JPH10307397A5 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPH10307397A5 JPH10307397A5 JP1997119772A JP11977297A JPH10307397A5 JP H10307397 A5 JPH10307397 A5 JP H10307397A5 JP 1997119772 A JP1997119772 A JP 1997119772A JP 11977297 A JP11977297 A JP 11977297A JP H10307397 A5 JPH10307397 A5 JP H10307397A5
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- represent
- same
- different
- photosensitive composition
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Claims (8)
- (A)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、(B)(イ)多環型の脂環式基、(ロ)下記一般式(I)で表される酸の作用により分解してアルカリ現像液中での溶解性を増大させる基及び(ハ)下記一般式(II)で表される酸の作用により分解してアルカリ現像液中での溶解性を増大させる基をそれぞれ少なくとも1つ有する樹脂を含有することを特徴とするポジ型感光性組成物。
一般式(I)及び(II) において、R1 〜R5 は同じでも異なっていてもよく、水素原子、又は置換基を有していてもよい、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、アシル基、もしくはアルコキシカルボニル基を表し、R6 は置換基を有していてもよい、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基を表す。ただし、式(I)のR1 〜R3 の内の2つ、又は式(II)のR4 〜R6 の内の2つが結合して3〜8個の炭素原子又はヘテロ環原子からなる環構造を形成してもよい。 - (B)の樹脂が、(イ)多環型の脂環式基を有する繰り返し構造単位、(ロ)下記一般式(III)、(IV)及び(V)で表される繰り返し構造単位の少なくとも一つ及び(ハ)下記一般式(VI)、(VII)及び(VIII)で表される繰り返し構造単位の少なくとも一つを有する樹脂であることを特徴とする請求項1に記載のポジ型感光性組成物。
式(III) 〜(VIII)中、R7 及びR9 は、同じでも異なってもよく、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、アルキル基又はハロアルキル基を表し、R8 は、シアノ基、−CO−OR10,又は−CO−NR11R12を表す。R10〜R12は、同じでも異なってもよく、水素原子、置換基を有してもよい、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基を表す。また、R11とR12が結合して環を形成してもよい。X0 〜X2 は同じでも異なってもよく、単結合であるか、置換基を有していてもよい2価のアルキレン基、アルケニレン基、シクロアルキレン基、−O−、−SO2 −、−O−CO−R13−、−CO−O−R14−、又は−CO−NR15−R16−を表す。ここに、R13、R14及びR16は同じでも異なってもよく、単結合もしくは、2価のアルキレン基、アルケニレン基又はシクロアルキレン基を表し、更にこれらの基は、エーテル基、エステル基、アミド基、ウレタン基あるいはウレイド基とともに2価の基を形成しても良い。また、R15は水素原子、置換基を有していても良い、アルキル基、シクロアルキル基又はアルケニル基を表す。R1 〜R6 は請求項1に記載のものと同義である。 - (B)の樹脂が、更にカルボキシル基を有することを特徴とする請求項1又は2に記載のポジ型感光性組成物。
- (B)の樹脂が、更にカルボキシル基を有する下記一般式(IX) 、(X)又は(XI) で表される繰り返し構造単位の少なくとも一つを含有する樹脂であることを特徴とする請求項3に記載のポジ型感光性組成物。
一般式(IX) 〜(XI) において、R17、R18、R20〜R22は同じでも異なってもよく、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、アルキル基又はハロアルキル基を表す。R19はシアノ基、カルボキシル基、−CO−OR23又は−CO−NR24R25を表す。X3 〜X5 は同じでも異なってもよく、単結合、置換基を有していてもよい、2価のアルキレン基、アルケニレン基もしくはシクロアルキレン基、−O−、−SO2 −、−O−CO−R26−、−CO−O−R27−又は−CO−NR28−R29−を表す。R23は置換基を有していても良い、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基を表す。R24、R25、R28は同じでも異なってもよく、水素原子、置換基を有していてもよい、アルキル基、シクロアルキル基又はアルケニル基を表し、R24とR25が結合して環を形成してもよい。R26、R27、R29は同じでも異なってもよく、単結合あるいは、2価のアルキレン基、アルケニレン基、シクロアルキレン基を表し、更にこれらの基は、エーテル基、エステル基、アミド基、ウレタン基又はウレイド基とともに2価の基を形成してもよい。 - 酸の作用により分解し得る基を有し、アルカリ現像液中での溶解性が酸の作用により増大する、分子量3,000以下の低分子酸分解性溶解阻止化合物を含有することを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載のポジ型感光性組成物。
- 露光光源として、250nm以下の遠紫外光を使用することを特徴とする請求項1〜5のいずれかに記載のポジ型感光性組成物。
- 露光光源として、220nm以下の遠紫外光を使用することを特徴とする請求項7に記載のポジ型感光性組成物。
- 請求項1〜7のいずれかに記載のポジ型感光性組成物により膜を形成し、該膜を露光、現像することを特徴とするポジ型パターン形成方法。
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11977297A JP3755690B2 (ja) | 1997-05-09 | 1997-05-09 | ポジ型感光性組成物 |
| EP98108461A EP0877293B1 (en) | 1997-05-09 | 1998-05-08 | Positive photosensitive composition |
| DE69821049T DE69821049T2 (de) | 1997-05-09 | 1998-05-08 | Positiv arbeitende lichtempfindliche Zusammensetzung |
| KR1019980016647A KR100516702B1 (ko) | 1997-05-09 | 1998-05-09 | 포지티브감광성조성물 |
| US09/075,246 US6479209B1 (en) | 1997-05-09 | 1998-05-11 | Positive photosensitive composition |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11977297A JP3755690B2 (ja) | 1997-05-09 | 1997-05-09 | ポジ型感光性組成物 |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10307397A JPH10307397A (ja) | 1998-11-17 |
| JPH10307397A5 true JPH10307397A5 (ja) | 2004-10-14 |
| JP3755690B2 JP3755690B2 (ja) | 2006-03-15 |
Family
ID=14769835
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11977297A Expired - Fee Related JP3755690B2 (ja) | 1997-05-09 | 1997-05-09 | ポジ型感光性組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3755690B2 (ja) |
Families Citing this family (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100416916B1 (ko) * | 2001-05-11 | 2004-02-05 | 학교법인 한양학원 | 실리콘 함유 고분자 화합물 및 이를 이용한 레지스트 조성물 |
| JP4300843B2 (ja) * | 2003-03-28 | 2009-07-22 | 東レ株式会社 | レジスト用樹脂の製造方法 |
| JP5377042B2 (ja) * | 2009-04-10 | 2013-12-25 | 三菱レイヨン株式会社 | レジスト用共重合体の製造方法。 |
| JP5986825B2 (ja) * | 2012-06-29 | 2016-09-06 | 株式会社ダイセル | 高分子化合物、フォトレジスト用樹脂組成物、及び半導体の製造方法 |
| JP5986826B2 (ja) * | 2012-06-29 | 2016-09-06 | 株式会社ダイセル | 高分子化合物、フォトレジスト用樹脂組成物、及び半導体の製造方法 |
| KR102076529B1 (ko) * | 2012-06-29 | 2020-02-13 | 주식회사 다이셀 | 고분자 화합물, 포토레지스트용 수지 조성물, 및 반도체의 제조 방법 |
-
1997
- 1997-05-09 JP JP11977297A patent/JP3755690B2/ja not_active Expired - Fee Related