JPH10326552A - 耐電圧表面処理被膜及び耐電圧表面処理被膜を備えるリレー鉄芯 - Google Patents
耐電圧表面処理被膜及び耐電圧表面処理被膜を備えるリレー鉄芯Info
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- JPH10326552A JPH10326552A JP13507097A JP13507097A JPH10326552A JP H10326552 A JPH10326552 A JP H10326552A JP 13507097 A JP13507097 A JP 13507097A JP 13507097 A JP13507097 A JP 13507097A JP H10326552 A JPH10326552 A JP H10326552A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 高耐電圧とすることのできる耐電圧表面処理
被膜及び、高耐電圧のリレーを構成できるリレー鉄芯を
提供する。 【解決手段】 基材にメッキ処理を施して形成した下地
層と、該下地層の表面に酸化処理を施して形成した酸化
被膜層と、を有して耐電圧表面処理被膜を構成した。
被膜及び、高耐電圧のリレーを構成できるリレー鉄芯を
提供する。 【解決手段】 基材にメッキ処理を施して形成した下地
層と、該下地層の表面に酸化処理を施して形成した酸化
被膜層と、を有して耐電圧表面処理被膜を構成した。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、耐電圧表面処理被
膜及び耐電圧表面処理被膜を備えるリレー鉄芯に関す
る。
膜及び耐電圧表面処理被膜を備えるリレー鉄芯に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】従来の技術の耐電圧表面処理被膜を備え
るリレー鉄芯を図３、図４に基づいて説明する。図３は
リレーの構成を示す要部側面図である。図４はリレー鉄
芯の断面図である。
るリレー鉄芯を図３、図４に基づいて説明する。図３は
リレーの構成を示す要部側面図である。図４はリレー鉄
芯の断面図である。
【０００３】図３に示すリレーは、コイル１、リレー鉄
芯２、アマチュア３、永久磁石４とを有して構成されて
いる。
芯２、アマチュア３、永久磁石４とを有して構成されて
いる。
【０００４】リレー鉄芯２は略コ字状をした電磁軟鉄等
の磁性金属材料よりなり、両端面にアマチュア３に対向
する磁極面２ａ，２ａがそれぞれ設けてある。コイル１
はリレー鉄芯２に巻装されている。
の磁性金属材料よりなり、両端面にアマチュア３に対向
する磁極面２ａ，２ａがそれぞれ設けてある。コイル１
はリレー鉄芯２に巻装されている。
【０００５】アマチュア３は、リレー鉄芯２と同様に電
磁軟鉄からなり、略平板状をした中央下面に揺動支点と
なる突条３ａが設けられている。
磁軟鉄からなり、略平板状をした中央下面に揺動支点と
なる突条３ａが設けられている。
【０００６】永久磁石４は、略山形をしており、中央突
部に前記アマチュア３を揺動支持する凹所４ａが設けら
れるとともに、両端がリレー鉄芯２の両端間に接するよ
うになされている。
部に前記アマチュア３を揺動支持する凹所４ａが設けら
れるとともに、両端がリレー鉄芯２の両端間に接するよ
うになされている。
【０００７】以上のようにして構成されるリレーにあっ
ては、コイル１が励磁されると、アマチュア３が突条３
ａを支点として揺動し、それにともない絶縁体を介して
アマチュア３に一体に設けられた不図示の可動接点が固
定接点に対して開閉する。
ては、コイル１が励磁されると、アマチュア３が突条３
ａを支点として揺動し、それにともない絶縁体を介して
アマチュア３に一体に設けられた不図示の可動接点が固
定接点に対して開閉する。
【０００８】ところで、このリレー鉄芯２は、コイル１
との絶縁を保つために、耐電圧表面処理被膜を備えてい
る。この耐電圧表面処理被膜は次のようにして形成す
る。
との絶縁を保つために、耐電圧表面処理被膜を備えてい
る。この耐電圧表面処理被膜は次のようにして形成す
る。
【０００９】まず、リレー鉄芯基材５を焼鈍し、図４に
示すように、該リレー鉄芯基材５の表面にニッケルメッ
キの下地層６を形成する。この下地層６を形成するのは
耐食性を向上させるためである。
示すように、該リレー鉄芯基材５の表面にニッケルメッ
キの下地層６を形成する。この下地層６を形成するのは
耐食性を向上させるためである。
【００１０】次に、この下地層６の表面にポリイミド樹
脂を蒸着形成し、表面層７を形成する。
脂を蒸着形成し、表面層７を形成する。
【００１１】このようにして形成されたリレー鉄芯Ａの
リレー鉄芯基材１は、リレー鉄芯Ａを駆動するコイル１
との間で表面層３により絶縁されるとともに、リレーと
しての耐熱性も高いものとなる。
リレー鉄芯基材１は、リレー鉄芯Ａを駆動するコイル１
との間で表面層３により絶縁されるとともに、リレーと
しての耐熱性も高いものとなる。
【００１２】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述の
ような図４に示すリレー鉄芯にあっては、例えば、ニッ
ケルメッキの下地層６が３［μｍ］であり、ポリイミド
樹脂の表面層７が１０［μｍ］である場合、耐電圧は１
１００［Ｖ］であった。
ような図４に示すリレー鉄芯にあっては、例えば、ニッ
ケルメッキの下地層６が３［μｍ］であり、ポリイミド
樹脂の表面層７が１０［μｍ］である場合、耐電圧は１
１００［Ｖ］であった。
【００１３】ところで、現在における要求として、高耐
電圧のリレーが望まれており、１１００［Ｖ］ではその
要求を満たさない場合があった。
電圧のリレーが望まれており、１１００［Ｖ］ではその
要求を満たさない場合があった。
【００１４】本発明は、上記問題点を改善するために成
されたもので、その目的とするところは、高耐電圧とす
ることのできる耐電圧表面処理被膜及び、高耐電圧のリ
レーを構成できるリレー鉄芯を提供することにある。
されたもので、その目的とするところは、高耐電圧とす
ることのできる耐電圧表面処理被膜及び、高耐電圧のリ
レーを構成できるリレー鉄芯を提供することにある。
【００１５】
【課題を解決するための手段】本発明は上記の問題を解
決するために、請求項１記載の発明にあっては、基材に
メッキ処理を施して形成したニッケルを主成分とする下
地層と、該下地層の表面に酸化処理を施して形成した酸
化被膜層と、を有することを特徴とするものである。
決するために、請求項１記載の発明にあっては、基材に
メッキ処理を施して形成したニッケルを主成分とする下
地層と、該下地層の表面に酸化処理を施して形成した酸
化被膜層と、を有することを特徴とするものである。
【００１６】請求項２記載の発明にあっては、基材にメ
ッキ処理を施して形成した下地層と、該下地層の表面に
酸化処理を施して形成した酸化被膜層と、該酸化被膜層
にポリイミド樹脂を蒸着形成した表面層と、を有するを
特徴とするものである。
ッキ処理を施して形成した下地層と、該下地層の表面に
酸化処理を施して形成した酸化被膜層と、該酸化被膜層
にポリイミド樹脂を蒸着形成した表面層と、を有するを
特徴とするものである。
【００１７】請求項３記載の発明にあっては、前記酸化
被膜層は空気中において３００℃以上５００℃以下で酸
化処理を施して形成したことを特徴とするものである。
被膜層は空気中において３００℃以上５００℃以下で酸
化処理を施して形成したことを特徴とするものである。
【００１８】請求項４記載の発明にあっては、基材にリ
ン酸処理を施したリン酸層と、該リン酸層にポリイミド
樹脂を蒸着形成した表面層と、を有することを特徴とす
るものである。
ン酸処理を施したリン酸層と、該リン酸層にポリイミド
樹脂を蒸着形成した表面層と、を有することを特徴とす
るものである。
【００１９】請求項５記載の発明にあっては、基材であ
るリレー鉄芯にメッキ処理を施して形成した下地層と、
該下地層の表面に酸化処理を施して形成した酸化被膜層
と、を有する耐電圧表面処理被膜を備えることを特徴と
するものである。
るリレー鉄芯にメッキ処理を施して形成した下地層と、
該下地層の表面に酸化処理を施して形成した酸化被膜層
と、を有する耐電圧表面処理被膜を備えることを特徴と
するものである。
【００２０】請求項６記載の発明にあっては、基材であ
るリレー鉄芯にメッキ処理を施して形成した下地層と、
該下地層の表面に酸化処理を施して形成した酸化被膜層
と、該酸化被膜層にポリイミド樹脂を蒸着形成した表面
層と、を有する耐電圧表面処理被膜を備えることを特徴
とするものである。
るリレー鉄芯にメッキ処理を施して形成した下地層と、
該下地層の表面に酸化処理を施して形成した酸化被膜層
と、該酸化被膜層にポリイミド樹脂を蒸着形成した表面
層と、を有する耐電圧表面処理被膜を備えることを特徴
とするものである。
【００２１】請求項７記載の発明にあっては、前記酸化
被膜層は空気中において３００℃以上５００℃以下で酸
化処理を施して形成したことを特徴とするものである。
被膜層は空気中において３００℃以上５００℃以下で酸
化処理を施して形成したことを特徴とするものである。
【００２２】請求項８記載の発明にあっては、基材にリ
ン酸処理を施したリン酸層を有することを特徴とするも
のである。
ン酸処理を施したリン酸層を有することを特徴とするも
のである。
【００２３】請求項９記載の発明にあっては、基材にリ
ン酸処理を施したリン酸層と、該リン酸層にポリイミド
樹脂を蒸着形成した表面層と、を有する耐電圧表面処理
被膜を備えることを特徴とするものである。
ン酸処理を施したリン酸層と、該リン酸層にポリイミド
樹脂を蒸着形成した表面層と、を有する耐電圧表面処理
被膜を備えることを特徴とするものである。
【００２４】請求項１０記載の発明にあっては、前記リ
ン酸層は１［μｍ］以上４［μｍ］以下の厚みであり、
前記表面層は４［μｍ］以上６［μｍ］以下の厚みであ
ることを特徴とするものである。
ン酸層は１［μｍ］以上４［μｍ］以下の厚みであり、
前記表面層は４［μｍ］以上６［μｍ］以下の厚みであ
ることを特徴とするものである。
【００２５】
【発明の実施の形態】本発明にかかる耐電圧表面処理被
膜及び耐電圧表面処理被膜を有するリレー鉄芯の第一実
施の形態を図１に基づいて、第二実施の形態を図２に基
づいて説明する。
膜及び耐電圧表面処理被膜を有するリレー鉄芯の第一実
施の形態を図１に基づいて、第二実施の形態を図２に基
づいて説明する。
【００２６】〔第一実施の形態〕図１はリレー鉄芯の断
面図である。
面図である。
【００２７】図１に示すリレー鉄芯８は、基材であるリ
レー鉄芯基材９にメッキ処理を施して形成した下地層１
０と、該下地層の表面に酸化処理を施して形成した酸化
被膜層１１と、該酸化被膜層にポリイミド樹脂を蒸着形
成した表面層１２と、よりなる耐電圧表面処理被膜を有
している。
レー鉄芯基材９にメッキ処理を施して形成した下地層１
０と、該下地層の表面に酸化処理を施して形成した酸化
被膜層１１と、該酸化被膜層にポリイミド樹脂を蒸着形
成した表面層１２と、よりなる耐電圧表面処理被膜を有
している。
【００２８】詳しくは、下地層１０は、電解又は無電解
によるニッケルメッキを０．５［μｍ］以上１０［μ
ｍ］以下の厚みでもって施して形成する。なお、下地層
１０はニッケルを主成分とするものに限られるものでは
なく、金属メッキであればよい。
によるニッケルメッキを０．５［μｍ］以上１０［μ
ｍ］以下の厚みでもって施して形成する。なお、下地層
１０はニッケルを主成分とするものに限られるものでは
なく、金属メッキであればよい。
【００２９】また、酸化被膜層１１は、空気中で３００
℃以上５００℃以下で酸化処理を行って、下地層１０の
表面を酸化させて形成する。３００℃以上５００℃以下
の温度で行う必要があるのは、３００℃未満では酸化膜
が安定して形成されない場合があり、５００℃より大き
ければニッケルメッキの下地層１０にリレー鉄芯基材９
の電磁軟鉄が拡散する場合があるからである。
℃以上５００℃以下で酸化処理を行って、下地層１０の
表面を酸化させて形成する。３００℃以上５００℃以下
の温度で行う必要があるのは、３００℃未満では酸化膜
が安定して形成されない場合があり、５００℃より大き
ければニッケルメッキの下地層１０にリレー鉄芯基材９
の電磁軟鉄が拡散する場合があるからである。
【００３０】表面層１２は、５［μｍ］以上２４［μ
ｍ］以下の厚みでもって、ポリイミド樹脂を真空蒸着法
等により蒸着して形成している。ポリイミド樹脂は分子
骨格中にイミド結合を有するものであれば、縮合タイ
プ、付加タイプのいずれでもよい。表面層１２を２４
［μｍ］以下としているのは、非磁性体である表面層１
２の厚みを２４［μｍ」を超えて厚くすると、磁束の通
過が妨げられて、リレーの感動電圧、開放電圧に悪影響
を及ぼす恐れがあるからである。
ｍ］以下の厚みでもって、ポリイミド樹脂を真空蒸着法
等により蒸着して形成している。ポリイミド樹脂は分子
骨格中にイミド結合を有するものであれば、縮合タイ
プ、付加タイプのいずれでもよい。表面層１２を２４
［μｍ］以下としているのは、非磁性体である表面層１
２の厚みを２４［μｍ」を超えて厚くすると、磁束の通
過が妨げられて、リレーの感動電圧、開放電圧に悪影響
を及ぼす恐れがあるからである。
【００３１】このリレー鉄芯８において、ニッケルメッ
キを３［μｍ］の厚みとし、空気中での酸化処理を３０
０℃で一時間行って酸化被膜層１１を形成し、表面層１
２を１０［μｍ］の厚みとしたものについて耐電圧を測
定したところ、耐電圧は２０７０［Ｖ］であり、従来の
技術のものの耐電圧より大きいものとなっている。
キを３［μｍ］の厚みとし、空気中での酸化処理を３０
０℃で一時間行って酸化被膜層１１を形成し、表面層１
２を１０［μｍ］の厚みとしたものについて耐電圧を測
定したところ、耐電圧は２０７０［Ｖ］であり、従来の
技術のものの耐電圧より大きいものとなっている。
【００３２】以上のようにして耐電圧表面処理被膜及び
耐電圧表面処理被膜を有するリレー鉄芯を構成している
ので、耐電圧を高くすることができるとともに、このリ
レー鉄芯にあっては表面層１２のポリイミド樹脂が万一
剥離しても酸化被膜層１１がリレー鉄芯基材９と不図示
のコイルとの間の耐電圧を確保する。
耐電圧表面処理被膜を有するリレー鉄芯を構成している
ので、耐電圧を高くすることができるとともに、このリ
レー鉄芯にあっては表面層１２のポリイミド樹脂が万一
剥離しても酸化被膜層１１がリレー鉄芯基材９と不図示
のコイルとの間の耐電圧を確保する。
【００３３】〔第二実施の形態〕図２はリレー鉄芯の断
面図である。
面図である。
【００３４】図２に示すリレー鉄芯１３は、基材である
リレー鉄芯基材１４にリン酸処理を施したリン酸層１５
と、該リン酸層にポリイミド樹脂を蒸着した形成した表
面層１６と、よりなる耐電圧表面処理被膜を有してい
る。
リレー鉄芯基材１４にリン酸処理を施したリン酸層１５
と、該リン酸層にポリイミド樹脂を蒸着した形成した表
面層１６と、よりなる耐電圧表面処理被膜を有してい
る。
【００３５】詳しくは、リン酸層１５はリン酸鉄により
リン酸処理を施して形成してあり、その厚みは１［μ
ｍ］以上４［μｍ］以下である。リン酸処理は、基材で
あるリレー鉄芯をかごに入れてリン酸鉄の中に浸すいわ
ゆるバレル処理が可能であり、大量のリレー鉄芯を一度
に処理できるという利点がある。
リン酸処理を施して形成してあり、その厚みは１［μ
ｍ］以上４［μｍ］以下である。リン酸処理は、基材で
あるリレー鉄芯をかごに入れてリン酸鉄の中に浸すいわ
ゆるバレル処理が可能であり、大量のリレー鉄芯を一度
に処理できるという利点がある。
【００３６】表面層１６は、１［μｍ］以上２４［μ
ｍ］以下の厚みでもって、ポリイミド樹脂を真空蒸着法
等により蒸着して形成している。ポリイミド樹脂は分子
骨格中にイミド結合を有するものであれば、縮合タイ
プ、付加タイプのいずれでもよい。
ｍ］以下の厚みでもって、ポリイミド樹脂を真空蒸着法
等により蒸着して形成している。ポリイミド樹脂は分子
骨格中にイミド結合を有するものであれば、縮合タイ
プ、付加タイプのいずれでもよい。
【００３７】リン酸層１５を１［μｍ］以上４［μｍ］
の厚みとし、表面層１６を１［μｍ］以上２０［μｍ］
としたのは、リン酸層１５と表面層１６とよりなる非磁
性体の層の厚みを２４［μｍ］以下に保つためである。
また、リン酸層１５と表面層１６とよりなる非磁性体の
層の厚みを２４［μｍ］以下に保つのは、非磁性体の層
の厚みを２４［μｍ」を超えて厚くすると、磁束の通過
が妨げられて、リレーの感動電圧、開放電圧に悪影響を
及ぼす恐れがあるからである。また、リン酸層１５を１
［μｍ］以上とし、表面層１６を１［μｍ］以上として
いるのは、各々１［μｍ］未満であると所望の耐電圧を
確保できないからである。
の厚みとし、表面層１６を１［μｍ］以上２０［μｍ］
としたのは、リン酸層１５と表面層１６とよりなる非磁
性体の層の厚みを２４［μｍ］以下に保つためである。
また、リン酸層１５と表面層１６とよりなる非磁性体の
層の厚みを２４［μｍ］以下に保つのは、非磁性体の層
の厚みを２４［μｍ」を超えて厚くすると、磁束の通過
が妨げられて、リレーの感動電圧、開放電圧に悪影響を
及ぼす恐れがあるからである。また、リン酸層１５を１
［μｍ］以上とし、表面層１６を１［μｍ］以上として
いるのは、各々１［μｍ］未満であると所望の耐電圧を
確保できないからである。
【００３８】このリレー鉄芯１３において、リン酸鉄の
リン酸層１５の厚みを２［μｍ］とし、表面層１２を５
［μｍ］の厚みとしたものについて耐電圧を測定したと
ころ、耐電圧は２２１０［Ｖ］であり、従来の技術のも
のの耐電圧より大きいものとなっている。
リン酸層１５の厚みを２［μｍ］とし、表面層１２を５
［μｍ］の厚みとしたものについて耐電圧を測定したと
ころ、耐電圧は２２１０［Ｖ］であり、従来の技術のも
のの耐電圧より大きいものとなっている。
【００３９】また、他の例としてリン酸層１５はリン酸
マンガンによりリン酸処理を施して形成した場合、リン
酸マンガンのリン酸層１５の厚みを２［μｍ］とし、表
面層１２を５［μｍ］の厚みとしたものにあっては、耐
電圧は２２２０［Ｖ］であり、従来の技術のものの耐電
圧より大きいものとなっている。
マンガンによりリン酸処理を施して形成した場合、リン
酸マンガンのリン酸層１５の厚みを２［μｍ］とし、表
面層１２を５［μｍ］の厚みとしたものにあっては、耐
電圧は２２２０［Ｖ］であり、従来の技術のものの耐電
圧より大きいものとなっている。
【００４０】また、更に他の例としてリン酸層１５はリ
ン酸亜鉛によりリン酸処理を施して形成した場合、リン
酸亜鉛のリン酸層１５の厚みを２［μｍ］とし、表面層
１２を５［μｍ］の厚みとしたものにあっては、耐電圧
は２２４０［Ｖ］であり、従来の技術のものの耐電圧よ
り大きいものとなっている。
ン酸亜鉛によりリン酸処理を施して形成した場合、リン
酸亜鉛のリン酸層１５の厚みを２［μｍ］とし、表面層
１２を５［μｍ］の厚みとしたものにあっては、耐電圧
は２２４０［Ｖ］であり、従来の技術のものの耐電圧よ
り大きいものとなっている。
【００４１】以上のようにして耐電圧表面処理被膜及び
耐電圧表面処理被膜を有するリレー鉄芯を構成している
ので、耐電圧を高くすることができるとともに、このリ
レー鉄芯にあっては表面層１２のポリイミド樹脂が万一
剥離してもリン酸層１５がリレー鉄芯基材１４と不図示
のコイルとの間の耐電圧を確保する。
耐電圧表面処理被膜を有するリレー鉄芯を構成している
ので、耐電圧を高くすることができるとともに、このリ
レー鉄芯にあっては表面層１２のポリイミド樹脂が万一
剥離してもリン酸層１５がリレー鉄芯基材１４と不図示
のコイルとの間の耐電圧を確保する。
【００４２】
【発明の効果】本発明の耐電圧表面処理被膜及び耐電圧
表面処理被膜を有するリレー鉄芯は上述のように構成し
てあるから、請求項１及び請求項２記載の発明にあって
は、酸化被膜層が耐電圧を高め、よって高耐電圧の耐電
圧表面処理被膜を提供できるという効果を奏する。
表面処理被膜を有するリレー鉄芯は上述のように構成し
てあるから、請求項１及び請求項２記載の発明にあって
は、酸化被膜層が耐電圧を高め、よって高耐電圧の耐電
圧表面処理被膜を提供できるという効果を奏する。
【００４３】請求項３記載の発明にあっては、前記酸化
被膜層は空気中において３００℃以上５００℃以下で酸
化処理を施して形成したので、安定して酸化被膜層が形
成される耐電圧表面処理被膜を提供できるという効果を
奏する。
被膜層は空気中において３００℃以上５００℃以下で酸
化処理を施して形成したので、安定して酸化被膜層が形
成される耐電圧表面処理被膜を提供できるという効果を
奏する。
【００４４】請求項４記載の発明にあっては、基材にリ
ン酸処理を施したリン酸層と、該リン酸層にポリイミド
樹脂を蒸着形成した表面層と、を有するので、リン酸層
が耐電圧を高め、よって高耐電圧の耐電圧表面処理被膜
を提供できるという効果を奏する。
ン酸処理を施したリン酸層と、該リン酸層にポリイミド
樹脂を蒸着形成した表面層と、を有するので、リン酸層
が耐電圧を高め、よって高耐電圧の耐電圧表面処理被膜
を提供できるという効果を奏する。
【００４５】請求項５及び請求項６記載の発明にあって
は、該下地層の表面に酸化処理を施して形成した酸化被
膜層を有しているのでで、酸化被膜層が耐電圧を高め、
よって高耐電圧のリレーを構成できるリレー鉄芯を提供
できるという効果を奏する。
は、該下地層の表面に酸化処理を施して形成した酸化被
膜層を有しているのでで、酸化被膜層が耐電圧を高め、
よって高耐電圧のリレーを構成できるリレー鉄芯を提供
できるという効果を奏する。
【００４６】請求項７記載の発明にあっては、前記酸化
被膜層は空気中において３００℃以上５００℃以下で酸
化処理を施して形成したので、安定して酸化被膜層が形
成されるリレー鉄芯を提供できるという効果を奏する。
被膜層は空気中において３００℃以上５００℃以下で酸
化処理を施して形成したので、安定して酸化被膜層が形
成されるリレー鉄芯を提供できるという効果を奏する。
【００４７】請求項８及び請求項９記載の発明にあって
は、基材にリン酸処理を施したリン酸層を有するので、
リン酸層が耐電圧を高め、よって高耐電圧のリレーを構
成できるリレー鉄芯を提供できるという効果を奏する。
は、基材にリン酸処理を施したリン酸層を有するので、
リン酸層が耐電圧を高め、よって高耐電圧のリレーを構
成できるリレー鉄芯を提供できるという効果を奏する。
【００４８】請求項１０記載の発明にあっては、前記リ
ン酸層は１［μｍ］以上４［μｍ］以下の厚みであり、
前記表面層は１［μｍ］以上２０［μｍ］以下の厚みで
あるとしているので、非磁性体層がリレーの感動電圧、
開放電圧に悪影響を及ぼす恐れのないリレー鉄芯を提供
できるという効果を奏する。
ン酸層は１［μｍ］以上４［μｍ］以下の厚みであり、
前記表面層は１［μｍ］以上２０［μｍ］以下の厚みで
あるとしているので、非磁性体層がリレーの感動電圧、
開放電圧に悪影響を及ぼす恐れのないリレー鉄芯を提供
できるという効果を奏する。
【図１】本発明のリレー鉄芯の一例の断面図である。
【図２】本発明のリレー鉄芯の他の例の断面図である。
【図３】リレーの構成を示す要部側面図である。
【図４】従来の技術のリレー鉄芯の断面図である。
８ リレー鉄芯 ９ 基材 １０ 下地層 １１ 酸化被膜層 １２ 表面層 １４ 基材 １５ リン酸層 １６ 表面層
Claims (10)
- 【請求項１】 基材にメッキ処理を施して形成した下地
層と、該下地層の表面に酸化処理を施して形成した酸化
被膜層と、を有することを特徴とする耐電圧表面処理被
膜。 - 【請求項２】 基材にメッキ処理を施して形成した下地
層と、該下地層の表面に酸化処理を施して形成した酸化
被膜層と、該酸化被膜層にポリイミド樹脂を蒸着形成し
た表面層と、を有するを特徴とする耐電圧表面処理被
膜。 - 【請求項３】 前記酸化被膜層は空気中において３００
℃以上５００℃以下で酸化処理を施して形成したことを
特徴とする請求項１又は請求項２記載の耐電圧表面処理
被膜。 - 【請求項４】 基材にリン酸処理を施したリン酸層と、
該リン酸層にポリイミド樹脂を蒸着形成した表面層と、
を有することを特徴とする耐電圧表面処理被膜。 - 【請求項５】 基材であるリレー鉄芯にメッキ処理を施
して形成した下地層と、該下地層の表面に酸化処理を施
して形成した酸化被膜層と、を有する耐電圧表面処理被
膜を備えることを特徴とするリレー鉄芯。 - 【請求項６】 基材であるリレー鉄芯にメッキ処理を施
して形成した下地層と、該下地層の表面に酸化処理を施
して形成した酸化被膜層と、該酸化被膜層にポリイミド
樹脂を蒸着形成した表面層と、を有する耐電圧表面処理
被膜を備えることを特徴とするリレー鉄芯。 - 【請求項７】 前記酸化被膜層は空気中において３００
℃以上５００℃以下で酸化処理を施して形成したことを
特徴とする請求項５又は請求項６記載のリレー鉄芯。 - 【請求項８】 基材にリン酸処理を施したリン酸層を有
する耐電圧表面処理被膜を備えることを特徴とするリレ
ー鉄芯。 - 【請求項９】 基材にリン酸処理を施したリン酸層と、
該リン酸層にポリイミド樹脂を蒸着形成した表面層と、
を有する耐電圧表面処理被膜を備えることを特徴とする
リレー鉄芯。 - 【請求項１０】 前記リン酸層は１［μｍ］以上４［μ
ｍ］以下の厚みであり、前記表面層は１［μｍ］以上２
０［μｍ］以下の厚みであることを特徴とする請求項８
又は請求項９記載のリレー鉄芯。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13507097A JPH10326552A (ja) | 1997-05-26 | 1997-05-26 | 耐電圧表面処理被膜及び耐電圧表面処理被膜を備えるリレー鉄芯 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13507097A JPH10326552A (ja) | 1997-05-26 | 1997-05-26 | 耐電圧表面処理被膜及び耐電圧表面処理被膜を備えるリレー鉄芯 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10326552A true JPH10326552A (ja) | 1998-12-08 |
Family
ID=15143161
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13507097A Pending JPH10326552A (ja) | 1997-05-26 | 1997-05-26 | 耐電圧表面処理被膜及び耐電圧表面処理被膜を備えるリレー鉄芯 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10326552A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001167917A (ja) * | 1999-09-27 | 2001-06-22 | Sumitomo Special Metals Co Ltd | Ｒ−Ｆｅ−Ｂ系永久磁石およびその製造方法 |
| CN118039414A (zh) * | 2024-04-12 | 2024-05-14 | 珠海市集利发展有限公司 | 一种镀镍继电器铁片及其镀覆工艺 |
-
1997
- 1997-05-26 JP JP13507097A patent/JPH10326552A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001167917A (ja) * | 1999-09-27 | 2001-06-22 | Sumitomo Special Metals Co Ltd | Ｒ−Ｆｅ−Ｂ系永久磁石およびその製造方法 |
| CN118039414A (zh) * | 2024-04-12 | 2024-05-14 | 珠海市集利发展有限公司 | 一种镀镍继电器铁片及其镀覆工艺 |
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