下、本発明を詳細に説明する。
【００１５】本発明は画像形成材料及び該画像形成材料
に画像を形成する方法をその要旨とするものであり、以
下、順に説明する。
【００１６】〔１〕画像形成材料 本発明の画像形成材料はその形態により２つに大別で
き、第１の態様として、皮膜量１０以上６０ｍｇ／ｄｍ
2以下の陽極酸化皮膜を有する金属支持体上に、活性光
線の照射により酸を発生し得る化合物、酸により分解し
得る結合部を有する化合物及び赤外線吸収剤を含有する
感光層を有してなるもの（ポジ型）が、又ネガ型とし
て、上記の形態において酸により分解し得る結合部を有
する化合物の代替に、酸により架橋する基を有する化合
物を用いるものである。
【００１７】第２の態様として金属支持体上に、皮膜量
０．００１以上１０ｍｇ／ｍ2以下の断熱層と、活性光
線の照射により酸を発生し得る化合物、酸により分解し
得る結合部を有する化合物及び赤外線吸収剤を含有する
感光層とを有してなることを特徴とし（ポジ型）、ネガ
型として、上記の形態において酸により分解し得る結合
部を有する化合物の代替に、酸により架橋する基を有す
る化合物を用いるものである。
【００１８】本発明は高感度かつドット変動抑制性に優
れた効果を奏するために支持体表面に特徴を持たせたも
のであり、以下支持体について説明する。
【００１９】〈支持体及び断熱層、陽極酸化皮膜〉本発
明に用いられる金属支持体としては、アルミニウム、亜
鉛、鋼、銅等の金属板、並びにクロム、亜鉛、銅、ニッ
ケル、アルミニウム、鉄等がメッキ又は蒸着された金属
板等が挙げられる。特にアルミニウム支持体は好まし
く、純アルミニウム及びアルミニウム合金よりなる支持
体が挙げられ、該合金としては種々のものが使用でき例
えば、ケイ素、銅、マンガン、マグネシウム、クロム、
亜鉛、鉛、ビスマス、ニッケル等が挙げられる。
【００２０】これらのうち本発明に用いられる支持体に
は、砂目立て処理、陽極酸化処理及び必要に応じて封孔
処理等の表面処理等が施されているアルミニウム板を用
いることが好ましい。これらの処理は公知の方法を適用
できる。
【００２１】アルミニウム支持体は、粗面化に先立って
アルミニウム表面の圧延油を除去するために脱脂処理を
施すことが好ましい。脱脂処理としては、トリクレン、
シンナー等の溶剤を用いる処理、ケシロンとトリエタノ
ール等のエマルジョンを用いたエマルジョン処理等が挙
げられる。又苛性ソーダ等のアルカリの水溶液を用いる
こともできる。脱脂処理に苛性ソーダ等のアルカリの水
溶液を用いた場合、上記脱脂処理のみでは除去できない
汚れや酸化皮膜も除去することができる。
【００２２】感光層との密着性を良好にし、かつ保水性
を改善するために行われる砂目立て処理の方法として
は、例えば機械的粗面化方法、電気化学的粗面化方法が
挙げられる。
【００２３】機械的方法としては、例えばボール研磨
法、ブラシ研磨法、ブラスト研磨法、液体ホーニングに
よる研磨法、バフ研磨法等が挙げられる。アルミニウム
材の組成等に応じて上述の各種方法を単独或いは組合わ
せて用いることができる。又電気化学的粗面化方法は、
塩酸、硝酸等を含む電解液中で交流或いは直流により支
持体を電解処理する方法等がある。このうち何れか１
つ、もしくは２つ以上の方法を併用することにより、支
持体を砂目立てすることができる。詳しくは、例えば塩
酸、硝酸等及びその混合液、更にこれらに硝酸アルミニ
ウム、塩化アルミニウム、硝酸アンモニウム、塩化アン
モニウム、硝酸マンガン、塩化マンガン、硝酸鉄、塩化
鉄等の塩類を添加してもよく、又塩化ナトリウムや硝酸
ナトリウム等の中性塩水溶液を電解液として電解処理す
る方法等がある。硝酸主体の電解液は、硝酸を２〜４０
ｇ／ｌ含有する水溶液であり、硝酸のアルミニウムに塩
を含んでも良い。又無機酸、カルボン酸、アミン、ケト
ン、アルデヒド或いはこれらの複合構造を有する化合物
などの添加剤を電解液に添加しても良い。本発明におい
ては、機械的粗面化によりマクロ形状の砂目を形成した
アルミニウム表面を化学的に処理し、引き続き電気化学
的粗面化によりミクロ形状の砂目を形成することによっ
て安定な条件で平均粗さ（Ｒｚ）が大きくて均一な砂目
を有し、しかも使用電力や電気化学的粗面化の際に生じ
るアルミニウムイオンの量を減少させることができる。
しかし上記のように機械的に砂目立てされたアルミニウ
ム板の表面には砂目立ての際に食い込んだ研磨剤、アル
ミニウム屑等がそのまま存在し、引き続き電気化学的粗
面化を行うと、粗面化が不均一となり、又そのアルミニ
ウム板の表面に多くの不溶解残渣を発生させることにな
る。そのため電気化学的に砂目立てされたアルミニウム
板の平滑化、均一化を目的としてアルミニウム板の表面
に酸又はアルカリの水溶液による化学的処理を行うこと
が必要である。上記酸又はアルカリ水溶液の具体例とし
ては、例えば弗酸、弗化ジルコン酸、リン酸、硫酸、塩
酸、硝酸等の酸及び水酸化ナトリウム、珪酸ナトリウ
ム、炭酸ナトリウム等のアルカリ水酸液が挙げられる。
これらの酸又はアルカリ水溶液はそれぞれ一種又は二種
以上を混合して使用することができる。化学的処理はこ
れらの酸又はアルカリの０．０５〜４０重量％水溶液を
用い、４０〜１００℃の液温において５〜３００秒処理
するのが一般的である。このようにして得られた支持体
表面には、スマットが生成しているのでこのスマットを
除去するために適宜水洗或いはアルカリエッチング等の
処理を行うことが一般的に好ましい。このような処理と
しては特公昭４８−２８１２３号に記載されているアル
カリエッチング法や特開昭５３−１２７３９号に記載さ
れているデスマット法等の処理方法が挙げられる。
【００２４】電解粗面化において印加される電圧は１〜
５０ボルトが好ましく、２〜３０ボルトが更に好まし
い。電流密度は１０〜１５０Ａ／ｄｍ2が好ましく、２
０〜１００Ａ／ｄｍ2が更に好ましい。電気量は１００
〜２００００ｃ／ｄｍ2、好ましくは１００〜１０００
０ｃ／ｄｍ2、より好ましくは２００〜５０００ｃ／ｄ
ｍ2である。温度は１０〜５０℃が好ましく、１５〜４
５℃が更に好ましい。塩酸又は硝酸濃度は、０．０１〜
５重量％が好ましい。
【００２５】（態様１）表面の保水性や耐摩耗性を高め
るために陽極酸化処理が施される。アルミニウム板の陽
極酸化処理に用いられる電解質としては多孔質酸化皮膜
を形成するものならばいかなるものでも使用することが
でき、一般には硫酸、クロム酸、シュウ酸、リン酸、マ
ロン酸等を１種又は２種以上含む溶液が用いられる。そ
れらの電解質の濃度は電解質の種類により適宜決められ
る。陽極酸化の処理条件は用いる電解質により種々変わ
るので一概に特定し得ないが、一般的には電解質の濃度
が１〜８０重量％の溶液、液温は１〜７０℃、電流密度
１〜６０Ａ／ｄｍ2、電圧１〜１００Ｖ、電解時間１０
秒〜５分の範囲にあれば適当である。特に好ましい硫酸
法は通常直流で処理が行われるが、交流を用いることも
可能である。硫酸の濃度は５〜３０％で使用され、２０
〜６０℃の温度範囲で５〜２５０秒間電解処理される。
この電解液には、アルミニウムイオンが含まれている方
が好ましい。
【００２６】更にこのときの電流密度は１〜２０Ａ／ｄ
ｍ2が好ましい。その他、米国特許第１，４１２，７６
８号に記載されている硫酸中で高電流密度で電解する方
法や、米国特許第３，５１１，６６１号に記載されてい
るリン酸を用いて電解する方法がある。本発明の態様２
では、形成された陽極酸化皮膜量は１０〜６０ｍｇ／ｄ
ｍ2を有するものであるが、好ましくは１０〜５０ｍｇ
／ｄｍ2、特に好ましくは２０〜５０ｍｇ／ｄｍ2であ
る。該皮膜量が１０ｍｇ／ｄｍ2未満であると露光の際
のレーザーの画像書き込み効率が非常に悪く、本発明の
効果を容易に奏し難く、又逆に６０ｍｇ／ｄｍ2を越え
ると断熱効果は高いが印刷時に汚れやすくなり、画像形
成に支障を来す。陽極酸化皮膜量は、例えばアルミニウ
ム板をリン酸クロム酸浴液（リン酸８５％液：３５ｍ
ｌ、酸化クロム（IV）：２０ｇを１ｌの水に溶解して作
製）に浸漬し、酸化皮膜を溶解し、板の皮膜溶解前後の
重量変化測定から求められる。
【００２７】封孔処理は、沸騰水処理、水蒸気処理、ケ
イ酸ソーダ処理、重クロム酸塩水溶液処理等が具体例と
して挙げられる。この他にアルミニウム板支持体に対し
て、水溶性高分子化合物や、フッ化ジルコン酸等の金属
塩の水溶液による下引き処理を施すこともできる。
【００２８】支持体には、特に限定はされないが水洗処
理等を施しても良い。特に好ましくは支持体を８０〜９
５℃程度の熱水又はアルカリ水溶液中に浸漬処理するこ
とが挙げられる。次いで亜硝酸塩溶液で処理され、陽極
酸化層が封孔される。亜硝酸塩の例としては、周期律表
のＩａ，IIａ，IIｂ，IIIｂ，IVａ，IVｂ，VIａ，VIIa,
VIII族の亜硝酸塩又はアンモニウム塩、即ち亜硝酸アン
モニウムが挙げられ、その金属塩としては例えば、Ｌｉ
Ｏ2，ＮａＮＯ2，ＫＮＯ2，Ｍｇ（ＮＯ2）2，Ｃａ（Ｎ
Ｏ2）2，Ｚｎ（ＮＯ2）2，Ａｌ（ＮＯ2）3，Ｚｒ（ＮＯ
2）4，Ｓｎ（ＮＯ2）3，Ｃｒ（ＮＯ2）3，Ｃｏ（Ｎ
Ｏ2）2，Ｍｎ（ＮＯ2）2，Ｎｉ（ＮＯ2）2等が好まし
く、特にアルカリ金属亜硝酸塩が好ましい。亜硝酸塩は
２種以上併用することもできる。亜硝酸塩処理方法とし
ては水溶液に浸漬する方法又は水溶液を支持体に塗布す
る方法が挙げられるが、水溶液に浸漬する方法がより好
ましい。処理条件は、支持体の状態及びアルカリ金属の
種類により異なるので一義的には決定できないが、例え
ば、亜硝酸ナトリウムを用いた場合には、濃度は一般的
には０．００１〜１０重量％、より好ましくは０．０１
〜２重量％、浴温度は一般的には室温から約１００℃前
後、より好ましくは１０〜１８０秒のそれぞれの範囲か
ら選択すれば良い。亜硝酸水溶液のｐＨは８．０〜１
１．０に調整されていることが好ましく、８．５〜９．
５に調整されていることが特に好ましい。亜硝酸水溶液
のｐＨを上記の如く調整するには例えば、アルカリ緩衝
液等を用いる方法が挙げられる。アルカリ緩衝液として
は限定されないが、例えば炭酸水素ナトリウム、水酸化
ナトリウムの混合溶液、炭酸ナトリウムと水酸化ナトリ
ウムの混合溶液、炭酸ナトリウムと炭酸水素ナトリウム
の混合溶液、塩化ナトリウムと水酸化ナトリウムの混合
溶液、塩酸と炭酸ナトリウムの混合溶液、四ホウ酸ナト
リウムと水酸化ナトリウムの混合溶液等を好適に用いる
ことができる。又上記アルカリ緩衝液はナトリウム以外
のアルカリ金属塩、例えばカリウム塩等も用いることが
できる。該亜硝酸塩処理の効果を高めるために、該処理
液中に超音波をかけてもよい。又必要に応じて添加剤を
加えることもでき、例えば、界面活性剤である。
【００２９】（態様２）本発明の第２の態様として挙げ
た金属支持体表面に断熱層を設けたタイプについて説明
する。断熱層は、金属支持体表面に直接設けても或いは
陽極酸化皮膜を設けた金属支持体表面に設けてもよい。
【００３０】断熱層、即ち断熱性下塗層は耐熱性かつ水
溶性（親水性）の樹脂（高分子）を有することが好まし
く、特に後述する現像液に可溶なものが更に好ましい。
具体的には、ポリアクリル酸、ポリアクリルアミド、ポ
リビニルアルコール、ポリヒドロキシエチルアクリレー
ト、ポリビニルピロリドン等のアクリル酸共重合体；ポ
リエチレンイミン、ジアクリルジメチルアルミニウムク
ロライド、ポリビニルイミダゾリン、ポリアルキルアミ
ノエチルアクリレート等のマレイン共重合体；又ポリエ
チレングリコールポリオキシエチレン、ポイプロピレン
グリコール、エチレンジアミン、ヘキサエチレンジアミ
ン、ポリウレタン樹脂、ポリヒドロキシメチル尿素、ポ
リヒドロキシメチルメラミン樹脂、更に可溶性デンプ
ン、ＣＭＣ（カルボキシメチルセルロース）、ヒドロキ
シエチルセルロース、グアーガム、トラガカントゴム、
キサンタンガム、アルギン酸ソーダ、ゼラチン等の水溶
性高分子が挙げられる。
【００３１】これらは水溶液として支持体に塗布し断熱
層を形成するが、上記水溶性高分子を１０重量％以下、
好ましくは０．００１〜１重量％を含有するのがよく、
又ｐＨ値９以下、好ましくは４〜９であり、温度３０℃
以上、好ましくは５０〜９５℃の条件下で上記の条件を
備えていることがよい。
【００３２】本発明における断熱層を形成する構成成分
として、更に特開昭６０−１４９４９１号、同６３−１
６５１８３号に記載のアミノ酸及びその塩、特開昭６０
−２３２９９８号に記載の水酸基を有するアミン類及び
その塩、特開昭６２−１９４９４号に記載のリン酸塩、
特開昭５９−１０１６５１号に記載のスルホ基を有する
モノマー単位を含む高分子化合物等を挙げることができ
る。又、金属支持体がアルミニウム板である場合、陽極
酸化処理後に米国特許第３，１８１，４６１号に記載さ
れているアルカリ金属シリケートで処理を行い、断熱層
とすることも可能である。又断熱層の別の形態として、
陽極酸化処理後に１つ以上のアミノ基と、カルボキシル
基、スルホ基及びホスホン基から選ばれた１つ以上の基
を有する化合物又はその塩を用いて支持体表面を処理す
ることもでき、該化合物の具体例としては、グリシン、
アラニン、バリン、セリン、スレオニン、アスパラギン
酸、グルタミン酸、アルキニン、リジン、トリプトファ
ン、パラヒドロキシフェニルグリシン、ジヒドロキシエ
チルグリシン、アントラニル酸等のアミノ酸；１−アミ
ノメチルホスホン酸、２−アミノメチルホスホン酸、２
−アミノプロピルホスホン酸、４−アミノフェニルホス
ホン酸、１−アミノエタン−１，１−ジホスホン酸、１
−アミノ−１−フェニルメタン−１，１−ジホスホン
酸、１−ジメチルアミノブタン−１，１−ジホスホン
酸、エチレンジアミンテトラメチレンホスホン酸等のホ
スホン酸或いはホスホン酸基をホスフィン酸基に変えた
ホスフィン酸等の化合物又は塩酸、硫酸、硝酸、スルホ
ン酸（メタンスルホン酸等）、蟻酸、アルカリ金属、ア
ンモニア、低級アルカノールアミン（トリエタノールア
ミン等）、低級アルキルアミン（トリエチルアミン）等
の塩が挙げられる。
【００３３】本発明においては、上記金属支持体の表面
の中心線平均粗さ（Ｒａ）が０．３以上０．７μｍ以下
であり、又平均粗さ（Ｒｚ）が３．０以上６．０μｍ以
下であることが好ましい。Ｒａが０．３μｍ未満では断
熱層及び感光層との密着不良を起こし、又０．７μｍを
越えると逆に密着性は改善するものの、表面エネルギー
γが低下する傾向にある。又、Ｒｚが３．０μｍ未満で
は表面エネルギーγは向上するが、密着性が不十分であ
り、６．０μｍを越えると表面エネルギーγが低下し、
非画線部の汚れが目立ち画像形成し支障を来す。
【００３４】又、上記金属支持体の感光層を除去した際
の支持体の表面エネルギーγ（Ｈ：水素結合力）が、下
記式で１５以上５０ｄｙｎ／ｃｍ以下であることが好ま
しい。
【００３５】γ（Ｈ）ｄｙｎ／ｃｍ＝〔（１．１５９＋
２．１５９×ｃｏｓ（接触角：Ｈ2Ｏ）−ｃｏｓ（接触
角：ＣＨ2Ｉ2）〕／０．３７９2 （接触角はＨ2Ｏ：１．７μｌ、ＣＨ2Ｉ2：１．３μｌ
を滴下し３０秒後に測定） 本発明に用いられる金属支持体（特にアルミニウム板）
は、画像形成の際その表面が水を受容して油性インキを
反撥する領域（非画線部）を担うように使用されるた
め、親水性、保水性が優れていること、又感光層との接
着性が優れているという相反する性能が要求される。非
画線部の保水性が高いと調子再現性、シャドー部の汚れ
難さ等の印刷性能が向上するといわれ、従来も関連の有
る物性値の測定が行われているが、非画線部を水で濡ら
し、続いて乾燥させる際のばらつきが大きく、十分な測
定制度が得られないという問題があった。特開平６−２
４７０７０号ではシリコンゴムローラーで水を絞る操作
を行っているが、絞る速度、ローラー、測定箇所による
変動が大きく、十分な再現性が得られなかった。そこで
再現性良く水を保持させる方法について検討した結果、
金属支持体を水に浸漬後、水面に垂直にして２ｃｍ／ｍ
ｉｎの一定速度で引き上げることにより、金属支持体表
面の水の保持量を制度よく測定できることを見出した。
更に現像後の種々の金属支持体非画線部について、低速
引き上げによる水の保持量と表面エネルギーγ（Ｈ）と
を測定し、印刷性能との比較を行った結果、金属支持体
非画線部の水の保持量が２．０〜６．０ｍｌ／ｍ2、上
記の式で得られた表面エネルギーγ（Ｈ）が１５以上５
０ｄｙｎ／ｃｍ以下の範囲であると、調子再現性、特に
ドットゲインに優れ、又保持量が３．０〜５．０ｍｌ／
ｍ2の範囲で特に優れていることを見出した。水の保持
量がこれより低いと調子再現性が劣るとともに非画線部
の汚れが発生しやすくなる。又この範囲よりも高いと、
一旦インキが付着した後の回復性、いわゆる汚れ回復等
の印刷性能が劣る。又表面エネルギーγ（Ｈ）が５０ｄ
ｙｎ／ｃｍより高いと調子再現性が劣る傾向にある。以
上のように、本発明の好ましい態様は、金属支持体非画
線部の湿し水の保持量、とりわけ親水性（表面エネルギ
ーγ）を制御することであり、それにより調子再現性、
特にドットゲインが改善されるという効果を奏する。
【００３６】〈感光層〉 （活性光線の照射により酸を発生し得る化合物）本発明
に用いられる活性光線の照射により酸を発生し得る化合
物（以下「光酸発生剤」という）としては、各種の公知
化合物及び混合物が挙げられる。例えばジアゾニウム、
ホスホニウム、スルホニウム、及びヨードニウムのＢＦ
4 -、ＰＦ6 -、ＳｂＦ6 -、ＳｉＦ6 2-、ＣｌＯ4 -などの
塩、有機ハロゲン化合物、オルトキノン−ジアジドスル
ホニルクロリド、及び有機金属／有機ハロゲン化合物も
活性光線の照射の際に酸を形成又は分離する活性光線感
光性成分であり、本発明における光酸発生剤として使用
することができる。原理的には遊離基形成性の光開始剤
として知られるすべての有機ハロゲン化合物はハロゲン
化水素酸を形成する化合物であり、本発明における光酸
発生剤として使用することができる。
【００３７】前記のハロゲン化水素酸を形成する化合物
の例としては米国特許第３，５１５，５５２号、同第
３，５３６，４８９号及び同第３，７７９，７７８号及
び西ドイツ国特許公開公報第２，２４３，６２１号に記
載されているものが挙げられ、又例えば西ドイツ国特許
公開公報第２，６１０，８４２号に記載の光分解により
酸を発生させる化合物も使用することができる。又、特
開昭５０−３６２０９号に記載されているｏ−ナフトキ
ノンジアジド−４−スルホン酸ハロゲニドを用いること
ができる。
【００３８】本発明において、赤外線露光による画像形
成過程での感度、及び画像形成材料として用いた際の保
存性等の面から有機ハロゲン化合物が好ましい。該有機
ハロゲン化合物としては、ハロゲン置換アルキル基を有
するトリアジン類及びハロゲン置換アルキル基を有する
オキサジアゾール類が好ましく、ハロゲン置換アルキル
基を有するｓ−トリアジン類が特に好ましい。ハロゲン
置換アルキル基を有するオキサジアゾール類の具体例と
しては、特開昭５４−７４７２８号、特開昭５５−２４
１１３号、特開昭５５−７７７４２号、特開昭６０−３
６２６号及び特開昭６０−１３８５３９号に記載の２−
ハロメチル−１，３，４−オキサジアゾール系化合物が
挙げられる。２−ハロメチル−１，３，４−オキサジア
ゾール系光酸発生剤の好ましい化合物例を下記に挙げ
る。
【００３９】
【化１】
【００４０】上記ハロゲン置換アルキル基を有するｓ−
トリアジン類としては、下記一般式（１）で表される化
合物が好ましい。
【００４１】
【化２】
【００４２】一般式（１）において、Ｒはアルキル基、
ハロゲン置換アルキル基、アルコキシ基で置換されてい
てもよいフェニルビニレン基又はアリール基（例えばフ
ェニル基、ナフチル基等）若しくはその置換体を表し、
Ｘ3はハロゲン原子を表す。一般式（１）で表されるｓ
−トリアジン系光酸発生剤の化合物例を次に示す。
【００４３】
【化３】
【００４４】
【化４】
【００４５】本発明において光酸発生剤の含有量は、そ
の化学的性質及び感光層或いは感光層に含まれる化合物
の物性によって広範囲に変えることができるが、感光層
の固形分の全重量に対して約０．１〜約２０重量％の範
囲が適当であり、好ましくは０．２〜１０重量％の範囲
である。
【００４６】（酸により分解し得る結合部を有する化合
物）本発明に用いられる酸により分解し得る結合部を有
する化合物（以下「酸分解化合物」という）としては、
具体的には、特開昭４８−８９００３号、同５１−１２
０７１４号、同５３−１３３４２９号、同５５−１２９
９５号、同５５−１２６２３６号、同５６−１７３４５
号に記載されているＣ−Ｏ−Ｃ結合を有する化合物、特
開昭６０−３７５４９号、同６０−１２１４４６号に記
載されているＳｉ−Ｏ−Ｃ結合を有する化合物、特開昭
６０−３６２５号、同６０−１０２４７号各公報に記載
されているその他の酸分解化合物が挙げられ、更に特願
昭６１−１６６８７号に記載されているＳｉ−Ｎ結合を
有する化合物、特願昭６１−９４６０３号に記載されて
いる炭酸エステル、特願昭６０−２５１７４４号に記載
されているオルト炭酸エステル、特願昭６１−１２５４
７３号に記載されているオルトチタン酸エステル、特願
昭６１−１２５４７４号に記載されているオルトケイ酸
エステル、特願昭６１−１５５４８１号に記載されてい
るアセタール及びケタール、特願昭６１−８７７６９号
に記載されているＣ−Ｓ結合を有する化合物などが挙げ
られる。
【００４７】上記のうち前記特開昭５３−１３３４２９
号、同５６−１７３４５号、同６０−１２１４４６号、
同６０−３７５４９号及び特願昭６０−２５１７４４
号、同６１−１５５４８１号に記載されているＣ−Ｏ−
Ｃ結合を有する化合物、Ｓｉ−Ｏ−Ｃ結合を有する化合
物、オルト炭酸エステル、アセタール類、ケタール類及
びシリルエーテル類が好ましい。それらの中でも特開昭
５３−１３３４２９号に記載された主鎖中に繰り返しア
セタール又はケタール部分を有し、現像液中でのその溶
解度が酸の作用によって上昇する有機重合化合物及び特
開昭６３−１０１５３号に記載の下記構造単位
【００４８】
【化５】
【００４９】を有し、酸により分解し得る化合物が特に
好ましい。
【００５０】本発明に用いられる酸分解化合物の具体例
としては前記各公知例に記載された化合物を挙げること
ができる。又、該化合物の合成方法も前記各公知例に記
載されている。
【００５１】本発明において、酸分解化合物として、−
（ＣＨ2ＣＨ2Ｏ）n−基（ｎは２〜５の整数を表す）を
有する化合物が感度及び現像性のバランスの点から好ま
しい。又、該化合物のうちエチレンオキシ基の連鎖数ｎ
が３又は４の化合物が特に好ましい。上記−（ＣＨ2Ｃ
Ｈ2Ｏ）n−基を有する化合物の具体例としてはジメトキ
シシクロヘキサン、ベンズアルデヒド及びそれらの置換
誘導体と、ジエチレングリコール、トリエチレングリコ
ール、テトラエチレングリコール及びペンタエチレング
リコールの何れかとの縮合生成物が挙げられる。
【００５２】又、本発明において、酸分解化合物とし
て、下記一般式（２）で表される化合物が感度及び現像
性の点から好ましい。
【００５３】
【化６】
【００５４】式中、Ｒ、Ｒ1及びＲ2は各々水素原子、炭
素原子数１〜５のアルキル基、炭素原子数１〜５のアル
コキシ基、スルホ基、カルボキシル基又はヒドロキシル
基を表し、ｐ、ｑ及びｒは各々１〜３の整数を表し、ｍ
及びｎは各々１〜５の整数を表す。Ｒ、Ｒ1及びＲ2が表
すアルキル基は直鎖でも分岐でもよく、例えばメチル
基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル
基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ペンチル基等が挙げられ、ア
ルコキシ基としては例えばメトキシ基、エトキシ基、プ
ロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、ｔｅｒｔ
−ブトキシ基、ペントキシ基等が挙げられ、スルホ基及
びカルボキシル基はその塩を包含する。一般式（２）で
表される化合物のうち、ｍ及びｎが１又は２である化合
物が特に好ましい。一般式（２）で表される化合物は公
知の方法で合成することができる。
【００５５】本発明において、酸分解化合物の含有量
は、感光層を形成する組成物の全固形分に対し、５〜７
０重量％が好ましく、特に好ましくは１０〜５０重量％
である。酸分解化合物は１種を用いてもよいし、２種以
上を混合して用いてもよい。
【００５６】（酸により架橋する基を有する化合物）本
発明において、酸により架橋する基を有する化合物とし
ては、酸の存在下でアルカリ可溶性樹脂と架橋し得る化
合物（以下、架橋剤という）、即ち架橋しアルカリに対
する溶解性を低減させ得る架橋剤である。アルカリに対
する溶解性を低減させ得る程度としては、アルカリ可溶
性樹脂と架橋することによって該樹脂が全くのアルカリ
不溶性を示す物性に変化すればよく、具体的には、画像
形成材料として用いた際、露光により前記架橋剤の作用
で本来アルカリ可溶性であったものが現像剤として用い
るアルカリ溶液に対して不溶性を示し、支持体上に残存
している状態を表す。前記架橋剤としては、メチロール
基又はメチロール基の誘導体、メラミン樹脂、フラン樹
脂、イソシアネート、ブロックド−イソシアネート（保
護基を有すイソシアネート）などが挙げられるが、メチ
ロール基又はアセチル化メチロール基を有している架橋
剤が望ましい。感光層固形分に対する添加量は１〜８０
重量％、好ましくは５〜６０重量％である。
【００５７】（赤外線吸収剤）本発明に用いられる赤外
線吸収剤としては、波長７００ｎｍ以上に吸収を持つ赤
外吸収色素、カーボンブラック、磁性粉等を使用するこ
とができる。特に好ましい赤外線吸収剤は７００〜８５
０ｎｍに吸収ピークを有し、ピークでのモル吸光係数ε
が１０5以上の赤外吸収色素である。
【００５８】上記赤外吸収色素としては、シアニン系色
素、スクアリウム系色素、クロコニウム系色素、アズレ
ニウム系色素、フタロシアニン系色素、ナフタロシアニ
ン系色素、ポリメチン系色素、ナフトキノン系色素、チ
オピリリウム系色素、ジチオール金属錯体系色素、アン
トラキノン系色素、インドアニリン金属錯体系色素、分
子間ＣＴ色素等が挙げられる。上記赤外吸収色素として
は、特開昭６３−１３９１９１号、同６４−３３５４７
号、特開平１−１６０６８３号、同１−２８０７５０
号、同１−２９３３４２号、同２−２０７４号、同３−
２６５９３号、同３−３０９９１号、同３−３４８９１
号、同３−３６０９３号、同３−３６０９４号、同３−
３６０９５号、同３−４２２８１号、同３−１０３４７
６号等に記載の化合物が挙げられる。
【００５９】本発明において、赤外線吸収剤として、下
記一般式（３）又は（４）で表されるシアニン系色素が
特に好ましい。
【００６０】
【化７】
【００６１】式中、Ｚ1及びＺ2は各々硫黄原子、セレン
原子又は酸素原子を表し、Ｘ1及びＸ2は各々置換基を有
していてもよいベンゾ縮合環又はナフト縮合環を形成す
るのに必要な非金属原子群を表し、Ｒ3及びＲ4は各々置
換基を表し、Ｒ3及びＲ4のどちらか一方はアニオン性解
離性基を有する。Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7及びＲ8は各々炭素原子
数１〜３のアルキル基、水素原子又はハロゲン原子を表
す。Ｌは炭素原子数５〜１３の共役結合の連鎖を表す。
【００６２】一般式（３）又は（４）で表されるシアニ
ン系色素は、一般式（３）又は（４）がカチオンを形成
し、対アニオンを有するものを包含する。この場合、対
アニオンとしては、Ｃｌ-、Ｂｒ-、ＣｌＯ4 -、ＢＦ4 -、
ｔ−ブチルトリフェニルホウ素等のアルキルホウ素等が
挙げられる。
【００６３】一般式（３）及び（４）において、Ｌで表
される共役結合の連鎖の炭素原子数（ｎ）は、画像露光
の光源として赤外線を放射するレーザーが使用される場
合、該レーザーの発信波長に合わせて有効な値を選択す
ることが好ましい。例えば、発信波長１０６０ｎｍのＹ
ＡＧレーザーを使用する場合は、ｎは９〜１３が好まし
い。又、この共役結合部分は任意の置換基を有すること
ができ、又共役結合部分は複数の置換基により環を形成
させてもよい。又、Ｘ1で表される環及びＸ2で表される
環には任意の置換基を有することができる。該置換基と
してハロゲン原子、炭素原子数１〜５のアルキル基、炭
素原子数１〜５のアルコキシ基、−ＳＯ3Ｍ及び−ＣＯ
ＯＭ（Ｍは水素原子又はアルカリ金属原子）から選ばれ
る基が好ましい。Ｒ3及びＲ4は各々任意の置換基である
が、好ましくは炭素原子数１〜５のアルキル基若しくは
炭素原子数１〜５のアルコキシ基；−（（ＣＨ2）n−Ｏ
−）k−（ＣＨ2）mＯＲ（ｎ及びｍは各々１〜３の整
数、ｋは０又は１、Ｒは炭素原子数１〜５のアルキル基
を表す。）；Ｒ3及びＲ4の一方が−Ｒ−ＳＯ3Ｍで他方
が−Ｒ−ＳＯ3 -（Ｒは炭素原子数１〜５のアルキル基、
Ｍはアルカリ金属原子を表す）；又はＲ3及びＲ4の一方
が−Ｒ−ＣＯＯＭで他方が−Ｒ−ＣＯＯ-（Ｒは炭素原
子数１〜５のアルキル基、Ｍはアルカリ金属原子を表
す。）である。Ｒ3及びＲ4は、感度及び現像性の点か
ら、Ｒ3及びＲ4の一方が上記−Ｒ−ＳＯ3 -又は−Ｒ−Ｃ
ＯＯ-、他方が上記−Ｒ−ＳＯ3Ｍ又は−Ｒ−ＣＯＯＭで
あることが好ましい。
【００６４】一般式（３）又は（４）で表されるシアニ
ン系色素は、画像露光の光源として半導体レーザーを使
用する場合は７５０〜９００ｎｍ、ＹＡＧレーザーを使
用する場合は９００〜１２００ｎｍにおいて吸収ピーク
を示し、ε＞１×１０5のモル吸光係数を有するものが
好ましい。
【００６５】本発明に好ましく用いられる赤外線吸収剤
の代表的具体例を以下に挙げるが、これらに限定される
ものではない。
【００６６】
【化８】
【００６７】
【化９】
【００６８】
【化１０】
【００６９】
【化１１】
【００７０】
【化１２】
【００７１】
【化１３】
【００７２】
【化１４】
【００７３】
【化１５】
【００７４】
【化１６】
【００７５】
【化１７】
【００７６】
【化１８】
【００７７】
【化１９】
【００７８】
【化２０】
【００７９】
【化２１】
【００８０】これらの色素は公知の方法によって合成す
ることができるが、下記のような市販品を用いることも
できる。
【００８１】日本化薬：ＩＲ７５０（アントラキノン
系）；ＩＲ００２，ＩＲ００３（アルミニウム系）；Ｉ
Ｒ８２０（ポリメチン系）；ＩＲＧ０２２，ＩＲＧ０３
３（ジインモニウム系）；ＣＹ−２，ＣＹ−４，ＣＹ−
９，ＣＹ−２０、三井東圧：ＫＩＲ１０３，ＳＩＲ１０
３（フタロシアニン系）；ＫＩＲ１０１，ＳＩＲ１１４
（アントラキノン系）；ＰＡ１００１，ＰＡ１００５，
ＰＡ１００６，ＳＩＲ１２８（金属錯体系）、大日本イ
ンキ化学：Ｆａｓｔｏｇｅｎ ｂｌｕｅ８１２０、みど
り化学：ＭＩＲ−１０１，１０１１，１０２１等。その
他、日本感光色素、住友化学、富士写真フイルム等の各
社からも市販されている。
【００８２】本発明において、赤外線吸収剤の添加量
は、０．５〜１０重量％の範囲が好ましい。該添加量が
１０重量％を越えると非画像部（露光部）の現像性が低
下し、０．５重量％未満では画像部の耐現像性が低下す
る。
【００８３】（溶剤）本発明に用いられる溶剤について
説明する。例えばｎ−プロパノール、イソプロピルアル
コール、ｎ−ブタノール、ｓｅｃ−ブタノール、イソブ
タノール、２−メチル−１−ブタノール、３−メチル−
１−ブタノール、２−メチル−２−ブタノール、２−エ
チル−１−ブタノール、１−ペンタノール、２−ペンタ
ノール、３−ペンタノール、ｎ−ヘキサノール、２−ヘ
キサノール、シクロヘキサノール、メチルシクロヘキサ
ノール、１−ヘプタノール、２−ヘプタノール、３−ヘ
プタノール、１−オクタノール、４−メチル−２−ペン
タノール、２−ヘキシルアルコール、ベンジルアルコー
ル、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリ
エチレングリコール、テトラエチレングリコール、１，
３−プロパンジオール、１，５−ペンタングリコール、
ジメチルトリグリコール、フリフリルアルコール、ヘキ
シレングリコール、ヘキシルエーテル、３−メトキシ−
１−ブタノール、３−メトキシ−３−メチルブタノー
ル、ブチルフェニルエーテル、エチレングリコールモノ
アセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテル
（ＰＧＭ）、プロピレングリコールモノエチルエーテ
ル、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、プロ
ピレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリ
コールフェニルエーテル、ジプロピレングリコールモノ
メチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエ
ーテル、ジプロピレングリコールモノプロピルエーテ
ル、ジプロピレングリコールモノブチルエーテル、トリ
プロピレングリコールモノメチルエーテル、メチルカル
ビトール、エチルカルビトール、エチルカルビトールア
セテート、ブチルカルビトール、トリエチレングリコー
ルモノメチルエーテル、トリエチレングリコールモノエ
チルエーテル、テトラエチレングリコールジメチルエー
テル、ジアセトンアルコール、アセトフェノン、シクロ
ヘキサノン、メチルシクロヘキサノン、アセトニルアセ
トン、イソホロン、乳酸メチル、乳酸エチル、乳酸ブチ
ル、炭酸プロピレン、酢酸フェニル、酢酸−ｓｅｃ−ブ
チル、酢酸シクロヘキシル、シュウ酸ジエチル、安息香
酸メチル、安息香酸エチル、γ−ブチルラクトン、３−
メトキシ−１−ブタノール、４−メトキシ−１−ブタノ
ール、３−エトキシ−１−ブタノール、３−メトキシ−
３−メチル−１−ブタノール、３−メトキシ−３−エチ
ル−１−ペンタノール、４−エトキシ−１−ペンタノー
ル、５−メトキシ−１−ヘキサノール、３−ヒドロキシ
−２−ブタノン、４−ヒドロキシ−２−ブタノン、４−
ヒドロキシ−２−ペンタノン、５−ヒドロキシ−２−ペ
ンタノン、４−ヒドロキシ−３−ペンタノン、６−ヒド
ロキシ−２−ペンタノン、４−ヒドロキシ−３−ペンタ
ノン、６−ヒドロキシ−２−ヘキサノン、３−メチル−
３−ヒドロキシ−２−ペンタノン、メチルセルソルブ
（ＭＣ）、エチルセルソルブ（ＥＣ）等が挙げられる。
又アリルアルコール、イソプロピルエーテル、ブチルエ
ーテル、アニソール、プロピレングリコールモノメチル
エーテルアセテート、ジエチルカルビトール、テトラヒ
ドロフラン、ジオキサン、ジオキソラン、アセトン、メ
チルプロピルケトン、メチルエチルケトン、メチルアミ
ルケトン、ジエチルケトン、エチルブチルケトン、ジプ
ロピルケトン、ジイソブチルケトン、３−ヒドロキシ−
２−ブタノン、４−ヒドロキシ−２−ブタノン、酢酸−
２−メトキシエチル、酢酸−２−エトキシエチル、酢酸
メトキシブチル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エ
チル、プロピオン酸プロピル、酪酸メチル、酪酸エチ
ル、酪酸ブチル、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、アセト
ニトリル、ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、ジメチル
アセトアミド（ＤＭＡｃ）、ｎ−ペンタン、２−メチル
ペンタン、３−エチルペンタン、メチルシクロペンタ
ン、ｎ−ヘキサン、イソヘキサン、シクロヘキサン、メ
チルシクロヘキサン、ｎ−ヘプタン、シクロヘプタン、
ｎ−オクタン、イソオクタン、ノナン、デカン、ベンゼ
ン、トルエン、ｏ−キシレン、ｍ−キシレン、ｐ−キシ
レン、エチルベンゼン、ｏ−ジエチルベンゼン、ｍ−ジ
エチルベンゼン、ｐ−ジエチルベンゼン、クメン、ｎ−
アミルベンゼン、ジメチルジグリコール（ＤＭＤＧ）、
エタノール等が挙げられる。
【００８４】（結合剤）結合剤に使用する高分子重合体
としては、例えば、ポリアミド、ポリエステル、ポリカ
ーボネート、ポリスチレン、ポリウレタン、ポリビニル
クロライド、及びそのコポリマー、ポリビニルブチラー
ル樹脂、ポリビニルホルマール樹脂、シェラック、エポ
キシ樹脂、フェノール樹脂、アクリル樹脂等が挙げられ
る。
【００８５】上記フェノール樹脂としては、ノボラック
樹脂が挙げられ、例えばフェノール・ホルムアルデヒド
樹脂、クレゾール・ホルムアルデヒド樹脂、特開昭５５
−５７８４１号に記載されているようなフェノール・ク
レゾール・ホルムアルデヒド共重縮合体樹脂、特開昭５
５−１２７５５３号に記載されているような、ｐ−置換
フェノールとフェノールもしくは、クレゾールとホルム
アルデヒドとの共重縮合体樹脂等が挙げられる。
【００８６】又上記アクリル樹脂としては、下記（１）
〜（１７）に記載のモノマーの混合物を共重合して得ら
れた共重合高分子重合体が挙げられる。
【００８７】上記モノマー混合物には、上記モノマーと
共重合し得る他のモノマーを混合してもよい。又、高分
子重合体は、上記モノマーの共重合体によって得られる
共重合体を例えば、グリシジルアクリレート、グリシジ
ルメタクリレート等によって修飾したものであってもよ
い。
【００８８】（１）芳香族水酸基を有するモノマー、例
えば、ｏ−ヒドロキシスチレン、ｐ−ヒドロキシスチレ
ン、ｍ−ヒドロキシスチレン、ｏ−ヒドロキシフェニル
アクリレート、ｐ−ヒドロキシフェニルアクリレート、
ｍ−ヒドロキシフェニルアクリレート等。
【００８９】（２）脂肪族水酸基を有するモノマー、例
えば、２−ヒドロキシエチルアクリレート、２ーヒドロ
キシエチルメタクリレート、Ｎ−メチロールアクリルア
ミド、Ｎ−メチロールメタクリルアミド、４−ヒドロキ
シブチルメタクリレート、５−ヒドロキシペンチルアク
リレート、５−ヒドロキシペンチルメタクリレート、６
ーヒドロキシヘキシルアクリレート、６−ヒドロキシヘ
キシルメタクリレート、Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）
アクリルアミド、Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）メタク
リルアミド、ヒドロキシエチルビニルエーテル等。
【００９０】（３）アミノスルホニル基を有するモノマ
ー、例えば、ｍ−アミノスルホニルフェニルメタクリレ
ート、ｐ−アミノスルホニルフェニルメタクリレート、
ｍ−アミノスルホニルフェニルアクリレート、ｐ−アミ
ノフェニルアクリレート、Ｎ−（ｐ−アミノスルホニル
フェニル）メタクリルアミド、Ｎ−（ｐ−アアミノスル
ホニルフェニル）アクリルアミド等。
【００９１】（４）スルホンアミド基を有するモノマ
ー、例えば、Ｎ−（ｐ−トルエンスルホニル）アクリル
アミド、Ｎ−（ｐ−トルエンスルホニル）メタクリルア
ミド等。
【００９２】（５）α、β−不飽和カルボン酸類、例え
ば、アクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、無水マレ
イン酸、イタコン酸、無水イタコン酸等。
【００９３】（６）置換又は無置換のアルキルアクリレ
ート、例えば、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、
アクリル酸プロピル、アクリル酸ブチル、アクリル酸ア
ミル、アクリル酸ヘキシル、アクリル酸ヘプチル、アク
リル酸オクチル、アクリル酸ノニル、アクリル酸デシ
ル、アクリル酸ウンデシル、アクリル酸ドデシル、アク
リル酸ベンジル、アクリル酸シクロヘキシル、アクリル
酸−２−クロロエチル、Ｎ、Ｎ−ジメチルアミノエチル
アクリレート、グリシジルアクリレート等。
【００９４】（７）置換又は無置換のアルキルメタクリ
レート、例えば、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エ
チル、メタクリル酸プロピル、メタクリル酸ブチル、メ
タクリル酸アミル、メタクリル酸ヘキシル、メタクリル
酸ヘプチル、メタクリル酸オクチル、メタクリル酸ノニ
ル、メタクリルデシル、メタクリル酸ウンデシル、メタ
クリル酸ウンデシル、メタクリル酸ドデシル、メタクリ
ル酸ベンジル、メタクリル酸シクロヘキシル、メタクリ
ル酸−２−クロロエチル、Ｎ、Ｎ−ジメチルアミノエチ
ルメタクリレート、グリシジルメタクリレート等。
【００９５】（８）アクリルアミド若しくはメタクリル
アミド類、例えば、アクリルアミド、メタクリルアミ
ド、Ｎ−エチルアクリルアミド、Ｎ−ヘキシルアクリル
アミド、Ｎ−シクロヘキシルアクリルアミド、Ｎ−フェ
ニルアクリルアミド、Ｎ−ニトロフェニルアクリルアミ
ド、Ｎ−エチル−Ｎ−フェニルアクリルアミド、Ｎ−
（４−ヒドロキシフェニル）アクリルアミド、Ｎ−（４
−ヒドロキシフェニル）アクリルアミド、Ｎ−（４−ヒ
ドロキシフェニル）メタクリルアミド等。
【００９６】（９）フッ化アルキル基を含有するモノマ
ー、例えば、トリフルオロエチルアクリレート、トリフ
ルオロエチルメタクリレート、テトラフルオロプロピル
メタクリレート、ヘキサフルオロプロピルメタクリレー
ト、オクタフルオロペンチルアクリレート、オクタフル
オロペンチルメタクリレート、ヘプタデカフルオロデシ
ルメタクリレート、Ｎ−ブチル−Ｎ−（２−アクリロキ
シエチル）ヘプタデカフルオロオクチルスルホンアミド
等。
【００９７】（１０）ビニルエーテル類、例えば、エチ
ルビニルエーテル、２−クロロエチルビニルエーテル、
プロピルビニルエーテル、ブチルビニルエーテル、オク
チルビニルエーテル、フェニルビニルエーテル類。
【００９８】（１１）ビニルエステル類、例えば、ビニ
ルアセテート、ビニルクロロアセテート、ビニルブチレ
ート、安息香酸ビニル等。
【００９９】（１２）スチレン類、例えば、スチレン、
メチルスチレン、クロロメチルスチレン等。
【０１００】（１３）ビニルケトン類、例えば、メチル
ビニルケトン、エチルビニルケトン、プロピルビニルケ
トン、フェニルビニルケトン等。
【０１０１】（１４）オレフィン類、例えば、エチレ
ン、プロピレン、イソブチレン、ブタジエン、イソプレ
ン等。
【０１０２】（１５）Ｎ−ビニルピロリドン、Ｎ−ビニ
ルカルバゾール、４−ビニルピリジン等。
【０１０３】（１６）シアノ基を有するモノマー、例え
ばアクリロニトリル、メタクリロニトリル、２−ペンテ
ンニトリル、２−メチル−３−ブテンニトリル、２−シ
アノエチルアクリレート、ｏ−シアノスチレン、ｍ−シ
アノスチレン、ｐ−シアノスチレン等。
【０１０４】（１７）アミノ基を有するモノマー、例え
ばＮ，Ｎ−ジエチルアミノエチルメタクリレート、Ｎ、
Ｎ−ジメチルアミノエチルアクリレート、Ｎ，Ｎ−ジメ
チルアミノエチルメタクリレート、ポリブタジエンウレ
タンアクリレート、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノプロピルア
クリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアクリルアミド、アク
リロイルモルホリン、Ｎ−イソプロピルアクリルアミ
ド、Ｎ，Ｎ−ジエチルアクリルアミド等。
【０１０５】上記、共重合体は、ゲルパーミエーション
クロマトグラフィー（ＧＰＣ）によって、測定された重
量平均分子量が１万〜２０万のものが好ましいが、当該
共重合体の重量平均分子量はこの範囲に限定されるもの
ではない。
【０１０６】上記高分子重合体には、必要に応じて、ポ
リビニルブチラール樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリアミ
ド樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、ノボラック
樹脂、天然樹脂等、他の任意の高分子重合体を併用して
もよい。
【０１０７】感光性組成物中における高分子重合体の含
有量は、２０〜９０重量％の範囲が好ましく、３０〜７
０重量％の範囲が更に好ましい。
【０１０８】本発明の好ましい態様として、ノボラック
樹脂及びアクリル樹脂を含有する態様が挙げられる。該
アクリル樹脂はアクリル酸、メタクリル酸、又はそれら
のエステル類を構成単位とする重合体が好ましい。ノボ
ラック樹脂は感光層に対して２０〜８０重量％の範囲で
含有させることが好ましく、アクリル樹脂は感光層に対
して１〜５０重量％の範囲で含有させることが好まし
く、５〜３０重量％の範囲がより好ましい。
【０１０９】又本発明の好ましい態様としてノボラック
樹脂及びノニオン界面活性剤を含有する態様が挙げられ
る。ノニオン界面活性剤としては、ポリオキシエチレン
アルキルエーテル、ポリオキシエチレンアルキルアリル
エーテル、ポリオキシエチレン誘導体、オキシエチレン
・オキシプロピレンブロックコポリマー、ソルビタン脂
肪酸エステル、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エ
ステル、ポリオキシエチレンソルビトール脂肪酸エステ
ル、グリセリン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレン脂
肪酸エステル、ポリオキシエチレンアルキルアミン、ア
ルキルアルカノールアミド、ポリエチレングリコール等
が挙げられる。ノボラック樹脂は感光層固形分に対して
２０〜８０重量％の範囲で含有させることが好ましく、
ノニオン界面活性剤は感光層固形分に対して０．０１〜
１０重量％の範囲で含有させることが好ましく、０．１
〜１．０重量％の範囲がより好ましい。
【０１１０】本発明においては、フッ素系界面活性剤を
０．００１〜５重量％含有させることが経時による非画
像部の汚れ発生防止の点から好ましい。フッ素系界面活
性剤としては例えば次のような化合物が挙げられる。
【０１１１】
【化２２】
【０１１２】フッ素系界面活性剤としては市販品を用い
ることもでき、例えばサーフロン「Ｓ−３８１」、「Ｓ
−３８２」、「ＳＣ−１０１」、「ＳＣ−１０２」、
「ＳＣ−１０３」、「ＳＣ−１０４」（何れも旭硝子
（株）製）、フロラード「ＦＣ−４３０」、「ＦＣ−４
３１」、「ＦＣ−１７３」（何れもフロロケミカル−住
友スリーエム製）、エフトップ「ＥＦ３５２」、「ＥＦ
３０１」、「ＥＦ３０３」（何れも新秋田化成（株）
製）、シュベゴーフルアー「８０３５」、「８０３６」
（何れもシュベグマン社製）、「ＢＭ１０００」、「Ｂ
Ｍ１１００」（いずれもビーエム・ヒミー社製）、メガ
ファック「Ｆ−１７１」、「Ｆ−１７７」、「Ｆ−１７
９」（いずれも大日本インキ化学（株）製）、などを挙
げることができる。
【０１１３】本発明におけるフッ素系界面活性剤のフッ
素含有割合は、０．０５〜２％、好ましくは０．１〜１
％である。上記のフッ素系界面活性剤は、１種又は２種
以上を併用することができ、又その他の界面活性剤と併
用することができる。
【０１１４】更に、感光層には、感脂性を向上するため
に親油性の樹脂を添加することができる。上記親油性の
樹脂としては、例えば特開昭５０−１２５８０６号に記
載されているような、炭素数３〜１５のアルキル基で置
換されたフェノール類とアルデヒドの縮合物、例えばｔ
−ブチルフェノールホルムアルデヒド樹脂などが使用可
能である。感光層には必要に応じて、更に上記以外の色
素、顔料、増感剤、可視画剤等を含有させることができ
る。
【０１１５】本発明の画像形成材料は、上述した金属支
持体上に、上記の感光性組成物を含有する感光層を有し
てなることを特徴とする。具体的には、上記の感光性組
成物の塗布液を支持体の表面に塗布して感性層を設け、
乾燥することで得られる。本発明においては、上記感光
層の残留溶剤量が５ｍｇ／ｍ2以下であることが好まし
く、更に好ましくは３ｍｇ／ｍ2以下である。
【０１１６】本発明の画像形成材料の製造方法は、上述
した金属支持体上に上記感光性組成物を設けた後、好ま
しくは乾燥温度８５℃以上、乾燥時間１０秒以上の条件
で処理を行う。好ましくは乾燥温度９０℃以上、乾燥時
間３０秒以上であり、それらの条件で感光層表面の残留
溶剤量が５ｍｇ／ｍ2以下となるよう処理することが好
ましい。
【０１１７】塗布方法は従来公知の方法、例えば回転塗
布、ワイヤーバー塗布、ディップ塗布、エアーナイフ塗
布、ロール塗布、ブレード塗布及びカーテン塗布等が可
能である。塗布量は用途により異なるが、例えば、感光
性平版印刷版についていえば固形分として０．５〜５．
０ｇ／ｍ2が好ましい。
【０１１８】〔２〕画像形成方法 本発明の画像形成材料には波長７００ｎｍ以上の光源を
用い画像露光を行うのが好ましい。光源としては、半導
体レーザー、Ｈｅ−Ｎｅレーザー、ＹＡＧレーザー、炭
酸ガスレーザー等が挙げられる。出力は５０ｍＷ以上が
適当であり、好ましくは１００ｍＷ以上である。
【０１１９】本発明の画像形成材料の現像に用いられる
現像液としては、水系アルカリ現像液が好適である。水
系アルカリ現像液としては、例えば、水酸化ナトリウ
ム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、
メタケイ酸ナトリウム、メタケイ酸カリウム、第二リン
酸ナトリウム、第三リン酸ナトリウム等のアルカリ金属
塩の水溶液が挙げられる。アルカリ金属塩の濃度は０．
０５〜２０重量％の範囲で用いるのが好適であり、より
好ましくは、０．１〜１０重量％である。
【０１２０】本発明の画像形成方法において、現像液に
は、必要に応じアニオン性界面活性剤、両性界面活性剤
やアルコール等の有機溶剤を加えることができる。
【０１２１】有機溶剤としては、プロピレングリコー
ル、エチレングリコールモノフェニルエーテル、ベンジ
ルアルコール、ｎ−プロピルアルコール等が有用であ
る。
【０１２２】
【実施例】以下、実施例を挙げて本発明を詳細に説明す
るが、本発明の態様はこれに限定されない。尚、以下の
「部」は「重量部」を表す。
【０１２３】実施例１ 〈支持体１の作製〉厚さ０．３ｍｍのアルミニウム板
（材質１０５０、調質Ｈ１６）を６５℃に保たれた５％
水酸化ナトリウム水溶液で１分間脱脂処理を行った後水
洗し、２５℃に保たれた１０％硫酸水溶液中に１分間浸
積して中和し、更に水洗した。このアルミニウム板を
１．０重量％の硝酸水溶液中において温度２５℃、電流
密度１０Ａ／ｄｍ2、処理時間６０秒の条件で交流電流
により電解粗面化を行なった。次いで、５％水酸化ナト
リウム水溶液中で温度６０℃、１０秒間のデスマット処
理を行ない、その後２０％硫酸溶液中で温度２０℃、電
流密度３Ａ／ｄｍ2、処理時間１分間の条件で陽極酸化
処理を行った。その後、８０℃に保たれた１％酢酸アン
モニウム水溶液中に３０秒間浸積し、水洗後８０℃で３
分間乾燥した。更に８５℃に保たれたカルボキシメチル
セルロース（以下、ＣＭＣと略す）の水溶液（濃度０．
１重量％）に３０秒浸積して断熱層を設けた後、８０℃
で５分間乾燥し支持体を作製した。尚、断熱層の皮膜量
は０．０１ｍｇ／ｍ2であった。
【０１２４】（酸分解化合物Ａの合成）１．１−ジメト
キシシクロヘキサノン（０．５モル）、２−フェノキシ
エタノール（１．０モル）及びｐ−トルエンスルホン酸
８０ｍｇを混合し、攪拌させながら１２０℃で８時間反
応させた。反応により生成するメタノール及び反応溶剤
は、反応終了後除去した。冷却後、水で洗浄し水酸化ナ
トリウム溶液で洗浄し、その後中性になるまで飽和食塩
水で洗浄し、得られた化合物を無水炭酸カリウムで脱水
した後濃縮乾固して目的の下記酸分解化合物Ａの白色結
晶を得た。
【０１２５】（感光性組成物１の作製）以下に示すよう
な割合で混合し感光性組成物とした。
【０１２６】 バインダーＡ ６０．７５部 バインダーＢ 分子量；３８０００ １５部 酸分解化合物Ａ ２０部 酸発生剤（例示（１）） ３部 シアニン色素（例示ＩＲ−２５） １部 界面活性剤（旭硝子Ｓ−３８１） ０．２５部 溶剤（ＰＧＭ） １０００部 バインダーＡ：フェノールとｍ−，ｐ−混合クレゾール
とホルムアルデヒドとの共縮合化合物 Ｍｗ＝３７００
（フェノール／ｍ−クレゾール／ｐ−クレゾールのモル
比が５／５７／３８
【０１２７】
【化２３】
【０１２８】（画像形成材料の作製）前記作製した支持
体上に、上記組成の感光性組成物よりなる感光層塗布液
を、乾燥後の膜厚が２．０ｇ／ｍ2になるようにワイヤ
ーバー塗布を行ない９５℃で９０秒間乾燥して画像形成
材料（感光性平版印刷版）を得た。尚、ここでいう感光
層を感光層１とする。
【０１２９】（画像形成）得られた感光性平版印刷版を
半導体レーザー（波長８３０ｎｍ、出力５００ｍｗ）で
画像露光を行なった。レーザー光径はピークにおける強
度の１／ｅ2で１３μｍであった。又、解像度は走査方
向、副走査方向とも２０００ｄｐｉとした。
【０１３０】画像露光後、コニカ平版印刷版用現像液Ｓ
ＤＲ−１（コニカ（株）製）と水との比が１：５となる
よう希釈した。その後３０℃に保った現像液に３０秒間
浸積して現像を行なった後、水洗、乾燥を行なった。こ
の際、非画線部（露光部）を除去し、ポジ型画像を形成
する。
【０１３１】〈評価〉 （感度）上記条件において露光部が現像されるのに必要
な露光エネルギー（ｍｊ／ｃｍ2）で評価した。
【０１３２】（ドットゲイン）上記感度にて画像形成し
た平版印刷版で得られたデータを元に、最適露光条件を
設定し、別途用意した平版印刷版に最適露光エネルギー
で再度画像露光を行い、現像し小点を作成した。印刷機
（三菱重工業（株）ＤＡＩＹＡ１Ｆ−Ｉ）、コート紙、
湿し水（東京インキ（株）ＳＧ−５１，濃度１．５
％）、インキ（東洋インキ製造（株）製ハイプラスＭ
紅）を使用し、画像部の濃度を１．６にして印刷を行っ
たときの印刷物上のスクリーン線数１５０ｌｉｎｅ／ｉ
ｎｃｈの５０％網点を測定しゲイン量を測定した。面積
の測定はマクベス濃度計を使用した。
【０１３３】実施例２ 以下に示すような割合で混合し感光性組成物とした。
【０１３４】 （感光性組成物２の作製） バインダーＡ ５０部 バインダーＢ 分子量；３８０００ １０部 酸架橋型樹脂：レゾール樹脂（昭和高分子社製ショーノールＣＫＰ−９１８） ３５．７５部 光酸発生剤（例示（１）） ３部 シアニン色素（例示ＩＲ−２５） １部 界面活性剤（旭硝子Ｓ−３８１） ０．２５部 溶剤（ＰＧＭ） １０００部 （画像形成材料の作製）前記作製した支持体上に、上記
組成の感光性組成物よりなる感光層塗布液を実施例１同
様に塗布を行ない、画像形成材料（感光性平版印刷版）
を得た。尚、ここでいう感光層を感光層２とする。
【０１３５】（画像形成）得られた感光性平版印刷版を
半導体レーザー（波長８３０ｎｍ、出力５００ｍｗ）で
画像露光を行なった。その際、レーザー光径はピークに
おける強度の１／ｅ2で１３μｍであった。又、解像度
は走査方向、副走査方向とも２０００ｄｐｉとした。画
像露光後、コニカ平版印刷版用現像液ＳＤＲ−１（コニ
カ（株）製）と水との比が１：５となるよう希釈した。
その後３０℃に保った現像液に３０秒間浸漬して現像を
行なった後、水洗、乾燥を行なった。この際、非画線部
（露光部）を除去し、ネガ型画像を形成する。評価は、
実施例１と同様に行った。
【０１３６】実施例３〜２０ 実施例１で用いた支持体１を表１及び表２に示すように
変更した他は同様にして実施例３〜２０を行った。尚、
実施例１〜１０は態様１及び２における本発明であり、
実施例１１〜１４は態様１における本発明であり、実施
例１５〜２０は比較例である。
【０１３７】得られた結果を以下の表１及び表２に示
す。
【０１３８】
【表１】
【０１３９】
【表２】
【０１４０】表１及び表２から明らかなように、本発明
により得られたポジ型或いはネガ型の平版印刷版は、赤
外線による露光で画像形成が可能であるのみならず赤外
線に対する感度が高く、かつドットゲインの変動の少な
い良好な画像を呈することが分かる。
【０１４１】実施例２１〜３６ 以下のようにして支持体を作製した。
【０１４２】〈支持体１１の作製〉厚さ０．２４ｍｍの
アルミニウム板（材質１０５０、調質Ｈ１６）を６５℃
に保たれた５％水酸化ナトリウム水溶液で１分間脱脂処
理を行った後水洗した。その後、２．２５ＫＷモーター
からなる研磨ブラシ（材質：ナイロン）３本でストンパ
ウダー２０％水溶液の研磨剤を使用し、搬送速度６ｍ／
分でブラシ研磨を行った。次に温度２０℃、２．５％塩
酸浴において電流密度２０Ａ／ｄｍ2、電解時間１０秒
間（電気容量として２００クーロン）交流電解研磨し、
水洗処理後５％水酸化ナトリウムで５０℃、５秒間デス
マット処理し、次いで５０％硝酸で中和洗浄した。
【０１４３】〈支持体１２の作製〉厚さ０．２４ｍｍの
アルミニウム板（材質１０５０、調質Ｈ１６）を６５℃
に保たれた５％水酸化ナトリウム水溶液で１分間脱脂処
理を行った後水洗した。その後、２．２５ＫＷモーター
からなる研磨ブラシ（材質：ナイロン）３本でストンパ
ウダー２０％水溶液の研磨剤を使用し、搬送速度６ｍ／
分でブラシ研磨を行った。次に温度２０℃、１．０ｗｔ
％の硝酸水溶液中において、温度２５℃、電流密度１０
Ａ／ｄｍ2、処理時間６０秒の条件で交流電流により電
解粗面化を行なった。次いで、５％水酸化ナトリウム水
溶液中で温度６０℃、１０秒間のデスマット処理を行な
った後、５０％硝酸で中和洗浄した。
【０１４４】〈支持体１３の作製〉厚さ０．２４ｍｍの
アルミニウム板（材質１０５０、調質Ｈ１６）を６５℃
に保たれた５％水酸化ナトリウム水溶液で１分間脱脂処
理を行った後水洗した。その後、２．２５ＫＷモーター
からなる研磨ブラシ（材質：ナイロン）３本でストンパ
ウダー２０％水溶液の研磨剤を使用し、搬送速度６ｍ／
分でブラシ研磨を行った。次に温度２０℃、１．０ｗｔ
％の硝酸水溶液中において、温度２５℃、電流密度１０
Ａ／ｄｍ2、処理時間６０秒の条件で交流電流により電
解粗面化を行なった。次いで、５％水酸化ナトリウム水
溶液中で温度６０℃、１０秒間のデスマット処理を行な
った。その後、２０％硫酸溶液中で温度２０℃、電流密
度３Ａ／ｄｍ2、処理時間１分間の条件で陽極酸化処理
を行い、水洗、乾燥した。
【０１４５】〈支持体１４の作製〉厚さ０．２４ｍｍの
アルミニウム板（材質１０５０、調質Ｈ１６）を６５℃
に保たれた５％水酸化ナトリウム水溶液で１分間脱脂処
理を行った後水洗した。その後、２．２５ＫＷモーター
からなる研磨ブラシ（材質：ナイロン）３本でストンパ
ウダー２０％水溶液の研磨剤を使用し、搬送速度６ｍ／
分でブラシ研磨を行った。次に温度２０℃、１．０ｗｔ
％の硝酸水溶液中において、温度２５℃、電流密度１０
Ａ／ｄｍ2、処理時間６０秒の条件で交流電流により電
解粗面化を行なった。次いで、５％水酸化ナトリウム水
溶液中で温度６０℃、１０秒間のデスマット処理を行な
った。その後、２０％硫酸溶液中で温度２０℃、電流密
度３Ａ／ｄｍ2、処理時間１分間の条件で陽極酸化処理
を行った。８５℃に保たれたポリビニルホスホン酸（以
下、ＰＶＰＡと略す）の水溶液（濃度０．１ｗｔ％）に
３０秒浸漬した後、８０℃で５分間乾燥した（断熱材：
ＰＶＰＡの付き量０．０１ｍｇ／ｍ2）。
【０１４６】〈支持体１５の作製〉厚さ０．２４ｍｍの
アルミニウム板（材質１０５０、調質Ｈ１６）を研磨ブ
ラシ（材質：ナイロン）と４００メッシュのパミストン
水懸濁液を用いてアルミ表面をブラシ研磨し、水洗し
た。１０％水酸化ナトリウム水溶液中にて７０℃、６０
秒間でエッチングを行い、水洗後、２０％硝酸水溶液で
中和洗浄した。これをＶａ＝１２．７Ｖの条件下で正弦
波の交番波形電流を用いて１％硝酸水溶液中で１６０Ｃ
／ｄｍ2の条件下で電解粗面化を行った。次いで、３０
％の硫酸水溶液中に浸漬し、温度５５℃、処理時間２分
でデスマット処理を行った。その後、２０％硫酸水溶液
中で電流密度２Ａ／ｄｍ2条件下で２分間陽極酸化処理
を行った。
【０１４７】〈支持体１６の作製〉厚さ０．２４ｍｍの
アルミニウム板（材質１０５０、調質Ｈ１６）を研磨ブ
ラシ（材質：ナイロン）をトリクロロエチレン洗浄し脱
脂後、４００メッシュのパミストン水懸濁液を用いてア
ルミ表面をブラシ研磨し水洗した。このアルミ板を２５
％水酸化ナトリウム水溶液に４５℃で１０秒間浸漬して
水洗した。次いで７％硫酸電解液、電流密度１５Ａ／ｄ
ｍ2で直流陽極酸化皮膜を設け、水洗乾燥した。
【０１４８】〈支持体１７の作製〉厚さ０．２４ｍｍの
アルミニウム板（材質１０５０、調質Ｈ１６）を２６％
水酸化カリウム、温度７５℃でスプレーによるエッチン
グ処理を行い、水洗洗浄した。次いで１％塩酸水溶液、
温度３０℃でスプレーによるデスマット処理を行い後に
水洗洗浄した。そして１％塩酸水溶液、温度３５℃で連
続式直流電圧粗面化を行った。条件は、直流電圧のリッ
プ率１０％、電流密度２５Ａ／ｄｍ2、電気量１００Ｃ
／ｄｍ2とした。その後、水洗洗浄を行った。次いで２
６％水酸化カリウム、温度７５℃でスプレーによるエッ
チング処理を行い、水洗洗浄した。１％硝酸水溶液、温
度３０℃でスプレーによるデスマット処理を行い後に水
洗洗浄した。１％硝酸水溶液で、温度４５℃で連続式交
流電圧粗面化を行った。条件は、電流密度６０Ａ／ｄｍ
2、電気量２３０Ｃ／ｄｍ2で行い、処理後水洗洗浄を行
った。次いで５％水酸化カリウム、温度７５℃でスプレ
ーによるエッチング処理を行い、水洗洗浄した。１５％
硫酸水溶液、温度６０℃でスプレーによるデスマット処
理を行い、水洗洗浄を行った。これを１５％硫酸水溶
液、温度３５℃、電流密度２Ａ／ｄｍ2で直流電圧で陽
極酸化を行い、水洗により洗浄を行い支持体の作製を行
った。
【０１４９】〈支持体１８の作製〉厚さ０．２４ｍｍの
アルミニウム板（材質１０５０、調質Ｈ１６）を２６％
水酸化カリウム、温度７５℃でスプレーによるエッチン
グ処理を行い、水洗洗浄した。１％塩酸水溶液、温度３
０℃でスプレーによるデスマット処理を行い、水洗洗浄
した。１％塩酸水溶液、温度３５℃で連続式直流電圧粗
面化を行った。条件は、直流電圧のリップ率１０％、電
流密度２５Ａ／ｄｍ2、電気量１００Ｃ／ｄｍ2とした。
その後水洗洗浄を行った。次いで２６％水酸化カリウ
ム、温度７５℃でスプレーによるエッチング処理を行
い、水洗洗浄した。１％硝酸水溶液、温度３０℃でスプ
レーによるデスマット処理を行った後水洗洗浄した。１
％硝酸水溶液、温度４５℃で連続式交流電圧粗面化を行
った。条件は、電流密度６０Ａ／ｄｍ2、電気量２３０
Ｃ／ｄｍ2とし、処理後水洗洗浄を行った。次いで５％
水酸化カリウム、温度７５℃でスプレーによるエッチン
グ処理を行い、水洗洗浄した。１５％硫酸水溶液、温度
６０℃でスプレーによるデスマット処理を行い、水洗洗
浄を行った。これを１５％硫酸水溶液、温度３５℃、電
流密度２Ａ／ｄｍ2で直流電圧で陽極酸化を行い、水洗
洗浄を行った。支持体表面に断熱層を有する目的で、８
５℃に保たれたＰＶＰＡの水溶液（濃度０．１ｗｔ％）
に３０秒浸漬した後、８０℃で５分間乾燥し、支持体を
作製した（断熱材：ＰＶＰＡの付き量０．０１ｍｇ／ｍ
2）。
【０１５０】〈酸分解化合物Ｂの合成〉５００ｍｌ三口
フラスコにシクロヘキサノンジメチルアセタール５７．
６８ｇ（０．４ｍｏｌ）、ジエチレングリコール４２．
４５ｇ（０．４ｍｏｌ）、ｐ−トルエンスルホン酸一水
和物０．１９ｇ（０．００１ｍｏｌ）、及びトルエン２
００ｍｌを仕込み、還流加熱で反応した。分水器で２０
分に一度トルエンとメタノールを除き、新しいトルエン
を追加した。８時間反応させ反応終了とした。
【０１５１】放冷した後反応物を水で洗浄し、水酸化ナ
トリウムで中和洗浄し、脱水後、反応物を減圧濃縮によ
りワックス状の酸分解化合物Ｂ（分子量１２００、収率
７２．１％）を得た。
【０１５２】次に、以下のように感光層３用の感光性組
成物３を作製した。
【０１５３】（感光性組成物３の作製）以下に示すよう
な割合で混合し感光性組成物とした。
【０１５４】 バインダーＡ ６０．７５重量部 バインダーＢ 分子量；３８０００ １５重量部 酸分解化合物Ｂ ２０重量部 光酸発生剤（例示（１）） ３重量部 シアニン色素（例示ＩＲ−１５） １重量部 界面活性剤（旭硝子Ｓ−３８１） ０．２５重量部 溶剤（ＰＧＭ） １０００重量部 上述した支持体１１〜１８上に、実施例１で用いた感光
層１及び上記の如く得られた感光層３の塗布液を乾燥後
の膜厚が２．０ｇ／ｍ2になるようにワイヤーバー塗布
を行ない、９５℃で９０秒間乾燥して平版印刷版を得
た。尚、支持体の特性は表３参照。
【０１５５】（画像形成）得られた平版印刷版を、半導
体レーザー（波長８３０ｎｍ、出力５００ｍｗ）で画像
露光を行なった。レーザー光径はピークにおける強度の
１／ｅ2で１３μｍであった。又、解像度は走査方向、
副走査方向とも２０００ｄｐｉとした。画像露光の後、
コニカＰＳ版用現像液ＳＤＲ−１（コニカ（株）製）と
水との比が１：５となるよう希釈した。その後３０℃に
保った前記現像液に３０秒間浸漬し現像を行なった後水
洗乾燥を行ない、画像を形成した。
【０１５６】得られた画像に対し、実施例１と同様の評
価を行った。得られた結果を以下の表３に示す。尚、実
施例２１〜３６は態様１における本発明であり、実施例
２７、２８及び３５、３６は態様２における本発明であ
る。
【０１５７】
【表３】
【０１５８】表３から明らかなように、本発明により得
られたポジ型或いはネガ型の平版印刷版は、赤外線によ
る露光で画像形成が可能であるのみならず赤外線に対す
る感度が高く、かつドットゲインの変動の少ない良好な
画像を呈することが分かる。
【０１５９】
【発明の効果】本発明の画像形成材料及び画像形成方法
により、近赤外〜赤外線領域による露光で画像形成が可
能で、特に該領域に発光領域を有するレーザーを用いて
記録することによりコンピューター等のデジタルデータ
から直接製版が可能であり、しかも該領域に対する感度
が高く、かつドットゲイン変動率が改善された画像を得
ることができるという顕著に優れた効果を奏する。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 ＦＩ Ｇ０３Ｆ 7/039 ６０１ Ｇ０３Ｆ 7/039 ６０１ 7/09 ５０１ 7/09 ５０１ 7/11 ５０３ 7/11 ５０３ 7/20 ５０５ 7/20 ５０５

Claims (9)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 皮膜量１０以上６０ｍｇ／ｄｍ2以下の
    陽極酸化皮膜を有する金属支持体上に、活性光線の照射
    により酸を発生し得る化合物、酸により架橋する基を有
    する化合物及び赤外線吸収剤を含有する感光層を有して
    なることを特徴とする画像形成材料。
  2. 【請求項２】 皮膜量１０以上６０ｍｇ／ｄｍ2以下の
    陽極酸化皮膜を有する金属支持体上に、活性光線の照射
    により酸を発生し得る化合物、酸により分解し得る結合
    部を有する化合物及び赤外線吸収剤を含有する感光層を
    有してなることを特徴とする画像形成材料。
  3. 【請求項３】 金属支持体上に、皮膜量０．００１以上
    １０ｍｇ／ｍ2以下の断熱層、活性光線の照射により酸
    を発生し得る化合物、酸により架橋する基を有する化合
    物及び赤外線吸収剤を含有する感光層を有してなること
    を特徴とする画像形成材料。
  4. 【請求項４】 金属支持体上に、皮膜量０．００１以上
    １０ｍｇ／ｍ2以下の断熱層、活性光線の照射により酸
    を発生し得る化合物、酸により分解し得る結合部を有す
    る化合物及び赤外線吸収剤を含有する感光層を有してな
    ることを特徴とする画像形成材料。
  5. 【請求項５】 上記断熱層が支持体と感光層との間に設
    けられていることを特徴とする請求項３又は４記載の画
    像形成材料。
  6. 【請求項６】 上記断熱層が現像液可溶な樹脂を有して
    なることを特徴とする請求項３乃至５の何れか１項記載
    の画像形成材料。
  7. 【請求項７】 上記金属支持体の表面の中心線平均粗さ
    （Ｒａ）が０．３以上０．７μｍ以下、平均粗さ（Ｒ
    ｚ）が３．０以上６．０μｍ以下であり、感光層を除去
    した際の支持体の表面エネルギーγ（Ｈ：水素結合力）
    が、下記式で１５以上５０ｄｙｎｃｍ以下であることを
    特徴とする請求項１乃至６の何れか１項記載の画像形成
    材料。 γ（Ｈ）ｄｙｎ／ｃｍ＝〔（１．１５９＋２．１５９×
    ｃｏｓ（接触角：Ｈ2Ｏ）−ｃｏｓ（接触角：ＣＨ
    2Ｉ2）〕／０．３７９2 （接触角はＨ2Ｏ：１．７μｌ、ＣＨ2Ｉ2：１．３μｌ
    を滴下し３０秒後に測定）
  8. 【請求項８】 上記金属支持体がアルミニウム板である
    ことを特徴とする請求項１乃至７の何れか１項記載の画
    像形成材料。
  9. 【請求項９】 請求項１乃至８の何れか１項記載の画像
    形成材料の感光層を有する表面を活性光線を照射して画
    像を形成することを特徴とする画像形成方法。
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