JPH10171108A - 画像形成材料及び画像形成方法 - Google Patents
画像形成材料及び画像形成方法Info
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- JPH10171108A JPH10171108A JP8316192A JP31619296A JPH10171108A JP H10171108 A JPH10171108 A JP H10171108A JP 8316192 A JP8316192 A JP 8316192A JP 31619296 A JP31619296 A JP 31619296A JP H10171108 A JPH10171108 A JP H10171108A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 赤外線による露光で画像形成が可能なポジ型
の画像形成材料及び画像形成方法、耐刷性が向上し、現
像後のベーク処理が不要な画像形成材料及び画像形成方
法、及び画像露光後の熱処理条件を緩和でき、処理速度
を向上できる画像形成材料及び画像形成方法を提供す
る。 【解決手段】 支持体上に、活性光線の照射により酸を
発生し得る化合物、レゾール、芳香族水酸基を含む単量
体単位を一部に含むアクリル樹脂（例えば、エチルアク
リレート／エチルメタクリレート／アクリロニトリル／
ビニルベンジルアセテート／４−ヒドロキシフェニルメ
タクリルアミド共重合体）及び赤外線吸収剤を含有する
感光層を有する画像形成材料、及び上記画像形成材料の
感光層上に赤外線を用いて画像を描写した後、アルカリ
性現像液で露光部を除去する工程を有する画像形成方
法。
の画像形成材料及び画像形成方法、耐刷性が向上し、現
像後のベーク処理が不要な画像形成材料及び画像形成方
法、及び画像露光後の熱処理条件を緩和でき、処理速度
を向上できる画像形成材料及び画像形成方法を提供す
る。 【解決手段】 支持体上に、活性光線の照射により酸を
発生し得る化合物、レゾール、芳香族水酸基を含む単量
体単位を一部に含むアクリル樹脂（例えば、エチルアク
リレート／エチルメタクリレート／アクリロニトリル／
ビニルベンジルアセテート／４−ヒドロキシフェニルメ
タクリルアミド共重合体）及び赤外線吸収剤を含有する
感光層を有する画像形成材料、及び上記画像形成材料の
感光層上に赤外線を用いて画像を描写した後、アルカリ
性現像液で露光部を除去する工程を有する画像形成方
法。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、活性光の照射によ
って酸を生成する化合物、酸の存在下に化学変化する化
合物及び赤外線吸収剤を含有し、ポジ型としてもまたネ
ガ型としても機能し得る赤外線感光性の感光層を有する
画像形成材料及び画像形成方法に関する。
って酸を生成する化合物、酸の存在下に化学変化する化
合物及び赤外線吸収剤を含有し、ポジ型としてもまたネ
ガ型としても機能し得る赤外線感光性の感光層を有する
画像形成材料及び画像形成方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、活性光の照射によって可溶化する
ポジ型の感光層として、光酸発生剤と酸分解性化合物と
を含有する感光層を有する画像形成材料が知られてい
る。即ち、米国特許第３，７７９，７７８号明細書に
は、酸で分解する特定の基を有する水不溶性化合物を含
有する感光性組成物が、特開昭５３−１３３４２９号公
報には、主鎖にアセタール又はケタール基を有する化合
物を含有する感光性組成物が、また、特開昭６０−３７
５４９号公報には、シリルエーテル基を有する化合物を
含有する組成物が開示されている。しかしながら、これ
らは何れも紫外線に感度を有し、紫外線による露光によ
ってアルカリ可溶化して非画像部となるもので、安価で
コンパクトな半導体レーザーのような赤外線による画像
露光はできない。
ポジ型の感光層として、光酸発生剤と酸分解性化合物と
を含有する感光層を有する画像形成材料が知られてい
る。即ち、米国特許第３，７７９，７７８号明細書に
は、酸で分解する特定の基を有する水不溶性化合物を含
有する感光性組成物が、特開昭５３−１３３４２９号公
報には、主鎖にアセタール又はケタール基を有する化合
物を含有する感光性組成物が、また、特開昭６０−３７
５４９号公報には、シリルエーテル基を有する化合物を
含有する組成物が開示されている。しかしながら、これ
らは何れも紫外線に感度を有し、紫外線による露光によ
ってアルカリ可溶化して非画像部となるもので、安価で
コンパクトな半導体レーザーのような赤外線による画像
露光はできない。
【０００３】半導体レーザーのような赤外線で画像露光
が可能な技術として、米国特許第５，３４０．６９９号
明細書には、酸発生剤、レゾール樹脂、ノボラック樹脂
及び赤外線吸収剤を含有する感光層を有し、画像露光の
後、現像処理前に加熱処理を施すことによりネガ型の画
像形成材料として使用され、上記加熱処理を施さないと
ポジ型の画像形成材料として使用される技術が開示され
ている。しかし、この技術を感光性平版印刷版に適用し
たとき、耐刷性が十分でないため、現像後のベーク処理
でこれを補っており、使用に手間がかかる問題がある。
また、画像露光後現像前の熱処理に時間がかかり処理速
度が低下する。また、該熱処理の温度が高いため、電力
の消費や機器にかかる負荷が大きい問題がある。
が可能な技術として、米国特許第５，３４０．６９９号
明細書には、酸発生剤、レゾール樹脂、ノボラック樹脂
及び赤外線吸収剤を含有する感光層を有し、画像露光の
後、現像処理前に加熱処理を施すことによりネガ型の画
像形成材料として使用され、上記加熱処理を施さないと
ポジ型の画像形成材料として使用される技術が開示され
ている。しかし、この技術を感光性平版印刷版に適用し
たとき、耐刷性が十分でないため、現像後のベーク処理
でこれを補っており、使用に手間がかかる問題がある。
また、画像露光後現像前の熱処理に時間がかかり処理速
度が低下する。また、該熱処理の温度が高いため、電力
の消費や機器にかかる負荷が大きい問題がある。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、赤外
線による露光で画像形成が可能なポジ型の画像形成材料
及び画像形成方法を提供することである。
線による露光で画像形成が可能なポジ型の画像形成材料
及び画像形成方法を提供することである。
【０００５】本発明の目的はまた、耐刷性が向上し、現
像後のベーク処理が不要な画像形成材料及び画像形成方
法を提供することである。
像後のベーク処理が不要な画像形成材料及び画像形成方
法を提供することである。
【０００６】本発明の目的はまた、露光後熱処理条件を
緩和し、処理速度を向上できる画像形成材料及び画像形
成方法を提供することである。
緩和し、処理速度を向上できる画像形成材料及び画像形
成方法を提供することである。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明の上記目的は、支
持体上に、活性光線の照射により酸を発生し得る化合
物、レゾール、芳香族水酸基を含む単量体単位を一部に
含むアクリル樹脂及び赤外線吸収剤を含有する感光層を
有することを特徴とする画像形成材料、及び上記画像形
成材料の感光層上に赤外線を用いて画像を描写した後、
アルカリ性現像液で露光部を除去する工程を有すること
を特徴とする画像形成方法によって達成される。
持体上に、活性光線の照射により酸を発生し得る化合
物、レゾール、芳香族水酸基を含む単量体単位を一部に
含むアクリル樹脂及び赤外線吸収剤を含有する感光層を
有することを特徴とする画像形成材料、及び上記画像形
成材料の感光層上に赤外線を用いて画像を描写した後、
アルカリ性現像液で露光部を除去する工程を有すること
を特徴とする画像形成方法によって達成される。
【０００８】以下、本発明について詳述する。
【０００９】本発明の画像形成材料の感光層に用いられ
る活性光線の照射により酸を発生し得る化合物（以下
「光酸発生剤」という）としては、公知の化合物及び混
合物を用いることができる。例えばジアゾニウム、ホス
ホニウム、スルホニウム、及びヨードニウムのＢＦ4 -、
ＰＦ6 -、ＳｂＦ6 -、ＳｉＦ6 2-、ＣｌＯ4 -などの塩、有
機ハロゲン化合物、オルトキノン−ジアジドスルホニル
クロリド、及び有機金属／有機ハロゲン化合物組合わせ
物は活性光線の照射の際に酸を形成又は分離する活性光
線感光性成分であり、光酸発生剤として使用することが
できる。原理的には遊離基形成性の光開始剤として知ら
れるすべての有機ハロゲン化合物は、ハロゲン化水素酸
を形成する化合物で、光酸発生剤として使用することが
できる。
る活性光線の照射により酸を発生し得る化合物（以下
「光酸発生剤」という）としては、公知の化合物及び混
合物を用いることができる。例えばジアゾニウム、ホス
ホニウム、スルホニウム、及びヨードニウムのＢＦ4 -、
ＰＦ6 -、ＳｂＦ6 -、ＳｉＦ6 2-、ＣｌＯ4 -などの塩、有
機ハロゲン化合物、オルトキノン−ジアジドスルホニル
クロリド、及び有機金属／有機ハロゲン化合物組合わせ
物は活性光線の照射の際に酸を形成又は分離する活性光
線感光性成分であり、光酸発生剤として使用することが
できる。原理的には遊離基形成性の光開始剤として知ら
れるすべての有機ハロゲン化合物は、ハロゲン化水素酸
を形成する化合物で、光酸発生剤として使用することが
できる。
【００１０】前記のハロゲン化水素酸を形成する化合物
の例としては、米国特許明細書第３，５１５，５５２
号、同第３，５３６，４８９号及び同第３，７７９，７
７８号及び西ドイツ国特許公開公報第２，２４３，６２
１号に記載されているものが挙げられ、また、西ドイツ
国特許公開公報第２，６１０，８４２号に記載の光分解
により酸を発生させる化合物も使用することができる。
の例としては、米国特許明細書第３，５１５，５５２
号、同第３，５３６，４８９号及び同第３，７７９，７
７８号及び西ドイツ国特許公開公報第２，２４３，６２
１号に記載されているものが挙げられ、また、西ドイツ
国特許公開公報第２，６１０，８４２号に記載の光分解
により酸を発生させる化合物も使用することができる。
【００１１】また更に、特開昭５４−７４７２８号公
報、特開昭５５−２４１１３号公報、特開昭５５−７７
７４２号公報、特開昭６０−３６２６号公報、特開昭６
０−１３８５３９号公報等に記載の２−ハロメチル−
１，３，４−オキサジアゾール系化合物など具体的に
は、２−トリクロロメチル−５−［β（２−ベンゾフリ
ル）ビニル］−１，３，４−オキサジアゾールを使用す
ることができる。。
報、特開昭５５−２４１１３号公報、特開昭５５−７７
７４２号公報、特開昭６０−３６２６号公報、特開昭６
０−１３８５３９号公報等に記載の２−ハロメチル−
１，３，４−オキサジアゾール系化合物など具体的に
は、２−トリクロロメチル−５−［β（２−ベンゾフリ
ル）ビニル］−１，３，４−オキサジアゾールを使用す
ることができる。。
【００１２】本発明に用いられる酸発生剤の具体例とし
て、特開昭５６−１７３４５号公報第１３頁左上欄〜右
上欄に記載のもの、また、特開昭５０−３６２０９号公
報に記載されているｏ−ナフトキノンジアジド−４−ス
ルホン酸ハロゲニドを挙げることができる。
て、特開昭５６−１７３４５号公報第１３頁左上欄〜右
上欄に記載のもの、また、特開昭５０−３６２０９号公
報に記載されているｏ−ナフトキノンジアジド−４−ス
ルホン酸ハロゲニドを挙げることができる。
【００１３】本発明において、光酸発生剤として有機ハ
ロゲン化合物が赤外線露光による画像形成における感度
及び画像形成材料の保存性の面から好ましい。該有機ハ
ロゲン化合物としては、ハロゲン置換アルキル基を有す
るトリアジン類及びハロゲン置換アルキル基を有するオ
キサジアゾール類が好ましく、ハロゲン置換アルキル基
を有するｓ−トリアジン類が特に好ましい。
ロゲン化合物が赤外線露光による画像形成における感度
及び画像形成材料の保存性の面から好ましい。該有機ハ
ロゲン化合物としては、ハロゲン置換アルキル基を有す
るトリアジン類及びハロゲン置換アルキル基を有するオ
キサジアゾール類が好ましく、ハロゲン置換アルキル基
を有するｓ−トリアジン類が特に好ましい。
【００１４】ハロゲン置換アルキル基を有するオキサジ
アゾール類の具体例としては、特開昭５４−７４７２８
号、特開昭５５−２４１１３号、特開昭５５−７７７４
２号、特開昭６０−３６２６号及び特開昭６０−１３８
５３９号各公報に記載の２−ハロメチル−１，３，４−
オキサジアゾール系化合物が挙げられる。２−ハロメチ
ル−１，３，４−オキサジアゾール系光酸発生剤の好ま
しい化合物例を下記に挙げる。
アゾール類の具体例としては、特開昭５４−７４７２８
号、特開昭５５−２４１１３号、特開昭５５−７７７４
２号、特開昭６０−３６２６号及び特開昭６０−１３８
５３９号各公報に記載の２−ハロメチル−１，３，４−
オキサジアゾール系化合物が挙げられる。２−ハロメチ
ル−１，３，４−オキサジアゾール系光酸発生剤の好ま
しい化合物例を下記に挙げる。
【００１５】
【化１】
【００１６】上記ハロゲン置換アルキル基を有するｓ−
トリアジン類としては、下記一般式（１）で表される化
合物が好ましい。
トリアジン類としては、下記一般式（１）で表される化
合物が好ましい。
【００１７】
【化２】
【００１８】一般式（１）において、Ｒはアルキル基、
ハロゲン置換アルキル基、アルコキシ基で置換されてい
てもよいフェニルビニレン基又はアリール基（例えばフ
ェニル基、ナフチル基等）若しくはその置換体を表し、
Ｘはハロゲン原子を表す。
ハロゲン置換アルキル基、アルコキシ基で置換されてい
てもよいフェニルビニレン基又はアリール基（例えばフ
ェニル基、ナフチル基等）若しくはその置換体を表し、
Ｘはハロゲン原子を表す。
【００１９】一般式（１）で表されるｓ−トリアジン系
光酸発生剤の化合物例を次に示す。
光酸発生剤の化合物例を次に示す。
【００２０】
【化３】
【００２１】
【化４】
【００２２】本発明において、光酸発生剤は、その化学
的性質及び本発明の画像形成材料の感光層の組成或いは
物性によって広範囲に変えることができるが、感光層の
固形分の全重量に対して約０．１〜約２０重量％の範囲
が適当であり、好ましくは０．２〜１０重量％の範囲で
ある。
的性質及び本発明の画像形成材料の感光層の組成或いは
物性によって広範囲に変えることができるが、感光層の
固形分の全重量に対して約０．１〜約２０重量％の範囲
が適当であり、好ましくは０．２〜１０重量％の範囲で
ある。
【００２３】本発明において、レゾールの含有量は、感
光層の固形分の全重量に対して５〜８０重量％の範囲が
好ましく、より好ましくは２０〜５０重量％である。
光層の固形分の全重量に対して５〜８０重量％の範囲が
好ましく、より好ましくは２０〜５０重量％である。
【００２４】本発明に使用されるアクリル樹脂に通用さ
れる芳香族水酸基を有する単量体の例としては下記
（１）が挙げられる。
れる芳香族水酸基を有する単量体の例としては下記
（１）が挙げられる。
【００２５】（１）芳香族水酸基を有するモノマー、例
えばＮ−（４−ヒドロキシフェニル）アクリルアミド、
Ｎ−（４−ヒドロキシフェニル）メタクリルアミド、ｏ
−ヒドロキシスチレン、ｐ−ヒドロキシスチレン、ｍ−
ヒドロキシスチレン、ｏ−ヒドロキシフェニルアクリレ
ート、ｐ−ヒドロキシフェニルアクリレート、ｍ−ヒド
ロキシフェニルアクリレート、ｐ−（ヒドロキシフェニ
ル）スルホニルアクリルアミド、ｐ−（ヒドロキシフェ
ニル）スルホニルメタクリルアミド等。
えばＮ−（４−ヒドロキシフェニル）アクリルアミド、
Ｎ−（４−ヒドロキシフェニル）メタクリルアミド、ｏ
−ヒドロキシスチレン、ｐ−ヒドロキシスチレン、ｍ−
ヒドロキシスチレン、ｏ−ヒドロキシフェニルアクリレ
ート、ｐ−ヒドロキシフェニルアクリレート、ｍ−ヒド
ロキシフェニルアクリレート、ｐ−（ヒドロキシフェニ
ル）スルホニルアクリルアミド、ｐ−（ヒドロキシフェ
ニル）スルホニルメタクリルアミド等。
【００２６】芳香族水酸基を有する単量体の共重合比は
１〜５０モル％が好ましい。
１〜５０モル％が好ましい。
【００２７】本発明のアクリル樹脂は、上記（１）に示
す単量体の少なくとも１種と下記（２）及び（３）に示
す単量体の何れかを併用して共重合させた共重合体であ
ることが好ましい。
す単量体の少なくとも１種と下記（２）及び（３）に示
す単量体の何れかを併用して共重合させた共重合体であ
ることが好ましい。
【００２８】（２）脂肪族水酸基を有するモノマー、例
えば２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキ
シエチルメタクリレート、Ｎ−メチロールアクリルアミ
ド、Ｎ−メチロールメタクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチ
ロールアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチロールメタクリ
ルアミド、４−ヒドロキシブチルアクリレート、４−ヒ
ドロキシブチルメタクリレート、５−ヒドロキシペンチ
ルアクリレート、５−ヒドロキシペンチルメタクリレー
ト、６−ヒドロキシヘキシルアクリレート、６−ヒドロ
キシヘキシルメタクリレート、Ｎ−（２−ヒドロキシエ
チル）アクリルアミド、Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）
メタクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジ（２−ヒドロキシエチ
ル）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジ（２−ヒドロキシエチ
ル）メタクリルアミド、Ｎ−ヒドロキシメチル−Ｎ−
（２−ヒドロキシエチル）アクリルアミド、Ｎ−ヒドロ
キシメチル−Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）メタクリル
アミド、ヒドロキシエチルビニルエーテル、ビニルベン
ジルアルコール、α−メチルビニルベンジルアルコー
ル、ビニルベンジルアセテート、α−メチルビニルベン
ジルアセテート、ビニルフェネチルアルコール、α−メ
チルビニルフェネチルアルコール、ビニルフェネチルア
セテート、α−メチルビニルフェネチルアセテート等。
えば２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキ
シエチルメタクリレート、Ｎ−メチロールアクリルアミ
ド、Ｎ−メチロールメタクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチ
ロールアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチロールメタクリ
ルアミド、４−ヒドロキシブチルアクリレート、４−ヒ
ドロキシブチルメタクリレート、５−ヒドロキシペンチ
ルアクリレート、５−ヒドロキシペンチルメタクリレー
ト、６−ヒドロキシヘキシルアクリレート、６−ヒドロ
キシヘキシルメタクリレート、Ｎ−（２−ヒドロキシエ
チル）アクリルアミド、Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）
メタクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジ（２−ヒドロキシエチ
ル）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジ（２−ヒドロキシエチ
ル）メタクリルアミド、Ｎ−ヒドロキシメチル−Ｎ−
（２−ヒドロキシエチル）アクリルアミド、Ｎ−ヒドロ
キシメチル−Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）メタクリル
アミド、ヒドロキシエチルビニルエーテル、ビニルベン
ジルアルコール、α−メチルビニルベンジルアルコー
ル、ビニルベンジルアセテート、α−メチルビニルベン
ジルアセテート、ビニルフェネチルアルコール、α−メ
チルビニルフェネチルアルコール、ビニルフェネチルア
セテート、α−メチルビニルフェネチルアセテート等。
【００２９】（３）スルホンアミド基を有するモノマ
ー、例えばｍ−アミノスルホニルフェニルメタクリレー
ト、ｐ−アミノスルホニルフェニルメタクリレート、ｍ
−アミノスルホニルフェニルアクリレート、ｐ−アミノ
スルホニルフェニルアクリレート、Ｎ−（ｐ−アミノス
ルホニルフェニル）メタクリルアミド、Ｎ−（ｐ−アミ
ノスルホニルフェニル）アクリルアミド、Ｎ−（ｐ−ト
ルエンスルホニル）アクリルアミド、Ｎ−（ｐ−トルエ
ンスルホニル）メタクリルアミド等。
ー、例えばｍ−アミノスルホニルフェニルメタクリレー
ト、ｐ−アミノスルホニルフェニルメタクリレート、ｍ
−アミノスルホニルフェニルアクリレート、ｐ−アミノ
スルホニルフェニルアクリレート、Ｎ−（ｐ−アミノス
ルホニルフェニル）メタクリルアミド、Ｎ−（ｐ−アミ
ノスルホニルフェニル）アクリルアミド、Ｎ−（ｐ−ト
ルエンスルホニル）アクリルアミド、Ｎ−（ｐ−トルエ
ンスルホニル）メタクリルアミド等。
【００３０】更に、本発明のアクリル樹脂は、上記
（１）〜（３）のそれぞれ少なくとも１種の単量体と下
記（４）〜（１５）に示す単量体の少なくとも１種との
共重合体であることが、現像性及び感度の面から特に有
効に作用する。
（１）〜（３）のそれぞれ少なくとも１種の単量体と下
記（４）〜（１５）に示す単量体の少なくとも１種との
共重合体であることが、現像性及び感度の面から特に有
効に作用する。
【００３１】（４）α，β−不飽和カルボン酸類、例え
ばアクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、無水マレイ
ン酸、イタコン酸、無水イタコン酸等。
ばアクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、無水マレイ
ン酸、イタコン酸、無水イタコン酸等。
【００３２】（５）置換又は無置換のアルキルアクリレ
ート、例えばアクリル酸メチル、アクリル酸エチル、ア
クリル酸プロピル、アクリル酸ブチル、アクリル酸アミ
ル、アクリル酸ヘキシル、アクリル酸ヘプチル、アクリ
ル酸オクチル、アクリル酸ノニル、アクリル酸デシル、
アクリル酸ウンデシル、アクリル酸ドデシル、アクリル
酸ベンジル、アクリル酸シクロヘキシル、アクリル酸−
２−クロロエチル、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチルアク
リレート、グリシジルアクリレート等。
ート、例えばアクリル酸メチル、アクリル酸エチル、ア
クリル酸プロピル、アクリル酸ブチル、アクリル酸アミ
ル、アクリル酸ヘキシル、アクリル酸ヘプチル、アクリ
ル酸オクチル、アクリル酸ノニル、アクリル酸デシル、
アクリル酸ウンデシル、アクリル酸ドデシル、アクリル
酸ベンジル、アクリル酸シクロヘキシル、アクリル酸−
２−クロロエチル、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチルアク
リレート、グリシジルアクリレート等。
【００３３】（６）置換又は無置換のアルキルメタクリ
レート、例えばメタクリル酸メチル、メタクリル酸エチ
ル、メタクリル酸プロピル、メタクリル酸ブチル、メタ
クリル酸アミル、メタクリル酸ヘキシル、メタクリル酸
ヘプチル、メタクリル酸オクチル、メタクリル酸ノニ
ル、メタクリル酸デシル、メタクリル酸ウンデシル、メ
タクリル酸ドデシル、メタクリル酸ベンジル、メタクリ
ル酸シクロヘキシル、メタクリル酸−２−クロロエチ
ル、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチルメタクリレート、グ
リシジルメタクリレート等。
レート、例えばメタクリル酸メチル、メタクリル酸エチ
ル、メタクリル酸プロピル、メタクリル酸ブチル、メタ
クリル酸アミル、メタクリル酸ヘキシル、メタクリル酸
ヘプチル、メタクリル酸オクチル、メタクリル酸ノニ
ル、メタクリル酸デシル、メタクリル酸ウンデシル、メ
タクリル酸ドデシル、メタクリル酸ベンジル、メタクリ
ル酸シクロヘキシル、メタクリル酸−２−クロロエチ
ル、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチルメタクリレート、グ
リシジルメタクリレート等。
【００３４】（７）アクリルアミド又はメタクリルアミ
ド類、例えばアクリルアミド、メタクリルアミド、Ｎ−
エチルアクリルアミド、Ｎ−ヘキシルアクリルアミド、
Ｎ−シクロヘキシルアクリルアミド、Ｎ−フェニルアク
リルアミド、Ｎ−ニトロフェニルアクリルアミド、Ｎ−
エチル−Ｎ−フェニルアクリルアミド等。
ド類、例えばアクリルアミド、メタクリルアミド、Ｎ−
エチルアクリルアミド、Ｎ−ヘキシルアクリルアミド、
Ｎ−シクロヘキシルアクリルアミド、Ｎ−フェニルアク
リルアミド、Ｎ−ニトロフェニルアクリルアミド、Ｎ−
エチル−Ｎ−フェニルアクリルアミド等。
【００３５】（８）フッ化アルキル基を含有するモノマ
ー、例えばトリフルオロエチルアクリレート、トリフル
オロエチルメタクリレート、テトラフルオロプロピルア
クリレート、テトラフルオロプロピルメタクリレート、
ヘキサフルオロプロピルメタクリレート、オクタフルオ
ロペンチルアクリレート、オクタフルオロペンチルメタ
クリレート、ヘプタデカフルオロデシルアクリレート、
ヘプタデカフルオロデシルメタクリレート、Ｎ−ブチル
−Ｎ−（２−アクリロキシエチル）ヘプタデカフルオロ
オクチルスルホンアミド等。
ー、例えばトリフルオロエチルアクリレート、トリフル
オロエチルメタクリレート、テトラフルオロプロピルア
クリレート、テトラフルオロプロピルメタクリレート、
ヘキサフルオロプロピルメタクリレート、オクタフルオ
ロペンチルアクリレート、オクタフルオロペンチルメタ
クリレート、ヘプタデカフルオロデシルアクリレート、
ヘプタデカフルオロデシルメタクリレート、Ｎ−ブチル
−Ｎ−（２−アクリロキシエチル）ヘプタデカフルオロ
オクチルスルホンアミド等。
【００３６】（９）エチルビニルエーテル、２−クロロ
エチルビニルエーテル、プロピルビニルエーテル、ブチ
ルビニルエーテル、オクチルビニルエーテル、フェニル
ビニルエーテル等のビニルエーテル類。
エチルビニルエーテル、プロピルビニルエーテル、ブチ
ルビニルエーテル、オクチルビニルエーテル、フェニル
ビニルエーテル等のビニルエーテル類。
【００３７】（１０）ビニルアセテート、ビニルクロロ
アセテート、ビニルブチレート、安息香酸ビニル等のビ
ニルエステル類。
アセテート、ビニルブチレート、安息香酸ビニル等のビ
ニルエステル類。
【００３８】（１１）スチレン、メチルスチレン、クロ
ロメチルスチレン等のスチレン類。
ロメチルスチレン等のスチレン類。
【００３９】（１２）メチルビニルケトン、エチルビニ
ルケトン、プロピルビニルケトン、フェニルビニルケト
ン等のビニルケトン類。
ルケトン、プロピルビニルケトン、フェニルビニルケト
ン等のビニルケトン類。
【００４０】（１３）エチレン、プロピレン、イソブチ
レン、ブタジエン、イソプレン、等のオレフィン類。
レン、ブタジエン、イソプレン、等のオレフィン類。
【００４１】（１４）Ｎ−ビニルピロリドン、Ｎ−ビニ
ルカルバゾール、４−ビニルピリジン等。
ルカルバゾール、４−ビニルピリジン等。
【００４２】（１５）シアノ基含有モノマー、例えばア
クリロニトリル、メタクリロニトリル、２−ペンテンニ
トリル、２−メチル−３−ブテンニトリル、２−シアノ
エチルアクリレート、ｏ−シアノスチレン、ｍ−シアノ
スチレン、ｐ−シアノスチレン等。
クリロニトリル、メタクリロニトリル、２−ペンテンニ
トリル、２−メチル−３−ブテンニトリル、２−シアノ
エチルアクリレート、ｏ−シアノスチレン、ｍ−シアノ
スチレン、ｐ−シアノスチレン等。
【００４３】また、上記モノマーの共重合によって得ら
れる共重合体を、例えばグリシジルアクリレート、グリ
シジルメタクリレート等によって修飾したもの使用可能
である。
れる共重合体を、例えばグリシジルアクリレート、グリ
シジルメタクリレート等によって修飾したもの使用可能
である。
【００４４】これらの中で更に好ましい共重合体の単量
体組成として、前記単量体群（１）及び（２）の中から
選ばれる単量体をそれぞれ１〜５０モル％、単量体群
（３）から選ばれる単量体を１〜３０モル％、単量体群
（４）の中から選ばれるα，β−不飽和カルボン酸単量
体を０〜２０モル％、単量体群（１５）の中から選ばれ
るシアノ基含有単量体を５〜４０モル％、単量体群
（５）及び（６）の中から選ばれるアクリル酸エステル
及び／又はメタクリル酸エステル単量体を２５〜６０モ
ル％の範囲で共重合させたものが挙げられる。更に最も
好ましい態様としては、前記単量体群（２）の中から以
下に示す単量体の内何れかを含有させる態様が挙げられ
る。即ち、Ｎ−メチロールアクリルアミド、Ｎ−メチロ
ールメタクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチロールアクリル
アミド、Ｎ，Ｎ−ジメチロールメタクリルアミド、Ｎ−
（２−ヒドロキシエチル）アクリルアミド、Ｎ−（２−
ヒドロキシエチル）メタクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジ（２
−ヒドロキシエチル）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジ（２
−ヒドロキシエチル）メタクリルアミド、Ｎ−ヒドロキ
シメチル−Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）アクリルアミ
ド、Ｎ−ヒドロキシメチル−Ｎ−（２−ヒドロキシエチ
ル）メタクリルアミド、ヒドロキシエチルビニルエーテ
ル、ビニルベンジルアルコール、α−メチルビニルベン
ジルアルコール、ビニルベンジルアセテート、α−メチ
ルビニルベンジルアセテート、ビニルフェネチルアルコ
ール、α−メチルビニルフェネチルアルコール、ビニル
フェネチルアセテート、α−メチルビニルフェネチルア
セテートの何れかを１〜５０モル％、好ましくは５〜３
０モル％共重合体させる態様である。
体組成として、前記単量体群（１）及び（２）の中から
選ばれる単量体をそれぞれ１〜５０モル％、単量体群
（３）から選ばれる単量体を１〜３０モル％、単量体群
（４）の中から選ばれるα，β−不飽和カルボン酸単量
体を０〜２０モル％、単量体群（１５）の中から選ばれ
るシアノ基含有単量体を５〜４０モル％、単量体群
（５）及び（６）の中から選ばれるアクリル酸エステル
及び／又はメタクリル酸エステル単量体を２５〜６０モ
ル％の範囲で共重合させたものが挙げられる。更に最も
好ましい態様としては、前記単量体群（２）の中から以
下に示す単量体の内何れかを含有させる態様が挙げられ
る。即ち、Ｎ−メチロールアクリルアミド、Ｎ−メチロ
ールメタクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチロールアクリル
アミド、Ｎ，Ｎ−ジメチロールメタクリルアミド、Ｎ−
（２−ヒドロキシエチル）アクリルアミド、Ｎ−（２−
ヒドロキシエチル）メタクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジ（２
−ヒドロキシエチル）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジ（２
−ヒドロキシエチル）メタクリルアミド、Ｎ−ヒドロキ
シメチル−Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）アクリルアミ
ド、Ｎ−ヒドロキシメチル−Ｎ−（２−ヒドロキシエチ
ル）メタクリルアミド、ヒドロキシエチルビニルエーテ
ル、ビニルベンジルアルコール、α−メチルビニルベン
ジルアルコール、ビニルベンジルアセテート、α−メチ
ルビニルベンジルアセテート、ビニルフェネチルアルコ
ール、α−メチルビニルフェネチルアルコール、ビニル
フェネチルアセテート、α−メチルビニルフェネチルア
セテートの何れかを１〜５０モル％、好ましくは５〜３
０モル％共重合体させる態様である。
【００４５】本発明のアクリル樹脂の分子量は、ゲルパ
ーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）によって
測定される重量平均分子量で好ましくは１万〜２０万で
あるが、この範囲に限定されない。
ーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）によって
測定される重量平均分子量で好ましくは１万〜２０万で
あるが、この範囲に限定されない。
【００４６】また、結合剤として、本発明のアクリル樹
脂に、必要に応じて任意の樹脂、例えばポリアミド、ポ
リエーテル、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリス
チレン、ポリウレタン、ポリビニルクロライド及びその
コポリマー、ポリビニルブチラール樹脂、ポリビニルホ
ルマール樹脂、シェラック、エポキシ樹脂、レゾールや
ノボラックを含むフェノール樹脂、アクリル樹脂等を併
用してもよい。
脂に、必要に応じて任意の樹脂、例えばポリアミド、ポ
リエーテル、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリス
チレン、ポリウレタン、ポリビニルクロライド及びその
コポリマー、ポリビニルブチラール樹脂、ポリビニルホ
ルマール樹脂、シェラック、エポキシ樹脂、レゾールや
ノボラックを含むフェノール樹脂、アクリル樹脂等を併
用してもよい。
【００４７】本発明のアクリル樹脂は、感光層の固形分
に対して好ましくは３０〜９０重量％、より好ましくは
４０〜８０重量％を含有させることが好ましい。
に対して好ましくは３０〜９０重量％、より好ましくは
４０〜８０重量％を含有させることが好ましい。
【００４８】本発明において、感光層に含有させる赤外
線吸収剤としては、波長７００ｎｍ以上に吸収を持つ赤
外吸収色素、カーボンブラック、磁性粉等を使用するこ
とができる。特に好ましい赤外線吸収剤は７００〜８５
０ｎｍに吸収ピークを有し、ピークでのモル吸光係数ε
が１０5以上である赤外吸収色素である。
線吸収剤としては、波長７００ｎｍ以上に吸収を持つ赤
外吸収色素、カーボンブラック、磁性粉等を使用するこ
とができる。特に好ましい赤外線吸収剤は７００〜８５
０ｎｍに吸収ピークを有し、ピークでのモル吸光係数ε
が１０5以上である赤外吸収色素である。
【００４９】上記赤外吸収色素としては、シアニン系色
素、スクアリウム系色素、クロコニウム系色素、アズレ
ニウム系色素、フタロシアニン系色素、ナフタロシアニ
ン系色素、ポリメチン系色素、ナフトキノン系色素、チ
オピリリウム系色素、ジチオール金属錯体系色素、アン
トラキノン系色素、インドアニリン金属錯体系色素、分
子間ＣＴ色素等が挙げられる。
素、スクアリウム系色素、クロコニウム系色素、アズレ
ニウム系色素、フタロシアニン系色素、ナフタロシアニ
ン系色素、ポリメチン系色素、ナフトキノン系色素、チ
オピリリウム系色素、ジチオール金属錯体系色素、アン
トラキノン系色素、インドアニリン金属錯体系色素、分
子間ＣＴ色素等が挙げられる。
【００５０】また、上記赤外吸収色素として、特開昭６
３−１３９１９１号、同６４−３３５４７号、特開平１
−１６０６８３号、同１−２８０７５０号、同１−２９
３３４２号、同２−２０７４号、同３−２６５９３号、
同３−３０９９１号、同３−３４８９１号、同３−３６
０９３号、同３−３６０９４号、同３−３６０９５号、
同３−４２２８１号、同３−１０３４７６号等に記載の
化合物が挙げられる。
３−１３９１９１号、同６４−３３５４７号、特開平１
−１６０６８３号、同１−２８０７５０号、同１−２９
３３４２号、同２−２０７４号、同３−２６５９３号、
同３−３０９９１号、同３−３４８９１号、同３−３６
０９３号、同３−３６０９４号、同３−３６０９５号、
同３−４２２８１号、同３−１０３４７６号等に記載の
化合物が挙げられる。
【００５１】本発明に好ましく用いられる赤外吸収色素
の代表的具体例を以下に挙げるがこれらに限定されな
い。
の代表的具体例を以下に挙げるがこれらに限定されな
い。
【００５２】
【化５】
【００５３】
【化６】
【００５４】
【化７】
【００５５】
【化８】
【００５６】
【化９】
【００５７】
【化１０】
【００５８】
【化１１】
【００５９】
【化１２】
【００６０】
【化１３】
【００６１】
【化１４】
【００６２】
【化１５】
【００６３】これらの色素は勿論、公知の方法によって
合成することができるが、下記のような市販品を用いる
こともできる。
合成することができるが、下記のような市販品を用いる
こともできる。
【００６４】日本化薬：ＩＲ７５０（アントラキノン
系）；ＩＲ００２，ＩＲ００３（アルミニウム系）；Ｉ
Ｒ８２０（ポリメチン系）；ＩＲＧ０２２，ＩＲＧ０３
３（ジインモニウム系）；ＣＹ−２，ＣＹ−４，ＣＹ−
９，ＣＹ−２０ 三井東圧：ＫＩＲ１０３，ＳＩＲ１０３（フタロシアニ
ン系）；ＫＩＲ１０１，ＳＩＲ１１４（アントラキノン
系）；ＰＡ１００１，ＰＡ１００５，ＰＡ１００６，Ｓ
ＩＲ１２８（金属錯体系） 大日本インキ化学：Ｆａｓｔｏｇｅｎ ｂｌｕｅ８１２
０ みどり化学：ＭＩＲ−１０１，１０１１，１０２１ その他、日本感光色素、住友化学、富士写真フィルム等
の各社からも市販されている。
系）；ＩＲ００２，ＩＲ００３（アルミニウム系）；Ｉ
Ｒ８２０（ポリメチン系）；ＩＲＧ０２２，ＩＲＧ０３
３（ジインモニウム系）；ＣＹ−２，ＣＹ−４，ＣＹ−
９，ＣＹ−２０ 三井東圧：ＫＩＲ１０３，ＳＩＲ１０３（フタロシアニ
ン系）；ＫＩＲ１０１，ＳＩＲ１１４（アントラキノン
系）；ＰＡ１００１，ＰＡ１００５，ＰＡ１００６，Ｓ
ＩＲ１２８（金属錯体系） 大日本インキ化学：Ｆａｓｔｏｇｅｎ ｂｌｕｅ８１２
０ みどり化学：ＭＩＲ−１０１，１０１１，１０２１ その他、日本感光色素、住友化学、富士写真フィルム等
の各社からも市販されている。
【００６５】本発明において、赤外線吸収剤の含有量は
感光層の固形分に対して０．５〜５ｗｔ％の範囲が好ま
しい。
感光層の固形分に対して０．５〜５ｗｔ％の範囲が好ま
しい。
【００６６】本発明の画像形成材料の感光層には結合剤
を用いることができる。結合剤として例えば高分子量結
合剤を用いることができる。高分子量結合剤としては、
例えばノボラック樹脂やヒドロキシスチレン単位を有す
る重合体や後記一般式（２）で表される構造単位を有す
る重合体、その他公知のアクリル樹脂等を挙げる事がで
きる。
を用いることができる。結合剤として例えば高分子量結
合剤を用いることができる。高分子量結合剤としては、
例えばノボラック樹脂やヒドロキシスチレン単位を有す
る重合体や後記一般式（２）で表される構造単位を有す
る重合体、その他公知のアクリル樹脂等を挙げる事がで
きる。
【００６７】該ノボラック樹脂としては、例えばフェノ
ール・ホルムアルデヒド樹脂、クレゾール・ホルムアル
デヒド樹脂、特開昭５５−５７８４１号公報に記載され
ているようなフェノール・クレゾール・ホルムアルデヒ
ド共重縮合体樹脂、特開昭５５−１２７５５３号公報に
記載されているような、ｐ−置換フェノールとフェノー
ルもしくは、クレゾールとホルムアルデヒドとの共重縮
合体樹脂等が挙げられる。
ール・ホルムアルデヒド樹脂、クレゾール・ホルムアル
デヒド樹脂、特開昭５５−５７８４１号公報に記載され
ているようなフェノール・クレゾール・ホルムアルデヒ
ド共重縮合体樹脂、特開昭５５−１２７５５３号公報に
記載されているような、ｐ−置換フェノールとフェノー
ルもしくは、クレゾールとホルムアルデヒドとの共重縮
合体樹脂等が挙げられる。
【００６８】ヒドロキシスチレン単位を有する重合体と
しては、例えば特公昭５２−４１０５０号公報に記載さ
れているポリヒドロキシスチレンやヒドロキシスチレン
共重合体などを挙げることをことができる。
しては、例えば特公昭５２−４１０５０号公報に記載さ
れているポリヒドロキシスチレンやヒドロキシスチレン
共重合体などを挙げることをことができる。
【００６９】一般式（２）で表される構造単位を有する
重合体とは、該構造単位のみの繰り返し構造を有する単
独重合体、或いは該構造単位と他のビニル系単量体の不
飽和二重結合を開裂せしめた構造で示される構造単位１
種以上とを組み合わせた共重合体である。
重合体とは、該構造単位のみの繰り返し構造を有する単
独重合体、或いは該構造単位と他のビニル系単量体の不
飽和二重結合を開裂せしめた構造で示される構造単位１
種以上とを組み合わせた共重合体である。
【００７０】
【化１６】
【００７１】一般式（２）において、Ｒ1及びＲ2はそれ
ぞれ、水素原子、メチル基やエチル基等のアルキル基又
はカルボン酸基を表し、好ましくは水素原子である。Ｒ
3は水素原子、塩素原子や臭素原子等のハロゲン原子又
はメチル基、エチル基等のアルキル基を表し、好ましく
は水素原子又はメチル基である。Ｒ4は水素原子、メチ
ル基やエチル基等のアルキル基、フェニル基又はナフチ
ル基を表す。
ぞれ、水素原子、メチル基やエチル基等のアルキル基又
はカルボン酸基を表し、好ましくは水素原子である。Ｒ
3は水素原子、塩素原子や臭素原子等のハロゲン原子又
はメチル基、エチル基等のアルキル基を表し、好ましく
は水素原子又はメチル基である。Ｒ4は水素原子、メチ
ル基やエチル基等のアルキル基、フェニル基又はナフチ
ル基を表す。
【００７２】Ｙは置換基を表すものも含むフェニレン基
又はナフチレン基を表し、置換基としてはメチル基やエ
チル基等のアルキル基、塩素原子や臭素原子等のハロゲ
ン原子、カルボン酸基、メトキシ基やエトキシ基等のア
ルコキシ基、水酸基、スルホン酸基、シアノ基、ニトロ
基、アシル基等が挙げられるが、好ましくは置換基を有
しないか、或いはメチル基で置換されているものであ
る。
又はナフチレン基を表し、置換基としてはメチル基やエ
チル基等のアルキル基、塩素原子や臭素原子等のハロゲ
ン原子、カルボン酸基、メトキシ基やエトキシ基等のア
ルコキシ基、水酸基、スルホン酸基、シアノ基、ニトロ
基、アシル基等が挙げられるが、好ましくは置換基を有
しないか、或いはメチル基で置換されているものであ
る。
【００７３】Ｘは窒素原子と芳香族炭素原子とを連結す
る２価の有機基で、ｎは０〜５の整数を表し、好ましく
はｎが０のときである。
る２価の有機基で、ｎは０〜５の整数を表し、好ましく
はｎが０のときである。
【００７４】一般式（２）で表される構造単位を有する
重合体は、更に具体的に、例えば（ａ）〜（ｈ）で表す
ことができる。
重合体は、更に具体的に、例えば（ａ）〜（ｈ）で表す
ことができる。
【００７５】
【化１７】
【００７６】（ａ）〜（ｈ）において、Ｒ1〜Ｒ5はそれ
ぞれ水素原子、アルキル基又はハロゲン原子を表し、Ｘ
はアルキル基又はハロゲン原子を表す。またｍ、ｎ、
ｌ、ｋ及びｓはそれぞれの構造単位のモル％を表す。
ぞれ水素原子、アルキル基又はハロゲン原子を表し、Ｘ
はアルキル基又はハロゲン原子を表す。またｍ、ｎ、
ｌ、ｋ及びｓはそれぞれの構造単位のモル％を表す。
【００７７】また、ノボラック樹脂、ヒドロキシスチレ
ン単位を有する重合体、及び一般式（２）で表される構
造単位を有する重合体は併用することもできる。
ン単位を有する重合体、及び一般式（２）で表される構
造単位を有する重合体は併用することもできる。
【００７８】更に、本発明の感光性組成物には、該感光
性組成物の感脂性を向上するために親油性の樹脂を添加
することができる。
性組成物の感脂性を向上するために親油性の樹脂を添加
することができる。
【００７９】前記親油性の樹脂としては、例えば、特開
昭５０−１２５８０６号公報に記載されているような、
炭素数３〜１５のアルキル基で置換されたフェノール類
とアルデヒドの縮合物、例えばｔブチルフェノールホル
ムアルデヒド樹脂などが使用可能である。
昭５０−１２５８０６号公報に記載されているような、
炭素数３〜１５のアルキル基で置換されたフェノール類
とアルデヒドの縮合物、例えばｔブチルフェノールホル
ムアルデヒド樹脂などが使用可能である。
【００８０】本発明の画像形成材料の感光層には必要に
応じて、更に上記以外の色素、顔料、増感剤等を含有さ
せることができる。
応じて、更に上記以外の色素、顔料、増感剤等を含有さ
せることができる。
【００８１】本発明の感性層は、前記各成分を溶解する
下記の溶媒に溶解させて、これらを適当な支持体の表面
に塗布乾燥させることにより感性層を設けて本発明の画
像形成材料とすることができる。
下記の溶媒に溶解させて、これらを適当な支持体の表面
に塗布乾燥させることにより感性層を設けて本発明の画
像形成材料とすることができる。
【００８２】上記溶媒としては、プロピレングリコール
モノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチル
エーテル、メチルセロソルブ、メチルセロソルブアセテ
ート、エチルセロソルブ、エチルセロソルブアセテー
ト、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、ジ
オキサン、アセトン、シクロヘキサノン、トリクロロエ
チレン、メチルエチルケトン等が挙げられる。これら溶
媒は、単独で或いは２種以上混合して使用する。
モノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチル
エーテル、メチルセロソルブ、メチルセロソルブアセテ
ート、エチルセロソルブ、エチルセロソルブアセテー
ト、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、ジ
オキサン、アセトン、シクロヘキサノン、トリクロロエ
チレン、メチルエチルケトン等が挙げられる。これら溶
媒は、単独で或いは２種以上混合して使用する。
【００８３】塗布方法は、従来公知の方法、例えば、回
転塗布、ワイヤーバー塗布、ディップ塗布、エアーナイ
フ塗布、ロール塗布、ブレード塗布及びカーテン塗布等
が可能である。塗布量は用途により異なるが、例えば、
感光性平版印刷版についていえば固形分として０．５〜
５．０ｇ／ｍ2が好ましい。
転塗布、ワイヤーバー塗布、ディップ塗布、エアーナイ
フ塗布、ロール塗布、ブレード塗布及びカーテン塗布等
が可能である。塗布量は用途により異なるが、例えば、
感光性平版印刷版についていえば固形分として０．５〜
５．０ｇ／ｍ2が好ましい。
【００８４】本発明の感光層を設ける支持体は、アルミ
ニウム、亜鉛、鋼、銅等の金属板、並びにクロム、亜
鉛、銅、ニッケル、アルミニウム、鉄等がメッキ又は蒸
着された金属板、紙、プラスチックフィルム及びガラス
板、樹脂が塗布された紙、アルミニウム等の金属箔が張
られた紙、親水化処理したプラスチックフィルム等が挙
げられる。このうち好ましいのはアルミニウム板であ
る。本発明を感光性平版印刷版に適用するとき、支持体
として、砂目立て処理、陽極酸化処理及び必要に応じて
封孔処理等の表面処理等が施されているアルミニウム板
を用いることが好ましい。これらの処理には公知の方法
を適用することができる。
ニウム、亜鉛、鋼、銅等の金属板、並びにクロム、亜
鉛、銅、ニッケル、アルミニウム、鉄等がメッキ又は蒸
着された金属板、紙、プラスチックフィルム及びガラス
板、樹脂が塗布された紙、アルミニウム等の金属箔が張
られた紙、親水化処理したプラスチックフィルム等が挙
げられる。このうち好ましいのはアルミニウム板であ
る。本発明を感光性平版印刷版に適用するとき、支持体
として、砂目立て処理、陽極酸化処理及び必要に応じて
封孔処理等の表面処理等が施されているアルミニウム板
を用いることが好ましい。これらの処理には公知の方法
を適用することができる。
【００８５】砂目立て処理の方法としては、例えば機械
的方法、電解によりエッチングする方法が挙げられる。
機械的方法としては、例えばボール研磨法、ブラシ研磨
法、液体ホーニングによる研磨法、バフ研磨法等が挙げ
られる。アルミニウム材の組成等に応じて上述の各種方
法を単独或いは組合わせて用いることができる。
的方法、電解によりエッチングする方法が挙げられる。
機械的方法としては、例えばボール研磨法、ブラシ研磨
法、液体ホーニングによる研磨法、バフ研磨法等が挙げ
られる。アルミニウム材の組成等に応じて上述の各種方
法を単独或いは組合わせて用いることができる。
【００８６】電解によりエッチングするには、リン酸、
硫酸、塩酸、硝酸等の無機の酸を単独ないし２種以上混
合した浴を用いて行われる。砂目立て処理の後、必要に
応じてアルカリ或いは酸の水溶液によってデスマット処
理を行い中和して水洗する。
硫酸、塩酸、硝酸等の無機の酸を単独ないし２種以上混
合した浴を用いて行われる。砂目立て処理の後、必要に
応じてアルカリ或いは酸の水溶液によってデスマット処
理を行い中和して水洗する。
【００８７】陽極酸化処理は、電解液として、硫酸、ク
ロム酸、シュウ酸、リン酸、マロン酸等を１種又は２種
以上含む溶液を用い、アルミニウム板を陽極として電解
して行われる。形成された陽極酸化被膜量は１〜５０ｍ
ｇ／ｄｍ2が適当であり、好ましくは１０〜４０ｍｇ／
ｄｍ2であり、特に好ましくは２５〜４０ｍｇ／ｄｍ2で
ある。陽極酸化被膜量は、例えばアルミニウム板をリン
酸クロム酸浴液（リン酸８５％液：３５ｍｌ、酸化クロ
ム（IV）：２０ｇを１ｌの水に溶解して作製）に浸漬
し、酸化被膜を溶解し、板の被膜溶解前後の重量変化測
定から求められる。
ロム酸、シュウ酸、リン酸、マロン酸等を１種又は２種
以上含む溶液を用い、アルミニウム板を陽極として電解
して行われる。形成された陽極酸化被膜量は１〜５０ｍ
ｇ／ｄｍ2が適当であり、好ましくは１０〜４０ｍｇ／
ｄｍ2であり、特に好ましくは２５〜４０ｍｇ／ｄｍ2で
ある。陽極酸化被膜量は、例えばアルミニウム板をリン
酸クロム酸浴液（リン酸８５％液：３５ｍｌ、酸化クロ
ム（IV）：２０ｇを１ｌの水に溶解して作製）に浸漬
し、酸化被膜を溶解し、板の被膜溶解前後の重量変化測
定から求められる。
【００８８】封孔処理は、沸騰水処理、水蒸気処理、ケ
イ酸ソーダ処理、重クロム酸塩水溶液処理等が具体例と
して挙げられる。この他にアルミニウム板支持体に対し
て、水溶性高分子化合物や、フッ化ジルコン酸等の金属
塩の水溶液による下引き処理を施すこともできる。
イ酸ソーダ処理、重クロム酸塩水溶液処理等が具体例と
して挙げられる。この他にアルミニウム板支持体に対し
て、水溶性高分子化合物や、フッ化ジルコン酸等の金属
塩の水溶液による下引き処理を施すこともできる。
【００８９】本発明の画像形成材料には波長７００ｎｍ
以上の光源を用い画像露光を行う。光源としては、半導
体レーザー、Ｈｅ−Ｎｅレーザー、ＹＡＧレーザー、炭
酸ガスレーザー等が挙げられる。出力は５０ｍＷ以上が
適当であり、好ましくは１００ｍＷ以上である。
以上の光源を用い画像露光を行う。光源としては、半導
体レーザー、Ｈｅ−Ｎｅレーザー、ＹＡＧレーザー、炭
酸ガスレーザー等が挙げられる。出力は５０ｍＷ以上が
適当であり、好ましくは１００ｍＷ以上である。
【００９０】本発明の画像形成材料の現像に用いられる
現像液としては、水系アルカリ現像液が好適である。水
系アルカリ現像液（以下、本発明の現像液という。）は
例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナト
リウム、炭酸カリウム、メタケイ酸ナトリウム、メタケ
イ酸カリウム、第二リン酸ナトリウム、第三リン酸ナト
リウム等のアルカリ金属塩の水溶液が挙げられる前記ア
ルカリ金属塩の濃度は０．０５〜２０重量％の範囲で用
いるのが好適であり、より好ましくは、０．１〜１０重
量％である。
現像液としては、水系アルカリ現像液が好適である。水
系アルカリ現像液（以下、本発明の現像液という。）は
例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナト
リウム、炭酸カリウム、メタケイ酸ナトリウム、メタケ
イ酸カリウム、第二リン酸ナトリウム、第三リン酸ナト
リウム等のアルカリ金属塩の水溶液が挙げられる前記ア
ルカリ金属塩の濃度は０．０５〜２０重量％の範囲で用
いるのが好適であり、より好ましくは、０．１〜１０重
量％である。
【００９１】本発明の画像形成方法において、現像液に
は、必要に応じアニオン性界面活性剤、両性界面活性剤
やアルコール等の有機溶剤を加えることができる。
は、必要に応じアニオン性界面活性剤、両性界面活性剤
やアルコール等の有機溶剤を加えることができる。
【００９２】有機溶剤としては、プロピレングリコー
ル、エチレングリコールモノフェニルエーテル、ベンジ
ンアルコール、ｎ−プロピルアルコール等が有用であ
る。
ル、エチレングリコールモノフェニルエーテル、ベンジ
ンアルコール、ｎ−プロピルアルコール等が有用であ
る。
【００９３】
【実施例】次に、本発明を実施例で更に具体的に説明す
る。以下の実施例及び比較例において「部」は「重量
部」を意味する。
る。以下の実施例及び比較例において「部」は「重量
部」を意味する。
【００９４】実施例１ 支持体の作成 厚さ０．２４ｍｍのアルミニウム板（材質１０５０、調
質Ｈ１６）を５％苛性ソーダ水溶液中で６０℃で１分間
脱脂処理を行った後、０．５モル／１ｌの塩酸水溶液中
で温度；２５℃、電流密度；６０Ａ／ｄｍ2、処理時
間；３０秒の条件で電解エッチング処理を行った。次い
で、５％苛性ソーダ水溶液中で６０℃、１０秒間のデス
マット処理を施した後、２０％硫酸溶液中で温度；２０
℃、電流密度；３Ａ／ｄｍ2、処理時間；１分間の条件
で陽極酸化処理を行った。更に又、３０℃の熱水で２０
秒間、熱水封孔処理を行い、平版印刷版材料用支持体の
アルミニウム板を作製した。
質Ｈ１６）を５％苛性ソーダ水溶液中で６０℃で１分間
脱脂処理を行った後、０．５モル／１ｌの塩酸水溶液中
で温度；２５℃、電流密度；６０Ａ／ｄｍ2、処理時
間；３０秒の条件で電解エッチング処理を行った。次い
で、５％苛性ソーダ水溶液中で６０℃、１０秒間のデス
マット処理を施した後、２０％硫酸溶液中で温度；２０
℃、電流密度；３Ａ／ｄｍ2、処理時間；１分間の条件
で陽極酸化処理を行った。更に又、３０℃の熱水で２０
秒間、熱水封孔処理を行い、平版印刷版材料用支持体の
アルミニウム板を作製した。
【００９５】前記支持体上に下記組成の感光層塗布液を
乾燥後の膜厚が２ｇ／ｍ2になるように塗布し１００℃
で２分間乾燥して画像形成材料を得た。
乾燥後の膜厚が２ｇ／ｍ2になるように塗布し１００℃
で２分間乾燥して画像形成材料を得た。
【００９６】 感光層塗布液の組成 赤外線吸収剤 例示化合物ＩＲ１８ ２部 光酸発生剤（前記化合物例（１）） ３部 高分子結合剤Ａ（下記） ４５部 レゾール ４５部 プロピレングリコールモノメチルエーテル １０００部 高分子結合剤Ａ（本発明のアクリル樹脂の一例）の合成 温度計、還流冷却管、撹拌装置、加熱装置、窒素気流導
入管を備えた５００ｍｌの四首フラスコ中に、アセトン
１２５ｍｌとメタノール１２５ｍｌの混合溶媒を入れ、
モノマーとしてエチルアクリレート９．０ｇ（０．０９
ｍｏｌ）、エチルメタクリレート３４．２ｇ（０．３０
ｍｏｌ）、アクリロニトリル１５．９ｇ（０．３０ｍｏ
ｌ）、ビニルベンジルアセテート３５．２ｇ（０．２ｍ
ｏｌ）、及び４−ヒドロキシフェニルメタクリルアミド
５１．６ｇ（０．３０ｍｏｌ）を溶解した。更に重合開
始剤としてアゾビスイソブチロニトリル３．２８ｇ
（０．０２ｍｏｌ）を溶解し、窒素気流下で強撹拌しな
がら加熱し、約６０℃で６時間還流させた。反応終了
後、反応液を室温まで冷却させた後、水中に投じて高分
子化合物を沈澱させた。これをろ取し、５０℃で２４時
間真空乾燥させたところ、アルカリ可溶アクリル共重合
体が１００ｇ得られた。モノマー合計量からの収率は９
０％であった。得られたアルカリ可溶アクリル共重合体
１の重量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマト
グラフィー（ＧＰＣ）によりプルラン標準、Ｎ，Ｎ−ジ
メチルホルムアミド（ＤＭＦ）溶媒で測定したところ、
５００００であった。
入管を備えた５００ｍｌの四首フラスコ中に、アセトン
１２５ｍｌとメタノール１２５ｍｌの混合溶媒を入れ、
モノマーとしてエチルアクリレート９．０ｇ（０．０９
ｍｏｌ）、エチルメタクリレート３４．２ｇ（０．３０
ｍｏｌ）、アクリロニトリル１５．９ｇ（０．３０ｍｏ
ｌ）、ビニルベンジルアセテート３５．２ｇ（０．２ｍ
ｏｌ）、及び４−ヒドロキシフェニルメタクリルアミド
５１．６ｇ（０．３０ｍｏｌ）を溶解した。更に重合開
始剤としてアゾビスイソブチロニトリル３．２８ｇ
（０．０２ｍｏｌ）を溶解し、窒素気流下で強撹拌しな
がら加熱し、約６０℃で６時間還流させた。反応終了
後、反応液を室温まで冷却させた後、水中に投じて高分
子化合物を沈澱させた。これをろ取し、５０℃で２４時
間真空乾燥させたところ、アルカリ可溶アクリル共重合
体が１００ｇ得られた。モノマー合計量からの収率は９
０％であった。得られたアルカリ可溶アクリル共重合体
１の重量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマト
グラフィー（ＧＰＣ）によりプルラン標準、Ｎ，Ｎ−ジ
メチルホルムアミド（ＤＭＦ）溶媒で測定したところ、
５００００であった。
【００９７】上記画像形成材料を、半導体レーザー（波
長８３０ｎｍ、出力５００ｍＷ）で画像露光を行った。
レーザー光径はピークにおける強度の１／ｅ2で１３μ
ｍであった。また、解像度は走査方向、副走査方向とも
２０００ＤＰＩとした。画像露光後、赤外線ヒーターを
用いて感光層を１２０℃で３分間又は３０秒間熱処理
し、次いでポジＰＳ版用現像液ＳＤＲ−１（コニカ
（株）製）を水で容積比６倍に希釈した２７℃の現像液
に２５秒間浸漬して非画像部（未露光部）を除去した
後、水洗し平版印刷版を作成した。
長８３０ｎｍ、出力５００ｍＷ）で画像露光を行った。
レーザー光径はピークにおける強度の１／ｅ2で１３μ
ｍであった。また、解像度は走査方向、副走査方向とも
２０００ＤＰＩとした。画像露光後、赤外線ヒーターを
用いて感光層を１２０℃で３分間又は３０秒間熱処理
し、次いでポジＰＳ版用現像液ＳＤＲ−１（コニカ
（株）製）を水で容積比６倍に希釈した２７℃の現像液
に２５秒間浸漬して非画像部（未露光部）を除去した
後、水洗し平版印刷版を作成した。
【００９８】上記条件で、感度は画像部が形成されるに
必要な露光エネルギー（ｍＪ／ｃｍ2）を測定した。画
像露光後の加熱条件が１２０℃で３分間加熱の条件にお
ける感度を感度１、１２０℃で３０秒間加熱の条件にお
ける感度を感度２として下記表１に示す。耐刷枚数は、
画像露光後の加熱条件が１２０℃で３分間加熱で作成し
た平版印刷版の非画像部で汚れが発生するまでの印刷枚
数で評価した。
必要な露光エネルギー（ｍＪ／ｃｍ2）を測定した。画
像露光後の加熱条件が１２０℃で３分間加熱の条件にお
ける感度を感度１、１２０℃で３０秒間加熱の条件にお
ける感度を感度２として下記表１に示す。耐刷枚数は、
画像露光後の加熱条件が１２０℃で３分間加熱で作成し
た平版印刷版の非画像部で汚れが発生するまでの印刷枚
数で評価した。
【００９９】比較例１ 実施例１の感光層塗布液の組成中の高分子結合剤Ａをフ
ェノール、ｍ−クレゾール、ｐ−クレゾールとホルムア
ルデヒドとの共縮合化合物（Ｍｎ＝５００、Ｍｗ＝２５
００、フェノールとｍ−クレゾールとｐ−クレゾールの
モル比が２０：４８：３２）であるノボラック樹脂に変
えた外は実施例１と同様の実験を行った。
ェノール、ｍ−クレゾール、ｐ−クレゾールとホルムア
ルデヒドとの共縮合化合物（Ｍｎ＝５００、Ｍｗ＝２５
００、フェノールとｍ−クレゾールとｐ−クレゾールの
モル比が２０：４８：３２）であるノボラック樹脂に変
えた外は実施例１と同様の実験を行った。
【０１００】実施例２ 実施例１の感光層塗布液の組成中の高分子結合剤Ａを下
記高分子結合剤Ｂに変えた外は実施例１と同様の実験を
行った。
記高分子結合剤Ｂに変えた外は実施例１と同様の実験を
行った。
【０１０１】高分子結合剤Ｂ（本発明のアクリル樹脂の
他の例）の合成 前記高分子結合剤Ａの合成におけるビニルベンジルアセ
テートを除去して合成した他は前記高分子結合剤Ａの合
成と同様にして高分子結合剤Ｂを合成した。
他の例）の合成 前記高分子結合剤Ａの合成におけるビニルベンジルアセ
テートを除去して合成した他は前記高分子結合剤Ａの合
成と同様にして高分子結合剤Ｂを合成した。
【０１０２】実施例３ 実施例１の感光層塗布液の組成中の高分子結合剤Ａを下
記高分子結合剤Ｃに変えた外は実施例１と同様の実験を
行った。
記高分子結合剤Ｃに変えた外は実施例１と同様の実験を
行った。
【０１０３】高分子結合剤Ｃ（本発明のアクリル樹脂の
他の例）の合成 前記高分子結合剤Ａの合成におけるビニルベンジルアセ
テートをＮ，Ｎ−ジメチロールメタクリルアミドに変え
た外は前記高分子結合剤Ａの合成と同様にして高分子結
合剤Ｃを合成した。
他の例）の合成 前記高分子結合剤Ａの合成におけるビニルベンジルアセ
テートをＮ，Ｎ−ジメチロールメタクリルアミドに変え
た外は前記高分子結合剤Ａの合成と同様にして高分子結
合剤Ｃを合成した。
【０１０４】実施例４ 実施例１の感光層塗布液の組成中の高分子結合剤Ａをパ
ラヒドロキシスチレンとメチルメタクリレート（モル比
＝５：５）の共重合体（高分子結合剤Ｄ）に変えた外は
実施例１と同様の実験を行った。
ラヒドロキシスチレンとメチルメタクリレート（モル比
＝５：５）の共重合体（高分子結合剤Ｄ）に変えた外は
実施例１と同様の実験を行った。
【０１０５】比較例２ 実施例１の感光層塗布液の組成中の高分子結合剤Ａを下
記高分子結合剤Ｅに変えた外は実施例１と同様の実験を
行った。
記高分子結合剤Ｅに変えた外は実施例１と同様の実験を
行った。
【０１０６】高分子結合剤Ｅの合成 前記高分子結合剤Ａの合成における４−ヒドロキシフェ
ニルメタクリルアミドを除去して合成した他は前記高分
子結合剤Ａの合成と同様にして高分子結合剤Ｅを合成し
た。
ニルメタクリルアミドを除去して合成した他は前記高分
子結合剤Ａの合成と同様にして高分子結合剤Ｅを合成し
た。
【０１０７】比較例３ 実施例２の感光層塗布液の組成中の高分子結合剤Ａを下
記高分子結合剤Ｆに変えた外は実施例１と同様の実験を
行った。
記高分子結合剤Ｆに変えた外は実施例１と同様の実験を
行った。
【０１０８】高分子結合剤Ｆの合成 前記高分子結合剤Ｂの合成における４−ヒドロキシフェ
ニルメタクリルアミドを除去して合成した他は前記高分
子結合剤Ｂの合成と同様にして高分子結合剤Ｆを合成し
た。
ニルメタクリルアミドを除去して合成した他は前記高分
子結合剤Ｂの合成と同様にして高分子結合剤Ｆを合成し
た。
【０１０９】以上の結果を下記表１に示す。
【０１１０】
【表１】
【０１１１】
【発明の効果】本発明によれば、赤外線による露光で画
像形成が可能なポジ型の画像形成材料及び画像形成方法
が提供される。
像形成が可能なポジ型の画像形成材料及び画像形成方法
が提供される。
【０１１２】本発明によれば、耐刷性が向上し、現像後
のベーク処理が不要な画像形成材料及び画像形成方法が
提供される。
のベーク処理が不要な画像形成材料及び画像形成方法が
提供される。
【０１１３】本発明によれば、画像露光後の熱処理条件
を緩和でき、処理速度を向上できる画像形成材料及び画
像形成方法が提供される。
を緩和でき、処理速度を向上できる画像形成材料及び画
像形成方法が提供される。
Claims (2)
- 【請求項１】 支持体上に、活性光線の照射により酸を
発生し得る化合物、レゾール、芳香族水酸基を有する単
量体単位を一部に含むアクリル樹脂及び赤外線吸収剤を
含有する感光層を有することを特徴とする画像形成材
料。 - 【請求項２】 請求項１記載の画像形成材料の感光層上
に赤外線を用いて画像を描写した後、アルカリ性現像液
で露光部を除去する工程を有することを特徴とする画像
形成方法。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8316192A JPH10171108A (ja) | 1996-10-07 | 1996-11-27 | 画像形成材料及び画像形成方法 |
| US08/944,422 US5932392A (en) | 1996-10-07 | 1997-10-06 | Image forming material and image forming method |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8-265797 | 1996-10-07 | ||
| JP26579796 | 1996-10-07 | ||
| JP8316192A JPH10171108A (ja) | 1996-10-07 | 1996-11-27 | 画像形成材料及び画像形成方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10171108A true JPH10171108A (ja) | 1998-06-26 |
Family
ID=26547143
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8316192A Pending JPH10171108A (ja) | 1996-10-07 | 1996-11-27 | 画像形成材料及び画像形成方法 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5932392A (ja) |
| JP (1) | JPH10171108A (ja) |
Families Citing this family (14)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6077641A (en) * | 1997-01-17 | 2000-06-20 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Lithographic plates |
| US6165676A (en) * | 1997-04-22 | 2000-12-26 | Konica Corporation | Light sensitive composition, image forming material and image forming material manufacturing method |
| JP3858374B2 (ja) * | 1997-09-18 | 2006-12-13 | コニカミノルタホールディングス株式会社 | 感光性組成物及び画像形成材料 |
| US6132929A (en) * | 1997-10-08 | 2000-10-17 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Positive type photosensitive composition for infrared lasers |
| EP0914942B1 (en) * | 1997-11-07 | 2005-05-25 | Toray Industries, Inc. | Directly imageable waterless planographic printing plate precursor and a method of producing planographic printing plates |
| JP2000035669A (ja) * | 1998-07-17 | 2000-02-02 | Fuji Photo Film Co Ltd | ネガ型画像記録材料 |
| EP1207522A1 (en) * | 2000-11-16 | 2002-05-22 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Magnetic recording medium |
| US6787281B2 (en) | 2002-05-24 | 2004-09-07 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Selected acid generating agents and their use in processes for imaging radiation-sensitive elements |
| US20050064337A1 (en) * | 2003-04-21 | 2005-03-24 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Image forming method and image exposure device |
| US7226724B2 (en) * | 2003-11-10 | 2007-06-05 | Think Laboratory Co., Ltd. | Positive-type photosensitive composition |
| US8846981B2 (en) | 2012-01-30 | 2014-09-30 | Southern Lithoplate, Inc. | 1,1-di[(alkylphenoxy)ethoxy]cyclohexanes |
| US8632943B2 (en) | 2012-01-30 | 2014-01-21 | Southern Lithoplate, Inc. | Near-infrared sensitive, positive-working, image forming composition and photographic element containing a 1,1-di[(alkylphenoxy)ethoxy]cyclohexane |
| US10606174B2 (en) * | 2017-01-25 | 2020-03-31 | Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. | Resist composition and method of forming resist pattern |
| JP6986880B2 (ja) | 2017-07-12 | 2021-12-22 | 東京応化工業株式会社 | レジスト組成物、及びレジストパターン形成方法 |
Family Cites Families (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| BE425478A (ja) * | 1936-12-31 | |||
| US2610842A (en) * | 1950-06-15 | 1952-09-16 | Shell Dev | Apparatus for the indirect heating of fluids |
| US3515552A (en) * | 1966-09-16 | 1970-06-02 | Minnesota Mining & Mfg | Light-sensitive imaging sheet and method of using |
| US3536489A (en) * | 1966-09-16 | 1970-10-27 | Minnesota Mining & Mfg | Heterocyclic iminoaromatic-halogen containing photoinitiator light sensitive compositions |
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1997
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