JPH1048822A

JPH1048822A - 感光性樹脂組成物及びこれを用いた感光性エレメント

Info

Publication number: JPH1048822A
Application number: JP20190496A
Authority: JP
Inventors: Masaki Endo; 昌樹遠藤; Tatsuya Ichikawa; 立也市川
Original assignee: Hitachi Chemical Co Ltd
Current assignee: Resonac Corp
Priority date: 1996-07-31
Filing date: 1996-07-31
Publication date: 1998-02-20

Abstract

(57)【要約】（修正有）【課題】現像時に発生するスラッジ及び発泡を低減
し、耐めっき性、下地金属との密着性等に優れ、かつテ
ント信頼性が良好な感光性樹脂組成物及び感光性エレメ
ントを提供する。【解決手段】（Ａ）カルボキシル基を有するバインダ
ーポリマー、（Ｂ）光重合性開始剤及び（Ｃ）分子内に
重合可能なエチレン性不飽和基を有する光重合性化合物
を含み、前記（Ｃ）成分中に一般式（Ｉ）〔式中、Ｒ¹は３価の有機基を示し、Ｒ²は一般式（II）（式中、Ｒ³は水素原子又はメチル基を示し、Ｘはアル
キレンオキサイド基を示し、ｎは１〜１４の整数であ
る）を示す〕で表されるウレタン系不飽和化合物及び一般式（III）〔式中、Ｙはアルキレンオキサイド基を示し、ｋは１〜
１０の整数である〕で表される化合物を必須成分として含有する感光性樹脂
組成物並びにこの感光性樹脂組成物を支持体上に塗布、
乾燥した感光性エレメント。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、感光性樹脂組成物
及びこれを用いた感光性エレメントに関する。

【０００２】

【従来の技術】従来、印刷配線板の製造法にはテンティ
ング法とめっき法の二つがある。テンティング法は、チ
ップ搭載のための銅スルーホールをレジストで保護し、
エッチング、レジスト剥離を経て、電気回路形成を行う
方法である。一方、めっき法は、電気めっきによってス
ルーホールに銅を析出させ、半田めっきで保護し、レジ
スト剥離、エッチングによって電気回路の形成を行う方
法である。これらの方法を実施するときに、レジストと
して感光性樹脂組成物及びこれを用いた感光性エレメン
トが使用されており、未硬化部をアルカリ性水溶液で除
去するアルカリ現像形が主流となっている。

【０００３】しかし、アルカリ現像型の感光性樹脂組成
物を用いた場合は、現像液中に未重合の感光性樹脂組成
物が溶解し、この溶解成分がスラッジとなり、基板上に
再付着してショート不良の発生原因となっている。又、
現像時の発泡を抑制する消泡剤を組み合わせて使用する
ことにより、スラッジ発生量が多くなるという問題があ
るため、従来の感光性樹脂組成物及び感光性エレメント
は、スラッジ量が少なく、かつ現像時の発泡も低いこと
が求められていた。また、特公平４−３９６６１号公報
には、界面活性剤を含有することを特徴とする光重合性
組成物が開示されているが、これは現像機のポリ塩化ビ
ニル樹脂部分の軟化、膨潤の防止を主目的としており、
現像時に発生するスラッジについての記載はない。

【０００４】さらに、近年印刷配線板の配線の高密度
化、高精度化に伴い、テンティング法では、スルーホー
ルの異形穴化、スルーホールランドの狭小化等に対する
テント信頼性が問題となっており、また、めっき法で
は、めっき薬品に対する耐性が要求されるが、従来の技
術ではこの耐性を増すと、硬化した膜が硬くてもろくな
るため、テント信頼性との両立が難しく、問題となって
いた。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】請求項１記載の発明
は、現像時に発生するスラッジ及び発泡を低減し、銅ス
ルーホール法、ハンダスルーホール法のいずれの方法に
よっても、耐めっき性、下地金属との密着性等に優れ、
かつテント信頼性が良好な感光性樹脂組成物を提供する
ものである。請求項２記載の発明は、請求項１記載の発
明の効果に加え、より耐めっき性、密着性、スラッジの
抑制等が優れる。請求項３記載の発明は、請求項１又は
２記載の発明の効果に加え、さらに光硬化性、塗膜性、
感度等が優れる。請求項４記載の発明は、現像時に発生
するスラッジ及び発泡を低減し、銅スルーホール法、ハ
ンダスルーホール法のいずれの方法によっても、耐めっ
き性、下地金属との密着性等に優れ、かつテント信頼性
が良好な感光性エレメントを提供するものである。

【０００６】

【課題を解決するための手段】本発明は、（Ａ）カルボ
キシル基を有するバインダーポリマー、（Ｂ）光重合性
開始剤及び（Ｃ）分子内に重合可能なエチレン性不飽和
基を有する光重合性化合物を含み、前記（Ｃ）成分中に
一般式（Ｉ）

【化４】〔式中、Ｒ¹は３価の有機基を示し、Ｒ²は一般式（II）

【化５】（式中、Ｒ³は水素原子又はメチル基を示し、Ｘはアル
キレンオキサイド基を示し、ｎは１〜１４の整数であ
る）を示す〕で表されるウレタン系不飽和化合物及び一
般式（III）

【化６】〔式中、Ｙはアルキレンオキサイド基を示し、ｋは１〜
１０の整数である〕で表される化合物を必須成分として
含有する感光性樹脂組成物に関する。

【０００７】また、本発明は、（Ｃ）成分中の一般式
（Ｉ）で表されるウレタン系不飽和化合物の含有量が、
（Ｃ）成分１００重量部に対して、１０〜９０重量部で
ある前記感光性樹脂組成物に関する。また、本発明は、
（Ａ）成分、（Ｂ）成分及び（Ｃ）成分の配合量が、
（Ａ）成分及び（Ｃ）成分の総量１００重量部に対し
て、（Ａ）成分が、４０〜８０重量部、（Ｂ）成分が、
０．１〜２０重量部及び（Ｃ）成分が、２０〜６０重量
部である前記請求項１又は２記載の感光性樹脂組成物に
関する。また、本発明は、前記感光性樹脂組成物を支持
体上に塗布、乾燥した感光性エレメントに関する。

【０００８】

【発明の実施の形態】本発明の感光性樹脂組成物は、
（Ａ）カルボキシル基を有するバインダーポリマー、
（Ｂ）光重合性開始剤及び（Ｃ）分子内に重合可能なエ
チレン性不飽和基を有する光重合性化合物を含み、前記
（Ｃ）成分中に前記一般式（Ｉ）で表されるウレタン系
不飽和化合物及び前記一般式（III）で表される化合物
を必須成分として含有するものである。

【０００９】本発明における（Ａ）カルボキシル基を有
するバインダーポリマーとしては、例えば、アクリル酸
又はメタクリル酸と、これらと共重合しうるビニルモノ
マとの共重合体等が挙げられる。この共重合体は、単独
で又は２種類以上を組み合わせて使用される。前記ビニ
ルモノマとしては、例えば、メチルアクリレート、エチ
ルアクリレート、ブチルアクリレート、２−エチルヘキ
シルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレー
ト、ジメチルアミノエチルアクリレート、ジエチルアミ
ノエチルアクリレート、グリシジルアクリレート、２，
２，２−トリフルオロエチルアクリレート、２，２，
３，３−テトラフルオロプロピルアクリレート、これら
に対応するメタクリレート、アクリルアミド、ジアセト
ンアクリルアミド、スチレン、ビニルトルエン等が挙げ
られる。

【００１０】（Ａ）成分の酸価は、１００〜５００であ
ることが好ましく、重量平均分子量（ゲルパーミエーシ
ョンクロマトグラフィー（ＧＰＣ）で測定し、標準ポリ
スチレンを用いた検量線により換算）は、２０，０００
〜３００，０００であることが好ましい。酸価が、１０
０未満では、現像時間が長くなる傾向があり、５００を
超えると、光硬化したレジストの耐現像液性が低下する
傾向がある。また、重量平均分子量が、３０，０００未
満では、耐現像液性が低下する傾向があり、３００，０
００を超えると、現像時間が長くなる傾向がある。

【００１１】本発明における（Ｂ）光重合性開始剤とし
ては、例えば、２，４，５−トリフェニルイミダゾール
二量体（２，２′−ビス（ｏ−クロロフェニル）−４，
４′，５，５′−テトラフェニルビイミダゾール、２，
２′−ビス（ｏ−クロロフェニル）−４，４′，５，
５′−テトラキス（ｍ−メトキシフェニル）ビイミダゾ
ール、２，２′−ビス（ｐ−カルボキシフェニル）−
４，４′，５，５′−テトラフェニルビイミダゾール、
２，２′−ビス（ｐ−クロロフェニル）−４，４′，
５，５′−テトラキス（ｐ−メトキシフェニル）−ビイ
ミダゾール、２，２′−ジ−ｏ−トリル−４，４′，
５，５′−テトラフェニルビイミダゾール、２，２′−
ジ−ｐ−トリル−４，４′−ジ−ｏ−トリル−５，５′
−ジフェニルビイミダゾール等）、芳香族ケトン（ベン
ゾフェノン、Ｎ，Ｎ′−テトラメチル−４，４′−ジア
ミノベンゾフェノン（ミヒラーケトン）、Ｎ，Ｎ′−テ
トラメチル−４，４′−ジアミノベンゾフェノン、４−
メトキシ−４′−ジメチルアミノベンゾフェノン、２−
エチルアントラキノン、フェナントレンキノン等）、ベ
ンゾイン（ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチ
ルエーテル、ベンゾインフェニルエーテル等のベンゾイ
ンエーテル、メチルベンゾイン、エチルベンゾイン
等）、ベンジル誘導体（ベンジルジメチルケタール等）
などが挙げられる。これらは単独で又は２種以上を組み
合わせて使用される。

【００１２】本発明における（Ｃ）分子内に重合可能な
エチレン性不飽和基を有する光重合性化合物には、一般
式（Ｉ）

【化７】〔式中、Ｒ¹は３価の有機基を示し、Ｒ²は一般式（II）

【化８】（式中、Ｒ³は水素原子又はメチル基を示し、Ｘはアル
キレンオキサイド基を示し、ｎは１〜１４の整数であ
る）を示す〕で表されるウレタン系不飽和化合物及び一
般式（III）

【化９】〔式中、Ｙはアルキレンオキサイド基を示し、ｋは１〜
１０の整数である〕で表される化合物を必須成分として
含有する。

【００１３】上記一般式（Ｉ）において、Ｒ¹は３価の
有機基であり、このような３価の有機基としては、特に
制限はなく、例えば、メチン基、エタントリイル基、
１，２，３−プロパントリイル基、ブタントリイル基、
ペンタントリイル基、ネオペンタントリイル基、ヘキサ
ントリイル基、ヘプタントリイル基、オクタントリイル
基、２−エチル−ヘキサントリイル基、ノナントリイル
基、デカントリイル基等の炭素数が１〜１０の３価の鎖
状炭化水素基が挙げられる。また、一般式（Ｉ）におい
て、Ｒ²は上記一般式（II）で表される基であり、一般
式（II）におけるＲ³は水素原子又はメチル基であり、
Ｘは、アルキレンオキサイド基であり、ｎは１〜１４の
整数である。上記一般式（II）におけるアルキレンオキ
サイド基としては、特に制限はなく、例えば、エチレン
オキサイド基、プロピレンオキサイド基、ブチレンオキ
サイド基、ペンチレンオキサイド基、ヘキシレンオキサ
イド基等の炭素数が１〜６のアルキレンオキサイド基が
挙げられ、なかでもエチレンオキサイド基、プロピレン
オキサイド基が好ましいものとして挙げられる。

【００１４】なお、プロピレンオキサイド基の結合方向
としては、

【化１０】の２種がある。また、上記一般式（II）におけるｎは、
１〜１４の整数である必要があり、２〜１４の整数であ
ることが好ましい。ｎが１４を超えると、機械強度が低
下する。

【００１５】このような上記した一般式（II）で表され
る化合物としては、例えば、一般式（II−１）、一般式
（II−２）又は一般式（II−３）で表される化合物と、
一般式（IV）で表される化合物との反応等により得るこ
とができる。

【化１１】〔式中、Ｒ³及びｎは一般式（II）におけると同意義で
あり、ｍは３〜６の整数である〕

【化１２】〔式中、Ｒ¹は一般式（Ｉ）における同意義である〕

【００１６】なお、上記一般式（II−２）において、こ
のブロックセグメントのプロピレンオキサイド単位は、
表記の都合上メチル基の結合位置が酸素原子の２つ隣の
炭素原子上となっているが、この構造に限定されるわけ
ではなく、

【化１３】等も含むものとする。

【００１７】また、本発明における（Ｃ）成分中の必須
成分である上記一般式（III）で表される化合物におけ
るＹはアルキレンオキサイド基であり、ｋは１〜１０の
整数である。上記一般式（III）におけるアルキレンオ
キサイド基としては、前記した一般式（II）におけるア
ルキレンオキサイド基と同様のものが挙げられ、中で
も、現像性、解像度等の点からブチレンオキサイド基が
好ましいものとして挙げられる。また、上記一般式（II
I）におけるｎは、１〜１０の整数である必要があり、
２〜１０の整数であることが好ましい。ｎが１０を超え
ると、機械強度が低下する。

【００１８】また、本発明における（Ｃ）成分中には、
上記一般式（Ｉ）で表されるウレタン系不飽和化合物及
び上記一般式（III）で表される化合物以外の化合物を
使用することができる。上記一般式（Ｉ）及び上記一般
式（III）で表される化合物以外のものとしては、例え
ば、多価アルコール（ポリエチレングリコールジアクリ
レート、ポリエチレングリコールジメタクリレート（エ
チレン基の数が２〜１４のもの）、トリメチロールプロ
パンジアクリレート、トリメチロールプロパンジメタク
リレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、
トリメチロールプロパントリメタクリレート、テトラメ
チロールメタントリアクリレート、テトラメチロールメ
タントリメタクリレート、テトラメチロールメタンテト
ラアクリレート、テトラメチロールメタンテトラメタク
リレート、ポリプロピレングリコールジアクリレート、
ポリプロピレングリコールジメタクリレート（プロピレ
ン基の数が２〜１４のもの）、ジペンタエリスリトール
ペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタメ
タクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレ
ート、ジペンタエリスリトールヘキサメタクリレート
等）にα、β−不飽和カルボン酸を反応させて得られる
化合物、ビスフェノールＡポリオキシエチレンジアクリ
レート又はビスフェノールＡポリオキシエチレンジメタ
クリレート（ビスフェノールＡジオキシエチレンジアク
リレート、ビスフェノールＡジオキシエチレンジメタク
リレート、ビスフェノールＡトリオキシエチレンジアク
リレート、ビスフェノールＡトリオキシエチレンジメタ
クリレート、ビスフェノールＡデカオキシエチレンジア
クリレート、ビスフェノールＡデカオキシエチレンジメ
タクリレート等）、グリシジル基含有化合物（トリメチ
ロールプロパントリグリシジルエーテルトリアクリレー
ト、ビスフェノールＡジグリシジルエーテルアクリレー
ト等）にα、β−不飽和カルボン酸を付加して得られる
化合物、アクリル酸のアルキルエステル又はメタクリル
酸のアルキルエステル（アクリル酸エチルエステル、メ
タクリル酸メチルエステル、アクリル酸エチルエステ
ル、メタクリル酸エチルエステル、アクリル酸ブチルエ
ステル、メタクリル酸ブチルエステル、アクリル酸２−
エチルヘキシルエステル、メタクリル酸２−エチルヘキ
シルエステル等）などが挙げられる。

【００１９】本発明における（Ａ）成分の配合量は、
（Ａ）成分及び（Ｃ）成分の総量１００重量部に対し
て、４０〜８０重量部とすることが好ましい。この配合
量が４０重量部未満では、光硬化物が脆くなり易い傾向
があり、感光性エレメントとして用いた場合、塗膜性に
劣る傾向がある。また、この配合量が８０重量部を超え
ると、感度が不充分となる傾向がある。

【００２０】本発明における（Ｂ）成分の配合量は、
（Ａ）成分及び（Ｃ）成分の総量１００重量部に対し
て、０．１〜２０重量部とすることが好ましい。この配
合量が０．１重量部未満では、感度が不充分となる傾向
があり、２０重量部を超えると、露光の際に組成物の表
面での吸収が増大して、内部の光硬化が不充分となる傾
向がある。

【００２１】本発明における（Ｃ）成分の配合量は、
（Ａ）成分及び（Ｃ）成分の総量１００重量部に対し
て、２０〜６０重量部の範囲とすることが好ましい。こ
の配合量が２０重量部未満では、感度が不充分となる傾
向があり、６０重量部を超えると、光硬化物が脆くなる
傾向がある。

【００２２】また、本発明における（Ｃ）成分中の必須
成分である前記一般式（Ｉ）で表される化合物の配合量
は、（Ｃ）成分１００重量部に対して、１０〜９０重量
部であることが好ましく、６０〜９０重量部であること
がより好ましい。この配合量が１０重量部未満では、耐
めっき性、密着性及びテント信頼性が劣る傾向があり、
９０重量部を超えると、スラッジ量が増える傾向があ
る。また、本発明における（Ｃ）成分中の必須成分であ
る前記一般式（III）で表される化合物の配合量は、
（Ｃ）成分１００重量部に対して、１０〜９０重量部で
あることが好ましく、１０〜４０重量部であることがよ
り好ましい。この配合量が１０重量部未満では、耐めっ
き性、密着性、テント信頼性及び発泡性が劣る傾向があ
り、９０重量部を越えるとスラッジ量が増える傾向があ
る。

【００２２】本発明の感光性樹脂組成物には、染料、発
色剤、可塑剤、顔料、難燃剤、安定剤、密着性付与剤等
の添加剤を必要に応じて添加してもよい。

【００２３】本発明の感光性樹脂組成物は、前記各成分
を、これらを溶解する溶剤、例えば、トルエン、アセト
ン、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、メチルイソブチル
ケトン、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、クロロ
ホルム、塩化メチレン、ジメチルホルムアミド、メタノ
ール、エタノール等に溶解することにより、均一な溶液
とすることができる。

【００２４】本発明の感光性エレメントは、前記本発明
の感光性樹脂組成物を支持体上に、常法により塗布、乾
燥したものである。本発明における支持体としては、重
合体フィルム、例えば、ポリエチレンテレフタレート、
ポリプロピレン、ポリエチレン等からなるフィルムが用
いられ、中でもポリエチレンテレフタレートフィルムが
好ましい。これらの重合体フィルムは、後に感光層から
除去可能でなくてはならないため、除去が不可能となる
ような表面処理が施されたものであったり、材質であっ
たりしてはならない。また、これらの重合体フィルムの
厚さは、５〜１００μｍとすることが好ましく、１０〜
３０μｍとすることがより好ましい。これらの重合体フ
ィルムの一つは感光層の支持フィルムとして、他の一つ
は感光層の保護フィルムとして感光層の両面に積層して
もよい。

【００２５】塗布方法としては、例えば、ロールコート
法、ナイフコート法、スプレーコート法等が挙げられ、
乾燥温度は、通常、８０〜１５０℃であり、乾燥時間
は、通常、１〜３０分間である。本発明の感光性エレメ
ントにおける感光層の膜厚は、１〜１００μｍであるこ
とが好ましく、１０〜６０μｍであることがより好まし
い。

【００２６】本発明の感光性エレメントを用いてフォト
レジスト画像を製造するに際しては、前記の保護フィル
ムが存在している場合には、保護フィルムを除去後、感
光層を加熱しながら基板に圧着させることにより積層す
る。積層される表面は、通常、金属面であるが、特に制
限はない。感光層の加熱圧着の温度は、特に制限はない
が、通常、９０〜１３０℃とされる。また、感光層の加
熱圧着の圧力は、特に制限はないが、通常、３kg/cm²と
される。感光層を前記のように加熱すれば、予め基板を
予熱処理することは必要でないが、積層性をさらに向上
させるために基板の予熱処理を行うこともできる。

【００２７】このようにして積層が完了した感光層は、
次いで、ネガフィルム又はポジフィルムを用いて活性光
により画像的に露光される。この際、感光層上に存在す
る重合体フィルムが透明の場合には、そのまま露光して
もよく、また、不透明の場合には、除去する必要があ
る。感光層の保護という点からは、重合体フィルムは透
明で、この重合体フィルムを残存させたまま、それを通
して露光することが好ましい。

【００２８】活性光は、公知の活性光源、例えば、カー
ボンアーク、水銀蒸気アーク、キセノンアーク等から発
生する光が用いられる。感光層に含まれる光重合開始剤
の感受性は、通常、紫外線領域において最大であるの
で、その場合は活性光源は紫外線を有効に放射するもの
にすべきである。光重合開始剤が可視光線に感受するも
の、例えば、９，１０−フェナンスレンキノン等である
場合には、活性光としては可視光が用いられ、その光源
としては前記のもの以外に写真用フラッド電球、太陽ラ
ンプ等も用いられる。

【００２９】次いで、露光後、感光層上に重合体フィル
ム等が存在している場合には、これを除去した後、アル
カリ水溶液を用いて、例えば、スプレー、揺動浸漬、ブ
ラッシング、スクラッピング等の公知方法により未露光
部を除去して現像する。アルカリ性水溶液の塩基として
は、例えば、リチウムの水酸化物、ナトリウムの水酸化
物、カリウムの水酸化物等の水酸化アルカリ、リチウム
の炭酸塩又は重炭酸塩、ナトリウムの炭酸塩又は重炭酸
塩、カリウムの炭酸塩又は重炭酸塩等の炭酸アルカリ、
リン酸カリウム、リン酸ナトリウム等のアルカリ金属リ
ン酸塩、ピロリン酸ナトリウム、ピロリン酸カリウム等
のアルカリ金属ピロリン酸塩などが用いられ、特に、炭
酸ナトリウムが好ましい。現像に用いるアルカリ水溶液
のpHは、９〜１１とすることが好ましく、また、その温
度は、感光層の現像性に合わせて調節される。また、ア
ルカリ水溶液中には、表面活性剤、消泡剤、現像を促進
させるための少量の有機溶剤等を混入させてもよい。

【００３０】さらに、印刷配線板を製造するに際して
は、現像されたフォトレジスト画像をマスクとして露光
している基板の表面を、エッチング、めっき等の公知方
法で処理する。次いで、フォトレジスト画像は、通常、
現像に用いたアルカリ水溶液よりさらに強アルカリ性の
水溶液で剥離される。この強アルカリ性の水溶液として
は、例えば、１〜５重量％の水酸化ナトリウム水溶液等
が用いられる。

【００３１】

【実施例】以下、本発明を実施例により説明する。実施例１〜２及び比較例１〜４表１及び表２に示す材料（（Ａ）成分、（Ｂ）成分、添
加剤及び溶剤）を配合し、溶液を得た。

【００３２】

【表１】

【００３３】

【表２】

【００３４】この溶液に表３に示す（Ｃ）成分を溶解さ
せて感光性樹脂組成物の溶液を得た。

【００３５】

【表３】

【００３６】次いで、この感光性樹脂組成物の溶液を２
５μｍ厚のポリエチレンテレフタレートフィルム上に均
一に塗布し、１００℃の熱風対流式乾燥機で１０分間乾
燥して感光性エレメントを得た。感光性樹脂組成物層の
乾燥後の膜厚は、５０μｍであった。

【００３７】一方、銀箔（厚さ３５μｍ）を両面に積層
したガラスエポキシ材である銅張り積層板（日立化成工
業社製、商品名ＭＣＬ−Ｅ−６１）の銅表面を＃６００
相当のブラシを持つ研磨機（三啓社製）を用いて研磨
し、水洗後、空気流で乾燥し、得られた銅張り積層板を
８０℃に加温し、その銅表面上に前記感光性樹脂組成物
層を１２０℃に加熱しながらラミネートした。次いで、
このようにして得られた基板に、ネガフィルムを使用
し、３kW高圧水銀灯（オーク製作所社製、ＨＭＷ−２０
１Ｂ）で９０mJ/cm²の露光を行った。

【００３８】次いで、ポリエチレンテレフタレートフィ
ルムを除去し、３０℃で１重量％炭酸ナトリウム水溶液
１リットルを６０秒間スプレーすることにより、未露光
部分を除去した。この現像工程において、発生したスラ
ッジを遠心分離機により分離、濾過し、さらに１５０℃
で４時間乾燥した後、スラッジの重量を測定した。発泡
性は、同様の現像工程において、スプレーを９０分間行
った後、現像液面上端から泡の上端までの高さを測定し
た。また、密着性は、現像液にはく離せずに残ったライ
ンの幅（μｍ）で表され、この密着性の数値が小さい
程、細いラインでも銅張り積層板からはく離せずに銅張
り積層板に密着していることから、密着性が高いことを
示す。

【００３９】耐めっき性は、上記のようにラミネート
し、所定の露光量の露光を行った。次いで上記現像液に
より現像後、脱脂（ＰＣ−４５５（メルテックス社製）
２５重量％）５分浸漬→水洗→ソフトエッチ（過硫酸ア
ンモニウム１５０g/リットル）２分浸漬→水洗→１０重量％
硫酸１分浸漬の順に前処理を行い、硫酸銅めっき浴（硫
酸銅７５g/リットル、硫酸１９０g/リットル、塩素イオン５０pp
m、カバーグリームＰＣＭ（メルテックス社製）5ml/リット
ル）に入れ、硫酸銅めっきを室温下、３A/dm²で４０分間
行った。その後、水洗して１０重量％ホウフッ化水素酸
に１分浸漬し、ハンダめっき浴（４５重量％ホウフッ化
スズ６４ml/リットル、４５％ホウフッ化鉛２２ml/リットル、４
２重量％ホウフッ化水素酸２００ml/リットル、プルティン
ＬＡコンダクティビティーソルト（メルテックス社製）
２０g/リットル、プルティンＬＡスターター（メルテックス
社製）４０ml/リットル）に入れ、半田めっきを室温下、
１．５A/dm²で１５分間行った。

【００４０】水洗、乾燥後耐めっき性を調べるため直ち
にセロテープを貼り、これを垂直方向に引き剥がして
（９０°ピールオーフ試験）、レジストの剥がれの有無
を見た。また、レジスト剥離後上方から光学顕微鏡で半
田めっきのもぐりの有無を観察した。半田めっきのもぐ
りを生じた場合、透明なレジストを介してその下部にめ
っきにより析出した半田が観察される。

【００４１】次に、１．６mm厚の銅張積層板に直径６mm
の穴を１００個あけた基材に感光性樹脂組成物の積層体
を両面に積層し、９０mJ/cm²の露光を行い、６０秒間現
像した。次に、この穴の強度を直径１．５mmの挿入径の
円柱を用いてレオメーター（ＦＵＤＯＨ社製）により破
断までの強度と伸びを測定した。

【００４２】また、１．６mm厚の銅張り積層板に直径４
mmの穴が３個連なって空いてある基材（図１参照）に感
光性樹脂組成物の積層体を両面に積層し、９０mJ/cm²の
露光を行い、６０秒間の現像を２回行った。そして現像
後、図１の１に示した箇所（合計１８個の３連φ４mm
穴）の穴破れ数を測定し、異形テント破れ率（下記数
式）として評価した。

【数１】以上の結果をまとめて表４に示した。なお、表４におけ
るテント強度、テント伸び及び異形テント破れ率をテン
ト信頼性と考えた。

【００４３】

【表４】

【００４４】以上の結果から明らかなように、本発明の
実施例１〜２は、現像時のスラッジ、発泡を低減し、密
着性、耐めっき性及びテント信頼性に優れている。

【００４５】

【発明の効果】請求項１記載の感光性樹脂組成物は、現
像時に発生するスラッジ及び発泡を低減し、銅スルーホ
ール法、ハンダスルーホール法のいずれの方法によって
も、耐めっき性、下地金属との密着性等に優れ、かつテ
ント信頼性が良好なものである。請求項２記載の感光性
樹脂組成物は、請求項１記載の感光性樹脂組成物の効果
を奏し、より耐めっき性、密着性、スラッジの抑制等が
優れる。請求項３記載の感光性樹脂組成物は、請求項１
又は２記載の感光性樹脂組成物の効果を奏し、さらに光
硬化性、塗膜性、感度等が優れる。請求項４記載の感光
性エレメントは、現像時に発生するスラッジ及び発泡を
低減し、銅スルーホール法、ハンダスルーホール法のい
ずれの方法によっても、耐めっき性、下地金属との密着
性等に優れ、かつテント信頼性が良好なものである。

【図面の簡単な説明】

【図１】実施例で異形テント破れ率を評価した評価基板
である。異形テント破れ率を評価した箇所の１８個のう
ち、１箇所を拡大して示した。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号庁内整理番号ＦＩ技術表示箇所Ｇ０３Ｆ 7/033 Ｇ０３Ｆ 7/033 Ｈ０５Ｋ 3/06 Ｈ０５Ｋ 3/06 ＪＨ 3/18 0430−4Ｅ 3/18 Ｄ

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】（Ａ）カルボキシル基を有するバインダ
ーポリマー、（Ｂ）光重合性開始剤及び（Ｃ）分子内に
重合可能なエチレン性不飽和基を有する光重合性化合物
を含み、前記（Ｃ）成分中に一般式（Ｉ）【化１】〔式中、Ｒ¹は３価の有機基を示し、Ｒ²は一般式（II）【化２】（式中、Ｒ³は水素原子又はメチル基を示し、Ｘはアル
キレンオキサイド基を示し、ｎは１〜１４の整数であ
る）を示す〕で表されるウレタン系不飽和化合物及び一
般式（III）【化３】〔式中、Ｙはアルキレンオキサイド基を示し、ｋは１〜
１０の整数である〕で表される化合物を必須成分として
含有する感光性樹脂組成物。
【請求項２】（Ｃ）成分中の一般式（Ｉ）で表される
ウレタン系不飽和化合物の含有量が、（Ｃ）成分１００
重量部に対して、１０〜９０重量部である請求項１記載
の感光性樹脂組成物。
【請求項３】（Ａ）成分、（Ｂ）成分及び（Ｃ）成分
の配合量が、（Ａ）成分及び（Ｃ）成分の総量１００重
量部に対して、（Ａ）成分が、４０〜８０重量部、
（Ｂ）成分が、０．１〜２０重量部及び（Ｃ）成分が、
２０〜６０重量部である請求項１又は２記載の感光性樹
脂組成物。
【請求項４】請求項１、２又は３記載の感光性樹脂組
成物を支持体上に塗布、乾燥した感光性エレメント。