JPH1031142A - 極薄厚板状の光学素子を備えている光学部品、極薄厚板状の光学素子の接合方法 - Google Patents

極薄厚板状の光学素子を備えている光学部品、極薄厚板状の光学素子の接合方法

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JPH1031142A
JPH1031142A JP8186150A JP18615096A JPH1031142A JP H1031142 A JPH1031142 A JP H1031142A JP 8186150 A JP8186150 A JP 8186150A JP 18615096 A JP18615096 A JP 18615096A JP H1031142 A JPH1031142 A JP H1031142A
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optical
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glass substrate
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Toshitaka Murakami
敏貴 村上
Mitsuo Tsushima
光雄 対馬
Kuninori Shinada
邦典 品田
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 極薄厚板状の光学素子とこれを支持するガラ
ス基板とを接着する接着剤の厚さ管理を容易にすると共
に、光学素子とガラス基板とのオプティカルコンタクト
を破壊することなく短時間で接着作業を完了する。 【解決手段】 光学素子10の外周縁側に、ガラス基板
20とオプティカルコンタクトする面11に対して段差
を有して凹んでいる段差部12を形成する。次に、光学
素子10とガラス基板20とをオプティカルコンタクト
させる。続いて、光学素子10の段差部12とガラス基
板20との間にUV硬化型接着剤30を注入し、この接
着剤30にUV光を照射して、接着剤30を硬化させ
る。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、高精度且つ極薄厚
板状の光学素子と、該光学素子の一方の面にオプティカ
ルコンタクトして該光学素子を支持する基板とを備えて
いる光学部品、及び該光学素子を該基板に接合させる光
学素子の接合方法に関する。
【0002】
【従来の技術】各種光学的波長板(λ/2板、λ/4板
等)等として用いられる光学素子は、通常、水晶板等を
数百μmから数十μmの厚さに加工したものが用いられ
る。光学素子は、その光学的性能要求から、厚み寸法、
平面度、仕上がり面の面形状、材料内部の均質性等に対
して厳しい精度を要求される場合が多い。特に、光学素
子が波長板等の目的で使用される場合には、大口径で、
仕上がり面の高い面形状精度と材料内部の高い均質性と
が要求されるため、その材料として水晶板が用いられる
のが一般的である。
【0003】直径100mm以上の大口径で、厚みが数
百μmから数十μmの光学素子を、素子単独で、その加
工精度を維持したまま光学系の中に保持しておくこと
は、素子の剛性の点から極めて困難なことである。そこ
で、このような大口径極薄厚光学素子を光学系内に設け
る際には、この光学素子を力学的に保持するガラス基板
等に接合等した状態で用いることが多い。
【0004】また、厚みが数百μmから数十μmに成っ
た光学素子材料の両面を、例えば、λ/20以上の高い
形状精度に研磨加工することも、非常に困難なことであ
る。そこで、このような場合においても、光学素子材料
を、前述したガラス基板等に接合等し、そして、接合状
態の光学素子材料に対して仕上げ研磨加工を施してい
る。
【0005】以上のように、大口径極薄厚光学素子をガ
ラス基板等に接合する方法としては、従来、以下のよう
な方法が採用されている。
【0006】まず、光学素子材料に対して、外形研削加
工、両面のラッピング加工、両面の粗仕上げ研磨加工
(砂目抜き研磨加工)を行う。その後、この光学素子材
料の片面のみ、所望の面形状精度に最終仕上げ研磨加工
を施す。一方、ガラス基板材料に対しても、外形研削加
工、両面のラッピング加工、両面の粗仕上げ研磨加工を
行う。そして、このガラス基板材料の両面に対して、所
望の面形状精度に最終仕上げ研磨加工を施す。
【0007】次に、光学素子の最終仕上げ研磨加工が施
された面と、両面が最終仕上げ研磨加工されたガラス基
板の一方の面とを接合等する。そして、光学素子の残っ
ている面に対して、所定厚み寸法になるまで研削加工及
びラッピング加工を行ない、最終仕上げ研磨加工を施し
て、光学部品を完成させている。
【0008】ここで、光学素子とガラス基板とを接合等
する場合には、光学素子の最終仕上げ研磨加工が施され
た面の全体に接着剤を施して、両者を接合する方法が考
えられる。しかし、この接合方法では、接着剤の厚みの
バラツキにより、高精度な光学部品を得ることが非常に
困難である。また、光学部品の使用波長によっては、硬
化後の接着剤の光透過率に問題が生じ、まったく使用で
きない場合もある。さらに、接着剤の硬化収縮過程で発
生する応力に起因した面形状劣化が起こる場合もある。
【0009】このため、光学素子とガラス基板との接合
等では、光学素子とガラス基板との間に気泡等が残らな
いように密着させるオプティカルコンタクトを採用する
ことが一般的である。このオプティカルコンタクトによ
る接合方法を採用する場合、光学素子とガラス基板との
接合後の研磨加工等において用いられる加工液(主成
分:水)で、オプティカルコンタクトが破壊される可能
性が高い。このため、従来技術では、例えば、図4に示
すように、光学素子1とガラス基板2とがオプティカル
コンタクトした部分の外周部に防水処理を施すべく、オ
プティカルコンタクトした部分の外周部に、パラフィン
やワックス、又はエポキシ系接着剤3を塗布している。
このような防水処理は、単に、オプティカルコンタクト
した部分に水が入り込むのを防ぐばかりではなく、光学
素子1とガラス基板2との接合強度及び接合耐久性の向
上のためにも、非常に有効な手段となっている。
【0010】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、図4に
示す従来の接合方法では、接着剤3等の塗布過程で、接
着剤3の塗布量が少な過ぎると防水効果を得ることがで
きないことがあるために、接着剤3の塗布量をやや多め
することが多く、この結果、光学素子の最終仕上げ研磨
時に、接着剤等が研磨工具と接触して、接着剤3等が研
磨面1aに入り込む等で、光学部品の品質を悪化させて
しまうことがある。また、接着剤3等が研磨工具と接触
することで、接着剤3等が部分的に離脱し、接着剤3等
の防水効果が失われて、加工中に光学素子1がガラス基
板2から剥離してしまう場合もある。このような傾向
は、当然、光学素子の最終仕上げ厚さが数十μmと、非
常に薄くなるに伴って、強くなってくる。
【0011】すなわち、従来技術では、高精度の光学部
品を効率良く製造することができないという問題点があ
る。
【0012】本発明は、このような従来技術の問題点に
ついて着目してなされたもので、効率良く製造すること
ができる光学部品、及び光学素子の接合方法を提供する
ことを目的とする。
【0013】
【課題を解決するための手段】前記目的を達成するため
の光学部品は、高精度且つ極薄厚板状の光学素子と、該
光学素子の一方の面にオプティカルコンタクトして該光
学素子を支持する基板とのうち、一方に、該光学素子の
外周縁側であって且つ両者がオプティカルコンタクトし
ている面に対して、段差を有して凹んでいる段差部が形
成され、前記光学素子と前記基板とのうち、前記一方に
形成されている前記段差部と他方との間に、光硬化型接
着剤が配され、所定の光の照射による前記光硬化型接着
剤の硬化によって、前記光学素子と前記基板とが接合さ
れていることを特徴とするものである。
【0014】ここで、前記段差部は、前記光学素子と前
記基板とがオプティカルコンタクトしている前記面に対
する段差量が5〜0.1μmであることが好ましい。
【0015】また、前記目的を達成するための光学素子
の接合方法は、高精度且つ極薄厚板状の光学素子と、該
光学素子の一方の面にオプティカルコンタクトして該光
学素子を支持する基板とのうち、一方に、該光学素子の
外周縁側であって且つ両者がオプティカルコンタクトす
る面に対して、段差を有して凹んでいる段差部を形成
し、前記光学素子の前記一方の面と前記基板とをオプテ
ィカルコンタクトさせ、前記光学素子と前記基板とのう
ち、前記一方に形成されている前記段差部と他方との間
に、光硬化型接着剤を注入し、前記光硬化型接着剤に所
定の光を照射して、該光硬化型接着剤を硬化させて、前
記光学素子と前記基板とを接合することを特徴とするも
のである。
【0016】ここで、前記段差部は、エッチングで形成
することが好ましい。また、前記段差部に注入する際の
前記光硬化型接着剤は、その粘度が100cps以下で
あることが好ましい。
【0017】
【発明の実施の形態】以下、本発明に係る実施形態とし
ての各種光学部品について、図1〜図3を用いて説明す
る。
【0018】まず、本発明に係る一実施形態としての光
学部品について、図1及び図2を用いて説明する。この
光学部品は、図1及び図2に示すように、極薄厚板状の
光学素子10と、この光学素子10の一面11にオプテ
ィカルコンタクトして光学素子10を支持するガラス基
板20とを備えている。
【0019】この光学部品の製造では、「従来技術」で
述べたように、まず、光学素子材料に対して、外形研削
加工、両面のラッピング加工、両面の粗仕上げ研磨加工
(砂目抜き研磨加工)を行う。その後、この光学素子材
料の片面のみ、所望の面形状精度に最終仕上げ研磨加工
を施す。一方、ガラス基板材料に対しても、外形研削加
工、両面のラッピング加工、両面の粗仕上げ研磨加工を
行う。そして、このガラス基板材料の両面に対して、所
望の面形状精度に最終仕上げ研磨加工を施す。
【0020】次に、図1に示すように、光学素子10の
最終仕上げ研磨加工が施された面11の外周縁部に、こ
の面11に対して段差を有して凹んでいる段差部12を
形成する。この段差部12を形成する方法としては、光
学素子10の厚さが非常に薄い関係上、段差部12の段
差量(深さ)も非常に小さくなるため、フッ酸等を用い
たウエットエッチングや、気体を活性化して素材と反応
させるドライエッチング等の微細加工技術を用いること
が好ましい。この段差部12の段差量dとしては、光学
素子10及びガラス基板20と以下で述べる接着剤との
熱膨張率差に起因した温度変化による面形状劣化の低
減、接着剤の硬化収縮過程で発生する応力に起因した面
形状劣化の低減、極薄加工を進める上での光学素子10
の剥離防止等の観点から、できる限り小さい方が好まし
い。
【0021】次に、図2に示すように、光学素子10の
最終仕上げ研磨加工が施された面11と、ガラス基板2
0の面21とをオプティカルコンタクトさせる。そし
て、光学素子10の段差部12とガラス基板20との間
に紫外線(以下、UVとする。)硬化型接着剤30を注
入し、UV光源40からUV硬化型接着剤30にUV光
を照射して、UV硬化型接着剤30を硬化させる。
【0022】その後、光学素子10の残っている面13
に対して、所定の厚み寸法になるまで研削加工及びラッ
ピング加工を行ない、最終仕上げ研磨加工を施して、光
学部品を完成させる。
【0023】なお、この実施形態において、図1に示す
ように、光学素子10の外径Dは100mmで、光学素
子10の最終仕上げ厚さtは100〜数10μmで、段
差部12の段差量dは5〜0.1μmで、段差部12の
幅wは2〜5mmである。また、UV硬化型接着剤30
としては、その粘度が100cps以下の低粘度のもの
を用いている。
【0024】以上のように、この実施形態では、光学素
子10に段差部12を形成し、そこにUV硬化型接着剤
30を施したので、この接着剤30の厚さが段差部12
の段差量以上になることがなく、接着剤30の厚さを正
確に管理できるため、従来技術のように、接着後の研磨
加工で接着剤と研磨工具とが接触することがなく、高精
度な光学部品を効率良く製造することができる。
【0025】ところで、以上の実施形態で、段差部12
に施すものとしては、一見すると、従来技術において用
いたパラフィンやワックス、さらにはエポキシ系接着剤
3であっても良さそうである。しかし、前述したよう
に、段差部12の段差量は小さい方が好ましいため、段
差部12の段差量を小さくすると、光学素子10の段差
部12とガラス基板20との間に接着剤3等を流入させ
ることが難しくなる。
【0026】そこで、接着剤としてパラフィンやワック
スを使用する場合に、これを加熱して粘度を低くし、光
学素子10の段差部12とガラス基板20との間に接着
剤を流入させると、この熱によってオプティカルコンタ
クトが部分的に破壊される恐れが大きい。さらに、パラ
フィンやワックスは、冷却固化時間が比較的短いため、
段差部12の奥まで流入する前に固化してしまう場合も
ある。
【0027】また、エポキシ系接着剤3を使用する場合
に、希釈剤を添加して接着剤3の粘度を低くしてから、
光学素子10の段差部12とガラス基板20との間に接
着剤3を流入させると、室温での硬化時間が長くなり、
作業時間が伸びてしまう。このエポキシ系接着剤3は、
加熱することで、硬化時間を短くすることができるが、
エポキシ系接着剤3を加熱して使用すると、パラフィン
やワックスの場合と同様、オプティカルコンタクトが破
壊される恐れがある。
【0028】すなわち、接着剤として、パラフィンやワ
ックス、エポキシ系接着剤を用いると、段差部12の段
差量を小さくすることが難しく、段差部12の段差量を
小さくし、無理に、パラフィン等を用いようとすると、
オプティカルコンタクトが破壊される恐れがあったり、
作業時間が長くなってしまう。
【0029】そこで、この実施形態では、段差部12の
段差量が小さくても、段差部12の奥まで流入し、しか
も、オプティカルコンタクトが破壊されてしまうことが
ないよう、低粘度のUV硬化型接着剤30を用いてい
る。また、この接着剤30はUV光の照射で非常に短時
間で硬化するため、所望のタイミングで硬化させること
ができると共に、作業時間を短くすることもできる。
【0030】なお、この実施形態では、光学素子10と
ガラス基板20とを接合する前に、光学素子10の両面
11,13に対して、ラッピング加工、両面の粗仕上げ
研磨加工を施し、片面11のみ最終仕上げ研磨している
が、光学素子10とガラス基板20とを接合する前に、
光学素子10の片面11に対してのみ、ラッピング加
工、粗仕上げ研磨加工、最終仕上げ研磨加工を施し、光
学素子10とガラス基板20とを接合した後に、残った
片面13に対して、ラッピング加工、粗仕上げ研磨加
工、最終仕上げ研磨加工を施すようにしてもよい。但
し、この場合には、UV硬化型接着剤30を流入させた
後、図2のように、紫外線を照射すると、光学素子10
の表面13は未だ比較的粗い状態なので、光学素子10
の表面13で紫外光が散乱され、UV硬化型接着剤30
に有効に作用しない場合がある。そこで、この場合に
は、ガラス基板20の裏面23から紫外線を照射して、
UV硬化型接着剤30を硬化させる。
【0031】また、この実施形態では、光学素子10の
接合する側の面11を最終仕上げ研磨してから、その面
11の外周縁部に段差部12を形成しているが、先に段
差部12を形成してから最終仕上げ研磨してもよい。
【0032】次に、本発明に係る他の実施形態における
光学部品について、図3を用いて説明する。この実施形
態は、光学部品を構成する光学素子10aとガラス基板
20aとのうち、ガラス基板20a側に段差部22を形
成したもので、その他に関しては先の実施形態と同様で
ある。
【0033】この実施形態のガラス基板20aには、光
学素子10aとオプティカルコンタクトした際に、光学
素子10aの外周縁部と対応する部位に段差部22が形
成されている。この段差部22も先の実施形態と同様
に、エッチングによって形成している。
【0034】このように、ガラス基板20a側に段差部
22を形成しても、接着剤30の厚さを正確に管理でき
るため、接着後の研磨加工で接着剤30と研磨工具とが
接触することがなく、高精度な光学部品を効率良く製造
することができる。また、この実施形態では、ガラス基
板20a側に段差部22を形成するので、光学素子10
aの厚さが極めて薄く、光学素子10aに段差部を形成
しにくい場合や、光学素子10aに段差部を形成するこ
とができたとしても、その後の光学素子10aの取り扱
いが非常に面倒な場合等に有効である。
【0035】
【発明の効果】本発明によれば、光学素子に段差部を形
成し、そこに光硬化型接着剤を施したので、この接着剤
の厚さが段差部の段差量以上になることがなく、接着剤
の厚さを正確に管理できるため、接着後の研磨加工で接
着剤と研磨工具とが接触することがなく、高精度の光学
部品を効率良く製造することができる。また、接着剤と
して、低粘度の光硬化型接着剤を用いたので、段差部の
段差量が小さくとも、段差部の奥まで接着剤が流入し、
熱でオプティカルコンタクトが破壊されてしまうことも
回避することができる。さらに、光硬化型接着剤は、所
望のタイミングで且つ短時間で硬化するので、作業を短
く且つ効率良く行うことができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係る一実施形態としての光学部品の製
造過程の断面図(その1)である。
【図2】本発明に係る一実施形態としての光学部品の製
造過程の断面図(その2)である。
【図3】本発明に係る他の実施形態としての光学部品の
製造過程の断面図である。
【図4】従来の光学部品の断面図である。
【符号の説明】
10,10a…光学素子、12,22…段差部、20,
20a…ガラス基板、30…UV硬化型接着剤。

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】高精度且つ極薄厚板状の光学素子と、該光
    学素子の一方の面にオプティカルコンタクトして該光学
    素子を支持する基板とを備えている光学部品において、
    前記光学素子と前記基板とのうち、一方に、該光学素子
    の外周縁側であって且つ両者がオプティカルコンタクト
    している面に対して、段差を有して凹んでいる段差部が
    形成され、前記光学素子と前記基板とのうち、前記一方
    に形成されている前記段差部と他方との間に、光硬化型
    接着剤が配され、所定の光の照射による前記光硬化型接
    着剤の硬化によって、前記光学素子と前記基板とが接合
    されていることを特徴とする光学部品。
  2. 【請求項2】請求項1記載の光学部品において、前記段
    差部は、前記光学素子と前記基板とがオプティカルコン
    タクトしている前記面に対する段差量が5〜0.1μm
    であることを特徴とする光学部品。
  3. 【請求項3】高精度且つ極薄厚板状の光学素子に、該光
    学素子の一方の面にオプティカルコンタクトして該光学
    素子を支持する基板を接合させる光学素子の接合方法に
    おいて、前記光学素子と前記基板とのうち、一方に、該
    光学素子の外周縁側であって且つ両者がオプティカルコ
    ンタクトする面に対して、段差を有して凹んでいる段差
    部を形成し、前記光学素子の前記一方の面と前記基板と
    をオプティカルコンタクトさせ、前記光学素子と前記基
    板とのうち、前記一方に形成されている前記段差部と他
    方との間に、光硬化型接着剤を注入し、前記光硬化型接
    着剤に所定の光を照射して、該光硬化型接着剤を硬化さ
    せて、前記光学素子と前記基板とを接合することを特徴
    とする光学素子の接合方法。
  4. 【請求項4】請求項3記載の光学素子の接合方法におい
    て、前記段差部をエッチングで形成することを特徴とす
    る光学素子の接合方法。
  5. 【請求項5】請求項3又は4記載の光学素子の接合方法
    において、前記段差部に注入する際の前記光硬化型接着
    剤は、その粘度が100cps以下であることを特徴と
    する光学素子の接合方法。
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Cited By (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2004010194A1 (ja) * 2002-07-18 2004-01-29 Nikon Corporation 光学装置およびその組立方法
EP1501120A1 (en) * 2003-05-26 2005-01-26 Shinko Electric Co. Ltd. Method for thinning wafer by grinding
US6853265B2 (en) 2002-02-12 2005-02-08 Murata Manufacturing Co., Ltd. Dielectric resonator device, dielectric filter, dielectric duplexer, and communication apparatus
JP2005316045A (ja) * 2004-04-28 2005-11-10 Canon Inc 光学ユニット、光学部材固定方法
JP2005352037A (ja) * 2004-06-09 2005-12-22 Nikon Corp 光学部材の保持構造、露光装置
JP2011112999A (ja) * 2009-11-30 2011-06-09 Seiko Epson Corp 干渉フィルター、光センサー、および光モジュール
WO2011074215A1 (ja) * 2009-12-14 2011-06-23 パナソニック株式会社 波長変換レーザ光源、光学素子及び画像表示装置
CN102340099A (zh) * 2011-01-18 2012-02-01 南京长青激光科技有限责任公司 基于薄型晶体的蓝绿激光芯片封装结构及方法
WO2014019598A1 (de) * 2012-07-30 2014-02-06 Erich Thallner Substratverbund, verfahren und vorrichtung zum bonden von substraten
JP5848474B1 (ja) * 2015-03-17 2016-01-27 株式会社精工技研 光学部品の製造方法
KR20160093280A (ko) * 2015-01-29 2016-08-08 엘지이노텍 주식회사 렌즈 구동장치 및 이를 구비한 카메라 모듈

Cited By (22)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6853265B2 (en) 2002-02-12 2005-02-08 Murata Manufacturing Co., Ltd. Dielectric resonator device, dielectric filter, dielectric duplexer, and communication apparatus
WO2004010194A1 (ja) * 2002-07-18 2004-01-29 Nikon Corporation 光学装置およびその組立方法
EP1501120A1 (en) * 2003-05-26 2005-01-26 Shinko Electric Co. Ltd. Method for thinning wafer by grinding
US6958298B2 (en) 2003-05-26 2005-10-25 Shinko Electric Industries Co., Ltd. Method for thinning wafer by grinding
JP2005316045A (ja) * 2004-04-28 2005-11-10 Canon Inc 光学ユニット、光学部材固定方法
JP2005352037A (ja) * 2004-06-09 2005-12-22 Nikon Corp 光学部材の保持構造、露光装置
JP2011112999A (ja) * 2009-11-30 2011-06-09 Seiko Epson Corp 干渉フィルター、光センサー、および光モジュール
US8559111B2 (en) 2009-11-30 2013-10-15 Seiko Epson Corporation Interference filter having adhesive and warp reduction grooves
JPWO2011074215A1 (ja) * 2009-12-14 2013-04-25 パナソニック株式会社 波長変換レーザ光源、光学素子及び画像表示装置
CN102308445B (zh) * 2009-12-14 2014-12-31 松下电器产业株式会社 波长转换激光光源、光学元件以及图像显示装置
CN102308445A (zh) * 2009-12-14 2012-01-04 松下电器产业株式会社 波长转换激光光源、光学元件以及图像显示装置
WO2011074215A1 (ja) * 2009-12-14 2011-06-23 パナソニック株式会社 波長変換レーザ光源、光学素子及び画像表示装置
US8743917B2 (en) 2009-12-14 2014-06-03 Panasonic Corporation Wavelength conversion light source, optical element and image display device
CN102340099A (zh) * 2011-01-18 2012-02-01 南京长青激光科技有限责任公司 基于薄型晶体的蓝绿激光芯片封装结构及方法
KR20150037846A (ko) * 2012-07-30 2015-04-08 에리히 탈너 기판들을 본딩하기 위한 기판 조립체, 방법 및 장치
WO2014019598A1 (de) * 2012-07-30 2014-02-06 Erich Thallner Substratverbund, verfahren und vorrichtung zum bonden von substraten
CN104641462A (zh) * 2012-07-30 2015-05-20 埃里希·塔尔纳 基板复合物、用于结合基板的方法和装置
AT517646A5 (de) * 2012-07-30 2017-03-15 Thallner Erich Substratverbund, Verfahren und Vorrichtung zum Bonden von Substraten
US9682539B2 (en) 2012-07-30 2017-06-20 Erich Thallner Substrate composite, method and device for bonding of substrates
KR20160093280A (ko) * 2015-01-29 2016-08-08 엘지이노텍 주식회사 렌즈 구동장치 및 이를 구비한 카메라 모듈
KR20220115909A (ko) * 2015-01-29 2022-08-19 엘지이노텍 주식회사 렌즈 구동장치 및 이를 구비한 카메라 모듈
JP5848474B1 (ja) * 2015-03-17 2016-01-27 株式会社精工技研 光学部品の製造方法

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