JPH10507457A - 4a,5,9,10,11,12−ヘキサヒドロ−6H−ベンゾフロ[3a,3,2−ef][2]ベンズアゼピン誘導体の製造方法 - Google Patents

4a,5,9,10,11,12−ヘキサヒドロ−6H−ベンゾフロ[3a,3,2−ef][2]ベンズアゼピン誘導体の製造方法

Info

Publication number
JPH10507457A
JPH10507457A JP8513527A JP51352796A JPH10507457A JP H10507457 A JPH10507457 A JP H10507457A JP 8513527 A JP8513527 A JP 8513527A JP 51352796 A JP51352796 A JP 51352796A JP H10507457 A JPH10507457 A JP H10507457A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
compound
group
aralkyl
hydrogen
general formula
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP8513527A
Other languages
English (en)
Other versions
JP4187786B2 (ja
Inventor
ラスロー ツォルナー、
ヨハネス フレーリヒ、
ウルリヒ ヨルディス、
べルンハルト キュエンブルク、
Original Assignee
バルトハイム・ファルマツォイティカ・ゲゼルシャフト・エム・ベー・ハー
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Priority claimed from AT198094A external-priority patent/AT401058B/de
Application filed by バルトハイム・ファルマツォイティカ・ゲゼルシャフト・エム・ベー・ハー filed Critical バルトハイム・ファルマツォイティカ・ゲゼルシャフト・エム・ベー・ハー
Publication of JPH10507457A publication Critical patent/JPH10507457A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4187786B2 publication Critical patent/JP4187786B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D491/00—Heterocyclic compounds containing in the condensed ring system both one or more rings having oxygen atoms as the only ring hetero atoms and one or more rings having nitrogen atoms as the only ring hetero atoms, not provided for by groups C07D451/00 - C07D459/00, C07D463/00, C07D477/00 or C07D489/00
    • C07D491/02—Heterocyclic compounds containing in the condensed ring system both one or more rings having oxygen atoms as the only ring hetero atoms and one or more rings having nitrogen atoms as the only ring hetero atoms, not provided for by groups C07D451/00 - C07D459/00, C07D463/00, C07D477/00 or C07D489/00 in which the condensed system contains two hetero rings
    • C07D491/10—Spiro-condensed systems

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Nitrogen Condensed Heterocyclic Rings (AREA)
  • Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Nitrogen And Oxygen Or Sulfur-Condensed Heterocyclic Ring Systems (AREA)
  • Other In-Based Heterocyclic Compounds (AREA)
  • Heterocyclic Carbon Compounds Containing A Hetero Ring Having Oxygen Or Sulfur (AREA)

Abstract

(57)【要約】 4a,5,9,10,11,12−ヘキサヒドロ−6H−ベンゾフロ[3a,3,2−ef][2]ベンズアゼピン誘導体を製造するため、特に新規なブロモ−N−脱メチルガランタミン(4)及び新規なブロモガランタミン(5)を経てガランタミン(6)の製造を促進する方法が提案される。この方法では、化合物(2)が化合物(3)に酸化的に環化される。該化合物(3)はL−セレクトライドで、検出しうる量のエピブロモ−N−脱メチルガランタミンを形成することなく、新規なブロモ−N−脱メチルガランタミン(4)へジアステレオ選択的に還元される。新規なブロモガンタミン(5)は、メチル化によって得られ、この(5)から臭素を脱離して、(+/−)ガランタミン(6)を製造する。純粋なエナンチオマーをキラルな酸(特に酒石酸)の塩として沈殿させることによって得る。以下の反応ダイアグラムで示される方法は、高収率で純粋な生成物を全ての段階で与え、従って、この方法は工業的スケールで行うことができる。

Description

【発明の詳細な説明】4a,5,9,10,11,12−ヘキサヒドロ−6H−ベンゾフロ[3a,3 ,2−ef][2]ベンズアゼピン誘導体の製造方法 本発明は、下記一般式(I)の4a,5,9,10,11,12−ヘキサヒド ロ−6H−ベンゾフロ[3a,3,2−ef][2]ベンズアゼピン誘導体又は これらの塩の製造方法に関する。 但し、R2、R4、X1、X2、Y1及びY2は、同一であるか、又は異なってお り、水素、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素、ヒドロキシル又はアルコキシ基、低級 の任意に分岐したアルキル基であって、例えば少なくとも1つのハロゲンで任意 に置換されたもの、低級の任意に分岐したアルケニル基、低級の任意に分岐した アルキニル基、任意に置換されたアリール、アラルキル又はアラロキシアルキル 基であって、これらのアルキル基が任意に分岐したもの、及びこれらの芳香族核 が任意に置換されたもの、ホルミル又は直鎖若しくは分岐のアルキルカルボニル 、アリールカルボニル、アラルキルカルボニル、アルキルオキシカルボニル、ア リールオキシカルボニル、アラルキルオキシカルボニル、アルキルスルホニル、 アラルキルスルホニル又はアリールスルホニルであって、無置換であるか、又は 1以上のハロゲンで置換されたものであるか、又はY1及びY2は一緒になって= Oとなる。更に、Aは、ベンゼン核であり、該ベンゼン核は、低級の任意に分岐 した少なくとも1つのアルキル基、低級の任意に分岐した少なくとも1つのアル ケン基、低級の任意 に分岐した少なくとも1つのアルキン基、低級の任意に分岐した少なくとも1つ のアルコキシ基によって、フッ素、塩素、臭素又はヨウ素によって又は幾つかの 同一又は異なったハロゲンによって、ハロゲンによって又は幾つかの同一若しく は異なったハロゲンによって置換された少なくとも1つのアルキル(例えば、ク ロロメチル及びトリフルオロメチル)、任意に置換された少なくとも1つのアラ ルキル基及び/又は少なくとも1つのヒドロキシル基、1級、2級若しくは3級 アミノ基、ニトロ基、ニトリル基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、アル デヒド基、カルボン酸基、又はカルボン酸基の全ての誘導体(例えばエステル、 アミド及びハライド)によって任意に一置換又は多置換される。 本発明は更に、下記一般式(II)の4a,5,9,10,11,12−ヘキサ ヒドロ−6H−ベンゾフロ[3a,3,2−ef][2]ベンズアゼピン誘導体 の製造方法に関する。 但し、R2、R4、X1、X2、Y1及びY2並びにAは、式(I)に対して先に 与えられた意味であり、Z-は、タータレート(tarttrate)、ラクテート(lact ate)、シトレート(citrate)、アセテート又はマレエート(maleate)のよう な薬学的に有効な酸の有機アニオン、又はフルオライド、クロライド、ブロマイ ド、アイオダイド、サルフェート(sulfate)、ホスフェート若しくはクロレー ト(chlorate)のような無機アニオンであり、R5は水素、ホルミル、直鎖若し くは分岐したアルキル、アルケニル、アリール、アラルキル、アルキルカルボニ ル、アリールカルボニル又はアラルキルカルボニルであって、無置換であるか、 又は少なくとも1つのハロゲンで置換されたもの、又は直鎖若しくは分岐したア ルキルオキシカルボニル、ア リールオキシカルボニル、アラルキルオキシカルボニル、アルキルスルホニル、 アリールスルホニル又はアラルキルスルホニルであって、無置換であるか、又は 1以上のハロゲンで置換されたものである。 置換基R1〜R5、X1,2、Y1,2の好ましいものは以下の通りである。 、R1、R2、R3、R6:水素、直鎖若しくは分岐したアルキル、アルケニル 、アリール、アラルキル、アルキルカルボニル、アリールカルボニル又はアラル キルカルボニルであって、無置換であるか、又は1以上のハロゲンで置換された もの、又はこれらの基の任意の組み合わせ。 X1、X2:H、F、Cl、Br、I-、t−ブチル及びいずれかの組み合わ せ。 Y1、Y2:H、O−R6、並びにY1及びY2=O。 R4、R5:R1、R2、R3、R6に対して述べた好ましい意味、及び直鎖又は 分岐したアルコキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、アラルキルオキシ カルボニル、アルキルスルホニル、アリールスルホニル又はアラルキルスルホニ ルであって、無置換であるか、又は1以上のハロゲンで置換されたもの。 ガランタミンは、ヒガンバナ科(Amaryllidaceae)のタイプの植物に主として 存在する高い薬学的活性のアルカイロイドである。選択的なアセチルコリンエス テラーゼ阻害剤としてのその作用及びアルツハイマー病に対するその関連した使 用が特に強調されている。ガランタミンは、今までのところ、カフカス地方のス ノードロップのガランタスヴォロノイ(woronoyi)から、US$30,000/ kg以上のコストで毎年数kgの量で単離されている。ガランタミンの合成は、 1960年代末から基本的には公知であるが、これには、長く、全収率の低い非 経済的な反応経路が使用されている。 上記一般式(I)及び(II)の幾つかの化合物の合成は、本質的には公知であ り、文献に開示されている。従って、N−(3−ヒドロキシ−4−メトキシフェ ニル)−N−メチル−4−ヒドロキシル−フェニルエチルアミンを種々の酸化剤 の補助のもとに酸化的に環化させ、ナルヴェジン(narwedine)誘導体(ナルヴ ェジンは、ガランタミンの前駆体であるが、すでにガランタミンに特徴的な環構 造を有している。)を得る[Lit.1-2]。概して収率は理論量の1%以下であ る。従って、構造は示されうるが、ガランタミンを薬学的に興味のあるkg量で 製造することはできない。 最適化された方法(特に、Kametani,Lit.3−7,22)は、N−メチル−ベ ンズアミド及びフェニルアセトアミド誘導体のこの環化を40%までの収率で開 示しているが、全収率は低く、工業的な利用は不可能である。更に、文献では、 N,N−二置換フェニルエチルアミン誘導体の環化(Lit.8)及び電気化学的( Lit.9-12)、微生物学的(Lit.14-15)、酵素的(lit.8)及び擬生物学的方 法(Lit.14-15)が報告されている。文献23には、イソバニリンから44%の全 収率でナルヴェジンの製造を開示しているが、等モル量のパラジウムとチタニウ ムトリフルオロアセテートを使用するため、この合成は不経済となっている。こ の経路(lit.23)で得られる(+/−)ナルヴェジンは、文献24では、所望 の(−)ナルヴェジンに富んでおり、これはL−セレクトライドを用いて好収率 でガランタミンに変換される。 文献8は、酸化的環化が21%の収率で開示された合成を提案しているが、エ ナンチオマーの分離は示されていない。ブロモナルヴェジンをTHF中でLiA lH4で還元し、(+/−)ガランタミンと(+/−)エピガランタミンの53 :31のジアステレオマー混合物を形成させることも公知である。 本発明は、大量の表題物質を再現可能な方法で、かつ工業的ステップ及び全収 率の改善された収率で製造することができる合成方法を開発する目的に基づいて いる。 この目的は、請求の範囲第1項及び第2項に記載の方法、本発明の好ましく、 有利な変更及び態様に関連した従属項によって本発明に従って達成される。特に 、以下の本発明の評価は優位であることを証明している。 ハロゲン化溶媒、例えばクロロホルムのトルエンでの置き換え。ハロゲン化溶 媒は、今日、これらの毒性、これらの廃棄の困難さ、及びこれらの環境に対する 非許容性ゆえに工業的溶媒としてはほとんど使用されていない。対照的に、トル エンは、これらの不利益を有していない。 抽出による処理は有機溶媒を必要とする。本発明では、ほとんどの段階の処理 操作は、反応生成物が溶液から結晶状態で通常得られるように最適化されうる。 従って、クロマトグラフィーによる精製段階又は抽出をほとんど避けることがで きる。 更に、パラメータを改善することによって収率を非常に狭い範囲で再現するこ とができ、主生成物の純度及び複製生物の含量をこれらの反応に従って明確にす ることができる。個々の段階及び全収率の改善された再現可能な収率が本発明の 方法で可能である。とりわけ、本発明は、ブロモホルミルナルヴェジンが還元剤 で還元される方法を提供する。L−セレクトライドを還元剤として使用でき、こ の還元は、ジアステレオ選択的に高収率(例えば85%)でN−脱メチルブロモ ガランタミン(これは、エシュバイラー−クラーク及び脱臭素化に従ったN−メ チル化により(±)ガランタミンに変換されうる。)に導く。この方法では、ク ロマトグラフィー法で反応生成物中の(+/−)エピガランタミンを検出するこ とはできない。ガランタミン及びガランタミン誘導体は、文献に(請求の範囲第 64項から第67項に示した化合物を参照。)開示されていない中間体を介して 本発明に従った方法によって工業的スケールで製造することができる。 従来技術に比べて得られた生成物の収量及び純度に関してかなり改善され、工 業的スケールで行うことができる本発明の方法は以下の例を介して説明されうる 。 下記一般式(I)の4a,5,9,10,11,12−ヘキサヒドロ−6H− ベンゾフロ[3a,3,2−ef][2]ベンズアゼピン誘導体又はこれらの塩 を合成するために、 但し、R2、R4、X1、X2、Y1及びY2は同一であるが、又は異なっており 、水素、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素、ヒドロキシル若しくはアルコキシ基、低 級の任意に分岐し、任意に置換されたアルキル基、低級の任意に分岐したアルキ ル基、低級の任意に分岐したアルキン基、任意に置換されたア リール、アラルキル若しくはアリールオキシアルキル基であって、これらのアル キル鎖が任意に分岐しており、これらの芳香核が任意に置換されたもの、ホルミ ル基、又は直鎖若しくは分岐したアルキルカルボニル、アリールカルボニル、ア ラルキルカルボニル、アルキルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、 アラルキルオキシカルボニル、アルキルスルホニル、アラルキルスルホニル若し くはアリールスルホニルであって、無置換であるか又は1以上のハロゲンで置換 されたものであり、及びY1、Y2が=O(ケトン)である。 Aは、ベンゼン核であって、該ベンゼン核が、低級の任意に分岐した少なく とも1つのアルキル基、低級の任意に分岐した少なくとも1つのアルケン基、低 級の任意に分岐した少なくとも1つのアルキン基、低級の任意に分岐したアルコ キシ基によって、フッ素、塩素、臭素若しくはヨウ素によって、又は幾つかの同 一若しくは異なったハロゲンによって、少なくとも一置換されたアルキル基(例 えばクロロメチル及びトリフルオロメチル)、任意に置換された少なくとも1つ のアラルキル基、少なくとも1つのヒドロキシル基、1級、2級若しくは3級ア ミノ基、ニトロ基、ニトリル基、アルキルアミノ基若しくはアリールアミノ基、 アルデヒド基、カルボン酸基及びカルボン酸基の全ての誘導体(例えばエステル 、アミド及びハライド)で任意に一置換又は多置換されたものである。 引き続きの還元を伴う縮合ステップ、N−ホルミル化又はN−保護基の導入、臭 素化(これはまた、全体に渡る反応式に従えば、イソバニリンの段階ですでに行 いうる。)、酸化的環化、還元、還元剤の性質に依存して追加のN−メチル化、 及び光学異性体の分離を具備した方法を使用する。要求される場合には、上記方 法の個々の工程は省略することもできる。 本発明はまた、表題化合物の塩の製造に関する。 一般式(I)の化合物は、有機酸及び無機酸に変換されうる。 例えば、塩酸及び臭素酸、硫酸及びリン酸、並びに過塩素酸のような鉱酸、 乳酸、置換及び無置換の酒石酸、酢酸、サリチル酸、クエン酸、安息香酸、β− ナフトエ酸、アジピン酸等のような薬学的に許容しうる有機酸の塩に変換されう る。 幾つかの場合、本発明の方法で新規な化合物が生じる。新規な化合物には、下 式のブロモガランタミン 下式のエピブロモガランタミン 下式のN−脱メチルブロモガランタミン 及び下式のN−脱メチル−エピブロモガランタミン が含まれる。 本発明はまた、例により先に説明した方法で、下記一般式(II)の4a,5, 9,10,11,12−ヘキサヒドロ−6H−ベンゾフロ[3a,3,2−ef ][2]ベンズアゼピンの置換された誘導体の塩の製造に関する。 但し、R2、R4、X1、X2、Y1及びY2並びにAは式(I)で先に与えられ た意味であり、Z-はタータレート(tartrate)、ラクテート(lactate)、シト レート(citrate)、アセテート、マレエート(maleate)等のような薬学的に有 効な酸の有機アニオン、又はフッ素、塩素、臭素若しくはヨウ素アニオン、又は サルフェート(sulfate)若しくはホスフェート、又はクロレート(chlorate) アニオンのような無機アニオンであり、R5は、水素原子、低級の直鎖若しくは 分岐したアルキル基、アリール若しくはアラルキル基であって、アルキル鎖が分 岐若しくは直鎖であるものである。 本発明に従って得ることができる化合物及びその塩には、少なくとも2つの不 斉中心が含まれ、従って、これらは幾つかの立体異性体の形態で存在しうる。本 発明はまた、得られたジアステレオマー又はラセミ体を光学的に純粋な対掌体に 分離すること、及びこれらの混合物に関する。 上記ステップは、一般的に及び以下のような例によって行われうる。 1. 縮合及び還元 一般式(I)及び(II)の化合物を製造するために、R4=Hである一般式( V)の置換された誘導体を以下の手順によって製造する。この手順では、一般式 (III)の化合物(但し、R1及びR2は水素、低級の直鎖若しくは分岐したア ルキル又はアリール又はアラルキルであって、アルキル鎖が直鎖若しくは分岐し たもの、並びにアルキルカルボニル、アリールカルボニル及びアラルキルカルボ ニル、又は一緒になった(R1=R2=−CH2−)アルキル基、又はこれらの基 の組み合わせであり、X1=H、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素又はt−ブチルで ある。)を、チラミン又は置換されたチラミン(R3=水素、低級の分岐若しく は直鎖アルキル、アリール又はアルキル鎖が分岐若しくは直鎖のアラルキル、並 びにアルキルカルボニル、アリールカルボニル及びアラルキルカルボニルである 。)と縮合反応にかける。ここでの方法は以下の通りでありうる。 9:1から1:9の比、主に1:1の比で、等モルの(III)及び(IV)と、 高級アルコールを含むトルエン、キシレン若しくはベンゼン又はこれらの混合溶 媒、主にn−ブタノールを含むトルエンの溶液(濃度1〜30%)を、還流温度 で反応し、水を分離除去する。次に、溶媒を蒸留により分離除去して、>95% の程度まで回収し、残渣を、メタノール、エタノール、n−プロパノール、i− プロパノール、メチルグリコール又はエチルグリコールのようなアルコール、水 、氷酢酸又はこれらの溶媒の混合物、主にメタノールに1〜30%の濃度で溶解 し、0.6から5等量、好ましくは0.65から0.7等量の、水素化ホウ素ナ トリウム、水素化ホウ素カリウム、ナトリウムシアノボロハイドライド及びLi AlH4、及びこれらの混合物のような還元剤、主に水素化ホウ素ナトリウムを 粉末又は顆粒の形態で、−30℃から還流温度までにおいて、一部づつ添加する ことによって還元する。縮合生成物(V)を、濾過によって80から85%の収 量で、第一のフラクションとしてアルコール溶液から濾過する。15から30% の容積まで蒸留によってアルコール溶液を処理し、第二のフラクションを濾過し 、収量が理論量の90から95%に増加する。この他の方法として、反応溶液を 水にあけ、これにより結晶性生成物(V)を沈殿させ、吸引濾過し、乾燥した後 、95%間での収率を得る。 2. N−ホルミル化又はN−保護基: R4=ホルミル又は直鎖若しくは分岐したアラルキル、アルキルカルボニル、 アリールカルボニル、アラルキルカルボニル、アルキルオキシカルボニル、アリ ールオキシカルボニル、アラルキルオキシカルボニル、アルキルスルホニル、 アラルキルスルホニル又はアリールスルホニルであって、無置換であるか又は1 以上のハロゲンで置換されたものである式(V)の酸化的環化のための出発物質 は、R4=Hである化合物(V)と、対応する酸、エステル、無水物、ハライド 、アジド、カーボネート又はこれらの保護基の他の反応性誘導体との反応によっ て製造されうる。 特に、R4=Hである一般式(V)の化合物を、等モルから50倍モル量のギ 酸エチル、及び触媒量のギ酸((0.001から1等量)を含むTHF、ジオキ サン、DMF、トルエン、キシレン、又はこれらの溶媒の混合物の溶媒中で、0 ℃から還流温度で反応し、R4=CHOである一般式(V)の化合物を得る。こ のプロセスで溶媒を真空蒸留によって除去し、蒸留残渣を、水及び氷を一部ずつ 加えて結晶化させ、生成物を濾過により90%の収量で、>95%の含量で得る 。 3. 臭素化 R1、R2、R3=低級の直鎖又は分岐したアルキル、アリール、アラルキル、 アルキルカルボニル、アリールカルボニル又はアラルキルカルボニルであり、X1 、X2=H、R4=ホルミル、又は直鎖若しくは分岐したアラルキル、アルキル カルボニル、アリールカルボニル、アラルキルカルボニル、アルキルオキシカル ボニル、アリールオキシカルボニル、アラルキルオキシカルボニル、アルキルス ルホニル、アラルキルスルホニル又はアリールスルホニルであって無置換である か、又は1以上のハロゲンで置換されたものである一般式(V)の化合物におい ては、反応は以下のように行う。即ち、クロロホルム又は塩化メチレンのような ハロゲン化溶媒とアルコール(メタノール、エタノール、メチルグリコール、エ チルグリコール、エチレングリコール、n−プロパノール、i−プロパノール) との9:1から1:9、好ましくは3:2から2:3の比の混合溶媒中、及び純 粋なアルコール(メタノール、エタノール、メチルグリコール、エチルグリコー ル、エチレングリコール、n−プロパノール、i−プロパノール)の溶媒中、及 び9:1から1:9、好ましくは3:2から2:3の比でのこれらの混合物、好 ましくはエタノール/メチルグリコール中、90から100%の含量で、−80 から+60℃、好ましくは−40から0℃の温度において、0.5gから20g /溶媒100mlの濃度で、前記溶媒に1から90%、好ましくは2から10%の 濃度で元素状臭素を加えることによって得られる臭素試薬の1.0から3.0、 好ましくは1.4から1.7等量(該臭素試薬の添加時間は10分から4時間、 好ましくは15から30分)と反応すれば、0.5から24時間好ましくは30 から60分の反応時間後、及び後処理(10から25%の容積まで蒸留により濃 縮し、10から50倍量の氷−水にあけ、濾過し、乾燥する。)の後、X1=B rである式(V)の化合物が理論量の90から96%の収率で得られる。 X1=Br、R4=CHOである中間体(V)又は多臭素化された中間体の製造 は、以下の通りである。 ルート1(全工程反応式18ページ参照):X1、X2=Hであり、R4=C HOである式(V)の化合物を与えられた操作指示に従って臭素化すると、例え ば、82%の生成物、6%の前駆体、8%のX2=Brである副生成物及び5% の高度に臭素化された生成物が得られる。(HPLC、リクロソルブ(Lichro-s orb)RP18、5μ、300/4mm、溶出液MeOH/H2O 6:4、280 nm)。臭素化方法を変更すると、上述の生成物の比も変化する(通常、より高度 に臭素化された生成物がより高含量で生成する。)。酸化的環化反応の後、所望 の一般式(I)の化合物(X1=Br、R4=CHO及びY1=Y2=O)に加えて 、一般式(V)(X1=X2=Br、R4=CHO)の化合物の含量に対応した含 量で前駆体が検出され(HPLC、リクロソルブSi60、10μ、300/4 mm、溶出液:CHCl3:MeOH 95:5、254nm)、分取用クロマトグ ラフィー(シリカゲル60、CHCl3:MeOH 1〜5%)によって単離さ れうる。L−セレクトライド又は他の還元剤での還元の後、より高度に臭素化さ れたナルヴェジン(X1=X2=Br)を同様にしてガランタミンに還元するか、 又は分取クロマトグラフィーによって分離除去する。 ルート2:(全反応式、18ページ参照) ベラトルムアルデヒド(veratrumaldehyde)から出発し、6−ブロモ−イソバ ニリンを経て、X1=Br、R4=CHOである式(V)の化合物を、縮合及びN −ホルミル化によって、より高度に臭素化された副生生物を生じることなく製造 することができる、 4. 酸化的環化 R2=水素、低級の分岐若しくは直鎖のアルキル、アリール、又はアルキル鎖 が分岐しているか若しくは直鎖のアラルキル、又はアルキルカルボニル、アリー ルカルボニル及びアラルキルカルボニル、又はこれらの基の組み合わせであり、 X1=H、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素又はt−ブチルであり、R4=ホルミル、 又は直鎖若しくは分岐したアラルキル、アルキルカルボニル、アリールカルボニ ル、アラルキルカルボニル、アルキルオキシカルボニル、アリールオキシカルボ ニル、アラルキルオキシカルボニル、アリールスルホニル、アラルキルスルホニ ル又はアリールスルホニルであって、無置換であるか、又は1以上のハロゲンで 置換されたものであり、R3=水素である一般式(V)を酸化的に環化し、一般 式(I)の化合物(但し、R2、R4、X1は先に定義した通りであり、Y1,Y2 =O(ケトン)であり、X2=H又はBrである。)を得るためには、反応を以 下のように行う。即ち、クロロホルム、塩化メチレン、酢酸エチル、THF、ジ オキサン、酸、氷酢酸、水、これらのアルコール(メタノール、エタノール、メ チルグリコール、エチルグリコール、n−プロパノール、i−プロパノール)と の混合物(9:1から1:9の比)、更に、トルエン、キシレン又はベンゼン、 主にキシレン及びトルエンのような溶媒中、0.05gから10g/溶媒100 mlの濃度において、0.1%から飽和溶液若しくは懸濁液、主に5から20%の 濃度の炭酸水素ナトリウム、炭酸カリウム、NaOH、KOH又はピリジン、好 ましくは炭酸カリウム、及び4〜10等量、好ましくは5.5〜6等量のPb( OAc)4、KMnO4、FeCl3、フェリシアン化カリウム又はH2O2、好ま しくはフェリシアン化カリウムを用い、必要であれば、アリカート(Aliquat)若 しくはクラウンエーテルのような相間移動触媒、並びにアスコルビン酸、CuC l若しくはトリフルオロ酢酸を加えて、−40℃から還流温度、主に50から8 0℃の温度で、固体として、溶媒中の溶液として又は懸濁液として、好ましくは 固体としての前駆体を迅速に若しくは一部ずつ加え、10分から72時間、主に 15から45分の反応時間で、好ましくは撹拌機及びホモジナイザーを用いて激 しく機械撹拌しながら、必要であれば、N2、CO2若しくはアルゴン、主にアル ゴンのような不活性ガス下で反応を行う。トルエン層の濾過、層分離及び真 空蒸留による後処理で、粗生成物を5から65%の収率で得る。環化生成物の精 製によってこの粗生成物から5から50%の収率が得られる。 5. 還元 R2が、低級の直鎖若しくは分岐したアルキル、アリール、アラルキル、アル キルカルボニル、アリールカルボニル又はアラルキルカルボニルであり、X1、 X2がフッ素、塩素、臭素、ヨウ素又はt−ブチルであり、R4がホルミル、又は 直鎖若しくは分岐したアラルキル、アルキルカルボニル、アリールカルボニル、 アラルキルカルボニル、アルキルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニル 、アラルキルオキシカルボニル、アルキルスルホニル、アラルキルスルホニル又 はアリールスルホニルであって、無置換であるか、又は1以上のハロゲンによっ て置換されたものであり、Y1,Y2=O(ブロモナルヴェジンタイプ)である一 般式(I)の化合物を還元するためには、DiBAl−H、DiBAl−H/Z nCl2、Alイソプロピレート、Red−Al、K−セレクトライド、L−セ レクトライド、KS−セレクトライド、LS−セレクトライド、Li−トリ−t −ブトキシ−AlH、Liートリ−エトキシ−AlH、9−BBN、スーパーハ イドライド、NaBH4、Zn(BH4)2、AlH3、AlCl2H、又はこれら の還元剤の組み合わせを用いて、以下の手順に従う。還元は、ジエチルエーテル 、エーテル、THF、ジオキサン、トルエン、キシレン又はベンゼンのような溶 媒中において、−50℃から還流温度の温度で、等モル若しくは過剰の還元剤を 出発物質に加えるか、逆に、出発物質を還元剤に加えることによって行われる。 アルカリ性(主にNH4OH)又は酸性(主に2N HCl)処理し、引き続き トルエン、キシレン、ベンゼン、酢酸エチル、エーテル、クロロホルム又は塩化 メチレンのような溶媒で抽出した後、粗生成物をクロマトグラフィーで精製し、 必要であれば、ジアステレオマーを単離するか、又は粗生成物を直接に更なる反 応にかける。 特に、N−脱メチルブロモガランタミンは、カラムクロマトグラフィーによる 精製の後に、L−セレクトライド又はK−セレクトライドでブロモ−N−ホルミ ルナルヴェジン(ナルヴェジンを使用する場合のLit.24とは対照的である。) を還元することによって理論量の70から85%の収率でジアステレオ選択的に 得られる。エピ−N−脱メチルブロモガランタミンはクロマトグラフィー法で検 出されなかった。 N−脱メチルブロモガランタミンは、例えば5から50倍過剰のギ酸及びホル ムアルデヒド水溶液中で10分から数時間煮沸することによってN−メチル化に より理論量の80〜90%の収率でブロモガランタミンに変換される。 ブロモガランタミンは、例えば0.1から15%のパラジウム/活性炭触媒の 存在下、5から50倍モル過剰のギ酸及びトリエチルアミンを用いて、1から1 2時間還流温度で加熱し、臭素を除去することによってガランタミンに変換され る。収率:理論量の70から80%。 各反応段階はまた、中間体の単離及び精製をせずに行うことができる。 約1:1の比のN−脱メチルブロモガランタミン及びエピ−N−脱メチルブロ モガランタミン混合物は、前駆体をLi−トリ−t−ブトキシ−AlHで還元す ることによって得られる。 DiBAl−Hでの還元は、43%のブロモガランタミンと41%のエピブロ モガランタミンを与える。 Li−AlH4/無水H2SO4での還元も約3:1の比でブロモガランタミン とエピブロモガランタミンを与える。 還元は、例えば以下に説明するようにも行われうる。 R2=アルキル、X1=Br、R4=CHO、X2=H、Y1,Y2=O(ケトン) である一般式(I)の化合物を還元するためには、前駆体を、THF、ジオキサ ン又は他のエーテル、主にTHF中に、0.1から20g/100mlの濃度で加 熱することによって溶解する。次に、3から5、主に3.5等量のL−セレクト ライドの主に1モルTHF溶液を−50から還流温度、主に0〜20℃の温度で 添加し、混合物を20から48時間、主に1時間撹拌して反応する。還元剤と形 成された錯体を水及び水酸化アンモニウムを加えて分解し、過剰の有機溶媒を3 0℃以下に加熱しながら真空下にエバポレートして除く。エーテル(例えば、ジ エチルエーテル)、酢酸エチル、酢酸ブチル、クロロホルム、塩化メチレン、ト ルエン、ベンゼン又はキシレンのような溶媒で抽出してN−脱メチルブロモガラ ンタミンを粗生成物として理論量の90から100%の収率で得る。 N−脱メチルブロモガランタミンをモノメチル化するためには、5から30倍 モル過剰のギ酸及びホルムアルデヒド水溶液(37%)中のN−脱メチルブロモ ガランタミン溶液を、有機溶媒を用いて、又は有機溶媒を用いずに10分から2 時間、主に15から20分間流温度で加熱する。 ブロモガランタミン又はエピブロモガランタミンを脱臭素化するためには、ブ ロモ−又はエピブロモガランタミンを、5から50倍モル過剰のギ酸及びトリエ チルアミン中において、有機溶媒を用いて、又は有機溶媒を用いずに、0.1か ら15%のパラジウム/活性炭触媒の存在下、1から12時間、主に2.5時間 還流温度で加熱する。 R2=アルキル、X1=Br、R4=CHO、X2=H、Y1,Y2=O(ケトン) である一般式(I)の化合物を還元するには、前駆体をベンゼン、トルエン、キ シレン、主にトルエンのような不活性有機溶媒中に、0.1から20g/100 mlの濃度で懸濁し、3から5、主に3.5等量のDiBAl−Hを主にトルエン の1.5モル溶液として、−50から還流温度、主に0℃から20℃の温度で滴 下する。次に、この混合物をこの温度で20分から12時間、主に30分から1 .5時間撹拌し、形成された錯体を水及び水酸化アンモニウムで分解し、混合物 をトルエンで抽出し、粗生成物(理論量の90から100%)をカラムクロマト グラフィー(シリカゲル、アセトン/ヘキサン 1:1)によって43%のブロ モガランタミンと41%のエピブロモガランタミンに分離する。 6. 光学異性体の分離 A、R2、R4、X1及びX2が先に述べた意味である一般式(I)のキラルな4 a,5,9,10,11,12−ヘキサヒドロ−6H−ベンゾフロ[3a,3, 2−ef][2]ベンズアゼピン(Y1=H、OH;Y2=H、OH)を、光学的 に純粋な対掌体に分離するために、キラルな酸との塩の分別結晶化法を使用しう る。分別結晶化によるナルヴェジンタイプの化合物(Y1及びY2が共に=O(ケ トン)である一般式(I)の化合物)の(+)及び(−)異性体の分離は以下の ようにして行われる。5から50倍量の溶媒(例えば、水、メタノール、エタノ ール、プロパノール、イソプロパノール、アセトン又はこれらの混合溶媒)中の 光学異性体の溶液又は懸濁液を、上記溶媒の1つに溶解された、等モル量又 は過剰量のキラルな酸(無置換又は一置換若しくは多置換された+又は−酒石酸 、クエン酸、乳酸、α−メトキシフェニル酢酸、カンファースルホン酸及びこれ らの誘導体、好ましくはジ−p−トリル(+)酒石酸と混合し、この溶液に、天 然に存在する(−)ガランタミン誘導体とジ−p−トリル(+)酒石酸のような キラルな酸から調製された結晶を播き、−40℃から+20℃、好ましくは0℃ で2から24時間、又はこれ以上の間放置し、形成された結晶を濾過し、乾燥し 、次いで過剰のNH4OHを加え、混合物を、クロロホルム、塩化メチレン、酢 酸エチル、酢酸ブチル、ジエチルエーテル、t−ブチルメチルエーテル、ジブチ ルエーテル、石油エーテル、キシレン、ベンゼン、トルエン又は同様の溶媒のよ うな有機溶媒で抽出し、対応する(−)ガランタミン誘導体を溶媒の蒸留によっ て単離する。 このプロセスにおいて、母液を濃縮し、過剰のNH4OHに取り、有機溶媒( 上述したようなもの)で抽出し、エバポレートして更にガランタミンのフラクシ ョンを得る。これから、例えばジ−p−トリル(−)酒石酸のようなキラルな有 機酸の助けを借りて、上記と類似の方法で(+)ガランタミン誘導体を得ること ができる。 本発明の方法で得られた生成物は、化学において慣例の方法、例えば分別蒸留 、結晶化又はクロマトグラフィーで精製することができる。 W.C.shieh及びJ.A.Carlsonは、(−)ガランタミンがコリン作動性機能を強 めた選択的なアセチルコリンエステラーゼ阻害剤であり、アルツハイマー病に苦 しんでいる個体を治療するための製品と考えられることを報告した。 光学的に純粋な(−)ガランタミンを製造するためには、触媒量の(−)ナル ヴェジン種結晶又は(+)ナルヴェジン種結晶を(±)ナルヴェジン溶液に加え 、結晶化を起こさせることが提案される。この手順では、(−)ナルヴェジンが 、(±)ナルヴェジンを含有する溶液から白色結晶の形態で結晶化される。還元 により(−)ナルヴェジンを(−)ガランタミンに変換するには、光学的に純粋 なナルヴェジンをジアステレオ選択的に還元することが提案される。ジアステレ オ選択的な結晶化によって得られる(−)ナルヴェジンを、−78℃でL−セレ クトライドによって(−)ガランタミンにほぼ99%の収率で立体特異的に還元 す る。この二段階プロセス(結晶化及び還元)でのラセミのナルヴェジンの(−) ガランタミンへの変換の全収率は90%である。(±)ナルヴェジンの製造に関 する文献は、Lit.23(Holtonら)であり、この方法は、化学両論量のパラジ ウム及びチタンが必要である。 この開示された方法の不利益の1つは、還元が−78℃の開示されたプロセス 条件下で行われなければならないことである。更に、いくぶん微量のバッチ(2 85mgの前駆体)のみが開示されており、約200倍量の溶媒中で行われ、CH2 Cl2/メタノール(6:1)を用いてクロマトグラフィーにより処理される。 本発明に従った方法の反応式を以下に示す。 本発明の方法の1つの変形に従えば、ナルヴェジンは、保護基として環状ケタ ール(Y1,Y2=置換又は無置換環状ケタール又はチオケタール、例えばプロピ レングリコール:O−CH2−CH2(CH3)−O)の導入、引き続きのLiA lH4での還元及びケタール保護基の解裂除去を経てY1,Y2=O(ケトン)で ある一般式(I)の環化された化合物から出発して得ることができる。ラセミの ナルヴェジン(又はY1,Y2が=O(ケトン)である一般式(I)の化合物)は 、触媒量の(+)ガランタミン又は(−)ナルヴェジンを添加して富化され、( −)ナルヴェジンを>98%のエナンチオマー純度で得ることができる。 本発明のこの変更の利点は、望まないエナンチオマーを所望のエナンチオマー に変換できることである。 ラセミのナルヴェジンは、触媒量の(−)ガランタミン又は(+)ナルヴェジ ンを加えることによって、同様な方法で(+)ナルヴェジンが富化されうる。富 化されたナルヴェジンは、L−セレクトライドを用いて好収率で光学的に純粋な ガランタミンに変換され、適切な処理によって遊離の塩、又は、直接に、臭素酸 塩が得られる。ガランタミン臭素酸塩は、該臭素酸塩の結晶化によって>99% のエナンチオマー含量で得ることができる。この含量は、旋光度の測定、及びキ ラルな電解質中でのミクロキャピラリー電気泳動によるエナンチオマーの定量的 測定によって決定される。 上記ステップは、一般的に及び以下の例にしたがって行われうる。 7. 保護基の導入 ケタール保護基を導入するためには、Y1,Y2が=Oであり、X1がBrであ り、R1がCHOである一般式(I)の化合物を、ベンゼン、トルエン又はキシ レン、主にトルエンのような溶媒中において、1から30倍量のジオール(例え ば、エチレングリコール若しくはプロピレングリコール)、又はジチオール(例 えば、1,3−ジチオプロパン)と共に、p−トルエンスルホン酸若しくは濃硫 酸又は他の酸の存在下、水分離器を使用して数時間還流温度で加熱する。この混 合物を引き続き冷却し、ジオール層(ジチオール層)を分離除去し、トルエンで 抽出し、得られたケタール(チオケタール)を、トルエン層をエバポレートする ことによって単離する。 8. 還元、保護基の解裂除去 一般式(I)(主に、X1がBrであり、R4がCHOであるもの。)の精製さ れた、又は粗製のケタール(チオケタール)はLiAlH4での還元、及び引き 続きのケタール基の分離除去によってナルヴェジンに変換される。例えば、一般 式(I)の化合物のプロピレングリコールケタールを、THFに溶解し、化学量 論量の3から5倍のLiAlH4を加え、この混合物を12時間還流温度で加熱 する。これによって、何れかのX1BrもX1Hに変換され、R4CHOはR4CH3 に変換される。過剰のLiAlH4をNH4OHで分解し、濾過し、EtOAc で抽出し、ケタール保護された一般式(I)のナルヴェジンタイプの化合物を得 る。酸、主に2N塩酸中で粗生成物を加熱し、NH4OHで混合物をアルカリ性 にすると、式(I)のナルヴェジンタイプ化合物が好収率(約80%)で得られ る。混合物をLiAlH4を用いて−10°から0℃で2時間撹拌し、次いでN H4OHで加水分解し、EtOAcで抽出すると、ケタール保護されたN−脱メ チルブロモナルヴェジンが得られる。L−セレクトライドでの還元の方法に匹敵 する方法として、R4がCH2−OHである式(I)の化合物を中間体として形成 させ、これを加水分解の間に分解させてN−脱メチル化合物を得る。2NHCl で処理することによって、ケタール基を解裂除去し、脱メチル−ブロモ−ナルヴ ェジンタイプの化合物を得る。脱メチル−ブロモ−ナルヴェジンタイプのO−保 護された化合物又は未保護の化合物のアルキル化、又はN−保護基の導入、及び 存在する何れかのO−保護基の解裂除去により、Y1,Y2=O(ケトン)であり 、R4が置換若しくは無置換のアルキル、アルケニル、アルキニル、アリール又 はアラルキル、又は何れかの保護基である異なるように置換された一般式(I) のナルヴェジン又は四級化された一般式(II)の化合物を得る。例えば、Zn/ CaCl2での脱臭素化で、N−置換されたナルヴェジンタイプの化合物を得る 。 Y1,Y2=エチレングリコールケタールである一般式(I)の化合物を、TH F中45〜50℃で12時間LiAlH4を用いて加熱すると、対応するケター ル保護されたナルヴェジンが形成される。この前駆体を24時間還流温度(65 〜68℃)で加熱すると、環状ケタール構造が開き、Y1が−CH2−C H2−OHであり、YがHである生成物が形成されるが、これは同様に、主に酸 、主に2NHCl中で加熱することによってナルヴェジンタイプの化合物に変換 されうる。 LiAlH4での還元が、0℃で脱メチル−ブロモ−ナルヴェジンケタールに 、45℃でナルヴェジンケタールに、70℃、48時間以上でガランタミンヒド ロキシエチルエーテルに、45〜70℃で、引き続きHClで処理する(ケター ルも解裂される。)とナルヴェジンに導くことは興味のあることである。 X1がBrであり、R4がCHOである一般式(I)のケタール保護された化合 物をZn/CaCl2で還元すると、臭素が還元され、ケタール基が解裂除去さ れるが、R4のCHOはそのまま残る。 9. 富化 Y1,Y2=O(ケトン)であり、R4がCH3である一般式(I)のラセミ化合 物を、水、メタノール、エタノール、n−プロパノール、ブタノール、メチレン グリコール、エチレングリコール又はこれらの混合溶媒のような溶媒中、1から 30%のトリエチルアミン又は同様な塩基と共に還流温度で加熱し、光学的に純 粋な化合物、例えば(+)ガランタミン、又は(−)ナルヴェジンを加える。例 えば、(+)ガランタミン又は(−)ナルヴェジンの何れかを(−)ナルヴェジ ン用に使用し、(+)ナルヴェジン用には、例えば(−)ガランタミン又は(+ )ナルヴェジンを使用し、混合物を段階中ゆっくり冷却する。 好ましくは、混合物を40℃で1から14日間撹拌し、次いで0から20℃に 冷却し、沈殿した光学的に富化された結晶を単離し、マイクロキャピラリー電気 泳動によってエナンチオマーの含量が>98%であることを決定する。例えば、 ナルヴェジンに対しては、旋光度は405〜407°(20℃、c=1/CHC l3)である。キラルな電解質中でのマイクロキャピラリー電気泳動による決定 で、>98%のエナンチオマー含量が得られた。 10. 還元: ナルヴェジンタイプの光学的に純粋な化合物(Y1,Y2=O、ケトン)は、す でに与えられた指示と同様にして、L−セレクトライドを用いてガランタミンタ イプ(Y1又はY2がOHである)の光学的に純粋な化合物にジアステレオ選 択的に変換されうる。HBr水溶液での処理で、>99%のエナンチオマー含量 をゆする対応するガランタミン臭素酸塩を理論量の87〜95%の収率で得る。 11. 臭素の解裂除去: X1がBrである一般式(I)の化合物を、水、メタノール、エタノール、イ ソ−プロパノール、n−ブタノール又はこれらの混合物、主に70%エタノール のような溶媒に溶解し、1から5倍量の亜鉛末及び1から10倍量のCaCl2 を加え、混合物を撹拌する。平均して1から2時間後に、固体を濾別し、溶液を エバポレートし、クロマトグラフィー(シリカゲル60、例えばアセトン溶出液 )にかけ、80から85%の脱臭素化生成物を得た。 LIt.24に開示された方法と比較して、この方法を工業的スケールでの手順が 可能となるように改善することができる。例えば、前駆体を、好ましくはL−セ レクトライドの1モルTHF溶液に室温で粉末の形態で加え、混合物を1時間撹 拌し、メタノールを加え、混合物をエバポレートする。エタノール(例えば5〜 30倍量)に取り、HBr水溶液での酸性化で、ガランタミン臭素酸塩を>99 %のエナンチオマー含量で90から95%の収率で得る。 上述の変形方法は幾つかの場合、新規な化合物を導くか、又は新規な化合物が 中間体として形成される。新規な化合物は以下の通りである。 ブロモ−N−ホルミル−ナルヴェジンプロピレングリコールケタール(5) ナルヴェジンプロピレングリコールケタール(6) ブロモ−N−ホルミル−ナルヴェジンエチレングリコールケタール(7) ナルヴェジンエチレングリコールケタール(8) O−(2−ヒドロキシエチル)−ガランタミン(9) ブロモ−N−脱メチル−ナルヴェジンエチレングリコールケタール(10) ブロモ−N−ベンジル−ナルヴェジンエチレングリコールケタール(11) ブロモ−N−脱メチルナルヴェジン(12) これらの化合物に対して与えられた番号は、以下に再現された反応式でも使用し た。 本発明の更なる変更に従えば、ナルヴェジンタイプのラセミ化合物を製造する ために使用される手順は以下の通りである。即ち、一般式(Ia)の化合物は、 但し、R2、R4、X1及びX2は一般式(I)に関連して与えられた意味であ り、Z1及びZ2=O、S又はNであり、Y1及びY2は=O(ケトン)である。 下記一般式(va)の化合物の酸化的環化によって製造される。 但し、R1、R2、R3、R4、X1及びX2は一般式(V)に関連して与えられ た意味であり、Z1及びZ2=O、S又はNである。 引き続き生成物を、例えば先に説明した7.)段階と同様の方法でケタール若 しくはチオケタール、又は環状ケタール若しくは環状チオケタールに変換し、先 に説明した8.)段階と同様にしてLiAlH4のような還元剤で還元し、ケタ ール若しくはチオケタールとして単離するか、又は好ましくは酸加水分解でナル ヴェジンタイプの対応する化合物に変換する。反応式は、総説「ベンズアゼピン タイプを経るナルヴェジンの合成(Z2=H2に対するもの)(Synthese von 種々の濃度でのアルコール分解の結果として形成されうる副生成物は式(VI) の化合物である。 但し、R2、R4、X1、X2、Z1及びZ2は一般式(Ia)に関連して説明され た意味であり、R7はケタールを製造するために使用されたアルコール又はチオ ール、例えば−O−CH2CH(CH3)−OH(プロピレングリコール基)であ る。 L−セレクトライドを用いた、一般式(Ia)の化合物(R2、R4、X1及びX2 は一般式(I)に関連して与えられた定義であり、Z1及びZ2=O、S又はNで あり、Y1及びY2は=O(ケトン)である。)の還元でY1=OH、Y2=Hであ る式(Ia)の化合物が得られる。 Y1,Y2=Oである式(Ia)の化合物をLiAlH4で還元すると、ガランタミ ンタイプ(Y1=OH、Y2=H)とエピガランタミンタイプ(Y1=H、Y2=O H)の混合物(但し、X1、X2=Brは、X1、X2=HはX1、X2=Hに還元さ れ、Z=OはZ=H2に還元される。)が約5:3の比で得られる。 開示された方法の変形は、一部で以下の新規な化合物を導く。 本発明の方法の例を以下に示す。 例1: N−(4−ヒドロキシフェネチル)−(3−ヒドロキシ−4−メトキシ)−ベ ンジルアミン (一般式(V):但し、R1=R3=R4=X1=X2=H、R2=Me) 217.5g(1.43mol)のイソバニリン及び200g(1.45mol)の チラミンを、5lのガラス製二重壁容器中で2.5lのトルエン/n−ブタノー ル(1:1)に懸濁し、この懸濁液を還流温度で水を除去しながら加熱した。 4時間後溶媒を減圧下に蒸留して除き、残渣を2.5lのメタノールに取り、2 5gのNaBH4(0.66mol)を透明な溶液に加えた。反応混合物を0℃で4 時間撹拌し、析出した沈殿を濾別し、メタノールで洗浄し、乾燥した。 収量:332.3g(85.1%) 融点:176〜178℃ 分子量:C16H19NO3:273.32 例2 N−(4−ヒドロキシフェネチル)−(6−ブロモ−3,4−ジメトキシ)ベ ンジルアミン (一般式(V)、但し、R3=R4=X2=H、R1=R2=Me、X1=Br ) 100ml丸底フラスコ中で、50mlトルエン/n−ブタノール(1:1)中に 2.45g(10mmol)の6−ブロモ−3,4−ジメトキシベンズアルデヒド、 1.37g(10mmol)のチラミンを懸濁し、水を除去しながら還流温度で加熱 した。3時間後、溶媒を減圧下に蒸留して除き、残渣を50mlのメタノールに取 り、0.8gのNaBH4を透明な溶液に加えた。反応混合物を0℃で4時間撹 拌し、溶媒を減圧下に蒸留して除き、残渣を100mlのCH2Cl2に取り、有機 層を10mlの水で2回洗浄した。有機層をNa2SO4で乾燥し、濾過し、溶媒を 減圧下に除去した。残った残渣を150gのシリカゲル上で、ヘキサン:酢酸エ チル=2:8を用いてクロマトグラフィーにかけた。 収量:2.95g(80.6%)の粘稠な油状物 分子量:C17H20BrNO3:366.23 例3 N−(4−ヒドロキシフェネチル)−(4−メトキシ−3−メトキシメトキシ )ベンジルアミン (一般式(V)、但し、R1=MeOCH2O、R2=Me、X1=X2=X3 =X4=R3=R4=H) 100ml丸底フラスコ中で、0.83g(4.2mmol)の4−メトキシ−3− メトキシメトキシベンズアルデヒド[Lit.16-17]及び0.55g(4.0mmol )のチラミンを50mlのトルエン/n−ブタノール(1:1)に懸濁し、この懸 濁液を水を除去しながら還流温度で加熱した。4時間後、溶媒を減圧下に蒸留し て除き、残渣を50mlのメタノールにとり、0.35gのNaBH4を透明な溶 液に加えた。反応混合物を0℃で4時間撹拌し、溶媒を減圧下に蒸留して除き、 残渣を100mlのCH2Cl2に取り、有機層を10mlの水で二回洗浄した。有機 層をNa2SO4で乾燥し、濾過し、溶媒を減圧下に除去した。残った残渣を65 gのシリカゲル上で酢酸エチル:メタノール=7:3を用いてクロマトグラフィ ーにかけた。 収量:1.12g(83.4%)の粘稠な油状物 分子量:C18H23NO4:317.37 例4 N−(4−ヒドロキシフェネチル)−(6−ブロモ−3−ヒドロキシ−4−メ トキシ)ベンジルアミン (一般式(V)、但し、R1=R3=R4=H、X2=H、R2=Me、X1= Br) 方法1: 50mlの丸底フラスコ中で、1.0g(4.3mmol)の6−ブロモ−4−メト キシ−3−ヒドロキシ−ベンズアルデヒド[Lit.18]及び0.6g(4.3mmo l)のチラミンを20mlのトルエン/n−ブタノール(1:1)に懸濁し、この 懸濁液を、水を除去しながら還流温度で加熱した。90分後、溶媒を減圧下に蒸 留して除き、残渣を20mlのメタノールに取り、0.33gのNaBH4を透明 な溶液に加えた。反応混合物を0℃で4時間撹拌し、溶媒を減圧下に蒸留して除 き、残渣を50mlのCH2Cl2に取り、有機層を10mlの水で二回洗浄した。有 機層をNa2SO4で乾燥し、濾過し、溶媒を減圧下に除去した。残った残渣を6 0gのシリカゲル上で酢酸エチル:メタノール=97:3→95:5を用いてク ロマトグラフィーにかけた。 収量:1.43g(93.8%) 方法2: 1lの丸底フラスコ中で、53.38g(231mmol)の6−ブロモ−4−メ トキシ−3−ヒドロキシ−ベンズアルデヒド[Lit.18]及び31.7g(23 1mmol)のチラミンを530mlのトルエン/n−ブタノール(1:1)に懸濁し 、この懸濁液を、水を除去しながら還流温度で加熱した。90分後、溶媒を減圧 下に蒸留して除き、残渣を350mlのメタノールに取り、12gのNaBH4を 懸濁液に加えた。反応混合物を0℃で1時間撹拌し、3lの氷−水に滴下した。 混合物を30分撹拌した後、沈殿した生成物を濾別し、水で二回洗浄し、真空乾 燥キャビネット中60で乾燥した。 収量:70.2g(86.3%) 融点:122〜125℃ 分子量:C16H18BrNO3:352.21 IR/KBr: 655.76w; 800.45m,824.97m; 1022.56m; 1165.88m; 1245.88s; 1 409.83s; 1448.40s; 1510.79s; 1554.48s; 3200-3370br. 1H-NMR(DMSO-d6): 7.0-6.60(m,6H); 6.73(m,2H); 3.77(s,3H); 2.75-2 .58(m,4H); 2.88(s,2 OH). 13C-NMR(CDCl3+DMSO-d6): 155.46 s,147.28 s,145.95 s,130.56 s,12 9.68 s,129.12 2d,116.93 d,115.61 d,114.99 2d,110.95 s,55.85 q,51. 76 t,50.16 t,34.50 t. 例5 N−(4−ヒドロキシフェネチル)−(4−メトキシ−3−ブチルカルボニル オキシ)ベンジルアミン (一般式(V)、但し、R1=Me3CCO、R2=Me、X1=X2=R3= R4=H) 50mlの丸底フラスコ中で、3.63g(16.5mmol)の(4−メトキシ− 3−t−ブチルカルボニルオキシ)ベンズアルデヒド及び2.06g(15mmol )のチラミンを32mlのトルエン/n−ブタノール(1:1)に懸濁し、 この懸濁液を、水を除去しながら還流温度で加熱した。3時間後、溶媒を減圧下 に蒸留して除き、残渣を32mlのメタノールに取り、1.32gのNaBH4を 透明な溶液に加えた。反応混合物を0℃で4時間撹拌し、溶媒を減圧下に蒸留し て除き、残渣を50mlのCH2Cl2に取り、有機層を10mlの水で二回洗浄した 。有機層をNa2SO4で乾燥し、濾過し、溶媒を減圧下に除去した。残った残渣 を140gのシリカゲル上で酢酸エチル:メタノール=9:1→8:2を用いて クロマトグラフィーにかけた。 収量:1.7g(28.8%)の粘稠なオイル 分子量:C21H27NO4:357.43 例6 N−ホルミル−N−(4−ヒドロキシフェネチル)−(3−ヒドロキシ−4− メトキシ)ベンジルアミン (一般式(V)、但し、R1=R3=X1=X2=H、R2=Me、R4=CH O) 370g(1.35mmol)の化合物5(R1=R3=R4=X1=X2=H、R2= Me)、5lのテクニカルグレードのジオキサン及び370mlのテクニカルグレ ードのDMFをまず10lの三口フラスコ(滴下漏斗、還流冷却器、バブルカウ ンター、ガス導入管)に導入した。滴下漏斗を1100ml(13.66mol)の HCOOEtと10mlのHCOOHの混合物で満たし、懸濁液をアルゴン下で磁 気撹拌し、沸点まで加熱した。内部温度は100から103℃まで上昇し、懸濁 液が均一になった。滴下漏斗から溶液を20から30分の間にこの均一溶液に加 えた。これによって内部温度が87から89に下がった。濁った溶液を4時間還 流温度で撹拌した。溶媒を減圧下に除去し、8lの氷−水を一部ずつ残渣に加え た。沈殿した結晶を濾別し、2lの水で3回洗浄し、12時間減圧下に乾燥した 。 収量:360.5g(88.6%) 融点: 144〜148℃ 分子量:C17H19NO4:301.33 例7 N−ホルミル−N−(4−ヒドロキシフェネチル)−(6−ブロモ−3,4− ジメトキシ)ベンジルアミン (一般式(V)、但し、R3=X2=H、X1=Br、R1=R2=Me、R4 =CHO) 4.53g(12.2mmol)の化合物5(R3=R4=X2=H、X1=Br、R1 =R2=Me)、100mlのテクニカルグレードのジオキサン及び10.0ml( 122.0mmol)のHCOOEtと0.1mlのHCOOHを250mlの三口フラ スコ(滴下漏斗、還流冷却器、バブルカウンター、ガス導入管)中で、還流下に 煮沸した。68時間後、溶媒を減圧下に除去し、残渣を40mlのMeOHから結 晶化した。 収量:3.61g(75%) 融点: 160〜162℃ 分子量:C18H20BrNO4:394.24 例8 N−ホルミル−N−(4−ヒドロキシフェネチル)−(4−メトキシ−3−t −ブチルカルボニルオキシ)ベンジルアミン (一般式(V)、但し、R1=Me3CCO、R2=Me、X1=X2=R3= H、R4=CHO) 1.7g(4.7mmol)の式(V)の化合物(R1=Me3CCO、R2=Me 、X1=X2=R3=R4=H)、7.5mlのテクニカルグレードのジオキサン、7 .5mlのHCOOEtと一滴のHCOOHを500mlの三口フラスコ中で、還流 下に煮沸した。15時間後、溶媒を減圧下に除去し、残渣をAcOEtを用いて 30gのSiO2でクロマトグラフィーにかけた。 収量:1.5g(81.8%)の粘稠な油状物 融点: 160〜162℃ 分子量:C22H27NO5:385.44 1H-NN4R(CDCl3): 8.20及び7.80(2s,1H); 7.16-6.80(m,7H),4.30(d,2H ); 3.78(s,3H); 3.35(m,2H); 2.70(m,2H);1.38(s,9H). 13C-NMR(CDCl3): 176.69 s; 163.24及び162.90 d; 155.36及び154.99 s; 150.99及び150.70 s; 140.35及び140.18 s; 129.67から112.30 m; 55.85 q; 50. 94及び48.46 t; 44.60及び43.61 t; 38.94 s; 33.60及び32.24 t; 27.053q. 例9 N−ホルミル−N−(4−ヒドロキシフェネチル)−(6−ブロモ−3−ヒド ロキシ−4−メトキシ)ベンジルアミン (一般式(V)、但し、R1=R3=X2=H、X1=Br、R2=Me、R4 =CHO) 方法1: 27g(76.6mmol)の式(V)の化合物(R1=R3=R4=X2=H、X1 =Br、R2=Me)、300mlのテクニカルグレードのジオキサン、30.0m l(37.2mmol)のHCOOEtと0.1mlのHCOOHを500mlの三口フ ラスコ(滴下漏斗、還流冷却器、バブルカウンター、ガス導入管)中で、還流下 に煮沸した。72時間後、溶媒を減圧下に除去し、残渣を50mlのクロロホルム から結晶化した。 収量:23.95g(82.3%) 方法2: 300g化合物(V)(R1=R3=X1=X2=H、R2=Me、R4=CHO) を40℃に加熱することによって2000mlの無水エタノール及び2000mlの メチルグリコール(H2O<0.1%)に溶解し、次にこの溶液を−20℃に冷 却し、14mlの臭素の、1000mlエタノール/メチルグリコール(1:1)溶 液を、温度が−20℃を越えないように15分のうちに滴下した。次に混合物を −20℃で30分撹拌し、次に溶液を約1000mlまで濃縮し、30lの氷−水 に激しく撹拌しながらあけた。この混合物を0℃で4時間撹拌し、固体を吸引に より濾別し、無色の結晶性物質を減圧下に乾燥した(60℃)。 収量:370.2g(理論量の96%);含量(HPLC)82% 融点:162〜164℃ 分子量:C17H18BrNO4:380.22 例10 N−ホルミル−N−(4−ヒドロキシフェネチル)−(4−メトキシ−3−メ トキシメトキシ)ベンジルアミン (一般式(V)、但し、R1=MeOCH2O、R2=Me、X1=X2=R3 =H、R4=CHO) 4.9g(15.4mmol)の式(V)の化合物(R1=MeOCH2O、R2= Me、X1=X2=R3=R4=H)、60ml(37.2mmol)のHCOOEtと一 滴のHCOOHを50mlの三口フラスコ(滴下漏斗、還流冷却器、バブルカウン ター、ガス導入管)中で、還流下に煮沸した。18時間後、溶媒を減圧下に除去 し、残渣をAcOEt/ヘキサンから結晶化した。 収量:3.95g(74%) 融点: 102〜104℃ 分子量:C19H23NO5:345.38 1HNMR(CDCl3): 8.23及び7.83(2s,1H); 7.05から6.70(m,7H); 5.20(s,2 H); 4.46及び4.28(2s,2H); 3.87(s,3H); 3.52(s,3H); 3.38(m,2H); 2.70(m ,2H). 13C-NMR(CDCl3): 163.20及び162.86 d,155.41及び155.05 s; 149.53及び 149.30 s,146.53及び146.33 s; 129.66及び129.59 s; 129.52 d; 128.56及び12 8.02 s; 122.40 d; 121.64 d; 116.71 d; 115.88 d; 115.60及び115.33 d; 111. 75 d; 95.39 t; 56.13 q; 55.79 q; 51.44及び48.62 t; 45.10及び43.71 t; 33. 72及び32.27 t. 例11 4a,5,9,10,11,12−ヘキサヒドロ−1−ブロモ−3−メトキシ −11−ホルミル−6H−ベンゾフロ[3a,3,2−ef][2]ベンズアゼ ピン−6−オン (一般式(I)、但し、R2=Me、R4=CHO、X1=Br、X2=H、 Y1,Y2=O) 120g(0.316mol)の微粉末化した化合物(V)(R1=R3=X2=H 、X2=Br、R2=Me、R4=CHO)を、16lのトルエン、600gのK3 [Fe(CN)6]及び2lの10%濃度のK2CO3懸濁液に70℃ですべて一 度に加えた。次にホモジナイザーのスイッチを入れ、反応混合物を同温度で30 分激しく撹拌し、不溶性のポリマーを沈殿させた。反応混合物を濾過し、有機層 をNa2SO4で乾燥し、濾過し、溶媒を減圧下に除去した。 収量:59.6g(49.9%) 例9方法2に従って製造された前駆体を環化に使用した場合、一般式(I)( R2=CH3、X1=X2=Br、R4=CHO、Y1,Y2=O)の副生成物が、カ ラムクロマトグラフィー(シリカゲル60、CHCl3/MeOH(1〜5%) )で分離した後に6%で得られた。 1H-NMR(CDCl3): 8.23(d,1H),7.30(s,1H),6.98(s,1H),5.85-3.95(m ,3H),4.70(s,1H),3,80(s,3H),3.35(m,2H),2.95(m,1H),2.15(m,2H). 13C-NMR(CDCl3+DMSO d6): 185.31及び185.25 s; 162.43及び161.43 d; 14 7.12及び146.84 s; 144.61及び144.37 s; 142.33及び141.97 d; 129.27及び129. 13 s; 126.62及び126.40 s; 123.40及び123.25 s; 116.67及び116.46 d; 114.27 及び112.74 s; 87.00及び86.86 d; 56.01 q; 52.38及び51.55 s; 46.18及び45.8 0 t; 40.58 t; 37.68及び36.86 t; 34.26 t. 例12 (4α,6β)−4a,5,9,10,11,12−ヘキサヒドロ−3−メト キシ−11−メチル−6H−ベンゾフロ[3a,3,2−ef][2]ベンズア ゼピン−6−オール(ガランタミン) (一般式(I)、但し、R2=R4=Me、X1=X2=Y2=H、Y1=OH ) 方法1: 4.6g(121.21mmol)のLiAlH4の無水THF溶液をまず1lの 三口フラスコに導入し、0℃に冷却した。7.36g(19.47mmol)の化合 物(V)(R1=H、R4=CHO、X1=Br、X2=H、Y1,Y2=O)の46 0ml無水THF溶液をこの懸濁液に5分の間に撹拌しながら滴下し、混合物を0 ℃で1時間撹拌し、21時間還流下に煮沸した。次に反応混合物を1lの一口フ ラスコに移し、0℃に冷却し、過剰のLiAlH4を数滴のH2Oで分解し、溶媒 を減圧下に除去した。H2Oを残渣に加え、2NHClでpHを1にした。反応 溶液を震盪し、沈殿が溶解するまで温めた。次に2NNaOHでpHを9にし、 酢酸エチルを濁った溶液に加え、混合物を徹底的に震盪し、分離した沈殿を濾別 し、水層を酢酸エチルで抽出した。有機層を合わせ、Na2SO4で乾燥し、溶か し、溶媒を減圧下に除去した。残渣をクロマトグラフィー(300gのSiO2 、CHCl3:MeOH=97:3→95:5を使用)で精製して無色の結晶を 得た。 収量:2.23g(40.03%) 方法2: 365mg(1.0mmol)の化合物(I)(R2=R4=Me、X1=Br、X2= Y2=H、Y1=OH)の4ml無水THF溶液を240mg(6.3mmol)のLiA lH4の4ml無水THF懸濁液に0℃で滴下し、混合物を室温で1時間、次いで 還流温度で23時間撹拌した。反応混合物を0℃に冷却し、過剰の還元剤をH2 Oで分解し、この混合物を50mlの酢酸エチルで希釈した。震盪した後、分離し た沈殿を濾別し、有機層を分離し、水層を酢酸エチルで洗浄した。有機相を合わ せ、Na2SO4で乾燥し、濾過し、溶媒を減圧下に除去した。残渣をクロマトグ ラフィー(25gのSiO2、CHCl3:MeOH=99:1→96:4を使用 )で精製し、140mg(49%)の化合物(I)(R2=R4=Me、X1=X2= Y2=H、Y1=OH)を得た。 方法3: 1.0mlのHCOOHを、100mg(0.27mmol)の化合物(I)(R2= R4=Me、X1=Br、X2=H=Y2=H、Y1=OH)及び10mgの10%濃 度のPd/Cの3ml Et3N懸濁液に滴下した。混合物を還流温度で2. 5時間撹拌した後、Pd/Cをセライトを通して濾別し、溶媒を減圧下に除去し 、残渣をCH2Cl2に取った。有機溶液を飽和NH4Cl溶液で2回、H2Oで1 回洗浄し、Na2SO4で乾燥し、溶媒を減圧下にエバポレートした。残渣をカラ ムクロマトグラフィー(9gのSiO2、CHCl3:MeOH=95:5)によ り分離した。 収量:62mg(79%)の化合物(I)(R2=R4=Me、X1=X2=Y2= H、Y1=OH) 融点:119〜121℃ 分子量:C17H21NO3:287.34 例13 (4α,6β)−4a,5,9,10,11,12−ヘキサヒドロ−1−ブロ モ−3−メトキシ−11−メチル−6H−ベンゾフロ[3a,3,2−ef][ 2]ベンズアゼピン−6−オール(ブロモガランタミン) (一般式(I)、但し、R2=R4=Me、X1=Br、X2=Y2=H、Y1 =OH)、及び (4α,6α)−4a,5,9,10,11,12−ヘキサヒドロ−1−ブロ モ−3−メトキシ−11−メチル−6H−ベンゾフロ[3a,3,2−ef][ 2]ベンズアゼピン−6−オール(エピブロモガランタミン) (一般式(I)、但し、R2=R4=Me、X1=Br、X2=Y1=H、Y2 =OH) 10ml(36mmol)の1.5MDiBAl−Hトルエン溶液を、8.0g(2 1mmol)の化合物(V)(R2=Me、R4=CHO、X1=Br、X2=H、Y1 ,Y2=O)の150mlトルエン懸濁液に0℃に滴下した。反応物を室温で1時 間撹拌し、残った還元剤をH2Oで分解し、次に12mlの濃NH4OHを加えた。 混合物を室温で20分撹拌した後、沈殿した物質を濾別し、有機層を分離し、水 層を50mlのトルエンで洗浄した。合わせた有機層をNa2SO4で関すし、濾過 し、溶媒を減圧下に除去した。残渣(7.7g)をカラムクロマトグラフィーで 分離した。 収量:3.2g(45.1%)の化合物(I)(但し、R2=R4=Me、X1 =Br、X2=Y2=H、Y1=OH)及び0.8g(20.7%)の化合物(I )(但し、R2=R4=Me、X1=Br、X2=Y1=H、Y2=OH)。 ブロモガランタミン(化合物(I)、但し、R2=R4=Me、X1=Br、X2 =Y2=H、Y1=OH)のデータ: IR(KBr): 689.03m; 778.57m; 839.37m; 989.86m; 1050.66s; 1212.43s; 1 279.87s; 1434.08s; 14.72s; 1613.99s; 2667.39m; 3370から3778 br. 1H-NMR(CDCl3): 6.9(s,1H),6.06(m,2H),4.60(d,1H),4.15(t,1H), 3.92(d,1H),3.82(s,3H),3.24(m,1H),2.98(dt,1H),2.68(dd,1H),2.42( s,3H),2.05(m,2H),1.60(dt,1H). 13C-NMR(CDCl3); 145.32 s; 144.00 s; 133.96 s; 127.95 d; 127.68 s; 126.51 d; 115.61 d; 114.22 s; 88.56 d; 61.58 d; 58.56 t; 55.95 q; 53.26t ; 48.56 s; 42.06 q; 33.47 t; 29.69 t. エピブロモガランタミン(化合物(I)、但し、R2=R4=Me、X1=Br 、X2=Y1=H、Y2=OH)のデータ: 分子量:C17H19BrNO3:365.23 IR(KBr): 667.95w; 752m; 836.68m; 1040.31s; 1208.39s; 12.82m; 1435. 25m; 1485.72m; 1512.94w; 1558.27w; 1615.19m; 1667.14w; 2943.24w; 3360か ら3575br. 1HNMR(CDCl3): 6.85(s,1H); 5.96(AB,2H); 4.69(m,2H); 4.28(d,1H); 3.90(d,1H); 3.83(s,1H); 3.25(m,1H); 2.95(m,1H); 2.85(dt,1H); 2.36( s,3H); 2.15(td,1H); 1.69(m,2H);. 13C-NMR(CDCl3+DMSO-d6): 145.84 s; 143.49 s; 133.89 s; 133.14 d; 1 26.12 s; 124.35 d; 115.04 s; 113.01s; 88.26 d; 61.10 d; 57.44 t; 55.58 q ; 52.84 t; 47.86 s; 41.20 q; 33.35 t; 31.43 t. 例14 (4α,6α)−4a,5,9,10,11,12−ヘキサヒドロ−3−メト キシ−11−メチル−6H−ベンゾフロ[3a,3,2−ef][2]ベンズア ゼピン−6−オール(エピガランタミン) (一般式(I)、但し、R2=R4=Me、X1=X2=Y1=H、Y2=OH ) 365mg(1.0mmol)の化合物(I)(R2=R4=Me、X1=Br、X2= Y1=H、Y2=OH)の4ml無水THF溶液を、240mg(6.3mmol)のLi AlH4の4ml無水THF懸濁液に0℃で滴下し、混合物を1時間室温で、次い で23時間還流温度で撹拌した。反応混合物を0℃に冷却し、過剰の還元剤をH2 Oで分解し、混合物を50mlの酢酸エチル及び50mlの濃NH4OHで希釈した 。震盪した後、分離した沈殿を濾別し、有機層を分離し、水層を酢酸エチルで洗 浄した。合わせた有機層をNa2SO4で乾燥し、濾過し、溶媒を減圧下に除去し た。残渣をカラムクロマトグラフィー(25gのSiO2、CHCl3:MeO H=99:1→96:4)により分した。 収量:140mg(49%)の1(R2=R4=Me、X1=X2=Y1=H、Y2= OH) 融点:199〜201℃ 分子量:C17H21NO3:287.34 例15 (4α,6β)−4a,5,9,10,11,12−ヘキサヒドロ−1−ブロ モ−3−メトキシ−6H−ベンゾフロ[3a,3,2−ef][2]ベンズアゼ ピン−6−オール(N−脱メチル−ブロモガランタミン) (一般式(I)、但し、R2=Me、X1=Br、R4=X2=Y2=H、Y1 =OH) 100ml(100mmol)の1ML−セレクトライド溶液を、10g(26.4 mmol)の(1)(R2=Me、R4=CHO、X1=Br、X2=H、Y1=Y2=O )の200mlTHF懸濁液に0℃で30分の間に滴下した。混合物を0℃で60 分撹拌した後、試薬と形成された錯体をH2Oで分解し、100mlの25%の濃 度のNH4OH溶液を反応混合物に加えた。混合物を30分室温で撹拌した後、 溶媒を減圧下に半分まで濃縮し、混合物を震盪漏斗(shaking funnel) に移し、100mlの25%濃度のNH4OH溶液を加え、混合物を3×200ml のCH2Cl2で抽出した。合わせた有機層をNa2SO4で乾燥し、濾過し、溶媒 を減圧下にエバポレートして除いた。クロマトグラフィー(650gのSiO2 シリカゲル、CICl3:MeOH=95:5→9:1)による残渣の精製で無 色の発泡体を得た。 収量:7.3g(75.8%) C16H18BrNO3:352.21 IR(KBr): 748.19m; 793.11m; 828.59m; 927.62w; 991.65w; 1058.8s; 121 4.79s; 1281.61s; 14.29s; 1488.49s; 1571.11w; 1616.51s; 2912.36s; 3280か ら3420br. UV(MeOH): λmax: 225.0及び297.5nm. 1H-NMR(CDCl3): 6.85(s,1H); 6.02(AB,2H); 4.53(s,1H); 4.81及び4 .48(AB,2H); 4.10(m,1H); 3.78(s,3H); 3.22(m,2H); 2.63(dd,1H); 2.29(s ,br,2H); 2.00(m,1H); 1.78(m,2H). 13C-NMR(CDCl3): 145.79s; 143.96s; 134.06s; 131.64s; 127.87d; 126 .83d; 115.46d; 113.02s; 88.44d; 61.67d; 56.04q; 52.65t; 49.23s; 46.59t; 39.81tt; 29.71t. 例16 (4α,6β)−4a,5,9,10,11,12−ヘキサヒドロ−1−ブロ モ−3−メトキシ−6H−ベンゾフロ[3a,3,2−ef][2]ベンズアゼ ピン−6−オール(N−脱メチル−ブロモガランタミン) (一般式(I)、但し、R2=Me、X1=Br、R4=X2=Y2=H、Y1 =OH)及び(4α,6β)−4a,5,9,10,11,12−ヘキサヒドロ −1−ブロモ−3−メトキシ−6H−ベンゾフロ[3a,3,2−ef][2] ベンズアゼピン−6−オール(N−脱メチル−エピブロモガランタミン) (一般式(I)、但し、R2=Me、X1=Br、R4=X2=Y1=H、Y2 =OH) 15ml THF中の3.0g(11.8mmol)のLiAlH(t−B4O)3を 、 1.0g(2.6mmol)の(I)(R2=Me、R4=CHO、X1=Br、X2= H、Y1=Y2=O)の5ml THF懸濁液に0℃で30分の間に滴下した。反応 混合物を0℃で30分撹拌し、還流下に煮沸した。混合物を22時間煮沸した後 、試薬と形成された錯体をH2Oで分解し、10mlの25%濃度のNH4OH溶液 をこの反応溶液に加えた。混合物を30分室温で撹拌し、溶媒を減圧下に半分ま で濃縮し、混合物を震盪漏斗に移し、10mlの25%濃度のNH4OH溶液を加 え、混合物を3×20mlのCH2Cl2で抽出した。合わせた有機層をNa2SO4 で乾燥し、濾過し、溶媒を減圧下にエバポレートした。クロマトグラフィー(6 0gのSiO2、シリカゲル、CHCl3:MeOH=95:5→9:1→8:2 )による残渣の精製で2つの生成物を得た。 無色発泡体として300.0mg(32.2%)のN−脱メチル−ブロモガラン タミン(一般式(I)、但し、R2=Me、X1=Br、R4=X2=Y2=H、Y1 =OH)、及び無色発泡体として270mg(29%)のN−脱メチル−エピブロ モガランタミン(一般式(I)、但し、R2=Me、X1=Br、R4=X2=Y1 =H、Y2=OH) N−脱メチル−エピブロモガランタミンのデータ: IR(KBr): 781.60w; 834.28w; 976.63w; 1050.28m; 1179.73m; 1211.87m ,1280.07m; 1435.24m; 1486.10m; 1616.37m; 2923.54w: 3700-2900 mbr. 1H-NMR(CDCl3): 6.86(s,1H); 5.92(AB,2H); 4.56(m,2H); 4.50及び3 .82(AB,2H); 3.80(s,3H); 3.28(m,2H); 2.52(m,1H); 2.20-1.70(m,3H). 13C-NMR(CDCl3): 146.73s; 143.91s; 134.10s; 132.17s; 132.17d; 131 .48d; 126.34d; 115.34d; 112.44s; 88.51d; 62.81d; 56.10q; 52.34t; 49.25s; 46.82t; 40.52t; 32.07t. 例17 (4α,6β)−4a,5,9,10,11,12−ヘキサヒドロ−1−ブ ロモ−3−メトキシ−11−メチル−6H−ベンゾフロ[3a,3,2−ef] [2]ベンズアゼピン−6−オール(N−脱メチル−ブロモガランタミン) (一般式(I)、但し、R2=R4=Me、X1=Br、X2=Y2=H、Y1 =OH) 方法1: 5mlの89%濃度のHCOOH及び5mlの37%濃度のCH2Oを、2.0g (5.6mmol)の(I)(R2=Me、X1=Br、R4=X2=Y2=H、Y1=O H)の20ml H2O溶液に加え、混合物を還流下に煮沸した。反応混合物を15 分間煮沸した後、これをH2Oで希釈し、25%濃度のNH4OHでpHを9にし 、混合物を3×20mlのCH2Cl2で抽出した。合わせた有機層をNa2SO4で 乾燥し、ろ過し、溶媒を減圧下にエバポレートした。クロマトグラフィー(15 0gのSiO2シリカゲル、CHCl3:MeOH=97:→95:5)による残 渣の精製で無色の発泡体を得た。 収量:2.0g(96.4%) 方法2: 100ml(100mmol)の1ML−セレクトライドを、10g(26.4mmol )の(I)(R2=Me、R4=CHO、X1=Br、X2=H、Y2=Y1=O)の 200ml THF懸濁液に0℃で30分の間に滴下した。混合物を0℃で60分 撹拌した後、試薬をH2Oで分解し、100mlの25%濃度のNH4OH溶液を反 応混合物に加えた。混合物を室温で30分撹拌した後、溶媒を減圧下に半分まで 濃縮し、混合物を震盪漏斗に移し、100mlの25%濃度のNH4OHを加え、 混合物を3×200mlのCH2Cl2で抽出した。合わせた有機層をNa2SO4で 乾燥し、濾過し、溶媒を減圧下にエバポレートして除いた。50mlのH2O、3 0mlの98%濃度のHCOOH及び30mlの37%濃度のCH2O溶液を残渣に 加え、反応混合物を還流下に煮沸した。混合物を15分煮沸した後、反応物をN H4OHで中和し、3×200mlのCH2Cl2で抽出した。合わせた有機層をN a2SO4で乾燥し、濾過し、溶媒を減圧下にエバポレートして除いた。クロマト グラフィー(600gのSiO2シリカゲル、CHCl3:MeOH=9:1→8 :2)による残渣の精製で無色の発泡体を得た。 収量:6.4g(66.2%) 例18 (±)ガランタミンの光学分離 673.2mg(1.74mmol)の(+)ジ−p−トルイル−D−酒石酸の4ml MeOH溶液を、500mlの(±)ガランタミン(1.74mmol)、化合物(I )(R2=R4=Me、X1=X2=Y2=H、Y1=OH)の1.0mlMeOH懸濁 液に室温で加えた。混合物を24時間冷蔵庫中に静置し、沈殿した結晶性物質を 濾過し、MeOHで洗浄した。母液を他の異性体を得るために保存した。EtO Hから再結晶して450mgの(−)ガランタミン(+)ジ−p−トルオイル−酒 石酸(化合物(II)、R2=R4=Me、R5=X1=X2=Y2=H、Y1=OH、 Z=(+)ジ−p−トルオイル−酒石酸)を得た。融点182〜184℃。遊離 の塩基をCHCl3/NH4OHを用いて塩から遊離させた。[α]D=−101 .8°。 メタノール性の母液をエバポレートし、塩基をCHCl3/NH4OHを用いて 塩から遊離させ、0.5mlのMeOHに溶解し、215mg(0.55mmol)の( −)ジ−p−トルイル−L−酒石酸の溶液を加えた。混合物を24時間冷蔵庫中 で静置した後、沈殿した物質を濾過し、MeOHで洗浄した。EtOHから再結 晶して、242mgの(+)ガランタミン(−)ジ−p−トルオイル−酒石酸(化 合物(II)、R2=R4=Me、R5=X1=X2=Y2=H、Y1=OH、Z=(− )ジ−p−トルオイル−酒石酸)を得た。融点144〜148℃。塩をCHCl3 /NH4OHを用いて遊離の塩基に変換した。[α]D=+98.9° 例19 4a,5,9,10,11,12−ヘキサヒドロ−1−ブロモ−3−メトキシ −11−ホルミル−6H−ベンゾフロ[3a,3,2−ef][2]ベンズアゼ ピン 6−エチレンケタール(一般式(I)、但し、R2=Me、R4=CHO、 X1=Br、X2=H、Y1,Y2=O−(CH2)2−O−) 5gの、R2=Me、R4=CHO、X1=Br、X2=H、Y1,Y2=Oである 化合物(I)、10.0gのエチレングリコール及び0.05gのp−TsOH を100mlのトルエン中(室温で2層混合物)で激しく機械撹拌しながら還流温 度に加熱し(約90℃から均一化)、混合物を2時間水を分離しながら煮沸 した。冷却後、層(トルエン層が上層である。)を分離し、エチレングリコール 層を20mlのトルエンで2回抽出し、合わせたトルエン層を2×50mlの飽和N aHCO3溶液と浸透し、Na2SO4で乾燥し、エバポレートした。 収量:5.40gの黄色がかった発泡体(理論量の96.7%、粗製)。これ を一夜結晶化させた。 1.0gのカラムクロマトグラフィー(60gのシリカゲル60、CHCl3 /1〜2%のMeOH)で0.62gの無色発泡体を得、これをEtOAcから 結晶化した。 融点:212〜214℃ 分子量:C19H20BrNO5:422.28 1H-NMR(CDCl3): 8.12(d,H),6.87(s,H)6.06(t,H),5.72(d,H),5.6 4(d,H/2),5.11(d/H2),4.54(b,H),4.48(d,H/2),4.31(d,H/2),3.50-4.10 (m,6H),3.82(s,3H),2.65(d,H),2.27(d,H),1.74-2.10(m,2H). 13C-NMR(CDCl3): 162.40,161.65,147.08,144.81,144.55,132.14, 131.96,127.68,127.48,115.68,115.43,126.71,126.44,113.12,111.59, 102.04,87.07,86.90,65.14,64.23,55.88,51.43,46.11,48.41,40.67,3 9.27,35.96,32.94. 例20 4a,5,9,10,11,12−ヘキサヒドロ−1−ブロモ−3−メトキシ −11−ホルミル−6H−ベンゾフロ[3a,3,2−ef][2]ベンズアゼ ピン 6−プロピレンケタール(一般式(I)、但し、R2=Me、R4=CHO 、X1=Br、X2=H、Y1,Y2=O−CH2−CH(CH3)−O−) 100gの、R2=Me、R4=CHO、X1=Br、X2=H、Y1,Y2=Oで ある化合物(I)、100gのプロピレングリコール及び0.5gの硫酸を80 0mlのトルエン中(室温で2層混合物)で激しく機械撹拌しながら還流温度に加 熱し(約90℃から均一化)、混合物を14時間水を分離しながら煮沸した。冷 却後、層(トルエン層が上層である。)を分離し、プロピレングリコール層を1 00mlのトルエンで2回抽出し、合わせたトルエン層を2×200mlの飽和 NaHCO3溶液と浸透し、Na2SO4で乾燥し、エバポレートした。 収量:5.40gの黄色がかった発泡体(理論量の100%、粗製)。これを 一夜結晶化させた。 1.0gのカラムクロマトグラフィー(60gのシリカゲル60、CHCl3 /1〜2%のMeOH)で0.80gの無色発泡体を得、これをEtOAcから 結晶化した。 融点:170〜171℃ 分子量:C20H22BrNO5:436.28 1H-NMR(CDCl3): 8.12(d,H),6.88(s,H),5.96-6.17(m,H),5.75(dd ,H),5.68(d,H/2),5.10(d,H/2),4.53(b,H),4.48(d,H/2),4.31(d,H/2) ,3.12-4.38(m,5H),3.8(s,3H),2.56-2.80(m,H),2.05-2.35(dd,H),1.83- 2.05(m,2H),1.22-1.47(m,3H). 13C-NMR(CDCl3): 162.48,161.72,147.17,144.89,144.64,132.16, 129.04,128.51,128.57,127.82,127.70,127.61,115.70,115.48,127.09, 126.77,126.5,113.20,111.66,102.38,102.22,87.25,87.07,73.38,72.4 6,71.67,71.41,71.23,70.55,70.28,55.92,51.52,46.18,48.43,40.77 ,39.29,36.07,35.97,34.58,33.68,33.44,33.13,18.68,17.59,17.45. 注 NMR1ジアステレオマー:(+/−)プロピレングリコールによりキラ ル中心がさらに導入されるため、形成されたジアステレオマーは、ホルミル基に よって起こるシグナルの分裂に加えて、更にシグナルの分裂を起こす。 例21 4a,5,9,10,11,12−ヘキサヒドロ−3−メトキシ−11−ホル ミル−6H−ベンゾフロ[3a,3,2−ef][2]ベンズアゼピン 6−エ チレンケタール(一般式(I)、但し、R2=Me、R4=CHO、X1=X2=H 、Y1,Y2=O−CH2−CH2−O−) 2.0gの、R2=Me、R4=CHO、X1=Br、X2=H、Y1,Y2=−O −(CH2)2−O−である化合物(I)を50mlの無水THFに懸濁し、こ の懸濁液を0℃に冷却し、20mlのLiAlH4/ジエチルエーテル(1M)を 5分の間に滴下し、混合物を室温に暖めた。次に、これを還流温度(45〜52 ℃)で12時間撹拌し、冷却し、3mlのTHF/水(2:1)を滴下し、混合物 を50mlのNH4OH(25%)でアルカリ性にし、50mlのEtOAcで4回 抽出した。有機層をNa2SO4で乾燥し、エバポレートした。 収量:1.52gの黄色がかった油状物(理論量の92.9%)。 カラムクロマトグラフィー(80gのシリカゲル60、EtOAc/MeOH 8:2)で0.82gの無色の結晶を得た。 融点:109〜110℃ 分子量:(C19H23NO4):329.40 1H-NMR(CDCl3): 1.65(ddd,1H),2.10(ddd,1H),2.15(dd,1H),2.40( s,3H),2.65(dd,1H),3.05(ddd,1H),3.20(ddd,1H),3.60(d,1H),3.80(s ,3H),3.90-4.05(m,4H),4.10(d,1H),4.55(dd,1H),5.65(d,1H),6.15(d ,1H),6.55,6.60(2x d,2H) 13C-NMR(CDCl3): 33.2(t),33.8(t),41.7(q),47.8(t),53.8(s),55. 5(q),60.2(t),64.0,65.0(2× t),87.1(d),102.5(s),110.9(d),121.1(d) ,125.9(d),128.7(s),128.9(s),131.8(d),143.8(s),146.5(s). 例22 4a,5,9,10,11,12−ヘキサヒドロ−3−メトキシ−11−メチ ル−6H−ベンゾフロ[3a,3,2−ef][2]ベンズアゼピン 6−(2 −ヒドロキシエチル)エーテル(一般式(I)、但し、R2=Me、R4=CH3 、X1=X2=H、Y1=O−CH2−CH2−OH、Y2=H) 1.0gの、R2=Me、R4=CHO、X1=Br、X2=H、Y1,Y2=−O −(CH2)2−O−である化合物(I)を25mlのTHFに溶解し、この溶液を 0℃に冷却し、9mlのLiAlH4/THF(1M)を5分の間に滴下し、混合 物を0℃で30分撹拌した。これを還流温度で48時間撹拌し、冷却し、25ml のNH4OH(25%濃度)を滴下し、混合物を20mlのEtOAcで4回抽出 した。有機層をNa2SO4で乾燥し、エバポレートした。 収量:0.76gの黄色がかった油状物(理論量の92.9%)。 カラムクロマトグラフィー(40gのシリカゲル60、CHCl3/2〜7% のMeOH)で0.62gの無色の発泡体を得た。 分子量:(C19H24NO4):330.40 1H-NMR(CDCl3): 1.52(dd,H),1.85(td,H),2.10(dt,H),2.35(s,3H ),2.82(d,H),3.02(d,H),3.20(b,H,D2O-交換可能),3.24(d,H),3.53-3. 72(m,5H),3.78(s,3H),3.94(t,H),4.10(d,H),4.54(b,H),5.94(d,H), 6.22(d,H),6.33(d,H),6.61(d,H). 13C-NMR(CDCl3): 26.50,34.35,41.57,48.01,53.57,55.72,60.17 ,61.78,68.42,69.48,86.85,111.06,121.22,124.60,128.95,129.21,13 1.86,143.88,146.15. 例23 4a,5,9,10,11,12−ヘキサヒドロ−1−ブロモ−3−メトキシ −11−脱メチル−6H−ベンゾフロ[3a,3,2−ef][2]ベンズアゼ ピン 6−エチレンケタール(一般式(I)、但し、R2=Me、R4=H、X1 =Br、X2=H、Y1=Y2=O−CH2−CH2−O−) 0.11gの、R2=Me、R4=CHO、X1=Br、X2=H、Y1,Y2=− O−(CH2)2−O−である化合物(I)を10mlのTHFに溶解し、この溶液 を0℃に冷却し、0.3mlのLiAlH4/THF(1M)を5分の間に滴下し 、混合物を0℃で30分撹拌した。過剰のTHFをエバポレートして除去し、残 渣を10mlのNH4OH(25%濃度)に取り、混合物を10mlのEtOAcで 3回抽出した。有機層をNa2SO4で乾燥し、エバポレートした。 収量:0.13gの油状粗生成物。 カラムクロマトグラフィー(5gのシリカゲル60、CHCl3/2〜7%の MeOH)で80mgの無色の発泡体を得た(理論量の77.9%)。 分子量:(C18H20BrNO4:394.27 1H-NMR(CDCl3): 6.82(s,H),6.16(d,H),5.67(d,H),4.55(b,H),4 .48(d,H),3.84-4.08(m,5H),3.78(s,3H),3.04-3.37(m,2H),2.62(bd,H) , 2.15(dd,H),1.70-1.95(m,3H). 13C-NMR(CDCl3): 146.69,144.00,133.07,131.29,129.00,112.16, 126.30,115.25,102.37,87.28,65.11,64.17,55.78,52.46,49.02,40.13 ,33.06. 例24 4a,5,9,10,11,12−ヘキサヒドロ−1−ブロモ−3−メトキシ −11−ベンジル−6H−ベンゾフロ[3a,3,2−ef][2]ベンズアゼ ピン 6−エチレンケタール(一般式(I)、但し、R2=Me、R4=CH2− Ph、X1=Br、X2=H、Y1=Y2=O−CH2−CH2−O−) 250mg(0.63ml)の、R2=Me、R4=H、X1=Br、X2=H、Y1 ,Y2=−O−(CH2)2−O−(N−脱メチルブロモナルヴェジンエチレンケ タール)である化合物(I)及び63mg(0.63mmol)のトリエチルアミンを まず15mlの無水THFに導入し、108ml(0.63mmol)の臭化ベンジルを 室温で加え、次に、混合物を24時間撹拌した。50mlの水を反応混合物に加え 、水層を毎回20mlの酢酸エチルで3回抽出した。合わせた有機層を飽和食塩水 溶液で1回洗浄し、乾燥(Na2SO4で)し、エバポレートした。 収量:260mg(理論量の84.7%)の無色結晶。 融点:118〜119℃ TLC:EtOAc:MeOH=9:1 分子量:(C25H26BrNO4):484.39 1H-NMR(CDCl3; d(ppm)): 1.65(ddd,1H),2.05-2.30(m,2H),2.65(dd ,1H),3.00-3.30(m,2H),3.70(s,2H),3.80(s,3H),3.90-4.20(m,5H),4.3 5(dd,1H),4.60(ddd,1H),5.70(d,1H),6.25(d,1H),6.85(s,1H),7.25-7. 30(m,5H). 13C-NMR(CDCl3,d(ppm)): 33.1(d),33.4(t),48.5(s),50.7(t),55.8 (q),56.4(t),56.9(t),64.2,65.1(2*t),87.4(d),102.3(s),113.6(s),115 .6(d),126.6,128.2,128.9(3*d),127.1(d),3.1(s),137.9(s),144.2(s),1 46.3(s). 例25 4a,5,9,10,11,12−ヘキサヒドロ−1−ブロモ−3−メトキシ −11−脱メチル−6H−ベンゾフロ[3a,3,2−ef][2]ベンズアゼ ピン−6−オン(一般式(I)、但し、R2=Me、R4=H、X1=Br、X2= H、Y1,Y2=O)=N−脱メチルナルヴェジン 250mg(0.63ml)の、R2=Me、R4=H、X1=Br、X2=H、Y1 ,Y2=−O−(CH2)2−O−(N−脱メチルブロモナルヴェジンエチレンケ タール)である化合物(I)を20mlの2N塩酸に溶解し、この溶液を100℃ で15分加熱した。次に、20mlの濃アンモニア水を加え、反応混合物を一時的 に加熱し、冷却して沈殿を得た。この沈殿を吸引濾過して除き、50℃/20分 で乾燥した。 収量:130mg(理論量の58.6%)の無色結晶。 融点:173〜174℃ TLC:EtOAc:MeOH=8:2 分子量:(C16H16BrNO3):350.21 1H-NMR(DMSO-d6,d(ppm)): 1.90-2.15(m,2H),2.75(dd,1H),2.95(dd ,1H),3.10-3.35(m,2H),3.75(s,3H),3.90(d,1H),4.40(d,1H),4.55(dd ,1H),5.90(d,1H),6.90(s,1H),7.05(d,1H). 13C-NMR(DMSO-d6,d(ppm)): 36.3(d),37.0(t),45.6(s),49.5(t),51 .3(t),55.9(q),87.6(d),112.5(s),116.0(d),126.6(d),129.6(s),132.0(s ),143.7(s),144.8(d),146.6(s),194.0(s) 例26 4a,5,9,10,11,12−ヘキサヒドロ−3−メトキシ−11−脱メ チル−6H−ベンゾフロ[3a,3,2−ef][2]ベンズアゼピン−6−オ ン(一般式(I)、但し、R2=Me、R4=H、X1=X2=H、Y1,Y2=O) 例27 4a,5,9,10,11,12−ヘキサヒドロ−3−メトキシ−11−ベン ジル−6H−ベンゾフロ[3a,3,2−ef][2]ベンズアゼピン−6−オ ン(一般式(I)、但し、R2=Me、R4=CH2−Ph、X1=X2=H、Y1, Y2=O) 例28 4a,5,9,10,11,12−ヘキサヒドロ−3−メトキシ−11−メチ ル−6H−ベンゾフロ[3a,3,2−ef][2]ベンズアゼピン 6−プロ ピレンケタール(一般式(I)、但し、R2=Me、R4=CH3、X1=X2=H 、Y1,Y2=−O−CH2−CH(CH3)−O−) 37.5gのLiAlH4を、予め乾燥した4lの複数の口のついたフラスコ にアルゴン下で導入し、800mlのTHFを滴下漏斗から導入し、激しく発泡さ せながら温度を約45℃にあげた(THFの含水量及び反応フラスコの含水量に 依存する。)。114gの化合物(I)(但し、R2=Me、R4=CHO、X1 =臭素、X2=H、Y1,Y2=−O−CH2−CH(CH3)−O−、粗製)の4 00ml THF懸濁液を15分の間に滴下し、温度を還流温度(約65〜68℃ )にあげた。混合物を、機械撹拌しながら10時間還流温度で加熱し、冷却し、 100mlの水の100ml THF溶液を冷却しながら滴下した。 10mlを除去し、NH4OHでアルカリ性にし、EtOAc(3×20ml)で 抽出し、エバポレートの後油状生成物を得た。 0.17gのカラムクロマトグラフィー(5gのシリカゲル60、CHCl3 /3〜5%のMeOH)で、0.1gの無色の発泡体を得た。 分子量:(C20H25NO4):343.42 1H-NMR(CDCl3): 6.60(dd,2H),6.16(dt,H),5.68(dd,H),4.55(m,H ),4.38-4.00(m,3H),3.80(s,3H),3.68-2.95(m,4H),2.78-2.80(m,H),2.3 5(s,3H),2.24-2.02(m,2H),1.62(bd,H),1.28(t,3H) 13C-NMR(CDCl3): 146.59,143.92,132.04,131.90,129.57,129.16, 128.86,128.76,128.39,127.44,126.92,126.12,126.02,121.16,111.05, 110.90,110.77,102.87,102.73,87.23,73.15,72.24,71.43,71.12,70.44 ,70.17,60.28,55.59,55.53,55.45,53.83,47.87,47.80,47.75,41.80, 41.70,34.84,33.95,33.66,33.37,18.66,17.62,17.43 注 NMR、ジアステレオマー:(+/−)プロピレングリコールによりキラ ル中心がさらに導入されるため、形成されたジアステレオマーは、ホルミル基に よって起こるシグナルの分裂に加えて、更にシグナルの分裂を起こす。 例29 4a,5,9,10,11,12−ヘキサヒドロ−3−メトキシ−11−メチ ル−6H−ベンゾフロ[3a,3,2−ef][2]ベンズアゼピン−6−オン 、ナルヴェジン(一般式(I)、但し、R2=Me、R4=CH3、X1=X2=H 、Y1,Y2=O) 37.5gのLiAlH4を、予め乾燥した4lの複数の口のついたフラスコ にアルゴン下で導入し、800mlのTHFを滴下漏斗から導入し、激しく発泡さ せながら温度を約45℃にあげた(THFの含水量及び反応フラスコの含水量に 依存する。)。114gの化合物(I)(但し、R2=Me、R4=CHO、X1 =臭素、X2=H、Y1,Y2=−O−CH2−CH(CH3)−O−、粗製)の4 00ml THF懸濁液を15分の間に滴下し、温度を還流温度(約65〜68℃ )にあげた。次に、混合物を、機械撹拌しながら10時間還流温度で加熱し、冷 却し、100mlの水の100ml THF溶液を冷却しながら滴下した。 次に、1.25リットルの2NHCl及び60mlの濃HClでpHを0から1 にし、混合物を60℃で30分撹拌し、次いで5リットルの分液漏斗に移し、1 リットルのEtOAcの層で覆い、NH4OH(約250ml)でpH10にし、 抽出した。水層を、1lのEtOAc+300mlのTHFで1回以上抽出し、次 に沈殿をセライトを通して濾別し、抽出を500mlのEtOAcで更に2回行っ た。合わせた有機層をNa2SO4で乾燥し、エバポレートした。 収量:64.8g(理論量の86.9% 粗製)の黄色の結晶 分子量:285.32(C17H19NO3) TLC:CHCl3/MeOH(5%) 融点:189〜192℃ 例30 (−)ナルヴェジン 122.4gの(+/−)ナルヴェジンを1.9lのEtOH(96%濃度) /トリエチルアミン(9:1)中で、均一な溶液が形成されるまで還流温度で加 熱した。次に、この混合物をゆっくり冷却し、4.0gの(−)ナルヴェジンを 68℃で加え、混合物を40℃で7日間撹拌した。室温まで冷却し、吸引濾過し 、結晶性沈殿物を乾燥し、(−)ナルヴェジン(フラクションI)を得た。母液 を乾燥するまでエバポレートし、残渣を200mlのエタノール(96%濃度)/ トリエチルアミン(9:1)で還流温度に加熱し、0.4gの(−)ナルヴェジ ンを加え、混合物を40℃で7日間上記と同様の方法で撹拌した。冷却し、吸引 濾過し、乾燥して、(−)ナルヴェジンを得た(フラクションII)。 収量: フラクションI:98.6gの無色結晶(理論量の80.5%) フラクションII:7.4g(理論量の6.0%) 旋光度:フラクションI:[α]18=−407°(c=1.5/CHCl3) フラクションII:[α]18=−401°(c=1.5/CHCl3) 分子量:C17H19NO3(285.32) 融点:189〜192℃ 例31 (−)ガランタミン 98.6gの(−)ナルヴェジンを、1lのL−セレクトライドのTHF(1 モル)溶液に室温で一部ずつ加え、混合物を1時間撹拌した。次に、100mlの MeOHをゆっくり滴下し、濁った溶液を乾燥するまでエバポレートし、残渣を 3lのエタノール(96%)に取った。混合物を60%濃度の水性HBrのEt OH溶液(1:1)を滴下してpH1に酸性化し、0℃で1夜静置した。沈殿し た結晶を吸引濾過し、乾燥した。 収率:120.1g(理論量の94.5%) 旋光度:[α]18=−88°(c=1.5/H2O) 分子量:C17H21NO3×HBr(368.25) 融点:244〜247℃(分解) 例32 3−ベンゾイルオキシ−N−4−(ベンジルオキシフェネチル)−6−ブロモ −4−メトキシ−N−メチルベンズアミド(一般式(Va)、但し、R1,R3=ベ ンジル、R2=R4=CH3、X1=Br、X2=H、Z1=O、Z2=H2) 20.0gの3−ベンジルオキシ−6−ブロモ−4−メトキシ安息香酸を25 0mlのクロロホルムp.a.に溶解し、次いで21.6mlの塩化チオニル(35.2 9mg=0.297mol=5等量)を加え、混合物を3時間還流し、次いで過剰の CHCl3+SOCl2を蒸留して除いた。得られた酸塩化物をを150mlのCH Cl3に取った。 14.24gのO−ベンジル−N−メチルチラミンを60mlのCHCl3p.a. に溶解し、次いで100mlの2NNaOHを加えた。溶解した酸塩化物を室温で 激しく撹拌しながら2層混合物に加え、混合物を一夜撹拌した。次に層を分離し た。有機層をH2Oで洗浄し、Na2SO4で乾燥し、エバポレーションで濃縮し た。得られた油状物を250mlのエタノールから再結晶した。 収量:27.76g(理論量の83%)の無色結晶 TLC:石油エーテル/EtOAc(25:75) 1H-NMR(CDCl3):アミドにより2つの配座異性体(回転異性体)が存在す る。 2.69+3.12(2s,各 1.5H),2.95+3.21(2t,各 1H),3.75(t,1H),3.9(s,3H); 4 .96-5.14(m,4H),7.1-7.48(m,16H). 13C-NMR(CDCl3): 32.26,36.55,32.48,33.39,48.75,52.34,56.14 ,70.92,71.10,112.82,113.05,114.77,115.69,127.23,128.47,129.73, 129.78. 例33 6−ブロモ−3−ヒドロキシ−N−(4−ヒドロキシフェネチル)−4−メト キシ−N−メチルベンズアミド(一般式(Va)、但し、R1=R3=H、R2=R4 =CH3、X1=Br、X2=H、Z1=O、Z2=H2) 5.0gの3−ベンジルオキシ−N−4−(ベンジルオキシフェネチル)−6 −ブロモ−4−メトキシ−N−メチルベンズアミド(一般式(Va)、但し、R1 ,R3=ベンジル、R2=R4=CH3、X1=Br、X2=H、Z1=O、Z2=H2 )を50mlのエタノール及び21.6mlのHBrと60℃に加熱し、加熱した混 合物を9時間撹拌した。この溶液をゆっくり1lの氷−水にあけ、2時間撹拌し 、生成物を結晶化した。沈殿を吸引濾過し、水で洗浄し、乾燥した。 収量:3.23g(理論量の95.22%)の無色結晶 TLC:CHCl3:MeOH=9:1 融点:162〜166.5℃ 1H-NMR(CDCl3/DMSO):アミドにより2つの異性体が存在する。 2.49+2.81(2s,各 1.5H); 3.08+3.42(2t,各 1H); 3.65(s,3H); 6.43-6.6(m,4H); 6.72(s,1H); 6.88(s,1H); 8.31-8.59(b,2H). 13C-NMR(CDCl3/DMSO): 32.08+33.52,32.36+36.54,48.91+54.49,55.9 2,113.97,114.39,115.43+115.28,129.44+129.30,168.61+168.97. 例34 4a,5,9,10,11,12−ヘキサヒドロ−1−ブロモ−3−メトキシ −11−メチル−12−オキソ−6H−ベンゾフロ[3a,3,2−ef][2 ]ベンズアゼピン−6−オン(一般式(Ia)、但し、R2=Me、R4=CH3、 X1=Br、X2=H、Y1,Y2=O、Z1=O、Z2=H2) 40.5gのヘキサシアノ鉄(III)カリウム(123mol)及び18gのK2 CO3(0.13mol)を2.7lのトルエンと180mlの水の溶液に溶解し、こ の溶液を60℃に加熱した。次に、9.0gの6−ブロモ−3−ヒドロキシ−N −(4−ヒドロキシフェネチル)−4−メトキシ−N−メチルベンズアミド(一 般式(Va)、但し、R1,R3=H、R2=R4=CH3、X1=Br、X2= H、Z1=O、Z2=H2)(0.024mol)を加えた。反応混合物を35分間激 しく機械撹拌した。生じたポリマーをセライトを通して濾過した。水層を分離し 、トルエン層を飽和NaClで洗浄し、Na2SO4で乾燥し、エバポレーション によって濃縮した。 粗製収量:5.39g(理論量の60.22%)の黄色がかった油状物 1.8gを100gのシリカゲル(溶出液:CHCl3:MeOH=98:2 )でクロマトグラフィーにかけた。 収量:1.13g(理論量の37.8%)の無色結晶 TLC:CHCl3:MeOH=95:5 融点:218〜222℃ 1H-NMR(CDCl3): 1.92+2.48(dd,2H); 2.75+3.1(dd,2H); 3.34+3.82(dd ,2H); 3.91(s,3H); 4.83(t,1H); 5.9-6.0+6.3-6.39(dd,2H); 7.11(s,1H) 13C-NMR(CDCl3/DMSO): 34.00,36.44+36.58,48.44,48.55,56.31,89 .15,113.88,118.55,122.84,125.84,129.35,145.60,146.02,146.61,164 .57,192.93 例35 4a,5,9,10,11,12−ヘキサヒドロ−1−ブロモ−3−メトキシ −11−メチル−12−オキソ−6H−ベンゾフロ[3a,3,2−ef][2 ]ベンズアゼピン−6,6−プロピレングリコールケタール(一般式(Ia)、但 し、R2=R4=CH3、X1=Br、X2=H、Y1,Y2=O−CH2CH(CH3 )O−、Z1=O、Z2=H2) 1gの前駆体(12)(0.0026mol)、50mlのトルエン、2mlのプロ ピレングリコール及び0.1gのp−トルエンスルホン酸を水分離器を用いて4 時間還流した。冷却後、溶液をNaHCO3及びH2Oで抽出し、抽出物をNa2 SO4で乾燥し、ロータリーエバポレータで濃縮した。 収量:0.92g、理論量の79.75% 0.9gの生成物を50gのシリカゲルでクロマトグラフィーにかけた。溶出 液:CH2Cl2:MeOH=99:1。 フラクション1:0.34gの無色発泡体(理論量の30.1%) フラクション2:0.19gの無色発泡体 フラクション3:0.17gの無色発泡体 TLC:CHCl3:MeOH=95:5 フラクション1 1H-NMR(CDCl3): 6.95(s,1H),5.38-5.60(m,2H),4.64(m,1H),4.15( m,1H),3.80(s,3H),3.35-4.10(m,2H),3.10(s,3H),3.00(dd,H),2.85(dd ,H),2.15-2.35(m,2H),1.70-1.95(m,2H),1.12-1.25(m,3H). フラクション2 1H-NMR(CDCl3): 0.96-1.1(m,3H),1.18-1.32(m,3H),1.40-1.71(m,2 H),1.85(b,H),1.90-2.20(m,2H),2.35-2.66(m,2H),2.70-2.82(m,H),3.1 0(s,3H),3.20(b,H),3.42-3.81(m,6H),3.85(s,3H),4.02(m,H),4.20(m ,H),4.50(bd,H),7.05(s,H). フラクション3 1H-NMR(CDCl3): 0.95-1.1(m,3H),1.20-1.35(m,3H),1.51-1.72(m,H ),1.82(b,H),1.80-2.12(m,3H),2.30-2.68(m,2H),3.12(s,3H),3.20-3.7 5(m,7H),3.83(s,3H),3.96-4.15(m,H),4.22(m,H),4.52(bd,H),7.07(s ,H) 例36 ナルヴェジン(一般式(Ia)、但し、R2=R4=CH3、X1=X2=H、Y1, Y2=O、Z1=Z2=H2) 0.35gの4a,5,9,10,11,12−ヘキサヒドロ−1−ブロモ− 3−メトキシ−11−メチル−12−オキソ−6H−ベンゾフロ[3a,3,2 −ef][2]ベンズアゼピン−6,6−プロピレングリコールケタール(一般 式(Ia)、但し、R2=R4=CH3、X1=Br、X2=H、Y1,Y2=O−CH2 CH(CH3)O−、Z1=O、Z2=H2)を、冷却しながら0.2gのLiAl H4の20ml無水THF溶液加え、混合物を一夜室温で撹拌した。次に20 mlの2NHClを加え、混合物を40℃で30分撹拌し、濃NH4OHでアルカ リ性にし、酢酸エチル(4×30ml)で抽出した。Na2SO4で乾燥し、有機層 をエバポレーションによって濃縮し、0.21gの黄色がかった油状物を得た。 これをCHCl3/MeOH(98:2)を用いて15gのシリカゲルでクロマ トグラフィーにかけ、0.14g(理論量の61.2%)のナルヴェジンを無色 の結晶として得た。 TLC:CHCl3/MeOH(95:5) 例37 L−セレクトライドを用いた化合物(12)の一般式(Ia)の化合物(但し、 R2=R4=CH3、X1=Br、X2=H、Y1=OH、Y2=H、Z1=O、Z2= H2)への還元 1gの前駆体(12)(0.0026mol)を50mlの無水THFに溶解し、 次いで7.93mlのL−セレクトライド(0.0079mol=3等量)を加え、 混合物を室温で3時間撹拌した。溶液を10mlの2NHClで酸性にし、5mlの NH4OHで中和し、酢酸エチルで3回抽出し、抽出物をNa2SO4で乾燥し、 ロータリーエバポレータで濃縮した。 収量:1.07g、理論量の106.47% 生成物を50gのシリカゲル(CHCl3/MeOH=98:2)でクロマト グラフィーにかけた。 収量:Fr.34〜49:0.31g TLC:CHCl3/MeOH=95:5 融点:75.2〜80℃ 1H-NMR(CDCl3): 1.65-1.80(m,H),1.95-2.17(m,H),2.19-2.38(dt,H ),2.65(dm,H),3.13-3.22(m,H),3.15(s,3H),3.70-3.88(m,H),3.85(s,3 H),4.12(m,H),4.70(b,H),5.50(d,H),5.88(dd,H),7.08(s,H). 13C-NMR(CDCl3): 29.64,33.91,38.01,48.13,48.63,56.12,60.59 ,89.68,113.47,117.78,123.08,126.20,130.64,131.90,144.61,146.02 ,164.94. 上記開示で使用した略称の説明: DiBAl−H: 水素化ジイソプロピルアルミニウム Red−AlR: 二水素化ビス(2−メトキシエトキシ)アルミニ ウムナトリウム スーパーハイドライドR: 水素化トリエチルホウ素リチウム 9−BBN: 9−ボラビシクロ(3.3.1)ノナン L−セレクトライドR: 水素化トリ sec−ブチルホウ素リチウム(アルド リッチ) K−セレクトライドR: 水素化トリ sec−ブチルホウ素カリウム LS−セレクトライドR: 水素化トリシアミルホウ素リチウム(アルドリッ チ) KS−セレクトライドR: 水素化トリシアミルホウ素カリウム(アルドリッ チ) アリカート(Aliquat): 3−メチル−トリオクチルアンモニウムクロライ ド SV: 溶媒 ML: 母液 THF: テトラヒドロフラン DMF: ジメチルホルムアミド EtOAc: 酢酸エチル TsOH: p−トルエンスルホン酸 RT: 室温
【手続補正書】特許法第184条の8第1項 【提出日】1996年9月30日 【補正内容】 請求の範囲 1. 下式よりなる群から選択される一般式を有する4a,5,9,10,1 1,12−ヘキサヒドロ−6H−ベンゾフロ[3a,3,2−ef][2]ベン ズアゼピン誘導体又はこれらの塩の製造方法であって、 及び 但し、R2、R4、X1及びX2は、同一であるか、又は異なっており、水素、 フッ素、塩素、臭素、ヨウ素、ヒドロキシル、アルコキシ、低級アルキルであっ て、少なくとも1つのハロゲンで任意に置換されたもの、低級アルケニル、低級 アルキニル、アリール、アラルキル、アリールオキシアルキル、ホルミル、アル キルカルボニル、アリールカルボニル、アラルキルカルボニル、アルキルオキシ カルボニル、アリールオキシカルボニル、アラルキルオキシカルボニル、アルキ ルスルホニル、アラルキルスルホニル及びアリールスルホニルよりなる群から選 択される; Y1及びY2は同一であるか又は異なっており、水素、フッ素、塩素、臭素 、ヨウ素、ヒドロキシル、アルコキシ、低級アルキルであって、少なくとも1 つのハロゲンで任意に置換されたもの、低級アルケニル、低級アルキニル、アリ ール、アラルキル、アリールオキシアルキル、ホルミル、アルキルカルボニル、 アリールカルボニル、アラルキルカルボニル、アルキルオキシカルボニル、アリ ールオキシカルボニル、アラルキルオキシカルボニル、アルキルスルホニル、ア ラルキルスルホニル、アリールスルホニルよりなる群から選択されるか、又は一 緒になって=O(ケトン)となる; Aは、ベンゼン核であり、該ベンゼン核は、低級アルキル、低級アルケン 、低級アルキン、アルコキシ、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素、少なくとも1つの ハロゲンによって置換されたアルキル、アラルキル、ヒドロキシル、1級アミノ 、2級アミノ、3級アミノ、ニトロ、ニトリル、アルキルアミノ、アリールアミ ノ、アルデヒド、カルボン酸、及びカルボン酸誘導体によって任意に一置換又は 多置換される; Z-は、薬学的に許容しうる有機酸のアニオン又は無機アニオンである; R5は水素、ホルミル、アルキル、アルケニル、アリール、アラルキル、 アルキルカルボニル、アリールカルボニル、アラルキルカルボニル、アルキルオ キシカルボニル、アリールオキシカルボニル、アラルキルオキシカルボニル、ア ルキルスルホニル、アリールスルホニル及びアラルキルスルホニルよりなる群か らから選択される; (A)一般式(III)の化合物を、 但し、R1及びR2は水素、少なくとも1つのハロゲンで任意に置換されたア ルキル、アルケニル、アリール、アリールカルボニル、アラルキル、アルキルカ ルボニル、及びアラルキルカルボニルよりなる群から選択される。 X1は、水素、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素及びターシャリー−ブチルで ある; (B)一般式(IV)の化合物と縮合し、 但し、R3は、水素、アルキル、アルケニル、アリール、アラルキル、アル キルカルボニル、アリールカルボニル及びアラルキルオキシカルボニルであり、 R3、基は少なくとも1つのハロゲンで任意に置換される; 一般式(V)の化合物を得ること、 生じた縮合生成物(シッフ塩基)を還元すること、更に、R4が水素である場合 、N−保護基を一般式(V)の化合物に任意に導入すること、 (C)生じた一般式(V)の化合物を、塩基と及び酸化剤と反応することによっ て酸化的環化にかけること、 (D)生じた一般式(I)の化合物(但し、Y1及びY2は一緒になって=O(ケ トン)である。)を、L−セレクトライド、K−セレクトライド、KS−セレク トライド又はLS−セレクトライドで一般式(I)の化合物(但し、Y1はヒド ロキシルである。)に還元すること、及び一般式(I)のラセミ化合物(但し、 R4が水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、アリール及びアラルキルより なる群から選択される。)をキラルな酸との結晶化によって対応するエナンチオ マーに分割すること、 を特徴とする方法。 2. 下式よりなる群から選択される一般式を有する4a,5,9,10,1 1,12−ヘキサヒドロ−6H−ベンゾフロ[3a,3,2−ef][2]ベン ズアゼピン誘導体又はこれらの塩の製造方法であって、 及び 但し、R2、R4、X1及びX2は、同一であるか、又は異なっており、水素、 フッ素、塩素、臭素、ヨウ素、ヒドロキシル、アルコキシ、低級アルキルであっ て、少なくとも1つのハロゲンで任意に置換されたもの、低級アルケニル、低級 アルキニル、アリール、アラルキル、アリールオキシアルキル、ホルミル、アル キルカルボニル、アリールカルボニル、アラルキルカルボニル、アルキルオキシ カルボニル、アリールオキシカルボニル、アラルキルオキシカルボニル、アルキ ルスルホニル、アラルキルスルホニル及びアリールスルホニルよりなる群から選 択される; Y1及びY2は同一であるか又は異なっており、水素、フッ素、塩素、臭素 、ヨウ素、ヒドロキシル、アルコキシ、低級アルキルであって、少なくとも1つ のハロゲンで任意に置換されたもの、低級アルケニル、低級アルキニル、アリー ル、アラルキル、アリールオキシアルキル、ホルミル、アルキルカルボニル、ア リールカルボニル、アラルキルカルボニル、アルキルオキシカルボニル、アリー ルオキシカルボニル、アラルキルオキシカルボニル、アルキルスルホニル、アラ ルキルスルホニル、アリールスルホニルよりなる群から 選択されるか、又は一緒になって=O(ケトン)となる; Aは、ベンゼン核であり、該ベンゼン核は、低級アルキル、低級アルケン 、低級アルキン、アルコキシ、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素、少なくとも1つの ハロゲンによって置換されたアルキル、アラルキル、ヒドロキシル、1級アミノ 、2級アミノ、3級アミノ、ニトロ、ニトリル、アルキルアミノ、アリールアミ ノ、アルデヒド、カルボン酸、及びカルボン酸誘導体によって任意に一置換又は 多置換される; Z-は、薬学的に許容しうる有機酸のアニオン又は無機アニオンである; R5は水素、ホルミル、アルキル、アルケニル、アリール、アラルキル、 アルキルカルボニル、アリールカルボニル、アラルキルカルボニル、アルキルオ キシカルボニル、アリールオキシカルボニル、アラルキルオキシカルボニル、ア ルキルスルホニル、アリールスルホニル及びアラルキルスルホニルよりなる群か らから選択される; (A)一般式(III)の化合物を、 但し、R1及びR2は水素、少なくとも1つのハロゲンで任意に置換されたア ルキル、アルケニル、アリール、アリールカルボニル、アラルキル、アルキルカ ルボニル、及びアラルキルカルボニルよりなる群から選択される。 X1は、水素、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素及びターシャリー−ブチルで ある: (B)一般式(IV)の化合物と縮合し、 但し、R3は、水素、アルキル、アルケニル、アリール、アラルキル、アル キルカルボニル、アリールカルボニル及びアラルキルオキシカルボニルであり、 R3、基は少なくとも1つのハロゲンで任意に置換される; 一般式(V)の化合物を得ること、 生じた縮合生成物(シッフ塩基)を還元すること、更に、R4が水素である場合 、N−保護基を一般式(V)の化合物に任意に導入すること、 (C)生じた一般式(V)の化合物を、塩基と及び酸化剤と反応することによっ て酸化的環化にかけること、 (D)生じた一般式(I)の化合物(但し、Y1及びY2は一緒になって=O(ケ トン)である。)を、DiBAl、REDAl又はスーパーハイドライドで一般 式(I)の化合物に還元すること、及び生じた一般式(I)の化合物のジアステ レオマー(但し、Y1又はY2の何れかがヒドロキシルである。)をクロマトグラ フィー法で分割すること、及び一般式(I)のラセミ化合物(但し、R4が水素 、アルキル、アルケニル、アルキニル、アリール及びアラルキルよりなる群から 選択される。)をキラルな酸との結晶化によって対応するエナンチオマーに分割 すること、 を特徴とする方法。 3. 下式よりなる群から選択される一般式を有する4a,5,9,10,1 1,12−ヘキサヒドロ−6H−ベンゾフロ[3a,3,2−ef][2]ベン ズアゼピン誘導体又はこれらの塩の製造方法であって、 及び 但し、R2、R4、X1及びX2は、同一であるか、又は異なっており、水素、 フッ素、塩素、臭素、ヨウ素、ヒドロキシル、アルコキシ、低級アルキルであっ て、少なくとも1つのハロゲンで任意に置換されたもの、低級アルケニル、低級 アルキニル、アリール、アラルキル、アリールオキシアルキル、ホルミル、アル キルカルボニル、アリールカルボニル、アラルキルカルボニル、アルキルオキシ カルボニル、アリールオキシカルボニル、アラルキルオキシカルボニル、アルキ ルスルホニル、アラルキルスルホニル及びアリールスルホニルよりなる群から選 択される; Y1及びY2は同一であるか又は異なっており、水素、フッ素、塩素、臭素 、ヨウ素、ヒドロキシル、アルコキシ、低級アルキルであって、少なくとも1つ のハロゲンで任意に置換されたもの、低級アルケニル、低級アルキニル、アリー ル、アラルキル、アリールオキシアルキル、ホルミル、アルキルカルボニル、ア リールカルボニル、アラルキルカルボニル、アルキルオキシカルボニル、アリー ルオキシカルボニル、アラルキルオキシカルボニル、アルキルスルホニル、アラ ルキルスルホニル、アリールスルホニルよりなる群から 選択されるか、又は一緒になって=O(ケトン)となる; Aは、ベンゼン核であり、該ベンゼン核は、低級アルキル、低級アルケン 、低級アルキン、アルコキシ、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素、少なくとも1つの ハロゲンによって置換されたアルキル、アラルキル、ヒドロキシル、1級アミノ 、2級アミノ、3級アミノ、ニトロ、ニトリル、アルキルアミノ、アリールアミ ノ、アルデヒド、カルボン酸、及びカルボン酸誘導体によって任意に一置換又は 多置換される; Z-は、薬学的に許容しうる有機酸のアニオン又は無機アニオンである; R5は水素、ホルミル、アルキル、アルケニル、アリール、アラルキル、 アルキルカルボニル、アリールカルボニル、アラルキルカルボニル、アルキルオ キシカルボニル、アリールオキシカルボニル、アラルキルオキシカルボニル、ア ルキルスルホニル、アリールスルホニル及びアラルキルスルホニルよりなる群か らから選択される; (A)一般式(III)の化合物を、 但し、R1及びR2は水素、少なくとも1つのハロゲンで任意に置換されたア ルキル、アルケニル、アリール、アリールカルボニル、アラルキル、アルキルカ ルボニル、及びアラルキルカルボニルよりなる群から選択される。 X1は、水素、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素及びターシャリー−ブチルで ある: (B)一般式(IV)の化合物と縮合し、 但し、R3は、水素、アルキル、アルケニル、アリール、アラルキル、アル キルカルボニル、アリールカルボニル及びアラルキルオキシカルボニルであり、 R3、基は少なくとも1つのハロゲンで任意に置換される; 一般式(V)の化合物を得ること、 生じた縮合生成物(シッフ塩基)を還元すること、更に、R4が水素である場合 、N−保護基を一般式(V)の化合物に任意に導入すること、 (C)生じた一般式(V)の化合物を、塩基と及び酸化剤と反応することによっ て酸化的環化にかけること、 (D)生じた一般式(I)の化合物(但し、Y1及びY2は一緒になって=O(ケ トン)である。)をケタール又はチオケタールに変換し、生じたケタール又はチ オケタールを還元し、ケタール又はチオケタール基を生じたナルヴェジンケター ルタイプの化合物から除去し、一般式(I)のラセミ化合物(但し、R4が水素 、アルキル、アルケニル、アルキニル、アリール及びアラルキルよりなる群から 選択される。)をキラルに誘導される結晶化によって対応するエナンチオマーに 変換し、生じたエナンチオマーをL−セレクトライド、K−セレクトライド、K S−セレクトライド又はLS−セレクトライドで一般式(I)の化合物に還元す ること、 を特徴とする方法。 4. 下式よりなる群から選択される一般式を有する4a,5,9,10,1 1,12−ヘキサヒドロ−6H−ベンゾフロ[3a,3,2−ef][2]ベン ズアゼピン誘導体又はこれらの塩の製造方法であって、 及び 但し、R2、R4、X1及びX2は、同一であるか、又は異なっており、水素、 フッ素、塩素、臭素、ヨウ素、ヒドロキシル、アルコキシ、低級アルキルであっ て、少なくとも1つのハロゲンで任意に置換されたもの、低級アルケニル、低級 アルキニル、アリール、アラルキル、アリールオキシアルキル、ホルミル、アル キルカルボニル、アリールカルボニル、アラルキルカルボニル、アルキルオキシ カルボニル、アリールオキシカルボニル、アラルキルオキシカルボニル、アルキ ルスルホニル、アラルキルスルホニル及びアリールスルホニルよりなる群から選 択される; Y1及びY2は同一であるか又は異なっており、水素、フッ素、塩素、臭素 、ヨウ素、ヒドロキシル、アルコキシ、低級アルキルであって、少なくとも1つ のハロゲンで任意に置換されたもの、低級アルケニル、低級アルキニル、アリー ル、アラルキル、アリールオキシアルキル、ホルミル、アルキルカルボニル、ア リールカルボニル、アラルキルカルボニル、アルキルオキシカルボニル、アリー ルオキシカルボニル、アラルキルオキシカルボニル、アルキルスルホニル、アラ ルキルスルホニル、アリールスルホニルよりなる群から 選択されるか、又は一緒になって=O(ケトン)となる; Aは、ベンゼン核であり、該ベンゼン核は、低級アルキル、低級アルケン 、低級アルキン、アルコキシ、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素、少なくとも1つの ハロゲンによって置換されたアルキル、アラルキル、ヒドロキシル、1級アミノ 、2級アミノ、3級アミノ、ニトロ、ニトリル、アルキルアミノ、アリールアミ ノ、アルデヒド、カルボン酸、及びカルボン酸誘導体によって任意に一置換又は 多置換される; Z-は、薬学的に許容しうる有機酸のアニオン又は無機アニオンである; R5は水素、ホルミル、アルキル、アルケニル、アリール、アラルキル、 アルキルカルボニル、アリールカルボニル、アラルキルカルボニル、アルキルオ キシカルボニル、アリールオキシカルボニル、アラルキルオキシカルボニル、ア ルキルスルホニル、アリールスルホニル及びアラルキルスルホニルよりなる群か らから選択される; 一般式(Va)の化合物を、 但し、R1、R2、R3、R4、X1及びX2は請求の範囲第1項で定義したとお りであり、Z1及びZ2は=O、S、Nであり、R4が水素である場合はN−保護 基が一般式(Va)の化合物に任意に導入される; 酸化的環化にかけ、これを塩基と及び酸化剤と反応することによって一般式(Ia )の化合物を得ること、 (D)生じた一般式(I)の化合物(但し、Y1及びY2は一緒になって=O(ケ トン)である。)をケタール又はチオケタールに変換し、生じたケタール又はチ オケタールを還元し、ケタール又はチオケタール基を生じたナルヴェジンケター ルタイプの化合物から除去し、一般式(I)のラセミ化合物(但し、R4が水素 、アルキル、アルケニル、アルキニル、アリール及びアラルキルよりなる群から 選択される。)をキラルに誘導される結晶化によって対応するエナンチオマーに 変換し、生じたエナンチオマーをL−セレクトライド、K−セレクトライド、K S−セレクトライド又はLS−セレクトライドで一般式(I)の化合物に還元す ること、 を特徴とする方法。 5. 請求の範囲第1項から第4項の1に記載の方法であって、縮合反応(段 階B)が還流温度で溶媒中で行われ、生成する何れの水も分離除去することを特 徴とする方法、 6. 請求の範囲債1項から第5項の1に記載の方法であって、段階Bで得ら れた縮合生成物(シッフ塩基)の還元が、水素化ホウ素ナトリウム、水素化ホウ 素カリウム、ナトリウムシアノボロハイドライド、LiAlH4及びこれらの混 合物よりなる群から選択される還元剤で行われることを特徴とする方法。 7. 請求の範囲第1項から第6項の1に記載の方法であって、段階Cにおい て、一般式(V)又は(Va)の化合物を炭酸水素ナトリウム、炭酸カリウム、N aOH、KOH及びピリジンよりなる群から選択される塩基と反応することを特 徴とする方法。 8. 請求の範囲第1項から第7項の1に記載の方法であって、段階Cにおい て、一般式(V)又は(Va)の化合物をPb(OAc)4、KMnO4、塩化鉄、 フェリシアン化カリウム及びH2O2よりなる群から選択される酸化剤と反応する ことを特徴とする方法。 9. 請求の範囲第1項から第8項の1に記載の方法であって、段階Cにおけ る反応が、トルエン及びキシレンよりなる群から選択される溶媒中で行われるこ とを特徴とする方法。 10. 請求の範囲第3項から第9項の1に記載の方法であって、段階Dにお いて、一般式(I)又は(Ia)の化合物(但し、Y1及びY2は一緒になって=O (ケトン)である。)が、一般式(I)又は(Ia)の化合物を、アルコールR6 −OH及びチオールR6−SH(R6は、アルキル、アルケニル、アリール、アラ ルキル、アルキルカルボニル、アリールカルボニル及びアラルキルカルボニルよ りなる群から選択され、R6が少なくとも1つのハロゲンで任意に置換される。 )よりなる群から選択される化合物と反応することによってケタール又はチオケ タールに変換されることを特徴とする方法。 11. 請求の範囲第3項から第9項の1に記載の方法であって、段階Dにお いて、一般式(I)又は(Ia)の化合物(但し、Y1及びY2は一緒になって=O (ケトン)である。)が、一般式(I)の化合物を、ジオールR6(OH)2又は ジチオールR6(SH)2(但し、R6は請求の範囲第10項で定義したとおりで ある。)と反応することによってケタール又はチオケタールに変換されることを 特徴とする方法。 12. 請求の範囲第11項に記載の方法であって、段階Dにおいて、反応が プロピレングリコールで行われ、ケタールが形成されることを特徴とする方法。 13. 請求の範囲第3項から第12項の1に記載の方法であって、ケタール 又はチオケタールが、水素化ホウ素ナトリウム、水素化ホウ素カリウム、ナトリ ウムシアノボロハイドライド、LiAlH4、L−セレクトライド、DiBAl 、REDAl、K−セレクトライド、KS−セレクトライド、LS−セレクトラ イド、スーパーハイドライド、9−BBN、Zn/CaCl2及びこれらの混合 物よりなる群から選択される還元剤で還元されることを特徴とする方法。 14. 請求の範囲第13項に記載の方法であって、還元剤がLiAlH4で あることを特徴とする方法。 15. 請求の範囲第1項から第14項の1に記載の方法であって、得られた 化合物が一般式(II)の四級アンモニウム塩であること特徴とする方法。 16. 請求の範囲第15項に記載の方法であって、Z-がタータレート、ラ クテート、シトレート、アセテート、マレエート、フルオライド、クロライド、 ブロマイド、アイオダイド、サルフェート、ホスフェート、及びクロレートより なる群から選択されることを特徴とする方法。 17. 請求の範囲第16項に記載の方法であって、R1、R2及びR3が、水 素、アルキル、アルケニル、アリール、アラルキル、アルキルカルボニル、アリ ールカルボニル及びアラルキルカルボニルよりなる群から選択され、R1、R2及 びR3が、任意に少なくとも1つのハロゲンで任意に置換されることを特徴とす る方法。 18. 請求の範囲第1項から第16項の1つに記載の方法であって、R4及 びR5が、水素、ホルミル、アルキル、アルケニル、アリール、アラルキル、ア ルキルカルボニル、アリールカルボニル、アラルキルカルボニル、アルキルスル ホニル、アリールスルホニル及びアラルキルスルホニルよりなる群から選択され 、R4及びR5が、少なくとも1つのハロゲンで任意に置換されることを特徴とす る方法。 19. 請求の範囲第1項から第18項の1に記載の方法であって、X1及び X2が水素、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素及びt−ブチルよりなる群から選択さ れることを特徴とする方法。 20. 請求の範囲第1項から第19項の1に記載の方法であって、一般式( V)又は(Va)の窒素が酸化の前に、ホルミル、アラルキル、アルキルカルボニ ル、アリールカルボニル、アラルキルカルボニル、アラルキルオキシカルボニル 、アルキルスルホニル、アラルキルスルホニル及びアリールスルホニルよりなる 群から選択される化合物を導入することによって保護されることを特徴とする方 法。 21. 請求の範囲第20項に記載の方法であって、1から50倍モル量の蟻 酸エチルを触媒量の蟻酸の存在下で一般式(V)又は(Va)の化合物と反応する ことによってホルミル基が導入されることを特徴とする方法。 22. 請求の範囲第1項から第21項の1に記載の方法であって、一般式( V)の化合物が 但し、 R1、R2及びR3が、水素、アルキル、アリール、アラルキル、アルキ ルカルボニル、アリールカルボニル及びアラルキルカルボニルよりなる群から選 択され、 X1が臭素であり、 X2が水素であり、 R4が水素、ホルミル、アラルキル、アルキルカルボニル、アリールカ ルボニル、アラルキルカルボニル、アルキルオキシカルボニル、アリールオキシ カルボニル、アラルキルオキシカルボニル、アルキルスルホニル、アラルキルス ルホニル及びアリールスルホニルよりなる群から選択される; 一般式(V)の化合物を、 但し、R4はCHOであり、X1が水素である; 臭素化剤と反応することによって製造されることを特徴とする方法。 23. 請求の範囲第1項から第22項の1に記載の方法であって、一般式( V)の化合物が 但し、R2が水素、アルキル、アリール、アリールカルボニル、アラルキル 、アルキルカルボニル及びアリールカルボニルよりなる群から選択され、 X1が水素、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素及びt−ブチルよりなる群から選 択され、 R4が水素、ホルミル、アラルキル、アルキルカルボニル、アリールカルボ ニル、アラルキルカルボニル、アルコキシカルボニル、アリールオキシカルボニ ル、アラルキルオキシカルボニル、アルキルスルホニル、アラルキルスルホニル 及びアリールスルホニルよりなる群から選択される; R3が水素である; 塩基と及び酸化剤との反応により一般式(I)の化合物 但し、R2、R4及びX1は先に定義したとおりであり、 X2が水素又は臭素であり、 Y1及びY2が一緒になって=Oである; に環化されることを特徴とする方法。 24. 請求の範囲第23項に記載の方法であって、酸化的還元がアリカート のようなテトラアルキルアンモニウムクロライド、クラウンエーテル、アスコル ビン酸、塩化銅又はトリフルオロ酢酸又はこれらの混合物の存在下で行われるこ とを特徴とする方法。 25. 一般式(I)の化合物のモノメチル化の方法であって、一般式(I) の化合物を、 但し、R4は水素であり、 R2、R4、X1及びX2は、同一であるが、又は異なっており、水素、フッ素 、塩素、臭素、ヨウ素、ヒドロキシル又はアルコキシ、低級アルキルであって、 少なくとも1つのハロゲンで任意に置換されたもの、低級アルケニル、低級 アルキニル、アリール、アラルキル、アリールオキシアルキル、ホルミル、アル キルカルボニル、アリールカルボニル、アラルキルカルボニル、アルキルオキシ カルボニル、アリールオキシカルボニル、アラルキルオキシカルボニル、アルキ ルスルホニル、アラルキルスルホニル及びアリールスルホニルよりなる群から選 択される; Y1及びY2は同一であるか又は異なっており、水素、フッ素、塩素、臭素 、ヨウ素、ヒドロキシル、アルコキシ、低級アルキルであって、少なくとも1つ のハロゲンで任意に置換されたもの、低級アルケニル、低級アルキニル、アリー ル、アラルキル、アリールオキシアルキル、ホルミル、アルキルカルボニル、ア リールカルボニル、アラルキルカルボニル、アルキルオキシカルボニル、アリー ルオキシカルボニル、アラルキルオキシカルボニル、アルキルスルホニル、アラ ルキルスルホニル、アリールスルホニルよりなる群から選択されるか、又は一緒 になって=O(ケトン)となる; Aは、ベンゼン核であり、該ベンゼン核は、低級アルキル、低級アルケン 、低級アルキン、アルコキシ、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素、少なくとも1つの ハロゲンによって置換されたアルキル、アラルキル、ヒドロキシル、1級アミノ 、2級アミノ、3級アミノ、ニトロ、ニトリル、アルキルアミノ、アリールアミ ノ、アルデヒド、カルボン酸、及びカルボン酸誘導体によって任意に一置換又は 多置換される; 蟻酸及びホルムアルデヒドでメチル化することを特徴とする方法。 26. 一般式(I)の化合物の脱臭素化の方法であって、一般式(I)の化 合物を、 但し、X1は臭素である; R2、R4、X1及びX2は、同一であるか、又は異なっており、水素、フッ素 、塩素、臭素、ヨウ素、ヒドロキシル又はアルコキシ、低級アルキルであって、 少なくとも1つのハロゲンで任意に置換されたもの、低級アルケニル、低級アル キニル、アリール、アラルキル、アリールオキシアルキル、ホルミル、アルキル カルボニル、アリールカルボニル、アラルキルカルボニル、アルキルオキシカル ボニル、アリールオキシカルボニル、アラルキルオキシカルボニル、アルキルス ルホニル、アラルキルスルホニル及びアリールスルホニルよりなる群から選択さ れる; Y1及びY2は同一であるか又は異なっており、水素、フッ素、塩素、臭素 、ヨウ素、ヒドロキシル、アルコキシ、低級アルキルであって、少なくとも1つ のハロゲンで任意に置換されたもの、低級アルケニル、低級アルキニル、アリー ル、アラルキル、アリールオキシアルキル、ホルミル、アルキルカルボニル、ア リールカルボニル、アラルキルカルボニル、アルキルオキシカルボニル、アリー ルオキシカルボニル、アラルキルオキシカルボニル、アルキルスルホニル、アラ ルキルスルホニル、アリールスルホニルよりなる群から選択されるか、又は一緒 になって=O(ケトン)となる; Aは、ベンゼン核であり、該ベンゼン核は、低級アルキル、低級アルケン 、低級アルキン、アルコキシ、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素、少なくとも1つの ハロゲンによって置換されたアルキル、アラルキル、ヒドロキシル、1級アミノ 、2級アミノ、3級アミノ、ニトロ、ニトリル、アルキルアミノ、ア リールアミノ、アルデヒド、カルボン酸、及びカルボン酸誘導体によって任意に 一置換又は多置換される; a)蟻酸、トリエチルアミン及びパラジウム/活性炭、又は b)アルコール中の金属亜鉛末及びCaCl2 よりなる混合物と脱ブロム化のために反応することを特徴とする方法。 27. N−脱メチルブロモガランタミン及びN−脱メチル−エピブロモガラ ンタミンのタイプの化合物を製造するための方法であって、一般式(I)の化合 物を、 但し、 (c)下式のN−脱メチルブロモガランタミン (d)下式のN−脱メチルエピブロモガランタミン (e)下式のブロモ−N−ホルミル−ナルヴェジンプロピレングリコールケター ル (f)下式のナルヴェジンプロピレングリコールケタール (g)下式のブロモ−N−ホルミル−ナルヴェジンエチレングリコールケタール (h)下式のナルヴェジンエチレングリコールケタール (i)下式のO−(2−ヒドロキシエチル)−ガランタミン (j)下式のブロモ−N−脱メチル−ナルヴェジンエチレングリコールケタール (k)下式のブロモ−N−ベンジル−ナルヴェジンエチレングリコールケタール (l)下式のブロモ−N−脱メチルナルヴェジン (n) (o) よりなる群から選択される新規化合物。 【手続補正書】特許法第184条の8第1項 【提出日】1996年12月16日 【補正内容】 請求の範囲 1. 下式よりなる群から選択される一般式を有する4a,5,9,10,1 1,12−ヘキサヒドロ−6H−ベンゾフロ[3a,3,2−ef][2]ベン ズアゼピン誘導体又はこれらの塩の製造方法であって、 及び 但し、R2、R4、X1及びX2は、同一であるか、又は異なっており、水素、 フッ素、塩素、臭素、ヨウ素、ヒドロキシル、アルコキシ、低級アルキルであっ て、少なくとも1つのハロゲンで任意に置換されたもの、低級アルケニル、低級 アルキニル、アリール、アラルキル、アリールオキシアルキル、ホルミル、アル キルカルボニル、アリールカルボニル、アラルキルカルボニル、アルキルオキシ カルボニル、アリールオキシカルボニル、アラルキルオキシカルボニル、アルキ ルスルホニル、アラルキルスルホニル及びアリールスルホニルよりなる群から選 択される; Y1及びY2は同一であるか又は異なっており、水素、フッ素、塩素、臭素 、ヨウ素、ヒドロキシル、アルコキシ、低級アルキルであって、少なくとも1 つのハロゲンで任意に置換されたもの、低級アルケニル、低級アルキニル、アリ ール、アラルキル、アリールオキシアルキル、ホルミル、アルキルカルボニル、 アリールカルボニル、アラルキルカルボニル、アルキルオキシカルボニル、アリ ールオキシカルボニル、アラルキルオキシカルボニル、アルキルスルホニル、ア ラルキルスルホニル、アリールスルホニルよりなる群から選択されるか、又は一 緒になって=O(ケトン)となる; Aは、ベンゼン核であり、該ベンゼン核は、低級アルキル、低級アルケン 、低級アルキン、アルコキシ、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素、少なくとも1つの ハロゲンによって置換されたアルキル、アラルキル、ヒドロキシル、1級アミノ 、2級アミノ、3級アミノ、ニトロ、ニトリル、アルキルアミノ、アリールアミ ノ、アルデヒド、カルボン酸、及びカルボン酸誘導体によって任意に一置換又は 多置換される; Z-は、薬学的に許容しうる有機酸のアニオン又は無機アニオンである; R5は水素、ホルミル、アルキル、アルケニル、アリール、アラルキル、 アルキルカルボニル、アリールカルボニル、アラルキルカルボニル、アルキルオ キシカルボニル、アリールオキシカルボニル、アラルキルオキシカルボニル、ア ルキルスルホニル、アリールスルホニル及びアラルキルスルホニルよりなる群か らから選択される; (A)一般式(III)の化合物を、 但し、R1及びR2は水素、少なくとも1つのハロゲンで任意に置換されたア ルキル、アルケニル、アリール、アリールカルボニル、アラルキル、アルキルカ ルボニル、及びアラルキルカルボニルよりなる群から選択される。 X1は、水素、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素及びターシャリー−ブチルで ある; (B)一般式(IV)の化合物と縮合し、 但し、R3は、水素、アルキル、アルケニル、アリール、アラルキル、アル キルカルボニル、アリールカルボニル及びアラルキルオキシカルボニルであり、 R3基は少なくとも1つのハロゲンで任意に置換される; 一般式(V)の化合物を得ること、 生じた縮合生成物(シッフ塩基)を還元すること、更に、R4が水素である場合 、N−保護基を一般式(V)の化合物に任意に導入すること、 (C)生じた一般式(V)の化合物を、塩基と及び酸化剤と反応することによっ て酸化的環化にかけること、 (D)生じた一般式(I)の化合物(但し、Y1及びY2は一緒になって=O(ケ トン)である。)を、L−セレクトライド、K−セレクトライド、KS−セレク トライド又はLS−セレクトライドで一般式(I)の化合物(但し、Y1はヒド ロキシルである。)に還元すること、及び一般式(I)のラセミ化合物(但し、 R4が水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、アリール及びアラルキルより なる群から選択される。)をキラルな酸との結晶化によって対応するエナンチオ マーに分割すること、 を特徴とする方法。 2. 下式よりなる群から選択される一般式を有する4a,5,9,10,1 1,12−ヘキサヒドロ−6H−ベンゾフロ[3a,3,2−ef][2]ベン ズアゼピン誘導体又はこれらの塩の製造方法であって、 及び 但し、R2、R4、X1及びX2は、同一であるか、又は異なっており、水素、 フッ素、塩素、臭素、ヨウ素、ヒドロキシル、アルコキシ、低級アルキルであっ て、少なくとも1つのハロゲンで任意に置換されたもの、低級アルケニル、低級 アルキニル、アリール、アラルキル、アリールオキシアルキル、ホルミル、アル キルカルボニル、アリールカルボニル、アラルキルカルボニル、アルキルオキシ カルボニル、アリールオキシカルボニル、アラルキルオキシカルボニル、アルキ ルスルホニル、アラルキルスルホニル及びアリールスルホニルよりなる群から選 択される; Y1及びY2は同一であるか又は異なっており、水素、フッ素、塩素、臭素 、ヨウ素、ヒドロキシル、アルコキシ、低級アルキルであって、少なくとも1つ のハロゲンで任意に置換されたもの、低級アルケニル、低級アルキニル、アリー ル、アラルキル、アリールオキシアルキル、ホルミル、アルキルカルボニル、ア リールカルボニル、アラルキルカルボニル、アルキルオキシカルボニル、アリー ルオキシカルボニル、アラルキルオキシカルボニル、アルキルスルホニル、アラ ルキルスルホニル、アリールスルホニルよりなる群から 選択されるか、又は一緒になって=O(ケトン)となる; Aは、ベンゼン核であり、該ベンゼン核は、低級アルキル、低級アルケン 、低級アルキン、アルコキシ、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素、少なくとも1つの ハロゲンによって置換されたアルキル、アラルキル、ヒドロキシル、1級アミノ 、2級アミノ、3級アミノ、ニトロ、ニトリル、アルキルアミノ、アリールアミ ノ、アルデヒド、カルボン酸、及びカルボン酸誘導体によって任意に一置換又は 多置換される; Z-は、薬学的に許容しうる有機酸のアニオン又は無機アニオンである; R5は水素、ホルミル、アルキル、アルケニル、アリール、アラルキル、 アルキルカルボニル、アリールカルボニル、アラルキルカルボニル、アルキルオ キシカルボニル、アリールオキシカルボニル、アラルキルオキシカルボニル、ア ルキルスルホニル、アリールスルホニル及びアラルキルスルホニルよりなる群か らから選択される; (A)一般式(III)の化合物を、 但し、R1及びR2は水素、少なくとも1つのハロゲンで任意に置換されたア ルキル、アルケニル、アリール、アリールカルボニル、アラルキル、アルキルカ ルボニル、及びアラルキルカルボニルよりなる群から選択される。 X1は、水素、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素及びターシャリー−ブチルで ある; (B)一般式(IV)の化合物と縮合し、 但し、R3は、水素、アルキル、アルケニル、アリール、アラルキル、アル キルカルボニル、アリールカルボニル及びアラルキルオキシカルボニルであり、 R3基は少なくとも1つのハロゲンで任意に置換される; 一般式(V)の化合物を得ること、 生じた縮合生成物(シッフ塩基)を還元すること、更に、R4が水素である場合 、N−保護基を一般式(V)の化合物に任意に導入すること、 (C)生じた一般式(V)の化合物を、塩基と及び酸化剤と反応することによっ て酸化的環化にかけること、 (D)生じた一般式(I)の化合物(但し、Y1及びY2は一緒になって=O(ケ トン)である。)を、DiBAl、REDAl又はスーパーハイドライドで一般 式(I)の化合物に還元すること、及び生じた一般式(I)の化合物のジアステ レオマー(但し、Y1又はY2の何れかがヒドロキシルである。)をクロマトグラ フィー法で分割すること、及び一般式(I)のラセミ化合物(但し、R4が水素 、アルキル、アルケニル、アルキニル、アリール及びアラルキルよりなる群から 選択される。)をキラルな酸との結晶化によって対応するエナンチオマーに分割 すること、 を特徴とする方法。 3. 下式よりなる群から選択される一般式を有する4a,5,9,10,1 1,12−ヘキサヒドロ−6H−ベンゾフロ[3a,3,2−ef][2]ベン ズアゼピン誘導体又はこれらの塩の製造方法であって、 及び 但し、R2、R4、X1及びX2は、同一であるか、又は異なっており、水素、 フッ素、塩素、臭素、ヨウ素、ヒドロキシル、アルコキシ、低級アルキルであっ て、少なくとも1つのハロゲンで任意に置換されたもの、低級アルケニル、低級 アルキニル、アリール、アラルキル、アリールオキシアルキル、ホルミル、アル キルカルボニル、アリールカルボニル、アラルキルカルボニル、アルキルオキシ カルボニル、アリールオキシカルボニル、アラルキルオキシカルボニル、アルキ ルスルホニル、アラルキルスルホニル及びアリールスルホニルよりなる群から選 択される; Y1及びY2は同一であるか又は異なっており、水素、フッ素、塩素、臭素 、ヨウ素、ヒドロキシル、アルコキシ、低級アルキルであって、少なくとも1つ のハロゲンで任意に置換されたもの、低級アルケニル、低級アルキニル、アリー ル、アラルキル、アリールオキシアルキル、ホルミル、アルキルカルボニル、ア リールカルボニル、アラルキルカルボニル、アルキルオキシカルボニル、アリー ルオキシカルボニル、アラルキルオキシカルボニル、アルキルスルホニル、アラ ルキルスルホニル、アリールスルホニルよりなる群から 選択されるか、又は一緒になって=O(ケトン)となる; Aは、ベンゼン核であり、該ベンゼン核は、低級アルキル、低級アルケン 、低級アルキン、アルコキシ、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素、少なくとも1つの ハロゲンによって置換されたアルキル、アラルキル、ヒドロキシル、1級アミノ 、2級アミノ、3級アミノ、ニトロ、ニトリル、アルキルアミノ、アリールアミ ノ、アルデヒド、カルボン酸、及びカルボン酸誘導体によって任意に一置換又は 多置換される; Z-は、薬学的に許容しうる有機酸のアニオン又は無機アニオンである; R5は水素、ホルミル、アルキル、アルケニル、アリール、アラルキル、 アルキルカルボニル、アリールカルボニル、アラルキルカルボニル、アルキルオ キシカルボニル、アリールオキシカルボニル、アラルキルオキシカルボニル、ア ルキルスルホニル、アリールスルホニル及びアラルキルスルホニルよりなる群か らから選択される; (A)一般式(III)の化合物を、 但し、R1及びR2は水素、少なくとも1つのハロゲンで任意に置換されたア ルキル、アルケニル、アリール、アリールカルボニル、アラルキル、アルキルカ ルボニル、及びアラルキルカルボニルよりなる群から選択される。 X1は、水素、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素及びターシャリー−ブチルで ある; (B)一般式(IV)の化合物と縮合し、 但し、R3は、水素、アルキル、アルケニル、アリール、アラルキル、アル キルカルボニル、アリールカルボニル及びアラルキルオキシカルボニルであり、 R3基は少なくとも1つのハロゲンで任意に置換される; 一般式(V)の化合物を得ること、 生じた縮合生成物(シッフ塩基)を還元すること、更に、R4が水素である場合 、N−保護基を一般式(V)の化合物に任意に導入すること、 (C)生じた一般式(V)の化合物を、塩基と及び酸化剤と反応することによっ て酸化的環化にかけること、 (D)生じた一般式(I)の化合物(但し、Y1及びY2は一緒になって=O(ケ トン)である。)をケタール又はチオケタールに変換し、生じたケタール又はチ オケタールを還元し、ケタール又はチオケタール基を生じたナルヴェジンケター ルタイプの化合物から除去し、一般式(I)のラセミ化合物(但し、R4が水素 、アルキル、アルケニル、アルキニル、アリール及びアラルキルよりなる群から 選択される。)をキラルに誘導される結晶化によって対応するエナンチオマーに 変換し、生じたエナンチオマーをL−セレクトライド、K−セレクトライド、K S−セレクトライド又はLS−セレクトライドで一般式(I)の化合物に還元す ること、 を特徴とする方法。 4. 下式よりなる群から選択される一般式を有する4a,5,9,10,1 1,12−ヘキサヒドロ−6H−ベンゾフロ[3a,3,2−ef][2]ベン ズアゼピン誘導体又はこれらの塩の製造方法であって、 及び 但し、R2、R4、X1及びX2は、同一であるか、又は異なっており、水素、 フッ素、塩素、臭素、ヨウ素、ヒドロキシル、アルコキシ、低級アルキルであっ て、少なくとも1つのハロゲンで任意に置換されたもの、低級アルケニル、低級 アルキニル、アリール、アラルキル、アリールオキシアルキル、ホルミル、アル キルカルボニル、アリールカルボニル、アラルキルカルボニル、アルキルオキシ カルボニル、アリールオキシカルボニル、アラルキルオキシカルボニル、アルキ ルスルホニル、アラルキルスルホニル及びアリールスルホニルよりなる群から選 択される; Y1及びY2は同一であるか又は異なっており、水素、フッ素、塩素、臭素 、ヨウ素、ヒドロキシル、アルコキシ、低級アルキルであって、少なくとも1つ のハロゲンで任意に置換されたもの、低級アルケニル、低級アルキニル、アリー ル、アラルキル、アリールオキシアルキル、ホルミル、アルキルカルボニル、ア リールカルボニル、アラルキルカルボニル、アルキルオキシカルボニル、アリー ルオキシカルボニル、アラルキルオキシカルボニル、アルキルスルホニル、アラ ルキルスルホニル、アリールスルホニルよりなる群から 選択されるか、又は一緒になって=O(ケトン)となる; Aは、ベンゼン核であり、該ベンゼン核は、低級アルキル、低級アルケン 、低級アルキン、アルコキシ、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素、少なくとも1つの ハロゲンによって置換されたアルキル、アラルキル、ヒドロキシル、1級アミノ 、2級アミノ、3級アミノ、ニトロ、ニトリル、アルキルアミノ、アリールアミ ノ、アルデヒド、カルボン酸、及びカルボン酸誘導体によって任意に一置換又は 多置換される; Z-は、薬学的に許容しうる有機酸のアニオン又は無機アニオンである; R5は水素、ホルミル、アルキル、アルケニル、アリール、アラルキル、 アルキルカルボニル、アリールカルボニル、アラルキルカルボニル、アルキルオ キシカルボニル、アリールオキシカルボニル、アラルキルオキシカルボニル、ア ルキルスルホニル、アリールスルホニル及びアラルキルスルホニルよりなる群か らから選択される; 一般式(Va)の化合物を、 但し、R1、R2、R3、R4、X1及びX2は請求の範囲第1項で定義したとお りであり、Z1及びZ2は=O、S、Nであり、R4が水素である場合はN−保護 基が一般式(Va)の化合物に任意に導入される; 酸化的環化にかけ、これを塩基と及び酸化剤と反応することによって一般式(Ia) の化合物を得ること、 (D)生じた一般式(I)の化合物(但し、Y1及びY2は一緒になって=O(ケ トン)である。)をケタール又はチオケタールに変換し、生じたケタール又はチ オケタールを還元し、ケタール又はチオケタール基を生じたナルヴェジンケター ルタイプの化合物から除去し、一般式(I)のラセミ化合物(但し、R4が水素 、アルキル、アルケニル、アルキニル、アリール及びアラルキルよりなる群から 選択される。)をキラルに誘導される結晶化によって対応するエナンチオマーに 変換し、生じたエナンチオマーをL−セレクトライド、K−セレクトライド、K S−セレクトライド又はLS−セレクトライドで一般式(I)の化合物に還元す ること、 を特徴とする方法。 5. 請求の範囲第1項から第4項の1に記載の方法であって、縮合反応(段 階B)が還流温度で溶媒中で行われ、生成する何れの水も分離除去することを特 徴とする方法。 6. 請求の範囲債1項から第5項の1に記載の方法であって、段階Bで得ら れた縮合生成物(シッフ塩基)の還元が、水素化ホウ素ナトリウム、水素化ホウ 素カリウム、ナトリウムシアノボロハイドライド、LiAlH4及びこれらの混 合物よりなる群から選択される還元剤で行われることを特徴とする方法。 7. 請求の範囲第1項から第6項の1に記載の方法であって、段階Cにおい て、一般式(V)又は(Va)の化合物を炭酸水素ナトリウム、炭酸カリウム、N aOH、KOH及びピリジンよりなる群から選択される塩基と反応することを特 徴とする方法。 8. 請求の範囲第1項から第7項の1に記載の方法であって、段階Cにおい て、一般式(V)又は(Va)の化合物をPb(OAc)4、KMnO4、塩化鉄、 フェリシアン化カリウム及びH2O2よりなる群から選択される酸化剤と反応する ことを特徴とする方法。 9. 請求の範囲第1項から第8項の1に記載の方法であって、段階Cにおけ る反応が、トルエン及びキシレンよりなる群から選択される溶媒中で行われるこ とを特徴とする方法。 10. 請求の範囲第3項から第9項の1に記載の方法であって、段階Dにお いて、一般式(I)又は(Ia)の化合物(但し、Y1及びY2は一緒になって=O (ケトン)である。)が、一般式(I)又は(Ia)の化合物を、アルコールR6 −OH及びチオールR6−SH(R6は、アルキル、アルケニル、アリール、アラ ルキル、アルキルカルボニル、アリールカルボニル及びアラルキルカルボニルよ りなる群から選択され、R6が少なくとも1つのハロゲンで任意に置換される。 )よりなる群から選択される化合物と反応することによってケタール又はチオケ タールに変換されることを特徴とする方法。 11. 請求の範囲第3項から第9項の1に記載の方法であって、段階Dにお いて、一般式(I)又は(Ia)の化合物(但し、Y1及びY2は一緒になって=O (ケトン)である。)が、一般式(I)の化合物を、ジオールR6(OH)2又は ジチオールR6(SH)2(但し、R6は請求の範囲第10項で定義したとおりで ある。)と反応することによってケタール又はチオケタールに変換されることを 特徴とする方法。 12. 請求の範囲第11項に記載の方法であって、段階Dにおいて、反応が プロピレングリコールで行われ、ケタールが形成されることを特徴とする方法。 13. 請求の範囲第3項から第12項の1に記載の方法であって、ケタール 又はチオケタールが、水素化ホウ素ナトリウム、水素化ホウ素カリウム、ナトリ ウムシアノボロハイドライド、LiAlH4、L−セレクトライド、DiBAl 、REDAl、K−セレクトライド、KS−セレクトライド、LS−セレクトラ イド、スーパーハイドライド、9−BBN、Zn/CaCl2及びこれらの混合 物よりなる群から選択される還元剤で還元されることを特徴とする方法。 14. 請求の範囲第13項に記載の方法であって、還元剤がLiAlH4で あることを特徴とする方法。 15. 請求の範囲第1項から第14項の1に記載の方法であって、得られた 化合物が一般式(II)の四級アンモニウム塩であること特徴とする方法。 16. 請求の範囲第15項に記載の方法であって、Z-がタータレート、ラ クテート、シトレート、アセテート、マレエート、フルオライド、クロライド、 ブロマイド、アイオダイド、サルフェート、ホスフェート、及びクロレートより なる群から選択されることを特徴とする方法。 17. 請求の範囲第16項に記載の方法であって、R1、R2及びR3が、水 素、アルキル、アルケニル、アリール、アラルキル、アルキルカルボニル、アリ ールカルボニル及びアラルキルカルボニルよりなる群から選択され、R1、R2及 びR3が、任意に少なくとも1つのハロゲンで任意に置換されることを特徴とす る方法。 18. 請求の範囲第1項から第16項の1つに記載の方法であって、R4及 びR5が、水素、ホルミル、アルキル、アルケニル、アリール、アラルキル、ア ルキルカルボニル、アリールカルボニル、アラルキルカルボニル、アルキルスル ホニル、アリールスルホニル及びアラルキルスルホニルよりなる群から選択され 、R4及びR5が、少なくとも1つのハロゲンで任意に置換されることを特徴とす る方法。 19. 請求の範囲第1項から第18項の1に記載の方法であって、X1及び X2が水素、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素及びt−ブチルよりなる群から選択さ れることを特徴とする方法。 20. 請求の範囲第1項から第19項の1に記載の方法であって、一般式( V)又は(Va)の窒素が酸化の前に、ホルミル、アラルキル、アルキルカルボニ ル、アリールカルボニル、アラルキルカルボニル、アラルキルオキシカルボニル 、アルキルスルホニル、アラルキルスルホニル及びアリールスルホニルよりなる 群から選択される化合物を導入することによって保護されることを特徴とする方 法。 21. 請求の範囲第20項に記載の方法であって、1から50倍モル量の蟻 酸エチルを触媒量の蟻酸の存在下で一般式(V)又は(Va)の化合物と反応する ことによってホルミル基が導入されることを特徴とする方法。 22. 請求の範囲第1項から第21項の1に記載の方法であって、一般式( V)の化合物が 但し、 R1、R2及びR3が、水素、アルキル、アリール、アラルキル、アルキ ルカルボニル、アリールカルボニル及びアラルキルカルボニルよりなる群から選 択され、 X1が臭素であり、 X2が水素であり、 R4が水素、ホルミル、アラルキル、アルキルカルボニル、アリールカ ルボニル、アラルキルカルボニル、アルキルオキシカルボニル、アリールオキシ カルボニル、アラルキルオキシカルボニル、アルキルスルホニル、アラルキルス ルホニル及びアリールスルホニルよりなる群から選択される; 一般式(V)の化合物を、 但し、R4はCHOであり、X1が水素である; 臭素化剤と反応することによって製造されることを特徴とする方法。 23. 請求の範囲第1項から第22項の1に記載の方法であって、一般式( V)の化合物が 但し、R2が水素、アルキル、アリール、アリールカルボニル、アラルキル 、アルキルカルボニル及びアリールカルボニルよりなる群から選択され、 X1が水素、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素及びt−ブチルよりなる群から選 択され、 R4が水素、ホルミル、アラルキル、アルキルカルボニル、アリールカルボ ニル、アラルキルカルボニル、アルコキシカルボニル、アリールオキシカルボニ ル、アラルキルオキシカルボニル、アルキルスルホニル、アラルキルスルホニル 及びアリールスルホニルよりなる群から選択される; R3が水素である; 塩基と及び酸化剤との反応により一般式(I)の化合物 但し、R2、R4及びX1は先に定義したとおりであり、 X2が水素又は臭素であり、 Y1及びY2が一緒になって=Oである; に環化されることを特徴とする方法。 24. 請求の範囲第23項に記載の方法であって、酸化的還元がアリカート のようなテトラアルキルアンモニウムクロライド、クラウンエーテル、アスコル ビン酸、塩化銅又はトリフルオロ酢酸又はこれらの混合物の存在下で行われるこ とを特徴とする方法。 25. 一般式(I)の化合物のモノメチル化の方法であって、一般式(I) の化合物を、 但し、R4は水素であり、 R2、R4、X1及びX2は、同一であるか、又は異なっており、水素、フッ素 、塩素、臭素、ヨウ素、ヒドロキシル又はアルコキシ、低級アルキルであって、 少なくとも1つのハロゲンで任意に置換されたもの、低級アルケニル、低級 アルキニル、アリール、アラルキル、アリールオキシアルキル、ホルミル、アル キルカルボニル、アリールカルボニル、アラルキルカルボニル、アルキルオキシ カルボニル、アリールオキシカルボニル、アラルキルオキシカルボニル、アルキ ルスルホニル、アラルキルスルホニル及びアリールスルホニルよりなる群から選 択される; Y1及びY2は同一であるか又は異なっており、水素、フッ素、塩素、臭素 、ヨウ素、ヒドロキシル、アルコキシ、低級アルキルであって、少なくとも1つ のハロゲンで任意に置換されたもの、低級アルケニル、低級アルキニル、アリー ル、アラルキル、アリールオキシアルキル、ホルミル、アルキルカルボニル、ア リールカルボニル、アラルキルカルボニル、アルキルオキシカルボニル、アリー ルオキシカルボニル、アラルキルオキシカルボニル、アルキルスルホニル、アラ ルキルスルホニル、アリールスルホニルよりなる群から選択されるか、又は一緒 になって=O(ケトン)となる; Aは、ベンゼン核であり、該ベンゼン核は、低級アルキル、低級アルケン 、低級アルキン、アルコキシ、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素、少なくとも1つの ハロゲンによって置換されたアルキル、アラルキル、ヒドロキシル、1級アミノ 、2級アミノ、3級アミノ、ニトロ、ニトリル、アルキルアミノ、アリールアミ ノ、アルデヒド、カルボン酸、及びカルボン酸誘導体によって任意に一置換又は 多置換される; 蟻酸及びホルムアルデヒドでメチル化することを特徴とする方法。 26. 一般式(I)の化合物の脱臭素化の方法であって、一般式(I)の化 合物を、 但し、X1は臭素である; R2、R4、X1及びX2は、同一であるか、又は異なっており、水素、フッ素 、塩素、臭素、ヨウ素、ヒドロキシル又はアルコキシ、低級アルキルであって、 少なくとも1つのハロゲンで任意に置換されたもの、低級アルケニル、低級アル キニル、アリール、アラルキル、アリールオキシアルキル、ホルミル、アルキル カルボニル、アリールカルボニル、アラルキルカルボニル、アルキルオキシカル ボニル、アリールオキシカルボニル、アラルキルオキシカルボニル、アルキルス ルホニル、アラルキルスルホニル及びアリールスルホニルよりなる群から選択さ れる; Y1及びY2は同一であるか又は異なっており、水素、フッ素、塩素、臭素 、ヨウ素、ヒドロキシル、アルコキシ、低級アルキルであって、少なくとも1つ のハロゲンで任意に置換されたもの、低級アルケニル、低級アルキニル、アリー ル、アラルキル、アリールオキシアルキル、ホルミル、アルキルカルボニル、ア リールカルボニル、アラルキルカルボニル、アルキルオキシカルボニル、アリー ルオキシカルボニル、アラルキルオキシカルボニル、アルキルスルホニル、アラ ルキルスルホニル、アリールスルホニルよりなる群から選択されるか、又は一緒 になって=O(ケトン)となる; Aは、ベンゼン核であり、該ベンゼン核は、低級アルキル、低級アルケン 、低級アルキン、アルコキシ、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素、少なくとも1つの ハロゲンによって置換されたアルキル、アラルキル、ヒドロキシル、1級アミノ 、2級アミノ、3級アミノ、ニトロ、ニトリル、アルキルアミノ、ア リールアミノ、アルデヒド、カルボン酸、及びカルボン酸誘導体によって任意に 一置換又は多置換される; a)蟻酸、トリエチルアミン及びパラジウム/活性炭、又は b)アルコール中の金属亜鉛末及びCaCl2 よりなる混合物と脱ブロム化のために反応することを特徴とする方法。 27. N−脱メチルブロモガランタミン及びN−脱メチル−エピブロモガラ ンタミンのタイプの化合物を製造するための方法であって、一般式(I)の化合 物を、 但し、 R2、はアルキルであり、 X1は臭素であり、 R4はCHOであり、 X2は水素であり、 Y1及びY2は=Oであり、 Aは、ベンゼン核であり、該ベンゼン核は、低級アルキル、低級アルケン、 低級アルキン、アルコキシ、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素、少なくとも1つのハ ロゲンによって置換されたアルキル、アラルキル、ヒドロキシル、1級アミノ、 2級アミノ、3級アミノ、ニトロ、ニトリル、アルキルアミノ、アリールアミノ 、アルデヒド、カルボン酸、及びカルボン酸誘導体によって任意に一置換又は多 置換される; 還元することを特徴とする方法。 28. 請求の範囲第27項に記載の方法であって、還元がDIBAl−H、 REDAl又はスーパーハイドライド、L−セレクトライド、K−セレクトライ ド、KS−セレクトライド又はLS−セレクトライドで行われることを特徴とす る方法。 29. 請求の範囲第1項から第24項に1に記載の方法であって、キラルな 酸が、ジベンゾイル酒石酸、ジ−p−トルオイル酒石酸、酒石酸、クエン酸、樟 脳酸、カンファン酸、カンファースルホン酸又はマンデル酸よりなる群から選択 されることを特徴とする方法。 30. 請求の範囲第29項に記載の方法であって、キラルな酸が(+)−ジ −p−トルオイル−D−酒石酸及び(−)ジ−p−トルオイル−L−酒石酸より なる群から選択されることを特徴とする方法。 31.請求の範囲第3項から第30項の1に記載の方法であって、Y1及びY2 がOR6及びOR5Oよりなる群から選択され、X1が臭素であり、R4がCHOで ある方法。 32. (a)下式のブロモガランタミン (b)下式のエピブロモガランタミン (c)下式のN−脱メチルブロモガランタミン (d)下式のN−脱メチルエピブロモガランタミン (e)下式のブロモ−N−ホルミル−ナルヴェジンプロピレングリコールケター ル (f)下式のナルヴェジンプロピレングリコールケタール (g)下式のブロモ−N−ホルミル−ナルヴェジンエチレングリコールケタール (h)下式のナルヴェジンエチレングリコールケタール (i)下式のO−(2−ヒドロキシエチル)−ガランタミン (j)下式のブロモ−N−脱メチル−ナルヴェジンエチレングリコールケタール (k)下式のブロモ−N−ベンジル−ナルヴェジンエチレングリコールケタール (l)下式のブロモ−N−脱メチルナルヴェジン (n) (o) よりなる群から選択される新規化合物。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (81)指定国 EP(AT,BE,CH,DE, DK,ES,FR,GB,GR,IE,IT,LU,M C,NL,PT,SE),OA(BF,BJ,CF,CG ,CI,CM,GA,GN,ML,MR,NE,SN, TD,TG),AP(KE,LS,MW,SD,SZ,U G),AM,AT,AU,BB,BG,BR,BY,C A,CH,CN,CZ,DE,DK,EE,ES,FI ,GB,GE,HU,IS,JP,KE,KG,KP, KR,KZ,LK,LR,LT,LU,LV,MD,M G,MN,MW,MX,NO,NZ,PL,PT,RO ,RU,SD,SE,SG,SI,SK,TJ,TM, TT,UA,UG,US,UZ,VN (72)発明者 ヨルディス、 ウルリヒ オーストリア国、エー − 1190 ウィー ン、ホフツァイレ 6 (72)発明者 キュエンブルク、 べルンハルト オーストリア国、エー − 1190 ウィー ン、ビルロトシュトラーセ 39/3/10

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1. 下式よりなる群から選択される一般式を有する4a,5,9,10,1 1,12−ヘキサヒドロ−6H−ベンゾフロ[3a,3,2−ef][2]ベン ズアゼピン誘導体又はこれらの塩の製造方法であって、 及び 但し、R2、R4、X1及びX2は、同一であるか、又は異なっており、水素、 フッ素、塩素、臭素、ヨウ素、ヒドロキシル、アルコキシ、低級アルキルであっ て、少なくとも1つのハロゲンで任意に置換されたもの、低級アルケニル、低級 アルキニル、アリール、アラルキル、アリールオキシアルキル、ホルミル、アル キルカルボニル、アリールカルボニル、アラルキルカルボニル、アルキルオキシ カルボニル、アリールオキシカルボニル、アラルキルオキシカルボニル、アルキ ルスルホニル、アラルキルスルホニル及びアリールスルホニルよりなる群から選 択される; Y1及びY2は同一であるか又は異なっており、水素、フッ素、塩素、臭素 、ヨウ素、ヒドロキシル、アルコキシ、低級アルキルであって、少なくとも1つ のハロゲンで任意に置換されたもの、低級アルケニル、低級アルキニ ル、アリール、アラルキル、アリールオキシアルキル、ホルミル、アルキルカル ボニル、アリールカルボニル、アラルキルカルボニル、アルキルオキシカルボニ ル、アリールオキシカルボニル、アラルキルオキシカルボニル、アルキルスルホ ニル、アラルキルスルホニル、アリールスルホニルよりなる群から選択されるか 、又は一緒になって=O(ケトン)となる; Aは、ベンゼン核であり、該ベンゼン核は、低級アルキル、低級アルケン 、低級アルキン、アルコキシ、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素、少なくとも1つの ハロゲンによって置換されたアルキル、アラルキル、ヒドロキシル、1級アミノ 、2級アミノ、3級アミノ、ニトロ、ニトリル、アルキルアミノ、アリールアミ ノ、アルデヒド、カルボン酸、及びカルボン酸誘導体によって任意に一置換又は 多置換される; Z-は、薬学的に許容しうる有機酸のアニオン又は無機アニオンである; R5は水素、ホルミル、アルキル、アルケニル、アリール、アラルキル、 アルキルカルボニル、アリールカルボニル、アラルキルカルボニル、アルキルオ キシカルボニル、アリールオキシカルボニル、アラルキルオキシカルボニル、ア ルキルスルホニル、アリールスルホニル及びアラルキルスルホニルよりなる群か らから選択される; (A)一般式(III)の化合物を、 但し、R1及びR2は水素、少なくとも1つのハロゲンで任意に置換されたア ルキル、アルケニル、アリール、アリールカルボニル、アラルキル、アルキルカ ルボニル、及びアラルキルカルボニルよりなる群から選択される。 X1は、水素、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素及びターシャリー−ブチルで ある; (B)一般式(IV)の化合物と縮合し、還元して、 但し、R3は、水素、アルキル、アルケニル、アリール、アラルキル、アル キルカルボニル、アリールカルボニル及びアラルキルオキシカルボニルよりなる 群から選択され、R3基は少なくとも1つのハロゲンで任意に置換される; 一般式(V)の化合物を得ること、 更に、R4が水素である場合、N−保護基を一般式(V)の化合物に任意に導入 すること、 (C)生じた一般式(V)の化合物を酸化的環化にかけること、 (D)生じた一般式(I)の化合物(但し、Y1及びY2は一緒になって=O(ケ トン)である。)を一般式(I)の化合物に還元すること を特徴とする方法。 2. 請求の範囲第1項に記載の方法であって、得られた化合物が一般式(II )の四級アンモニウム塩であることを特徴とする方法。 3. 請求の範囲第1項又は第2項に記載の方法であって、Z-がタータレー ト、ラクテート、シトレート、アセテート、マレエート、フルオライド、クロラ イド、ブロマイド、アイオダイド、サルフェート、ホスフェート、及びクロレー トよりなる群から選択されることを特徴とする方法。 4. 請求の範囲第1項から3項の1つに記載の方法であって、R1、R2及び R3が、水素、アルキル、アルケニル、アリール、アラルキル、アルキルカルボ ニル、アリールカルボニル及びアラルキルカルボニルよりなる群から選択され、 R1、R2及びR3が、任意に少なくとも1つのハロゲンで任意に置換されること を特徴とする方法。 5. 請求の範囲第1項から第4項の1つに記載の方法であって、R4及びR5 が、水素、ホルミル、アルキル、アルケニル、アリール、アラルキル、アルキル カルボニル、アリールカルボニル及びアラルキルカルボニル、アルキルスルホニ ル、アリールスルホニル及びアラルキルスルホニルよりなる群から選択され、R4 及びR5が、少なくとも1つのハロゲンで任意に置換されることを特徴とする方 法。 6. 請求の範囲第1項から第5項の1に記載の方法であって、X1及びX2が 水素、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素及びt−ブチルよりなる群から選択されるこ とを特徴とする方法。 7. 請求の範囲第1項から第6項の1に記載の方法であって、Y1及びY2が 、水素、=O(ケトン)及びO−R6(R6は、水素、アルキル、アルケニル、ア リール、アラルキル、アルキルカルボニル、アリールカルボニル及びアラルキル カルボニルよりなる群から選択され、R6が少なくとも1つのハロゲンで任意に 置換される。)よりなる群から選択されることを特徴とする方法。 8. 請求の範囲第1項から第7項の1に記載の方法であって、縮合反応が還 流温度で溶媒中において行われ、形成された水を分離除去し、溶媒を分離除去し た後に得られた縮合生成物(シッフ塩基)を還元することを特徴とする方法。 9. 請求の範囲第1項から第8項に記載の方法であって、還元剤が、水素化 ホウ素ナトリウム、水素化ホウ素カリウム、ナトリウムシアノボロハイドライド 、LiAlH4、L−セレクトライド、DiBAl、REDAl、K−セレクト ライド、KS−セレクトライド、LS−セレクトライド、スーパーハイドライド 、9−BBN、Zn/CaCl2及びこれらの混合物よりなる群から選択される ことを特徴とする方法。 10. 請求の範囲第9項に記載の方法であって、還元剤がL−セレクトライ ドであることを特徴とする方法。 11. 請求の範囲第1項から第10項の1に記載の方法であって、一般式( V)の化合物の窒素が酸化の前に、ホルミル、アラルキル、アルキルカルボニル 、アリールカルボニル、アラルキルカルボニル、アラルキルオキシカルボニル、 アルキルスルホニル、アラルキルスルホニル及びアリールスルホニルよりなる群 から選択される化合物を導入することによって保護されることを特徴とする方法 。 12. 請求の範囲第11項に記載の方法であって、1から50倍モル量の蟻 酸エチルを触媒量の蟻酸の存在下で一般式(V)の化合物と反応することによっ てホルミル基が導入されることを特徴とする方法。 13. 請求の範囲第1項から第12項の1に記載の方法であって、一般式( V)の化合物が 但し、 R1、R2及びR3が、水素、アルキル、アリール、アラルキル、アルキ ルカルボニル、アリールカルボニル及びアラルキルカルボニルよりなる群から選 択され、 X1が臭素であり、 X2が水素であり、 R4が水素、ホルミル、アラルキル、アルキルカルボニル、アリールカ ルボニル、アラルキルカルボニル、アルキルオキシカルボニル、アリールオキシ カルボニル、アラルキルオキシカルボニル、アルキルスルホニル、アラルキルス ルホニル及びアリールスルホニルよりなる群から選択される; 一般式(V)の化合物を、 但し、R4はCHOであり、X1が水素である; 臭素化剤と反応することによって製造されることを特徴とする方法。 14. 請求の範囲第1項から第13項の1に記載の方法であって、一般式( V)の化合物が 但し、R2が水素、アルキル、アリール、アリールカルボニル、アラルキル 、アルキルカルボニル及びアリールカルボニルよりなる群から選択され、 X1が水素、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素及びt−ブチルよりなる群から選 択され、 R4が水素、ホルミル、アラルキル、アルキルカルボニル、アリールカルボ ニル、アラルキルカルボニル、アルコキシカルボニル、アリールオキシカルボニ ル、アラルキルオキシカルボニル、アルキルスルホニル、アラルキルスルホニル 及びアリールスルホニルよりなる群から選択される; R3が水素である; 塩基と及び酸化剤との反応により一般式(I)の化合物 但し、R2、R4及びX1は先に定義したとおりであり、 X2が水素又は臭素であり、 Y1及びY2が一緒になって=O(ケトン)である; に環化されることを特徴とする方法。 15. 請求の範囲第14項に記載の方法であって、該塩基が、炭酸水素ナト リウム、炭酸カリウム、NaOH、KOH、ピリジンよりなる群から選択され、 該酸化剤がPb(PAc)4、KMnO4、塩化鉄、フェリシアン化カリウム、及 びH2O2から選択されることを特徴とする方法。 16. 請求の範囲第14項又は第15項に記載の方法であって、酸化的環化 が、アリカートのようなテトラアルキルアンモニウムクロライド、クラウンエー テル、アスコルビン酸、塩化銅又はトリフルオロ酢酸又はこれらの混合物の存在 下で行われることを特徴とする方法。 17. 請求の範囲第1項から第16項の1に記載の方法であって、一般式( I)(但し、Y1及びY2が一緒になって=O(ケトン)である。)の化合物を一 般式(I)(但し、Y1=OH、Y2=Hである。)の化合物に還元することを特 徴とする方法。 18. 請求の範囲第17項に記載の方法であって、還元剤がL−セレクトラ イドであることを特徴とする方法。 19. 請求の範囲第17項又は18項に記載の方法であって、式(I)の化 合物が、ジオキサン、エーテル及びテトラヒドロフランよりなる群から選択され る溶媒に溶解されることを特徴とする方法。 但し、一般式(I)の化合物は R2が水素、低級アルキル、アリール、アラルキル、アルキルカルボニル 、アリールカルボニル及びアラルキルカルボニルよりなる群から選択され、 X1及びX2が、水素、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素及びt−ブチル夜なる 群から選択され、 R4が水素、ホルミル、アラルキル、アルキルカルボニル、アリールカル ボニル、アラルキルカルボニル、アルキルオキシカルボニル、アリールオキシカ ルボニル、アラルキルオキシカルボニル、アルキルスルホニル、アラルキルスル ホニル及びアリールスルホニルよりなる群から選択され、 Y1及びY2が一緒になって=O(ケトン)となる;である。 20. 請求の範囲第1項から第20項の1に記載の方法であって、還元剤と 形成された錯体が水及び水酸化アンモニウムを添加することによって分解され、 生成物が単離されることを特徴とする方法。 21. 請求の範囲第1項から第20項の1に記載の方法であって、(−)ガ ランタミンが(−)ナルヴェジンから化合物(I)として製造されることを特徴 とする方法。 22. 一般式(I)の化合物のモノメチル化の方法であって、一般式(I) の化合物を、 但し、R4は水素であり、 R2、R4、X1及びX2は、同一であるが、又は異なっており、水素、フッ素 、塩素、臭素、ヨウ素、ヒドロキシル又はアルコキシ、低級アルキルで あって、少なくとも1つのハロゲンで任意に置換されたもの、低級アルケニル、 低級アルキニル、アリール、アラルキル、アリールオキシアルキル、ホルミル、 アルキルカルボニル、アリールカルボニル、アラルキルカルボニル、アルキルオ キシカルボニル、アリールオキシカルボニル、アラルキルオキシカルボニル、ア ルキルスルホニル、アラルキルスルホニル及びアリールスルホニルよりなる群か ら選択される; Y1及びY2は同一であるか又は異なっており、水素、フッ素、塩素、臭素 、ヨウ素、ヒドロキシル、アルコキシ、低級アルキルであって、少なくとも1つ のハロゲンで任意に置換されたもの、低級アルケニル、低級アルキニル、アリー ル、アラルキル、アリールオキシアルキル、ホルミル、アルキルカルボニル、ア リールカルボニル、アラルキルカルボニル、アルキルオキシカルボニル、アリー ルオキシカルボニル、アラルキルオキシカルボニル、アルキルスルホニル、アラ ルキルスルホニル、アリールスルホニルよりなる群から選択されるか、又は一緒 になって=O(ケトン)となる; Aは、ベンゼン核であり、該ベンゼン核は、低級アルキル、低級アルケン 、低級アルキン、アルコキシ、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素、少なくとも1つの ハロゲンによって置換されたアルキル、アラルキル、ヒドロキシル、1級アミノ 、2級アミノ、3級アミノ、ニトロ、ニトリル、アルキルアミノ、アリールアミ ノ、アルデヒド、カルボン酸、及びカルボン酸誘導体によって任意に一置換又は 多置換される; 蟻酸及びホルムアルデヒドでメチル化することを特徴とする方法。 23. 一般式(I)の化合物の脱臭素化の方法であって、一般式(I)の化 合物を、 但し、X1は臭素である; R2、R4、X1及びX2は、同一であるが、又は異なっており、水素、フッ素 、塩素、臭素、ヨウ素、ヒドロキシル又はアルコキシ、低級アルキルであって、 少なくとも1つのハロゲンで任意に置換されたもの、低級アルケニル、低級アル キニル、アリール、アラルキル、アリールオキシアルキル、ホルミル、アルキル カルボニル、アリールカルボニル、アラルキルカルボニル、アルキルオキシカル ボニル、アリールオキシカルボニル、アラルキルオキシカルボニル、アルキルス ルホニル、アラルキルスルホニル及びアリールスルホニルよりなる群から選択さ れる; Y1及びY2は同一であるか又は異なっており、水素、フッ素、塩素、臭素 、ヨウ素、ヒドロキシル、アルコキシ、低級アルキルであって、少なくとも1つ のハロゲンで任意に置換されたもの、低級アルケニル、低級アルキニル、アリー ル、アラルキル、アリールオキシアルキル、ホルミル、アルキルカルボニル、ア リールカルボニル、アラルキルカルボニル、アルキルオキシカルボニル、アリー ルオキシカルボニル、アラルキルオキシカルボニル、アルキルスルホニル、アラ ルキルスルホニル、アリールスルホニルよりなる群から選択されるが、又は一緒 になって=O(ケトン)となる; Aは、ベンゼン核であり、該ベンゼン核は、低級アルキル、低級アルケン 、低級アルキン、アルコキシ、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素、少なくとも1つの ハロゲンによって置換されたアルキル、アラルキル、ヒドロキシル、1級アミノ 、2級アミノ、3級アミノ、ニトロ、ニトリル、アルキルアミノ、アリールアミ ノ、アルデヒド、カルボン酸、及びカルボン酸誘導体によって任意に一置換又は 多置換される; 酸と、塩基と及び触媒と反応することを特徴とする方法。 24. 請求の範囲第23項に記載の方法であって、脱臭素化が、 (a)蟻酸及びトリエチルアミン (b)パラジウム/活性炭 (c)アルコール中の金属亜鉛末及びCaCl2 よりなる群から選択される混合物で行われることを特徴とする方法。 25. (+/−)ブロモガランタミン及び(+/−)エピブロモガランタミ ンよりなる群から選択される化合物を製造するための方法であって、一般式(I )の化合物を、 但し、 R2はアルキルであり、 X1は臭素であり、 R4はCHOであり、 X2は水素であり、 Y1及びY2は=O(ケトン)であり、 Aは、ベンゼン核であり、該ベンゼン核は、低級アルキル、低級アルケン、 低級アルキン、アルコキシ、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素、少なくとも1つのハ ロゲンによって置換されたアルキル、アラルキル、ヒドロキシル、1級アミノ、 2級アミノ、3級アミノ、ニトロ、ニトリル、アルキルアミノ、アリールアミノ 、アルデヒド、カルボン酸、及びカルボン酸誘導体によって任意に一置換又は多 置換される; DIBAL−Hで還元することを特徴とする方法。 26. 請求の範囲第1項から25項の1に記載の方法であって、R4が水素 、アルキル、アルケニル、アルキニル、アリール及びアラルキルよりなる群から 選択される一般式(I)のラセミ化合物が、キラルな酸を用いた結晶化によって 対応するエナンチオマーに分割されることを特徴とする方法。 27. 請求の範囲第26項に記載の方法であって、キラルな酸が、ジベンゾ イル酒石酸、ジ−p−トルオイル酒石酸、酒石酸、クエン酸、樟脳酸、カンファ ン酸、カンファースルホン酸又はマンデル酸よりなる群から選択されることを特 徴とする方法。 28. 請求の範囲第27項に記載の方法であって、キラルな酸が、(+)− ジ−p−トルオイル−D−酒石酸及び(−)ジ−p−トルオイル−L−酒石酸よ りなる群から選択されることを特徴とする方法。 29. 請求の範囲第1項から第28項の1に記載の方法であって、式(I) の化合物が、 但し、R2、R4、X1及びX2は、同一であるか、又は異なっており、水素、 フッ素、塩素、臭素、ヨウ素、ヒドロキシル、アルコキシ、低級アルキルであっ て、少なくとも1つのハロゲンで任意に置換されたもの、低級アルケニル、低級 アルキニル、アリール、アラルキル、アリールオキシアルキル、ホルミル、アル キルカルボニル、アリールカルボニル、アラルキルカルボニル、アルキルオキシ カルボニル、アリールオキシカルボニル、アラルキルオキシカルボニル、アルキ ルスルホニル、アラルキルスルホニル及びアリールスルホニルよりなる群から選 択される; Y1及びY2は一緒になって=O(ケトン)となる; Aは、ベンゼン核であり、該ベンゼン核は、低級アルキル、低級アルケン 、低級アルキン、アルコキシ、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素、少なくとも1つの ハロゲンによって置換されたアルキル、アラルキル、ヒドロキシル、1級アミノ 、2級アミノ、3級アミノ、ニトロ、ニトリル、アルキルアミノ、アリールアミ ノ、アルデヒド、カルボン酸、及びカルボン酸誘導体によって任意に一置換又は 多置換される; 還元される前に、一般式(I)の化合物をアルコール、R6−OH及びチオール R6−SH(但し、R6はアルキル、アルケニル、アリール、アラルキル、アル キルカルボニル、アリールカルボニル及びアラルキルカルボニルよりなる群から 選択され、R6は少なくとも1つのハロゲンで任意に置換される。)よりなる群 から選択される化合物と反応することによってケタール又はチオケタールに変換 されることを特徴とする方法。 30. 請求の範囲第1項から第28項の1に記載の方法であって、一般式( Va)の化合物を 但し、R1、R2、R3、R4、X1及びX2は請求の範囲第1項で定義したとお りであり、Z1及びZ2は=O、S、Nである; 酸化的環化にかけ、一般式(Ia)の化合物を得、 但し、R1、R2、R3、R4、X1及びX2は請求の範囲第1項で定義したとお りであり、Z1及びZ2は=O、S、Nである; 次いで、生成物を対応するケタール又はチオケタールに変換し、還元剤で還元し 、ケタール又はチオケタールの脱離によって対応するナルヴェジンタイプの化合 物へ変換することを特徴とする方法。 31. 請求の範囲第29項又は30項に記載の方法であって、ケタールを形 成するために、ジオールR6(OH)2及びジチオールR6(SH)2よりなる群か ら選択される化合物を使用することを特徴とする方法。 32. 請求の範囲第29項から第31項の1に記載の方法であって、一般式 (I)のケタールが還元剤で還元されることを特徴とする方法。 33. 請求の範囲債29項から第32項の1に記載の方法であって、Y1及 びY2がOR6及びOR6Oよりなる群から選択され、X1が臭素であり、R4がC HOである方法。 34. 請求の範囲第29項から第33項の1に記載の方法であって、還元剤 が、水素化ホウ素ナトリウム、水素化ホウ素カリウム、ナトリウムシアノボロハ イドライド、LiAlH4、L−セレクトライド、DiBAl、REDAl、K −セレクトライド、KS−セレクトライド、LS−セレクトライド、スーパーハ イドライド、9−BBN、Zn/CaCl2及びこれらの混合物よりなる群から 選択されることを特徴とする方法。 35. 請求の範囲第第34項に記載の方法であって、還元剤がL−セレクト ライドであることを特徴とする方法。 36. 請求の範囲第29項から第35項の1に記載の方法であって、反応混 合物が、塩基でアルカリ性にされ、所望の生成物を分離することを特徴とする方 法。 37. 請求の範囲第29項から第35項の1に記載の方法であって、反応溶 液が酸で処理され、該溶液が塩基でアルカリ性にされ、所望の生成物が分離され ることを特徴とする方法。 38. (a)下式のブロモガランタミン (b)下式のエピブロモガランタミン (c)下式のN−脱メチルブロモガランタミン (d)下式のN−脱メチルエピブロモガランタミン (e)下式のブロモ−N−ホルミル−ナルヴェジンプロピレングリコールケター ル (f)下式のナルヴェジンプロピレングリコールケタール (g)下式のブロモ−N−ホルミル−ナルヴェジンエチレングリコールケタール (h)下式のナルヴェジンエチレングリコールケタール (i)下式のO−(2−ヒドロキシエチル)−ガランタミン (j)下式のブロモ−N−脱メチル−ナルヴェジンエチレングリコールケタール (k)下式のブロモ−N−ベンジル−ナルヴェジンエチレングリコールケタール (l)下式のブロモ−N−脱メチルナルヴェジン (m) (n) (o) よりなる群から選択される新規化合物。
JP51352796A 1994-10-21 1995-10-23 4a,5,9,10,11,12−ヘキサヒドロ−6H−ベンゾフロ[3a,3,2−ef][2]ベンズアゼピン誘導体の製造方法 Expired - Fee Related JP4187786B2 (ja)

Applications Claiming Priority (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
AT198094A AT401058B (de) 1994-10-21 1994-10-21 Verfahren zum herstellen von derivaten des 4a,5, 9,10,11,12,-hexahydro-6h-benzofuro(3a,-3,2-ef) (2)benzazepins
US48710295A 1995-06-07 1995-06-07
US08/487,102 1995-06-07
US1980/94 1995-06-07
PCT/AT1995/000208 WO1996012692A1 (de) 1994-10-21 1995-10-23 VERFAHREN ZUM HERSTELLEN VON DERIVATEN DES 4a,5,9,10,11,12,-HEXAHYDRO-6H-BENZOFURO[3a,3,2-ef][2]BENZAZEPINS

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH10507457A true JPH10507457A (ja) 1998-07-21
JP4187786B2 JP4187786B2 (ja) 2008-11-26

Family

ID=25597335

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP51352796A Expired - Fee Related JP4187786B2 (ja) 1994-10-21 1995-10-23 4a,5,9,10,11,12−ヘキサヒドロ−6H−ベンゾフロ[3a,3,2−ef][2]ベンズアゼピン誘導体の製造方法

Country Status (27)

Country Link
US (1) US6043359A (ja)
EP (1) EP0787115B1 (ja)
JP (1) JP4187786B2 (ja)
KR (1) KR100352212B1 (ja)
CN (1) CN1069624C (ja)
AT (1) ATE188460T1 (ja)
AU (1) AU695352B2 (ja)
BG (1) BG62133B1 (ja)
BR (1) BR9509406A (ja)
CA (1) CA2203183C (ja)
CZ (1) CZ295528B6 (ja)
DE (1) DE59507585D1 (ja)
DK (1) DK0787115T3 (ja)
ES (1) ES2106700T3 (ja)
FI (1) FI114477B (ja)
GR (2) GR980300015T1 (ja)
HU (1) HU217207B (ja)
MX (1) MX9702892A (ja)
NO (2) NO313234B1 (ja)
NZ (1) NZ294191A (ja)
PL (1) PL184590B1 (ja)
PT (1) PT787115E (ja)
RO (1) RO118419B1 (ja)
RU (1) RU2146258C1 (ja)
SI (1) SI0787115T1 (ja)
SK (1) SK283877B6 (ja)
WO (1) WO1996012692A1 (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010523658A (ja) * 2007-04-12 2010-07-15 シノファーム タイワン,リミテッド ガランタミンの製造方法

Families Citing this family (28)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB9519267D0 (en) * 1995-09-21 1995-11-22 Chiroscience Ltd Preparation of alkaloids
AT403803B (de) * 1996-04-19 1998-05-25 Sanochemia Ltd Neue benzazepinderivate, diese enthaltende arzneimittel und verwendung derselben zum herstellen von arzneimitteln
GB9610887D0 (en) * 1996-05-24 1996-07-31 N H S Trust Process
GB9707413D0 (en) * 1997-04-11 1997-05-28 Chiroscience Ltd Process
PL202463B1 (pl) 2000-03-31 2009-06-30 Sanochemia Pharmazeutika Ag Pochodne galantaminy, sposób ich wytwarzania, środek leczniczy zawierajacy te pochodne, zastosowanie pochodnej galantaminy do wytwarzania środków leczniczych, sposób wytwarzania środków leczniczych oraz sposób oddzielania (+)- i (-)-izomerów
US6897228B2 (en) * 2000-07-07 2005-05-24 Medicure International Inc. Pyridoxine and pyridoxal analogues: new uses
WO2002061457A2 (en) * 2001-01-30 2002-08-08 Decharms R Christopher Methods for physiological monitoring, training, exercise and regulation
DE10129265A1 (de) * 2001-06-18 2003-01-02 Hf Arzneimittelforsch Gmbh Wirkstoff-Kombination zur medikamentösen Sucht- oder Rauschmitteltherapie
DE10134038A1 (de) * 2001-07-12 2003-02-06 Hf Arzneimittelforsch Gmbh Wirkstoff-Kombination zur medikamentösen Therapie der Nikotinabhängigkeit
AT414125B (de) * 2003-09-29 2006-09-15 Sanochemia Pharmazeutika Ag Neue derivate des 4a,5,9,10,11,12-hexahydro- benzofuro(3a,3,2)(2) benzazepin, verfahren zu deren herstellung sowie deren verwendung zur herstellung von arzneimitteln
CA2506282A1 (en) * 2003-09-29 2005-04-07 Sanochemia Pharmazeutika Ag Use of galanthamine and the derivatives thereof in the production of medicaments
WO2005065662A1 (en) * 2003-12-31 2005-07-21 Actavis Group Hf Solid dosage formulations of galantamine
WO2005065661A2 (en) * 2003-12-31 2005-07-21 Actavis Group Hf Immediate, controlled and sustained release formulations of galanthamine
WO2006013546A2 (en) * 2004-07-28 2006-02-09 Ranbaxy Laboratories Limited Process for the preparation of pure galantamine
WO2006046096A2 (en) * 2004-08-16 2006-05-04 Ranbaxy Laboratories Limited A polymorphic form of narwedine and its use in the synthesis of galantamine
EP1885727B1 (en) * 2005-05-03 2010-03-03 Medichem, S.A. Syntheses and preparations of narwedine and related novel compounds
AT504663B1 (de) * 2007-02-22 2008-07-15 Sanochemia Pharmazeutika Ag Verfahren zum herstellen von hochreinen 4a,5,9,10,11,12,-hexahydro-6h-benzofuro(3a,3,2- f)(2) benzazepinen sowie dessen derivaten
EP2009015B1 (en) 2007-06-18 2012-01-11 Aurobindo Pharma Limited Process for the preparation of galantamine hydrobromide
AT507039A1 (de) * 2008-06-26 2010-01-15 Sanochemia Pharmazeutika Ag Verfahren zum herstellen von hochreinen benzazepinderivaten
DE102008056086A1 (de) * 2008-11-06 2010-05-12 Gp Solar Gmbh Additiv für alkalische Ätzlösungen, insbesondere für Texturätzlösungen sowie Verfahren zu dessen Herstellung
WO2013160728A1 (en) 2012-04-26 2013-10-31 Alma Mater Studiorum - Universita' Di Bologna Dual targeting compounds for the treatment of alzheimer's disease
CN102924462B (zh) * 2012-10-24 2015-01-14 华东师范大学 1,2,3,4,5,9-取代苯并吖庚因类化合物的合成方法
CN103345954B (zh) * 2013-06-20 2016-06-08 哈尔滨工业大学 一种高锰酸盐与活性炭联用去除放射性碘污染的水处理方法
CN109336897A (zh) * 2018-12-06 2019-02-15 河南中帅医药科技股份有限公司 一种氢溴酸加兰他敏工业化制备方法
CN112521395B (zh) * 2019-09-17 2023-09-05 鲁南制药集团股份有限公司 一种加兰他敏的制备方法
CN112521364B (zh) * 2019-09-17 2023-09-05 鲁南制药集团股份有限公司 一种加兰他敏中间体化合物v
CN110714208B (zh) * 2019-10-30 2020-12-29 常州工学院 一种电催化制备6-(磺酰甲基)菲啶类化合物的方法
CN118908968B (zh) * 2024-10-09 2025-03-04 威胜生物医药(苏州)股份有限公司 一种加兰他敏中间体衍生物及其催化氧化制备方法

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
BG28325A1 (en) * 1978-11-21 1980-04-15 Vlakhov Method of obtaining of enons navedine type and their derivatives
US4290862A (en) * 1979-11-14 1981-09-22 Edinen Centar P Chimia Method for the preparation of narwedine-type enones
US4663318A (en) * 1986-01-15 1987-05-05 Bonnie Davis Method of treating Alzheimer's disease
JP2755403B2 (ja) * 1987-05-04 1998-05-20 デイービス、ボニー アルツハイマー病の治療のための化合物
US5428159A (en) * 1994-04-08 1995-06-27 Ciba-Geigy Corporation Method of manufacture of (-)-galanthamine in high yield and purity substantially free of epigalanthamine

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010523658A (ja) * 2007-04-12 2010-07-15 シノファーム タイワン,リミテッド ガランタミンの製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
FI114477B (fi) 2004-10-29
RO118419B1 (ro) 2003-05-30
CA2203183A1 (en) 1996-05-02
BG101417A (en) 1997-12-30
FI971609L (fi) 1997-06-02
AU3693895A (en) 1996-05-15
WO1996012692A1 (de) 1996-05-02
BR9509406A (pt) 1998-11-03
NO971645D0 (no) 1997-04-10
EP0787115B1 (de) 2000-01-05
HU217207B (hu) 1999-12-28
SK48397A3 (en) 1997-11-05
PL319754A1 (en) 1997-08-18
CN1069624C (zh) 2001-08-15
NO971796L (no) 1997-05-28
KR100352212B1 (ko) 2003-04-18
AU695352B2 (en) 1998-08-13
EP0787115A1 (de) 1997-08-06
ES2106700T1 (es) 1997-11-16
MX9702892A (es) 1998-07-31
PL184590B1 (pl) 2002-11-29
RU2146258C1 (ru) 2000-03-10
NZ294191A (en) 1998-10-28
BG62133B1 (bg) 1999-03-31
JP4187786B2 (ja) 2008-11-26
FI971609A0 (fi) 1997-04-16
CA2203183C (en) 2008-04-08
NO971645L (no) 1997-05-07
ATE188460T1 (de) 2000-01-15
GR3032965T3 (en) 2000-07-31
CN1170395A (zh) 1998-01-14
DE59507585D1 (de) 2000-02-10
SK283877B6 (sk) 2004-04-06
ES2106700T3 (es) 2000-05-16
GR980300015T1 (en) 1998-03-31
CZ295528B6 (cs) 2005-08-17
DK0787115T3 (da) 2000-05-08
PT787115E (pt) 2000-05-31
HUT77716A (hu) 1998-07-28
NO313234B1 (no) 2002-09-02
NO971796D0 (no) 1997-04-18
SI0787115T1 (en) 2000-04-30
US6043359A (en) 2000-03-28
CZ119597A3 (en) 1997-08-13

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4187786B2 (ja) 4a,5,9,10,11,12−ヘキサヒドロ−6H−ベンゾフロ[3a,3,2−ef][2]ベンズアゼピン誘導体の製造方法
JPH09512559A (ja) 分子内環化によるカンプトテシン誘導体の製造
EP2154134A1 (en) Process for the preparation of trans-5-chloro-2-methyl-2,3,3a,12b-tetrahydro-1h-dibenz[2,3:6,7]oxepino[4,5-c]pyrrole.
PT1448567E (pt) Método de preparação de hexa-hidro-furo[2,3-b]furan-3-ol
US20030199493A1 (en) Novel derivatives and analogues of galanthamin
US6407229B1 (en) Processes for the preparation of derivatives of 4a,5,9,10,11,12-hexahydro-6H-benzofuro-[3a,3,2-ef][2] benzazapine
KR20130041125A (ko) 아세나핀을 제조하는 신규한 방법
Trauner New ventures in the construction of complex heterocycles: synthesis of morphine and hasubanan alkaloids
AT401058B (de) Verfahren zum herstellen von derivaten des 4a,5, 9,10,11,12,-hexahydro-6h-benzofuro(3a,-3,2-ef) (2)benzazepins
Takahashi et al. Efficient and convenient method for synthesis of solenopsine A and its analogs using 1-benzyl-2, 6-dicyanopiperidine
EP0055546B1 (en) Pentacyclic compounds, processes for their preparation and their use
JP3017338B2 (ja) インドールアルカロイド誘導体製造用の新規中間体化合物
HUE028705T2 (en) A process for the preparation of olopatadine and / or a pharmaceutically acceptable salt thereof
FR2713642A1 (fr) Procédé de préparation de l'épibatidine.
US4775690A (en) Substituted 1,3,4,9-tetrahydropyrano(3,4-b)indole-1-acetic acids
JP3454435B2 (ja) 4−アミノピリジン誘導体の製造方法
KR100323652B1 (ko) 알킬 시스-4-아미노-3-메톡시-1-피페리딘 카르복실레이트 염산염의 제조방법
US4826994A (en) Production of substituted 1,3,4,9-tetrahydropyrano(3,4-B)indole-1-acetic acids
DK160987B (da) 9,10-dihydroxy-perhydroisoquinolinderivater til anvendelse som mellemprodukt ved fremstilling af 14-hydroxy-morphinanderivater
JPH09506618A (ja) スピロ環式ラクタムの製造方法
WO2003055871A1 (en) DECAHYDRONAPHTHO[2,3-c]FURAN DERIVATIVES
JP2003327584A (ja) 3−エピヒンバシン誘導体
JP2003327582A (ja) 4−エピヒンバシン誘導体
JPH04145084A (ja) ヘテロ環スピロ化合物の新規製造法及び中間体
JP2003183277A (ja) エピヒマンドラビン誘導体

Legal Events

Date Code Title Description
A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20060516

A601 Written request for extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601

Effective date: 20060725

A602 Written permission of extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602

Effective date: 20060911

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20061116

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20070703

A601 Written request for extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601

Effective date: 20070927

A602 Written permission of extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602

Effective date: 20071105

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20080104

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20080812

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20080910

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110919

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110919

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120919

Year of fee payment: 4

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130919

Year of fee payment: 5

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees