JPH10326698A5 - - Google Patents
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- JPH10326698A5 JPH10326698A5 JP1997140982A JP14098297A JPH10326698A5 JP H10326698 A5 JPH10326698 A5 JP H10326698A5 JP 1997140982 A JP1997140982 A JP 1997140982A JP 14098297 A JP14098297 A JP 14098297A JP H10326698 A5 JPH10326698 A5 JP H10326698A5
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Description
【００２２】
また、発振回路４１のクロックパルスの周波数をｆ1 ＝８０［ＭＨｚ］とすると、１周期が８ビット（＝２５６）の波形になる。第１の波形合成回路４２を周波数ｆ2 ＝１０［ＭＨｚ］に制御させる場合、周波数設定レジスタ５４には、ｆ1 ＝８０［ＭＨｚ］の１周期８ビット（＝２５６）に対するｆ2 ＝１０［ＭＨｚ］の割合をＦＲとするとＦＲ＝（ｆ 2 ／ｆ 1 ）×２８＝（１０／８０）×２５６＝３２を入力手段４９で入力すればよい。また、位相差Δθ＝９０°にするときを考える。位相θ＝３６０°が８ビット（＝２５６）に対する位相差Δθ＝９０°の割合ＦＨは、ＦＨ＝（Δθ／θ）×２８ ＝（９０°／３６０°）×２５６＝６４を入力手段４９で位相シフト設定レジスタ５５に設定すればよい。
また、発振回路４１のクロックパルスの周波数をｆ1 ＝８０［ＭＨｚ］とすると、１周期が８ビット（＝２５６）の波形になる。第１の波形合成回路４２を周波数ｆ2 ＝１０［ＭＨｚ］に制御させる場合、周波数設定レジスタ５４には、ｆ1 ＝８０［ＭＨｚ］の１周期８ビット（＝２５６）に対するｆ2 ＝１０［ＭＨｚ］の割合をＦＲとするとＦＲ＝（ｆ 2 ／ｆ 1 ）×２８＝（１０／８０）×２５６＝３２を入力手段４９で入力すればよい。また、位相差Δθ＝９０°にするときを考える。位相θ＝３６０°が８ビット（＝２５６）に対する位相差Δθ＝９０°の割合ＦＨは、ＦＨ＝（Δθ／θ）×２８ ＝（９０°／３６０°）×２５６＝６４を入力手段４９で位相シフト設定レジスタ５５に設定すればよい。
【００２８】
また第１の波形合成回路４２及び第２の波形合成回路４４は、前述のように第３の波形合成回路４３から第２の加算器５１及び位相シフト設定レジスタ５５を除いたものに相当するから、その出力は表２のＡＤ（ｉ）の出力に応じて波形記憶回路５２に記憶された波形を読み出すことになるので、図７に破線で示したように変化することになる。したがって、第１の波形合成回路４２の出力は第３の波形合成回路４３の出力に対して位相シフト設定レジスタ５５の設定値に応じて９０°位相差が生じた波形となる。
なお、上記においては発振器４１のクロックパルスの周波数ｆ 1と周波数設定レジスタ５４の設定周波数ｆ 2 との比をｆ 2 ／ｆ 1 ＝１／８としたが、この比を大きくすれば、よりなめらかな出力波形が得られる。
また第１の波形合成回路４２及び第２の波形合成回路４４は、前述のように第３の波形合成回路４３から第２の加算器５１及び位相シフト設定レジスタ５５を除いたものに相当するから、その出力は表２のＡＤ（ｉ）の出力に応じて波形記憶回路５２に記憶された波形を読み出すことになるので、図７に破線で示したように変化することになる。したがって、第１の波形合成回路４２の出力は第３の波形合成回路４３の出力に対して位相シフト設定レジスタ５５の設定値に応じて９０°位相差が生じた波形となる。
なお、上記においては発振器４１のクロックパルスの周波数ｆ 1と周波数設定レジスタ５４の設定周波数ｆ 2 との比をｆ 2 ／ｆ 1 ＝１／８としたが、この比を大きくすれば、よりなめらかな出力波形が得られる。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14098297A JP3808973B2 (ja) | 1996-05-15 | 1997-05-14 | プラズマ処理装置 |
Applications Claiming Priority (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14659196 | 1996-05-15 | ||
| JP9509997 | 1997-03-28 | ||
| JP9-95099 | 1997-03-28 | ||
| JP8-146591 | 1997-03-28 | ||
| JP14098297A JP3808973B2 (ja) | 1996-05-15 | 1997-05-14 | プラズマ処理装置 |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10326698A JPH10326698A (ja) | 1998-12-08 |
| JPH10326698A5 true JPH10326698A5 (ja) | 2005-03-17 |
| JP3808973B2 JP3808973B2 (ja) | 2006-08-16 |
Family
ID=27307746
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14098297A Expired - Lifetime JP3808973B2 (ja) | 1996-05-15 | 1997-05-14 | プラズマ処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3808973B2 (ja) |
Families Citing this family (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3377773B2 (ja) * | 2000-03-24 | 2003-02-17 | 三菱重工業株式会社 | 放電電極への給電方法、高周波プラズマ発生方法および半導体製造方法 |
| TW507256B (en) | 2000-03-13 | 2002-10-21 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | Discharge plasma generating method, discharge plasma generating apparatus, semiconductor device fabrication method, and semiconductor device fabrication apparatus |
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| US7510665B2 (en) | 2003-08-15 | 2009-03-31 | Applied Materials, Inc. | Plasma generation and control using dual frequency RF signals |
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| JP2013250231A (ja) * | 2012-06-04 | 2013-12-12 | Daihen Corp | 位相差検出装置、位相差検出プログラム及び位相差検出装置を用いたプラズマ処理システム |
| KR102027628B1 (ko) * | 2012-12-18 | 2019-10-01 | 트럼프 헛팅거 게엠베하 + 코 카게 | 고주파수 전력을 생산하기 위한 방법 및 부하에 전력을 공급하기 위한 전력 컨버터를 갖는 전력 공급 시스템 |
| KR101768827B1 (ko) * | 2013-08-26 | 2017-08-17 | 가부시키가이샤 히다치 고쿠사이 덴키 | 플라즈마 생성용 전원 장치 및 플라즈마 생성용 전원 공급 방법 |
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| WO2026160204A1 (ja) * | 2025-01-24 | 2026-07-30 | 東京エレクトロン株式会社 | プラズマ処理装置、電源システム、及びソース周波数の制御方法 |
-
1997
- 1997-05-14 JP JP14098297A patent/JP3808973B2/ja not_active Expired - Lifetime
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