JPH1036576A - トリアルカノールアミントリスホスフィットで安定化された触媒残渣を含有するポリオレフィン - Google Patents
トリアルカノールアミントリスホスフィットで安定化された触媒残渣を含有するポリオレフィンInfo
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 重合に触媒又は共触媒として使用された結果
としての、遷移金属、主族金属又はその混合物の残渣を
含有するポリオレフィンの酸化、熱及び／又は光に対す
る安定化 【解決手段】 上記ポリオレフィンに安定化有効量の次
式Ｉ 【化１】 で表されるトリアルカノールアミントリスホスフィット
を配合する。好ましい式Ｉの化合物は、ｎが０、Ｑが直
接結合、Ｙ1 ，Ｙ2 ，Ｙ3 ，Ｙ4 ，Ｙ5 ，Ｙ6 ，Ｚ1 ，
Ｚ2 ，Ｚ3 ，Ｚ4 ，Ｚ5 ，及びＺ6 が各々第３ブチル
基、Ａ1 ，Ａ2 及びＡ3 がエチレン基である化合物であ
る。
としての、遷移金属、主族金属又はその混合物の残渣を
含有するポリオレフィンの酸化、熱及び／又は光に対す
る安定化 【解決手段】 上記ポリオレフィンに安定化有効量の次
式Ｉ 【化１】 で表されるトリアルカノールアミントリスホスフィット
を配合する。好ましい式Ｉの化合物は、ｎが０、Ｑが直
接結合、Ｙ1 ，Ｙ2 ，Ｙ3 ，Ｙ4 ，Ｙ5 ，Ｙ6 ，Ｚ1 ，
Ｚ2 ，Ｚ3 ，Ｚ4 ，Ｚ5 ，及びＺ6 が各々第３ブチル
基、Ａ1 ，Ａ2 及びＡ3 がエチレン基である化合物であ
る。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、トリアルカノール
アミントリスホスフィットの使用により安定化される触
媒残渣含有ポリオレフィンに関する。
アミントリスホスフィットの使用により安定化される触
媒残渣含有ポリオレフィンに関する。
【０００２】
【従来の技術】およそ１９３０年から１９５０年まで、
ポリエチレンは液相高圧フリーラジカル法〔Ｒ．Ｖ．Ｒ
ａｆｆ ａｎｄ Ｊ．Ｂ．Ａｌｌｉｓｏｎ，Ｐｏｌｙｅ
ｔｈｙｌｅｎｅ，Ｉｎｔｅｒｓｃｉｅｎｃｅ，Ｎｅｗ
Ｙｏｒｋ（１９５６）〕によつて製造された。１９５０
年代に、エチレンが遷移金属錯体を均一又は不均一触媒
として使用して重合することが見出された。これは種々
のタイプのポリエチレンホモポリマーを導いた〔Ｋ．Ｚ
ｉｅｇｌｅｒ ｅｔ ａｌ．Ａｎｇｅｗ．Ｃｈｅｍ．，
６７，５４１（１９５５）；Ｊ．Ｐ．Ｈｏｇａｎ ｅｔ
ａｌ．，ベルギー特許第５３０，６１７号（Ｊａｎｕ
ａｒｙ ２４，１９５５）；Ｄ．Ｊａｍｅｓ，Ｅｎｃｙ
ｃｌｏｐｅｄｉａ ｏｆ Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｓｃｉｅｎ
ｃｅ ａｎｄ Ｅｎｇｉｎｅｅｒｉｎｇ，１ｓｔＥ
ｄ．，Ｗｅｌｅｙ Ｉｎｔｅｒｓｃｉｅｎｃｅ，Ｎｅｗ
Ｙｏｒｋ，Ｖｏｌ．6,１９８６，ｐ４２９；及びＤ．
Ｌ．Ｂｅａｃｈ ｅｔ ａｌ．，ｉｂｉｄ．ｐ４５
４〕。立体規則性ポリプロピレンはその後まもなく見出
された〔Ｇ，Ｎａｔｔａ ｅｔ ａｌ．，Ｊ．Ａｍ．Ｃ
ｈｅｍ．Ｓｏｃ．，３７１７０８（１９５５）；Ｒ．
Ｂ．Ｌｉｅｂｅｒｍａｎ，Ｅｎｃｙｃｌｏｐｅｄｉａｏ
ｆ Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｓｃｉｅｎｃｅ ａｎｄ Ｅｎｇ
ｉｎｅｅｒｉｎｇ，１ｓｔＥｄ．，Ｗｅｌｅｙ−Ｉｎｔ
ｅｒｓｃｉｅｎｃｅ，Ｎｅｗ Ｙｏｒｋ，Ｖｏｌ．１
３，１９８６，ｐ４２９；及びＰ．Ｐｉｎｏ ｅｔａ
ｌ．，Ａｎｇｅｗ．Ｃｈｅｍ．，Ｉｎｔ．Ｅｄ．Ｅｎｇ
ｌ．，１９，８５７（１９８０）〕。
ポリエチレンは液相高圧フリーラジカル法〔Ｒ．Ｖ．Ｒ
ａｆｆ ａｎｄ Ｊ．Ｂ．Ａｌｌｉｓｏｎ，Ｐｏｌｙｅ
ｔｈｙｌｅｎｅ，Ｉｎｔｅｒｓｃｉｅｎｃｅ，Ｎｅｗ
Ｙｏｒｋ（１９５６）〕によつて製造された。１９５０
年代に、エチレンが遷移金属錯体を均一又は不均一触媒
として使用して重合することが見出された。これは種々
のタイプのポリエチレンホモポリマーを導いた〔Ｋ．Ｚ
ｉｅｇｌｅｒ ｅｔ ａｌ．Ａｎｇｅｗ．Ｃｈｅｍ．，
６７，５４１（１９５５）；Ｊ．Ｐ．Ｈｏｇａｎ ｅｔ
ａｌ．，ベルギー特許第５３０，６１７号（Ｊａｎｕ
ａｒｙ ２４，１９５５）；Ｄ．Ｊａｍｅｓ，Ｅｎｃｙ
ｃｌｏｐｅｄｉａ ｏｆ Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｓｃｉｅｎ
ｃｅ ａｎｄ Ｅｎｇｉｎｅｅｒｉｎｇ，１ｓｔＥ
ｄ．，Ｗｅｌｅｙ Ｉｎｔｅｒｓｃｉｅｎｃｅ，Ｎｅｗ
Ｙｏｒｋ，Ｖｏｌ．6,１９８６，ｐ４２９；及びＤ．
Ｌ．Ｂｅａｃｈ ｅｔ ａｌ．，ｉｂｉｄ．ｐ４５
４〕。立体規則性ポリプロピレンはその後まもなく見出
された〔Ｇ，Ｎａｔｔａ ｅｔ ａｌ．，Ｊ．Ａｍ．Ｃ
ｈｅｍ．Ｓｏｃ．，３７１７０８（１９５５）；Ｒ．
Ｂ．Ｌｉｅｂｅｒｍａｎ，Ｅｎｃｙｃｌｏｐｅｄｉａｏ
ｆ Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｓｃｉｅｎｃｅ ａｎｄ Ｅｎｇ
ｉｎｅｅｒｉｎｇ，１ｓｔＥｄ．，Ｗｅｌｅｙ−Ｉｎｔ
ｅｒｓｃｉｅｎｃｅ，Ｎｅｗ Ｙｏｒｋ，Ｖｏｌ．１
３，１９８６，ｐ４２９；及びＰ．Ｐｉｎｏ ｅｔａ
ｌ．，Ａｎｇｅｗ．Ｃｈｅｍ．，Ｉｎｔ．Ｅｄ．Ｅｎｇ
ｌ．，１９，８５７（１９８０）〕。
【０００３】過去４０年間に重合の研究及び技術の分野
においては、数々の革新的な進歩があつた〔Ｐ．Ｌｏｃ
ａｔｅｌｌｉ，Ｔｒｅｎｄｓ ｉｎ Ｐｏｌｙ．Ｓｃ
ｉ．，３，８７（１９９４）〕。今日、多くの種々のポ
リオレフィンホモポリマー及びコポリマーが存在する。
液相、スラリー、塊状及び気相反応装置のデザインに基
づく種々の重合方法が存在する〔Ｄ．Ｊａｍｅｓ，ｌｏ
ｃ ｃｉｔ；Ｄ．Ｌ．Ｂｅａｃｈ ｅｔ ａｌ．，ｌｏ
ｃ ｃｉｔ；Ｒ．Ｂ．Ｌｉｅｂｅｒｍａｎ，ｌｏｃ ｃ
ｉｔ；及びＰ．Ｐｉｎｏ ｅｔ ａｌ．，ｌｏｃ ｃｉ
ｔ〕。また、チタニウム、バナジウム、クロム、ジルコ
ニウムのようなオレフィン重合のための遷移金属をベー
スとする広範囲の触媒系が存在する。同様に、アルキル
アルミニウム化合物系をベースとする種々の共触媒が存
在する。触媒担体、立体規則性調整剤及び促進剤は、反
応速度及び重合反応において得られる立体規則性を改善
するために使用されるカギとなる薬剤である〔Ｍ．Ｆａ
ｒｉｎａ，Ｔｒｅｎｄｓ ｉｎ Ｐｏｌｙ．Ｓｃｉ．，
３，８０（１９９４）〕。
においては、数々の革新的な進歩があつた〔Ｐ．Ｌｏｃ
ａｔｅｌｌｉ，Ｔｒｅｎｄｓ ｉｎ Ｐｏｌｙ．Ｓｃ
ｉ．，３，８７（１９９４）〕。今日、多くの種々のポ
リオレフィンホモポリマー及びコポリマーが存在する。
液相、スラリー、塊状及び気相反応装置のデザインに基
づく種々の重合方法が存在する〔Ｄ．Ｊａｍｅｓ，ｌｏ
ｃ ｃｉｔ；Ｄ．Ｌ．Ｂｅａｃｈ ｅｔ ａｌ．，ｌｏ
ｃ ｃｉｔ；Ｒ．Ｂ．Ｌｉｅｂｅｒｍａｎ，ｌｏｃ ｃ
ｉｔ；及びＰ．Ｐｉｎｏ ｅｔ ａｌ．，ｌｏｃ ｃｉ
ｔ〕。また、チタニウム、バナジウム、クロム、ジルコ
ニウムのようなオレフィン重合のための遷移金属をベー
スとする広範囲の触媒系が存在する。同様に、アルキル
アルミニウム化合物系をベースとする種々の共触媒が存
在する。触媒担体、立体規則性調整剤及び促進剤は、反
応速度及び重合反応において得られる立体規則性を改善
するために使用されるカギとなる薬剤である〔Ｍ．Ｆａ
ｒｉｎａ，Ｔｒｅｎｄｓ ｉｎ Ｐｏｌｙ．Ｓｃｉ．，
３，８０（１９９４）〕。
【０００４】多分、オレフィン重合触媒における最も興
味をそそる発展は、メタロセン化合物を使用するシング
ルサイト触媒の発展にある〔Ｗ．Ｋａｍｉｎｓｋｙ，Ｃ
ａｔａｌ．Ｔｏｄａｙ，２０，２５７（１９９４）〕。
この重合の化学の比較的新しい分野は、最初、アルミニ
ウムアルキル類、アルミノキサン類又はアニオン性非配
位ボロン試薬に基づく共触媒と、チタニウムやジルコニ
ウムのような初期の遷移金属触媒に基づくものであつた
〔Ａ．Ｄ．Ｈｏｒｔｏｎ，Ｔｒｅｎｄ ｉｎＰｏｌｙ．
Ｓｃｉ．，２，１５８（１９９４）〕。
味をそそる発展は、メタロセン化合物を使用するシング
ルサイト触媒の発展にある〔Ｗ．Ｋａｍｉｎｓｋｙ，Ｃ
ａｔａｌ．Ｔｏｄａｙ，２０，２５７（１９９４）〕。
この重合の化学の比較的新しい分野は、最初、アルミニ
ウムアルキル類、アルミノキサン類又はアニオン性非配
位ボロン試薬に基づく共触媒と、チタニウムやジルコニ
ウムのような初期の遷移金属触媒に基づくものであつた
〔Ａ．Ｄ．Ｈｏｒｔｏｎ，Ｔｒｅｎｄ ｉｎＰｏｌｙ．
Ｓｃｉ．，２，１５８（１９９４）〕。
【０００５】初期の遷移金属触媒によるオレフィン重合
の化学においては、主に触媒残渣の脱活性化に努力がは
らわれた〔Ｄ．Ｊａｍｅｓ，ｌｏｃ ｃｉｔ；Ｒ．Ｂ．
Ｌｉｅｂｅｒｍａｎ，ｌｏｃ ｃｉｔ〕。触媒残渣のレ
ベルが高くそしてその影響がポリマーの使用安定性に対
して全く有害であることが見出されたので、触媒の除去
又は脱活性化は必要であると考えられた。過去における
触媒脱活性化の一つのアプローチは、ポリマー反応生成
物のアルカリ水又はアルコール溶液での処理、それに続
く溶解した脱活性化触媒を除去するための強力の洗浄工
程にあつた。液相プロセスにおける他のアプローチは、
溶融ポリマーをキレート化剤で処理して触媒を脱活性化
及び沈澱させ、続いてろ過又は吸着工程により変換した
触媒成分を除去することにあつた。これらのアプローチ
は明白に時間を浪費し、エネルギー消費するものである
が、得られる精製ポリマーは有害な不純物特に触媒残渣
の除去後に通常の抗酸化剤で有意義に容易に安定化され
た。ポリエチレン及びポリプロピレンの両者に対する高
い要求は、最終製品の価格に組み込まれるそのような残
渣の除去に関係するコストを許容した。
の化学においては、主に触媒残渣の脱活性化に努力がは
らわれた〔Ｄ．Ｊａｍｅｓ，ｌｏｃ ｃｉｔ；Ｒ．Ｂ．
Ｌｉｅｂｅｒｍａｎ，ｌｏｃ ｃｉｔ〕。触媒残渣のレ
ベルが高くそしてその影響がポリマーの使用安定性に対
して全く有害であることが見出されたので、触媒の除去
又は脱活性化は必要であると考えられた。過去における
触媒脱活性化の一つのアプローチは、ポリマー反応生成
物のアルカリ水又はアルコール溶液での処理、それに続
く溶解した脱活性化触媒を除去するための強力の洗浄工
程にあつた。液相プロセスにおける他のアプローチは、
溶融ポリマーをキレート化剤で処理して触媒を脱活性化
及び沈澱させ、続いてろ過又は吸着工程により変換した
触媒成分を除去することにあつた。これらのアプローチ
は明白に時間を浪費し、エネルギー消費するものである
が、得られる精製ポリマーは有害な不純物特に触媒残渣
の除去後に通常の抗酸化剤で有意義に容易に安定化され
た。ポリエチレン及びポリプロピレンの両者に対する高
い要求は、最終製品の価格に組み込まれるそのような残
渣の除去に関係するコストを許容した。
【０００６】最近、多くのケースにおいては、触媒残渣
は脱活性化／除去処理を僅かに又は行うことなしでポリ
マー中に残存させている。これは、十分なそして満足し
うる安定化効能を提供するために触媒残渣を含有するポ
リマーに使用される何等かの安定剤に添加負担を向け
る。
は脱活性化／除去処理を僅かに又は行うことなしでポリ
マー中に残存させている。これは、十分なそして満足し
うる安定化効能を提供するために触媒残渣を含有するポ
リマーに使用される何等かの安定剤に添加負担を向け
る。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】米国特許第５，４８
８，０７９号は、チーグラー又はメタロセン型触媒の存
在下に製造され、触媒がポリオレフィンから除去されな
かったポリオレフィン組成物がトリス（２，４−ジ−ｔ
−ブチルフェニル）ホスフィンのような置換されたホス
フィンの添加により安定化されることを教示している。
米国特許第５，２３８，９７９及びヨーロッパ特許出願
３９３，０３０号はチーグラー型錯触媒残渣を含有する
ポリオレフィン樹脂に使用するために環状モノホスフィ
ットの使用を開示している。本発明は、上記先行技術で
ある米国特許第５，２３８，９７９号の化合物とは構造
的に非常に異なったトリアルカノールアミントリホスフ
ィットの使用を開示する。ポリオレフィンの安定化に有
用なトリアルカノールアミントリホスフィットは、米国
特許第５，２７６，０７６；５，３２６，８０２；５，
３３１，０３１；５，３３４，７３９；５，３４４，８
６０；５，３７３，０４０；５，４０５，８９３；５，
４８９，６３５又は５，４８９，６３６に記載されてい
る。
８，０７９号は、チーグラー又はメタロセン型触媒の存
在下に製造され、触媒がポリオレフィンから除去されな
かったポリオレフィン組成物がトリス（２，４−ジ−ｔ
−ブチルフェニル）ホスフィンのような置換されたホス
フィンの添加により安定化されることを教示している。
米国特許第５，２３８，９７９及びヨーロッパ特許出願
３９３，０３０号はチーグラー型錯触媒残渣を含有する
ポリオレフィン樹脂に使用するために環状モノホスフィ
ットの使用を開示している。本発明は、上記先行技術で
ある米国特許第５，２３８，９７９号の化合物とは構造
的に非常に異なったトリアルカノールアミントリホスフ
ィットの使用を開示する。ポリオレフィンの安定化に有
用なトリアルカノールアミントリホスフィットは、米国
特許第５，２７６，０７６；５，３２６，８０２；５，
３３１，０３１；５，３３４，７３９；５，３４４，８
６０；５，３７３，０４０；５，４０５，８９３；５，
４８９，６３５又は５，４８９，６３６に記載されてい
る。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明は、触媒残渣を含
有し、トリアルカノールアミントリスホスフィットの安
定化有効量により酸化，熱及び／又は光に起因する劣化
に対して安定化されているポリオレフィン組成物に関す
る。より特定的には、本発明は、 ａ）ポリオレフィンの重合をもたらす触媒又は共触媒と
して使用された結果としての、少なくとも１種の遷移金
属、主族金属又はその混合物の残渣を１０乃至１０００
ｐｐｍの量において含有する、酸化、熱及び／又は光に
起因する劣化を受けるポリオレフィン，及び ｂ）安定化有効量の次式Ｉ
有し、トリアルカノールアミントリスホスフィットの安
定化有効量により酸化，熱及び／又は光に起因する劣化
に対して安定化されているポリオレフィン組成物に関す
る。より特定的には、本発明は、 ａ）ポリオレフィンの重合をもたらす触媒又は共触媒と
して使用された結果としての、少なくとも１種の遷移金
属、主族金属又はその混合物の残渣を１０乃至１０００
ｐｐｍの量において含有する、酸化、熱及び／又は光に
起因する劣化を受けるポリオレフィン，及び ｂ）安定化有効量の次式Ｉ
【化２】 〔式中、ｎは０又は１を表し、ｎが０の場合、Ｑは直接
結合を表し、又はｎが１の場合、Ｑは−Ｓ−又は−ＣＲ
1 Ｒ2 −（Ｒ1 及びＲ2 は、独立して水素原子，炭素原
子数１乃至１８の直鎖又は分岐鎖アルキル基，フェニル
基，トリル基又はアニシル基を表す。）を表し、Ｙ1 ，
Ｙ2 ，Ｙ3 ，Ｙ4 ，Ｙ5 ，Ｙ6 ，Ｚ1 ，Ｚ2 ，Ｚ3 ，Ｚ
4 ，Ｚ5 ，及びＺ6 は、独立して水素原子，炭素原子数
１乃至１８の直鎖又は分岐鎖アルキル基，炭素原子数７
乃至１０のビシクロアルキル基，フェニル基，ベンジル
基、１−フェニルエチル基，シクロヘキシル基，１−メ
チルシクロヘキシル基，シアノ基，ハロゲン原子，ニト
ロ基，トリフルオロメチル基，ヒドロキシル基，アミノ
基，炭素原子数２乃至１８のアルカノイル基，炭素原子
数１乃至１８のアルコキシ基又はＥ1 Ｅ2 Ｅ3 Ｓｉ（Ｅ
1 Ｅ2 及びＥ3 は、独立して水素原子，炭素原子数１乃
至４のアルキル基又はフェニル基を表す。）を表し、そ
してＡ1 ，Ａ2 及びＡ3 は、立体中心を有し、独立して
炭素原子数１乃至１８の直鎖又は分岐アルキレン基，炭
素原子数５乃至６のシクロアルキレン基又は炭素原子数
１乃至８の分岐鎖アルキレン基を表す。〕で表される化
合物からなる組成物に関する。
結合を表し、又はｎが１の場合、Ｑは−Ｓ−又は−ＣＲ
1 Ｒ2 −（Ｒ1 及びＲ2 は、独立して水素原子，炭素原
子数１乃至１８の直鎖又は分岐鎖アルキル基，フェニル
基，トリル基又はアニシル基を表す。）を表し、Ｙ1 ，
Ｙ2 ，Ｙ3 ，Ｙ4 ，Ｙ5 ，Ｙ6 ，Ｚ1 ，Ｚ2 ，Ｚ3 ，Ｚ
4 ，Ｚ5 ，及びＺ6 は、独立して水素原子，炭素原子数
１乃至１８の直鎖又は分岐鎖アルキル基，炭素原子数７
乃至１０のビシクロアルキル基，フェニル基，ベンジル
基、１−フェニルエチル基，シクロヘキシル基，１−メ
チルシクロヘキシル基，シアノ基，ハロゲン原子，ニト
ロ基，トリフルオロメチル基，ヒドロキシル基，アミノ
基，炭素原子数２乃至１８のアルカノイル基，炭素原子
数１乃至１８のアルコキシ基又はＥ1 Ｅ2 Ｅ3 Ｓｉ（Ｅ
1 Ｅ2 及びＥ3 は、独立して水素原子，炭素原子数１乃
至４のアルキル基又はフェニル基を表す。）を表し、そ
してＡ1 ，Ａ2 及びＡ3 は、立体中心を有し、独立して
炭素原子数１乃至１８の直鎖又は分岐アルキレン基，炭
素原子数５乃至６のシクロアルキレン基又は炭素原子数
１乃至８の分岐鎖アルキレン基を表す。〕で表される化
合物からなる組成物に関する。
【０００９】Ｒ1 又はＲ2 ，Ｙ1 乃至Ｙ6 ，Ｚ1 乃至Ｚ
6 及びＡ1 乃至Ａ3 のいずれかが、１乃至１８の炭素原
子を有する直鎖又は分岐鎖アルキル基である時、そのよ
うなアルキル基は、例えば、メチル，エチル，イソプロ
ピル，ｎ−ブチル，イソブチル，第３ブチル，第３アミ
ル，２−エチルヘキシル，ｎ−オクチル，第３オクチ
ル，ラウリル，ｎ−オクタデシル，エイコシル及び第３
アコンチル基であり：前記基が炭素原子数７〜１０のビ
シクロアルキル基である時、それらは、例えば、イソボ
ルニル又はアダマンチル基であり：前記基がハロゲン原
子である時、それらは、例えばフッ素，塩素又は臭素原
子であり：前記基が炭素原子数２〜１８のアルカノイル
基である時、それらは、例えば、アセチル、プロピオニ
ル，ブチリル又はドデカノイル基であり：前記基が炭素
原子数１〜１８のアルコキシ基である時、それらは、例
えば、メトキシ，エトキシ，プロポキシ，ｎ−ブトキ
シ，ｎ−ペントキシ，ヘキシルオキシ，ヘプチルオキシ
又はデシロキシ基を表す。
6 及びＡ1 乃至Ａ3 のいずれかが、１乃至１８の炭素原
子を有する直鎖又は分岐鎖アルキル基である時、そのよ
うなアルキル基は、例えば、メチル，エチル，イソプロ
ピル，ｎ−ブチル，イソブチル，第３ブチル，第３アミ
ル，２−エチルヘキシル，ｎ−オクチル，第３オクチ
ル，ラウリル，ｎ−オクタデシル，エイコシル及び第３
アコンチル基であり：前記基が炭素原子数７〜１０のビ
シクロアルキル基である時、それらは、例えば、イソボ
ルニル又はアダマンチル基であり：前記基がハロゲン原
子である時、それらは、例えばフッ素，塩素又は臭素原
子であり：前記基が炭素原子数２〜１８のアルカノイル
基である時、それらは、例えば、アセチル、プロピオニ
ル，ブチリル又はドデカノイル基であり：前記基が炭素
原子数１〜１８のアルコキシ基である時、それらは、例
えば、メトキシ，エトキシ，プロポキシ，ｎ−ブトキ
シ，ｎ−ペントキシ，ヘキシルオキシ，ヘプチルオキシ
又はデシロキシ基を表す。
【００１０】Ａ1 乃至Ａ3 が炭素原子数５乃至６のシク
ロアルキレン基である場合、それらは、例えば、１，２
−シクロペンチレン，１，３−シクロペンチレン，１，
２−シクロヘキシレン，１，３−シクロヘキシレン又は
１，４−シクロヘキシレン基であり：前記基が、炭素原
子数１乃至１８の直鎖又は分岐アルキレンである場合に
は、それらは、例えば、メチレン，エチレン，プロピレ
ン，ブチレン，ペンチレン，ヘキシレン，ヘプチレン，
オクチレン，ノニレン，デシレン，ウンデシレン又はド
デシレン基である。
ロアルキレン基である場合、それらは、例えば、１，２
−シクロペンチレン，１，３−シクロペンチレン，１，
２−シクロヘキシレン，１，３−シクロヘキシレン又は
１，４−シクロヘキシレン基であり：前記基が、炭素原
子数１乃至１８の直鎖又は分岐アルキレンである場合に
は、それらは、例えば、メチレン，エチレン，プロピレ
ン，ブチレン，ペンチレン，ヘキシレン，ヘプチレン，
オクチレン，ノニレン，デシレン，ウンデシレン又はド
デシレン基である。
【００１１】（ｂ）成分が、ｎは、０又１を表し；ｎが
０の場合、Ｑは直接結合を表し、又はｎが１の場合、Ｑ
はメチレン基又はエチリデン基を表し、Ｙ1 ，Ｙ2 ，Ｙ
3 ，Ｙ4 ，Ｙ5 ，Ｙ6 ，Ｚ1 ，Ｚ2 ，Ｚ3 ，Ｚ4 ，
Ｚ5 ，及びＺ 6 は、各々第３ブチル基を表し、そしてＡ
1 ，Ａ2 及びＡ3 は、各々エチレン基又は第２級炭素原
子が酸素原子に結合している２−プロピレン基を表す組
成物が好ましい。
０の場合、Ｑは直接結合を表し、又はｎが１の場合、Ｑ
はメチレン基又はエチリデン基を表し、Ｙ1 ，Ｙ2 ，Ｙ
3 ，Ｙ4 ，Ｙ5 ，Ｙ6 ，Ｚ1 ，Ｚ2 ，Ｚ3 ，Ｚ4 ，
Ｚ5 ，及びＺ 6 は、各々第３ブチル基を表し、そしてＡ
1 ，Ａ2 及びＡ3 は、各々エチレン基又は第２級炭素原
子が酸素原子に結合している２−プロピレン基を表す組
成物が好ましい。
【００１２】特に興味のある組成物は、（ｂ）成分が、
ｎは０を表しＱは直接結合を表し、Ｙ1 ，Ｙ2 ，Ｙ3 ，
Ｙ4 ，Ｙ5 ，Ｙ6 ，Ｚ1 ，Ｚ2 ，Ｚ3 ，Ｚ4 ，Ｚ5 ，及
びＺ6 は、各々第３ブチル基を表し、そしてＡ1 ，Ａ2
及びＡ3 は各々エチレン基を表す組成物である。
ｎは０を表しＱは直接結合を表し、Ｙ1 ，Ｙ2 ，Ｙ3 ，
Ｙ4 ，Ｙ5 ，Ｙ6 ，Ｚ1 ，Ｚ2 ，Ｚ3 ，Ｚ4 ，Ｚ5 ，及
びＺ6 は、各々第３ブチル基を表し、そしてＡ1 ，Ａ2
及びＡ3 は各々エチレン基を表す組成物である。
【００１３】ハロゲン含有マグネシウム化合物に担持さ
れたチーグラー型錯触媒は、担持されない触媒（そのよ
うな触媒系は、ジエチルアルミニウムモノクロライド及
び四塩化チタンを金属アルミニウムで還元し、反応生成
物を粉砕することにより製造された活性化された三塩化
チタン−塩化アルミニウム混合物からなる。）を使用し
た場合に得られる収量の数百倍から数千倍の範囲の収量
のポリマー（触媒の主成分である遷移金属，例えばチタ
ニウムの与えられた量当たり）を与える。そのような触
媒系は、先に述べたように得られるポリオレフイン樹脂
から除去される触媒残渣をもたらす。そのような担持さ
れた触媒は、触媒の主成分である遷移金属の量当たり高
いポリマー収量をもたらすので、担体に担持された遷移
金属の濃度は低い。担体に担持された遷移金属の量は、
固体触媒成分の重量の１％から１０％以下である。担持
触媒の重量当たりのポリマーの収量は数千から数万倍で
ある。
れたチーグラー型錯触媒は、担持されない触媒（そのよ
うな触媒系は、ジエチルアルミニウムモノクロライド及
び四塩化チタンを金属アルミニウムで還元し、反応生成
物を粉砕することにより製造された活性化された三塩化
チタン−塩化アルミニウム混合物からなる。）を使用し
た場合に得られる収量の数百倍から数千倍の範囲の収量
のポリマー（触媒の主成分である遷移金属，例えばチタ
ニウムの与えられた量当たり）を与える。そのような触
媒系は、先に述べたように得られるポリオレフイン樹脂
から除去される触媒残渣をもたらす。そのような担持さ
れた触媒は、触媒の主成分である遷移金属の量当たり高
いポリマー収量をもたらすので、担体に担持された遷移
金属の濃度は低い。担体に担持された遷移金属の量は、
固体触媒成分の重量の１％から１０％以下である。担持
触媒の重量当たりのポリマーの収量は数千から数万倍で
ある。
【００１４】先に述べたように、樹脂中に残存する担体
及び触媒残渣はポリオレフィンの安定性に有害な影響を
もたらす。斯くして、熱安定性、臭気、色、耐腐蝕性、
耐候性其の他成形されたポリマー製品の物性は、触媒残
渣として依然としてポリマー中に存在するマグネシウ
ム，アルミニウム及び他の共触媒成分によつて害される
であろう。貧弱な耐候性の問題は、これらの成形された
ポリオレフィン樹脂製品が屋外において大量に使用され
るので特に重大である。
及び触媒残渣はポリオレフィンの安定性に有害な影響を
もたらす。斯くして、熱安定性、臭気、色、耐腐蝕性、
耐候性其の他成形されたポリマー製品の物性は、触媒残
渣として依然としてポリマー中に存在するマグネシウ
ム，アルミニウム及び他の共触媒成分によつて害される
であろう。貧弱な耐候性の問題は、これらの成形された
ポリオレフィン樹脂製品が屋外において大量に使用され
るので特に重大である。
【００１５】ポリオレフィン中に見出される触媒残渣の
量は、１０〜１０００ｐｐｍ，好ましくは１０〜５００
ｐｐｍ，特に好ましくは１０〜１００ｐｐｍである。
量は、１０〜１０００ｐｐｍ，好ましくは１０〜５００
ｐｐｍ，特に好ましくは１０〜１００ｐｐｍである。
【００１６】本発明に従う好ましい組成物は、触媒残渣
がアルミニウム，硼素，チタニウム，ジルコニウム，ク
ロム，バナジウム又はそれらの混合物を含有する成分
（ａ）を含む。アルミニウム残渣が本発明に関しては特
に重要である。
がアルミニウム，硼素，チタニウム，ジルコニウム，ク
ロム，バナジウム又はそれらの混合物を含有する成分
（ａ）を含む。アルミニウム残渣が本発明に関しては特
に重要である。
【００１７】一般に安定化することのできるポリオレフ
ィンは下記のものを含む。 １．モノオレフィンおよびジオレフィンのポリマー、例
えばポリプロピレン、ポリイソブチレン、ポリブテン−
１、ポリ−４−メチルペンテン−１、ポリイソプレンま
たはポリブタジエン、ならびにシクロオレフィン例えば
シクロペンテンまたはノルボルネンのポリマー、（所望
により架橋結合できる）ポリエチレン、例えば高密度ポ
リエチレン（ＨＤＰＥ）、高密度高分子量ポリエチレン
（ＨＤＰＥ−ＨＭＷ）、高密度超高分子量ポリエチレン
（ＨＤＰＥ−ＵＨＭＷ）、中密度ポリエチレン（ＭＤＰ
Ｅ）、低密度ポリエチレン（ＬＤＰＥ）、線状低密度ポ
リエチレン（ＬＬＤＰＥ）及び枝分れ低密度ポリエチレ
ン（ＢＬＤＰＥ）。
ィンは下記のものを含む。 １．モノオレフィンおよびジオレフィンのポリマー、例
えばポリプロピレン、ポリイソブチレン、ポリブテン−
１、ポリ−４−メチルペンテン−１、ポリイソプレンま
たはポリブタジエン、ならびにシクロオレフィン例えば
シクロペンテンまたはノルボルネンのポリマー、（所望
により架橋結合できる）ポリエチレン、例えば高密度ポ
リエチレン（ＨＤＰＥ）、高密度高分子量ポリエチレン
（ＨＤＰＥ−ＨＭＷ）、高密度超高分子量ポリエチレン
（ＨＤＰＥ−ＵＨＭＷ）、中密度ポリエチレン（ＭＤＰ
Ｅ）、低密度ポリエチレン（ＬＤＰＥ）、線状低密度ポ
リエチレン（ＬＬＤＰＥ）及び枝分れ低密度ポリエチレ
ン（ＢＬＤＰＥ）。
【００１８】２． １．に記載したポリマーの混合物、
例えばポリプロピレンとポリイソブチレンとの混合物、
ポリプロピレンとポリエチレンとの混合物（例えばＰＰ
／ＨＤＰＥ、ＰＰ／ＬＤＰＥ）およびポリエチレンの種
々のタイプの混合物（例えば、ＬＤＰＥ／ＨＤＰＥ）。
例えばポリプロピレンとポリイソブチレンとの混合物、
ポリプロピレンとポリエチレンとの混合物（例えばＰＰ
／ＨＤＰＥ、ＰＰ／ＬＤＰＥ）およびポリエチレンの種
々のタイプの混合物（例えば、ＬＤＰＥ／ＨＤＰＥ）。
【００１９】３．モノオレフィンとジオレフィン相互ま
たは他のビニルモノマーとのコポリマー、例えばエチレ
ン／プロピレンコポリマー、線状低密度ポリエチレン
（ＬＬＤＰＥ）およびその低密度ポリエチレン（ＬＤＰ
Ｅ）との混合物、プロピレン／ブテン−１コポリマー、
プロピレン／イソブチレンコポリマー、エチレン／ブテ
ン−１コポリマー、エチレン／ヘキセンコポリマー、エ
チレン／メチルペンテンコポリマー、エチレン／ヘプテ
ンコポリマー、エチレン／オクテンコポリマー、プロピ
レン／ブタジエンコポリマー、イソブチレン／イソプレ
ンコポリマー、エチレン／アルキルアクリレートコポリ
マー、エチレン／アルキルメタクリレートコポリマー、
エチレン／ビニルアセテートコポリマーおよびそれらコ
ポリマーと一酸化炭素のコポリマーまたはエチレン／ア
クリル酸コポリマーおよびそれらの塩類（アイオノマ
ー）およびエチレンとプロピレンとジエン例えばヘキサ
ジエン、ジシクロペンタジエンまたはエチリデン−ノル
ボルネンとのターポリマー；ならびに前記コポリマー相
互の混合物および１．に記載したポリマーとの混合物、
例えばポリプロピレン−エチレン／プロピレン−コポリ
マー、ＬＤＰＥ／エチレン−ビニルアセテート（ＥＶ
Ａ）コポリマー、ＬＤＰＥ／エチレン−アクリル酸（Ｅ
ＡＡ）コポリマー、ＬＬＤＰＥ／ＥＶＡ、ＬＬＤＰＥ／
ＥＡＡならびに交互またはランダムのポリアルキレン／
一酸化炭素コポリマー；ならびに他のポリマー、例えば
ポリアミドとそれらの混合物。
たは他のビニルモノマーとのコポリマー、例えばエチレ
ン／プロピレンコポリマー、線状低密度ポリエチレン
（ＬＬＤＰＥ）およびその低密度ポリエチレン（ＬＤＰ
Ｅ）との混合物、プロピレン／ブテン−１コポリマー、
プロピレン／イソブチレンコポリマー、エチレン／ブテ
ン−１コポリマー、エチレン／ヘキセンコポリマー、エ
チレン／メチルペンテンコポリマー、エチレン／ヘプテ
ンコポリマー、エチレン／オクテンコポリマー、プロピ
レン／ブタジエンコポリマー、イソブチレン／イソプレ
ンコポリマー、エチレン／アルキルアクリレートコポリ
マー、エチレン／アルキルメタクリレートコポリマー、
エチレン／ビニルアセテートコポリマーおよびそれらコ
ポリマーと一酸化炭素のコポリマーまたはエチレン／ア
クリル酸コポリマーおよびそれらの塩類（アイオノマ
ー）およびエチレンとプロピレンとジエン例えばヘキサ
ジエン、ジシクロペンタジエンまたはエチリデン−ノル
ボルネンとのターポリマー；ならびに前記コポリマー相
互の混合物および１．に記載したポリマーとの混合物、
例えばポリプロピレン−エチレン／プロピレン−コポリ
マー、ＬＤＰＥ／エチレン−ビニルアセテート（ＥＶ
Ａ）コポリマー、ＬＤＰＥ／エチレン−アクリル酸（Ｅ
ＡＡ）コポリマー、ＬＬＤＰＥ／ＥＶＡ、ＬＬＤＰＥ／
ＥＡＡならびに交互またはランダムのポリアルキレン／
一酸化炭素コポリマー；ならびに他のポリマー、例えば
ポリアミドとそれらの混合物。
【００２０】本発明の好ましいポリオレフィンポリマー
は、プロピレン又はエチレンのホモポリマー又はコポリ
マーであり、最も好ましいポリオレフィンはポリプロピ
レン又はポリエチレンである。なかでも特に好ましいも
のは、（ａ）成分として、脱灰乃至関連する触媒残渣含
量を低減させる工程を行っていないポリオレフィンから
なる組成物である。式Ｉの化合物は好ましくは、成分
（ａ）の重量の基づいて０．０１〜５％、典型的には
０．０５〜３％、最も好ましくは０．０５〜１％であ
る。
は、プロピレン又はエチレンのホモポリマー又はコポリ
マーであり、最も好ましいポリオレフィンはポリプロピ
レン又はポリエチレンである。なかでも特に好ましいも
のは、（ａ）成分として、脱灰乃至関連する触媒残渣含
量を低減させる工程を行っていないポリオレフィンから
なる組成物である。式Ｉの化合物は好ましくは、成分
（ａ）の重量の基づいて０．０１〜５％、典型的には
０．０５〜３％、最も好ましくは０．０５〜１％であ
る。
【００２１】式Ｉの化合物に加えて、本発明の組成物は
更に典型的には次のような共添加剤（共安定剤）を含有
することができる。１．酸化防止剤 １．１ アルキル化モノフェノール 、例えば２，６−ジ
−第三ブチル−４−メチルフェノール、２−第三ブチル
−４，６−ジメチルフェノール、２，６−ジ−第三ブチ
ル−４−エチルフェノール、２，６−ジ−第三ブチル−
４−ｎ−ブチルフェノール、２，６−ジ−第三ブチル−
４−イソブチルフェノール、２，６−ジ−シクロペンチ
ル−４−メチルフェノ−ル、２−（α−メチルシクロヘ
キシル）−４，６−ジメチルフェノール、２，６−ジオ
クタデシル−４−メチルフェノ−ル、２，４，６−トリ
シクロヘキシルフェノール、２，６−ジ−第三ブチル−
４−メトキシメチルフェノール、直鎖のまたは側鎖に枝
分かれしているノニルフェノール例えば２，６−ジノニ
ル−４−メチルフェノール、２，４−ジメチル−６−
（１′−メチル−ウンデカ−１′−イル）−フェノー
ル、２，４−ジメチル−６−（１′−メチル−ヘプタデ
カ−１′−イル）−フェノール、２，４−ジメチル−６
−（１′−メチル−トリデカ−１′−イル）−フェノー
ルおよびそれらの混合物。
更に典型的には次のような共添加剤（共安定剤）を含有
することができる。１．酸化防止剤 １．１ アルキル化モノフェノール 、例えば２，６−ジ
−第三ブチル−４−メチルフェノール、２−第三ブチル
−４，６−ジメチルフェノール、２，６−ジ−第三ブチ
ル−４−エチルフェノール、２，６−ジ−第三ブチル−
４−ｎ−ブチルフェノール、２，６−ジ−第三ブチル−
４−イソブチルフェノール、２，６−ジ−シクロペンチ
ル−４−メチルフェノ−ル、２−（α−メチルシクロヘ
キシル）−４，６−ジメチルフェノール、２，６−ジオ
クタデシル−４−メチルフェノ−ル、２，４，６−トリ
シクロヘキシルフェノール、２，６−ジ−第三ブチル−
４−メトキシメチルフェノール、直鎖のまたは側鎖に枝
分かれしているノニルフェノール例えば２，６−ジノニ
ル−４−メチルフェノール、２，４−ジメチル−６−
（１′−メチル−ウンデカ−１′−イル）−フェノー
ル、２，４−ジメチル−６−（１′−メチル−ヘプタデ
カ−１′−イル）−フェノール、２，４−ジメチル−６
−（１′−メチル−トリデカ−１′−イル）−フェノー
ルおよびそれらの混合物。
【００２２】１．２．アルキルチオメチルフェノール、
例えば２，４−ジ−オクチルチオメチル−６−第三ブチ
ルフェノール、２，４−ジ−オクチルチオメチル−６−
メチルフェノール、２，４−ジ−オクチルチオメチル−
６−エチルフェノール、２，６−ジ−ドデシルチオメチ
ル−４−ノニルフェノール。
例えば２，４−ジ−オクチルチオメチル−６−第三ブチ
ルフェノール、２，４−ジ−オクチルチオメチル−６−
メチルフェノール、２，４−ジ−オクチルチオメチル−
６−エチルフェノール、２，６−ジ−ドデシルチオメチ
ル−４−ノニルフェノール。
【００２３】１．３ ヒドロキノンとアルキル化ヒドロ
キノン、例えば２，６−ジ−第三ブチル−４−メトキシ
フェノール、２，５−ジ−第三ブチル−ヒドロキノン、
２，５−ジ−第三−アミル−ヒドロキノン、２，６−ジ
フェニル−４−オクタデシルオキシフェノール、２，６
−ジ−第三ブチル−ヒドロキノン、２，５−ジ−第三ブ
チル−４−ヒドロキシアニソール、３，５−ジ−第三ブ
チル−４−ヒドロキシアニソール、３，５−ジ−第三ブ
チル−４−ヒドロキシフェニルステアレート、ビス
（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）
アジペート。
キノン、例えば２，６−ジ−第三ブチル−４−メトキシ
フェノール、２，５−ジ−第三ブチル−ヒドロキノン、
２，５−ジ−第三−アミル−ヒドロキノン、２，６−ジ
フェニル−４−オクタデシルオキシフェノール、２，６
−ジ−第三ブチル−ヒドロキノン、２，５−ジ−第三ブ
チル−４−ヒドロキシアニソール、３，５−ジ−第三ブ
チル−４−ヒドロキシアニソール、３，５−ジ−第三ブ
チル−４−ヒドロキシフェニルステアレート、ビス
（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）
アジペート。
【００２４】１．４ トコフェロール、例えばα−トコ
フェロール、β−トコフェロール、γ−トコフェロー
ル、δ−トコフェロールおよびそれらの混合物（ビタミ
ンＥ）。
フェロール、β−トコフェロール、γ−トコフェロー
ル、δ−トコフェロールおよびそれらの混合物（ビタミ
ンＥ）。
【００２５】１．５ ヒドロキシル化チオジフェニルエ
ーテル、例えば２，２′−チオビス（６−第三ブチル−
４−メチルフェノール）、２，２′−チオビス（４−オ
クチルフェノール）、４，４′−チオビス（６−第三ブ
チル−３−メチルフェノール）、４，４′−チオビス
（６−第三ブチル−２−メチルフェノール）、４，４′
−チオ−ビス（３，６−ジ−第二−アミルフェノー
ル）、４，４′−ビス（２，６−ジメチル−４−ヒドロ
キシフェニル）−ジスルフィド。
ーテル、例えば２，２′−チオビス（６−第三ブチル−
４−メチルフェノール）、２，２′−チオビス（４−オ
クチルフェノール）、４，４′−チオビス（６−第三ブ
チル−３−メチルフェノール）、４，４′−チオビス
（６−第三ブチル−２−メチルフェノール）、４，４′
−チオ−ビス（３，６−ジ−第二−アミルフェノー
ル）、４，４′−ビス（２，６−ジメチル−４−ヒドロ
キシフェニル）−ジスルフィド。
【００２６】１．６ アルキリデンビスフェノール、例
えば２，２′−メチレン−ビス（６−第三ブチル−４−
メチルフェノール）、２，２′−メチレン−ビス（６−
第三ブチル−４−エチルフェノール）、２，２′−メチ
レン−ビス［４−メチル−６−（α−メチルシクロヘキ
シル）フェノール］、２，２′−メチレン−ビス（４−
メチル−６−シクロヘキシルフェノール）、２，２′−
メチレン−ビス（６−ノニル−４−メチルフェノー
ル）、２，２′−メチレン−ビス（４，６−ジ−第三ブ
チルフェノール）、２，２′−エチリデン−ビス（４，
６−ジ−第三ブチルフェノール）、２，２′−エチリデ
ン−ビス（６−第三ブチル−４−イソブチルフェノー
ル）、２，２′−メチレン−ビス [６−（α−メチルベ
ンジル）−４−ノニルフェノール] 、２，２′−メチレ
ン−ビス [６−（α，α−ジメチルベンジル）−４−ノ
ニルフェノール] 、４，４′−メチレン−ビス（２，６
−ジ−第三ブチルフェノール）、４，４′−メチレン−
ビス（６−第三ブチル−２−メチルフェノール）、１，
１−ビス（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチ
ルフェニル）ブタン、２，６−ビス（３−第三ブチル−
５−メチル−２−ヒドロキシベンジル）−４−メチルフ
ェノール、１，１，３−トリス（５−第三ブチル−４−
ヒドロキシ−２−メチルフェニル）ブタン、１，１−ビ
ス（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェ
ニル）−３−ｎ−ドデシルメルカプトブタン、エチレン
グリコールビス［３，３−ビス（３′−第三ブチル−
４′−ヒドロキシフェニル）ブチレート] 、ビス（３−
第三ブチル−４ーヒドロキシ−５−メチルフェニル）ジ
シクロペンタジエン、ビス［２−（３′−第三ブチル−
２′−ヒドロキシ−５′−メチルベンジル）−６−第三
ブチル−４−メチルフェニル］テレフタレート、１，１
−ビス（３，５−ジメチル−２−ヒドロキシフェニル）
ブタン、２，２−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−
ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（５−第
三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）−４
−ｎ−ドデシルメルカプトブタン、１，１，５，５−テ
トラ−（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチル
フェニル）ペンタン。
えば２，２′−メチレン−ビス（６−第三ブチル−４−
メチルフェノール）、２，２′−メチレン−ビス（６−
第三ブチル−４−エチルフェノール）、２，２′−メチ
レン−ビス［４−メチル−６−（α−メチルシクロヘキ
シル）フェノール］、２，２′−メチレン−ビス（４−
メチル−６−シクロヘキシルフェノール）、２，２′−
メチレン−ビス（６−ノニル−４−メチルフェノー
ル）、２，２′−メチレン−ビス（４，６−ジ−第三ブ
チルフェノール）、２，２′−エチリデン−ビス（４，
６−ジ−第三ブチルフェノール）、２，２′−エチリデ
ン−ビス（６−第三ブチル−４−イソブチルフェノー
ル）、２，２′−メチレン−ビス [６−（α−メチルベ
ンジル）−４−ノニルフェノール] 、２，２′−メチレ
ン−ビス [６−（α，α−ジメチルベンジル）−４−ノ
ニルフェノール] 、４，４′−メチレン−ビス（２，６
−ジ−第三ブチルフェノール）、４，４′−メチレン−
ビス（６−第三ブチル−２−メチルフェノール）、１，
１−ビス（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチ
ルフェニル）ブタン、２，６−ビス（３−第三ブチル−
５−メチル−２−ヒドロキシベンジル）−４−メチルフ
ェノール、１，１，３−トリス（５−第三ブチル−４−
ヒドロキシ−２−メチルフェニル）ブタン、１，１−ビ
ス（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェ
ニル）−３−ｎ−ドデシルメルカプトブタン、エチレン
グリコールビス［３，３−ビス（３′−第三ブチル−
４′−ヒドロキシフェニル）ブチレート] 、ビス（３−
第三ブチル−４ーヒドロキシ−５−メチルフェニル）ジ
シクロペンタジエン、ビス［２−（３′−第三ブチル−
２′−ヒドロキシ−５′−メチルベンジル）−６−第三
ブチル−４−メチルフェニル］テレフタレート、１，１
−ビス（３，５−ジメチル−２−ヒドロキシフェニル）
ブタン、２，２−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−
ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（５−第
三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）−４
−ｎ−ドデシルメルカプトブタン、１，１，５，５−テ
トラ−（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチル
フェニル）ペンタン。
【００２７】１．７． Ｏ−、Ｎ−およびＳ−ベンジル
化合物、例えば３，５，３′，５′−テトラ−第三ブチ
ル−４，４′−ジヒドロキシジベンジルエーテル、オク
タデシル−４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルベンジル
−メルカプトアセテート、トリデシル−４−ヒドロキシ
−３，５−ジ−第三ブチルベンジルメルカプトアセテー
ト、トリス−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキ
シベンジル）−アミン、ビス（４−第三ブチル−３−ヒ
ドロキシ−２，６−ジメチルベンジル）−ジチオテレフ
タレート、ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロ
キシベンジル）−スルフィド、イソオクチル−３，５−
ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル−メルカプト
アセテート。
化合物、例えば３，５，３′，５′−テトラ−第三ブチ
ル−４，４′−ジヒドロキシジベンジルエーテル、オク
タデシル−４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルベンジル
−メルカプトアセテート、トリデシル−４−ヒドロキシ
−３，５−ジ−第三ブチルベンジルメルカプトアセテー
ト、トリス−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキ
シベンジル）−アミン、ビス（４−第三ブチル−３−ヒ
ドロキシ−２，６−ジメチルベンジル）−ジチオテレフ
タレート、ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロ
キシベンジル）−スルフィド、イソオクチル−３，５−
ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル−メルカプト
アセテート。
【００２８】１．８．ヒドロキシベンジル化マロネー
ト、例えばジオクタデシル−２，２−ビス（３，５−ジ
−第三ブチル−２−ヒドロキシベンジル）−マロネー
ト、ジ−オクタデシル−２−（３−第三ブチル−４−ヒ
ドロキシ−５−メチルベンジル）−マロネート、ジ−ド
デシルメルカプトエチル−２，２−ビス（３，５−ジ−
第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−マロネート、
ビス［４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−
フェニル］−２，２−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−
４−ヒドロキシベンジル）−マロネート。
ト、例えばジオクタデシル−２，２−ビス（３，５−ジ
−第三ブチル−２−ヒドロキシベンジル）−マロネー
ト、ジ−オクタデシル−２−（３−第三ブチル−４−ヒ
ドロキシ−５−メチルベンジル）−マロネート、ジ−ド
デシルメルカプトエチル−２，２−ビス（３，５−ジ−
第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−マロネート、
ビス［４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−
フェニル］−２，２−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−
４−ヒドロキシベンジル）−マロネート。
【００２９】１．９． ヒドロキシベンジル芳香族化合
物、例えば、１，３，５−トリス（３，５−ジ−第三ブ
チル−４−ヒドロキシベンジル）−２，４，６−トリメ
チルベンゼン、１，４−ビス（３，５−ジ−第三ブチル
−４−ヒドロキシベンジル）−２，３，５，６−テトラ
メチルベンゼン、２，４，６−トリス（３，５−ジ−第
三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−フェノール。
物、例えば、１，３，５−トリス（３，５−ジ−第三ブ
チル−４−ヒドロキシベンジル）−２，４，６−トリメ
チルベンゼン、１，４−ビス（３，５−ジ−第三ブチル
−４−ヒドロキシベンジル）−２，３，５，６−テトラ
メチルベンゼン、２，４，６−トリス（３，５−ジ−第
三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−フェノール。
【００３０】１．１０．トリアジン化合物、例えば、
２，４−ビス−オクチルメルカプト−６−（３，５−ジ
−第三ブチル−４−ヒドロキシアニリノ）−１，３，５
−トリアジン、２−オクチルメルカプト−４，６−ビス
（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシアニリノ）
−１，３，５−トリアジン、２−オクチルメルカプト−
４，６−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキ
シフェノキシ）−１，３，５−トリアジン、２，４，６
−トリス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフ
ェノキシ）−１，２，３−トリアジン、１，３，５−ト
リス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジ
ル）−イソシアヌレート、１，３，５−トリス（４−第
三ブチル−３−ヒドロキシ−２，６−ジメチルベンジ
ル）−イソシアヌレート、２，４，６−トリス（３，５
−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルエチル）−
１，３，５−トリアジン、１，３，５−トリス（３，５
−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニ
ル）−ヘキサヒドロ−１，３，５−トリアジン、１，
３，５−トリス（３，５−ジシクロヘキシル−４−ヒド
ロキシベンジル）−イソシアヌレート。
２，４−ビス−オクチルメルカプト−６−（３，５−ジ
−第三ブチル−４−ヒドロキシアニリノ）−１，３，５
−トリアジン、２−オクチルメルカプト−４，６−ビス
（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシアニリノ）
−１，３，５−トリアジン、２−オクチルメルカプト−
４，６−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキ
シフェノキシ）−１，３，５−トリアジン、２，４，６
−トリス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフ
ェノキシ）−１，２，３−トリアジン、１，３，５−ト
リス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジ
ル）−イソシアヌレート、１，３，５−トリス（４−第
三ブチル−３−ヒドロキシ−２，６−ジメチルベンジ
ル）−イソシアヌレート、２，４，６−トリス（３，５
−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルエチル）−
１，３，５−トリアジン、１，３，５−トリス（３，５
−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニ
ル）−ヘキサヒドロ−１，３，５−トリアジン、１，
３，５−トリス（３，５−ジシクロヘキシル−４−ヒド
ロキシベンジル）−イソシアヌレート。
【００３１】１．１１． べンジルホスホネート、例え
ばジメチル−２，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシ
ベンジルホスホネート、ジエチル−３，５−ジ−第三ブ
チル−４−ヒドロキシベンジルホスホネート、ジオクタ
デシル−３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベン
ジルホスホネート、ジオクタデシル−５−第三ブチル−
４−ヒドロキシ−３−メチルベンジルホスホネート、
３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルホス
ホン酸モノエチルエステルのＣａ塩。
ばジメチル−２，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシ
ベンジルホスホネート、ジエチル−３，５−ジ−第三ブ
チル−４−ヒドロキシベンジルホスホネート、ジオクタ
デシル−３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベン
ジルホスホネート、ジオクタデシル−５−第三ブチル−
４−ヒドロキシ−３−メチルベンジルホスホネート、
３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルホス
ホン酸モノエチルエステルのＣａ塩。
【００３２】１．１２． アシルアミノフェノール、例
えば４−ヒドロキシラウリン酸アニリド、４−ヒドロキ
システアリン酸アニリド、Ｎ−（３，５−ジ−第三ブチ
ル−４−ヒドロキシフェニル）カルバミン酸オクチルエ
ステル。
えば４−ヒドロキシラウリン酸アニリド、４−ヒドロキ
システアリン酸アニリド、Ｎ−（３，５−ジ−第三ブチ
ル−４−ヒドロキシフェニル）カルバミン酸オクチルエ
ステル。
【００３３】１．１３． β−（３，５−ジ−第三ブチ
ル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸の下記の一
価または多価アルコールとのエステル、例えばメタノー
ル、エタノール、ｎ−オクタノール、ｉ−オクタノー
ル、オクタデカノール、１，６−ヘキサンジオール、
１，９−ノナンジオール、エチレングリコール、１，２
−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジ
エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチ
レングリコール、ペンタエリトリトール、トリス（ヒド
ロキシエチル）イソシアヌレート、Ｎ，Ｎ′−ビス（ヒ
ドロキシエチル）シュウ酸ジアミド、３−チアウンデカ
ノール、３−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサ
ンジオール、トリメチロールプロパン、４−ヒドロキシ
メチル−１−ホスファ−２，６，７−トリオキサビシク
ロ［２．２．２］オクタン。
ル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸の下記の一
価または多価アルコールとのエステル、例えばメタノー
ル、エタノール、ｎ−オクタノール、ｉ−オクタノー
ル、オクタデカノール、１，６−ヘキサンジオール、
１，９−ノナンジオール、エチレングリコール、１，２
−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジ
エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチ
レングリコール、ペンタエリトリトール、トリス（ヒド
ロキシエチル）イソシアヌレート、Ｎ，Ｎ′−ビス（ヒ
ドロキシエチル）シュウ酸ジアミド、３−チアウンデカ
ノール、３−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサ
ンジオール、トリメチロールプロパン、４−ヒドロキシ
メチル−１−ホスファ−２，６，７−トリオキサビシク
ロ［２．２．２］オクタン。
【００３４】１．１４． β−（５−第三ブチル−４−
ヒドロキシ−３−メチルフェニル）プロピオン酸の下記
の一価または多価アルコールとのエステル、例えばメタ
ノール、エタノール、ｎ−オクタノール、ｉ−オクタノ
ール、オクタデカノール、１，６−ヘキサンジオール、
１，９−ノナンジオール、エチレングリコール、１，２
−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジ
エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチ
レングリコール、ペンタエリトリトール、トリス（ヒド
ロキシエチル）イソシアヌレート、Ｎ，Ｎ′−ビス（ヒ
ドロキシエチル）シュウ酸ジアミド、３−チアウンデカ
ノール、３−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサ
ンジオール、トリメチロールプロパン、４−ヒドロキシ
メチル−１−ホスファ−２，６，７−トリオキサビシク
ロ［２．２．２］オクタン。
ヒドロキシ−３−メチルフェニル）プロピオン酸の下記
の一価または多価アルコールとのエステル、例えばメタ
ノール、エタノール、ｎ−オクタノール、ｉ−オクタノ
ール、オクタデカノール、１，６−ヘキサンジオール、
１，９−ノナンジオール、エチレングリコール、１，２
−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジ
エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチ
レングリコール、ペンタエリトリトール、トリス（ヒド
ロキシエチル）イソシアヌレート、Ｎ，Ｎ′−ビス（ヒ
ドロキシエチル）シュウ酸ジアミド、３−チアウンデカ
ノール、３−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサ
ンジオール、トリメチロールプロパン、４−ヒドロキシ
メチル−１−ホスファ−２，６，７−トリオキサビシク
ロ［２．２．２］オクタン。
【００３５】１．１５． β−（３，５−ジ−シクロヘ
キシル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸の下記
の一価または多価アルコールとのエステル、例えばメタ
ノール、エタノール、オクタデカノール、１，６−ヘキ
サンジオール、１，９−ノナンジオール、エチレングリ
コール、１，２−プロパンジオール、ネオペンチルグリ
コール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコ
ール、トリエチレングリコール、ペンタエリトリトー
ル、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、
Ｎ，Ｎ′−ビス（ヒドロキシエチル）シュウ酸ジアミ
ド、３−チアウンデカノール、３−チアペンタデカノー
ル、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロ
パン、４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２，６，
７−トリオキサビシクロ［２．２．２］オクタン。
キシル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸の下記
の一価または多価アルコールとのエステル、例えばメタ
ノール、エタノール、オクタデカノール、１，６−ヘキ
サンジオール、１，９−ノナンジオール、エチレングリ
コール、１，２−プロパンジオール、ネオペンチルグリ
コール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコ
ール、トリエチレングリコール、ペンタエリトリトー
ル、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、
Ｎ，Ｎ′−ビス（ヒドロキシエチル）シュウ酸ジアミ
ド、３−チアウンデカノール、３−チアペンタデカノー
ル、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロ
パン、４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２，６，
７−トリオキサビシクロ［２．２．２］オクタン。
【００３６】１．１６． ３，５−ジ−第三ブチル−４
−ヒドロキシフェニル酢酸の下記の一価または多価アル
コールとのエステル、例えば、メタノール、エタノー
ル、オクタデカノール、１，６−ヘキサンジオール、
１，９−ノナンジオール、エチレングリコール、１，２
−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジ
エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチ
レングリコール、ペンタエリトリトール、トリス（ヒド
ロキシエチル）イソシアヌレート、Ｎ，Ｎ′−ビス（ヒ
ドロキシエチル）シュウ酸ジアミド、３−チアウンデカ
ノール、３−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサ
ンジオール、トリメチロールプロパン、４−ヒドロキシ
メチル−１−ホスファ−２，６，７−トリオキサビシク
ロ［２．２．２］オクタン。
−ヒドロキシフェニル酢酸の下記の一価または多価アル
コールとのエステル、例えば、メタノール、エタノー
ル、オクタデカノール、１，６−ヘキサンジオール、
１，９−ノナンジオール、エチレングリコール、１，２
−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジ
エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチ
レングリコール、ペンタエリトリトール、トリス（ヒド
ロキシエチル）イソシアヌレート、Ｎ，Ｎ′−ビス（ヒ
ドロキシエチル）シュウ酸ジアミド、３−チアウンデカ
ノール、３−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサ
ンジオール、トリメチロールプロパン、４−ヒドロキシ
メチル−１−ホスファ−２，６，７−トリオキサビシク
ロ［２．２．２］オクタン。
【００３７】１．１７． β−（３，５−ジ−第三ブチ
ル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸のアミド、
例えばＮ，Ｎ′−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−
ヒドロキシフェニルプロピオニル）ヘキサメチレンジア
ミン、Ｎ，Ｎ′−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−
ヒドロキシフェニルプロピオニル）トリメチレンジアミ
ン、Ｎ，Ｎ′−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒ
ドロキシフェニルプロピオニル）ヒドラジン。
ル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸のアミド、
例えばＮ，Ｎ′−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−
ヒドロキシフェニルプロピオニル）ヘキサメチレンジア
ミン、Ｎ，Ｎ′−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−
ヒドロキシフェニルプロピオニル）トリメチレンジアミ
ン、Ｎ，Ｎ′−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒ
ドロキシフェニルプロピオニル）ヒドラジン。
【００３８】１．１８．アスコルビン酸（ビタミンＣ）
【００３９】１．１９．アミン系酸化防止剤、例えば
Ｎ，Ｎ′−ジイソプロピル−ｐ−フェニレンジアミン、
Ｎ，Ｎ′−第二ブチル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，
Ｎ′−ビス−（１，４−ジメチルペンチル）−ｐ−フェ
ニレンジアミン、Ｎ，Ｎ′−ビス（１−エチル−３−メ
チルペンチル）−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ′−
ビス（１−メチルヘプチル）−ｐ−フェニレンジアミ
ン、Ｎ，Ｎ′−ジシクロヘキシル−ｐ−フェニレンジア
ミン、Ｎ，Ｎ′−ジフェニル−ｐ−フェニレンジアミ
ン、Ｎ，Ｎ′−ジ（２−ナフチル）−ｐ−フェニレンジ
アミン、Ｎ−イソプロピル−Ｎ′−フェニル−ｐ−フェ
ニレンジアミン、Ｎ−（１，３−ジメチルブチル）−
Ｎ′−フェニル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−（１−
メチルヘプチル）−Ｎ′−フェニル−ｐ−フェニレンジ
アミン、Ｎ−シクロヘキシル−Ｎ′−フェニル−ｐ−フ
ェニレンジアミン、４−（ｐ−トルエンスルホンアミ
ド）ジフェニルアミン、Ｎ，Ｎ′−ジメチル−Ｎ，Ｎ′
−第二ブチル−ｐ−フェニレンジアミン、ジフェニルア
ミン、Ｎ−アリルジフェニルアミン、４−イソプロポキ
シジフェニルアミン、Ｎ−フェニル−１−ナフチルアミ
ン、Ｎ−（４−第三オクチルフェニル）−１−ナフチル
アミン、Ｎ−フェニル−２−ナフチルアミン、オクチル
化ジフェニルアミン、例えばｐ，ｐ′−ジ第三ブチル−
オクチルジフェニルアミン、４−ｎ−ブチルアミノフェ
ノール、４−ブチリルアミノフェノール、４−ノナノイ
ルアミノフェノール、４−ドデカノイルアミノフェノー
ル、４−オクタデカノイルアミノフェノール、ジ（４−
メトキシフェニル）アミン、２，６−ジ第三ブチル−ブ
チル−４−ジメチルアミノメチルフェノール、２，４′
−ジアミノジフェニルメタン、４，４′−ジアミノジフ
ェニルメタン、Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−テトラメチル−
４，４′−ジアミノジフェニルメタン、１，２−ジ
［（２−メチルフェニル）アミノ］エタン、１，２−ジ
（フェニルアミノ）プロパン、（ｏ−トリル）ビグアニ
ド、ビス［４−（１′，３′−ジメチルブチル）フェニ
ル］アミン、第三オクチル化Ｎ−フェニル−１−ナフチ
ルアミン、モノ−及びジアルキル化第三ブチル／第三オ
クチルジフェニルアミンの混合物、モノ−及びジアルキ
ル化ノニルジフェニルアミンの混合物、モノ及びジアル
キル化ドデシルジフェニルアミンの混合物、モノ−及び
ジアルキル化イソプロピル／イソヘキシルジフェニルア
ミンの混合物、モノ−及びジアルキル化第三ブチルジフ
ェニルアミンの混合物、２，３−ジヒドロ−３，３−ジ
メチル−４Ｈ−１，４−ベンゾチアジン、フェノチアジ
ン、モノ−及びジアルキル化第三ブチル／第三オクチル
フェノチアジンの混合物、モノ−及びジアルキル化第三
オクチルフェノチアジンの混合物、Ｎ−アリルフェノチ
アジン、Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−テトラフェニル−１，４
−ジアミノブテ−２−エン、Ｎ，Ｎ−ビス（２，２，
６，６−テトラメチルピペリジ−４−イル−ヘキサメチ
レンジアミン、ビス（２，２，６，６−テトラメチルピ
ペリジ−４−イル）セバケート、２，２，６，６−テト
ラメチルピペリジン−４−オン及び２，２，６，６−テ
トラメチルピペリジン−４−オール。
Ｎ，Ｎ′−ジイソプロピル−ｐ−フェニレンジアミン、
Ｎ，Ｎ′−第二ブチル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，
Ｎ′−ビス−（１，４−ジメチルペンチル）−ｐ−フェ
ニレンジアミン、Ｎ，Ｎ′−ビス（１−エチル−３−メ
チルペンチル）−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ′−
ビス（１−メチルヘプチル）−ｐ−フェニレンジアミ
ン、Ｎ，Ｎ′−ジシクロヘキシル−ｐ−フェニレンジア
ミン、Ｎ，Ｎ′−ジフェニル−ｐ−フェニレンジアミ
ン、Ｎ，Ｎ′−ジ（２−ナフチル）−ｐ−フェニレンジ
アミン、Ｎ−イソプロピル−Ｎ′−フェニル−ｐ−フェ
ニレンジアミン、Ｎ−（１，３−ジメチルブチル）−
Ｎ′−フェニル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−（１−
メチルヘプチル）−Ｎ′−フェニル−ｐ−フェニレンジ
アミン、Ｎ−シクロヘキシル−Ｎ′−フェニル−ｐ−フ
ェニレンジアミン、４−（ｐ−トルエンスルホンアミ
ド）ジフェニルアミン、Ｎ，Ｎ′−ジメチル−Ｎ，Ｎ′
−第二ブチル−ｐ−フェニレンジアミン、ジフェニルア
ミン、Ｎ−アリルジフェニルアミン、４−イソプロポキ
シジフェニルアミン、Ｎ−フェニル−１−ナフチルアミ
ン、Ｎ−（４−第三オクチルフェニル）−１−ナフチル
アミン、Ｎ−フェニル−２−ナフチルアミン、オクチル
化ジフェニルアミン、例えばｐ，ｐ′−ジ第三ブチル−
オクチルジフェニルアミン、４−ｎ−ブチルアミノフェ
ノール、４−ブチリルアミノフェノール、４−ノナノイ
ルアミノフェノール、４−ドデカノイルアミノフェノー
ル、４−オクタデカノイルアミノフェノール、ジ（４−
メトキシフェニル）アミン、２，６−ジ第三ブチル−ブ
チル−４−ジメチルアミノメチルフェノール、２，４′
−ジアミノジフェニルメタン、４，４′−ジアミノジフ
ェニルメタン、Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−テトラメチル−
４，４′−ジアミノジフェニルメタン、１，２−ジ
［（２−メチルフェニル）アミノ］エタン、１，２−ジ
（フェニルアミノ）プロパン、（ｏ−トリル）ビグアニ
ド、ビス［４−（１′，３′−ジメチルブチル）フェニ
ル］アミン、第三オクチル化Ｎ−フェニル−１−ナフチ
ルアミン、モノ−及びジアルキル化第三ブチル／第三オ
クチルジフェニルアミンの混合物、モノ−及びジアルキ
ル化ノニルジフェニルアミンの混合物、モノ及びジアル
キル化ドデシルジフェニルアミンの混合物、モノ−及び
ジアルキル化イソプロピル／イソヘキシルジフェニルア
ミンの混合物、モノ−及びジアルキル化第三ブチルジフ
ェニルアミンの混合物、２，３−ジヒドロ−３，３−ジ
メチル−４Ｈ−１，４−ベンゾチアジン、フェノチアジ
ン、モノ−及びジアルキル化第三ブチル／第三オクチル
フェノチアジンの混合物、モノ−及びジアルキル化第三
オクチルフェノチアジンの混合物、Ｎ−アリルフェノチ
アジン、Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−テトラフェニル−１，４
−ジアミノブテ−２−エン、Ｎ，Ｎ−ビス（２，２，
６，６−テトラメチルピペリジ−４−イル−ヘキサメチ
レンジアミン、ビス（２，２，６，６−テトラメチルピ
ペリジ−４−イル）セバケート、２，２，６，６−テト
ラメチルピペリジン−４−オン及び２，２，６，６−テ
トラメチルピペリジン−４−オール。
【００４０】２． 紫外線吸収剤および光安定剤 ２．１． ２−( ２′−ヒドロキシフェニル) ベンゾト
リアゾール 、例えば、２−（２’−ヒドロキシ−５’−
メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’，
５’−ジ−第三ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）ベ
ンゾトリアゾール、２−（５’−第三ブチル−２’−ヒ
ドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−
ヒドロキシ−５’−（１，１，３，３−テトラメチルブ
チル) フェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’，
５’−ジ−第三ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）−
５−クロロベンゾトリアゾール、２−（３’−第三ブチ
ル−２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）−５−
クロロベンゾトリアゾール、２−（３’−第二ブチル−
５’−第三ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾ
トリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−４’−オクト
キシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’，５’
−ジ−第三アミル−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾ
トリアゾール、２−（３’，５’−ビス（α，α−ジメ
チルベンジル）−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾト
リアゾール；２−（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキ
シ−５’−（２’−オクチルオキシカルボニルエチル）
フェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−
（３’−第三ブチル−５’−［２−（２−エチルヘキシ
ルオキシ）カルボニルエチル］−２’−ヒドロキシフェ
ニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（３’−
第三ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−メトキシ
カルボニルエチル）フェニル）−５−クロロベンゾトリ
アゾール、２−（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキシ
−５’−（２−メトキシカルボニルエチル）フェニル）
ベンゾトリアゾール、２−（３’−第三ブチル−２’−
ヒドロキシ−５’−（２−オクトキシカルボニルエチ
ル）フェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’−第三
ブチル−５’−［２−（２−エチルヘキシルオキシ）カ
ルボニルエチル］−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾ
トリアゾール、２−（３−ドデシル−２’−ヒドロキシ
−５’−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、および
２−（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−
（２−イソオクチルオキシカルボニルエチル）フェニル
ベンゾトリアゾールの混合物、２，２’−メチレン−ビ
ス［４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−６
−ベンゾトリアゾール−２−イルフェノール］；２−
［３’−第三ブチル−５’−（２−メトキシカルボニル
エチル）−２’−ヒドロキシフェニル］ベンゾトリアゾ
ールとポリエチレングリコール３００とのエステル交換
生成物；［Ｒ−ＣＨ2ＣＨ2 −ＣＯＯ（ＣＨ2 ）3 −］
2 −（式中，Ｒ＝３’−第三ブチル−４’−ヒドロキシ
−５’−２Ｈ−べンゾトリアゾール−２−イル−フェニ
ルである。）。
リアゾール 、例えば、２−（２’−ヒドロキシ−５’−
メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’，
５’−ジ−第三ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）ベ
ンゾトリアゾール、２−（５’−第三ブチル−２’−ヒ
ドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−
ヒドロキシ−５’−（１，１，３，３−テトラメチルブ
チル) フェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’，
５’−ジ−第三ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）−
５−クロロベンゾトリアゾール、２−（３’−第三ブチ
ル−２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）−５−
クロロベンゾトリアゾール、２−（３’−第二ブチル−
５’−第三ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾ
トリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−４’−オクト
キシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’，５’
−ジ−第三アミル−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾ
トリアゾール、２−（３’，５’−ビス（α，α−ジメ
チルベンジル）−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾト
リアゾール；２−（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキ
シ−５’−（２’−オクチルオキシカルボニルエチル）
フェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−
（３’−第三ブチル−５’−［２−（２−エチルヘキシ
ルオキシ）カルボニルエチル］−２’−ヒドロキシフェ
ニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（３’−
第三ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−メトキシ
カルボニルエチル）フェニル）−５−クロロベンゾトリ
アゾール、２−（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキシ
−５’−（２−メトキシカルボニルエチル）フェニル）
ベンゾトリアゾール、２−（３’−第三ブチル−２’−
ヒドロキシ−５’−（２−オクトキシカルボニルエチ
ル）フェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’−第三
ブチル−５’−［２−（２−エチルヘキシルオキシ）カ
ルボニルエチル］−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾ
トリアゾール、２−（３−ドデシル−２’−ヒドロキシ
−５’−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、および
２−（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−
（２−イソオクチルオキシカルボニルエチル）フェニル
ベンゾトリアゾールの混合物、２，２’−メチレン−ビ
ス［４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−６
−ベンゾトリアゾール−２−イルフェノール］；２−
［３’−第三ブチル−５’−（２−メトキシカルボニル
エチル）−２’−ヒドロキシフェニル］ベンゾトリアゾ
ールとポリエチレングリコール３００とのエステル交換
生成物；［Ｒ−ＣＨ2ＣＨ2 −ＣＯＯ（ＣＨ2 ）3 −］
2 −（式中，Ｒ＝３’−第三ブチル−４’−ヒドロキシ
−５’−２Ｈ−べンゾトリアゾール−２−イル−フェニ
ルである。）。
【００４１】２．２． ２−ヒドロキシ−ベンゾフェノ
ン、例えば４−ヒドロキシ−、４−メトキシ−、４−オ
クトキシ−、４−デシルオキシ−、４−ドデシルオキシ
−、４−ベンジルオキシ−、４，２′，４′−トリヒド
ロキシ−または２′−ヒドロキシ−４，４′−ジメトキ
シ誘導体。
ン、例えば４−ヒドロキシ−、４−メトキシ−、４−オ
クトキシ−、４−デシルオキシ−、４−ドデシルオキシ
−、４−ベンジルオキシ−、４，２′，４′−トリヒド
ロキシ−または２′−ヒドロキシ−４，４′−ジメトキ
シ誘導体。
【００４２】２．３． 置換されたおよび非置換安息香
酸のエステル、例えば４−第三ブチルフェニル＝サリチ
レート、フェニル＝サリチレート、オクチルフェニル＝
サリチレート、ジベンゾイルレゾルシノール、ビス（４
−第三ブチルベンゾイル）レゾルシノール、ベンゾイル
レゾルシノール、３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロ
キシ安息香酸２，４−ジ−第三ブチルフェニルエステ
ル、３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシ安息香酸
ヘキサデシルエステル、３，５−ジ−第三ブチル−４−
ヒドロキシ安息香酸オクタデシルエステル、３，５−ジ
−第三ブチル−４−ヒドロキシ安息香酸２−メチル−
４，６−ジ第三ブチルフェニルエステル。
酸のエステル、例えば４−第三ブチルフェニル＝サリチ
レート、フェニル＝サリチレート、オクチルフェニル＝
サリチレート、ジベンゾイルレゾルシノール、ビス（４
−第三ブチルベンゾイル）レゾルシノール、ベンゾイル
レゾルシノール、３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロ
キシ安息香酸２，４−ジ−第三ブチルフェニルエステ
ル、３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシ安息香酸
ヘキサデシルエステル、３，５−ジ−第三ブチル−４−
ヒドロキシ安息香酸オクタデシルエステル、３，５−ジ
−第三ブチル−４−ヒドロキシ安息香酸２−メチル−
４，６−ジ第三ブチルフェニルエステル。
【００４３】２．４． アクリレート、例えばα−シア
ノ−β, β−ジフェニル−アクリル酸エチルエステル、
α−シアノ−β, β−ジフェニル−アクリル酸イソオク
チルエステル、α−カルボメトキシ−ケイヒ酸メチルエ
ステル、α−シアノ−β−メチル−ｐ−メトキシ−ケイ
ヒ酸メチルエステル、α−シアノ−β−メチル−ｐ−メ
トキシ−ケイヒ酸ブチルエステル、α−カルボメトキシ
−ｐ−メトキシケイヒ酸メチルエステル、およびＮ−
（β−カルボメトキシ−β−シアノビニル) −２−メチ
ルインドリン。
ノ−β, β−ジフェニル−アクリル酸エチルエステル、
α−シアノ−β, β−ジフェニル−アクリル酸イソオク
チルエステル、α−カルボメトキシ−ケイヒ酸メチルエ
ステル、α−シアノ−β−メチル−ｐ−メトキシ−ケイ
ヒ酸メチルエステル、α−シアノ−β−メチル−ｐ−メ
トキシ−ケイヒ酸ブチルエステル、α−カルボメトキシ
−ｐ−メトキシケイヒ酸メチルエステル、およびＮ−
（β−カルボメトキシ−β−シアノビニル) −２−メチ
ルインドリン。
【００４４】２．５． ニッケル化合物，例えば２，
２′−チオビス−［４−（１，１，３，３−テトラメチ
ルブチル) −フェノール］のニッケル錯体，例えば１：
１または１：２錯体であって，所望によりｎ−ブチルア
ミン、トリエタノールアミンもしくはＮ−シクロヘキシ
ル−ジ−エタノールアミンのような他の配位子を伴うも
の、ニッケルジブチルジチオカルバメート、４−ヒドロ
キシ−３，５−ジ−第三ブチルベンジルホスホン酸モノ
アルキルエステル例えばメチルもしくはエチルエステル
のニッケル塩、ケトキシム例えば、２−ヒドロキシ−４
−メチル−フェニルウンデシルケトキシムのニッケル錯
体、１−フェニル−４−ラウロイル−５−ヒドロキシピ
ラゾールのニッケル錯体であって，所望により他の配位
子を伴うもの。
２′−チオビス−［４−（１，１，３，３−テトラメチ
ルブチル) −フェノール］のニッケル錯体，例えば１：
１または１：２錯体であって，所望によりｎ−ブチルア
ミン、トリエタノールアミンもしくはＮ−シクロヘキシ
ル−ジ−エタノールアミンのような他の配位子を伴うも
の、ニッケルジブチルジチオカルバメート、４−ヒドロ
キシ−３，５−ジ−第三ブチルベンジルホスホン酸モノ
アルキルエステル例えばメチルもしくはエチルエステル
のニッケル塩、ケトキシム例えば、２−ヒドロキシ−４
−メチル−フェニルウンデシルケトキシムのニッケル錯
体、１−フェニル−４−ラウロイル−５−ヒドロキシピ
ラゾールのニッケル錯体であって，所望により他の配位
子を伴うもの。
【００４５】２．６． 立体障害性アミン、例えばビス
（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セ
バケート、ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−
ピペリジル）サクシネート、ビス（１，２，２，６，６
−ペンタメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス
（１−オクチルオキシ−２，２，６，６−テトラメチル
−４−ピペリジル）セバケート、ビス（１，２，２，
６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）ｎ−ブチル−
３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルマロ
ネート、１−（２−ヒドロキシエチル）−２，２，６，
６−テトラメチル−４−ヒドロキシピペリジンとコハク
酸との縮合生成物、Ｎ，Ｎ′−ビス（２，２，６，６−
テトラメチル−４−ピペリジル）ヘキサメチレンジアミ
ンと４−第三オクチルアミノ−２，６−ジクロロ−１，
３，５−トリアジンとの縮合生成物、トリス（２，２，
６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ニトリロトリ
アセテート、テトラキス（２，２，６，６−テトラメチ
ル−４−ピペリジル）−１，２，３，４−ブタンテトラ
カルボキシレート、１，１′−（１，２−エタンジイ
ル）−ビス（３，３，５，５−テトラメチルピペラジノ
ン），４−ベンゾイル−２，２，６，６−テトラメチル
ピペリジン、４−ステアリルオキシ−２，２，６，６−
テトラメチルピペリジン、ビス（１，２，２，６，６−
ペンタメチルピペリジル）−２−ｎ−ブチル−２−（２
−ヒドロキシ−３，５−ジ−第三ブチル−ベンジル）マ
ロネート、３−ｎ−オクチル−７，７，９，９−テトラ
メチル−１，３，８−トリアザスピロ［４．５］デカン
−２，４−ジオン、ビス（１−オクチルオキシ−２，
２，６，６−テトラメチルピペリジル）セバケート、ビ
ス（１−オクチルオキシ−２，２，６，６−テトラメチ
ルピペリジル）サクシネート、Ｎ，Ｎ’−ビス（２，
２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）−ヘキサ
メチレンジアミンと４−モルホリノ−２，６−ジクロロ
−１，３，５−トリアジンとの縮合生成物、２−クロロ
−４，６−ジ（４−ｎ−ブチルアミノ−２，２，６，６
−テトラメチルピペリジル）−１，３，５−トリアジン
と１，２−ビス（３−アミノプロピルアミノ）エタンの
縮合生成物、２−クロロ−４，６−ジ（４−ｎ−ブチル
アミノ−１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジ
ル）−１，３，５−トリアジンと１，２−ビス（３−ア
ミノプロピルアミノ）エタンとの縮合生成物、８−アセ
チル−３−ドデシル−７，７，９，９−テトラメチル−
１，３，８−トリアザスピロ［４．５］デカン−２，４
−ジオン、３−ドデシル−１−（２，２，６，６−テト
ラメチル−４−ピペリジル）ピロリジン−２，５−ジオ
ン、３−ドデシル−１−（１，２，２，６，６−ペンタ
メチル−４−ピペリジル）−ピロリジン−２，５−ジオ
ン、４−ヘキサデシルオキシ−２，２，６，６−テトラ
メチルピペリジンおよび４−ステアリルオキシ−２，
２，６，６−テトラメチルピペリジンの混合物、Ｎ，
Ｎ’−ビス−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピ
ペリジル）ヘキサメチレンジアミンと４−クロロヘキシ
ルアミノ−２，６−ジクロロ−１，３，５−トリアジン
との縮合生成物、１，２−ビス（３−アミノプロピルア
ミノ）エタンと２，４，６−トリクロロ−１，３，５−
トリアジンならびに４−ブチルアミノ−２，２，６，６
−テトラメチルピペリジン（ＣＡＳ登録Ｎｏ．［１３６
５０４−９６−６］）の縮合生成物；Ｎ−（２，２，
６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）−ｎ−ドデシ
ルスクシミド、Ｎ−（１，２，２，６，６−ペンタメチ
ル−４−ピペリジル）−ｎ−ドデシルスクシミド、２−
ウンデシル−７，７，９，９−テトラメチル−１−オキ
サ−３，８−ジアザ−４−オキソ−スピロ［４，５］デ
カン、７，７，９，９−テトラメチル−２−シクロウン
デシル−１−オキサ−３，８−ジアザ−４−オキソ−ス
ピロ［４，５］デカンとエピクロロヒドリンとの反応生
成物。
（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セ
バケート、ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−
ピペリジル）サクシネート、ビス（１，２，２，６，６
−ペンタメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス
（１−オクチルオキシ−２，２，６，６−テトラメチル
−４−ピペリジル）セバケート、ビス（１，２，２，
６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）ｎ−ブチル−
３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルマロ
ネート、１−（２−ヒドロキシエチル）−２，２，６，
６−テトラメチル−４−ヒドロキシピペリジンとコハク
酸との縮合生成物、Ｎ，Ｎ′−ビス（２，２，６，６−
テトラメチル−４−ピペリジル）ヘキサメチレンジアミ
ンと４−第三オクチルアミノ−２，６−ジクロロ−１，
３，５−トリアジンとの縮合生成物、トリス（２，２，
６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ニトリロトリ
アセテート、テトラキス（２，２，６，６−テトラメチ
ル−４−ピペリジル）−１，２，３，４−ブタンテトラ
カルボキシレート、１，１′−（１，２−エタンジイ
ル）−ビス（３，３，５，５−テトラメチルピペラジノ
ン），４−ベンゾイル−２，２，６，６−テトラメチル
ピペリジン、４−ステアリルオキシ−２，２，６，６−
テトラメチルピペリジン、ビス（１，２，２，６，６−
ペンタメチルピペリジル）−２−ｎ−ブチル−２−（２
−ヒドロキシ−３，５−ジ−第三ブチル−ベンジル）マ
ロネート、３−ｎ−オクチル−７，７，９，９−テトラ
メチル−１，３，８−トリアザスピロ［４．５］デカン
−２，４−ジオン、ビス（１−オクチルオキシ−２，
２，６，６−テトラメチルピペリジル）セバケート、ビ
ス（１−オクチルオキシ−２，２，６，６−テトラメチ
ルピペリジル）サクシネート、Ｎ，Ｎ’−ビス（２，
２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）−ヘキサ
メチレンジアミンと４−モルホリノ−２，６−ジクロロ
−１，３，５−トリアジンとの縮合生成物、２−クロロ
−４，６−ジ（４−ｎ−ブチルアミノ−２，２，６，６
−テトラメチルピペリジル）−１，３，５−トリアジン
と１，２−ビス（３−アミノプロピルアミノ）エタンの
縮合生成物、２−クロロ−４，６−ジ（４−ｎ−ブチル
アミノ−１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジ
ル）−１，３，５−トリアジンと１，２−ビス（３−ア
ミノプロピルアミノ）エタンとの縮合生成物、８−アセ
チル−３−ドデシル−７，７，９，９−テトラメチル−
１，３，８−トリアザスピロ［４．５］デカン−２，４
−ジオン、３−ドデシル−１−（２，２，６，６−テト
ラメチル−４−ピペリジル）ピロリジン−２，５−ジオ
ン、３−ドデシル−１−（１，２，２，６，６−ペンタ
メチル−４−ピペリジル）−ピロリジン−２，５−ジオ
ン、４−ヘキサデシルオキシ−２，２，６，６−テトラ
メチルピペリジンおよび４−ステアリルオキシ−２，
２，６，６−テトラメチルピペリジンの混合物、Ｎ，
Ｎ’−ビス−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピ
ペリジル）ヘキサメチレンジアミンと４−クロロヘキシ
ルアミノ−２，６−ジクロロ−１，３，５−トリアジン
との縮合生成物、１，２−ビス（３−アミノプロピルア
ミノ）エタンと２，４，６−トリクロロ−１，３，５−
トリアジンならびに４−ブチルアミノ−２，２，６，６
−テトラメチルピペリジン（ＣＡＳ登録Ｎｏ．［１３６
５０４−９６−６］）の縮合生成物；Ｎ−（２，２，
６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）−ｎ−ドデシ
ルスクシミド、Ｎ−（１，２，２，６，６−ペンタメチ
ル−４−ピペリジル）−ｎ−ドデシルスクシミド、２−
ウンデシル−７，７，９，９−テトラメチル−１−オキ
サ−３，８−ジアザ−４−オキソ−スピロ［４，５］デ
カン、７，７，９，９−テトラメチル−２−シクロウン
デシル−１−オキサ−３，８−ジアザ−４−オキソ−ス
ピロ［４，５］デカンとエピクロロヒドリンとの反応生
成物。
【００４６】２．７． シュウ酸ジアミド、例えば４，
４′−ジ−オクチルオキシオキサニリド、２，２′−ジ
エトキシオキシアニリド、２，２′−ジ−オクチルオキ
シ−５，５′−ジ−第三ブチルオキサニリド、２，２′
−ジ−ドデシルオキシ−５，５′−ジ−第三ブチルオキ
サニリド、２−エトキシ−２′−エチルオキサニリド、
Ｎ，Ｎ′−ビス（３−ジメチルアミノプロピル）オキサ
ミド、２−エトキシ−５−第三ブチル−２′−エトキシ
オキサニリドおよび該化合物と２−エトキシ−２′−エ
チル−５，４′−ジ−第三ブチル−オキサニリドとの混
合物，ｏ−およびｐ−メトキシ−二置換オキサニリドの
混合物およびｏ−およびｐ−エトキシ−二置換オキサニ
リドの混合物。
４′−ジ−オクチルオキシオキサニリド、２，２′−ジ
エトキシオキシアニリド、２，２′−ジ−オクチルオキ
シ−５，５′−ジ−第三ブチルオキサニリド、２，２′
−ジ−ドデシルオキシ−５，５′−ジ−第三ブチルオキ
サニリド、２−エトキシ−２′−エチルオキサニリド、
Ｎ，Ｎ′−ビス（３−ジメチルアミノプロピル）オキサ
ミド、２−エトキシ−５−第三ブチル−２′−エトキシ
オキサニリドおよび該化合物と２−エトキシ−２′−エ
チル−５，４′−ジ−第三ブチル−オキサニリドとの混
合物，ｏ−およびｐ−メトキシ−二置換オキサニリドの
混合物およびｏ−およびｐ−エトキシ−二置換オキサニ
リドの混合物。
【００４７】２．８． ２−（２−ヒドロキシフェニ
ル）−１，３，５−トリアジン、例えば２，４，６−ト
リス（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル)
−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４
−オクチルオキシフェニル）−４，６−ビス（２，４−
ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−
（２，４−ジヒドロキシフェニル）−４，６−ビス
（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジ
ン、２，４−ビス（２−ヒドロキシ−４−プロピルオキ
シフェニル）−６−（２，４−ジメチルフェニル）−
１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−
オクチルオキシフェニル) −４，６−ビス（４−メチル
フェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒド
ロキシ−４−ドデシルオキシフェニル) −４，６−ビス
（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジ
ン、２−（２−ヒドロキシ−４−トリデシルオキシフェ
ニル) −４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−
１，３，５−トリアジン、２−［２−ヒドロキシ−４−
（２−ヒドロキシ−３−ブチルオキシ−プロポキシ）フ
ェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチル）−１，
３，５−トリアジン、２−［２−ヒドロキシ−４−（２
−ヒドロキシ−３−オクチルオキシ−プロピルオキシ）
フェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチル）−１，
３，５−トリアジン、２−［４−（ドデシルオキシ／ト
リデシルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）−２−ヒ
ドロキシ−フェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチ
ルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−［２−ヒ
ドロキシ−４−（２−ヒドロキシ−３−ドデシルオキシ
−プロポキシ）フェニル］−４，６−ビス（２，４−ジ
メチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２
−ヒドロキシ−４−ヘキシルオキシ）フェニル−４，６
−ジフェニル−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒ
ドロキシ−４−メトキシフェニル）−４，６−ジフェニ
ル−１，３，５−トリアジン、２，４，６−トリス［２
−ヒドロキシ−４−（３−ブトキシ−２−ヒドロキシ−
プロポキシ）フェニル］−１，３，５−トリアジン、２
−（２−ヒドロキシフェニル）−４−（４−メトキシフ
ェニル）−６−フェニル−１，３，５−トリアジン。
ル）−１，３，５−トリアジン、例えば２，４，６−ト
リス（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル)
−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４
−オクチルオキシフェニル）−４，６−ビス（２，４−
ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−
（２，４−ジヒドロキシフェニル）−４，６−ビス
（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジ
ン、２，４−ビス（２−ヒドロキシ−４−プロピルオキ
シフェニル）−６−（２，４−ジメチルフェニル）−
１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−
オクチルオキシフェニル) −４，６−ビス（４−メチル
フェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒド
ロキシ−４−ドデシルオキシフェニル) −４，６−ビス
（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジ
ン、２−（２−ヒドロキシ−４−トリデシルオキシフェ
ニル) −４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−
１，３，５−トリアジン、２−［２−ヒドロキシ−４−
（２−ヒドロキシ−３−ブチルオキシ−プロポキシ）フ
ェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチル）−１，
３，５−トリアジン、２−［２−ヒドロキシ−４−（２
−ヒドロキシ−３−オクチルオキシ−プロピルオキシ）
フェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチル）−１，
３，５−トリアジン、２−［４−（ドデシルオキシ／ト
リデシルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）−２−ヒ
ドロキシ−フェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチ
ルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−［２−ヒ
ドロキシ−４−（２−ヒドロキシ−３−ドデシルオキシ
−プロポキシ）フェニル］−４，６−ビス（２，４−ジ
メチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２
−ヒドロキシ−４−ヘキシルオキシ）フェニル−４，６
−ジフェニル−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒ
ドロキシ−４−メトキシフェニル）−４，６−ジフェニ
ル−１，３，５−トリアジン、２，４，６−トリス［２
−ヒドロキシ−４−（３−ブトキシ−２−ヒドロキシ−
プロポキシ）フェニル］−１，３，５−トリアジン、２
−（２−ヒドロキシフェニル）−４−（４−メトキシフ
ェニル）−６−フェニル−１，３，５−トリアジン。
【００４８】３． 金属不活性化剤，例えばＮ，Ｎ′−
ジフェニルシュウ酸ジアミド、Ｎ−サリチラル−Ｎ′−
サリチロイルヒドラジン、Ｎ，Ｎ′−ビス（サリチロイ
ル）ヒドラジン、Ｎ，Ｎ′−ビス（３，５−ジ−第三ブ
チル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）ヒドラジ
ン、３−サリチロイルアミノ−１，２，４−トリアゾー
ル、ビス（ベンジリデン）オキザリルジヒドラジド、オ
キサニリド、イソフタロイルジヒドラジド、セバコイル
ビス−フェニルヒドラジド、Ｎ，Ｎ’−ジアセチルア
ジポイルジヒドラジド、Ｎ，Ｎ’−ビス（サリチロイ
ル）オキザリルジヒドラジド、Ｎ，Ｎ’−ビス（サリチ
ロイル）チオプロピニルジヒドラジド。
ジフェニルシュウ酸ジアミド、Ｎ−サリチラル−Ｎ′−
サリチロイルヒドラジン、Ｎ，Ｎ′−ビス（サリチロイ
ル）ヒドラジン、Ｎ，Ｎ′−ビス（３，５−ジ−第三ブ
チル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）ヒドラジ
ン、３−サリチロイルアミノ−１，２，４−トリアゾー
ル、ビス（ベンジリデン）オキザリルジヒドラジド、オ
キサニリド、イソフタロイルジヒドラジド、セバコイル
ビス−フェニルヒドラジド、Ｎ，Ｎ’−ジアセチルア
ジポイルジヒドラジド、Ｎ，Ｎ’−ビス（サリチロイ
ル）オキザリルジヒドラジド、Ｎ，Ｎ’−ビス（サリチ
ロイル）チオプロピニルジヒドラジド。
【００４９】４． ホスフィットおよびホスホナイト、
例えばトリフェニルホスフィット、ジフェニルアルキル
ホスフィット、フェニルジアルキルホスフィット、トリ
ス（ノニルフェニル）ホスフィット、トリラウリルホス
フィット、トリオクタデシルホスフィット、ジステアリ
ルペンタエリトリトールジホスフィット、トリス（２，
４−ジ−第三ブチルフェニル）ホスフィット、ジイソデ
シルペンタエリトリトールジホスフィット、ビス（２，
４−ジ−第三ブチルフェニル）−ペンタエリトリトール
ジホスフィット、ビス（２，６−ジ−第三ブチル−４−
メチルフェニル）−ペンタエリトリトールジホスフィッ
ト、ビス−イソデシルオキシ−ペンタエリトリトールジ
ホスフィット、ビス（２，４−ジ−第三ブチル−６−メ
チルフェニル）−ペンタエリトリトールジホスフィッ
ト、ビス（２，４，６−トリ−第三ブチル−ブチルフェ
ニル）−ペンタエリトリトールジホスフィット、トリス
テアリルソルビトールトリホスフィット、テトラキス
（２，４−ジ−第三ブチルフェニル）４，４′−ビフェ
ニレンジホスホナイト、６−イソオクチルオキシ−２，
４，８，１０−テトラ−第三ブチル−１２Ｈ−ジベンズ
［ｄ，ｇ］−１，３，２−ジオキサホスホシン、６−フ
ルオロ−２，４，８，１０−テトラ−第三ブチル−１２
−メチル−ジベンズ［ｄ，ｇ］−１，３，２−ジオキサ
ホスホシン、ビス（２，４−ジ−第三ブチル−６−メチ
ルフェニル）メチルホスフィット、ビス（２，４−ジ−
第三ブチル−６−メチルフェニル）エチルホスフィッ
ト。
例えばトリフェニルホスフィット、ジフェニルアルキル
ホスフィット、フェニルジアルキルホスフィット、トリ
ス（ノニルフェニル）ホスフィット、トリラウリルホス
フィット、トリオクタデシルホスフィット、ジステアリ
ルペンタエリトリトールジホスフィット、トリス（２，
４−ジ−第三ブチルフェニル）ホスフィット、ジイソデ
シルペンタエリトリトールジホスフィット、ビス（２，
４−ジ−第三ブチルフェニル）−ペンタエリトリトール
ジホスフィット、ビス（２，６−ジ−第三ブチル−４−
メチルフェニル）−ペンタエリトリトールジホスフィッ
ト、ビス−イソデシルオキシ−ペンタエリトリトールジ
ホスフィット、ビス（２，４−ジ−第三ブチル−６−メ
チルフェニル）−ペンタエリトリトールジホスフィッ
ト、ビス（２，４，６−トリ−第三ブチル−ブチルフェ
ニル）−ペンタエリトリトールジホスフィット、トリス
テアリルソルビトールトリホスフィット、テトラキス
（２，４−ジ−第三ブチルフェニル）４，４′−ビフェ
ニレンジホスホナイト、６−イソオクチルオキシ−２，
４，８，１０−テトラ−第三ブチル−１２Ｈ−ジベンズ
［ｄ，ｇ］−１，３，２−ジオキサホスホシン、６−フ
ルオロ−２，４，８，１０−テトラ−第三ブチル−１２
−メチル−ジベンズ［ｄ，ｇ］−１，３，２−ジオキサ
ホスホシン、ビス（２，４−ジ−第三ブチル−６−メチ
ルフェニル）メチルホスフィット、ビス（２，４−ジ−
第三ブチル−６−メチルフェニル）エチルホスフィッ
ト。
【００５０】５．ヒドロキシルアミン、例えば、Ｎ，Ｎ
−ジベンジルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジエチルヒ
ドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジオクチルヒドロキシルア
ミン、Ｎ，Ｎ−ジラウリルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ
−ジテトラデシルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジヘキ
サデシルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジオクタデシル
ヒドロキシルアミン、Ｎ−ヘキサデシル−Ｎ−オクダデ
シルヒドロキシルアミン、Ｎ−ヘプタデシル−Ｎ−オク
タデシルヒドロキシルアミン、ハロゲン化獣脂アミンか
ら誘導されたＮ，Ｎ−ジアルキルヒドロキシルアミン。
−ジベンジルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジエチルヒ
ドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジオクチルヒドロキシルア
ミン、Ｎ，Ｎ−ジラウリルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ
−ジテトラデシルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジヘキ
サデシルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジオクタデシル
ヒドロキシルアミン、Ｎ−ヘキサデシル−Ｎ−オクダデ
シルヒドロキシルアミン、Ｎ−ヘプタデシル−Ｎ−オク
タデシルヒドロキシルアミン、ハロゲン化獣脂アミンか
ら誘導されたＮ，Ｎ−ジアルキルヒドロキシルアミン。
【００５１】６．ニトロン、例えばＮ−ベンジル−アル
ファ−フェニル−ニトロン、Ｎ−エチル−アルファ−メ
チル−ニトロン、Ｎ−オクチル−アルファ−ヘプチル−
ニトロン、Ｎ−ラウリル−アルファ−ウンデシル−ニト
ロン、Ｎ−テトラデシル−アルファ−トリデシル−ニト
ロン、Ｎ−ヘキサデシル−アルファ−ペンタデシル−ニ
トロン、Ｎ−オクタデシル−アルファ−ヘプタデシル−
ニトロン、Ｎ−ヘキサデシル−アルファ−ヘプタデシル
−ニトロン、Ｎ−オクタデシル−アルファ−ペンタデシ
ル−ニトロン、Ｎ−ヘプタデシル−アルファ−ヘプタデ
シル−ニトロン、Ｎ−オクタデシル−アルファ−ヘキサ
デシル−ニトロン、ハロゲン化獣脂アミンから誘導され
たＮ，Ｎ−ジアルキルヒドロキシルアミンより誘導され
たニトロン。
ファ−フェニル−ニトロン、Ｎ−エチル−アルファ−メ
チル−ニトロン、Ｎ−オクチル−アルファ−ヘプチル−
ニトロン、Ｎ−ラウリル−アルファ−ウンデシル−ニト
ロン、Ｎ−テトラデシル−アルファ−トリデシル−ニト
ロン、Ｎ−ヘキサデシル−アルファ−ペンタデシル−ニ
トロン、Ｎ−オクタデシル−アルファ−ヘプタデシル−
ニトロン、Ｎ−ヘキサデシル−アルファ−ヘプタデシル
−ニトロン、Ｎ−オクタデシル−アルファ−ペンタデシ
ル−ニトロン、Ｎ−ヘプタデシル−アルファ−ヘプタデ
シル−ニトロン、Ｎ−オクタデシル−アルファ−ヘキサ
デシル−ニトロン、ハロゲン化獣脂アミンから誘導され
たＮ，Ｎ−ジアルキルヒドロキシルアミンより誘導され
たニトロン。
【００５２】７．チオ相乗剤、例えばジラウリルチオジ
プロピオネートまたはジステアリルチオジプロピオネー
ト。
プロピオネートまたはジステアリルチオジプロピオネー
ト。
【００５３】８． 過酸化物スカベンジャー、例えばβ
−チオジプロピオン酸のエステル、例えばラウリル、ス
テアリル、ミリスチルまたはトリデシルエステル、メル
カプトベンズイミダゾール、または２−メルカプトベン
ズイミダゾールの亜鉛塩、ジブチルジチオカルバミン酸
亜鉛、ジオクタデシルジスルフィド、ペンタエリトリト
ールテトラキス（β−ドデシルメルカプト）プロピオネ
ート。
−チオジプロピオン酸のエステル、例えばラウリル、ス
テアリル、ミリスチルまたはトリデシルエステル、メル
カプトベンズイミダゾール、または２−メルカプトベン
ズイミダゾールの亜鉛塩、ジブチルジチオカルバミン酸
亜鉛、ジオクタデシルジスルフィド、ペンタエリトリト
ールテトラキス（β−ドデシルメルカプト）プロピオネ
ート。
【００５４】９．塩基性補助安定剤、例えばメラミン、
ポリビニルピロリドン、ジシアンジアミド、トリアリル
シアヌレート、尿素誘導体、ヒドラジン誘導体、アミ
ン、ポリアミド、ポリウレタン、高級脂肪酸のアルカリ
金属塩およびアルカリ土類金属塩、例えばステアリン酸
Ｃａ塩、ステアリン酸Ｚｎ塩、ベヘン酸Ｍｇ塩、ステア
リン酸Ｍｇ塩、リシノール酸Ｎａ塩およびパルミチン酸
Ｋ塩、カテコールアンチモン塩およびカテコール錫塩。
ポリビニルピロリドン、ジシアンジアミド、トリアリル
シアヌレート、尿素誘導体、ヒドラジン誘導体、アミ
ン、ポリアミド、ポリウレタン、高級脂肪酸のアルカリ
金属塩およびアルカリ土類金属塩、例えばステアリン酸
Ｃａ塩、ステアリン酸Ｚｎ塩、ベヘン酸Ｍｇ塩、ステア
リン酸Ｍｇ塩、リシノール酸Ｎａ塩およびパルミチン酸
Ｋ塩、カテコールアンチモン塩およびカテコール錫塩。
【００５５】１０．核剤、例えば無機物質例えば、タル
ク、二酸化チタンまたは酸化マグネシウムのような金属
酸化物、好ましくはアルカリ土類金属のリン酸塩、炭酸
塩または硫酸塩；有機化合物例えば、モノ−またはポリ
カルボン酸およびその塩、例えば４−第三ブチル安息香
酸、アジピン酸、ジフェニル酢酸、コハク酸ナトリウム
または安息香酸ナトリウム；イオン共重合体（「イオノ
マー(ionomers)」）のような重合性化合物。
ク、二酸化チタンまたは酸化マグネシウムのような金属
酸化物、好ましくはアルカリ土類金属のリン酸塩、炭酸
塩または硫酸塩；有機化合物例えば、モノ−またはポリ
カルボン酸およびその塩、例えば４−第三ブチル安息香
酸、アジピン酸、ジフェニル酢酸、コハク酸ナトリウム
または安息香酸ナトリウム；イオン共重合体（「イオノ
マー(ionomers)」）のような重合性化合物。
【００５６】１１．充填剤および強化剤、例えば炭酸カ
ルシウム、ケイ酸塩、ガラス繊維、ガラス球、アスベス
ト、タルク、カオリン、雲母、硫酸バリウム、金属酸化
物および水酸化物、カーボンブラック、グラファイト、
木粉および天然物の粉もしくは繊維、合成繊維。
ルシウム、ケイ酸塩、ガラス繊維、ガラス球、アスベス
ト、タルク、カオリン、雲母、硫酸バリウム、金属酸化
物および水酸化物、カーボンブラック、グラファイト、
木粉および天然物の粉もしくは繊維、合成繊維。
【００５７】１２．その他の添加剤、例えば可塑剤、潤
滑剤、乳化剤、顔料、レオロジー添加剤（rheology add
itives) 、触媒、流れ調整剤、蛍光増白剤、難燃剤、静
電防止剤および発泡剤。
滑剤、乳化剤、顔料、レオロジー添加剤（rheology add
itives) 、触媒、流れ調整剤、蛍光増白剤、難燃剤、静
電防止剤および発泡剤。
【００５８】１３．ベンゾフラノンまたはインドリノ
ン、例えばＵＳ−Ａ−４３２５８６３号、ＵＳ−Ａ−４
３３８２４４号、ＵＳ−Ａ−５１７５３１２号、ＵＳ−
Ａ−５２１６０５２号、ＵＳ−Ａ−５２５２６４３号、
ＤＥ−Ａ−４３１６６１１号、ＤＥ−Ａ−４３１６６２
２号、ＤＥ−Ａ−４３１６８７６号、ＥＰ−Ａ−０５８
９８３９号もしくはＥＰ−Ａ−０５９１１０２号に記載
されているもの、または３−［４−（２−アセトキシエ
トキシ）フェニル］−５，７−ジ−第三ブチル−ベンゾ
フラノ−２−オン、５，７−ジ−第三ブチル−３−［４
−（２−ステアロイルオキシエトキシ）フェニル］ベン
ゾフラノ−２−オン、３，３’−ビス［５，７−ジ−第
三ブチル−３−（４−［２−ヒドロキシエトキシ］フェ
ニル）ベンゾフラノ−２−オン］、５，７−ジ−第三ブ
チル−３−（４−エトキシフェニル）ベンゾフラノ−２
−オン、３−（４−アセトキシ−３，５−ジメチルフェ
ニル）−５，７−ジ−第三ブチル−ベンゾフラノ−２−
オン、３−（３，５−ジメチル−４−ピバロイルオキシ
フェニル）−５，７−ジ−第三ブチル−ベンゾフラノ−
２−オン。
ン、例えばＵＳ−Ａ−４３２５８６３号、ＵＳ−Ａ−４
３３８２４４号、ＵＳ−Ａ−５１７５３１２号、ＵＳ−
Ａ−５２１６０５２号、ＵＳ−Ａ−５２５２６４３号、
ＤＥ−Ａ−４３１６６１１号、ＤＥ−Ａ−４３１６６２
２号、ＤＥ−Ａ−４３１６８７６号、ＥＰ−Ａ−０５８
９８３９号もしくはＥＰ−Ａ−０５９１１０２号に記載
されているもの、または３−［４−（２−アセトキシエ
トキシ）フェニル］−５，７−ジ−第三ブチル−ベンゾ
フラノ−２−オン、５，７−ジ−第三ブチル−３−［４
−（２−ステアロイルオキシエトキシ）フェニル］ベン
ゾフラノ−２−オン、３，３’−ビス［５，７−ジ−第
三ブチル−３−（４−［２−ヒドロキシエトキシ］フェ
ニル）ベンゾフラノ−２−オン］、５，７−ジ−第三ブ
チル−３−（４−エトキシフェニル）ベンゾフラノ−２
−オン、３−（４−アセトキシ−３，５−ジメチルフェ
ニル）−５，７−ジ−第三ブチル−ベンゾフラノ−２−
オン、３−（３，５−ジメチル−４−ピバロイルオキシ
フェニル）−５，７−ジ−第三ブチル−ベンゾフラノ−
２−オン。
【００５９】１３項に掲げたベンゾフラン−２−オンを
除いて、共安定剤は典型的には、安定化されるべき材料
の全重量に基づいて０．０１〜１０％の濃度で添加され
る。更に好ましい組成物は、成分（ａ）及び（ｂ）以外
に他の添加剤、好ましくはフェノール系抗酸剤、光安定
剤及び／又は加工安定剤を含む。特に好ましい添加剤は
フェノール系抗酸剤（上記リストの１項）、立体障害ア
ミン（上記リストの２．６項）及び過酸化物スカベンジ
ャー（上記リストの８項）である。
除いて、共安定剤は典型的には、安定化されるべき材料
の全重量に基づいて０．０１〜１０％の濃度で添加され
る。更に好ましい組成物は、成分（ａ）及び（ｂ）以外
に他の添加剤、好ましくはフェノール系抗酸剤、光安定
剤及び／又は加工安定剤を含む。特に好ましい添加剤は
フェノール系抗酸剤（上記リストの１項）、立体障害ア
ミン（上記リストの２．６項）及び過酸化物スカベンジ
ャー（上記リストの８項）である。
【００６０】特に興味深いフェノール性抗酸化剤はｎ−
オクタデシル３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシヒ
ドロシンナメート、ネオペンタンテトライルテトラキス
（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシヒドロシンナ
メート）、ジ−ｎ−オクタデシル３，５−ジ第三ブチル
−４−ヒドロキシベンジルホスホネート、１，３，５ト
リス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジ
ル）イソシアヌレート、チオジエチレンビス（３，５−
ジ第三ブチル−４−ヒドロキシヒドロシンナメート）、
１，３，５−トリメチル−２，４，６−トリス（３，５
−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ベンゼン、
３，６−ジオキサオクタメチレンビス（３−メチル−５
−第三ブチル−４−ヒドロキシヒドロシンナメート）、
２，６−ジ第三ブチル−ｐ−クレゾール、２，２’−エ
チリデン−ビス（４，６−ジ第三ブチルフェノール）、
１，３，５−トリス（２，６−ジメチル−４−第三ブチ
ル−３−ヒドロキシベンジル）イソシヌレート、１，
１，３−トリス（２−メチル−４−ヒドロキシ−５−第
三ブチルフェニル）ブタン、１，３，５−トリス〔２−
（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシヒドロシンナ
モイルオキシ）エチル〕−イソシアヌレート、３，５−
ジ−（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジ
ル）メシトール、ヘキサメチレンビス（３，５−ジ第三
ブチル−４−ヒドロキシヒドロシンナメート）、１−
（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシアニリノ）−
３，５−ジ−（オクチルチオ）−ｓ−トリアジン、Ｎ，
Ｎ’−ヘキサメチレン−ビス（３，５−ジ第三ブチル−
４−ヒドロキシヒドロシンナミド）、カルシウム ビス
（エチル３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジ
ルホスホネート）、エチレンビス〔３，３−ジ（３−第
三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）ブチレート〕、オ
クチル３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル
メルカプトアセテート、ビス（３，５−ジ第三ブチル−
４−ヒドロキシヒドロシンナモイル）−ヒドラジド、お
よびＮ，Ｎ’−ビス〔２−（３，５−ジ第三ブチル−４
−ヒドロキシヒドロシンナモイルオキシ）−エチル〕−
オキサミドからなる群から選ばれる。
オクタデシル３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシヒ
ドロシンナメート、ネオペンタンテトライルテトラキス
（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシヒドロシンナ
メート）、ジ−ｎ−オクタデシル３，５−ジ第三ブチル
−４−ヒドロキシベンジルホスホネート、１，３，５ト
リス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジ
ル）イソシアヌレート、チオジエチレンビス（３，５−
ジ第三ブチル−４−ヒドロキシヒドロシンナメート）、
１，３，５−トリメチル−２，４，６−トリス（３，５
−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ベンゼン、
３，６−ジオキサオクタメチレンビス（３−メチル−５
−第三ブチル−４−ヒドロキシヒドロシンナメート）、
２，６−ジ第三ブチル−ｐ−クレゾール、２，２’−エ
チリデン−ビス（４，６−ジ第三ブチルフェノール）、
１，３，５−トリス（２，６−ジメチル−４−第三ブチ
ル−３−ヒドロキシベンジル）イソシヌレート、１，
１，３−トリス（２−メチル−４−ヒドロキシ−５−第
三ブチルフェニル）ブタン、１，３，５−トリス〔２−
（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシヒドロシンナ
モイルオキシ）エチル〕−イソシアヌレート、３，５−
ジ−（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジ
ル）メシトール、ヘキサメチレンビス（３，５−ジ第三
ブチル−４−ヒドロキシヒドロシンナメート）、１−
（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシアニリノ）−
３，５−ジ−（オクチルチオ）−ｓ−トリアジン、Ｎ，
Ｎ’−ヘキサメチレン−ビス（３，５−ジ第三ブチル−
４−ヒドロキシヒドロシンナミド）、カルシウム ビス
（エチル３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジ
ルホスホネート）、エチレンビス〔３，３−ジ（３−第
三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）ブチレート〕、オ
クチル３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル
メルカプトアセテート、ビス（３，５−ジ第三ブチル−
４−ヒドロキシヒドロシンナモイル）−ヒドラジド、お
よびＮ，Ｎ’−ビス〔２−（３，５−ジ第三ブチル−４
−ヒドロキシヒドロシンナモイルオキシ）−エチル〕−
オキサミドからなる群から選ばれる。
【００６１】もっとも好ましいフェノール性抗酸化剤
は、ネオペンタンテトライルテトラキス（３，５−ジ第
三ブチル−４−ヒドロキシヒドロシンナメート）、ｎ−
オクタデシル３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシヒ
ドロシンナメート、１，３，５トリメチル−２，４，６
−トリス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベン
ジル）ベンゼン、１，３，５−トリス（３，５−ジ第三
ブチル−４−ヒドロキシベンジル）イソシアヌレート、
２，６−ジ第三ブチル−ｐ−クレゾールまたは２，２’
−エチリデン−ビス−（４，６−ジ第三ブチルフェノー
ル）である。
は、ネオペンタンテトライルテトラキス（３，５−ジ第
三ブチル−４−ヒドロキシヒドロシンナメート）、ｎ−
オクタデシル３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシヒ
ドロシンナメート、１，３，５トリメチル−２，４，６
−トリス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベン
ジル）ベンゼン、１，３，５−トリス（３，５−ジ第三
ブチル−４−ヒドロキシベンジル）イソシアヌレート、
２，６−ジ第三ブチル−ｐ−クレゾールまたは２，２’
−エチリデン−ビス−（４，６−ジ第三ブチルフェノー
ル）である。
【００６２】成分（ｂ）の式Ｉのトリアルカノールアミ
ントリホスフィットは、触媒残渣、特にアルミニウム残
渣を含むポリオレフィンに使用されるフェノール系抗酸
化剤を変色から保護し、ポリオレフィン樹脂に対して優
れた色を提供する。
ントリホスフィットは、触媒残渣、特にアルミニウム残
渣を含むポリオレフィンに使用されるフェノール系抗酸
化剤を変色から保護し、ポリオレフィン樹脂に対して優
れた色を提供する。
【００６３】特に興味深い障害性アミン化合物はビス
（２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イ
ル）セバケート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメ
チルピペリジン−４−イル）セバケート、ジ（１，２，
２，６，６−ペンタメチルピペリジン−４−イル）
（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ブ
チルマロネート、４−ベンゾイル−２，２，６，６−テ
トラメチルピペリジン、４−ステアリールオキシ−２，
２，６，６−テトラメチルピペリジン、３−ｎ−オクチ
ル−７，７，９，９−テトラメチル−１，３，８−トリ
アザ−スピロ〔４．５〕デカン−２，４−ジオン、トリ
ス（２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イ
ル）ニトリロトリアセテート、１，２−ビス（２，２，
６，６−テトラメチル−３−オキソ−ピペラジン−４−
イル）エタン、２，２，４，４−テトラメチル−７−オ
キサ−３，２０−ジアザ−２１−オキサジスピロ〔５．
１．１１．２〕ヘンエイコサン、２，４−ジクロロ−６
−第三オクチルアミノ−ｓ−トリアジンと４，４’−ヘ
キサメチレンビス（アミノ−２，２，６，６−テトラメ
チルピペリジン）の重縮合生成物、１−（２−ヒドロキ
シエチル）−２，２，６，６−テトラメチル−４−ヒド
ロキシピペリジンとコハク酸の重縮合生成物、４，４’
−ヘキサメチレンビス（アミノ−２，２，６，６−テト
ラメチルピペリジン）と１，２−ジブロモエタンの重縮
合生成物、テトラキス（２，２，６，６−テトラメチル
ピペリジン−４−イル）１，２，３，４−ブタンテトラ
カルボキシレート、テトラキス（１，２，２，６，６−
ペンタメチルピペリジン−４−イル）１，２，３，４−
ブタンテトラカルボキシレート、２，４−ジクロロ−６
−モルホリノ−ｓ−トリアジンと４，４’−ヘキサメチ
レンビス（アミノ−２，２，６，６−テトラメチルピペ
リジン）の重縮合生成物、Ｎ，Ｎ’，Ｎ”，Ｎ”’−テ
トラキス〔（４，６−ビス（ブチル−２，２，６，６−
テトラメチルピペリジン−４−イル）−アミノ−ｓ−ト
リアジン−２−イル〕−１，１０−ジアミノ−４，７−
ジアザデカン、混合された〔２，２，６，６−テトラメ
チルピペリジン−４−イル／β，β，β’，β’−テト
ラメチル−３，９−（２，４，８，１０−テトラオキサ
スピロ〔５．５〕−ウンデカン）ジエチル〕１，２，
３，４−ブタンテトラカルボキシレート、混合された
〔１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジン−４−
イル／β，β，β’，β’−テトラメチル−３，９−
（２，４，８，１０−テトラオキサスピロ〔５．５〕−
ウンデカン）ジエチル〕１，２，３，４−ブタンテトラ
カルボキシレート、オクタメチレンビス（２，２，６，
６−テトラメチルピペリジン−４−カルボキシレー
ト）、４，４’−エチレンビス（２，２，６，６−テト
ラメチルピペラジン−３−オン）、ビス（１−オクチル
オキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４
−イル）セバケート、からなる群から選ばれる。
（２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イ
ル）セバケート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメ
チルピペリジン−４−イル）セバケート、ジ（１，２，
２，６，６−ペンタメチルピペリジン−４−イル）
（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ブ
チルマロネート、４−ベンゾイル−２，２，６，６−テ
トラメチルピペリジン、４−ステアリールオキシ−２，
２，６，６−テトラメチルピペリジン、３−ｎ−オクチ
ル−７，７，９，９−テトラメチル−１，３，８−トリ
アザ−スピロ〔４．５〕デカン−２，４−ジオン、トリ
ス（２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イ
ル）ニトリロトリアセテート、１，２−ビス（２，２，
６，６−テトラメチル−３−オキソ−ピペラジン−４−
イル）エタン、２，２，４，４−テトラメチル−７−オ
キサ−３，２０−ジアザ−２１−オキサジスピロ〔５．
１．１１．２〕ヘンエイコサン、２，４−ジクロロ−６
−第三オクチルアミノ−ｓ−トリアジンと４，４’−ヘ
キサメチレンビス（アミノ−２，２，６，６−テトラメ
チルピペリジン）の重縮合生成物、１−（２−ヒドロキ
シエチル）−２，２，６，６−テトラメチル−４−ヒド
ロキシピペリジンとコハク酸の重縮合生成物、４，４’
−ヘキサメチレンビス（アミノ−２，２，６，６−テト
ラメチルピペリジン）と１，２−ジブロモエタンの重縮
合生成物、テトラキス（２，２，６，６−テトラメチル
ピペリジン−４−イル）１，２，３，４−ブタンテトラ
カルボキシレート、テトラキス（１，２，２，６，６−
ペンタメチルピペリジン−４−イル）１，２，３，４−
ブタンテトラカルボキシレート、２，４−ジクロロ−６
−モルホリノ−ｓ−トリアジンと４，４’−ヘキサメチ
レンビス（アミノ−２，２，６，６−テトラメチルピペ
リジン）の重縮合生成物、Ｎ，Ｎ’，Ｎ”，Ｎ”’−テ
トラキス〔（４，６−ビス（ブチル−２，２，６，６−
テトラメチルピペリジン−４−イル）−アミノ−ｓ−ト
リアジン−２−イル〕−１，１０−ジアミノ−４，７−
ジアザデカン、混合された〔２，２，６，６−テトラメ
チルピペリジン−４−イル／β，β，β’，β’−テト
ラメチル−３，９−（２，４，８，１０−テトラオキサ
スピロ〔５．５〕−ウンデカン）ジエチル〕１，２，
３，４−ブタンテトラカルボキシレート、混合された
〔１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジン−４−
イル／β，β，β’，β’−テトラメチル−３，９−
（２，４，８，１０−テトラオキサスピロ〔５．５〕−
ウンデカン）ジエチル〕１，２，３，４−ブタンテトラ
カルボキシレート、オクタメチレンビス（２，２，６，
６−テトラメチルピペリジン−４−カルボキシレー
ト）、４，４’−エチレンビス（２，２，６，６−テト
ラメチルピペラジン−３−オン）、ビス（１−オクチル
オキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４
−イル）セバケート、からなる群から選ばれる。
【００６４】もっとも好ましい障害性アミン化合物はビ
ス（２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イ
ル）セバケート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメ
チルピペリジン−４−イル）セバケート、ジ（１，２，
２，６，６−ペンタメチルピペリジン−４−イル）
（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）
ブチルマロネート、１−（２−ヒドロキシエチル）−
２，２，６，６−テトラメチル−４−ヒドロキシピペリ
ジンとコハク酸の重縮合生成物、２，４−ジクロロ−６
−第三オクチルアミノ−ｓ−トリアジンと４，４’−ヘ
キサメチレンビス（アミノ−２，２，６，６−テトラメ
チルピペリジン）の重縮合生成物、Ｎ，Ｎ’，Ｎ”，
Ｎ”’−テトラキス〔（４，６−ビス（ブチル−（２，
２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）アミ
ノ−ｓ−トリアジン−２−イル〕−１，１０−ジアミノ
−４，７−ジアザデカン、ビス（１−オクチルオキシ−
２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）
セバケートである。
ス（２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イ
ル）セバケート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメ
チルピペリジン−４−イル）セバケート、ジ（１，２，
２，６，６−ペンタメチルピペリジン−４−イル）
（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）
ブチルマロネート、１−（２−ヒドロキシエチル）−
２，２，６，６−テトラメチル−４−ヒドロキシピペリ
ジンとコハク酸の重縮合生成物、２，４−ジクロロ−６
−第三オクチルアミノ−ｓ−トリアジンと４，４’−ヘ
キサメチレンビス（アミノ−２，２，６，６−テトラメ
チルピペリジン）の重縮合生成物、Ｎ，Ｎ’，Ｎ”，
Ｎ”’−テトラキス〔（４，６−ビス（ブチル−（２，
２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）アミ
ノ−ｓ−トリアジン−２−イル〕−１，１０−ジアミノ
−４，７−ジアザデカン、ビス（１−オクチルオキシ−
２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）
セバケートである。
【００６５】同様に特に好ましい他の添加剤（安定剤）
は、特にＵＳ−Ａ−４３２５８６３、ＵＳ−Ａ−４３３
８２４４、ＵＳ−Ａ−５１７５３１２、ＵＳ−Ａ−５２
１６０５２、ＵＳ−Ａ−５２５２６４３、ＤＥ−Ａ−４
３１６６１１、ＤＥ−Ａ−４３１６６２２、ＤＥ−Ａ−
４３１６８７６、ＥＰ−Ａ−０５８９８３９及びＥＰ−
Ａ−０５９１１０２に開示されているようなベンゾフラ
ン−２−オンである。
は、特にＵＳ−Ａ−４３２５８６３、ＵＳ−Ａ−４３３
８２４４、ＵＳ−Ａ−５１７５３１２、ＵＳ−Ａ−５２
１６０５２、ＵＳ−Ａ−５２５２６４３、ＤＥ−Ａ−４
３１６６１１、ＤＥ−Ａ−４３１６６２２、ＤＥ−Ａ−
４３１６８７６、ＥＰ−Ａ−０５８９８３９及びＥＰ−
Ａ−０５９１１０２に開示されているようなベンゾフラ
ン−２−オンである。
【００６６】このようなベンゾフラノ−２−オンの実例
は、式：
は、式：
【化３】 ｛式中、Ｒ’11は未置換のもしくは置換された炭素環式
または複素環式芳香環系を表し；Ｒ’12は水素原子を表
し；Ｒ’14は水素原子、１ないし１２個の炭素原子のア
ルキル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基または
塩素原子を表し；Ｒ’13はＲ’12またはＲ’14の意味を
有するかあるいは式：
または複素環式芳香環系を表し；Ｒ’12は水素原子を表
し；Ｒ’14は水素原子、１ないし１２個の炭素原子のア
ルキル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基または
塩素原子を表し；Ｒ’13はＲ’12またはＲ’14の意味を
有するかあるいは式：
【化４】 〔式中、Ｒ’16は水素原子、１ないし１８個の炭素原子
のアルキル基、酸素原子または硫黄原子により中断され
た２ないし１８個の炭素原子のアルキル基、全部で３な
いし１６個の炭素原子のジアルキルアミノアルキル基、
シクロペンチル基、シクロヘキシル基、フェニル基また
は合わせて１８個以下の炭素原子を含む１ないし３個の
アルキル基によって置換されるフェニル基を表し；ｓは
０，１または２を表し；置換基Ｒ’17はおのおの互いに
独立して１ないし１８個の炭素原子のアルキル基、シク
ロペンチル基、シクロヘキシル基、フェニル基または合
わせて１６個以下の炭素原子を含む１ないし２個のアル
キル基によって置換されるフェニル基、式：
のアルキル基、酸素原子または硫黄原子により中断され
た２ないし１８個の炭素原子のアルキル基、全部で３な
いし１６個の炭素原子のジアルキルアミノアルキル基、
シクロペンチル基、シクロヘキシル基、フェニル基また
は合わせて１８個以下の炭素原子を含む１ないし３個の
アルキル基によって置換されるフェニル基を表し；ｓは
０，１または２を表し；置換基Ｒ’17はおのおの互いに
独立して１ないし１８個の炭素原子のアルキル基、シク
ロペンチル基、シクロヘキシル基、フェニル基または合
わせて１６個以下の炭素原子を含む１ないし２個のアル
キル基によって置換されるフェニル基、式：
【化５】 （基中、ｔは１ないし１８を表し；Ｒ’20は水素原子、
１ないし２２個の炭素原子のアルキル基または５ないし
１２個の炭素原子のシクロアルキル基を表す。）で表さ
れる基を表すか、あるいはそれらが結合する窒素原子と
一緒になって、ピペリジン基またはモルホリン基を形成
し；Ａは窒素原子、酸素原子または硫黄原子によって中
断されてもよい２ないし２２個の炭素原子のアルキレン
基を表し；Ｒ’18は水素原子、１ないし１８個のアルキ
ル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、フェニル
基、合わせて１６個以下の炭素原子を含む１ないし２個
のアルキル基によって置換されるフェニル基またはベン
ジル基を表し；Ｒ’19は１ないし１８個の炭素原子のア
ルキル基を表し；Ｄは−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−Ｓ
Ｏ2 −または−Ｃ（Ｒ’21）2 −（式中、置換基Ｒ’21
はおのおの互いに独立して、水素原子、炭素原子数１な
いし１６ののアルキル基を表し（ここで２つのＲ’21基
は合わせて１ないし１６の炭素原子を含む。）、Ｒ’21
はさらにフェニル基または式：
１ないし２２個の炭素原子のアルキル基または５ないし
１２個の炭素原子のシクロアルキル基を表す。）で表さ
れる基を表すか、あるいはそれらが結合する窒素原子と
一緒になって、ピペリジン基またはモルホリン基を形成
し；Ａは窒素原子、酸素原子または硫黄原子によって中
断されてもよい２ないし２２個の炭素原子のアルキレン
基を表し；Ｒ’18は水素原子、１ないし１８個のアルキ
ル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、フェニル
基、合わせて１６個以下の炭素原子を含む１ないし２個
のアルキル基によって置換されるフェニル基またはベン
ジル基を表し；Ｒ’19は１ないし１８個の炭素原子のア
ルキル基を表し；Ｄは−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−Ｓ
Ｏ2 −または−Ｃ（Ｒ’21）2 −（式中、置換基Ｒ’21
はおのおの互いに独立して、水素原子、炭素原子数１な
いし１６ののアルキル基を表し（ここで２つのＲ’21基
は合わせて１ないし１６の炭素原子を含む。）、Ｒ’21
はさらにフェニル基または式：
【化６】 で表される基（ｓ、Ｒ’16およびＲ’17は上記で定義さ
れたと同じ意味を表す。）を表し；Ｅは式：
れたと同じ意味を表す。）を表し；Ｅは式：
【化７】 （基中、Ｒ’11、Ｒ’12およびＲ’14は上記で定義され
たと同じ意味を表す。）で表される基を表す。〕で表さ
れる基を表し；Ｒ’15は水素原子、１ないし２０個の炭
素原子のアルキル基、シクロペンチル基、シクロヘキシ
ル基、塩素原子または式：
たと同じ意味を表す。）で表される基を表す。〕で表さ
れる基を表し；Ｒ’15は水素原子、１ないし２０個の炭
素原子のアルキル基、シクロペンチル基、シクロヘキシ
ル基、塩素原子または式：
【化８】 （Ｒ’16およびＲ’17は上記で定義されたと同じ意味を
表す。）で表される基を表すか、またはＲ’15はＲ’14
と一緒になってテトラメチレン基を表す。｝で表される
化合物である。
表す。）で表される基を表すか、またはＲ’15はＲ’14
と一緒になってテトラメチレン基を表す。｝で表される
化合物である。
【００６７】好ましいベンゾフラノ−２−オンは、式
中、Ｒ’13が水素原子、１ないし１２個の炭素原子のア
ルキル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、塩素
原子または式：
中、Ｒ’13が水素原子、１ないし１２個の炭素原子のア
ルキル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、塩素
原子または式：
【化９】 （式中、ｓ、Ｒ’16、Ｒ’17、ＤおよびＥは上記で定義
されたと同じ意味を表し、Ｒ’16は特に水素原子、１な
いし１８の炭素原子のアルキル基、シクロペンチル基ま
たはシクロヘキシル基を表す。）で表される基を表すも
のである。
されたと同じ意味を表し、Ｒ’16は特に水素原子、１な
いし１８の炭素原子のアルキル基、シクロペンチル基ま
たはシクロヘキシル基を表す。）で表される基を表すも
のである。
【００６８】さらに好ましいベンゾフラノ−２−オン
は、式中、Ｒ’11がフェニル基または合わせて１２個以
下の炭素原子を含む１ないし２個のアルキルにより置換
されたフェニル基を表し；Ｒ’12が水素原子を表し；
Ｒ’14が水素原子または１ないし１２の炭素原子のアル
キル基を表し；Ｒ’13が水素原子、１ないし１２個の炭
素原子のアルキル基、基：
は、式中、Ｒ’11がフェニル基または合わせて１２個以
下の炭素原子を含む１ないし２個のアルキルにより置換
されたフェニル基を表し；Ｒ’12が水素原子を表し；
Ｒ’14が水素原子または１ないし１２の炭素原子のアル
キル基を表し；Ｒ’13が水素原子、１ないし１２個の炭
素原子のアルキル基、基：
【化１０】 を表し；Ｒ’15が水素原子、１ないし２０の炭素原子の
アルキル基、基
アルキル基、基
【化１１】 （式中、ｓ、Ｒ’16、Ｒ’17、ＤおよびＥは最初に定義
した意味を表す。）を表すか、あるいはＲ’15はＲ’14
と一緒になってテトラメチレン基を形成する、ものであ
る。
した意味を表す。）を表すか、あるいはＲ’15はＲ’14
と一緒になってテトラメチレン基を形成する、ものであ
る。
【００６９】特別に重要なベンゾフラノ−２−オンはま
たは、式中、Ｒ’13は水素原子、１ないし１２個のアル
キル基または基：−Ｄ−Ｅ（基中、ＤおよびＥは最初に
定義した意味を表す。）を表し；およびＲ’12および
Ｒ’14はおのおの互いに独立して水素原子または１ない
し４個の炭素原子のアルキル基を表し；Ｒ’15は１ない
し２０個の炭素原子をもつアルキル基を表すものであ
る。
たは、式中、Ｒ’13は水素原子、１ないし１２個のアル
キル基または基：−Ｄ−Ｅ（基中、ＤおよびＥは最初に
定義した意味を表す。）を表し；およびＲ’12および
Ｒ’14はおのおの互いに独立して水素原子または１ない
し４個の炭素原子のアルキル基を表し；Ｒ’15は１ない
し２０個の炭素原子をもつアルキル基を表すものであ
る。
【００７０】最後に、Ｒ’13が１ないし４個の炭素原子
のアルキル基または基：−Ｄ−Ｅを表し；Ｒ’12および
Ｒ’14は水素原子を表し；およびＲ’15は１ないし４個
の炭素原子のアルキル基、シクロペンチル基またはシク
ロヘキシル基を表し；ならびにＤは−Ｃ（Ｒ’21）2 −
（基中、Ｒ’21は同じかまたは異なっておのおの１ない
し４個の炭素原子のアルキル基を表す。）を表し；なら
びにＥは式：
のアルキル基または基：−Ｄ−Ｅを表し；Ｒ’12および
Ｒ’14は水素原子を表し；およびＲ’15は１ないし４個
の炭素原子のアルキル基、シクロペンチル基またはシク
ロヘキシル基を表し；ならびにＤは−Ｃ（Ｒ’21）2 −
（基中、Ｒ’21は同じかまたは異なっておのおの１ない
し４個の炭素原子のアルキル基を表す。）を表し；なら
びにＥは式：
【化１２】 （基中、Ｒ’11、Ｒ’12、Ｒ’14およびＲ’15は上記で
定義したと同じ意味を表す。）で表される基を表すこれ
らのベンゾフラノ−２−オンが特別に重要なものであ
る。
定義したと同じ意味を表す。）で表される基を表すこれ
らのベンゾフラノ−２−オンが特別に重要なものであ
る。
【００７１】追加のベンゾフラノ−２−オンの量は非常
に広い範囲で変化できる。本発明の組成物は代表的には
該添加剤０．０００５ないし１０重量％、好ましくは
０．００１ないし５重量％、特には０．０１ないし２重
量％を含むことができる。
に広い範囲で変化できる。本発明の組成物は代表的には
該添加剤０．０００５ないし１０重量％、好ましくは
０．００１ないし５重量％、特には０．０１ないし２重
量％を含むことができる。
【００７２】
【発明の実施の形態】本発明の好ましい実施の態様は、
ポリオレフィンの重合をもたらす触媒又は共触媒として
使用された結果としての、少なくとも１種の遷移金属、
主族金属又はその混合物の残渣を１０乃至１０００ｐｐ
ｍの量において含有する、酸化、熱及び／又は光に起因
する劣化を受けるポリオレフィンを安定化するための式
Ｉの化合物の使用である。本発明はまたポリオレフィン
の重合をもたらす触媒又は共触媒として使用された結果
としての、少なくとも１種の遷移金属、主族金属又はそ
の混合物の残渣を１０乃至１０００ｐｐｍの量において
含有する、酸化、熱及び／又は光に起因する劣化を受け
るポリオレフィンを安定化する方法に関するものであ
り、該方法は成分（ｂ）に従う式Ｉの化合物を該ポリオ
レフィンに配合すること又は該ポリオレフィンに適用す
ることを包含する。
ポリオレフィンの重合をもたらす触媒又は共触媒として
使用された結果としての、少なくとも１種の遷移金属、
主族金属又はその混合物の残渣を１０乃至１０００ｐｐ
ｍの量において含有する、酸化、熱及び／又は光に起因
する劣化を受けるポリオレフィンを安定化するための式
Ｉの化合物の使用である。本発明はまたポリオレフィン
の重合をもたらす触媒又は共触媒として使用された結果
としての、少なくとも１種の遷移金属、主族金属又はそ
の混合物の残渣を１０乃至１０００ｐｐｍの量において
含有する、酸化、熱及び／又は光に起因する劣化を受け
るポリオレフィンを安定化する方法に関するものであ
り、該方法は成分（ｂ）に従う式Ｉの化合物を該ポリオ
レフィンに配合すること又は該ポリオレフィンに適用す
ることを包含する。
【００７３】
【実施例】次の実施例で、本発明をさらに十分かつ具体
的に説明する。そこで使用されている部とパーセントは
重量である。 実施例１：ポリプロピレンの安定化 次の一般的な操作は、添加剤をポリマー中で溶融混合
し、種々のポリプロピレン配合物を作製するために使用
した。ヒモントプロファックス６５０１（登録商標 Him
ont Profax）、（塊状重合）ポリプロピレン粉末１００
０グラムに、種々の試験用添加剤を、各実施例および以
下の表で説明する濃度で添加する。フェノール酸化防止
剤の濃度を７５０ｐｐｍに調整した。酸性スカベンジャ
ー、ステアリン酸カルシウム塩もまた７５０ｐｐｍで使
用した。トリエチルアルミニウムの濃度は、最終配合物
の中のアルミニウムの０から約１１２ｐｐｍに対応さ
せ、０から５００ｐｐｍに変化させた。得られる配合粉
末は、タンブラーミキサーで２０分間、さらにタンブラ
ー配合した。配合した混合物は、次いでマードック混合
セクションを持つポリオレフィン配合スクリューを備え
た２．５４ｍｍシュペリアーＭＰＭ押出機（Superior M
PM）を使用してスクリューの計測領域において溶融混合
する。射出ダイの温度を２７４℃に調節した。押出され
た溶融ストランドは水浴で急冷し、次にコーネアースト
ランドカッタ（Conair strand cutter）を使用しペレッ
トにした。この第１回の押出しからのペレット１００ｇ
のアリコートは次の試験のために保存し、押出物の残り
は再び押出機を通過させる。この方法でペレットの残留
物は第三及び第四の通過押出物として集められる。ポリ
プロピレンペレットは、２３０℃で荷重２．１６ｋｇで
充填されるティニウス−オルセン押出式可塑度計で、Ａ
ＳＴＭ法１２３８−９０を使用してメルトフローレート
を測定した。黄色度指数は、ＡＳＴＭ法１９２５−９
０、大面積視界オリフィスを備えたアプライドカラーシ
ステム スペクトロメーター（applied Color System
s Spectrophophoto-meter ）で、スペクトル成分含有、
光源Ｃ、３．１７５ｍｍ圧縮成形プラークで観測２°を
使用し測定した。ポリマー：登録商標Himont Profax ６
５０１ポリプロピレン、Ｔｉ／Ａｌ触媒；シェリポール
プロセス（Spheripol Process ）；ノーミナルメルトイ
ンデックス（Nominal melt index）＝５．３ｄｇ／ｍｉ
ｎ，２．１６ｋｇ／２３０℃、押出条件：ゾーン１ ２
４０℃．ゾーン２ ２６０℃．ゾーン３ ２７４℃．ゾ
ーン４ ２７４℃．９０ｒｐｍで空気中へのホッパー口
押出，パーレル中でほぼ１分の残留時間（residence ti
me）．押出機：シュペリアエムピエム（Superior MPM）
２．５４ｍｍ；２４１ ｌ／ｄ．スクリーンパック（Sc
reen pack ）：２０−６０−１００−６０−２０．スク
リューデザイン：マードック ミキシングヘッド（Madd
ock Mixng Head）を備えたポリオレフィンスクリュー．
圧縮成形：２３２℃、３分低圧、３分高圧、３分冷却。
実施例１は、７５０ｐｐｍのネオペンタンテトラリルテ
トラキス（３，５−ジ−第三−ブチル−４−ヒドロキシ
ヒドロシンナメート）、イルガノックス１０１０（登録
商標Irganox ：チバ スペシャルティ ケミカルズ）、
および０もしくは７５０ｐｐｍの式１の化合物〔式中ｎ
は０を表し、Ｑが直接結合、Ａ1 −Ａ3はそれぞれエチ
レン、Ｙ1 −Ｙ6 およびＺ1 −Ｚ6 はそれぞれ第三−ブ
チルを表わす。〕、イルガフォス１２（登録商標 Irgaf
os：チバ スペシャルティ ケミカルズ）、および組成
物中に残留アルミニウムの種々のレベルを供給するよう
な種々の量のアルミニウムを含有するポリプロピレン組
成物における第１から第５押出パスまでの着色防止を説
明する。変色を防止のための式１の本発明の化合物の効
能は、組成物中の残留アルミニウムの各レベルに対する
下記表１に示した黄色度指数値の検査によって明らかに
された。より低いＹＩ値はより低い変色を示す。 イルガフォス１２（登録商標 Irgafos：チバ スペシャ
ルティ ケミカルズ）は式１ａの化合物である。
的に説明する。そこで使用されている部とパーセントは
重量である。 実施例１：ポリプロピレンの安定化 次の一般的な操作は、添加剤をポリマー中で溶融混合
し、種々のポリプロピレン配合物を作製するために使用
した。ヒモントプロファックス６５０１（登録商標 Him
ont Profax）、（塊状重合）ポリプロピレン粉末１００
０グラムに、種々の試験用添加剤を、各実施例および以
下の表で説明する濃度で添加する。フェノール酸化防止
剤の濃度を７５０ｐｐｍに調整した。酸性スカベンジャ
ー、ステアリン酸カルシウム塩もまた７５０ｐｐｍで使
用した。トリエチルアルミニウムの濃度は、最終配合物
の中のアルミニウムの０から約１１２ｐｐｍに対応さ
せ、０から５００ｐｐｍに変化させた。得られる配合粉
末は、タンブラーミキサーで２０分間、さらにタンブラ
ー配合した。配合した混合物は、次いでマードック混合
セクションを持つポリオレフィン配合スクリューを備え
た２．５４ｍｍシュペリアーＭＰＭ押出機（Superior M
PM）を使用してスクリューの計測領域において溶融混合
する。射出ダイの温度を２７４℃に調節した。押出され
た溶融ストランドは水浴で急冷し、次にコーネアースト
ランドカッタ（Conair strand cutter）を使用しペレッ
トにした。この第１回の押出しからのペレット１００ｇ
のアリコートは次の試験のために保存し、押出物の残り
は再び押出機を通過させる。この方法でペレットの残留
物は第三及び第四の通過押出物として集められる。ポリ
プロピレンペレットは、２３０℃で荷重２．１６ｋｇで
充填されるティニウス−オルセン押出式可塑度計で、Ａ
ＳＴＭ法１２３８−９０を使用してメルトフローレート
を測定した。黄色度指数は、ＡＳＴＭ法１９２５−９
０、大面積視界オリフィスを備えたアプライドカラーシ
ステム スペクトロメーター（applied Color System
s Spectrophophoto-meter ）で、スペクトル成分含有、
光源Ｃ、３．１７５ｍｍ圧縮成形プラークで観測２°を
使用し測定した。ポリマー：登録商標Himont Profax ６
５０１ポリプロピレン、Ｔｉ／Ａｌ触媒；シェリポール
プロセス（Spheripol Process ）；ノーミナルメルトイ
ンデックス（Nominal melt index）＝５．３ｄｇ／ｍｉ
ｎ，２．１６ｋｇ／２３０℃、押出条件：ゾーン１ ２
４０℃．ゾーン２ ２６０℃．ゾーン３ ２７４℃．ゾ
ーン４ ２７４℃．９０ｒｐｍで空気中へのホッパー口
押出，パーレル中でほぼ１分の残留時間（residence ti
me）．押出機：シュペリアエムピエム（Superior MPM）
２．５４ｍｍ；２４１ ｌ／ｄ．スクリーンパック（Sc
reen pack ）：２０−６０−１００−６０−２０．スク
リューデザイン：マードック ミキシングヘッド（Madd
ock Mixng Head）を備えたポリオレフィンスクリュー．
圧縮成形：２３２℃、３分低圧、３分高圧、３分冷却。
実施例１は、７５０ｐｐｍのネオペンタンテトラリルテ
トラキス（３，５−ジ−第三−ブチル−４−ヒドロキシ
ヒドロシンナメート）、イルガノックス１０１０（登録
商標Irganox ：チバ スペシャルティ ケミカルズ）、
および０もしくは７５０ｐｐｍの式１の化合物〔式中ｎ
は０を表し、Ｑが直接結合、Ａ1 −Ａ3はそれぞれエチ
レン、Ｙ1 −Ｙ6 およびＺ1 −Ｚ6 はそれぞれ第三−ブ
チルを表わす。〕、イルガフォス１２（登録商標 Irgaf
os：チバ スペシャルティ ケミカルズ）、および組成
物中に残留アルミニウムの種々のレベルを供給するよう
な種々の量のアルミニウムを含有するポリプロピレン組
成物における第１から第５押出パスまでの着色防止を説
明する。変色を防止のための式１の本発明の化合物の効
能は、組成物中の残留アルミニウムの各レベルに対する
下記表１に示した黄色度指数値の検査によって明らかに
された。より低いＹＩ値はより低い変色を示す。 イルガフォス１２（登録商標 Irgafos：チバ スペシャ
ルティ ケミカルズ）は式１ａの化合物である。
【化１３】
【００７４】実施例２：ポリプロピレンの安定化 実施例の組成物中、７５０ｐｐｍのイルガノックス１０
１０（登録商標 Irganox）の代わりに、７５０ｐｐｍの
Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−トリス−（３，５−ジ−第三−ブチル
−４−ヒドロキシベンジル）イソシアヌレート、イルガ
ノックス３１１４（登録商標 Irganox：チバ スペシャ
ルティ ケミカルズ）を使用した場合、イルガフォス１
２（登録商標 Irganfos:チバ スペシャルティ ケミカ
ルズ、式１の化合物、実施例１参照）の同じ安定化効果
が、以下の表２から明らかなごとく、各種レベルのアル
ミニウム残渣を含有するポリプロピレンにおいて変色を
防止していることから理解できる。 トリアルカノルアミントリスホスフィットの添加は、金
属触媒もしくは共触媒残渣が存在するとしても、ポリオ
レフィンを変色から保護する、ということが実施例１と
２で得られたデーターから明らかである。
１０（登録商標 Irganox）の代わりに、７５０ｐｐｍの
Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−トリス−（３，５−ジ−第三−ブチル
−４−ヒドロキシベンジル）イソシアヌレート、イルガ
ノックス３１１４（登録商標 Irganox：チバ スペシャ
ルティ ケミカルズ）を使用した場合、イルガフォス１
２（登録商標 Irganfos:チバ スペシャルティ ケミカ
ルズ、式１の化合物、実施例１参照）の同じ安定化効果
が、以下の表２から明らかなごとく、各種レベルのアル
ミニウム残渣を含有するポリプロピレンにおいて変色を
防止していることから理解できる。 トリアルカノルアミントリスホスフィットの添加は、金
属触媒もしくは共触媒残渣が存在するとしても、ポリオ
レフィンを変色から保護する、ということが実施例１と
２で得られたデーターから明らかである。
【００７５】実施例３：この実施例では、イルガフォス
１２（登録商標 Irgafos：チバ スペシャルティ ケミ
カルズ、実施例１を参照）のような式１の化合物が、ト
リアルキルアルミニウム化合物と錯体を生成する効能を
説明する。トリアルキルアルミニウムについてのすべて
の操作は湿気の厳密な排除と共に、アルゴン雰囲気の
下、乾燥ボックスの中で実施する。４ｍｌのクロロホル
ム中に２ｇ（１．３７ｍｍｏｌ）のイルガフォス１２を
含む溶液に、トリエチルアルミニウム１モルヘキサン溶
液１．３７ｍｌ（１．３７ｍｍｏｌ）を添加する。31Ｐ
｛ 1Ｈ｝ｎｍｒスペクトラムは１３２．８ｐｐｍと３
２．７ｐｐｍで共鳴を示した。これに対して未錯合体の
イルガフォス１２は、δ１３７．１ｐｐｍで一重項共鳴
を示す。
１２（登録商標 Irgafos：チバ スペシャルティ ケミ
カルズ、実施例１を参照）のような式１の化合物が、ト
リアルキルアルミニウム化合物と錯体を生成する効能を
説明する。トリアルキルアルミニウムについてのすべて
の操作は湿気の厳密な排除と共に、アルゴン雰囲気の
下、乾燥ボックスの中で実施する。４ｍｌのクロロホル
ム中に２ｇ（１．３７ｍｍｏｌ）のイルガフォス１２を
含む溶液に、トリエチルアルミニウム１モルヘキサン溶
液１．３７ｍｌ（１．３７ｍｍｏｌ）を添加する。31Ｐ
｛ 1Ｈ｝ｎｍｒスペクトラムは１３２．８ｐｐｍと３
２．７ｐｐｍで共鳴を示した。これに対して未錯合体の
イルガフォス１２は、δ１３７．１ｐｐｍで一重項共鳴
を示す。
【００７６】実施例４：この実施例は、すべてのホスフ
ィットがトリアルキルアルミニウム化合物と錯合しない
ことを示す。実施例３の操作を０．８８ｇ（１．３７ｍ
ｍｏｌ）のトリス（２，４−ジ−第三−ブチル−フェニ
ル）ホスフィット、 Irgafox１６８（チバ スペシャル
ティケミカルズ）、トリエチルアルミニウム１モルヘキ
サン溶液１．３７ｍｌ（１．３７ｍｍｏｌ）および４ｍ
ｌのクロロホルムでもって繰り返す。錯化は、ｎｍｒデ
ーターによって観察されなかつた。
ィットがトリアルキルアルミニウム化合物と錯合しない
ことを示す。実施例３の操作を０．８８ｇ（１．３７ｍ
ｍｏｌ）のトリス（２，４−ジ−第三−ブチル−フェニ
ル）ホスフィット、 Irgafox１６８（チバ スペシャル
ティケミカルズ）、トリエチルアルミニウム１モルヘキ
サン溶液１．３７ｍｌ（１．３７ｍｍｏｌ）および４ｍ
ｌのクロロホルムでもって繰り返す。錯化は、ｎｍｒデ
ーターによって観察されなかつた。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 キース ドルマン クーパー アメリカ合衆国，ニューヨーク 10502, キャルメル ，キングス ウエイ 2702 (72)発明者 ステフィン ダニエル パストア アメリカ合衆国，コネチカット 06810 ダンヴァリー クラウズ ネスト レーン ユニット ４エフ，27 (72)発明者 サイ ピン シャム アメリカ合衆国，ニュージャージー 08520，ハイストーン，ボックス 414 エ ー，ハイウエイ 33，ロード １
Claims (11)
- 【請求項１】 ａ）ポリオレフィンの重合をもたらす触
媒又は共触媒として使用された結果としての、少なくと
も１種の遷移金属、主族金属又はその混合物の残渣を１
０乃至１０００ｐｐｍの量において含有する、酸化、熱
及び／又は光に起因する劣化を受けるポリオレフィン，
及び ｂ）安定化有効量の次式Ｉ 【化１】 〔式中、ｎは０又は１を表し、ｎが０の場合、Ｑは直接
結合を表し、又はｎが１の場合、Ｑは−Ｓ−又は−ＣＲ
1 Ｒ2 −（Ｒ1 及びＲ2 は、独立して水素原子，炭素原
子数１乃至１８の直鎖又は分岐鎖アルキル基，フェニル
基，トリル基又はアニシル基を表す。）を表し、Ｙ1 ，
Ｙ2 ，Ｙ3 ，Ｙ4 ，Ｙ5 ，Ｙ6 ，Ｚ1 ，Ｚ2 ，Ｚ3 ，Ｚ
4 ，Ｚ5 ，及びＺ 6 は、独立して水素原子，炭素原子数
１乃至１８の直鎖又は分岐鎖アルキル基，炭素原子数７
乃至１０のビシクロアルキル基，フェニル基，ベンジル
基、１−フェニルエチル基，シクロヘキシル基，１−メ
チルシクロヘキシル基，シアノ基，ハロゲン原子，ニト
ロ基，トリフルオロメチル基，ヒドロキシル基，アミノ
基，炭素原子数２乃至１８のアルカノイル基，炭素原子
数１乃至１８のアルコキシ基又はＥ1 Ｅ2 Ｅ3 Ｓｉ（Ｅ
1 Ｅ2 及びＥ3 は、独立して水素原子，炭素原子数１乃
至４のアルキル基又はフェニル基を表す。）を表し、そ
してＡ1 ，Ａ2 及びＡ3 は、立体中心を有し、独立して
炭素原子数１乃至１８の直鎖又は分岐アルキレン基，炭
素原子数５乃至６のシクロアルキレン基又は炭素原子数
１乃至８の分岐鎖アルキレン基を表す。〕で表される化
合物からなる組成物。 - 【請求項２】 前記式Ｉにおいて、ｎは、０又１を表
し；ｎが０の場合、Ｑは直接結合を表し、又はｎが１の
場合、Ｑはメチレン基又はエチリデン基を表し、Ｙ1 ，
Ｙ2 ，Ｙ3 ，Ｙ4 ，Ｙ5 ，Ｙ6 ，Ｚ1 ，Ｚ2 ，Ｚ3 ，Ｚ
4 ，Ｚ5 ，及びＺ6 は、各々第３ブチル基を表し、そし
てＡ1 ，Ａ2 及びＡ3 は、各々エチレン基又は第２級炭
素原子が酸素原子に結合している２−プロピレン基を表
す請求項１記載の組成物。 - 【請求項３】 前記式Ｉにおいて、ｎは０を表しＱは直
接結合を表し、Ｙ1 ，Ｙ2 ，Ｙ3 ，Ｙ4 ，Ｙ5 ，Ｙ6 ，
Ｚ1 ，Ｚ2 ，Ｚ3 ，Ｚ4 ，Ｚ5 ，及びＺ6 は、各々第３
ブチル基を表し、そしてＡ1 ，Ａ2 及びＡ3 は各々エチ
レン基を表す請求項１記載の組成物。 - 【請求項４】 触媒残渣がアルミニウム，硼素，チタニ
ウム，ジルコニウム，クロム，バナジウム又はそれらの
混合物を含有する請求項１記載の組成物。 - 【請求項５】 触媒残渣がアルミニウムを含有する請求
項１記載の組成物。 - 【請求項６】 ポリオレフィンがプロピレン又はエチレ
ンのホモポリマー又はコポリマーである請求項１記載の
組成物。 - 【請求項７】 ポリオレフィンがポリプロピレン又はポ
リエチレンである請求項１記載の組成物 - 【請求項８】 ポリオレフィンが触媒残渣含量を減少す
るための脱灰又は関係する工程を受けていないものであ
る請求項１記載の組成物。 - 【請求項９】 成分（ａ）の重量に基づいて０．０１〜
５重量％の量の成分（ｂ）を含有する請求項１記載の組
成物。 - 【請求項１０】 付加的にフェノール系抗酸化剤、光安
定剤及び／又は加工安定剤を含有する請求項１記載の組
成物。 - 【請求項１１】 付加的に共添加剤として少なくとも１
種のベンゾフラン−２−オン型の化合物を含有する請求
項１記載の組成物。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US62330596A | 1996-03-28 | 1996-03-28 | |
| US08/623,305 | 1996-03-28 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1036576A true JPH1036576A (ja) | 1998-02-10 |
Family
ID=24497561
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9094802A Pending JPH1036576A (ja) | 1996-03-28 | 1997-03-28 | トリアルカノールアミントリスホスフィットで安定化された触媒残渣を含有するポリオレフィン |
Country Status (15)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH1036576A (ja) |
| KR (1) | KR970065612A (ja) |
| BR (1) | BR9701507A (ja) |
| CA (1) | CA2201093A1 (ja) |
| CZ (1) | CZ92297A3 (ja) |
| DE (1) | DE19712504A1 (ja) |
| ES (1) | ES2152766B1 (ja) |
| FR (1) | FR2746806A1 (ja) |
| GB (1) | GB2311526A (ja) |
| ID (1) | ID16392A (ja) |
| IT (1) | IT1290445B1 (ja) |
| NL (1) | NL1005670C2 (ja) |
| SE (1) | SE9701073L (ja) |
| SK (1) | SK40397A3 (ja) |
| ZA (1) | ZA972677B (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2006051802A1 (ja) * | 2004-11-10 | 2006-05-18 | Showa Denko Packaging Co. | 包装用積層体及びこれを用いた包装用袋体と電子材料製品包装用袋体 |
Family Cites Families (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4374219A (en) * | 1980-11-24 | 1983-02-15 | Ciba-Geigy Corporation | Alkanolamine ester of 1,1-biphenyl-2,2-diyl-and alkylidene-1,1-biphenyl-2,2-diyl-cyclic phosphites |
| US4318845A (en) * | 1980-11-24 | 1982-03-09 | Ciba-Geigy Corporation | Alkanolamine esters of 1,1'-biphenyl-2,2'-diyl-and alkylidene-1,1'-biphenyl-2,2'-diyl-cyclic phosphites |
| US5334739A (en) * | 1992-11-30 | 1994-08-02 | Ciba-Geigy Corporation | Process an alpha monoclinic crystalline modification of 2,2',2"-nitrilo[triethyl-tris-(3,3',5,5'-tetra-tert-butyl-1,1'-biphenyl-2,2'-diyl)phosphite] |
| CH686306A5 (de) * | 1993-09-17 | 1996-02-29 | Ciba Geigy Ag | 3-Aryl-benzofuranone als Stabilisatoren. |
| FR2725451B1 (fr) * | 1994-10-06 | 1998-04-17 | Sandoz Sa | Nouvelle composition stabilisante pour les matieres polymeres |
| US5489636A (en) * | 1995-05-03 | 1996-02-06 | Ciba-Geigy Corporation | Amorphous modification of 1,1',1"-nitrilo(tri-2-propyl-tris-[2,2'-ethylidene-bis(4,6-di-tert-butylphenyl] phosphite) |
-
1997
- 1997-03-21 GB GB9705847A patent/GB2311526A/en not_active Withdrawn
- 1997-03-24 SE SE9701073A patent/SE9701073L/xx not_active Application Discontinuation
- 1997-03-25 DE DE19712504A patent/DE19712504A1/de not_active Withdrawn
- 1997-03-25 ES ES009700636A patent/ES2152766B1/es not_active Expired - Lifetime
- 1997-03-25 ID IDP970969A patent/ID16392A/id unknown
- 1997-03-26 CA CA002201093A patent/CA2201093A1/en not_active Abandoned
- 1997-03-26 BR BR9701507A patent/BR9701507A/pt not_active Application Discontinuation
- 1997-03-26 SK SK403-97A patent/SK40397A3/sk unknown
- 1997-03-26 CZ CZ97922A patent/CZ92297A3/cs unknown
- 1997-03-27 ZA ZA9702677A patent/ZA972677B/xx unknown
- 1997-03-27 NL NL1005670A patent/NL1005670C2/nl not_active IP Right Cessation
- 1997-03-27 FR FR9703755A patent/FR2746806A1/fr not_active Withdrawn
- 1997-03-27 IT IT97MI000731A patent/IT1290445B1/it active IP Right Grant
- 1997-03-28 JP JP9094802A patent/JPH1036576A/ja active Pending
- 1997-03-28 KR KR1019970011158A patent/KR970065612A/ko not_active Withdrawn
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2006051802A1 (ja) * | 2004-11-10 | 2006-05-18 | Showa Denko Packaging Co. | 包装用積層体及びこれを用いた包装用袋体と電子材料製品包装用袋体 |
| JP2006137010A (ja) * | 2004-11-10 | 2006-06-01 | Showa Denko Packaging Co Ltd | 包装用積層体及びこれを用いた包装用袋体と電子材料製品包装用袋体 |
Also Published As
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|---|---|
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| NL1005670C2 (nl) | 2000-04-11 |
| ES2152766B1 (es) | 2001-09-01 |
| ES2152766A1 (es) | 2001-02-01 |
| CA2201093A1 (en) | 1997-09-28 |
| CZ92297A3 (en) | 1997-10-15 |
| ID16392A (id) | 1997-09-25 |
| IT1290445B1 (it) | 1998-12-03 |
| SE9701073L (sv) | 1997-09-29 |
| GB9705847D0 (en) | 1997-05-07 |
| ZA972677B (en) | 1997-10-22 |
| SK40397A3 (en) | 1998-11-04 |
| BR9701507A (pt) | 1998-11-10 |
| GB2311526A (en) | 1997-10-01 |
| NL1005670A1 (nl) | 1997-09-30 |
| FR2746806A1 (fr) | 1997-10-03 |
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| KR970065612A (ko) | 1997-10-13 |
| DE19712504A1 (de) | 1997-10-30 |
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