JPH10330352A - チオアニソール誘導体およびその製造方法 - Google Patents
チオアニソール誘導体およびその製造方法Info
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Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
Landscapes
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】望まれる光学材料の特性を有する、すなわち高
屈折率を有し、比重が小さい樹脂を製造するために好適
な単量体であるチオアニソール誘導体を提供すること、
チオアニソール誘導体の製造方法を提供すること、該チ
オアニソール誘導体の有用な出発原料である2,4−ビ
ス(ハロゲノメチル)チオアニソールを提供すること、
ならびに該2,4−ビス(ハロゲノメチル)チオアニソ
ールの製造方法を提供すること。 【解決手段】一般式 (I): 【化1】 (式中、nは0〜2の整数を示す)で表されるチオアニ
ソール誘導体、および該チオアニソール誘導体の製造方
法。
屈折率を有し、比重が小さい樹脂を製造するために好適
な単量体であるチオアニソール誘導体を提供すること、
チオアニソール誘導体の製造方法を提供すること、該チ
オアニソール誘導体の有用な出発原料である2,4−ビ
ス(ハロゲノメチル)チオアニソールを提供すること、
ならびに該2,4−ビス(ハロゲノメチル)チオアニソ
ールの製造方法を提供すること。 【解決手段】一般式 (I): 【化1】 (式中、nは0〜2の整数を示す)で表されるチオアニ
ソール誘導体、および該チオアニソール誘導体の製造方
法。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、チオアニソール誘
導体およびその製造方法、ならびに当該チオアニソール
誘導体を製造するための中間体としての2,4−ビス
(ハロゲノメチル)チオアニソールおよびその製造方法
に関する。さらに詳しくは、眼鏡用プラスチックレン
ズ、フレネルレンズ、レンチキュアーレンズ、光ディス
ク基板、プラスチック光ファイバー、LCD用プリズム
シート、導光板、拡散シート等の光学材料、塗料、接着
剤、封止材等の重合用原料として有用であり、特に光学
材料の重合用原料(単量体)として、極めて有用なチオ
アニソール誘導体、およびその製造方法ならびに前記チ
オアニソール誘導体を製造するための中間体およびその
製造方法に関する。
導体およびその製造方法、ならびに当該チオアニソール
誘導体を製造するための中間体としての2,4−ビス
(ハロゲノメチル)チオアニソールおよびその製造方法
に関する。さらに詳しくは、眼鏡用プラスチックレン
ズ、フレネルレンズ、レンチキュアーレンズ、光ディス
ク基板、プラスチック光ファイバー、LCD用プリズム
シート、導光板、拡散シート等の光学材料、塗料、接着
剤、封止材等の重合用原料として有用であり、特に光学
材料の重合用原料(単量体)として、極めて有用なチオ
アニソール誘導体、およびその製造方法ならびに前記チ
オアニソール誘導体を製造するための中間体およびその
製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】有機光学材料用樹脂は、ガラス等に比較
して軽量で取扱いが簡単であることから、近年は各種材
料として汎用されている。望まれる光学材料用樹脂の特
性としては、屈折率が高い、複屈折が少ない、比重が小
さい等が挙げられ、このような特性を持つ樹脂原料の製
造を目的として様々な試みがなされている。
して軽量で取扱いが簡単であることから、近年は各種材
料として汎用されている。望まれる光学材料用樹脂の特
性としては、屈折率が高い、複屈折が少ない、比重が小
さい等が挙げられ、このような特性を持つ樹脂原料の製
造を目的として様々な試みがなされている。
【0003】このような有機光学材料用樹脂として、従
来から、ポリスチレン系樹脂、ポリメチルメタクリレー
ト系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ジエチレングリコ
ールジアリルカーボナート樹脂等が広く用いられてい
る。
来から、ポリスチレン系樹脂、ポリメチルメタクリレー
ト系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ジエチレングリコ
ールジアリルカーボナート樹脂等が広く用いられてい
る。
【0004】しかし、このような従来の有機光学材料用
樹脂は、低い屈折率、大きな複屈折、高い分散能等の欠
点を有し、耐熱性や耐衝撃性にも劣るため、必ずしも満
足しうるものではなかった。
樹脂は、低い屈折率、大きな複屈折、高い分散能等の欠
点を有し、耐熱性や耐衝撃性にも劣るため、必ずしも満
足しうるものではなかった。
【0005】特にレンズ用材料として用いられているジ
エチレングリコールジアリルカーボナート樹脂(CR−
39)等は、屈折率が1.50と低いため、レンズとし
て使用した場合には、コバ厚や中心厚が大きくなり、レ
ンズの外観が悪くなり、また重量の増大を招くという欠
点があった。
エチレングリコールジアリルカーボナート樹脂(CR−
39)等は、屈折率が1.50と低いため、レンズとし
て使用した場合には、コバ厚や中心厚が大きくなり、レ
ンズの外観が悪くなり、また重量の増大を招くという欠
点があった。
【0006】これらの欠点を解決するために、主として
屈折率を向上させる方法が種々検討されてきた。これに
は、樹脂原料中の芳香環にハロゲン原子を導入する方
法、樹脂原料のモノマー分子内に原子屈折率が高い硫黄
原子の含有率を高める方法等が挙げられる。
屈折率を向上させる方法が種々検討されてきた。これに
は、樹脂原料中の芳香環にハロゲン原子を導入する方
法、樹脂原料のモノマー分子内に原子屈折率が高い硫黄
原子の含有率を高める方法等が挙げられる。
【0007】例えば、特公平5−4404号公報には、
芳香環にハロゲンを導入した樹脂が開示されている。し
かしながら、この技術により得られた樹脂は、屈折率が
1.60と大きくなるものの、比重が1.37と高く、
プラスチックレンズの特徴であるレンズの軽量性の点で
満足できるものではなかった。
芳香環にハロゲンを導入した樹脂が開示されている。し
かしながら、この技術により得られた樹脂は、屈折率が
1.60と大きくなるものの、比重が1.37と高く、
プラスチックレンズの特徴であるレンズの軽量性の点で
満足できるものではなかった。
【0008】特開平2−270859号公報および特開
平5−208950号公報では、樹脂の高屈折率化を図
ることを目的として、樹脂原料のモノマー分子内に硫黄
原子の含有率を高める方法が開示されている。ここで
は、硫黄原子の含有率を高めるためには、一般にメルカ
プト化合物が用いられている。このメルカプト化合物と
しては、例えば、メタンチオール、エタンチオール、エ
タンジオールなどの低分子量のメルカプト化合物が広く
知られている。しかしながら、これら低分子量のメルカ
プト化合物は、メルカプト化合物に基づく特有の臭気が
あり、また、樹脂を硬化させる為に用いられる他の樹脂
原料との組成比の関係でその使用量が制限されるという
欠点がある。
平5−208950号公報では、樹脂の高屈折率化を図
ることを目的として、樹脂原料のモノマー分子内に硫黄
原子の含有率を高める方法が開示されている。ここで
は、硫黄原子の含有率を高めるためには、一般にメルカ
プト化合物が用いられている。このメルカプト化合物と
しては、例えば、メタンチオール、エタンチオール、エ
タンジオールなどの低分子量のメルカプト化合物が広く
知られている。しかしながら、これら低分子量のメルカ
プト化合物は、メルカプト化合物に基づく特有の臭気が
あり、また、樹脂を硬化させる為に用いられる他の樹脂
原料との組成比の関係でその使用量が制限されるという
欠点がある。
【0009】そこで、低分子量のメルカプト化合物の代
わりに、トリメチロールプロパントリス−(チオグリコ
レート)やペンタエリスリトールテトラキス−(チオグ
リコレート)などのエポキシ樹脂硬化剤として用いられ
ている分子量の大きい多官能性のメルカプト化合物の使
用が考えられている。しかしながら、この種のメルカプ
ト化合物は、分子量が大きいため臭気が少なく、取扱い
性が良好であるという利点もあるが、分子内の硫黄原子
の含有率が低いため、樹脂中の硫黄原子の含有率を理想
的に高めて所望の屈折率を得ることが困難であるという
欠点がある。
わりに、トリメチロールプロパントリス−(チオグリコ
レート)やペンタエリスリトールテトラキス−(チオグ
リコレート)などのエポキシ樹脂硬化剤として用いられ
ている分子量の大きい多官能性のメルカプト化合物の使
用が考えられている。しかしながら、この種のメルカプ
ト化合物は、分子量が大きいため臭気が少なく、取扱い
性が良好であるという利点もあるが、分子内の硫黄原子
の含有率が低いため、樹脂中の硫黄原子の含有率を理想
的に高めて所望の屈折率を得ることが困難であるという
欠点がある。
【0010】また、特公平4−15249号公報および
特開昭60−199016号公報では、イソシアネート
化合物とポリチオールの重合により樹脂を得る技術が開
示されている。しかし、この樹脂も屈折率が1.60と
大きくなるものの、比重が1.30以上であり、重合温
度が比較的低く、また重合速度が速いため、重合時の熱
制御が困難であり、そのため光学歪が大きいという欠点
があった。
特開昭60−199016号公報では、イソシアネート
化合物とポリチオールの重合により樹脂を得る技術が開
示されている。しかし、この樹脂も屈折率が1.60と
大きくなるものの、比重が1.30以上であり、重合温
度が比較的低く、また重合速度が速いため、重合時の熱
制御が困難であり、そのため光学歪が大きいという欠点
があった。
【0011】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、前記
従来技術に鑑みてなされたものであり、望まれる光学材
料の特性を有する、すなわち高屈折率を有し、比重が小
さい樹脂を製造するために好適な単量体であるチオアニ
ソール誘導体を提供することにある。本発明の他の目的
は、該チオアニソール誘導体の製造方法を提供すること
にある。本発明のさらに他の目的は、該チオアニソール
誘導体の有用な出発原料である2,4−ビス(ハロゲノ
メチル)チオアニソールを提供することにある。本発明
のさらに他の目的は、該2,4−ビス(ハロゲノメチ
ル)チオアニソールの製造方法を提供することにある。
従来技術に鑑みてなされたものであり、望まれる光学材
料の特性を有する、すなわち高屈折率を有し、比重が小
さい樹脂を製造するために好適な単量体であるチオアニ
ソール誘導体を提供することにある。本発明の他の目的
は、該チオアニソール誘導体の製造方法を提供すること
にある。本発明のさらに他の目的は、該チオアニソール
誘導体の有用な出発原料である2,4−ビス(ハロゲノ
メチル)チオアニソールを提供することにある。本発明
のさらに他の目的は、該2,4−ビス(ハロゲノメチ
ル)チオアニソールの製造方法を提供することにある。
【0012】
【課題を解決するための手段】すなわち、本発明は、
(1) 一般式 (I):
(1) 一般式 (I):
【0013】
【化10】
【0014】(式中、nは0〜2の整数を表す)で表さ
れるチオアニソール誘導体、(2) 一般式(II):
れるチオアニソール誘導体、(2) 一般式(II):
【0015】
【化11】
【0016】(式中、X1 およびX2 は塩素原子、臭素
原子またはヨウ素原子を表す)で表される2,4−ビス
(ハロゲノメチル)チオアニソールと一般式(III): HS(CH2 CH2 S)m H (III) (式中、mは1または2の整数を表す)で表されるジチ
オールとを塩基の存在下で反応させることを特徴とする
一般式(Ia):
原子またはヨウ素原子を表す)で表される2,4−ビス
(ハロゲノメチル)チオアニソールと一般式(III): HS(CH2 CH2 S)m H (III) (式中、mは1または2の整数を表す)で表されるジチ
オールとを塩基の存在下で反応させることを特徴とする
一般式(Ia):
【0017】
【化12】
【0018】(式中、mは前記と同じ)で表されるチオ
アニソール誘導体の製造方法、(3) 一般式(II):
アニソール誘導体の製造方法、(3) 一般式(II):
【0019】
【化13】
【0020】(式中、X1 およびX2 は塩素原子、臭素
原子またはヨウ素原子を表す)で表される2,4−ビス
(ハロゲノメチル)チオアニソールと一般式(IV): HO(CH2 CH2 S)m H (IV) (式中、mは1または2の整数を表す)で表されるメル
カプトアルコールを塩基の存在下で反応させ、次いで鉱
酸の存在下にチオ尿素を反応させイソチウロニウム塩と
した後、加水分解することを特徴とする一般式(Ia):
原子またはヨウ素原子を表す)で表される2,4−ビス
(ハロゲノメチル)チオアニソールと一般式(IV): HO(CH2 CH2 S)m H (IV) (式中、mは1または2の整数を表す)で表されるメル
カプトアルコールを塩基の存在下で反応させ、次いで鉱
酸の存在下にチオ尿素を反応させイソチウロニウム塩と
した後、加水分解することを特徴とする一般式(Ia):
【0021】
【化14】
【0022】(式中、mは前記と同じ)で表されるチオ
アニソール誘導体の製造方法、(4) 一般式(II):
アニソール誘導体の製造方法、(4) 一般式(II):
【0023】
【化15】
【0024】(式中、X1 およびX2 は塩素原子、臭素
原子またはヨウ素原子を表す)で表される2,4−ビス
(ハロゲノメチル)チオアニソールとチオ尿素を反応さ
せイソチウロニウム塩とした後、加水分解することを特
徴とする式(Ib):
原子またはヨウ素原子を表す)で表される2,4−ビス
(ハロゲノメチル)チオアニソールとチオ尿素を反応さ
せイソチウロニウム塩とした後、加水分解することを特
徴とする式(Ib):
【0025】
【化16】
【0026】で表される2,4−ビス(メルカプトメチ
ル)チオアニソールの製造方法、
ル)チオアニソールの製造方法、
【0027】(5) 一般式(IIa):
【0028】
【化17】
【0029】(式中、Y1 およびY2 は塩素原子、臭素
原子またはヨウ素原子を表す。ただしY1 およびY2 が
共に塩素原子の場合を除く)で表される2,4−ビス
(ハロゲノメチル)チオアニソール、(6) チオアニ
ソールに、ホルムアルデヒド誘導体と無機ハロゲン化合
物とを、鉱酸の存在下、脂肪酸溶媒中で反応させること
を特徴とする一般式(II):
原子またはヨウ素原子を表す。ただしY1 およびY2 が
共に塩素原子の場合を除く)で表される2,4−ビス
(ハロゲノメチル)チオアニソール、(6) チオアニ
ソールに、ホルムアルデヒド誘導体と無機ハロゲン化合
物とを、鉱酸の存在下、脂肪酸溶媒中で反応させること
を特徴とする一般式(II):
【0030】
【化18】
【0031】(式中、X1 およびX2 は塩素原子、臭素
原子またはヨウ素原子を表す)で表される2,4−ビス
(ハロゲノメチル)チオアニソールの製造方法、(7)
ホルムアルデヒド誘導体がパラホルムアルデヒド、ト
リオキサンまたはジメトキシメタンである上記(6)記
載の製造方法、(8) 無機ハロゲン化合物が、塩化ナ
トリウム、塩化カリウム、臭化ナトリウム、臭化カリウ
ム、ヨウ化ナトリウム、ヨウ化カリウムからなる群から
選ばれた少なくとも一種である上記(6)または(7)
記載の製造方法、(9) 鉱酸が硫酸である上記(6)
〜(8)のいずれかに記載の製造方法、(10) 脂肪
酸が炭素数2〜4の低級脂肪酸である上記(6)〜
(9)のいずれかに記載の製造方法、(11) 低級脂
肪酸が酢酸である上記(10)記載の製造方法、に関す
る。
原子またはヨウ素原子を表す)で表される2,4−ビス
(ハロゲノメチル)チオアニソールの製造方法、(7)
ホルムアルデヒド誘導体がパラホルムアルデヒド、ト
リオキサンまたはジメトキシメタンである上記(6)記
載の製造方法、(8) 無機ハロゲン化合物が、塩化ナ
トリウム、塩化カリウム、臭化ナトリウム、臭化カリウ
ム、ヨウ化ナトリウム、ヨウ化カリウムからなる群から
選ばれた少なくとも一種である上記(6)または(7)
記載の製造方法、(9) 鉱酸が硫酸である上記(6)
〜(8)のいずれかに記載の製造方法、(10) 脂肪
酸が炭素数2〜4の低級脂肪酸である上記(6)〜
(9)のいずれかに記載の製造方法、(11) 低級脂
肪酸が酢酸である上記(10)記載の製造方法、に関す
る。
【0032】
【発明の実施の形態】以下、本発明について詳細に説明
する。本発明のチオアニソール誘導体は、一般式 (I):
する。本発明のチオアニソール誘導体は、一般式 (I):
【0033】
【化19】
【0034】(式中、nは0〜2の整数を示す)で表さ
れるものであり、nが3以上である場合には合成が困難
である。本発明において屈折率、比重などの点からnは
0〜2の範囲が好適である。
れるものであり、nが3以上である場合には合成が困難
である。本発明において屈折率、比重などの点からnは
0〜2の範囲が好適である。
【0035】本発明の前記一般式(I)で表されるチオア
ニソール誘導体は、以下で述べる本発明の製造方法によ
り好適に製造することができるが、本発明はかかる製造
方法のみによって限定されるものではない。ここで、本
発明の製造方法は、nが1または2の化合物について
は、第1の態様および第2の態様が挙げられ、nが0の
化合物については第3の態様が挙げられる。以下、本発
明の製造方法について詳細に説明する。
ニソール誘導体は、以下で述べる本発明の製造方法によ
り好適に製造することができるが、本発明はかかる製造
方法のみによって限定されるものではない。ここで、本
発明の製造方法は、nが1または2の化合物について
は、第1の態様および第2の態様が挙げられ、nが0の
化合物については第3の態様が挙げられる。以下、本発
明の製造方法について詳細に説明する。
【0036】(1)まず第1の態様について説明する。
【0037】本発明の一般式 (I)で表されるチオアニソ
ール誘導体のうちnが1または2の化合物(一般式(Ia)
と表示する)は、例えば、下記の反応スキームによって
合成することができる。
ール誘導体のうちnが1または2の化合物(一般式(Ia)
と表示する)は、例えば、下記の反応スキームによって
合成することができる。
【0038】
【化20】
【0039】(式中、X1 およびX2 は塩素原子、臭素
原子またはヨウ素原子を表す。mは1または2の整数を
表す。また一般式(Ia)において、2つのmは同一でも
異なっていてもよい。) すなわち、前記一般式(II)で表される2,4−ビス
(ハロゲノメチル)チオアニソールと前記一般式(III)
で表されるジチオールとを塩基の存在下で反応させるこ
とにより目的とする一般式(Ia)で表されるチオアニソ
ール誘導体を得ることができる。ここで一般式(II)に
おけるX1 およびX2 は同一でも異なっていてもよい。
この点は次の第2の態様、第3の態様においても同様で
ある。
原子またはヨウ素原子を表す。mは1または2の整数を
表す。また一般式(Ia)において、2つのmは同一でも
異なっていてもよい。) すなわち、前記一般式(II)で表される2,4−ビス
(ハロゲノメチル)チオアニソールと前記一般式(III)
で表されるジチオールとを塩基の存在下で反応させるこ
とにより目的とする一般式(Ia)で表されるチオアニソ
ール誘導体を得ることができる。ここで一般式(II)に
おけるX1 およびX2 は同一でも異なっていてもよい。
この点は次の第2の態様、第3の態様においても同様で
ある。
【0040】一般式(III)で表されるジチオールとして
は、1,2−エタンジチオール、ビス(2−メルカプト
エチル)スルフィド等が挙げられ、その使用量は一般式
(II)の2,4−ビス(ハロゲノメチル)チオアニソール
に対して、モル比で通常3〜30倍、好ましくは6〜2
0倍である。使用量のモル比が3倍未満ではオリゴマー
成分が副生する傾向にあり、好ましくない。また30倍
を超えて用いても、それに見合う効果が得られず、経済
的でないため好ましくない。
は、1,2−エタンジチオール、ビス(2−メルカプト
エチル)スルフィド等が挙げられ、その使用量は一般式
(II)の2,4−ビス(ハロゲノメチル)チオアニソール
に対して、モル比で通常3〜30倍、好ましくは6〜2
0倍である。使用量のモル比が3倍未満ではオリゴマー
成分が副生する傾向にあり、好ましくない。また30倍
を超えて用いても、それに見合う効果が得られず、経済
的でないため好ましくない。
【0041】使用できる塩基としては、トリメチルアミ
ン、トリエチルアミン、トリプロピルアミン、トリブチ
ルアミン、N,N−ジメチルアニリン等の第三級アミ
ン、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等の金属水酸化
物、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等の金属炭酸塩、ナ
トリウムメチラート、ナトリウムエチラート、カリウム
tert−ブチラート等の金属アルコラートが挙げられ
る。塩基の使用量は、一般式(II)の2,4−ビス(ハロ
ゲノメチル)チオアニソールに対して、等量比で通常2
〜5倍、好ましくは2〜3倍である。塩基の使用量が2
倍未満では収率が低下し、5倍を超えて用いても、それ
に見合う効果が得られず、経済的でない。
ン、トリエチルアミン、トリプロピルアミン、トリブチ
ルアミン、N,N−ジメチルアニリン等の第三級アミ
ン、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等の金属水酸化
物、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等の金属炭酸塩、ナ
トリウムメチラート、ナトリウムエチラート、カリウム
tert−ブチラート等の金属アルコラートが挙げられ
る。塩基の使用量は、一般式(II)の2,4−ビス(ハロ
ゲノメチル)チオアニソールに対して、等量比で通常2
〜5倍、好ましくは2〜3倍である。塩基の使用量が2
倍未満では収率が低下し、5倍を超えて用いても、それ
に見合う効果が得られず、経済的でない。
【0042】反応温度は−20〜150℃、好ましくは
−10〜100℃である。反応温度が150℃を越える
と副生成物が増加し、目的とする一般式(Ia)で表される
チオアニソール誘導体の収率が低下するだけでなく、着
色の程度が増大し好ましくない。また反応温度が−20
℃未満では、反応速度が遅くなるため好ましくない。
−10〜100℃である。反応温度が150℃を越える
と副生成物が増加し、目的とする一般式(Ia)で表される
チオアニソール誘導体の収率が低下するだけでなく、着
色の程度が増大し好ましくない。また反応温度が−20
℃未満では、反応速度が遅くなるため好ましくない。
【0043】また、この反応では過剰のジチオールが反
応溶媒を兼ねているが、有機溶媒を用いても良く、使用
できる有機溶媒としては、トルエン、キシレン、ヘキサ
ン、シクロヘキサン等の炭化水素類、塩化メチレン、ク
ロロホルム、1,2−ジクロロエタン、モノクロロベン
ゼン、o−ジクロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類
が挙げられる。この場合、相間移動触媒として、テトラ
−n−ブチルアンモニウムブロマイド等の第4級アンモ
ニウム塩等を用いると良好な結果が得られる場合が多
い。
応溶媒を兼ねているが、有機溶媒を用いても良く、使用
できる有機溶媒としては、トルエン、キシレン、ヘキサ
ン、シクロヘキサン等の炭化水素類、塩化メチレン、ク
ロロホルム、1,2−ジクロロエタン、モノクロロベン
ゼン、o−ジクロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類
が挙げられる。この場合、相間移動触媒として、テトラ
−n−ブチルアンモニウムブロマイド等の第4級アンモ
ニウム塩等を用いると良好な結果が得られる場合が多
い。
【0044】このようにして得られた一般式(Ia)で表さ
れるチオアニソール誘導体は、例えば、カラムクロマト
グラフィーなどの常法により、単離、精製することがで
きる。
れるチオアニソール誘導体は、例えば、カラムクロマト
グラフィーなどの常法により、単離、精製することがで
きる。
【0045】(2)次に第2の態様について説明する。
第2の態様は、下記の反応スキームで表される。
第2の態様は、下記の反応スキームで表される。
【0046】
【化21】
【0047】(式中、X1 およびX2 は塩素原子、臭素
原子またはヨウ素原子を表す。mは1または2の整数を
表す。また一般式(Ia)、(V)および(VI)において2
つのmは同一でも異なっていてもよい。Aは塩酸、硫
酸、リン酸、臭化水素酸等の鉱酸により形成された塩の
陰イオン部を表す。) すなわち、前記一般式(II)で表される2,4−ビス
(ハロゲノメチル)チオアニソールと前記一般式(IV)
で表されるメルカプトアルコールとを塩基の存在下で反
応させ、次いで鉱酸の存在下でチオ尿素を反応させてイ
ソチウロニウム塩とした後、加水分解することにより目
的とする前記一般式(Ia)で表されるチオアニソール誘
導体を得ることができる。ここで塩基は、一般式(IV)
で表されるメルカプトアルコールと共に予め塩形成させ
た形で存在させてもよい。
原子またはヨウ素原子を表す。mは1または2の整数を
表す。また一般式(Ia)、(V)および(VI)において2
つのmは同一でも異なっていてもよい。Aは塩酸、硫
酸、リン酸、臭化水素酸等の鉱酸により形成された塩の
陰イオン部を表す。) すなわち、前記一般式(II)で表される2,4−ビス
(ハロゲノメチル)チオアニソールと前記一般式(IV)
で表されるメルカプトアルコールとを塩基の存在下で反
応させ、次いで鉱酸の存在下でチオ尿素を反応させてイ
ソチウロニウム塩とした後、加水分解することにより目
的とする前記一般式(Ia)で表されるチオアニソール誘
導体を得ることができる。ここで塩基は、一般式(IV)
で表されるメルカプトアルコールと共に予め塩形成させ
た形で存在させてもよい。
【0048】まず、一般式(II)で表される2,4−ビ
ス(ハロゲノメチル)チオアニソールと一般式(IV) で
表されるメルカプトアルコールとを塩基の存在下に反応
させて、一般式(V)で表される化合物を得る。ここで前
記一般式(IV) で表されるメルカプトアルコールとして
は、2−メルカプトエタノール、2−(2−メルカプト
エチルチオ)エタノール等が挙げられ、その使用量は前
記一般式(II)で表される2,4−ビス(ハロゲノメチ
ル)チオアニソールに対して、モル比で通常2〜5倍、
好ましくは2〜3倍である。2倍未満の場合、未反応の
原料が増加し収率が低下する。また、5倍を超えて用い
ても、それに見合う効果が得られず経済的でない。
ス(ハロゲノメチル)チオアニソールと一般式(IV) で
表されるメルカプトアルコールとを塩基の存在下に反応
させて、一般式(V)で表される化合物を得る。ここで前
記一般式(IV) で表されるメルカプトアルコールとして
は、2−メルカプトエタノール、2−(2−メルカプト
エチルチオ)エタノール等が挙げられ、その使用量は前
記一般式(II)で表される2,4−ビス(ハロゲノメチ
ル)チオアニソールに対して、モル比で通常2〜5倍、
好ましくは2〜3倍である。2倍未満の場合、未反応の
原料が増加し収率が低下する。また、5倍を超えて用い
ても、それに見合う効果が得られず経済的でない。
【0049】使用できる塩基としては、前記第1の態様
において使用される第三級アミン、金属水酸化物、金属
炭酸塩、金属アルコラート等が同様に挙げられる。塩基
の使用量は、前記一般式(II)で表される2,4−ビス
(ハロゲノメチル)チオアニソールに対して、等量比で
通常2〜5倍、好ましくは2〜3倍である。2倍未満の
場合、収率が低下し、5倍を超えて用いても、それに見
合う効果が得られず経済的でない。
において使用される第三級アミン、金属水酸化物、金属
炭酸塩、金属アルコラート等が同様に挙げられる。塩基
の使用量は、前記一般式(II)で表される2,4−ビス
(ハロゲノメチル)チオアニソールに対して、等量比で
通常2〜5倍、好ましくは2〜3倍である。2倍未満の
場合、収率が低下し、5倍を超えて用いても、それに見
合う効果が得られず経済的でない。
【0050】反応温度は−20〜150℃、好ましくは
−10〜100℃である。反応温度が150℃を越える
と副生成物が増加し、目的とする前記一般式(Ia)で表
されるチオアニソール誘導体の収率が低下するだけでな
く、着色の程度が増大する。また、−20℃未満のとき
は、反応速度が低下するため好ましくない。
−10〜100℃である。反応温度が150℃を越える
と副生成物が増加し、目的とする前記一般式(Ia)で表
されるチオアニソール誘導体の収率が低下するだけでな
く、着色の程度が増大する。また、−20℃未満のとき
は、反応速度が低下するため好ましくない。
【0051】また、そのとき使用できる有機溶媒として
は、前記第1の態様において記載の炭化水素類、ハロゲ
ン化炭化水素類が同様に挙げられる。なお、相間移動触
媒として、例えば、テトラ−n−ブチルアンモニウムブ
ロマイド等の第4級アンモニウム塩等を用いることもで
きる。得られた一般式(V)の化合物は反応液をそのまま
次工程に供してもよく、あるいはカラムクロマトグラフ
ィー等により単離精製した後、次工程に供してもよい。
は、前記第1の態様において記載の炭化水素類、ハロゲ
ン化炭化水素類が同様に挙げられる。なお、相間移動触
媒として、例えば、テトラ−n−ブチルアンモニウムブ
ロマイド等の第4級アンモニウム塩等を用いることもで
きる。得られた一般式(V)の化合物は反応液をそのまま
次工程に供してもよく、あるいはカラムクロマトグラフ
ィー等により単離精製した後、次工程に供してもよい。
【0052】次に一般式(V)で表される化合物を鉱酸の
存在下でチオ尿素と反応させて、一般式(VI)で表され
るイソチウロニウム塩を得る。イソチウロニウム塩生成
に際して用いるチオ尿素の使用量は、一般式(II)で表
される2,4−ビス(ハロゲノメチル)チオアニソール
に対して、モル比で通常2〜8倍、好ましくは2〜6倍
である。使用量が2倍未満の場合、未反応の原料が増加
し収率が低下する。また、8倍を超えて用いても、それ
に見合う効果が得られず経済的でない。この時、使用で
きる鉱酸としては塩酸、硫酸、リン酸、臭化水素酸等が
挙げられ、その使用量は前記一般式(II)で表される
2,4−ビス(ハロゲノメチル)チオアニソールに対し
て、等量比で2〜12倍、好ましくは2〜8倍である。
2倍未満の場合、反応が完全に進まず収率が低下する。
また、12倍を超えて用いても、それに見合う効果が得
られず経済的でない。イソチウロニウム塩生成における
反応温度は20〜120℃、好ましくは40〜110℃
である。反応温度が20℃未満の場合、反応速度が遅く
なり、120℃を超える場合、副生成物が増加するため
好ましくない。
存在下でチオ尿素と反応させて、一般式(VI)で表され
るイソチウロニウム塩を得る。イソチウロニウム塩生成
に際して用いるチオ尿素の使用量は、一般式(II)で表
される2,4−ビス(ハロゲノメチル)チオアニソール
に対して、モル比で通常2〜8倍、好ましくは2〜6倍
である。使用量が2倍未満の場合、未反応の原料が増加
し収率が低下する。また、8倍を超えて用いても、それ
に見合う効果が得られず経済的でない。この時、使用で
きる鉱酸としては塩酸、硫酸、リン酸、臭化水素酸等が
挙げられ、その使用量は前記一般式(II)で表される
2,4−ビス(ハロゲノメチル)チオアニソールに対し
て、等量比で2〜12倍、好ましくは2〜8倍である。
2倍未満の場合、反応が完全に進まず収率が低下する。
また、12倍を超えて用いても、それに見合う効果が得
られず経済的でない。イソチウロニウム塩生成における
反応温度は20〜120℃、好ましくは40〜110℃
である。反応温度が20℃未満の場合、反応速度が遅く
なり、120℃を超える場合、副生成物が増加するため
好ましくない。
【0053】また、そのとき使用できる有機溶媒として
は、前記第1の態様において記載の炭化水素類、ハロゲ
ン化炭化水素類が同様に挙げられる。得られた一般式
(VI)で表されるイソチウロニウム塩は、通常反応液を
そのまま次工程に供すればよい。
は、前記第1の態様において記載の炭化水素類、ハロゲ
ン化炭化水素類が同様に挙げられる。得られた一般式
(VI)で表されるイソチウロニウム塩は、通常反応液を
そのまま次工程に供すればよい。
【0054】次に、一般式(VI)で表されるイソチウロ
ニウム塩を加水分解させて目的の一般式(Ia)で表され
るチオアニソール誘導体を得る。加水分解は通常、塩基
の存在下で行われる。用いられる塩基としては、前記第
1の態様において記載の第3級アミン、金属水酸化物、
金属炭酸塩、金属アルコラートの他にアンモニア、モノ
メチルアミン、モノエチルアミン、モノブチルアミン等
の第1級アミン、ジメチルアミン、ジエチルアミン、ジ
ブチルアミン等の第2級アミンも挙げられる。塩基の使
用量は前記一般式(II)で表される2,4−ビス(ハロ
ゲノメチル)チオアニソールに対して、等量比で通常2
〜12倍、好ましくは2〜8倍である。等量比が2倍未
満の場合、反応が完全に進行せず収率が低下する。また
12倍を超えて用いても、それに見合う効果が得られず
経済的でない。反応温度は20〜120℃、好ましくは
30〜110℃である。反応温度が20℃未満の場合、
反応速度が遅くなり、120℃を超える場合、副生成物
が増加するとともに着色の程度が増大し好ましくない。
ニウム塩を加水分解させて目的の一般式(Ia)で表され
るチオアニソール誘導体を得る。加水分解は通常、塩基
の存在下で行われる。用いられる塩基としては、前記第
1の態様において記載の第3級アミン、金属水酸化物、
金属炭酸塩、金属アルコラートの他にアンモニア、モノ
メチルアミン、モノエチルアミン、モノブチルアミン等
の第1級アミン、ジメチルアミン、ジエチルアミン、ジ
ブチルアミン等の第2級アミンも挙げられる。塩基の使
用量は前記一般式(II)で表される2,4−ビス(ハロ
ゲノメチル)チオアニソールに対して、等量比で通常2
〜12倍、好ましくは2〜8倍である。等量比が2倍未
満の場合、反応が完全に進行せず収率が低下する。また
12倍を超えて用いても、それに見合う効果が得られず
経済的でない。反応温度は20〜120℃、好ましくは
30〜110℃である。反応温度が20℃未満の場合、
反応速度が遅くなり、120℃を超える場合、副生成物
が増加するとともに着色の程度が増大し好ましくない。
【0055】このようにして得られた一般式(Ia)で表
されるチオアニソール誘導体は、前記第1の態様におい
て記載と同様に、常法により、単離、精製することが出
来る。
されるチオアニソール誘導体は、前記第1の態様におい
て記載と同様に、常法により、単離、精製することが出
来る。
【0056】(3)次に第3の態様について説明する。
【0057】本発明の一般式(I)で表されるチオアニソ
ール誘導体の内、nが0である化合物である式(Ib)で
表される2, 4−ビス(メルカプトメチル)チオアニソ
ールを合成する方法としては、下記の反応スキームを挙
げることができる。
ール誘導体の内、nが0である化合物である式(Ib)で
表される2, 4−ビス(メルカプトメチル)チオアニソ
ールを合成する方法としては、下記の反応スキームを挙
げることができる。
【0058】
【化22】
【0059】すなわち、前記一般式(II)で表される
2,4−ビス(ハロゲノメチル)チオアニソールとチオ
尿素を反応させ前記一般式(VII)で表されるイソチウロ
ニウム塩とした後、加水分解することにより目的とする
式(Ib)で表される2, 4−ビス(メルカプトメチル)
チオアニソールを得ることができる。
2,4−ビス(ハロゲノメチル)チオアニソールとチオ
尿素を反応させ前記一般式(VII)で表されるイソチウロ
ニウム塩とした後、加水分解することにより目的とする
式(Ib)で表される2, 4−ビス(メルカプトメチル)
チオアニソールを得ることができる。
【0060】前記一般式(VII)で表されるイソチウロニ
ウム塩生成に際して用いるチオ尿素の使用量は、前記一
般式(II)で表される2,4−ビス(ハロゲノメチル)
チオアニソールに対してモル比で通常2〜8倍、好まし
くは2〜6倍である。モル比が2倍未満の場合、反応が
完全に進行せず収率が低下する。また8倍を超えて用い
ても、それに見合う効果が得られず経済的でない。
ウム塩生成に際して用いるチオ尿素の使用量は、前記一
般式(II)で表される2,4−ビス(ハロゲノメチル)
チオアニソールに対してモル比で通常2〜8倍、好まし
くは2〜6倍である。モル比が2倍未満の場合、反応が
完全に進行せず収率が低下する。また8倍を超えて用い
ても、それに見合う効果が得られず経済的でない。
【0061】前記一般式(VII)で表されるイソチウロニ
ウム塩生成における反応温度は、20〜120℃、好ま
しくは40〜110℃である。反応温度が20℃未満の
場合、反応速度が遅くなり、120℃を超える場合、副
生成物が増加するとともに着色の程度が増大し好ましく
ない。
ウム塩生成における反応温度は、20〜120℃、好ま
しくは40〜110℃である。反応温度が20℃未満の
場合、反応速度が遅くなり、120℃を超える場合、副
生成物が増加するとともに着色の程度が増大し好ましく
ない。
【0062】また、この反応で使用できる有機溶媒とし
ては、前記第1の態様において記載の炭化水素類、ハロ
ゲン化炭化水素類等が同様に挙げられる。また溶媒とし
て水を用いて反応させることもできる。得られた一般式
(VII)の化合物は、通常反応液をそのまま次工程に供す
ればよい。
ては、前記第1の態様において記載の炭化水素類、ハロ
ゲン化炭化水素類等が同様に挙げられる。また溶媒とし
て水を用いて反応させることもできる。得られた一般式
(VII)の化合物は、通常反応液をそのまま次工程に供す
ればよい。
【0063】一般式(VII) で表されるイソチウロニウム
塩の加水分解は、通常、塩基の存在下で行われる。用い
られる塩基としては、前記第2の態様の場合と同様に第
3級アミン、金属水酸化物、金属炭酸塩、金属アルコラ
ート、第1級アミン、第2級アミンが挙げられる。塩基
の使用量は、一般式(II)で表される2,4−ビス(ハ
ロゲノメチル)チオアニソールに対して、等量比で通常
2〜12倍、好ましくは2〜8倍である。等量比が2倍
未満の場合、収率が低下し、12倍を超えて用いても、
それに見合う効果が得られず経済的でない。反応温度は
20〜120℃、好ましくは30〜110℃である。反
応温度が20℃未満の場合、反応速度が低下し、120
℃を超える場合、副生成物の増加、着色の程度が増大す
るため好ましくない。
塩の加水分解は、通常、塩基の存在下で行われる。用い
られる塩基としては、前記第2の態様の場合と同様に第
3級アミン、金属水酸化物、金属炭酸塩、金属アルコラ
ート、第1級アミン、第2級アミンが挙げられる。塩基
の使用量は、一般式(II)で表される2,4−ビス(ハ
ロゲノメチル)チオアニソールに対して、等量比で通常
2〜12倍、好ましくは2〜8倍である。等量比が2倍
未満の場合、収率が低下し、12倍を超えて用いても、
それに見合う効果が得られず経済的でない。反応温度は
20〜120℃、好ましくは30〜110℃である。反
応温度が20℃未満の場合、反応速度が低下し、120
℃を超える場合、副生成物の増加、着色の程度が増大す
るため好ましくない。
【0064】また、この反応で使用できる有機溶媒とし
ては、前記第1の態様において記載の炭化水素類、ハロ
ゲン化炭化水素類等が同様に挙げられる。
ては、前記第1の態様において記載の炭化水素類、ハロ
ゲン化炭化水素類等が同様に挙げられる。
【0065】このようにして得られた式(Ib)で示され
る2, 4−ビス(メルカプトメチル)チオアニソール
は、前記第1の態様において記載と同様に、常法によ
り、単離、精製することが出来る。
る2, 4−ビス(メルカプトメチル)チオアニソール
は、前記第1の態様において記載と同様に、常法によ
り、単離、精製することが出来る。
【0066】前記第1の態様〜第3の態様において使用
される一般式(II)で表される2,4−ビス(ハロゲノ
メチル)チオアニソールは、本発明の一般式(I)で表さ
れるチオアニソール誘導体を製造するための出発原料と
して有用な化合物である。なお、一般式(II)で表され
る化合物のうち、X1 およびX2 が共に塩素原子である
化合物を除いた化合物、すなわち一般式(IIa)で表され
る化合物は、新規な化合物である。従って、本発明はこ
のような新規な一般式(IIa)で表される化合物をも提供
する。
される一般式(II)で表される2,4−ビス(ハロゲノ
メチル)チオアニソールは、本発明の一般式(I)で表さ
れるチオアニソール誘導体を製造するための出発原料と
して有用な化合物である。なお、一般式(II)で表され
る化合物のうち、X1 およびX2 が共に塩素原子である
化合物を除いた化合物、すなわち一般式(IIa)で表され
る化合物は、新規な化合物である。従って、本発明はこ
のような新規な一般式(IIa)で表される化合物をも提供
する。
【0067】本発明の前記一般式(II)で表される2,
4−ビス(ハロゲノメチル)チオアニソールは、チオア
ニソールに、ホルムアルデヒド誘導体と無機ハロゲン化
合物とを、脂肪酸溶媒中で鉱酸の存在下に、反応させる
ことにより製造することができる。
4−ビス(ハロゲノメチル)チオアニソールは、チオア
ニソールに、ホルムアルデヒド誘導体と無機ハロゲン化
合物とを、脂肪酸溶媒中で鉱酸の存在下に、反応させる
ことにより製造することができる。
【0068】本発明で用いられるホルムアルデヒド誘導
体としては、パラホルムアルデヒド、トリオキサン、ジ
メトキシメタン、ジエトキシメタン等が挙げられ、とり
わけパラホルムアルデヒド、トリオキサン、ジメトキシ
メタンが好ましい。ホルムアルデヒド誘導体の使用量
は、チオアニソールに対してホルムアルデヒド純分換算
で通常1.6〜3.2倍モル、好ましくは1.8〜2.
5倍モルである。ホルムアルデヒド誘導体の使用量が
1.6倍モルより少ない場合はモノハロゲノメチル体が
増加して収率が低下し、3.2倍モルより多い場合はト
リハロゲノメチル体が増加して収率が低下する。
体としては、パラホルムアルデヒド、トリオキサン、ジ
メトキシメタン、ジエトキシメタン等が挙げられ、とり
わけパラホルムアルデヒド、トリオキサン、ジメトキシ
メタンが好ましい。ホルムアルデヒド誘導体の使用量
は、チオアニソールに対してホルムアルデヒド純分換算
で通常1.6〜3.2倍モル、好ましくは1.8〜2.
5倍モルである。ホルムアルデヒド誘導体の使用量が
1.6倍モルより少ない場合はモノハロゲノメチル体が
増加して収率が低下し、3.2倍モルより多い場合はト
リハロゲノメチル体が増加して収率が低下する。
【0069】本発明で用いられる無機ハロゲン化合物と
しては、塩化ナトリウム、塩化カリウム、塩化アンモニ
ウム、臭化ナトリウム、臭化カリウム、臭化アンモニウ
ム、ヨウ化ナトリウム、ヨウ化カリウム、ヨウ化アンモ
ニウム等が挙げられるが、好ましくは塩化ナトリウム、
塩化カリウム、臭化ナトリウム、臭化カリウム、ヨウ化
ナトリウム、ヨウ化カリウムである。無機ハロゲン化合
物の使用量は、チオアニソールに対して通常1.7〜
6.0倍モル、好ましくは1.9〜4.0倍モルであ
る。無機ハロゲン化合物の使用量が1.7倍モルより少
ないとモノハロゲノメチル体等の副生成物の生成量が増
加して収率が低下し、6.0倍モルより多くてもそれに
見合った収率の向上は望めず経済的でない。
しては、塩化ナトリウム、塩化カリウム、塩化アンモニ
ウム、臭化ナトリウム、臭化カリウム、臭化アンモニウ
ム、ヨウ化ナトリウム、ヨウ化カリウム、ヨウ化アンモ
ニウム等が挙げられるが、好ましくは塩化ナトリウム、
塩化カリウム、臭化ナトリウム、臭化カリウム、ヨウ化
ナトリウム、ヨウ化カリウムである。無機ハロゲン化合
物の使用量は、チオアニソールに対して通常1.7〜
6.0倍モル、好ましくは1.9〜4.0倍モルであ
る。無機ハロゲン化合物の使用量が1.7倍モルより少
ないとモノハロゲノメチル体等の副生成物の生成量が増
加して収率が低下し、6.0倍モルより多くてもそれに
見合った収率の向上は望めず経済的でない。
【0070】本発明で用いられる鉱酸としては、硫酸、
硝酸等が挙げられるが硫酸が好ましい。鉱酸の使用量は
チオアニソールに対して通常1.0〜20.0倍等量、
好ましくは1.5〜14.0倍等量である。鉱酸の使用
量が1.0倍等量より少ないと反応が完結せず収率が低
下し、20.0倍等量より多くてもそれに見合った収率
の向上は望めず経済的でない。
硝酸等が挙げられるが硫酸が好ましい。鉱酸の使用量は
チオアニソールに対して通常1.0〜20.0倍等量、
好ましくは1.5〜14.0倍等量である。鉱酸の使用
量が1.0倍等量より少ないと反応が完結せず収率が低
下し、20.0倍等量より多くてもそれに見合った収率
の向上は望めず経済的でない。
【0071】本発明で溶媒として用いられる脂肪酸とし
ては、酢酸、プロピオン酸、イソ酪酸、酪酸等の炭素数
2〜4の低級脂肪酸が挙げられるが、好ましくは酢酸で
ある。脂肪酸の使用量は、チオアニソール1重量部に対
して通常1〜15重量部、好ましくは1.2〜10重量
部である。脂肪酸の使用量が1重量部より少ないと撹拌
が困難となり、15重量部より多くてもそれに見合った
収率の向上は望めず経済的でない。
ては、酢酸、プロピオン酸、イソ酪酸、酪酸等の炭素数
2〜4の低級脂肪酸が挙げられるが、好ましくは酢酸で
ある。脂肪酸の使用量は、チオアニソール1重量部に対
して通常1〜15重量部、好ましくは1.2〜10重量
部である。脂肪酸の使用量が1重量部より少ないと撹拌
が困難となり、15重量部より多くてもそれに見合った
収率の向上は望めず経済的でない。
【0072】反応温度は10〜120℃、好ましくは3
0〜110℃である。反応温度が10℃より低いと反応
の進行が遅く副生成物も生成し、120℃より高いと副
生成物が増加し収率が低下する。
0〜110℃である。反応温度が10℃より低いと反応
の進行が遅く副生成物も生成し、120℃より高いと副
生成物が増加し収率が低下する。
【0073】反応時間は1〜15時間、好ましくは2〜
12時間である。反応時間が1時間より短いと反応が完
結せず、15時間より長いと経済的でない。
12時間である。反応時間が1時間より短いと反応が完
結せず、15時間より長いと経済的でない。
【0074】このようにして得られた前記一般式(II)
で表される2,4−ビス(ハロゲノメチル)チオアニソ
ールは、例えば、トルエン、塩化メチレン等の有機溶媒
を用いて抽出した後、水洗、濃縮等の工程を経て分離精
製することができる。また、必要に応じてカラムクロマ
トグラフィーにより精製することもできる。
で表される2,4−ビス(ハロゲノメチル)チオアニソ
ールは、例えば、トルエン、塩化メチレン等の有機溶媒
を用いて抽出した後、水洗、濃縮等の工程を経て分離精
製することができる。また、必要に応じてカラムクロマ
トグラフィーにより精製することもできる。
【0075】前記一般式(I)で表される本発明のチオア
ニソール誘導体は、共重合により光学材料、塗料、接着
剤、封止材等に用いられる重合体を得ることができる。
ニソール誘導体は、共重合により光学材料、塗料、接着
剤、封止材等に用いられる重合体を得ることができる。
【0076】本発明における前記一般式(I)で表される
チオアニソール誘導体と共重合可能な化合物としては、
例えば、重合性不飽和結合を有するモノマー、重合性不
飽和結合を有するオリゴマー、エポキシ基を有するモノ
マー、エポキシ基を有するオリゴマー、イソシアネート
基を有するモノマー、イソチオシアネート基を有するモ
ノマー、チオグリシジル基を有するモノマー、チオグリ
シジル基を有するオリゴマー等が挙げられ、使用目的に
応じ、単官能化合物だけでなく多官能化合物を選択する
ことができ、またそれらの化合物を2種類以上併用する
ことができる。
チオアニソール誘導体と共重合可能な化合物としては、
例えば、重合性不飽和結合を有するモノマー、重合性不
飽和結合を有するオリゴマー、エポキシ基を有するモノ
マー、エポキシ基を有するオリゴマー、イソシアネート
基を有するモノマー、イソチオシアネート基を有するモ
ノマー、チオグリシジル基を有するモノマー、チオグリ
シジル基を有するオリゴマー等が挙げられ、使用目的に
応じ、単官能化合物だけでなく多官能化合物を選択する
ことができ、またそれらの化合物を2種類以上併用する
ことができる。
【0077】また、前記一般式(I)で表される本発明の
チオアニソール誘導体と該チオアニソール誘導体と共重
合可能な化合物とを含む組成物は、通常の方法により、
熱、光等によって共重合させることができる。また、こ
れらの共重合組成物に前記一般式(I) で表されるチオア
ニソール誘導体以外のチオール基を有するモノマー、オ
リゴマーを添加することもできる。
チオアニソール誘導体と該チオアニソール誘導体と共重
合可能な化合物とを含む組成物は、通常の方法により、
熱、光等によって共重合させることができる。また、こ
れらの共重合組成物に前記一般式(I) で表されるチオア
ニソール誘導体以外のチオール基を有するモノマー、オ
リゴマーを添加することもできる。
【0078】前記一般式(I)で表される本発明のチオア
ニソール誘導体の屈折率は、1.60以上を有するた
め、前記組成物を共重合させて得られる硬化物は、相手
のモノマー等を適宜選択することにより、1.60以上
の高屈折率を有するものが得られる。
ニソール誘導体の屈折率は、1.60以上を有するた
め、前記組成物を共重合させて得られる硬化物は、相手
のモノマー等を適宜選択することにより、1.60以上
の高屈折率を有するものが得られる。
【0079】また、前記一般式(I)で表される本発明の
チオアニソール誘導体のチオール基はその高い反応性を
利用して、例えば、アクリロイルチオ基、メタクリロイ
ルチオ基、ビニルチオ基、グリシジルチオ基、チオグリ
シジルチオ基等に変換することもできる。
チオアニソール誘導体のチオール基はその高い反応性を
利用して、例えば、アクリロイルチオ基、メタクリロイ
ルチオ基、ビニルチオ基、グリシジルチオ基、チオグリ
シジルチオ基等に変換することもできる。
【0080】
【実施例】以下、実施例により本発明を更に詳細に説明
するが、本発明はこれらの実施例等によりなんら限定さ
れるものではない。
するが、本発明はこれらの実施例等によりなんら限定さ
れるものではない。
【0081】実施例1 2,4−ビス(ブロモメチル)チオアニソールの製造例 撹拌機、温度計、滴下ロート、冷却管を備えた容量1リ
ットルの四つ口フラスコに、チオアニソール24.8g
(0.2モル)、臭化ナトリウム53.5g(0.52
モル)、92%パラホルムアルデヒド13.1g(0.
4モル)、酢酸100gを仕込み、次いで、96%硫酸
77.6g(0.76モル)を反応温度を80〜85℃
に保ちながら1時間かけて滴下した。滴下終了後、さら
に同温度で3時間撹拌した。その後、反応液に水120
gを添加し、トルエン200gで抽出し、有機層と水層
に分液した。得られた有機層を120gの水で2回洗浄
してから濃縮することにより59.5gの粗製物を得
た。この粗製物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
で精製することにより、無色透明液体を得た。
ットルの四つ口フラスコに、チオアニソール24.8g
(0.2モル)、臭化ナトリウム53.5g(0.52
モル)、92%パラホルムアルデヒド13.1g(0.
4モル)、酢酸100gを仕込み、次いで、96%硫酸
77.6g(0.76モル)を反応温度を80〜85℃
に保ちながら1時間かけて滴下した。滴下終了後、さら
に同温度で3時間撹拌した。その後、反応液に水120
gを添加し、トルエン200gで抽出し、有機層と水層
に分液した。得られた有機層を120gの水で2回洗浄
してから濃縮することにより59.5gの粗製物を得
た。この粗製物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
で精製することにより、無色透明液体を得た。
【0082】この化合物の構造を決定するため分析を行
った。結果を下記に示す。
った。結果を下記に示す。
【0083】元素分析 理論値(%) C:34.86、H:3.25、S:1
0.34 分析値(%) C:34.95、H:3.35、S:1
0.20 赤外吸収スペクトル(NaClcm-1)3018、29
66、2919、2854、2360、2337、16
00、1477、1434、1234、1211、10
56、972、954、898、817、746、72
91 H−核磁気共鳴スペクトル(CDCl3 溶媒、TMS
基準)δ(ppm) 7.62〜6.90(m,3H,−C 6 H3 −) 4.61(S,2H,2−CH2 Br) 4.45(S,2H,4−CH2 Br) 2.51(S,3H,SCH3) 分子量310.0
0.34 分析値(%) C:34.95、H:3.35、S:1
0.20 赤外吸収スペクトル(NaClcm-1)3018、29
66、2919、2854、2360、2337、16
00、1477、1434、1234、1211、10
56、972、954、898、817、746、72
91 H−核磁気共鳴スペクトル(CDCl3 溶媒、TMS
基準)δ(ppm) 7.62〜6.90(m,3H,−C 6 H3 −) 4.61(S,2H,2−CH2 Br) 4.45(S,2H,4−CH2 Br) 2.51(S,3H,SCH3) 分子量310.0
【0084】前記の分析結果から無色透明液体は2,4
−ビス(ブロモメチル)チオアニソールと同定された。
収量は49.6gであり、収率は原料チオアニソールに
対して80%であった。
−ビス(ブロモメチル)チオアニソールと同定された。
収量は49.6gであり、収率は原料チオアニソールに
対して80%であった。
【0085】実施例2 2,4−ビス(4−メルカプト−2−チアブチル)チオ
アニソール(一般式(I)のn=1の化合物)の製造例
(第1の態様) 撹拌機、温度計、滴下ロート、冷却管を備えた容量1リ
ットルの四つ口フラスコに、実施例1と同様にして得ら
れた2,4−ビス(ブロモメチル)チオアニソール62
g(0.2モル)、1,2−エタンジチオール282.
5g(3.0モル)、テトラ−n−ブチルアンモニウム
ブロマイド3.2g(0.01モル)を仕込み、次いで
反応温度を0〜10℃に保ちながら1.5時間かけて2
0%水酸化ナトリウム水溶液96g(0.48モル)を
滴下した。滴下終了後さらに20〜25℃で3時間撹拌
した。反応終了後、反応液に36%塩酸20g、水40
gを添加して有機層と水層に分液した。得られた有機層
を200gの水で2回洗浄した後、1,2−エタンジチ
オールを留去して濃縮物65.3gを得た。この濃縮物
をカラムクロマトグラフィーで精製することにより無色
透明液体を得た。
アニソール(一般式(I)のn=1の化合物)の製造例
(第1の態様) 撹拌機、温度計、滴下ロート、冷却管を備えた容量1リ
ットルの四つ口フラスコに、実施例1と同様にして得ら
れた2,4−ビス(ブロモメチル)チオアニソール62
g(0.2モル)、1,2−エタンジチオール282.
5g(3.0モル)、テトラ−n−ブチルアンモニウム
ブロマイド3.2g(0.01モル)を仕込み、次いで
反応温度を0〜10℃に保ちながら1.5時間かけて2
0%水酸化ナトリウム水溶液96g(0.48モル)を
滴下した。滴下終了後さらに20〜25℃で3時間撹拌
した。反応終了後、反応液に36%塩酸20g、水40
gを添加して有機層と水層に分液した。得られた有機層
を200gの水で2回洗浄した後、1,2−エタンジチ
オールを留去して濃縮物65.3gを得た。この濃縮物
をカラムクロマトグラフィーで精製することにより無色
透明液体を得た。
【0086】この化合物の構造を決定するため分析を行
った。結果を以下に示す。
った。結果を以下に示す。
【0087】屈折率(20℃) nD =1.668 元素分析 理論値(%) C:46.38、H:5.99、S:4
7.63 分析値(%) C:46.45、H:6.05、S:4
7.51 赤外吸収スペクトル(NaClcm-1)2915、28
44、2543、2349、2283、1596、14
73、1427、1270、1238、1207、11
37、1053、970、8191 H−核磁気共鳴スペクトル(CDCl3 溶媒、TMS
基準)δ(ppm) 7.34〜7.08(m,3H,−C 6 H3 −) 3.85(S,2H,2−C6 H3 −CH2 S) 3.70(S,2H,4−C6 H3 −CH2 S) 2.78〜2.64(m,8H,SC 2 H4 S) 2.48(S,3H,SCH3) 1.75〜1.63(m,2H,SH) 分子量336.6
7.63 分析値(%) C:46.45、H:6.05、S:4
7.51 赤外吸収スペクトル(NaClcm-1)2915、28
44、2543、2349、2283、1596、14
73、1427、1270、1238、1207、11
37、1053、970、8191 H−核磁気共鳴スペクトル(CDCl3 溶媒、TMS
基準)δ(ppm) 7.34〜7.08(m,3H,−C 6 H3 −) 3.85(S,2H,2−C6 H3 −CH2 S) 3.70(S,2H,4−C6 H3 −CH2 S) 2.78〜2.64(m,8H,SC 2 H4 S) 2.48(S,3H,SCH3) 1.75〜1.63(m,2H,SH) 分子量336.6
【0088】屈折率はアタゴ社製のアッベ屈折計4T型
を用いて測定した。以下の実施例においても同様であ
る。
を用いて測定した。以下の実施例においても同様であ
る。
【0089】前記の分析結果から無色透明液体は2,4
−ビス(4−メルカプト−2−チアブチル)チオアニソ
ールと同定された。収量は61.9gであり、収率は原
料である2,4−ビス(ブロモメチル)チオアニソール
に対して92%であった。
−ビス(4−メルカプト−2−チアブチル)チオアニソ
ールと同定された。収量は61.9gであり、収率は原
料である2,4−ビス(ブロモメチル)チオアニソール
に対して92%であった。
【0090】実施例3 2,4−ビス(4−メルカプト−2−チアブチル) チオ
アニソール (一般式(I)のn=1の化合物)の製造例
(第2の態様) 撹拌機、温度計、滴下ロート、冷却管を備えた容量1リ
ットルの四つ口フラスコに、実施例1と同様にして得ら
れた2,4−ビス(ブロモメチル)チオアニソール62
g(0.2モル)、2−メルカプトエタノール35.9
g(0.46モル)、テトラ−n−ブチルアンモニウム
ブロマイド3.2g(0.01モル)、トルエン200
gを仕込み、次いで反応温度を20〜40℃に保ちなが
ら1.5時間かけて20%水酸化ナトリウム水溶液96
g(0.48モル)を滴下した。滴下終了後さらに同温
度で1時間撹拌した後36%塩酸93.2g(0.92
モル)、チオ尿素52.5g(0.69モル)を順次添
加し88℃まで昇温し、88〜90℃で6時間撹拌し
た。室温まで冷却後、反応温度を50℃以下に保ちなが
ら40%水酸化ナトリウム水溶液92g(0.92モ
ル)を15分かけて滴下し、さらに60〜65℃で1.
5時間撹拌した。反応終了後、反応液に36%塩酸30
g添加した後有機層と水層に分液した。得られた有機層
を200gの水で2回洗浄した後、トルエンを留去して
濃縮物63.3gを得た。この濃縮物をカラムクロマト
グラフィーで精製することにより無色透明液体を得た。
アニソール (一般式(I)のn=1の化合物)の製造例
(第2の態様) 撹拌機、温度計、滴下ロート、冷却管を備えた容量1リ
ットルの四つ口フラスコに、実施例1と同様にして得ら
れた2,4−ビス(ブロモメチル)チオアニソール62
g(0.2モル)、2−メルカプトエタノール35.9
g(0.46モル)、テトラ−n−ブチルアンモニウム
ブロマイド3.2g(0.01モル)、トルエン200
gを仕込み、次いで反応温度を20〜40℃に保ちなが
ら1.5時間かけて20%水酸化ナトリウム水溶液96
g(0.48モル)を滴下した。滴下終了後さらに同温
度で1時間撹拌した後36%塩酸93.2g(0.92
モル)、チオ尿素52.5g(0.69モル)を順次添
加し88℃まで昇温し、88〜90℃で6時間撹拌し
た。室温まで冷却後、反応温度を50℃以下に保ちなが
ら40%水酸化ナトリウム水溶液92g(0.92モ
ル)を15分かけて滴下し、さらに60〜65℃で1.
5時間撹拌した。反応終了後、反応液に36%塩酸30
g添加した後有機層と水層に分液した。得られた有機層
を200gの水で2回洗浄した後、トルエンを留去して
濃縮物63.3gを得た。この濃縮物をカラムクロマト
グラフィーで精製することにより無色透明液体を得た。
【0091】この化合物の構造を決定するため分析を行
ったところ、実施例2と同様な分析結果を得た。
ったところ、実施例2と同様な分析結果を得た。
【0092】前記の分析結果から無色透明液体は、2,
4−ビス(4−メルカプト−2−チアブチル)チオアニ
ソールと同定された。収量は、60.6gであり、収率
は、原料である2,4−ビス(ブロモメチル)チオアニ
ソールに対して90%であった。
4−ビス(4−メルカプト−2−チアブチル)チオアニ
ソールと同定された。収量は、60.6gであり、収率
は、原料である2,4−ビス(ブロモメチル)チオアニ
ソールに対して90%であった。
【0093】実施例4 2,4−ビス(7−メルカプト−2,5−ジチアヘプチ
ル)チオアニソール(一般式(I) のn=2の化合物)の
製造例(第1の態様) 実施例2において、1,2−エタンジチオール282.
5g(3.0モル)に代えてビス(2−メルカプトエチ
ル)スルフィド462.9g(3.0モル)を用いた以
外は実施例2と同様に反応、精製を行い、無色透明液体
を得た。
ル)チオアニソール(一般式(I) のn=2の化合物)の
製造例(第1の態様) 実施例2において、1,2−エタンジチオール282.
5g(3.0モル)に代えてビス(2−メルカプトエチ
ル)スルフィド462.9g(3.0モル)を用いた以
外は実施例2と同様に反応、精製を行い、無色透明液体
を得た。
【0094】この化合物の構造を決定するため分析を行
った。結果を下記に示す。
った。結果を下記に示す。
【0095】屈折率(20℃) nD =1.663 元素分析 理論値(%) C:44.69、H:6.18、S:4
9.13 分析値(%) C:44.55、H:6.15、S:4
9.25 赤外吸収スペクトル(NaClcm-1)2916、28
48、2539、2360、2339、1473、14
19、1265、1197、10531 H−核磁気共鳴スペクトル(CDCl3 溶媒、TMS
基準)δ(ppm) 7.37〜7.09(m,3H,−C 6 H3 −) 3.87(S,2H,2−C6 H3 −CH2 S) 3.71(S,2H,4−C6 H3 −CH2 S) 2.87〜2.59(m,16H,SC 2 H4 SC 2 H
4 S) 2.49(S,3H,SCH3 ) 1.73〜1.64(m,2H,SH) 分子量456.9
9.13 分析値(%) C:44.55、H:6.15、S:4
9.25 赤外吸収スペクトル(NaClcm-1)2916、28
48、2539、2360、2339、1473、14
19、1265、1197、10531 H−核磁気共鳴スペクトル(CDCl3 溶媒、TMS
基準)δ(ppm) 7.37〜7.09(m,3H,−C 6 H3 −) 3.87(S,2H,2−C6 H3 −CH2 S) 3.71(S,2H,4−C6 H3 −CH2 S) 2.87〜2.59(m,16H,SC 2 H4 SC 2 H
4 S) 2.49(S,3H,SCH3 ) 1.73〜1.64(m,2H,SH) 分子量456.9
【0096】前記の分析結果から無色透明液体は2,4
−ビス(7−メルカプト−2,5−ジチアヘプチル)チ
オアニソールと同定された。収量は85.0gであり、
収率は原料である2,4−ビス(ブロモメチル)チオア
ニソールに対して93%であった。
−ビス(7−メルカプト−2,5−ジチアヘプチル)チ
オアニソールと同定された。収量は85.0gであり、
収率は原料である2,4−ビス(ブロモメチル)チオア
ニソールに対して93%であった。
【0097】実施例5 2,4−ビス(7−メルカプト−2,5−ジチアヘプチ
ル)チオアニソール (一般式(I) のn=2の化合物)
の製造例(第2の態様) 実施例3において、2−メルカプトエタノール35.9
g(0.46モル)に代えて2−(2−メルカプトエチ
ルチオ)エタノール63.6g(0.46モル)を用い
た以外は実施例3と同様に反応、精製を行い、無色透明
液体を得た。
ル)チオアニソール (一般式(I) のn=2の化合物)
の製造例(第2の態様) 実施例3において、2−メルカプトエタノール35.9
g(0.46モル)に代えて2−(2−メルカプトエチ
ルチオ)エタノール63.6g(0.46モル)を用い
た以外は実施例3と同様に反応、精製を行い、無色透明
液体を得た。
【0098】この化合物の構造を決定するために分析を
行ったところ、実施例4と同様な分析結果を得た。
行ったところ、実施例4と同様な分析結果を得た。
【0099】前記の分析結果から無色透明液体は、2,
4−ビス(7−メルカプト−2,5−ジチアヘプチル)
チオアニソールと同定された。収量は82.2gであ
り、収率は原料である2,4−ビス(ブロモメチル)チ
オアニソールに対して90%であった。
4−ビス(7−メルカプト−2,5−ジチアヘプチル)
チオアニソールと同定された。収量は82.2gであ
り、収率は原料である2,4−ビス(ブロモメチル)チ
オアニソールに対して90%であった。
【0100】実施例6 2,4−ビス(メルカプトメチル)チオアニソール(一
般式(I) のn=0の化合物)の製造例(第3の態様) 撹拌機、温度計、滴下ロート、冷却管を備えた容量1リ
ットルの四つ口フラスコに、実施例1と同様にして得ら
れた2,4−ビス(ブロモメチル)チオアニソール9
3.0g(0.3モル)、チオ尿素57.1g(0.7
5モル)、水250gを仕込み、反応温度を85〜90
℃に保ちながら10時間撹拌した。反応終了後、室温ま
で冷却し、トルエンを200g添加した後、反応温度を
20〜30℃に保ちながら40%水酸化ナトリウム水溶
液66g(0.66モル)を10分かけて滴下した。滴
下終了後、さらに、反応温度を60〜65℃に保ちなが
ら2時間撹拌を続けた。反応終了後、反応液に36%塩
酸25gを添加し有機層と水層を分液した。得られた有
機層を200gの水で2回洗浄した後、トルエンを留去
して濃縮物58.4gを得た。この濃縮物をカラムクロ
マトグラフィーで精製することにより無色透明液体を得
た。この化合物の構造を決定するため分析を行った。結
果を下記に示す。
般式(I) のn=0の化合物)の製造例(第3の態様) 撹拌機、温度計、滴下ロート、冷却管を備えた容量1リ
ットルの四つ口フラスコに、実施例1と同様にして得ら
れた2,4−ビス(ブロモメチル)チオアニソール9
3.0g(0.3モル)、チオ尿素57.1g(0.7
5モル)、水250gを仕込み、反応温度を85〜90
℃に保ちながら10時間撹拌した。反応終了後、室温ま
で冷却し、トルエンを200g添加した後、反応温度を
20〜30℃に保ちながら40%水酸化ナトリウム水溶
液66g(0.66モル)を10分かけて滴下した。滴
下終了後、さらに、反応温度を60〜65℃に保ちなが
ら2時間撹拌を続けた。反応終了後、反応液に36%塩
酸25gを添加し有機層と水層を分液した。得られた有
機層を200gの水で2回洗浄した後、トルエンを留去
して濃縮物58.4gを得た。この濃縮物をカラムクロ
マトグラフィーで精製することにより無色透明液体を得
た。この化合物の構造を決定するため分析を行った。結
果を下記に示す。
【0101】屈折率(20℃) nD =1.690 元素分析 理論値(%) C:49.96、H:5.59、S:4
4.46 分析値(%) C:49.99、H:5.50、S:4
4.30 赤外吸収スペクトル(NaClcm-1)2981、29
17、2850、2553、2360、2339、16
39、1598、1473、1432、1319、12
45、1166、1056、970、894、817、
7341 H−核磁気共鳴スペクトル(CDCl3 溶媒、TMS
基準)δ(ppm) 7.23〜7.07(m,3H,−C 6 H3 −) 3.81(d,J=7.9Hz,2H,2−C6 H3 −
CH2 S) 3.69(d,J=7.5Hz,2H,4−C6 H3 −
CH2 S) 2.48(S,3H,SCH3 ) 2.02(t,J=7.9Hz,1H,2−CH2 S
H) 1.75(t,J=7.5Hz,1H,4−CH2 S
H) 分子量216.4
4.46 分析値(%) C:49.99、H:5.50、S:4
4.30 赤外吸収スペクトル(NaClcm-1)2981、29
17、2850、2553、2360、2339、16
39、1598、1473、1432、1319、12
45、1166、1056、970、894、817、
7341 H−核磁気共鳴スペクトル(CDCl3 溶媒、TMS
基準)δ(ppm) 7.23〜7.07(m,3H,−C 6 H3 −) 3.81(d,J=7.9Hz,2H,2−C6 H3 −
CH2 S) 3.69(d,J=7.5Hz,2H,4−C6 H3 −
CH2 S) 2.48(S,3H,SCH3 ) 2.02(t,J=7.9Hz,1H,2−CH2 S
H) 1.75(t,J=7.5Hz,1H,4−CH2 S
H) 分子量216.4
【0102】前記の分析結果から無色透明液体は2,4
−ビス(メルカプトメチル)チオアニソールと同定され
た。収量は54.1gであり、収率は原料である2,4
−ビス(ブロモメチル)チオアニソールに対して83%
であった。
−ビス(メルカプトメチル)チオアニソールと同定され
た。収量は54.1gであり、収率は原料である2,4
−ビス(ブロモメチル)チオアニソールに対して83%
であった。
【0103】
【発明の効果】本発明のチオアニソール誘導体は、各種
の共重合可能な化合物と共重合させることにより、高屈
折率であり透明性に優れた硬化物を得ることができる。
従って、本発明のチオアニソール誘導体は優れた物性を
有する光学材料、塗料、接着剤、封止材等を与える極め
て有用な単量体である。
の共重合可能な化合物と共重合させることにより、高屈
折率であり透明性に優れた硬化物を得ることができる。
従って、本発明のチオアニソール誘導体は優れた物性を
有する光学材料、塗料、接着剤、封止材等を与える極め
て有用な単量体である。
フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 FI // C07B 61/00 300 C07B 61/00 300 (72)発明者 鈴木 道夫 兵庫県加古郡播磨町宮西346番地の1 住 友精化株式会社第一研究所内
Claims (11)
- 【請求項1】 一般式 (I): 【化1】 (式中、nは0〜2の整数を示す)で表されるチオアニ
ソール誘導体。 - 【請求項2】 一般式(II): 【化2】 (式中、X1 およびX2 は塩素原子、臭素原子またはヨ
ウ素原子を示す)で表される2,4−ビス(ハロゲノメ
チル)チオアニソールと一般式 (III): HS(CH2 CH2 S)m H (III) (式中、mは1または2の整数を示す)で表されるジチ
オールとを塩基の存在下で反応させることを特徴とする
一般式(Ia): 【化3】 (式中、mは前記と同じ)で表されるチオアニソール誘
導体の製造方法。 - 【請求項3】 一般式(II): 【化4】 (式中、X1 およびX2 は塩素原子、臭素原子またはヨ
ウ素原子を示す)で表される2,4−ビス(ハロゲノメ
チル)チオアニソールと一般式(IV): HO(CH2 CH2 S)m H (IV) (式中、mは1または2の整数を示す)で表されるメル
カプトアルコールとを塩基の存在下で反応させ、次いで
鉱酸の存在下にチオ尿素を反応させてイソチウロニウム
塩とした後、加水分解させることを特徴とする一般式
(Ia): 【化5】 (式中、mは前記と同じ)で表されるチオアニソール誘
導体の製造方法。 - 【請求項4】 一般式(II): 【化6】 (式中、X1 およびX2 は塩素原子、臭素原子またはヨ
ウ素原子を示す)で表される2,4−ビス(ハロゲノメ
チル)チオアニソールをチオ尿素と反応させてイソチウ
ロニウム塩とした後、加水分解させることを特徴とする
式(Ib): 【化7】 で表される2,4−ビス(メルカプトメチル)チオアニ
ソールの製造方法。 - 【請求項5】 一般式(IIa): 【化8】 (式中、Y1 およびY2 は塩素原子、臭素原子またはヨ
ウ素原子を示す。但し、Y1 およびY2 が共に塩素原子
である場合を除く)で表される2, 4−ビス(ハロゲノ
メチル)チオアニソール。 - 【請求項6】 チオアニソールに、ホルムアルデヒド誘
導体と無機ハロゲン化合物とを、脂肪酸溶媒中で鉱酸の
存在下に反応させることを特徴とする一般式(II): 【化9】 (式中、X1 およびX2 は塩素原子、臭素原子またはヨ
ウ素原子を示す。)で表される2,4−ビス(ハロゲノ
メチル)チオアニソールの製造方法。 - 【請求項7】 ホルムアルデヒド誘導体がパラホルムア
ルデヒド、トリオキサンまたはジメトキシメタンである
請求項6記載の製造方法。 - 【請求項8】 無機ハロゲン化合物が、塩化ナトリウ
ム、塩化カリウム、臭化ナトリウム、臭化カリウム、ヨ
ウ化ナトリウムおよびヨウ化カリウムからなる群から選
ばれた少なくとも1種である請求項6または7記載の製
造方法。 - 【請求項9】 鉱酸が硫酸である請求項6〜8いずれか
記載の製造方法。 - 【請求項10】 脂肪酸が炭素数2〜4の低級脂肪酸で
ある請求項6〜9いずれか記載の製造方法。 - 【請求項11】 低級脂肪酸が酢酸である請求項10記
載の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9150156A JPH10330352A (ja) | 1997-05-23 | 1997-05-23 | チオアニソール誘導体およびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9150156A JPH10330352A (ja) | 1997-05-23 | 1997-05-23 | チオアニソール誘導体およびその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10330352A true JPH10330352A (ja) | 1998-12-15 |
Family
ID=15490735
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9150156A Pending JPH10330352A (ja) | 1997-05-23 | 1997-05-23 | チオアニソール誘導体およびその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10330352A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001039944A (ja) * | 1999-07-27 | 2001-02-13 | Mitsui Chemicals Inc | 有機メルカプト化合物の製造方法 |
| JP2001342172A (ja) * | 2000-03-27 | 2001-12-11 | Mitsui Chemicals Inc | チオール化合物の製造方法 |
-
1997
- 1997-05-23 JP JP9150156A patent/JPH10330352A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001039944A (ja) * | 1999-07-27 | 2001-02-13 | Mitsui Chemicals Inc | 有機メルカプト化合物の製造方法 |
| JP2001342172A (ja) * | 2000-03-27 | 2001-12-11 | Mitsui Chemicals Inc | チオール化合物の製造方法 |
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