JPH10294335A - Icチップ実装用インターポーザ及びicチップパッケージ - Google Patents

Icチップ実装用インターポーザ及びicチップパッケージ

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JPH10294335A
JPH10294335A JP9100928A JP10092897A JPH10294335A JP H10294335 A JPH10294335 A JP H10294335A JP 9100928 A JP9100928 A JP 9100928A JP 10092897 A JP10092897 A JP 10092897A JP H10294335 A JPH10294335 A JP H10294335A
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明 浦上
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 導電体パターンを表面に形成したプラスチッ
クフィルムからなるインターポーザにICチップを実装
したICチップパッケージ及び該ICチップパッケージ
を樹脂モールドしてプラスチックモールド型としたIC
チップパッケージにおいて、プラスチックフィルムの吸
湿膨張による導体パターンの位置ずれを防止し、導体パ
ターンやICチップやインターコネクション部における
クラックの発生を防止する。 【解決手段】 表面に導電体パターンを有する液晶ポリ
マー分子が平面方向にランダムに配向した等方向性を有
する液晶ポリマーフィルムからなり、該液晶ポリマーフ
ィルムは、9ppm/℃より大きく25ppm/℃以下
の線膨張係数と280℃以上の融点を有し、かつ該フィ
ルムにおける1つの平面方向の線膨張係数Aと他の平面
方向の線膨張係数Bの比A/Bが0.4〜2.5の範囲
にあることを特徴とするICチップ実装用インターポー
ザ及び前記インターポーザにICチップを実装したIC
チップパッケージ。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、プラスチック材料
からなるインターポーザ及びこれにICチップを実装し
たICチップパッケージに関するものである。
【0002】
【従来の技術】従来、インターポーザとしてポリイミド
フィルムを用い、これにICチップをフリップチップ方
式で実装したICパッケージは知られている。その断面
図を図1に示す。図1において、1はICチップ、2は
半田バンプ、3はインナーパッド、4はアウターパッ
ド、5はポリイミドフィルム、6はスルーホールを示
し、7はそれらから構成されるICパッケージを示す。
このような従来のICパッケージにおいては、そのイン
ターポーザとしてのポリイミドフィルムの吸湿膨張係数
が10〜25ppm/%RHの範囲にあり、これにより
導体パターンの位置ずれが生じ、インターポーザの加工
工程や、これとICチップを接合するパッケージ化の加
工工程で歩留が低下したり、生産性に問題があった。ま
た、このポリイミドフィルムの吸湿膨張により、導体パ
ターンやICチップやインターコネクション部に応力が
発生し、導体パターンの断線、ICチップの誤動作、イ
ンターコネクション部(半田ボール部、インナーリード
ボンディング部等)の破壊が起る問題があった。一方、
樹脂封止されたCSP(Chip Size Pack
age)や、TCP(Tape Carrier Pa
ckage)の場合には、パッケージクラックの問題が
ある。図2に、図1に示したICパッケージを樹脂封止
してプラスチック型CSPとした製品の断面図を示す。
この図2において、符号1〜7は前記と同じ意味を有
し、9は封止レジン、10はプラスチック型CSPを示
す。このようなCSPにおいては、図2に示すように、
プラスチック型CSPのポリイミドフィルム露出部(サ
イド又はパッケージ裏面(外部端子側))から、ポリイ
ミドフィルムの吸水率が高い(2.4%程度)ために、
水分がパッケージ内に浸入し易く、これによりたまった
水分が高温下で水蒸気となり、その応力でパッケージク
ラックを生じさせる。これは、TCPの場合でも同じで
ある。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、導電体パタ
ーンを表面に形成したプラスチックフィルムからなるイ
ンターポーザにICチップを実装したICチップパッケ
ージ及び該ICチップパッケージを樹脂モールドしてプ
ラスチックモールド型としたICチップパッケージにお
いて、プラスチックフィルムの吸湿膨張による導体パタ
ーンの位置ずれを防止し、導体パターンやICチップや
インターコネクション部におけるクラックの発生を防止
するとともに、プラスチック型ICチップパッケージに
おけるパッケージクラックの発生を防止することをその
課題とし、さらに導電体パターンを表面に形成した液晶
ポリマーフィルムからなるインターポーザを提供するこ
とをその課題とする。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、前記課題
を解決すべく鋭意研究を重ねた結果、本発明を完成する
に至った。即ち、本発明によれば、表面に導電体パター
ンを有する液晶ポリマー分子が平面方向にランダムに配
向した等方向性を有する液晶ポリマーフィルムからな
り、該液晶ポリマーフィルムは、9ppm/℃より大き
く25ppm/℃以下の線膨張係数と280℃以上の融
点を有し、かつ該フィルムにおける1つの平面方向の線
膨張係数Aと他の平面方向の線膨張係数Bの比A/Bが
0.4〜2.5の範囲にあることを特徴とするICチッ
プ実装用インターポーザが提供される。また、本発明に
よれば、前記インターポーザにICチップを実装したI
Cチップパッケージが提供される。
【0005】
【発明の実施の形態】本発明で用いる液晶ポリマー(L
CP)フィルムにおいて、そのLCPとしては、280
℃以上の融点を持つサーモトロピック液晶ポリマーであ
れば従来公知の各種のものを用いることができる。この
ような液晶ポリマーとしては、例えば、芳香族ジオー
ル、芳香族カルボン酸、ヒドロキシカルボン酸等のモノ
マーから合成される、溶融時に液晶性を示す芳香族ポリ
エステルがあり、その代表的なものとしては、パラヒド
ロキシ安息香酸(PHB)とテレフタル酸とビフェノー
ルからなる第1のタイプのもの(下記式1)や、PHB
と2,6−ヒドロキシナフトエ酸からなる第2のタイプ
のもの(下記式2)がある。
【0006】
【化1】
【0007】
【化2】
【0008】前記一般式(1)のLCPとしては、例え
ば、スミカスーパー(住友化学社)や、Xyder(A
moco社)等があり、前記一般式(2)のLPCとし
ては、Vectra(ヘキスト社)等がある。
【0009】本発明で用いるLCPフィルムは、LCP
分子が平面方向にランダムに配向したもので、LCPフ
ィルムに通常見られる異方向性の大幅に解消されたもの
(本明細書では等方向性フィルムと言う)である。前記
等方向性LCPフィルムは、LCPフィルムの一方の面
又は両方の面に熱可塑性樹脂多孔質体フィルムを加圧下
及び加熱下で接触させ、少なくとも表面部が軟化した状
態の該LCPフィルムに該多孔質体フィルムを熱圧着さ
せ、必要に応じて冷却して、該多孔質体フィルムが該L
CPフィルムに対して1〜500g/cmの剥離強度で
接合している積層体を得る熱圧着工程と、得られた積層
体を、該LCPフィルムは溶融するが多孔質体フィルム
は軟化するが(ガラス転移点以上の温度)実質的に溶融
しない温度条件下で、該LCPの配向方向に対し垂直の
方向に延伸するか又は該LCPの配向方向と同じ方向に
延伸するとともに、該LCP配向方向に対し垂直の方向
に延伸する延伸工程と、得られた積層体延伸物を冷却す
る工程と、冷却された積層体延伸物から多孔質体フィル
ムを剥離する剥離工程によって工業的に有利に製造する
ことができる。
【0010】前記熱可塑性樹脂多孔質体フィルムとして
は、多孔質構造を有する各種のものが用いられ、その平
均細孔径は0.05〜5.0μm、好ましくは0.2〜
1μmであり、空孔率は40〜95%、好ましくは60
〜85%である。このような多孔質体フィルムを形成す
る熱可塑性樹脂としては、具体的には、ポリエチレン、
ポリプロピレン、ポエーテルエーテルケトン、ポリエー
テルサルホン、ポリイミド、ポリエーテルイミド、ポリ
アリレート、ポリカーボネート、ポリスチレン、ポリ塩
化ビニル、ポリエステル、ポリアミド、ポリアミドイミ
ドの他、ポリテトラフルオロエチレン、テトラフルオロ
エチレン/ヘキサフルオロプロピレン共重合体、ポリフ
ッ化ビニル、ポリフッ化ビニリデン、ポリ三フッ化塩化
エチレン等のフッ素樹脂等を例示することができる。こ
れらの熱可塑性樹脂のうち、フッ素樹脂は、その高い耐
熱性によって熱圧着温度を高くすることができ、使用す
る液晶ポリマーを広く選択できるので好ましい。本発明
で用いる好ましい多孔質体フィルムは、耐熱性、耐薬品
性の点で延伸多孔質フッ素樹脂フィルム、特に、延伸多
孔質ポリテトラフルオロエチレンフィルムである。熱可
塑性樹脂多孔質体フィルムは、発泡法や溶媒抽出法、固
相延伸法、フィブリル化法等の従来公知の方法で得るこ
とができる。
【0011】本発明でインターポーザ用材料として用い
る等方向性LCPのフィルムを得るには、先ず、LCP
又はそのポリマーアロイ(以下、これらを単にLCPと
も言う)の押出し成形フィルムを用意する。この場合の
LCPの押出し成形フィルムは、異方向性を有し、LC
Pの溶融物を、押出機を用い、その先端のTダイやイン
フレーションダイを通してフィルム状に押出し成形する
ことによって得ることができる。前記溶融温度は、液晶
ポリマーが溶融状態を示す温度である。押出し成形装置
としては、二軸押出機や、単軸押出機等の慣用の装置が
用いられる。押出し成形フィルムの厚さは、20μm〜
5mm、好ましくは50〜800μmである。
【0012】前記等方向性LCPフィルムの製造におけ
る各工程について詳述すると、以下の通りである。 (熱圧着工程)この工程は、LCPフィルムAの両方又
は片方の表面、好ましくは両方の面に多孔質体フィルム
B−1及びB−2をそれぞれ熱圧着させる工程である。
熱圧着温度は、多孔質体フィルムB−1、B−2は実質
的に溶融させないが、LCPフィルムAの少なくとも表
面部、即ち、多孔質体フィルムB−1及びB−2に接触
するフィルムAの表面部のみ又は全体を軟化させる温度
である。
【0013】この熱圧着工程においては、LCPフィル
ムAは、2つの多孔質体フィルムB−1、B−2によ
り、両側から挟まれていることから、その表面部のみに
限らず、全体が軟化状態であってもよい。このような熱
圧着により、LCPフィルムAの両面に、多孔質体フィ
ルムB−1、B−2が接合された積層体が形成される。
【0014】前記のようにして積層体を製造する場合、
その熱圧着装置としては、一対の熱圧着ロールや、熱プ
レス装置が用いられる。熱圧着ロールを用いる場合、液
晶ポリマーフィルムAと2枚の多孔質体フィルムB−
1、B−2を、一対の熱圧着ロールの間の間隙部(クレ
アランス)に供給し、この熱圧着ロール間の間隙部で熱
圧着する。この場合、LCPフィルムAの両側に多孔質
体フィルムB−1、B−2を供給する。LCPフィルム
Aは固体フィルム又は押出機のT−ダイから押出された
溶融物フィルム等であることができる。一方、熱プレス
装置を用いる場合、その熱プレス装置の底板上に第1の
多孔質体フィルムを敷設し、その上にLCPフィルムを
重ね、その上に第2の多孔質体フィルムを重ね、その上
から上板で所定時間加圧して熱圧着し、冷却する。この
場合、底板及び/又は上板を加熱し、LCPフィルムの
少なくとも表面部を軟化させる。前記のようにして、L
CPフィルムAと多孔質体フィルムB−1、B−2との
積層体が得られるが、この積層体において、そのLCP
フィルムAと多孔質体フィルムB−1又はB−2との間
の剥離強度は、1〜500g/cm、好ましくは2〜1
00g/cmである。剥離強度が前記範囲よりも小さく
なると、積層体フィルムの延伸に際し、LCPフィルム
と多孔質体フィルムとの間に剥離が生じ、LCPフィル
ムの円滑な延伸を行うことが困難になるので好ましくな
い。一方、剥離強度が前記範囲より大きくなると、延伸
後に、多孔質体フィルムを剥離する場合に、その剥離が
困難になるので好ましくない。LCPフィルムと多孔質
体フィルムとの間の剥離強度は、両者のフィルムの熱圧
着条件により調節することができる。前記で得られた積
層体は、その熱融着の状態のまま又はいったん冷却した
後、次の延伸工程へ送られる。
【0015】(延伸工程)この工程は、前記積層体フィ
ルム形成工程で得られた積層体フィルムを、その多孔質
フィルムは軟化させるが実質的に溶融せずにLCPフィ
ルムを溶融させる温度条件下で、1軸方向、即ち、その
LCPの配向方向とは垂直の方向(TD)へ延伸するか
又は2軸方向、即ち、そのLCPの配向と同じ方向(M
D)へ延伸するとともに、それとは垂直方向(TD)へ
延伸する工程である。1軸延伸の場合、TDへの延伸倍
率は1.5〜10倍、好ましくは2〜5倍である。2軸
延伸の場合、MDへの延伸倍率は1〜10倍、好ましく
は1〜5倍であり、TDへの延伸倍率は1.5〜20
倍、好ましくは3〜15倍である。また、TDへの延伸
倍率は、MDへの延伸倍率の1.0〜5.0倍、好まし
くは1.5〜3.0倍に規定するのがよい。積層体フィ
ルム延伸物の物性(線膨張係数、ヤング率等)は、この
延伸倍率によって自由に変えることができる。延伸スピ
ードは、1〜200%/秒、好ましくは5〜50%/秒
にするのがよい。延伸装置としては、従来公知の1軸又
は2軸延伸装置を用いることができる。
【0016】(冷却工程)この工程は、前記延伸工程で
得られた積層体フィルム延伸物を冷却し、溶融状態の液
晶ポリマーフィルムを冷却固化する工程であり、一対の
冷却ロールを用いて実施することができる。また自然放
冷で行ってもよい。
【0017】(剥離工程)この工程は、前記冷却工程で
得られた積層体フィルムから、その両表面に熱圧着され
ている多孔質体フィルムを剥離する工程である。前記し
たように、この多孔質体フィルムは、LCPフィルムに
対しては、剥離可能に接合しているので、その多孔質体
フィルムを、LCPフィルムより上方に引張ることによ
り容易に剥離することができる。
【0018】以上のようにして、等方向性LCPフィル
ムを得ることができる。このフィルムは、延伸用原料フ
ィルムとして用いたLCPフィルムにみられる異方向性
の解消されたもので、平面物性の等方向性にすぐれたも
のである。
【0019】前記等方向性LCPフィルムの製造におい
て、その原料LCPフィルムとしては、充填剤を含有す
るLCPの押出し成形フィルムを用いるのが好ましい。
この場合、充填剤には、無機系及び有機系のものが包含
される。無機系充填剤としては、たとえば、シリカ、ア
ルミナ、酸化チタン等の金属酸化物;炭酸カルシウム、
炭酸バリウム等の金属炭酸塩;硫酸カルシウム、硫酸バ
リウム等の金属硫酸塩;タルク、クレー、マイカ、ガラ
ス等のケイ酸塩の他、チタン酸カリウム、チタン酸カル
シウム、ガラス繊維等が挙げられる。有機系充填剤とし
ては、液晶ポリマーの加工温度において溶融しない耐熱
性樹脂粉末や、カーボン、グラファイト、カーボン繊維
等が挙げられる。前記耐熱性樹脂粉末としては、ポリイ
ミド、ポリエーテルイミド、ポリアミドイミド、ポリエ
ーテルエーテルケトン(PEEK)、フッ素樹脂(PT
FE、FEP、PFA、ETFE、CTFE、PVD
F、E−CTFE等)、LCP等が挙げられる。前記充
填剤において、その平均粒径は0.01〜50μm、好
ましくは0.1〜10μmである。また、充填剤を含有
するLCP中のその充填剤の含有量は、5〜30容量
%、好ましくは10〜20容量%である。前記押出し成
形フィルムを得るには、LCPに充填剤を加えて溶融混
合し、得られた混合物を押出機を用い、その先端のTダ
イやインフレーションダイを通してフィルム状に押出成
形する。前記溶融混合温度は、LCPが溶融状態を示す
温度である。もちろん、充填剤が樹脂粉末の場合には、
その樹脂粉末が溶融する温度より低い温度である。混合
装置としては、二軸押出機、単軸押出機、ニーダー、ミ
キサー等の慣用の混合装置が用いられる。
【0020】前記のようにして得られる充填剤を含有す
る押出し成形フィルムは、表面状態の良好なフィルムで
あって、厚さ分布の平均値Cに対する厚さ分布の標準偏
差Dの比D/Cが0.2以下という厚さ精度にすぐれた
ものである。そして、このような充填剤を含有する押出
し成形フィルムを原料として用いて得られる等方向性L
CPフィルムは、表面状態の非常にすぐれたもので、そ
のフィルムの厚さ分布の平均値Cに対するその厚さ分布
の標準偏差Dの比D/Cが0.2以下、特に0.15〜
0.02の範囲にある。
【0021】本発明で用いる等方向性LCPフィルム
は、通常のLCPフィルムにみられる平面物性の異方向
性の解消されたものであり、平面物性の等方向性にすぐ
れたものである。この場合の平面物性には、線膨張係
数、熱収縮率、引張り伸度、引張り強度、引張り弾性
率、比誘導率等が包含される。本発明で用いる等方向性
LCPフィルムは、安定した線膨張係数を有する。即
ち、本発明で用いるLCPフィルムは、9ppm/℃よ
り大きく25ppm/℃以下、好ましくは14〜20p
pm/℃の線膨張係数を有する。本発明で用いるLCP
フィルムは、前記線膨張係数を有すると同時に、その線
膨張係数の等方向性にすぐれ、フィルムの1つの平面方
向の線膨張係数Aと他の平面方向の線膨張係数Bとの比
のA/Bは、0.4〜2.5、好ましくは、0.5〜2
の範囲にある。インターポーザとして用いるLCPフィ
ルムにおける前記線膨張係数の等方向性は非常に重要で
あり、その線膨張係数に大きな異方向性があると、信頼
性のあるインターポーザ及びICチップパッケージを得
ることができなくなる。
【0022】本発明のインターポーザとして用いる等方
向性LCPフィルムにおいて、その厚さは10〜100
0μm、好ましくは20〜100μm、その線膨張係数
は、9ppm/℃より大きく25pppm/℃以下、好
ましくは14〜20ppm/℃及びその吸水率は0.5
重量%以下、好ましくは0.3重量%以下である。ま
た、その吸湿膨張率(23℃、80%RH)は、通常、
0.08%以下、好ましくは0.05%以下である。こ
れらの物性は、LCPの種類や、LCPの押出し成形条
件、LCPフィルムの延伸条件等によって調節すること
ができる。本発明においては、LCPフィルムには、特
に、無機充填剤を含有させることが好ましい。無機充填
剤を含有するLCPフィルムは、熱伝導性が向上し、高
い放熱効果を有することから、インターポーザとしての
機能においてすぐれている。この場合の無機充填剤とし
ては、特に、シリカ、アルミナ、チタニア等を粉末状や
ウイスカー状で用いるのが好ましく、その含有量は、特
に、5〜30容量%、好ましくは10〜20容量%であ
る。
【0023】本発明で用いる前記LCPフィルムは、そ
の表面に導電体パターンを形成させて、ICチップを実
装する場合のインターポーザとしてすぐれた効果を示
す。即ち、LCPフィルムの線膨張係数(CTE)は、
平面のどの方向をとっても9ppm/℃より大きく25
ppm/℃以下の範囲にあり、銅の線膨張係数16.2
ppm/℃とほぼマッチングしている。従って、ICチ
ップをインターポーザに実装する場合に、半田溶融(2
60℃)するものでも、銅より成る導電体パターンに生
じる熱応力を著しく軽減することができ、導体の接着信
頼性を大幅に向上させることができ、さらに導電体パタ
ーンの断線も効果的に防止することができる。以上のよ
うに、本発明による等方向性LCPフィルムからなるイ
ンターポーザとするICチップパッケージは、導電体パ
ターンとベースフィルムとの間の熱応力の発生を減じ、
パッケージ信頼性が著しく向上したものである。また、
本発明による前記ICチップパッケージをプラスチック
モールドしたプラスチック型ICチップパッケージ(C
SP、BGA等)は、LCPフィルムが非常に低い吸水
率(0.5重量%以下)を示し、PCT(Pressu
re Cooker Test)(121℃、2at
m、湿度100%)、65℃/95%RH及び85℃/
85%RH等の吸湿試験においても、性能劣化やパッケ
ージクラックを何ら生じることはなく、非常に高いパッ
ケージ信頼性を有する。
【0024】LCPフィルム上に形成する導電体パター
ンにおいて、その導電体は、等方向性LCPフィルムに
直接設けることも、また接着剤を介して設けることもで
きる。直接設ける方法としては、蒸着法やスパッタリン
グ法等の物理的手法の他、無電解めっき法、これらの方
法で得られた銅膜を下地にする電解めっき法等が挙げら
れる。さらに直接設けるもう一つの方法としては、等方
向性LCPフィルムと銅箔を直に貼り合わせる方法があ
り、これは等方向性LCPフィルムの表面近傍を加熱溶
融し、ベースフィルム内部のランダム配向性を保った状
態で銅箔を貼り付けるものである。次に、導電体を等方
向性LCPフィルムに接着剤を介して設ける方法につい
て述べる。これは、銅箔を接着剤を介してLCPフィル
ム上に貼り付けるのが一般的である。このとき接着剤と
しては、エポキシ樹脂,シアネート樹脂,PPE等の熱
硬化性樹脂より成るもの、またこれにフレキシブル性を
もたせた、ポリアミド−エポキシ樹脂混合物,アクリロ
ニトリルゴム−フェノール樹脂混合物などが用いられ
る。また、LCP,ふっ素樹脂(FEP,PFA,ET
FE,PTFE等)等の熱可塑性樹脂を用いても良い。
この場合、接着剤として用いるLCP樹脂は、ベースフ
ィルムを構成しているLCP樹脂の融点よりも低い融点
を有したものが適する。この組合せによれば、ベースフ
ィルムのLCP樹脂の等方向性を保った状態で、絶縁体
層全体をLCP樹脂のみで形成することができ、特にエ
レクトロマイグレーション性に優れた導体パターンを有
する回路基板を形成することができる。ところで、銅の
線膨張係数は16.2ppm/℃で、LCPフィルムの
値に近く、これにより、そりや歪の低減されたインター
ポーザを得ることができる。また、LCPフィルム上に
ICチップを実装する場合、その実装方式としては、従
来公知の各種の方式、例えば、ワイヤーボンディング方
式、フリップチップ方式、TAB(テープオートメイテ
ッドボンディング)方式の他、ビームリード方式、ST
D方式等を採用することができる。本発明によるLCP
フィルムからなるインターポーザは、前記のように、線
膨張係数が銅の値に近く、吸水率が小さいことから、特
に、高密度なICチップを実装する場合のインターポー
ザとしてすぐれた効果を示す。
【0025】
【実施例】次に本発明を実施例によりさらに詳細に説明
する。
【0026】参考例1 サーモトロピック液晶ポリマー(住友化学社製、スミカ
スーパーE6000)を、単軸押出機(スクリュー径5
0mm)内で溶融し、その押出機先端のTダイ(リップ
長さ300mm、リップクリアランス0.6mm、ダイ
温度350℃)より、フィルム状に押出し、冷却して厚
さ140μmの液晶ポリマーフィルムを得た。この液晶
ポリマーフィルムの両面に、厚さ40μmの多孔質ポリ
テトラフルオロエチレン(PTFE)フィルム(平均孔
径0.2μm、空孔率80%)を、一対の熱ロール(温
度330℃、ロール周速2m/分)を有するラミネータ
ーで熱圧着した後、一対の冷却ロール(温度150℃)
を通して冷却した。この積層体のPTFEフィルムの剥
離強度は5g/cmであった。次に、このようにして得
た積層体を二軸延伸機で延伸した。この時の延伸条件
は、延伸温度350℃、延伸倍率;TD方向2.8倍、
延伸スピード20%/秒、であった。最後に、多孔質P
TFEフィルムを液晶ポリマーフィルムの両面から剥離
し、厚さ50μmの液晶ポリマー延伸フィルム(a−
1)を得た。
【0027】参考例2 サーモトロピック液晶ポリマー(住友化学社製、スミカ
スーパーE6000)90重量部と天然シリカ(平均粒
径3μm、電気化学社製FS−15)10重量部とを、
二軸押出機を用いて溶融混合するとともに、その先端の
ストランドダイから押出してペレタイザーでペレットに
成形した。次にこのペレットを単軸押出機(スクリュー
径50mm)内で溶融し、その押出機先端のTダイ(リ
ップ長さ300mm、リップクリアランス0.6mm、
ダイ温度350℃)より、フィルム状に押出し、冷却し
て厚さ140μmの液晶ポリマーフィルムを得た。この
液晶ポリマーフィルムの両面に、厚さ40μmの多孔質
ポリテトラフルオロエチレン(PTFE)フィルム(平
均孔径0.2μm、空孔率80%)を、一対の熱ロール
(温度330℃、ロール周速2m/分)を有するラミネ
ーターで熱圧着した後、一対の冷却ロール(温度150
℃)を通して冷却した。この積層体のPTFEフィルム
の剥離強度は5g/cmであった。次に、このようにし
て得た積層体を二軸延伸機で延伸した。この時の延伸条
件は、延伸温度350℃、延伸倍率;TD方向2.8
倍、延伸スピード20%/秒、であった。最後に、多孔
質PTFEフィルムを液晶ポリマーフィルムの両面から
剥離し、厚さ50μmの液晶ポリマー延伸フィルム(a
−2)を得た。
【0028】参考例3 サーモトロピック液晶ポリマー(住友化学社製、スミカ
スーパーE6000)90重量部と天然シリカ(平均粒
径3μm、電気化学社製FS−15)10重量部とを、
二軸押出機を用いて溶融混合するとともに、その先端の
ストランドダイから押出してペレタイザーでペレットに
成形した。次にこのペレットを単軸押出機(スクリュー
径50mm)内で溶融し、その押出機先端のTダイ(リ
ップ長さ300mm、リップクリアランス1.4mm、
ダイ温度350℃)より、フィルム状に押出し、冷却し
て厚さ350μmの液晶ポリマーフィルムを得た。この
液晶ポリマーフィルムの両面に、厚さ40μmの多孔質
ポリテトラフルオロエチレン(PTFE)フィルム(平
均孔径0.2μm、空孔率80%)を、一対の熱ロール
(温度330℃、ロール周速2m/分)を有するラミネ
ーターで熱圧着した後、一対の冷却ロール(温度150
℃)を通して冷却した。この積層体のPTFEフィルム
の剥離強度は5g/cmであった。次に、このようにし
て得た積層体を二軸延伸機で延伸した。この時の延伸条
件は、延伸温度350℃、延伸倍率;TD方向2.8
倍、延伸スピード20%/秒、であった。最後に、多孔
質PTFEフィルムを液晶ポリマーフィルムの両面から
剥離し、厚さ125μmの液晶ポリマー延伸フィルム
(a−3)を得た。
【0029】参考例4 サーモトロピック液晶ポリマー(ポリプラスチックス社
製、ベクトラA950)を、単軸押出機(スクリュー径
50mm)内で溶融し、その押出機先端のTダイ(リッ
プ長さ300mm、リップクリアランス0.4mm、ダ
イ温度300℃)より、フィルム状に押出し、冷却して
厚さ90μmの液晶ポリマーフィルムを得た。この液晶
ポリマーフィルムの両面に、厚さ40μmの多孔質ポリ
テトラフルオロエチレン(PTFE)フィルム(平均孔
径0.5μm、空孔率80%)を、一対の熱ロール(温
度280℃、ロール周速2m/分)を有するラミネータ
ーで熱圧着した後、一対の冷却ロール(温度100℃)
を通して冷却した。この積層体のPTFEフィルムの剥
離強度は5g/cmであった。次に、このようにして得
た積層体を二軸延伸機で延伸した。この時の延伸条件
は、延伸温度300℃、延伸倍率;TD方向1.8倍、
延伸スピード20%/秒、であった。最後に、多孔質P
TFEフィルムを液晶ポリマーフィルムの両面から剥離
し、厚さ50μmの液晶ポリマー延伸フィルム(a−
4)を得た。
【0030】参考例5 サーモトロピック液晶ポリマー(ポリプラスチックス社
製、ベクトラA950)90重量部と天然シリカ(平均
粒径3μm、電気化学社製FS−15)10重量部と
を、二軸押出機を用いて溶融混合するとともに、その先
端のストランドダイから押出してペレタイザーをペレッ
トに成形した。次にこのペレットを単軸押出機(スクリ
ュー径50mm)内で溶融し、その押出機先端のTダイ
(リップ長さ300mm、リップクリアランス0.4m
m、ダイ温度300℃)より、フィルム状に押出し、冷
却して厚さ90μmの液晶ポリマーフィルムを得た。こ
の液晶ポリマーフィルムの両面に、厚さ40μmの多孔
質ポリテトラフルオロエチレン(PTFE)フィルム
(平均孔径0.5μm、空孔率80%)を、一対の熱ロ
ール(温度280℃、ロール周速2m/分)を有するラ
ミネーターで熱圧着した後、一対の冷却ロール(温度1
00℃)を通して冷却した。この積層体のPTFEフィ
ルムの剥離強度は5g/cmであった。次に、このよう
にして得た積層体を二軸延伸機で延伸した。この時の延
伸条件は、延伸温度300℃、延伸倍率;TD方向1.
8倍、延伸スピード20%/秒、であった。最後に、多
孔質PTFEフィルムを液晶ポリマーフィルムの両面か
ら剥離し、厚さ50μmの液晶ポリマー延伸フィルム
(a−5)を得た。
【0031】以上で得た各々の液晶ポリマーフィルムの
物性を以下のようにして測定し、その結果を表1に示
す。 (1)TD厚さ分布 ダイヤルゲージのニードル型測定子(ミツトヨ社製、先
端R:0.4mm)を鉛直方向に向かい合わせて固定
し、100gの力で接触させる。つぎにこの測定子間に
サンプルフィルムをはさみ、TD方向に移動させる。こ
のようにして、フィルムのTDの厚さ分布データを得
る。 (i)平均値C 1000mm幅、0.5mm間隔で2000ポイント測
定し、その平均値を求めた。 (ii)標準偏差D 前記平均値Cに対する2000ポイントの標準偏差Dを
求めた。 (2)線膨張係数 TMA法:荷重5g、200℃まで昇温後、150℃か
ら25℃への降温時に測定。試料幅4.0mm、チャッ
ク間隔10mm。 (3)吸水率 5×5cmのフィルムを真水中に24時間浸漬し、その
前後の重量を測定して吸水量を算出し、その浸漬前のフ
ィルム重量に対する%で示した。
【0032】
【表1】
【0033】実施例1 参考例1で示した厚さ50μmのLCPフィルム8に、
図3に示すように、銅を蒸着して導電体部を形成した。
このフィルムの幅は35mmで、導電体部は幅26mm
で、両サイドにスプロケット孔12を設けた35mm幅
のスタンダードTABフィルムキャリアの仕様とした。
テープは長さ20mの長尺で、LCPフィルムの表面を
プラズマ処理し、銅を連続蒸着した後、メッキ法で厚さ
10μmに銅を厚くした。導電体は両面に形成した。エ
キシマレーザを用いて直径40μmのスルーホール6を
あけ、スルーホールメッキを行い、両面にそれぞれ電極
パターンを形成した。片面の基板実装側の外部端子に
は、さらに半田バンプ13を形成した。以上の工程によ
り、CSP用のインターポーザ7を得た。
【0034】実施例2 図4に示すように、実施例1で得たインターポーザ7に
ICチップ1をフリップチップ方式で実装した。接合部
は半田バンプ2とした。さらにこれをエポキシ系レジン
9でトランスファーモールド封止し、4箇所の吊り部を
切断して、CSP10を得た。
【0035】実施例3 図5に示すように、インナーリード部14を熱圧着する
タイプのインターポーザ7を作製した。これは、参考例
2のLCPフィルムの表面をKOH溶液で処理して、銅
を0.5μm蒸着し、電気メッキで25μm厚にして導
電体部を形成した。エキシマレーザでスルーホール6を
あけ、スルーホールメッキしたのち、エッチングでパタ
ーンを形成した。さらに、外部端子に半田バンプ13を
形成した。こうして、インナーリード付エリアアレイタ
イプのインターポーザを得た。
【0036】実施例4 図6に示すように、実施例3のインターポーザにAuバ
ンプ付ICチップ1をインターポーザのインナーリード
部14に500℃で熱圧着した。これを、エポキシ系レ
ジン9で封止して、エリアアレイタイプのCSP10を
得た。
【0037】実施例5 図7に示すように、ICチップの放熱性を高めるため、
参考例3で得たSiO2フィラー10重量%を含有する
LCPフィルム8(厚さ125μm、CTE;X方向:
14ppm/℃、Y方向:16ppm/℃)に厚さ35
μmの電解銅箔を330℃、20kgf/cm2の条件で
熱圧着で直接に付け、パターンエッチングによりインナ
ーパッド3及びアウターパッド4を形成し、さらにスル
ーホール6を設けたものに、ICチップを熱伝導性の高
いダイボンディング樹脂18で接着し、ワイヤーボンデ
ィングした後、保護用樹脂9で封止して、ICパッケー
ジ10を得た。このものは、インターポーザのベースフ
ィルム(LCPフィルム)の熱伝導性が高く、またダイ
ボンディング樹脂の熱伝導性も高いので、ICチップに
生じる熱応力が小さく良好なパッケージである。
【0038】実施例6 図8に示すように、リードフレームタイプのCSPに、
LCPフィルムを用いて保護及び絶縁のための層を設け
たものである。まず、リードフレームのワイヤーボンデ
ィングのセカンド面に対して裏面に実施例5で示したL
CPフィルム8を貼り付ける。この絶縁体付リードフレ
ーム19にICチップ1をフェースダウンで接着し、そ
のAlパッド20とリードフレーム19との間にAuワ
イヤー17を用いてワイヤーボンディングを行う。さら
に樹脂9で封止してCSP10ができ上がる。このもの
は、吸水率の小さいLCPフィルムを用いたことで、リ
ードフレーム19とICチップ1との間に設けた保護及
び絶縁のために不可欠である層8が吸湿しないために、
半田接合時(260℃)にパッケージクラックを起すこ
とを軽減でき、良好なLOC(Lead on Chi
p)タイプCSPを得ることができた。
【0039】実施例7 図9に示すように、参考例2で示したSiO2フィラー
10重量%を含有するLCPフィルム8(厚さ50μ
m、CTE;X方向:16ppm/℃、Y方向:14p
pm/℃)に表面処理(O2プラズマ処理)を行い、B
ステージまで硬化した厚さ11μmのTAB用接着剤2
1をこの上に設けた後、パンチング加工によりデバイス
ホールを設けて厚さ35μmの電解銅箔(ロープロファ
イル品、Rz=4μm)を接着し、3層TABキャリア
テープを得た。このキャリアテープをパターンエッチン
グして、インナーリード23及びアウターリード22を
形成したものは、LCPフィルムの吸湿膨張係数が小さ
いのでパターンの位置ずれが小さく、また銅箔とベース
フィルムとの線膨張係数マッチングが良く導電体パター
ンに熱応力が生じにくく、そり、歪が少なく良好な性能
を得た。
【0040】実施例8 実施例7の接着剤層21を低融点(310℃)のLCP
フィルム24にした。これによりLCPのみで絶縁体部
を形成した、擬似2層TABキャリアテープが得られ
た。この接着層のLCP24は、半田耐熱260℃、2
0秒を有し、キャリアテープ全体として充分な耐熱性を
もつ。また、このものは熱硬化型の接着層でないことか
ら、硬化剤による電気特性(耐マイグレーション性等)
の劣化が大幅に低減できた。
【0041】
【発明の効果】本発明のインターポーザは、融点が28
0℃以上と高く、半田耐熱性にすぐれ、かつ線膨張係数
を9ppm/℃より大きく25ppm/℃以下にコント
ロールした特定物性のLCPフィルムを用いて構成した
ことから、信頼性の高いICチップパッケージを提供す
ることができるもので、その産業的意義は非常に高い。
本発明のICチップパッケージは、そのインターポーザ
に線膨張係数が銅の線膨張係数である16.2ppm/
℃に近いLCPフィルムからなるインターポーザを用い
たことにより、導電体パターンの信頼性が高く、さらに
これを樹脂モールドしたパッケージにおいては、従来の
ポリイミドフィルムをインターポーザとして用いたもの
よりもLCPフィルムの方が吸水率が低いことにより、
パッケージクラックを低減できる。また、従来のセラミ
ックスインターポーザに比べ、安価でかつ薄く、軽いパ
ッケージとすることができる。さらに、本発明のICチ
ップパッケージの場合、そのLCPフィルムの吸水率が
低く、かつそのモールド樹脂との接着性が良いことか
ら、モールドする樹脂の量を少なくでき、安価で、薄
く、軽くすることができる。そして、軽いCSP、BG
Aは大変な利点がある。これはこのようなパッケージを
基板に実装する際に行う、半田バンプを用いたCCB
(コントロール、コラップス、ボンディング)法による
接合の際、軽い方がよりセルフアライメントがききやす
い点である。
【図面の簡単な説明】
【図1】ポリイミドフィルムを用いた従来のICチップ
パッケージの断面図を示す。
【図2】図1のICチップパッケージを樹脂モールドし
て形成したプラスチックモールド型CSPの断面図を示
す。
【図3】本発明のインターポーザの構造説明図を示す。 a:概略図 b:そのA−A’断面図
【図4】図3に示すインターポーザにICチップを実装
し、さらに樹脂モールドして形成したプラスチックモー
ルド型CSPの断面図を示す。
【図5】本発明によるインナーリード付CSP用インタ
ーポーザの構造説明図を示す。 a:概略図 b:そのB−B’断面図
【図6】図5に示すインターポーザを用いて形成したC
SPの断面図を示す。
【図7】本発明のシリカ含有インターポーザを用いて形
成したワイヤーボンディングタイプICチップパッケー
ジの断面図を示す。
【図8】本発明のインターポーザを用いたリードフレー
ムタイプCSPの断面図を示す。
【図9】本発明の3層TABキャリアテープの断面図を
示す。
【図10】本発明の擬似2層TABキャリアテープの断
面図を示す。
【符号の説明】
1 ICチップ 2 半田バンプ 3 インナーパッド 4 アウターパッド 5 ポリイミドフィルム 6 スルーホール 7 インターポーザ 8 LCPフィルム 9 封止レジン 10 CSP 11 吊り部 12 スプロケットホール 13 外部端子用半田バンプ 14 インナーリード 15 Auバンプ 16 接着樹脂 17 Auワイヤー 18 ダイボンド樹脂 19 リードフレーム 20 Alパッド 21 TAB用接着剤 22 アウターリード 23 インナーリード 24 低融点LCPフィルム
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 大橋 和彦 東京都世田谷区赤堤1丁目42番5号 ジャ パンゴアテックス株式会社内 (72)発明者 浦上 明 東京都世田谷区赤堤1丁目42番5号 ジャ パンゴアテックス株式会社内 (72)発明者 沖野 浩一 東京都世田谷区赤堤1丁目42番5号 ジャ パンゴアテックス株式会社内

Claims (11)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 表面に導電体パターンを有する液晶ポリ
    マー分子が平面方向にランダムに配向した等方向性を有
    する液晶ポリマーフィルムからなり、該液晶ポリマーフ
    ィルムは、9ppm/℃より大きく25ppm/℃以下
    の線膨張係数と280℃以上の融点を有し、かつ該フィ
    ルムにおける1つの平面方向の線膨張係数Aと他の平面
    方向の線膨張係数Bの比A/Bが0.4〜2.5の範囲
    にあることを特徴とするICチップ実装用インターポー
    ザ。
  2. 【請求項2】 請求項1の導体パターンと等方向性を有
    する液晶ポリマーフィルムとが直に接していることを特
    徴とするインターポーザ。
  3. 【請求項3】 請求項1の導体パターンと等方向性を有
    する液晶ポリマーフィルムとの間に接着剤層を有するこ
    とを特徴とするインターポーザ。
  4. 【請求項4】 該導電体パターンが、14〜20ppm
    /℃の線膨張係数を有する金属層又は合金層からなる請
    求項1のICチップ実装用インターポーザ。
  5. 【請求項5】 請求項4の金属層又は合金層が、蒸着法
    で形成されたもの、無電解めっき法で形成されたもの、
    金属箔もしくは合金箔を接着剤で貼り付けたもの又は金
    属箔もしくは合金箔を直に貼り付けたものであることを
    特徴とするインターポーザ。
  6. 【請求項6】 請求項1のインターポーザが、インナー
    リードとアウターリードを有したTABキャリアーテー
    プであることを特徴とするインターポーザ。
  7. 【請求項7】 請求項1のインターポーザにICチップ
    を実装したICチップパッケージ。
  8. 【請求項8】 樹脂モールドしてプラスチックモールド
    型ICチップパッケージとした請求項7のICチップパ
    ッケージ。
  9. 【請求項9】 該ICチップの実装方式が、TAB方式
    である請求項7又は8のICパッケージ。
  10. 【請求項10】 該ICチップの実装方式が、フリップ
    チップ方式である請求項7又は8のICチップパッケー
    ジ。
  11. 【請求項11】 該ICチップの実装方式が、ワイヤー
    ボンディング方式である請求項7又は8のICパッケー
    ジ。
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Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6791195B2 (en) 2000-04-24 2004-09-14 Nec Electronics Corporation Semiconductor device and manufacturing method of the same
US6797345B2 (en) 2001-04-27 2004-09-28 Sumitomo Chemical Company, Limited Aromatic liquid-crystalline polyester metal laminate
WO2005088736A1 (ja) * 2004-03-17 2005-09-22 Japan Gore-Tex Inc. 発光体用回路基板の製造方法、発光体用回路基板前駆体および発光体用回路基板、並びに発光体
US7667317B2 (en) 2006-05-29 2010-02-23 Elpida Memory, Inc. Semiconductor package with bypass capacitor
WO2010117023A1 (ja) * 2009-04-09 2010-10-14 日本発條株式会社 金属ベース回路基板およびその製造方法
JP2012039090A (ja) * 2010-07-15 2012-02-23 Shinko Electric Ind Co Ltd 半導体装置及びその製造方法
JP4919103B2 (ja) * 2005-08-25 2012-04-18 マイクロン テクノロジー, インク. ランドグリッドアレイ半導体装置パッケージ、同パッケージを含む組み立て体、および製造方法
WO2020240850A1 (ja) * 2019-05-31 2020-12-03 ウルトラメモリ株式会社 半導体モジュール及びその製造方法
US10959330B2 (en) 2017-03-06 2021-03-23 Murata Manufacturing Co., Ltd. Metal-clad laminate, circuit board, and multilayer circuit board

Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5889323A (ja) * 1981-11-25 1983-05-27 Asahi Chem Ind Co Ltd フイルムの製法
JPH04277636A (ja) * 1991-03-05 1992-10-02 Shinko Electric Ind Co Ltd 半導体装置とその製造方法及びこれに用いる接合体
JPH0521533A (ja) * 1991-06-26 1993-01-29 Matsushita Electric Works Ltd Tab用キヤリヤテープ
JPH05206201A (ja) * 1992-01-28 1993-08-13 Furukawa Electric Co Ltd:The 半導体装置とその製造方法
JPH07169792A (ja) * 1993-12-14 1995-07-04 Asahi Chem Ind Co Ltd 半導体集積回路用フィルムキャリヤ
JPH07321157A (ja) * 1994-05-25 1995-12-08 Nec Corp フレキシブルフィルム及びこれを有する半導体装置
JPH0852754A (ja) * 1994-08-12 1996-02-27 Nippon Petrochem Co Ltd サーモトロピック液晶ポリマーフィルムおよびその製造方法
WO1996042107A1 (fr) * 1995-06-13 1996-12-27 Hitachi Chemical Company, Ltd. Dispositif a semi-conducteurs, tableau de connexions servant a monter ce dispositif et son procede de fabrication
JPH09131789A (ja) * 1995-09-08 1997-05-20 Japan Gore Tex Inc 等方向性液晶ポリマーフィルム及びその積層体の製造方法と、等方向性液晶ポリマーフィルム及びその積層体

Patent Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5889323A (ja) * 1981-11-25 1983-05-27 Asahi Chem Ind Co Ltd フイルムの製法
JPH04277636A (ja) * 1991-03-05 1992-10-02 Shinko Electric Ind Co Ltd 半導体装置とその製造方法及びこれに用いる接合体
JPH0521533A (ja) * 1991-06-26 1993-01-29 Matsushita Electric Works Ltd Tab用キヤリヤテープ
JPH05206201A (ja) * 1992-01-28 1993-08-13 Furukawa Electric Co Ltd:The 半導体装置とその製造方法
JPH07169792A (ja) * 1993-12-14 1995-07-04 Asahi Chem Ind Co Ltd 半導体集積回路用フィルムキャリヤ
JPH07321157A (ja) * 1994-05-25 1995-12-08 Nec Corp フレキシブルフィルム及びこれを有する半導体装置
JPH0852754A (ja) * 1994-08-12 1996-02-27 Nippon Petrochem Co Ltd サーモトロピック液晶ポリマーフィルムおよびその製造方法
WO1996042107A1 (fr) * 1995-06-13 1996-12-27 Hitachi Chemical Company, Ltd. Dispositif a semi-conducteurs, tableau de connexions servant a monter ce dispositif et son procede de fabrication
JPH09131789A (ja) * 1995-09-08 1997-05-20 Japan Gore Tex Inc 等方向性液晶ポリマーフィルム及びその積層体の製造方法と、等方向性液晶ポリマーフィルム及びその積層体

Cited By (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6791195B2 (en) 2000-04-24 2004-09-14 Nec Electronics Corporation Semiconductor device and manufacturing method of the same
US6797345B2 (en) 2001-04-27 2004-09-28 Sumitomo Chemical Company, Limited Aromatic liquid-crystalline polyester metal laminate
WO2005088736A1 (ja) * 2004-03-17 2005-09-22 Japan Gore-Tex Inc. 発光体用回路基板の製造方法、発光体用回路基板前駆体および発光体用回路基板、並びに発光体
CN100459191C (zh) * 2004-03-17 2009-02-04 日本奥亚特克斯股份有限公司 发光体用电路基板的制造方法、发光体用电路基板前体及发光体用电路基板以及发光体
JP4919103B2 (ja) * 2005-08-25 2012-04-18 マイクロン テクノロジー, インク. ランドグリッドアレイ半導体装置パッケージ、同パッケージを含む組み立て体、および製造方法
US9355992B2 (en) 2005-08-25 2016-05-31 Micron Technology, Inc. Land grid array semiconductor device packages
US7667317B2 (en) 2006-05-29 2010-02-23 Elpida Memory, Inc. Semiconductor package with bypass capacitor
WO2010117023A1 (ja) * 2009-04-09 2010-10-14 日本発條株式会社 金属ベース回路基板およびその製造方法
JP2012039090A (ja) * 2010-07-15 2012-02-23 Shinko Electric Ind Co Ltd 半導体装置及びその製造方法
US10959330B2 (en) 2017-03-06 2021-03-23 Murata Manufacturing Co., Ltd. Metal-clad laminate, circuit board, and multilayer circuit board
WO2020240850A1 (ja) * 2019-05-31 2020-12-03 ウルトラメモリ株式会社 半導体モジュール及びその製造方法
JPWO2020240850A1 (ja) * 2019-05-31 2020-12-03

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