JPH10316678A - チアゾリルベンゾフラン誘導体の製造方法 - Google Patents
チアゾリルベンゾフラン誘導体の製造方法Info
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- JPH10316678A JPH10316678A JP9127396A JP12739697A JPH10316678A JP H10316678 A JPH10316678 A JP H10316678A JP 9127396 A JP9127396 A JP 9127396A JP 12739697 A JP12739697 A JP 12739697A JP H10316678 A JPH10316678 A JP H10316678A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 ロイコトリエン/SRS−A拮抗薬または阻
害薬として有用なチアゾリルベンゾフラン誘導体または
その塩類(III)を、少ない工程数で効率よく製造するこ
とのできる方法を提供する。 【解決手段】 式(I): 【化1】 で示される化合物または医薬として許容されるその塩類
を、塩基の存在下に式(II) 【化2】 で示される化合物と反応させて、式(III)を得る方法
である。
害薬として有用なチアゾリルベンゾフラン誘導体または
その塩類(III)を、少ない工程数で効率よく製造するこ
とのできる方法を提供する。 【解決手段】 式(I): 【化1】 で示される化合物または医薬として許容されるその塩類
を、塩基の存在下に式(II) 【化2】 で示される化合物と反応させて、式(III)を得る方法
である。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】この発明は、ロイコトリエン
/アナフィラキシーの遅延反応物質(以下SRS−Aと
称する)拮抗薬または阻害薬として有用なチアゾリルベ
ンゾフラン誘導体を少ない工程数で効率よく製造するこ
とのできる方法に関するものである。
/アナフィラキシーの遅延反応物質(以下SRS−Aと
称する)拮抗薬または阻害薬として有用なチアゾリルベ
ンゾフラン誘導体を少ない工程数で効率よく製造するこ
とのできる方法に関するものである。
【0002】この方法によって得られるチアゾリルベン
ゾフラン誘導体は、喘息、乾せん、肝炎、気管支炎、胃
炎、食道炎、膵炎、関節炎、腎炎、炎症性腸疾患、ショ
ック(例えば敗血症ショック、アナフィラキシー性ショ
ック等)、動脈硬化症、心筋梗塞、脳血管攣縮、鼻炎、
結膜炎、湿疹、虚血性脳疾患、慢性閉塞性肺疾患、脳浮
腫、成人型呼吸窮迫症候群、新生児肺高血圧症、クロー
ン病、皮膚炎、リウマチ、胃潰瘍、消化性潰瘍、痛風等
の予防および/または治療に好適に用いられる。
ゾフラン誘導体は、喘息、乾せん、肝炎、気管支炎、胃
炎、食道炎、膵炎、関節炎、腎炎、炎症性腸疾患、ショ
ック(例えば敗血症ショック、アナフィラキシー性ショ
ック等)、動脈硬化症、心筋梗塞、脳血管攣縮、鼻炎、
結膜炎、湿疹、虚血性脳疾患、慢性閉塞性肺疾患、脳浮
腫、成人型呼吸窮迫症候群、新生児肺高血圧症、クロー
ン病、皮膚炎、リウマチ、胃潰瘍、消化性潰瘍、痛風等
の予防および/または治療に好適に用いられる。
【0003】
【従来の技術】本出願人は、ロイコトリエン/SRS−
A拮抗薬または阻害薬として有用な化合物として、上記
一般式(III )で表されるチアゾリルベンゾフラン誘導
体またはその塩類を開示している(特開平5−2020
40号)。
A拮抗薬または阻害薬として有用な化合物として、上記
一般式(III )で表されるチアゾリルベンゾフラン誘導
体またはその塩類を開示している(特開平5−2020
40号)。
【0004】上記公開公報に開示されているのは、例え
ば4−tert−ブチル−2−(5−ヒドロキシベン
ゾフラン−2−イル)チアゾールをα,α’−ジクロロ
キシレンと反応させ、4−tert−ブチル−2−[5
−(2−クロロメチルフェニルメトキシ)ベンゾフラン
−2−イル]チアゾールを得、これを酸化してホルミ
ル体とし、その後、メチル メチルスルフィニルメチ
ル スルフィドと反応させた後、酸で処理する等の方
法によって所望の目的物を得る方法である。
ば4−tert−ブチル−2−(5−ヒドロキシベン
ゾフラン−2−イル)チアゾールをα,α’−ジクロロ
キシレンと反応させ、4−tert−ブチル−2−[5
−(2−クロロメチルフェニルメトキシ)ベンゾフラン
−2−イル]チアゾールを得、これを酸化してホルミ
ル体とし、その後、メチル メチルスルフィニルメチ
ル スルフィドと反応させた後、酸で処理する等の方
法によって所望の目的物を得る方法である。
【0005】ところが上記の方法は、工程数が多い(上
記の場合、4工程からなる)ため製造が煩雑であるばか
りでなく、全工程を通すと目的物質の収率は低くなり、
製造コストを高める要因となっている。また、原料の一
つであるメチル メチルスルフィニルメチル スルフィド
の大量入手に対する不安と、反応系で悪臭物質であるメ
チルメルカプタンが発生する等問題がある。
記の場合、4工程からなる)ため製造が煩雑であるばか
りでなく、全工程を通すと目的物質の収率は低くなり、
製造コストを高める要因となっている。また、原料の一
つであるメチル メチルスルフィニルメチル スルフィド
の大量入手に対する不安と、反応系で悪臭物質であるメ
チルメルカプタンが発生する等問題がある。
【0006】そこで、より少ない工程数で上式(III )
のチアゾリルベンゾフラン誘導体を高収率で得る方法と
して、本出願人は特開平8−325265号を開示して
いる。これは、例えば4−tert−ブチル−2−
(5−ヒドロキシベンゾフラン−2−イル)チアゾール
を2−(2−ヒドロキシエチル)ベンジルクロリドと反
応させた後、酸化剤と順次反応させる方法である。この
方法によって、工程数を従来の4工程から3工程にまで
減らすことはできたが、更により少ない工程数(1工
程)で且つ収率も著しく高めることのできる新規な製造
方法の提供が切望されている。
のチアゾリルベンゾフラン誘導体を高収率で得る方法と
して、本出願人は特開平8−325265号を開示して
いる。これは、例えば4−tert−ブチル−2−
(5−ヒドロキシベンゾフラン−2−イル)チアゾール
を2−(2−ヒドロキシエチル)ベンジルクロリドと反
応させた後、酸化剤と順次反応させる方法である。この
方法によって、工程数を従来の4工程から3工程にまで
減らすことはできたが、更により少ない工程数(1工
程)で且つ収率も著しく高めることのできる新規な製造
方法の提供が切望されている。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】この発明は上記事情に
鑑みてなされたものであり、その目的は、チアゾリルベ
ンゾフラン誘導体または医薬として許容されるその塩類
を、少ない工程数で収率良く得ることのできる新規な製
造方法を提供することにある。
鑑みてなされたものであり、その目的は、チアゾリルベ
ンゾフラン誘導体または医薬として許容されるその塩類
を、少ない工程数で収率良く得ることのできる新規な製
造方法を提供することにある。
【0008】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決し得たこ
の発明の製造方法とは、式(I):
の発明の製造方法とは、式(I):
【0009】
【化4】
【0010】[式中、R1 はハロゲン、低級アルキルア
ミノ若しくは低級アルキル(アシル)アミノで置換され
ていてもよい低級アルキル;シクロ(低級)アルキル;
トリシクロアルキル;低級アルコキシで置換されていて
もよいアリール;または複素環基、R2 は水素またはハ
ロゲン、またはR1 とR2 が隣接原子と一緒になって、
シクロアルケン環もしくはアシルで置換されていてもよ
いN含有複素環を形成する、R3 は水素、ハロゲン、ヒ
ドロキシ、低級アルキルまたは低級アルコキシ、YはO
またはSを夫々意味する]で示される化合物または医薬
として許容されるその塩類[以下、単に上式(I)の化
合物と略記する場合がある]を、塩基の存在下に式(I
I)
ミノ若しくは低級アルキル(アシル)アミノで置換され
ていてもよい低級アルキル;シクロ(低級)アルキル;
トリシクロアルキル;低級アルコキシで置換されていて
もよいアリール;または複素環基、R2 は水素またはハ
ロゲン、またはR1 とR2 が隣接原子と一緒になって、
シクロアルケン環もしくはアシルで置換されていてもよ
いN含有複素環を形成する、R3 は水素、ハロゲン、ヒ
ドロキシ、低級アルキルまたは低級アルコキシ、YはO
またはSを夫々意味する]で示される化合物または医薬
として許容されるその塩類[以下、単に上式(I)の化
合物と略記する場合がある]を、塩基の存在下に式(I
I)
【0011】
【化5】
【0012】[式中、Aは低級アルキレン、Xは単結合
または低級アルキレンを意味する]で示される化合物と
反応させて、式(III )
または低級アルキレンを意味する]で示される化合物と
反応させて、式(III )
【0013】
【化6】
【0014】[式中、R1 、R2 、R3 、A、Xおよび
Yは夫々前と同じ意味である]で示されるチアゾリルベ
ンゾフラン誘導体または医薬として許容されるその塩類
[以下、単に上式(III )の化合物と略記する場合があ
る]を得るところに要旨を有するものである。
Yは夫々前と同じ意味である]で示されるチアゾリルベ
ンゾフラン誘導体または医薬として許容されるその塩類
[以下、単に上式(III )の化合物と略記する場合があ
る]を得るところに要旨を有するものである。
【0015】
【発明の実施の形態】本発明者らは、上記目的を達成す
るべく種々の方法について検討した。その際、4−te
rt−ブチル−2−(5−ヒドロキシベンゾフラン−2
−イル)チアゾールを2−(メトキシカルボニルメチ
ル)ベンジルブロミドと反応させた後、アルカリで処理
することにより所望の化合物を得る方法(2工程からな
る方法)についても検討してみたが、原料の2−(メト
キシカルボニルメチル)ベンジルブロミドが不安定であ
る等の問題があった。そこで更に検討を進めた結果、1
ステップで、しかも収率良く上式(III )のチアゾリル
ベンゾフラン誘導体が得られる方法を見出し、この発明
を完成したのである。まず、上記及び以下のこの明細書
の記載において、この発明の範囲内に包含される種々の
定義の好適な例および説明を以下詳細に述べる。
るべく種々の方法について検討した。その際、4−te
rt−ブチル−2−(5−ヒドロキシベンゾフラン−2
−イル)チアゾールを2−(メトキシカルボニルメチ
ル)ベンジルブロミドと反応させた後、アルカリで処理
することにより所望の化合物を得る方法(2工程からな
る方法)についても検討してみたが、原料の2−(メト
キシカルボニルメチル)ベンジルブロミドが不安定であ
る等の問題があった。そこで更に検討を進めた結果、1
ステップで、しかも収率良く上式(III )のチアゾリル
ベンゾフラン誘導体が得られる方法を見出し、この発明
を完成したのである。まず、上記及び以下のこの明細書
の記載において、この発明の範囲内に包含される種々の
定義の好適な例および説明を以下詳細に述べる。
【0016】好適なハロゲンとしては、フッ素、塩素、
臭素および沃素が挙げられ、より好ましいのはフッ素、
塩素または臭素である。「低級」とは、特に指示がない
限り、炭素原子数1〜6個を意味するものとする。
臭素および沃素が挙げられ、より好ましいのはフッ素、
塩素または臭素である。「低級」とは、特に指示がない
限り、炭素原子数1〜6個を意味するものとする。
【0017】R1 に記載の「低級アルキルアミノ若しく
は低級アルキル(アシル)アミノで置換されていてもよ
い低級アルキル;シクロ(低級)アルキル;低級アルコ
キシで置換されていてもよいアリール」、R3 に記載の
「低級アルキル」における低級アルキル部分の好適な例
としては、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、
ブチル、イソブチル、tert−ブチル、ペンチル、ヘ
キシル等の直鎖または分枝鎖アルキル基が挙げられる。
より好ましい例としては、C1 −C4 アルキル(メチ
ル、エチル、プロピル、イソブチル、tert−ブチル
等)が挙げられる。
は低級アルキル(アシル)アミノで置換されていてもよ
い低級アルキル;シクロ(低級)アルキル;低級アルコ
キシで置換されていてもよいアリール」、R3 に記載の
「低級アルキル」における低級アルキル部分の好適な例
としては、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、
ブチル、イソブチル、tert−ブチル、ペンチル、ヘ
キシル等の直鎖または分枝鎖アルキル基が挙げられる。
より好ましい例としては、C1 −C4 アルキル(メチ
ル、エチル、プロピル、イソブチル、tert−ブチル
等)が挙げられる。
【0018】好適な「低級アルキルアミノ」としては、
モノ−またはジ(低級アルキル)アミノ、例えばメチル
アミノ、エチルアミノ、プロピルアミノ、イソプロピル
アミノ、ブチルアミノ、tert−ブチルアミノ、イソ
ブチルアミノ、ペンチルアミノ、ヘキシルアミノ、ジメ
チルアミノ、ジエチルアミノ、ジプロピルアミノ、ジブ
チルアミノ、ジイソプロピルアミノ、ジペンチルアミ
ノ、ジヘキシルアミノ、N−メチルエチルアミノ等が挙
げられ、より好ましいのはtert−ブチルアミノであ
る。「低級アルキル(アシル)アミノ」における低級ア
ルキルアミノ部分の好適な例としては、上述したモノ
(低級アルキル)アミノが挙げられる。
モノ−またはジ(低級アルキル)アミノ、例えばメチル
アミノ、エチルアミノ、プロピルアミノ、イソプロピル
アミノ、ブチルアミノ、tert−ブチルアミノ、イソ
ブチルアミノ、ペンチルアミノ、ヘキシルアミノ、ジメ
チルアミノ、ジエチルアミノ、ジプロピルアミノ、ジブ
チルアミノ、ジイソプロピルアミノ、ジペンチルアミ
ノ、ジヘキシルアミノ、N−メチルエチルアミノ等が挙
げられ、より好ましいのはtert−ブチルアミノであ
る。「低級アルキル(アシル)アミノ」における低級ア
ルキルアミノ部分の好適な例としては、上述したモノ
(低級アルキル)アミノが挙げられる。
【0019】R1 に記載の「低級アルキル(アシル)ア
ミノ」、および「R1 とR2 が隣接原子と一緒になっ
て、シクロアルケン環もしくはアシルで置換されていて
もよいN含有複素環を形成する場合」におけるアシル部
分の好適な例としては、カルボキシ;エステル化された
カルボキシ;低級アルキル、アリールスルホニリル、低
級アルキルスルホニルまたは複素環基で置換されていて
もよいカルバモイル;低級アルカノイル;アロイル;複
素環カルボニル等が挙げられる。
ミノ」、および「R1 とR2 が隣接原子と一緒になっ
て、シクロアルケン環もしくはアシルで置換されていて
もよいN含有複素環を形成する場合」におけるアシル部
分の好適な例としては、カルボキシ;エステル化された
カルボキシ;低級アルキル、アリールスルホニリル、低
級アルキルスルホニルまたは複素環基で置換されていて
もよいカルバモイル;低級アルカノイル;アロイル;複
素環カルボニル等が挙げられる。
【0020】このうち、エステル化されたカルボキシと
しては、置換または非置換の低級アルコキシカルボニル
(例えばメトキシカルボニル、エトキシカルボニル、プ
ロポキシカルボニル、ブトキシカルボニル、ヘキシルオ
キシカルボニル、2−ヨードエトキシカルボニル、2,
2,2−トリクロロエトキシカルボニル等)、置換また
は非置換のアリールオキシカルボニル(例えばフェノキ
シカルボニル、4−ニトロフェノキシカルボニル、2−
ナフチルオキシカルボニル等)、置換または非置換のア
ル(低級)アルコキシカルボニル(例えばベンジルオキ
シカルボニル、フェネチルオキシカルボニル、ベンズヒ
ドリルオキシカルボニル、4−ニトロベンジルオキシカ
ルボニル等)等が挙げられる。より好ましいのは非置換
低級アルコキシカルボニルである。
しては、置換または非置換の低級アルコキシカルボニル
(例えばメトキシカルボニル、エトキシカルボニル、プ
ロポキシカルボニル、ブトキシカルボニル、ヘキシルオ
キシカルボニル、2−ヨードエトキシカルボニル、2,
2,2−トリクロロエトキシカルボニル等)、置換また
は非置換のアリールオキシカルボニル(例えばフェノキ
シカルボニル、4−ニトロフェノキシカルボニル、2−
ナフチルオキシカルボニル等)、置換または非置換のア
ル(低級)アルコキシカルボニル(例えばベンジルオキ
シカルボニル、フェネチルオキシカルボニル、ベンズヒ
ドリルオキシカルボニル、4−ニトロベンジルオキシカ
ルボニル等)等が挙げられる。より好ましいのは非置換
低級アルコキシカルボニルである。
【0021】上記低級アルキル置換カルバモイルとして
は、メチルカルバモイル、エチルカルバモイル、プロピ
ルカルバモイル、ジメチルカルバモイル、ジエチルカル
バモイル、N−メチル−N−エチルカルバモイル等が挙
げられ、より好ましいのはジメチルカルバモイルであ
る。
は、メチルカルバモイル、エチルカルバモイル、プロピ
ルカルバモイル、ジメチルカルバモイル、ジエチルカル
バモイル、N−メチル−N−エチルカルバモイル等が挙
げられ、より好ましいのはジメチルカルバモイルであ
る。
【0022】上記アリールスルホニル置換カルバモイル
としては、フェニルスルホニルカルバモイル、トリスル
ホニルカルバモイル等が挙げられる。上記低級アルキル
スルホニル置換カルバモイルとしては、メチルスルホニ
ルカルバモイル、エチルスルホニルカルバモイル等が挙
げられる。上記複素環置換カルバモイルとしては、後記
の如き複素環基で置換されたものが挙げられ、より好ま
しいのはテトラゾリルカルバモイルである。
としては、フェニルスルホニルカルバモイル、トリスル
ホニルカルバモイル等が挙げられる。上記低級アルキル
スルホニル置換カルバモイルとしては、メチルスルホニ
ルカルバモイル、エチルスルホニルカルバモイル等が挙
げられる。上記複素環置換カルバモイルとしては、後記
の如き複素環基で置換されたものが挙げられ、より好ま
しいのはテトラゾリルカルバモイルである。
【0023】上記低級アルカノイルとしては、置換また
は非置換のもの、例えばホルミル、アセチル、プロピオ
ニル、ブチリル、イソブチリル、バレリル、イソバレリ
ル、ピバロイル、ヘキサノイル、トリフルオロアセチル
等が挙げられ、より好ましいのはホルミルである。上記
アロイルとしては、ベンゾイル、ナフトイル、トルオイ
ル、ジ(tert−ブチル)ベンゾイル等が挙げられ
る。上記複素環カルボニルにおける複素環基部分として
は、後述する複素環基が挙げられる。
は非置換のもの、例えばホルミル、アセチル、プロピオ
ニル、ブチリル、イソブチリル、バレリル、イソバレリ
ル、ピバロイル、ヘキサノイル、トリフルオロアセチル
等が挙げられ、より好ましいのはホルミルである。上記
アロイルとしては、ベンゾイル、ナフトイル、トルオイ
ル、ジ(tert−ブチル)ベンゾイル等が挙げられ
る。上記複素環カルボニルにおける複素環基部分として
は、後述する複素環基が挙げられる。
【0024】好適な「低級アルキル(アシル)アミノ」
としては、低級アルキル(低級アルカノイル)アミノが
挙げられ、より好ましいのはtert−ブチル(アセチ
ル)アミノである。
としては、低級アルキル(低級アルカノイル)アミノが
挙げられ、より好ましいのはtert−ブチル(アセチ
ル)アミノである。
【0025】好適な「シクロ(低級)アルキル」として
は、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、
シクロヘキシル等が挙げられ、より好ましいのはシクロ
プロピルまたはシクロブチルである。
は、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、
シクロヘキシル等が挙げられ、より好ましいのはシクロ
プロピルまたはシクロブチルである。
【0026】好適な「トリシクロアルキル」としては、
(C7 −C12)トリシクロアルキルが挙げられ、より好
ましいのはアダマンチルである。好適な「低級アルコキ
シ」としては、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソ
プロポキシ、ブトキシ等が挙げられ、より好ましいのは
メトキシである。
(C7 −C12)トリシクロアルキルが挙げられ、より好
ましいのはアダマンチルである。好適な「低級アルコキ
シ」としては、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソ
プロポキシ、ブトキシ等が挙げられ、より好ましいのは
メトキシである。
【0027】R1 に記載の「低級アルコキシで置換され
ていてもよいアリール」におけるアリール部分の好適な
例としては、フェニル、ナフチル、低級アルキル置換フ
ェニル[例えばトシル、キシリル、メシチル、クメニ
ル、ジ(tert−ブチル)フェニル等]が挙げられ、
より好ましいのはフェニルまたはトシルである。
ていてもよいアリール」におけるアリール部分の好適な
例としては、フェニル、ナフチル、低級アルキル置換フ
ェニル[例えばトシル、キシリル、メシチル、クメニ
ル、ジ(tert−ブチル)フェニル等]が挙げられ、
より好ましいのはフェニルまたはトシルである。
【0028】好適な「複素環基」としては、酸素原子、
硫黄原子、窒素原子等のヘテロ原子を少なくとも1個含
有する飽和または不飽和の単環式または多環式複素環基
が挙げられる。
硫黄原子、窒素原子等のヘテロ原子を少なくとも1個含
有する飽和または不飽和の単環式または多環式複素環基
が挙げられる。
【0029】このうち、特に好ましい複素環基として
は、1〜4個の窒素原子を含有する3〜6員の不飽和複
素単環基、例えばピロリル、ピロリニル、イミダゾリ
ル、ピラゾリル、ピリジル、ピリミジニル、ピラジニ
ル、ピリダジニル、ジヒドロピリダジニル、テトラヒド
ロピリダジニル、トリアゾリル(例えば1,2,4−ト
リアゾリル、1H−1,2,3−トリアゾリル、2H−
1,2,3−トリアゾリル等)、テトラゾリル(例えば
1H−テトラゾリル、2H−テトラゾリル等)等;1〜
4個の窒素原子を含有する3〜6員の飽和複素単環基、
例えばピロリジニル、イミダゾリジニル、ピペリジノ、
ピペラジニル等;1〜5個の窒素原子を含有する不飽和
縮合複素環基、例えばインドリル、イソインドリル、イ
ンドリニル、イソインドリニル、インドリジニル、ベン
ゾイミダゾリル、キノリル、ジヒドロキノリル、テトラ
ヒドロキノリル、イソキノリル、インダゾリル、ベンゾ
トリアゾリル、テトラゾロピリジル、テトラゾロピリダ
ジニル(例えばテトラゾロ[1,5−b]ピリダジニル
等)等;1〜2個の酸素原子と1〜3個の窒素原子を含
有する3〜6員の不飽和複素単環基、例えばオキサゾリ
ル、イソオキサゾリル、ジヒドロイソオキサゾリル、オ
キサジアゾリル(例えば1,2,4−オキサジゾリル、
1,3,4−オキサジアゾリル、1,2,5−オキサジ
アゾリル等)等;1〜2個の酸素原子と1〜3個の窒素
原子を含有する3〜6員の飽和複素単環基、例えばモル
ホリニル等;1〜2個の酸素原子と1〜3個の窒素原子
を含有する不飽和縮合複素環基、例えばベンゾオキサゾ
リル、ベンゾオキサジアゾリル等;1〜2個の硫黄原子
と1〜3個の窒素原子を含有する3〜6員の不飽和複素
単環基、例えば1,3−チアゾリル、1,2−チアゾリ
ル、チアゾリニル、チアジアゾリル(例えば1,2,4
−チアジアゾリル、1,3,4−チアジアゾリル、1,
2,5−チアジアゾリル、1,2,3,−チアジアゾリ
ル等)等;1〜2個の硫黄原子と1〜3個の窒素原子を
含有する3〜6員の飽和複素単環基、例えばチアゾリジ
ニル等;1個の酸素原子を含有する3〜6員の不飽和複
素単環基、例えばピラニル、フリル等;1〜2個の硫黄
原子を含有する3〜6員の不飽和複素単環基、例えばチ
エニル等;1〜2個の硫黄原子と1〜3個の窒素原子を
含有する不飽和縮合複素環基、例えばベンゾチアゾリ
ル、ベンゾチアジアゾリル(例えば1,2,3−ベンゾ
チアジアゾリル、2,1,3−ベンゾチアジアゾリル
等)等;等が挙げられる。
は、1〜4個の窒素原子を含有する3〜6員の不飽和複
素単環基、例えばピロリル、ピロリニル、イミダゾリ
ル、ピラゾリル、ピリジル、ピリミジニル、ピラジニ
ル、ピリダジニル、ジヒドロピリダジニル、テトラヒド
ロピリダジニル、トリアゾリル(例えば1,2,4−ト
リアゾリル、1H−1,2,3−トリアゾリル、2H−
1,2,3−トリアゾリル等)、テトラゾリル(例えば
1H−テトラゾリル、2H−テトラゾリル等)等;1〜
4個の窒素原子を含有する3〜6員の飽和複素単環基、
例えばピロリジニル、イミダゾリジニル、ピペリジノ、
ピペラジニル等;1〜5個の窒素原子を含有する不飽和
縮合複素環基、例えばインドリル、イソインドリル、イ
ンドリニル、イソインドリニル、インドリジニル、ベン
ゾイミダゾリル、キノリル、ジヒドロキノリル、テトラ
ヒドロキノリル、イソキノリル、インダゾリル、ベンゾ
トリアゾリル、テトラゾロピリジル、テトラゾロピリダ
ジニル(例えばテトラゾロ[1,5−b]ピリダジニル
等)等;1〜2個の酸素原子と1〜3個の窒素原子を含
有する3〜6員の不飽和複素単環基、例えばオキサゾリ
ル、イソオキサゾリル、ジヒドロイソオキサゾリル、オ
キサジアゾリル(例えば1,2,4−オキサジゾリル、
1,3,4−オキサジアゾリル、1,2,5−オキサジ
アゾリル等)等;1〜2個の酸素原子と1〜3個の窒素
原子を含有する3〜6員の飽和複素単環基、例えばモル
ホリニル等;1〜2個の酸素原子と1〜3個の窒素原子
を含有する不飽和縮合複素環基、例えばベンゾオキサゾ
リル、ベンゾオキサジアゾリル等;1〜2個の硫黄原子
と1〜3個の窒素原子を含有する3〜6員の不飽和複素
単環基、例えば1,3−チアゾリル、1,2−チアゾリ
ル、チアゾリニル、チアジアゾリル(例えば1,2,4
−チアジアゾリル、1,3,4−チアジアゾリル、1,
2,5−チアジアゾリル、1,2,3,−チアジアゾリ
ル等)等;1〜2個の硫黄原子と1〜3個の窒素原子を
含有する3〜6員の飽和複素単環基、例えばチアゾリジ
ニル等;1個の酸素原子を含有する3〜6員の不飽和複
素単環基、例えばピラニル、フリル等;1〜2個の硫黄
原子を含有する3〜6員の不飽和複素単環基、例えばチ
エニル等;1〜2個の硫黄原子と1〜3個の窒素原子を
含有する不飽和縮合複素環基、例えばベンゾチアゾリ
ル、ベンゾチアジアゾリル(例えば1,2,3−ベンゾ
チアジアゾリル、2,1,3−ベンゾチアジアゾリル
等)等;等が挙げられる。
【0030】R1 とR2 が隣接原子と一緒になって形成
する好適な「シクロアルケン環」としては、シクロペン
テン、シクロヘキセン、シクロヘプテン等が挙げられ、
より好ましいのはシクロヘキセンである。R1 とR2 が
隣接原子と一緒になって形成する好適な「アシル」とし
ては、上記アシル基が挙げられる。
する好適な「シクロアルケン環」としては、シクロペン
テン、シクロヘキセン、シクロヘプテン等が挙げられ、
より好ましいのはシクロヘキセンである。R1 とR2 が
隣接原子と一緒になって形成する好適な「アシル」とし
ては、上記アシル基が挙げられる。
【0031】R1 とR2 が隣接原子と一緒になって形成
する好適な「N含有複素環」としては、ピロール、ピロ
リジン、アゼピン、ジヒドロアゼピン、テトラヒドロア
ゼピン等が挙げられ、より好ましいのはテトラヒドロア
ゼピンである。
する好適な「N含有複素環」としては、ピロール、ピロ
リジン、アゼピン、ジヒドロアゼピン、テトラヒドロア
ゼピン等が挙げられ、より好ましいのはテトラヒドロア
ゼピンである。
【0032】上式(I)および(III )の化合物の好適
な塩類としては常用の無毒性塩類であり、その様な例と
しては、無機塩基塩[例えばアルカリ金属塩(例えばナ
トリウム塩、カリウム塩等)、アルカリ土類金属塩(例
えばカルシウム塩、マグネシウム塩等)、アンモニウム
塩]、有機塩基塩[例えば有機アミン塩(トリメチルア
ミン塩、トリエチルアミン塩、ピリジン塩、ピコリン
塩、エタノールアミン塩、トリエタノールアミン塩、ジ
シクロヘキシルアミン塩、N,N’−ジベンジルエチレ
ンジアミン塩等)]、有機酸付加塩(例えばギ酸塩、酢
酸塩、トリフルオロ酢酸塩、マレイン酸塩、酒石酸塩、
メタンスルホン酸塩、ベンゼンスルホン酸塩、トルエン
スルホン酸塩等)、無機酸付加塩(例えば塩酸塩、臭化
水素酸塩、硫酸塩、リン酸塩等)、アミノ酸との塩(例
えばアルギニン塩、アスパラギン酸塩、グルタミン酸塩
等)等が含まれる。
な塩類としては常用の無毒性塩類であり、その様な例と
しては、無機塩基塩[例えばアルカリ金属塩(例えばナ
トリウム塩、カリウム塩等)、アルカリ土類金属塩(例
えばカルシウム塩、マグネシウム塩等)、アンモニウム
塩]、有機塩基塩[例えば有機アミン塩(トリメチルア
ミン塩、トリエチルアミン塩、ピリジン塩、ピコリン
塩、エタノールアミン塩、トリエタノールアミン塩、ジ
シクロヘキシルアミン塩、N,N’−ジベンジルエチレ
ンジアミン塩等)]、有機酸付加塩(例えばギ酸塩、酢
酸塩、トリフルオロ酢酸塩、マレイン酸塩、酒石酸塩、
メタンスルホン酸塩、ベンゼンスルホン酸塩、トルエン
スルホン酸塩等)、無機酸付加塩(例えば塩酸塩、臭化
水素酸塩、硫酸塩、リン酸塩等)、アミノ酸との塩(例
えばアルギニン塩、アスパラギン酸塩、グルタミン酸塩
等)等が含まれる。
【0033】前述した通り、この方法は、式(I)で示
される化合物または医薬として許容されるその塩類を、
塩基の存在下に上式(II)で示される化合物(例えばイ
ソクロマノンやフタリド等)と反応させて、上式(III
)で示されるチアゾリルベンゾフラン誘導体または医
薬として許容されるその塩類を得るものである。
される化合物または医薬として許容されるその塩類を、
塩基の存在下に上式(II)で示される化合物(例えばイ
ソクロマノンやフタリド等)と反応させて、上式(III
)で示されるチアゾリルベンゾフラン誘導体または医
薬として許容されるその塩類を得るものである。
【0034】この反応に用いられる塩基としては、アル
カリ金属(例えばリチウム、ナトリウム、カリウム
等)、それらの水酸化物若しくは炭酸塩若しくは重炭酸
塩(例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナ
トリウム、炭酸カリウム、重炭酸ナトリウム、重炭酸カ
リウム等)、アルカリ土類金属(例えばカルシウム、マ
グネシウム等)、それらの水酸化物若しくは炭酸塩若し
くは重炭酸塩(例えば水酸化カルシウム、炭酸カルシウ
ム、炭酸マグネシウム等)、アルカリ金属水素化物(例
えば水素化ナトリウム等)、アルカリ土類金属水素化物
(例えば水素化カルシウム等)、アルカリ金属アルコキ
シド(例えばナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキ
シド、カリウムtert−ブトキシド等)、アルカリ土
類金属アルコキシド(例えばマグネシウムメトキシド、
マグネシウムエトキシド等)、1,8−ジアザビシクロ
[5.4.0]ウンデセン−7(DBU)等が挙げられ
る。
カリ金属(例えばリチウム、ナトリウム、カリウム
等)、それらの水酸化物若しくは炭酸塩若しくは重炭酸
塩(例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナ
トリウム、炭酸カリウム、重炭酸ナトリウム、重炭酸カ
リウム等)、アルカリ土類金属(例えばカルシウム、マ
グネシウム等)、それらの水酸化物若しくは炭酸塩若し
くは重炭酸塩(例えば水酸化カルシウム、炭酸カルシウ
ム、炭酸マグネシウム等)、アルカリ金属水素化物(例
えば水素化ナトリウム等)、アルカリ土類金属水素化物
(例えば水素化カルシウム等)、アルカリ金属アルコキ
シド(例えばナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキ
シド、カリウムtert−ブトキシド等)、アルカリ土
類金属アルコキシド(例えばマグネシウムメトキシド、
マグネシウムエトキシド等)、1,8−ジアザビシクロ
[5.4.0]ウンデセン−7(DBU)等が挙げられ
る。
【0035】これらの塩基の使用量は特に限定されない
が、本反応形態を考慮すれば、化合物(I)に対して、
モル比で、等モルから2倍モルとすることが好ましく、
より好ましいのは1.5倍モルである。また、本反応に
使用する塩基は特に限定されないが、好ましくは炭酸カ
リウム、炭酸ナトリウム、水素化ナトリウム、水酸化カ
リウム等が挙げられ、より好ましくは炭酸カリウムであ
る。
が、本反応形態を考慮すれば、化合物(I)に対して、
モル比で、等モルから2倍モルとすることが好ましく、
より好ましいのは1.5倍モルである。また、本反応に
使用する塩基は特に限定されないが、好ましくは炭酸カ
リウム、炭酸ナトリウム、水素化ナトリウム、水酸化カ
リウム等が挙げられ、より好ましくは炭酸カリウムであ
る。
【0036】また、化合物(I)と化合物(II)の混合
比率は、用いる化合物や塩基の種類、反応温度や反応時
間等によっても変化するが、概ね1〜4.5倍モルにす
ることが好ましく、より好ましいのは3.5〜4倍モル
である。
比率は、用いる化合物や塩基の種類、反応温度や反応時
間等によっても変化するが、概ね1〜4.5倍モルにす
ることが好ましく、より好ましいのは3.5〜4倍モル
である。
【0037】尚、化合物(II)は、この反応における反
応剤且つ溶媒として作用するものであるから、上記反応
において更に溶媒を用いる必要はないが、反応に悪影響
を及ぼさない溶媒(例えばトルエン、キシレン、ルチジ
ン、キノリン等)を用いても構わない。
応剤且つ溶媒として作用するものであるから、上記反応
において更に溶媒を用いる必要はないが、反応に悪影響
を及ぼさない溶媒(例えばトルエン、キシレン、ルチジ
ン、キノリン等)を用いても構わない。
【0038】その他の条件は特に限定されないが、より
高い収率を得る為には、170〜200℃で1〜15時
間反応させることが好ましく、より好ましいのは180
〜185℃で4〜6時間である。
高い収率を得る為には、170〜200℃で1〜15時
間反応させることが好ましく、より好ましいのは180
〜185℃で4〜6時間である。
【0039】尚、上式(I)の化合物類は、例えば特開
平5−202040号に開示されている方法(例えば2
−ヒドロキシ−5−メトキシベンズアルデヒドを出発原
料とし、これをシアノメチル化し、次いで硫化水素また
はその塩と反応させることによってベンゾフラニルチオ
アミド化合物とした後、この化合物を、酸残基を有する
アセトン誘導体と反応させて所望の化合物を得る等の方
法を採用することができる。
平5−202040号に開示されている方法(例えば2
−ヒドロキシ−5−メトキシベンズアルデヒドを出発原
料とし、これをシアノメチル化し、次いで硫化水素また
はその塩と反応させることによってベンゾフラニルチオ
アミド化合物とした後、この化合物を、酸残基を有する
アセトン誘導体と反応させて所望の化合物を得る等の方
法を採用することができる。
【0040】また、上式(II)の化合物のうち、例え
ば、3−イソクロマノン(Aがメチレン,Xがメチレ
ン)や、フタリド(Aがメチレン,Xが単結合)等は、
市販品を用いることができる。以下、製造例および実施
例に従ってこの発明をさらに詳細に説明する。
ば、3−イソクロマノン(Aがメチレン,Xがメチレ
ン)や、フタリド(Aがメチレン,Xが単結合)等は、
市販品を用いることができる。以下、製造例および実施
例に従ってこの発明をさらに詳細に説明する。
【0041】
実施例1 4−tert−ブチル−2−(5−ヒドロキシベンゾフ
ラン−2−イル)チアゾール4.0g(14.6mmo
l)、3−イソクロマノン8.0g(54.0mmo
l)、および粉砕炭酸カリウム3.03g(21.9m
mol)の混合物を180℃にて5時間反応させた後、
反応液を100℃まで冷却し、水40mLを加えて希釈
した。この混液中に酢酸エチル40mLを加えた後、6
N塩酸にてpHを3に調整し、分離した有機層を採取し
た。この有機層を水で洗浄した後、減圧濃縮し、得られ
た濃縮残渣中にイソプロピルアルコール28mLを添加
し、充分攪拌して結晶を析出させた。この結晶中に水1
2mLを加えた後、氷冷し、2時間攪拌した。析出した
結晶を濾別した後、含水イソプロピルアルコール(イソ
プロピルアルコール:水=7:3)で洗浄し、得られた
結晶を真空乾燥することにより4−tert−ブチル−
2−[5−(2−カルボキシメチルフェニルメトキシ)
ベンゾフラン−2−イル]チアゾール5.45g(収率
88.3%)を得た。
ラン−2−イル)チアゾール4.0g(14.6mmo
l)、3−イソクロマノン8.0g(54.0mmo
l)、および粉砕炭酸カリウム3.03g(21.9m
mol)の混合物を180℃にて5時間反応させた後、
反応液を100℃まで冷却し、水40mLを加えて希釈
した。この混液中に酢酸エチル40mLを加えた後、6
N塩酸にてpHを3に調整し、分離した有機層を採取し
た。この有機層を水で洗浄した後、減圧濃縮し、得られ
た濃縮残渣中にイソプロピルアルコール28mLを添加
し、充分攪拌して結晶を析出させた。この結晶中に水1
2mLを加えた後、氷冷し、2時間攪拌した。析出した
結晶を濾別した後、含水イソプロピルアルコール(イソ
プロピルアルコール:水=7:3)で洗浄し、得られた
結晶を真空乾燥することにより4−tert−ブチル−
2−[5−(2−カルボキシメチルフェニルメトキシ)
ベンゾフラン−2−イル]チアゾール5.45g(収率
88.3%)を得た。
【0042】尚、本実施例で、出発物質として用いる4
−tert−ブチル−2−(5−ヒドロキシベンゾフラ
ン−2−イル)チアゾールを製造する方法としては、前
記特開平5−202040号に記載の工程[製造例4→
製造例5→実施例24→実施例4(実施例4で、最終的
に該出発物質を得ている]参照することができる。
−tert−ブチル−2−(5−ヒドロキシベンゾフラ
ン−2−イル)チアゾールを製造する方法としては、前
記特開平5−202040号に記載の工程[製造例4→
製造例5→実施例24→実施例4(実施例4で、最終的
に該出発物質を得ている]参照することができる。
【0043】1H−NMR(DMSO−d6 ,200M
Hz,δ):1.36(9H,s),3.73(2H,
s),5.16(2H,s),7.07(1H,dd,
J=9.0Hz及び2.6Hz),7.27〜7.33
(4H,m) ,7.44〜7.51(3H,m),7.
62(1H,d,J=9.0Hz),12.38(1
H,brs)
Hz,δ):1.36(9H,s),3.73(2H,
s),5.16(2H,s),7.07(1H,dd,
J=9.0Hz及び2.6Hz),7.27〜7.33
(4H,m) ,7.44〜7.51(3H,m),7.
62(1H,d,J=9.0Hz),12.38(1
H,brs)
【0044】実施例2 4−tert−ブチル−2−(5−ヒドロキシベンゾフ
ラン−2−イル)チアゾール4.0g(14.6mmo
l)、フタリド7.24g(54.0mmol)、およ
び粉砕炭酸カリウム2.02g(21.9mmol)の
混合物を184℃にて5時間反応させた後、反応液を1
00℃まで冷却し、水40mLを加えて希釈した。この
混液中に酢酸エチル40mLを加えた後、6N塩酸にて
pHを3に調整して結晶を析出させ、更に酢酸エチル4
0mLを追加して2時間攪拌した。析出した結晶を濾別
し、酢酸エチル20mLで洗浄した後、得られた結晶を
真空乾燥することにより4−tert−ブチル−2−
[5−(2−カルボキシフェニルメトキシ)ベンゾフラ
ン−2−イル]チアゾール3.93g(収率50.8
%)を得た。
ラン−2−イル)チアゾール4.0g(14.6mmo
l)、フタリド7.24g(54.0mmol)、およ
び粉砕炭酸カリウム2.02g(21.9mmol)の
混合物を184℃にて5時間反応させた後、反応液を1
00℃まで冷却し、水40mLを加えて希釈した。この
混液中に酢酸エチル40mLを加えた後、6N塩酸にて
pHを3に調整して結晶を析出させ、更に酢酸エチル4
0mLを追加して2時間攪拌した。析出した結晶を濾別
し、酢酸エチル20mLで洗浄した後、得られた結晶を
真空乾燥することにより4−tert−ブチル−2−
[5−(2−カルボキシフェニルメトキシ)ベンゾフラ
ン−2−イル]チアゾール3.93g(収率50.8
%)を得た。
【0045】1H−NMR(DMSO−d6 ,200M
Hz,δ):1.36(9H,s),5.50(2H,
s),7.08(1H,dd,J=9.0Hz及び2.
6Hz),7.27(1H,d,J=2.6Hz),
7.43〜7.50(3H,m),7.58〜7.73
(3H,m),7.96(1H,dd,J=7.7Hz
および1.1Hz),13.11(1H,brs) MS(APCI,m/z( 相対強度) ):408(M+
H+ ,100),274(32)
Hz,δ):1.36(9H,s),5.50(2H,
s),7.08(1H,dd,J=9.0Hz及び2.
6Hz),7.27(1H,d,J=2.6Hz),
7.43〜7.50(3H,m),7.58〜7.73
(3H,m),7.96(1H,dd,J=7.7Hz
および1.1Hz),13.11(1H,brs) MS(APCI,m/z( 相対強度) ):408(M+
H+ ,100),274(32)
【0046】
【発明の効果】この発明の製造方法は上記の様に構成さ
れているので、ロイコトリエン/SRS−A拮抗薬また
は阻害薬として有用なチアゾリルベンゾフラン誘導体ま
たは医薬として許容されるその塩類を、僅か1工程のみ
でしかも収率良く得ることができた。また、この方法に
よれば、従来法の如く、メチル メチルスルフィニルメ
チル スルフィドを原料物質として用いなくても良いの
で、該原料物質の使用に伴う問題点(大量入手に対する
不安と、反応系で悪臭物質であるメチルメルカプタンが
発生する等の問題)も全くない、という効果も奏する。
れているので、ロイコトリエン/SRS−A拮抗薬また
は阻害薬として有用なチアゾリルベンゾフラン誘導体ま
たは医薬として許容されるその塩類を、僅か1工程のみ
でしかも収率良く得ることができた。また、この方法に
よれば、従来法の如く、メチル メチルスルフィニルメ
チル スルフィドを原料物質として用いなくても良いの
で、該原料物質の使用に伴う問題点(大量入手に対する
不安と、反応系で悪臭物質であるメチルメルカプタンが
発生する等の問題)も全くない、という効果も奏する。
Claims (1)
- 【請求項1】 式(I): 【化1】 [式中、R1 はハロゲン、低級アルキルアミノ若しくは
低級アルキル(アシル)アミノで置換されていてもよい
低級アルキル;シクロ(低級)アルキル;トリシクロア
ルキル;低級アルコキシで置換されていてもよいアリー
ル;または複素環基、 R2 は水素またはハロゲン、 またはR1 とR2 が隣接原子と一緒になって、シクロア
ルケン環もしくはアシルで置換されていてもよいN含有
複素環を形成する、 R3 は水素、ハロゲン、ヒドロキシ、低級アルキルまた
は低級アルコキシ、 YはOまたはSを夫々意味する]で示される化合物また
は医薬として許容されるその塩類を、塩基の存在下に式
(II) 【化2】 [式中、Aは低級アルキレン、 Xは単結合または低級アルキレンを意味する]で示され
る化合物と反応させて、式(III ) 【化3】 [式中、R1 、R2 、R3 、A、XおよびYは夫々前と
同じ意味である]で示されるチアゾリルベンゾフラン誘
導体または医薬として許容されるその塩類を得ることを
特徴とするチアゾリルベンゾフラン誘導体またはその塩
類の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9127396A JPH10316678A (ja) | 1997-05-16 | 1997-05-16 | チアゾリルベンゾフラン誘導体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9127396A JPH10316678A (ja) | 1997-05-16 | 1997-05-16 | チアゾリルベンゾフラン誘導体の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10316678A true JPH10316678A (ja) | 1998-12-02 |
Family
ID=14958967
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9127396A Withdrawn JPH10316678A (ja) | 1997-05-16 | 1997-05-16 | チアゾリルベンゾフラン誘導体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10316678A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001261556A (ja) * | 2000-03-17 | 2001-09-26 | Mochida Pharmaceut Co Ltd | 平滑筋異常収縮の抑制剤 |
-
1997
- 1997-05-16 JP JP9127396A patent/JPH10316678A/ja not_active Withdrawn
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001261556A (ja) * | 2000-03-17 | 2001-09-26 | Mochida Pharmaceut Co Ltd | 平滑筋異常収縮の抑制剤 |
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| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
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