JPH10327317A - 撮像装置及び撮像方法 - Google Patents
撮像装置及び撮像方法Info
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- JPH10327317A JPH10327317A JP9135083A JP13508397A JPH10327317A JP H10327317 A JPH10327317 A JP H10327317A JP 9135083 A JP9135083 A JP 9135083A JP 13508397 A JP13508397 A JP 13508397A JP H10327317 A JPH10327317 A JP H10327317A
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Abstract
正に使うデータを得たときの条件と実際に撮影したとき
の条件が異なるため、撮影出力に含まれる誤差が、完全
に補正されないという問題を解決し、高S/Nの像情報
を得る。 【解決手段】 一次元もしくは二次元に配列した複数の
光電変換素子を含む撮像手段20を有する撮像装置にお
いて、撮影モード時の撮影出力を記憶しておく手段50
と、該撮影モード時の撮影条件を記憶しておく手段40
と、前記記憶しておいた撮影条件を用いて動作させる補
正モード時の補正出力を得る手段70,30,40,5
1と、前記補正出力を用いて前記撮影出力を補正する手
段60と、を有することを特徴とする撮像装置。
Description
射線により像を形成する撮像装置及び撮像方法に係り、
たとえばファクシミリ、デジタル複写機、スチールカメ
ラあるいは放射線撮像装置等の一次元もしくは二次元の
撮像装置及び撮像方法に関する。
で代表されるSi単結晶センサや、水素化アモルファス
シリコン(以下、a−Siと記す)のPIN型センサを
用いた撮像素子を、一次元、もしくは二次元に並べた大
型センサを用いた撮像装置が各種生産されている。
るのみならず、原子力開発、放射線医療機器および非破
壊検査の発達にともない放射線像を電気信号に変換する
撮像装置も開発されている。
ものが多く、それ以上のS/Nは求められていなかっ
た。これは、高S/Nの出力を高精度でデジタル化する
のに適したA/D変換器がなかったり、また変換後のデ
ータ量が大量になりメモリの制限や通信の制限を受け使
い勝手が悪く、結果、高S/Nの撮像装置の必要性が小
さかったためである。
信の開発がめざましく、これにともない、4〜5桁の高
S/Nを持つ撮像装置の要求が高まっている。
により固定パターンや感度ばらつきによるS/Nの低下
は避けられず、これを防ぐため、工場出荷時に固定パタ
ーンや感度ばらつきをメモリに記憶させて、実際に使う
場合に撮影出力とこのメモリとの情報で補正する手法が
とられている。
来例では補正に使うデータが撮影より前にとられている
ため、以下のような欠点があった。
写体や周りの環境、撮影の目的等で撮像装置の動作条件
を選択する。また、撮像装置に使われている構成部品は
温度により特性が異なっている。さらに、撮像中は簡単
に失敗のない最適な像を得るために自動露出や自動ゲイ
ン調整をはじめ各種の自動制御が働く。つまり、撮像を
実際に行った条件と補正に使用するデータを作った条件
とは異なっているのである。S/Nの低下の原因となる
固定パターンや感度ばらつきはこれら条件で微妙に異な
るため、撮影出力に含まれる誤差は完全に補正されな
い。このように補正に使うデータを得たときの条件と実
際に撮影したときの条件が異なることは、高S/Nの像
情報を得るのに重大な問題となる。
うデータを得たときの条件と実際に撮影したときの条件
が異なるため、撮影出力に含まれる誤差が、完全に補正
されないという問題を解決し、高S/Nの像情報を得ら
れる撮像装置を提供することにある。
として、一次元もしくは二次元に配列した複数の光電変
換素子を含む撮像手段を有する撮像装置において、撮影
モード時の撮影出力を記憶しておく手段と、該撮影モー
ド時の撮影条件を記憶しておく手段と、前記記憶してお
いた撮影条件を用いて動作させる補正モード時の補正出
力を得る手段と、前記補正出力を用いて前記撮影出力を
補正する手段と、を有することを特徴とする撮像装置を
有するものである。
憶しておいた撮影条件を用いて、前記光電変換素子に光
が入射しない状態で動作させる補正モード1の補正出力
を得る手段であることを特徴とする撮像装置でもある。
憶しておいた撮影条件を用いて、被写体が無い状態の基
準光を前記光電変換素子に入射させて動作させる補正モ
ード2の補正出力を得る手段であることを特徴とする撮
像装置でもある。
正モード2の両モード時の補正出力を用いて、前記撮影
出力を補正する手段を有することを特徴とする撮像装置
でもある。
数の光電変換素子を含む撮像手段を含む撮像装置におい
て、前記光電変換素子に像情報光の入射を制御可能な像
情報入射手段、撮影条件を自動制御および設定制御可能
な撮影条件制御手段および前記撮影条件制御手段が自動
制御された条件を記憶する条件記憶手段を有し、先ず、
自動制御で所望の撮影出力が得られるよう前記撮影条件
制御手段を動作させながら前記像情報入射手段により像
情報光を前記撮像手段に入射させ、このときの撮影出力
を撮影出力記憶手段に記憶させると同時に前記撮影条件
制御手段が選択した設定値を前記条件記憶手段に記憶さ
せ、その後、前記条件記憶手段に記憶された設定値によ
り前記撮影条件制御手段を設定動作させ、このときの出
力を補正出力とし、これと前記撮影出力記憶手段に記憶
された撮影出力により演算処理回路で処理し撮像手段の
誤差を取り除かれた出力とするシステム制御回路および
補正回路を有することを特徴とする。
情報光及び/又は基準光をセンサに入射可能でそのパル
ス幅は撮影条件制御手段で自動ならびに設定制御可能な
ことを特徴とし、さらに、撮像装置はゲイン調整回路を
含みそのゲインは前記撮影条件制御手段で自動ならびに
設定制御可能なことを特徴とし、さらにまた、前記ゲイ
ン調整回路は複数のアナログ−ディジタル変換器を含み
撮像手段の出力はその値により適切な変換器が選択可能
で、またその選択は撮影条件制御手段で自動ならびに設
定制御可能なことを特徴とし、またさらに、前記光電変
換素子は蓄積型であり、その蓄積時間は撮影条件制御手
段で自動ならびに設定制御可能なことを特徴とすること
も可能でる。
よび蛍光体から構成され、前記放射線源と前記蛍光体と
の間に被写体が設置可能なことを特徴とすることもで
き、これによりX線フィルムの代わりに胸部レントゲン
検診や乳ガン検診に使用できる。
動制御された条件で、先ず撮影を行い、撮影出力を得
て、この撮影出力と、撮影条件を記憶しておき、この撮
影時に記憶しておいた撮影条件と、得たい補正出力によ
り、条件を設定して再度動作させることにより補正出力
を得ているため、補正に使うデータを得たときの条件と
実際に撮影したときの条件を、実質的に同条件とするこ
とができる。
ておいた撮影出力を補正することにより、より誤差の少
ない撮影出力を得ることが可能となり、高S/Nの像情
報を得ることができる。
っても、撮影時と同じ条件で補正出力を得ることができ
るため、使いやすく、楽に最適に近い条件で撮影ができ
る高性能な撮像装置が提供できる。
状態で動作させる補正モード1の補正出力を用いること
により、光電変換素子の暗時出力の補正を行なうことが
できる。
電変換素子に入射させて動作させる補正モード2の補正
出力を用いることにより、ゲインばらつきによる誤差を
取り除くことができる。
基づいて詳細に説明する。図1は本発明の第1の実施例
に係る撮像装置の全体システムブロック図である。本実
施例では医療用X線診断を目的とする放射線撮像装置が
構成されている。
に発することができるX線源であり、撮影条件制御手段
として働くAEコントローラ30によりX線パルスのオ
ン、オフやX線源内の管球の管電圧、管電流が制御され
る。X線源10で発したX線13は診断対象となる患者
である被写体11を透過しX線を可視光に変換するCs
I、Gd2 O2 S等で構成される蛍光体12に入射す
る。このとき被写体11を透過するX線は被写体11の
内部の骨や内蔵の大きさや形、病巣の有無により透過量
が異なりそれらの像情報が含まれている。このX線13
は蛍光体12により可視光に変換され像情報光14とし
て撮像手段として働く二次元エリアセンサ20に入射す
る。二次元エリアセンサ20は二次元に配列した複数の
光電変換素子とそれらを駆動する駆動回路からなり、像
情報光14を二次元情報を含む電気信号に変換して出力
する。
ーラ30により蓄積時間や駆動スピードが制御される。
二次元エリアセンサ20の出力はゲイン調整回路21に
入力されるとともにAEコントローラ30にも撮影条件
を制御するための情報として入力される。
御するために制御パネル32や温度センサ33およびフ
ォトタイマ31の出力も入力されている。制御パネル3
2は医師もしくは技師が患者の症状、体格、年齢や得た
い情報を考慮し撮影露光の度に最適な撮影出力が得られ
るように条件をパネル操作で入力し、電気信号に変換さ
れAEコントローラ30に入力される。
の温度や管球の温度および二次元エリアセンサ20等
の、温度により特性が変化し最適な動作条件が変化する
構成部品の温度を検出しAEコントローラ30に入力さ
れる。これら検出される温度はまさに撮影露光されてい
る時点の温度であることが好ましい。
エリアセンサ20との間におかれ撮影露光中に被写体1
1の基準部分(例えば肺胞部)を透過するX線の量を検
知しAEコントローラ30に入力される。フォトタイマ
31でのX線の吸収は微少なため撮影露光にほとんど悪
影響しない。
影露光の直前の値もしくは撮影露光中の値をもとにX線
源10のX線パルス幅や二次元エリアセンサ20の蓄積
時間・駆動スピードおよびゲイン調整回路21の増幅率
を自動制御および設定制御できる。これら制御によりゲ
イン調整回路21の出力を適切な撮影出力にすることが
可能である。
影露光時に制御・設定した条件は条件記憶手段として働
く条件メモリ回路40に条件値として記憶しておくこと
が可能である。この条件メモリ回路40は条件を記憶で
きると同時に、逆に記憶した条件値をAEコントローラ
30に入力することも可能である。このときAEコント
ローラ30は条件メモリ回路40から入力された条件値
をもとにX線源10、二次元エリアセンサ20およびゲ
イン調整回路21を制御・設定し動作させることができ
る。つまり、過去の撮影露光条件と同じ制御・設定で再
び撮影露光することが可能となっている。このとき一部
の条件や制御・設定を異ならすことにより補正露光とし
ゲイン調整回路21の出力を補正出力とすることができ
る。つまり、X線パルスを発せずに他は前回の撮影露光
時と同じにしシステムを動作させれば、二次元エリアセ
ンサ20の暗時出力の補正出力が得られる。
撮影露光時に得られる撮影出力はスイッチ51を介し撮
影出力記憶手段であるフレームメモリ50に一度記録で
き、補正露光時に得られる補正出力Bとフレームメモリ
50に記憶された撮影出力Aにより演算処理回路60で
処理し撮影時の誤差を取り除いた像情報出力Oとするこ
とができる。この像情報出力Oは画像処理システム等に
電送される。
始ボタン71が押されたことを検知し、図示はしていな
いがAEコントローラ30を介してX線源10、二次元
エリアセンサ20、ゲイン調整回路21を制御し撮影露
光や補正露光を行ない、また、スイッチ51、フレーム
メモリ50および演算処理回路60を制御し補正回路8
0として動作させる。
くは二次元に配列した複数の光電変換素子を含む撮像手
段20と、前記光電変換素子に像情報光の入射を制御可
能な像情報入射手段10と、撮影条件を自動制御および
設定制御可能な撮影条件制御手段30と、および前記撮
影条件制御手段が自動制御された条件を記憶する条件記
憶手段40とを有する撮像装置において、先ず、自動制
御で所望の撮影出力が得られるよう前記撮影条件制御手
段30を動作させながら前記像情報入射手段31により
像情報光を前記撮像手段20に入射させ、このときの撮
影出力を撮影出力記憶手段50に記憶させると同時に前
記撮影条件制御手段30が選択した設定値を前記条件記
憶手段40に記憶させ、その後、前記条件記憶手段40
に記憶された設定値により前記撮影条件制御手段30を
設定動作させ、このときの出力を補正出力とし、これと
前記撮影出力記憶手段50に記憶された撮影出力により
演算処理回路60で処理し、撮像手段20の誤差を取り
除いた出力とすることを特徴とする撮像装置、及び撮像
方法である。
示す全体回路図、図3(a)(b)は二次元エリアセン
サ20中の1画素に相当する各構成素子の平面図
(a)、および断面図(b)である。なお、図1と同一
機能の部分には同一符号を付している。
素子で下部電極側をG、上部電極側をDで示している。
C11〜C33は蓄積用コンデンサ、T11〜T33は
転送用TFTである。Vsは読み出し用電源、Vgはリ
フレッシュ用電源であり、それぞれスイッチSWs、S
Wgを介して全光電変換素子S11〜S33のG電極に
接続されている。スイッチSWsはインバータを介し
て、スイッチSWgは直接にリフレッシュ制御回路RF
に接続されており、リフレッシュ期間はSWgがon、
その他の期間はSWsがonするよう制御されている。
1画素は1個の光電変換素子とコンデンサ、およびTF
Tで構成され、その信号出力は信号配線SIGにより検
出用集積回路ICに接続されている。本実施例の二次元
エリアセンサは計9個の画素を3つのブロックに分け1
ブッロクあたり3画素の出力を同時に転送しこの信号配
線を通して検出用集積回路によって順次出力に変換され
出力される。また1ブロック内の3画素を横方向に配置
し、3ブロックを順に縦に配置することにより各画素を
二次元的に配置している。
基板上に形成されているが、このうち第1画素に相当す
る部分の平面図を図3(a)に示す。S11は光電変換
素子、T11はTFT、C11はコンデンサ、およびS
IGは信号配線である。本実施例においてはコンデンサ
C11と光電変換素子S11とは特別に素子を分離して
おらず光電変換素子S11の電極の面積を大きくするこ
とによりコンデンサC11を形成している。これは本実
施例の光電変換素子とコンデンサが同じ層構成であるか
ら可能で本実施例の特徴でもある。また図中破線A−B
で示した部分の断面図を図3(b)に示す。画素上部に
はパッシベーション用窒化シリコン膜SiN8 とCs
I、Gd2 O2 S等の蛍光体12が形成されている。上
方より像情報の含まれるX線13が入射すると蛍光体1
2により像情報光14に変換され、この光が光電変換素
子に入射される。
て順に説明する。
パッタ等により下部メタル層2としてCrを約500オ
ングストローム堆積させ、その後フォトリソによりパタ
ーニングし不必要なエリアをエッチングする。これによ
り光電変換素子S11の下部電極、TFT・T11のゲ
ート電極、およびコンデンサC11の下部電極が形成さ
れる。
(7)/i(4)/n(5)層をそれぞれ約2000/
5000/500オングストローム堆積する。これら各
層は光電変換素子S11の絶縁層/光電変換半導体層/
ホール注入阻止層、TFT・T11のゲート絶縁膜/半
導体層/オーミックコンタクト層、およびコンデンサC
11の中間層となる。また、信号配線のクロス部絶縁層
としても使われる。各層の厚さはこれに限らず二次元エ
リアセンサとして使用する電圧、電流、電荷、入射光量
等により最適に設計するが、少なくともSiNは電子と
ホールが通過できず、また、TFTのゲート絶縁膜とし
て機能ができる500オングストローム以上が必要であ
る。
スパッタ等で約10000オングストローム堆積させ
る。さらにフォトリソによりパターニングし不必要なエ
リアをエッチングし光電変換素子S11の上部電極、T
FT・T11の主電極であるソース電極並びにドレイン
電極、コンデンサC11の上部電極、および信号配線S
IGが形成される。
みn層をRIEでエッチングし、その後不必要なSiN
(7)/i(4)/n(5)層をエッチングし各素子が
分離される。これで光電変換素子S11、TFT・T1
1およびコンデンサC11が完成する。以上、第一画素
目について説明したが他の画素についても同時に形成さ
れることは言うまでもない。
の上部をSiN等のパッシベーション膜8で覆い、さら
にCsI、Gd2 O2 S等の蛍光体12が形成される。
子、TFT、コンデンサ、および信号配線SIGとが同
時に堆積された共通の下部メタル層2、SiN(7)/
i(4)/n(5)層、および上部メタル層6と各層の
エッチングのみで形成することができる。また光電変換
素子S11内に注入素子層が1カ所しかなく、かつ、同
一真空内で形成できる。さらにTFTの特性上重要なゲ
ート絶縁膜/i層界面も同一真空内で形成できる。また
さらにコンデンサC11の中間層が熱によるリークの少
ない絶縁層を含んでいるため良好な特性のコンデンサが
形成される。
子S11〜S33の動作について説明する。図4
(a)、(b)はそれぞれ本実施例のリフレッシュモー
ドおよび光電変換モードの動作を示す光電変換素子のエ
ネルギバンド図で図3(b)の各層の厚さ方向の状態を
表している。2はCrで形成された下部電極(以下G電
極と記す)である。7は電子、ホール共に通過を阻止す
るSiNで形成された絶縁層であり、その厚さはトンネ
ル効果により電子、ホールが移動できないほどの厚さで
ある500オングストローム以上に設定される。4は水
素化アモルファスシリコンa−Siの真性半導体i層で
形成された光電変換半導体層、5は光電変換半導体層4
にホールの注入を阻止するa−Siのn層の注入阻止
層、6はAlで形成される上部電極(以下D電極と記
す)である。本実施例ではD電極はn層を完全には覆っ
ていないがD電極とn層との間は電子の移動が自由に行
われるためD電極とn層の電位は常に同電位であり以下
説明ではそれを前提としている。本光電変換素子にはD
電極、G電極の電圧の印可の仕方によりリフレッシュモ
ードと光電変換モードという2種類の動作がある。
はG電極に対して負の電位が与えられており、i層4中
の黒丸で示されたホールは電界によりD電極に導かれ
る。同時に白丸で示された電子はi層4に注入される。
このとき一部のホールと電子はn層5、i層4において
再結合して消滅する。十分に長い時間この状態が続けば
i層4内のホールはi層4から掃き出される。
には、D電極はG電極に対して正の電位を与える。する
とi層4中の電子は瞬時にD電極に導かれる。しかしホ
ールはn層5が注入阻止層として働くためi層4に導か
れることはない。この状態でi層4内に光が入射する
と、光は吸収され電子・ホール対が発生する。この電子
は電界によりD電極に導かれ、ホールはi層4内を移動
しi層4と絶縁層7の界面に達する。しかし、絶縁層7
内には移動できないため、i層4内に留まることにな
る。このとき電子はD電極に移動し、ホールはi層4内
の絶縁層7界面に移動するため、素子内の電気的中性を
保つため電流がG電極から電流が流れる。この電流は光
により発生した電子・ホール対に対応するため、入射し
た光に比例する。
後、再びリフレッシュモード(a)の状態になると、i
層4に留まっていたホールは前述のようにD電極に導か
れ、同時にこのホールに対応した電流が流れる。このホ
ールの量は光電変換モード期間に入射した光の総量に対
応する。この時i層4内に注入される電子の量に対応し
た電流も流れるが、この量はおよそ一定なため差し引い
て検出すればよい。つまり、本実施例においての光電変
換素子S11〜S33はリアルタイムに入射する光の量
を出力すると同時に、ある期間に入射した光の総量を出
力することもできる。このことは本実施例の光電変換素
子の大きな特徴といえる。
換モードの期間が長くなったり、入射する光の照度が強
い場合、Dのように光の入射があるにもかかわらず電流
が流れないことがある。これは図4(c)のように、i
層4内にホールが多数留まり、このホールのためi層4
内の電界が小さくなり、発生した電子がD電極に導かれ
なくなりi層4内のホールと再結合してしまうからであ
る。この状態で光の入射の状態が変化すると、電流が不
安定に流れることもあるが、再びリフレッシュモードに
すればi層4内のホールは掃き出され次の光電変換モー
ドでは再び光に比例した電流が得られる。
モードでi層4内のホールを掃き出す場合、全てのホー
ルを掃き出すのが理想であるが、一部のホールを掃き出
すだけでも効果はあり、前述と等しい電流が得られ、問
題はない。つまり、次の光電変換モードでの検出機会に
おいて図4(c)の状態になっていなければよく、リフ
レッシュモードでのD電極のG電極に対する電位、リフ
レッシュモードの期間およびn層5の注入阻止層の特性
を決めればよい。また、さらにリフレッシュモードにお
いてi層4への電子の注入は必要条件でなく、D電極の
G電極に対する電位は負に限定されるものでもない。ホ
ールが多数i層4に留まっている場合には例えD電極の
G電極に対する電位が正の電位であってもi層内の電界
はホールをD電極に導く方向に加わるからである。n層
5の注入阻止層の特性も同様に電子をi層4に注入でき
ることが必要条件ではない。
例の放射線撮像装置の動作について説明する。前述の説
明のように本実施例においての光電変換素子は定期的に
リフレッシュすれば光電変換モードにおいては入射した
光に比例した光電流を出力する光センサとして動作す
る。図5は本実施例の動作を示すタイミングチャートで
ある。
者、つまり被写体11をX線源10と二次元エリアセン
サ20の間に置き診断したい部位が観察できるように被
写体にポーズさせる。同時に前もって問診等で得た患者
の症状、体格、年齢や得たい情報を考慮し最適な撮影出
力が得られるように条件を制御パネル32に入力する。
この信号は電気信号でAEコントローラ30に電送され
る。同時に条件メモリ回路40にこれら条件が記憶され
る。
ボタン71を押すと撮影モードが開始される。まずシス
テム制御回路70は二次元エリアセンサ20をリフレッ
シュ動作させる。ここでリフレッシュ動作を説明する。
まずシフトレジスタSR1およびSR2により制御配線
g1〜g3、s1〜s2にHiが印可される。すると転
送用TFT・T11〜T33とスイッチM1〜M3がo
nし導通し、全光電変換素子S11〜S33のD電極は
GND電位になる(積分検出器Ampの入力端子はGN
D電位に設計されているため)。同時にリフレッシュ制
御回路RFがHiを出力しスイッチSWgがonし全光
電変換素子S11〜S33のG電極はリフレッシュ用電
源Vgにより正電位になる。すると全光電変換素子S1
1〜S33はリフレシュモードになりリフレッシュされ
る。つぎにリフレッシュ制御回路RFがLoを出力しス
イッチSWsがonし全光電変換素子S11〜S33の
G電極は読み取り用電源Vsにより負電位になる。する
と全光電変換素子S11〜S33は光電変換モードにな
り同時にコンデンサC11〜C33は初期化される。こ
の状態でシフトレジスタSR1およびSR2により制御
配線g1〜g3、s1〜s2にLoが印可される。する
と転送用TFT・T11〜T33とスイッチM1〜M3
がoffし、全光電変換素子S11〜S33のD電極は
DC的にはオープンになるがコンデンサC11〜C13
によって電位は保持される。しかしこの時点ではX線は
入射されていないため全光電変換素子S11〜S33に
は光は入射されず光電流は流れない。これでリフレッシ
ュ動作は終了する。
おける部屋の温度や管球の温度および二次元エリアセン
サ20等の、温度により特性が変化し最適な動作条件が
変化する構成部品の温度を検出しAEコントローラ30
に入力される。これら検出される温度はまさに撮影露光
される直前の温度である。同時に条件メモリ回路40に
これら温度が条件として記憶される。
からの情報と温度センサ33からの情報で撮影露光時に
おける初期条件を決定する。同時に条件メモリ回路40
にこれら初期条件が記憶される。初期条件の内容はX線
源10の管球の電圧、電流および最大パルス幅や二次元
エリアセンサ20の駆動スピードである。例えば、制御
パネル32で胸部が設定されていればX線源10の管球
の電圧は高く、腹部の場合は低く条件を設定する。ま
た、制御パネル32で患者が子どもや妊婦が指示されて
いれば、フォトタイマ31による終了条件を短く設定
し、最大パルス幅も短く設定される。二次元エリアセン
サ20の温度が高い場合は光電変換素子の暗電流が高い
がTFTの能力が高いため駆動スピードを速くし暗電流
の蓄積を抑えS/Nの低下を防ぐ最適条件にしたり、逆
に温度が低いときはTFTの能力が低いが光電変換素子
の暗電流も低いため駆動スピードを低くしTFTの電荷
の転送の低下による画像の歪みを抑える。
を通過し蛍光体12に入射すると光に変換され、その光
がそれぞれの光電変換素子S11〜S33に入射する。
同時に被写体11と二次元エリアセンサ20との間にお
かれたフォトタイマ31にも入射する。これら光は人体
等の内部構造の情報が含まれている。フォトタイマ31
の出力は随時AEコントローラ30に入力され、この値
の積分が初期条件で決められた一定値を越えるとAEコ
ントローラ30はX線をストップさせる。これにより撮
影露光において最適な露光量が得られる。また、もし初
期条件で決められた最大パルス幅になった場合はフォト
センサ31にかかわらずAEコントローラ30はX線を
ストップさせる。このとき、条件メモリ回路40にはこ
れら実際に出射されたパルス幅を露光時間として記憶さ
れる。
荷としてそれぞれのコンデンサC11〜C33に蓄積さ
れX線の入射終了後も保持される。つぎに二次元エリア
センサ20は読み出し動作をする。シフトレジスタSR
1により制御配線g1にHiの制御パルスが印可され、
シフトレジスタSR2の制御配線s1〜s3への制御パ
ルス印可によって転送用TFT・T11〜T13、スイ
ッチM1〜M3を通してv1〜v3が順次出力される。
同様にシフトレジスタSR1、SR2の制御により他の
光信号も出力される。これにより人体等の内部構造の二
次元情報がv1〜v9として得られる。
れると共にAEコントローラ30にも入力される。AE
コントローラ30ではこれら出力を適切な値にするため
のゲインを随時判断し、その値を条件メモリ回路40に
記憶させると同時にゲイン調整回路21に指示する。こ
れによりゲイン調整回路21の出力は後にそれらを処理
するのに最適な撮影出力となる。この撮影出力はシステ
ム制御回路70によって制御されたスイッチ51を介し
撮影出力記憶手段であるフレームメモリ50に一度記録
される。
0は制御パネル32、温度センサ33、フォトタイマ3
1および二次元エリアセンサ20の設定や出力によりX
線源10や二次元エリアセンサ20やゲイン調整回路2
1をほぼリアルタイムに自動制御し、その結果、最適に
近い各種条件で撮影出力を得ることができる。これで撮
影モードは終了する。
に入り再び二次元エリアセンサ20をリフレッシュ動作
させる。リフレッシュ終了後、撮影露光時に条件メモリ
回路40に記憶された各種条件をAEコントローラ30
に呼び出す。そして、X線源10以外は撮影モード時と
全く同じ条件で動作させる。つまり、温度センサ33や
フォトタイマ31の出力は使わずに条件メモリ回路40
に記憶された値に基づき動作させる。X線源10は補正
モードでは動作させず、X線は出射しない。ただし、X
線源10を動かさなくとも撮影モード時の露光時間に相
当する時間を待ってから二次元エリアセンサ20は読み
出し動作を行う。駆動スピードやゲイン調整回路21の
ゲインは撮影モードと同じ条件で動作させる。この時の
ゲイン調整回路21の出力を補正出力とする。つまり、
X線源10や二次元エリアセンサ20やゲイン調整回路
21を条件メモリ回路40の記憶された値に設定制御し
補正出力を得ることができる。
や、転送時の固定パターンノイズや、二次元エリアセン
サ20の内部のアンプやゲイン調整回路21のオフセッ
ト電圧などを反映した出力である。この補正出力は撮影
モード時と同じ蓄積時間であるからダーク時の電流の蓄
積による影響量も同じである。また、この補正出力は駆
動スピードも同じであるからクロックリーク等の影響に
よる固定パターンの影響量も同じである。さらにゲイン
も同じためオフセット電圧の影響量も同じである。つま
り、条件メモリ回路40により撮影モードと補正モード
でX線源以外全く同じ動作であるから先に述べた影響量
のみならずX線の出射、非出射以外の撮影にとって好ま
しくない影響量が全て同じになる。したがって、補正出
力は撮影出力中の好ましくない誤差だけが同じ量含まれ
ていることになる。
いる撮影出力をAとし、補正モードで得られた補正出力
をBとし、演算処理回路60で減算処理し、 O=A−B とすると、撮影モード時に得られた撮影出力の固定パタ
ーン等の誤差を取り除いた良好な像情報出力Oとするこ
とができる。ここでは、説明の簡単化のため単純な式
(O=A−B)で説明したが、実際には良好な画質を得
るためもっと複雑な演算とすることが好ましい。
画素を3×3に二次元配置し3画素ずつ同時に、3回に
分割して転送・出力したがこれに限らず、例えば縦横1
mmあたり5×5個の画素を2000×2000個の画
素を二次元的に配置すれば40cm×40cmの二次元
エリアセンサが得られ、医療用X線診断を目的とする放
射線撮像装置が構成できる。するとフィルムと異なり瞬
時にその出力をCRTで映し出すことが可能で、さらに
出力をディジタルに変換しコンピュータで画像処理して
目的に合わせた出力に変換することも可能である。また
光磁気ディスクに保管もでき、過去の画像を瞬時に検索
することもできる。また感度もフィルムより良く人体に
影響の少ない微弱なX線で鮮明な画像を得ることもでき
る。
2の実施例を説明する。第1の実施例に比較して第2の
実施例の異なる大きな点は、図1においてのシステム制
御回路70、AEコントローラ30および演算処理回路
60の構成と動作である。他は第1の実施例とほぼ同じ
ため図1に基づき異なる部分のみ説明する。
の動作の時、システム制御回路70は患者、つまり被写
体11を移動させるところにある。例えば移動を促すラ
ンプと移動の確認を行うセンサを設けたり、患者を支持
する台の移動機構と制御回路を設けてもよい。補正出力
を得るには被写体11を撮像装置から移動後に条件メモ
リ回路40により他は前回の撮影露光時と同じにしAE
コントローラ30を制御しシステムを動作させれば、二
次元エリアセンサ20には被写体11が無い状態での基
準光が入射され、このときの補正出力はX線源10と蛍
光体12と二次元エリアセンサ20に至る空間を含めた
像情報入射手段や、二次元エリアセンサ20やゲイン調
整回路21におけるゲインばらつきを補正可能な補正出
力が得られる。ここで、基準光とは、被写体が無い状態
で、その他の条件は、撮影露光時と同じ状態で二次元エ
リアセンサ20に入射される光である。つまり、像情報
光14から被写体の情報のみが差し引かれた情報を含ん
でおり、像情報入射手段におけるS/Nを低化させる要
因になる不要なばらつきや、誤差等の情報を含んでい
る。
モリ60に記憶された撮影出力と被写体11がない状態
での基準光での補正出力によりX線源10と蛍光体12
と二次元エリアセンサ20に至る空間を含めた像情報入
射手段や、二次元エリアセンサ20やゲイン調整回路2
1におけるゲインばらつきによる撮影時の誤差を取り除
いた像情報出力Oとすることができる。この像情報出力
Oは画像処理システム等に電送される。
ついて説明する。撮影モードの動作については第1の実
施例の動作と同じである。撮影モードの動作後、システ
ム制御回路70は補正モードに入り再び二次元エリアセ
ンサ20をリフレッシュ動作させる。リフレッシュ終了
後、撮影露光時に条件メモリ回路40に記憶された各種
条件をAEコントローラ30に呼び出す。そして、被写
体11がX線源10と二次元エリアセンサ20の間にい
ない以外は撮影モード時と全く同じ条件で動作させる。
つまり、温度センサ33やフォトタイマ31の出力は使
わずに条件メモリ回路40に記憶された値に基づき動作
させる。駆動スピードやゲイン調整回路21のゲインは
撮影モードと同じ条件で動作させる。この時のゲイン調
整回路21の出力を補正出力とする。このときの補正出
力はX線源10と蛍光体12と二次元エリアセンサ20
に至る空間を含めた像情報入射手段内の感度やゲインの
ばらつきや、二次元エリアセンサ20やゲイン調整回路
21における感度やゲインばらつきを反映した出力であ
る。よって、フレームメモリ50に記憶されている撮影
出力をAとし、補正モードで得られた補正出力をBと
し、演算処理回路60で、各画素単位で除算処理し、 O=A÷B とすると、撮影モード時に得られた撮影出力の感度やゲ
インばらつきによる誤差を取り除いた良好な像情報出力
Oとすることができる。ここでは、説明の簡単化のため
単純な式(O=A÷B)で説明したが、実際には良好な
画質を得るためもっと複雑な演算とすることが好まし
い。
施例における補正回路81のブロック図を示す。補正回
路81以外のシステムは第1および第2の実施例で示し
た構成を兼ね備えている。本実施例の補正回路81が図
1内の補正回路80と異なる点はスイッチがAスイッチ
52とBスイッチ53と2個あることとフレームメモリ
がAフレームメモリ54とBフレームメモリ55と2個
あることである。また、演算処理回路61の入力がA,
B,Cと3入力あることも異なっている。
説明する。本実施例においての動作には「撮影モー
ド」、「補正モード1」および「補正モード2」があ
る。
実施例の撮影モードとほぼ同じである。異なる点は撮影
出力はAスイッチ52を介してAフレームメモリ54に
撮影出力Aとして記憶されるよう制御される。このとき
Bスイッチ53は開いていてBフレームメモリ55は変
化しない。
補正モードとほぼ同じである。異なる点は補正出力は演
算処理回路では処理されず、Bスイッチ53を介してB
フレームメモリ55に補正出力Bとして記憶されるよう
制御されていることである。このときAスイッチ52は
開いていてAフレームメモリは変化しない。
補正モードとほぼ同じである。異なる点は演算処理回路
61には撮影モード時に得られた撮影出力AがAフレー
ムメモリ54から、また補正モード1時に得られた補正
出力BがBフレームメモリ55から、さらに補正モード
2の補正出力を補正出力Cとして、入力させる。演算処
理回路61ではこれら入力を、減算ならびに除算処理
し、 O=(A−B)÷C とすると、撮影モード時に得られた撮影出力の固定パタ
ーン等の誤差や感度やゲインばらつきによる誤差を取り
除いた良好な像情報出力Oとすることができる。ここで
は、説明の簡単化のため単純な式、(O=(A−B)÷
C)で説明したが、実際には良好な画質を得るためもっ
と複雑な演算とすることが好ましい。
がこれに限定せず例えば3個にして補正モードをもう1
つ増やして、例えばX線源10の管電流を1/2にし被
写体11なしで補正出力を追加して得れば、2次元エリ
アセンサ20の非線形性の補正もできる。
本発明はこれらに限定するものではない。例えば、像情
報入射装置としてストロボと被写体とレンズにすればA
E機能を持つスチールカメラとなる。また、ストロボが
なくても自然光と被写体とレンズでもよく、この場合、
光電変換素子を蓄積型とし蓄積時間を自動制御してもよ
い。
るものに限定されるものでなく、赤外光、紫外光、もし
くは放射線に感度があるものでもよく、例えば、X線に
感度がある素子を用いれば、第一の実施例において蛍光
体12がなくとも同一効果の撮像装置が得られる。この
場合、像情報光とは、像の情報をもつX線となる。
ディジタル変換器を含み撮像手段の出力はその値により
適切な変換器が選択可能で、またその選択は撮影条件制
御手段で自動ならびに設定制御可能なことを特徴とすれ
ば、つまり、ゲインの異なるAmpと低精度のA/Dの
複数の組み合わせで、その中からbitごと適切なも
の、つまりオーバーフローをしておらず、かつ、なるべ
くゲインの高いAmpの組み合わせを自動選択し撮影出
力とし、この選択データをbitごと記憶しておき補正
モードで同じ選択データにより固定パターンやゲインば
らつきデータを得、補正することで低価格で高精度の撮
像装置を提供できる。つまりこれらbitごとの選択デ
ータは撮影モード前では得られず、従来の撮像装置では
撮影出力を得たAmpで補正データは作れないため高精
度の補正ができないわけである。本発明はこれを可能と
している。
でいなくとも1次元に並ぶ、つまり1次元ラインセンサ
でもよく同様の効果が得られるのは明白である。
補正に使うデータを得たときの条件と実際に撮影したと
きの条件を、実質的に同条件とすることができる。この
ため、この補正出力を用いて、記憶しておいた撮影出力
を補正することにより、より誤差の少ない撮影出力を得
ることが可能となり、高S/Nの像情報を得ることがで
きる。
っても、撮影時と同じ条件で補正出力を得ることができ
るため、使いやすく、楽に最適に近い条件で撮影ができ
る高性能な撮像装置が提供できる。
段を持つことにより、各種自動制御が働いている中で撮
影出力を得た後、同じ条件で補正出力を得ることがで
き、簡単に、失敗のない、高精度で補正エラーの少ない
高S/Nの像情報が得られる低価格の撮像装置を提供す
ることができる。
図である。
ある。
(a)、および断面図(b)である。
バンド図である。
である。
ブロック図である。
Claims (11)
- 【請求項1】 一次元もしくは二次元に配列した複数の
光電変換素子を含む撮像手段を有する撮像装置におい
て、 撮影モード時の撮影出力を記憶しておく手段と、 該撮影モード時の撮影条件を記憶しておく手段と、 前記記憶しておいた撮影条件を用いて動作させる補正モ
ード時の補正出力を得る手段と、 前記補正出力を用いて前記撮影出力を補正する手段と、
を有することを特徴とする撮像装置。 - 【請求項2】 前記補正出力を得る手段が、前記記憶し
ておいた撮影条件を用いて、前記光電変換素子に光が入
射しない状態で動作させる補正モード1の補正出力を得
る手段であることを特徴とする請求項1記載の撮像装
置。 - 【請求項3】 前記補正出力を得る手段が、前記記憶し
ておいた撮影条件を用いて、被写体が無い状態の基準光
を前記光電変換素子に入射させて動作させる補正モード
2の補正出力を得る手段であることを特徴とする請求項
1記載の撮像装置。 - 【請求項4】 前記補正モード1と、前記補正モード2
の両モード時の補正出力を用いて、前記撮影出力を補正
する手段を有することを特徴とする請求項2又は3記載
の撮像装置。 - 【請求項5】 一次元もしくは二次元に配列した複数の
光電変換素子を含む撮像手段と、 前記光電変換素子に像情報光の入射を制御する像情報入
射手段と、 撮影条件を自動制御および設定制御する撮影条件制御手
段と、 前記撮影条件制御手段が自動制御された時の設定値を記
憶する条件記憶手段と、 前記自動制御で撮影された時の撮影出力を記憶する撮影
出力記憶手段と、 前記条件記憶手段に記憶された設定値により前記撮影条
件制御手段を設定動作させて補正出力を得る手段と、 前記補正出力を用いて前記撮影出力記憶手段に記憶され
た撮影出力を補正する演算処理回路と、 前記各手段を制御するシステム制御手段と、を有するこ
とを特徴とする撮像装置。 - 【請求項6】前記像情報入射手段は、パルス状の像情報
光及び/又は基準光を前記光電変換素子に入射可能であ
り、そのパルス幅は、前記撮影条件制御手段で自動なら
びに設定制御可能なことを特徴とする請求項5記載の撮
像装置。 - 【請求項7】 前記撮像手段は、ゲイン調整回路を有
し、そのゲインは前記撮影条件制御手段で、自動ならび
に設定制御可能なことを特徴とする請求項5又は6記載
の撮像装置。 - 【請求項8】 前記ゲイン調整回路は、複数のアナログ
−ディジタル変換器を含み、前記撮像手段の出力は、そ
の値により適切な該変換器が選択可能であり、かつ、そ
の選択は、前記撮影条件制御手段で、自動ならびに設定
制御可能なことを特徴とする請求項7記載の撮像装置。 - 【請求項9】 前記光電変換素子は、蓄積型であり、そ
の蓄積時間は、前記撮影条件制御手段で、自動ならびに
設定制御可能なことを特徴とする請求項1〜8のいずれ
か1項記載の撮像装置。 - 【請求項10】 前記像情報入射手段は、X線源および
蛍光体から構成され、前記X線源と前記蛍光体との間に
被写体を設置可能なことを特徴とする請求項1〜9のい
ずれか1項記載の撮像装置。 - 【請求項11】 一次元もしくは二次元に配列した複数
の光電変換素子を含む撮像手段と、 前記光電変換素子に像情報光の入射を制御可能な像情報
入射手段と、 撮影条件を自動制御および設定制御可能な撮影条件制御
手段と、 撮影出力を記憶する撮影出力記憶手段と、 前記撮影条件制御手段が自動制御された条件を記憶する
条件記憶手段と、を有する撮像装置の撮像方法におい
て、 先ず、自動制御で所望の撮影出力が得られるよう前記撮
影条件制御手段を動作させながら前記像情報入射手段に
より像情報光を前記撮像手段に入射させ、このときの撮
影出力を前記撮影出力記憶手段に記憶させると同時に前
記撮影条件制御手段が選択した設定値を前記条件記憶手
段に記憶させ、 その後、前記条件記憶手段に記憶された設定値により前
記撮影条件制御手段を設定動作させ、このときの出力を
補正出力とし、該補正出力と前記撮影出力記憶手段に記
憶された撮影出力とを、演算処理回路で処理し、前記撮
像手段の誤差を取り除いた撮影出力とすることを特徴と
する撮像方法。
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