JPH1062944A - Method and apparatus for cleaning squeeze roller in photosensitive material processing apparatus - Google Patents
Method and apparatus for cleaning squeeze roller in photosensitive material processing apparatusInfo
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- JPH1062944A JPH1062944A JP23364796A JP23364796A JPH1062944A JP H1062944 A JPH1062944 A JP H1062944A JP 23364796 A JP23364796 A JP 23364796A JP 23364796 A JP23364796 A JP 23364796A JP H1062944 A JPH1062944 A JP H1062944A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 少量の洗浄液により効率的に絞りローラを洗
浄することのできる絞りローラの洗浄方法および洗浄装
置を提供することを目的とする。
【解決手段】 洗浄液貯留部104から一対の絞りロー
ラ44、45に洗浄液を吐出するための洗浄液供給管1
05への洗浄液の供給は、制御部160により制御され
るポンプ106により行われる。このとき、一回の洗浄
動作中において、一対の絞りローラ44、45に対する
洗浄液供給管105からの洗浄液の供給は、1.2秒の
供給と5秒の供給停止という動作を5回繰り返す分割供
給動作によりなされる。
(57) [Problem] To provide a cleaning method and a cleaning device for a squeezing roller, which can efficiently clean the squeezing roller with a small amount of a cleaning liquid. SOLUTION: A cleaning liquid supply pipe 1 for discharging a cleaning liquid from a cleaning liquid storage unit 104 to a pair of squeezing rollers 44, 45.
The supply of the cleaning liquid to 05 is performed by the pump 106 controlled by the control unit 160. At this time, during one cleaning operation, the supply of the cleaning liquid from the cleaning liquid supply pipe 105 to the pair of squeezing rollers 44 and 45 is performed by split supply in which a supply of 1.2 seconds and a supply stop of 5 seconds are repeated five times. This is done by operation.
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】この発明は、感光材料を処理
液により処理する感光材料処理装置に関し、特に、感光
材料に付着した処理液を除去する絞りローラに洗浄液を
供給することによって、当該絞りローラを洗浄する絞り
ローラの洗浄方法および洗浄装置に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a photosensitive material processing apparatus for processing a photosensitive material with a processing liquid, and more particularly to a cleaning roller for removing a processing liquid attached to the photosensitive material by supplying a cleaning liquid to the cleaning roller. TECHNICAL FIELD The present invention relates to a squeezing roller cleaning method and a cleaning apparatus for cleaning squeezing rollers.
【0002】[0002]
【従来の技術】フィルム、印画紙、印刷版等の感光材料
は、画像が記録された後に、現像液、定着液、安定化
液、水洗水等の処理液によって処理される。このような
処理を行う感光材料の処理装置としては、複数の搬送ロ
ーラ対等により構成される搬送手段により処理液を貯留
した処理槽中に感光材料を搬送し、感光材料を処理液中
に浸漬することにより処理を行う浸漬型の処理装置が知
られている。2. Description of the Related Art Photosensitive materials such as films, photographic papers, printing plates and the like are processed with a processing solution such as a developing solution, a fixing solution, a stabilizing solution, and washing water after an image is recorded. As a photosensitive material processing apparatus for performing such processing, a photosensitive material is transported into a processing tank storing a processing liquid by a transporting unit including a plurality of transport roller pairs or the like, and the photosensitive material is immersed in the processing liquid. An immersion-type processing apparatus that performs processing by such a method is known.
【0003】このような浸漬型の処理装置においては、
感光材料の処理に伴う処理疲労、あるいは大気中の炭酸
ガスや酸素による経時疲労等により処理液が劣化するた
め、処理液に補充液を補充することにより処理液の劣化
を回復させている。このため、処理開始時の処理液の成
分と、その後も処理を継続した場合の処理液の成分とは
異なることになり、厳密に均一な処理を行うことは不可
能である。また、このような浸漬型の処理装置は、処理
液の廃液量が多く、また、装置のメンテナンス性が悪い
という問題もある。In such an immersion type processing apparatus,
Since the processing solution deteriorates due to processing fatigue accompanying the processing of the photosensitive material or temporal fatigue due to carbon dioxide or oxygen in the atmosphere, the deterioration of the processing solution is recovered by replenishing the processing solution with a replenisher. Therefore, the components of the processing liquid at the start of the processing are different from the components of the processing liquid when the processing is continued thereafter, and it is impossible to perform strictly uniform processing. In addition, such an immersion type processing apparatus has a problem that the amount of waste liquid of the processing liquid is large and the maintainability of the apparatus is poor.
【0004】このような問題点を解消するための感光材
料処理装置として、感光材料を処理液中に浸漬するかわ
りに、感光材料の処理に必要な量の処理液を感光材料の
感光面に塗布して処理を行う塗布方式の処理装置も使用
されている。例えば、特開昭62−237455号公報
においては、このような塗布方式の処理装置として、複
数の処理液吐出孔を有する処理液供給ノズルから、その
表面に溝を形成すること等によりその表面を粗面化した
ローラ(以下「粗面化ローラ」と呼称する)に処理液を
吐出すると共に、この粗面化ローラを感光材料と当接し
て回転させることにより、当該粗面化ローラを介して感
光材料に処理液を塗布する処理装置が開示されている。
そして、このような処理装置においては、感光材料に塗
布された処理液は、感光材料を挟持して回転する一対の
絞りローラにより除去される。As a photosensitive material processing apparatus for solving such problems, instead of immersing the photosensitive material in the processing solution, an amount of the processing solution required for processing the photosensitive material is applied to the photosensitive surface of the photosensitive material. There is also used a coating type processing apparatus for performing the processing. For example, in Japanese Patent Application Laid-Open No. Sho 62-237455, such a coating type processing apparatus has a processing liquid supply nozzle having a plurality of processing liquid discharge holes, and the surface thereof is formed by forming a groove on the surface. The processing liquid is discharged onto a roughened roller (hereinafter, referred to as a "roughening roller"), and the roughening roller is brought into contact with the photosensitive material and rotated, so that the roughening roller is rotated through the roughening roller. A processing apparatus for applying a processing liquid to a photosensitive material is disclosed.
In such a processing apparatus, the processing liquid applied to the photosensitive material is removed by a pair of squeezing rollers that rotate while sandwiching the photosensitive material.
【0005】[0005]
【発明が解決しようとする課題】このような処理装置に
おいては、感光材料の処理を継続するに従って、絞りロ
ーラ上に残留した処理液が絞りローラ上で結晶化する。
絞りローラ上に処理液の結晶が存在した状態で感光材料
を挟持した場合においては、感光材料の感光面に損傷を
生じたり、感光材料に処理むらが生じたりする現象が発
生するため、絞りローラを洗浄液により洗浄することが
必要となる。このとき、ランニングコストの観点や環境
問題の観点から、洗浄液の使用量はできるだけ少量であ
ることが好ましい。In such a processing apparatus, as the processing of the photosensitive material is continued, the processing liquid remaining on the aperture roller crystallizes on the aperture roller.
If the photosensitive material is sandwiched in the state where the processing liquid crystal is present on the squeeze roller, a phenomenon occurs in which the photosensitive surface of the photosensitive material is damaged or the photosensitive material has uneven processing. Need to be washed with a washing liquid. At this time, it is preferable that the amount of the cleaning liquid used is as small as possible from the viewpoint of running costs and environmental problems.
【0006】この発明は、上記課題を解決するためにな
されたものであり、少量の洗浄液により効率的に絞りロ
ーラを洗浄することのできる絞りローラの洗浄方法およ
び洗浄装置を提供することを目的とする。SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above problems, and has as its object to provide a cleaning method and a cleaning apparatus for a squeezing roller which can efficiently clean the squeezing roller with a small amount of a cleaning liquid. I do.
【0007】[0007]
【課題を解決するための手段】請求項1に記載の発明
は、感光材料を挟持して回転することにより感光材料に
付着した処理液を除去する絞りローラに洗浄液を供給す
ることによって、当該絞りローラを洗浄する絞りローラ
の洗浄方法であって、前記絞りローラに対する洗浄液の
供給を複数回に分割して行うことを特徴とする。According to a first aspect of the present invention, a cleaning liquid is supplied to a squeezing roller that removes a processing liquid attached to the photosensitive material by rotating while sandwiching the photosensitive material. A method of cleaning a squeezing roller for cleaning a roller, wherein the supply of the cleaning liquid to the squeezing roller is performed in a plurality of times.
【0008】請求項2に記載の発明は、感光材料を挟持
して回転することにより感光材料に付着した処理液を除
去する一対の絞りローラを洗浄するための絞りローラの
洗浄装置であって、前記絞りローラの表面に洗浄液を供
給するための洗浄液供給部と、洗浄液貯留部に貯留され
た洗浄液を前記洗浄液供給部に圧送するためのポンプ
と、前記ポンプを所定時間間隔で複数回駆動することに
より、前記洗浄液供給部から前記絞りローラに洗浄液を
複数回に分けて供給するポンプ制御手段とを備えたこと
を特徴とする。According to a second aspect of the present invention, there is provided an aperture roller cleaning apparatus for cleaning a pair of aperture rollers for removing a processing liquid attached to the photosensitive material by sandwiching and rotating the photosensitive material, A cleaning liquid supply unit for supplying a cleaning liquid to the surface of the squeezing roller, a pump for pumping the cleaning liquid stored in the cleaning liquid storage unit to the cleaning liquid supply unit, and driving the pump a plurality of times at predetermined time intervals. And a pump control means for supplying the cleaning liquid from the cleaning liquid supply unit to the squeezing roller in a plurality of times.
【0009】[0009]
【発明の実施の形態】以下、この発明の実施の形態を図
面に基づいて説明する。図1はこの発明を適用する感光
材料処理装置を備えた平版印刷版の製版装置の概要図で
ある。Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 is a schematic diagram of a lithographic printing plate making apparatus provided with a photosensitive material processing apparatus to which the present invention is applied.
【0010】この製版装置は、感光材料として銀錯塩拡
散転写法(DTR法)を用いた平版印刷版Mを使用し、
この平版印刷版Mに対して画像の露光と現像処理とを行
うものであり、平版印刷版Mに対して露光を行う露光装
置2と、露光後の平版印刷版Mに対して現像処理を行う
現像処理装置3とから構成される。This plate making apparatus uses a lithographic printing plate M using a silver complex salt diffusion transfer method (DTR method) as a photosensitive material.
The lithographic printing plate M is subjected to image exposure and development processing. The exposure apparatus 2 performs exposure to the lithographic printing plate M, and performs the development processing to the exposed lithographic printing plate M. And a development processing device 3.
【0011】なお、銀錯塩拡散転写法(DTR法)を用
いた平版印刷版、特に、ハロゲン化銀乳剤層の上に物理
現像核層を有する平版印刷版は、例えば、米国特許第
3,728,114号、同4,134,769号、同
4,160,670号、同4,336,321号、同
4,501,811号、同4,510,228号、同
4,621,041号明細書等に記載されており、露光
されたハロゲン化銀はDTR現像により化学現像を生起
し黒色の銀となり親水性の非画線部を形成し、一方、未
露光のハロゲン化銀結晶は現像液中の銀塩錯化剤により
銀錯体となって表面の物理現像核層まで拡散し、核の存
在により物理現像を生起してインキ受容性の物理現像銀
を主体とする画線部を形成する。A lithographic printing plate using a silver complex salt diffusion transfer method (DTR method), particularly a lithographic printing plate having a physical development nucleus layer on a silver halide emulsion layer is disclosed in, for example, US Pat. No. 3,728. No. 4,114,769, No.4,160,670, No.4,336,321, No.4,501,811, No.4,510,228, No.4,621,041 The exposed silver halide is subjected to chemical development by DTR development to become black silver to form a hydrophilic non-image area, while the unexposed silver halide crystal is The silver salt complexing agent in the developer forms a silver complex and diffuses to the physical development nucleus layer on the surface. Form.
【0012】先ず、露光装置2の構成について説明す
る。この露光装置2は、原稿ホルダー12に装着された
原稿からの反射光を、投影光学系13によって平版印刷
版Mの表面に投影することにより、平版印刷版Mに原稿
の画像を露光するものである。First, the configuration of the exposure apparatus 2 will be described. The exposure device 2 exposes the image of the original to the lithographic printing plate M by projecting the reflected light from the original mounted on the original holder 12 onto the surface of the lithographic printing plate M by the projection optical system 13. is there.
【0013】原稿ホルダー12は、原稿を載置するため
の透光板14と、この透光板14に対して開閉可能な上
蓋15とを有し、モータ16の駆動により原稿を保持し
た状態で、図1において実線で示す位置と二点鎖線で示
す位置との間を左右方向に往復移動可能に構成されてい
る。また、投影光学系13は、原稿ホルダー12の往復
移動経路の下方に固設され、原稿ホルダー12に保持さ
れて水平移動する原稿の表面に照明光を照射するための
ロッド状の光源17と、光源17による原稿からの反射
光を案内するための複数の折返しミラー18と、複数の
折返しミラー18により案内された反射光を平版印刷版
Mに投影するための投影レンズ19とを備える。The document holder 12 has a light-transmitting plate 14 on which a document is placed, and an upper lid 15 that can be opened and closed with respect to the light-transmitting plate 14. 1, it is configured to be reciprocally movable in the left-right direction between a position indicated by a solid line and a position indicated by a two-dot chain line. Further, the projection optical system 13 is fixed below the reciprocating movement path of the original holder 12, and a rod-shaped light source 17 for irradiating illumination light to the surface of the original horizontally moved while being held by the original holder 12; The apparatus includes a plurality of folding mirrors 18 for guiding light reflected from a document by the light source 17 and a projection lens 19 for projecting the reflected light guided by the plurality of folding mirrors 18 onto a lithographic printing plate M.
【0014】この露光装置2により平版印刷版Mに原稿
の画像を露光する際には、原稿ホルダー12を図1にお
いて実線で示す位置に配置し、上蓋15を開放して透光
板14上に原稿を載置した上で上蓋15を閉じることに
より、原稿を原稿ホルダー12に装着する。そして、光
源17を点灯した状態で、原稿ホルダー12を図1にお
ける左方向に移動させる。また、これと同期して、複数
の搬送ローラ22およびガイド部材23により、ロール
状に巻回された平版印刷版Mの先端を、原稿ホルダー1
2の移動速度と同一の速度で搬送する。これにより、原
稿ホルダー12に保持された原稿は、順次光源17から
の光の照射を受ける。そして、原稿からの反射光は複数
の折返しミラー18および投影レンズ19を介して原稿
ホルダー12と同一の速度で移動する平版印刷版Mの表
面に照射され、平版印刷版Mには原稿の画像が露光され
る。When exposing an image of a document on the lithographic printing plate M by the exposure device 2, the document holder 12 is arranged at a position shown by a solid line in FIG. The original is mounted on the original holder 12 by closing the upper cover 15 after placing the original. Then, with the light source 17 turned on, the document holder 12 is moved to the left in FIG. In synchronization with this, the leading end of the lithographic printing plate M wound in a roll by the plurality of transport rollers 22 and the guide member 23 is moved to the original holder 1.
2 is conveyed at the same speed as the moving speed. As a result, the document held in the document holder 12 is sequentially irradiated with light from the light source 17. Then, the reflected light from the original is irradiated onto the surface of the lithographic printing plate M moving at the same speed as the original holder 12 via the plurality of folding mirrors 18 and the projection lens 19, and the image of the original is printed on the lithographic printing plate M. Exposed.
【0015】画像が露光された平版印刷版Mは、露光装
置2から順次後段の現像処理装置3に搬送されて処理さ
れる。また、露光装置2の出口側には、平版印刷版Mの
搬送方向と垂直な方向に移動するカッター24を備えた
切断装置25が配設されており、この切断装置25は平
版印刷版Mを露光終了部分の後端で切断する。The lithographic printing plate M to which the image has been exposed is sequentially transported from the exposure device 2 to the subsequent development processing device 3 for processing. Further, a cutting device 25 having a cutter 24 that moves in a direction perpendicular to the transport direction of the lithographic printing plate M is disposed on the exit side of the exposure device 2. Cut at the rear end of the exposed part.
【0016】なお、露光装置2における平版印刷版Mの
搬送速度は現像処理装置3における平版印刷版Mの搬送
速度より低速であるため、平版印刷版Mを単純に露光装
置2と現像処理装置3とに亘って搬送することはできな
い。また、切断装置25による平版印刷版Mの切断時に
は、平版印刷版Mの搬送を停止する必要がある。このた
め、露光装置2と現像処理装置3との間には平版印刷版
Mのバッファ部26が配設されており、露光装置2にお
いて露光の終了した平版印刷版Mの搬送時に、バッファ
部26に配設された一対のローラ27、28の回転を一
定時間停止することにより、平版印刷版Mを一定長さだ
けこのバッファ部26に貯留した後、現像処理装置3に
搬送するように構成されている。Since the transport speed of the lithographic printing plate M in the exposure device 2 is lower than the transport speed of the lithographic printing plate M in the developing device 3, the lithographic printing plate M is simply transferred to the exposure device 2 and the developing device 3. Cannot be conveyed. When the lithographic printing plate M is cut by the cutting device 25, it is necessary to stop the transport of the lithographic printing plate M. For this reason, a lithographic printing plate M buffer unit 26 is provided between the exposure device 2 and the development processing device 3, and when the lithographic printing plate M that has been exposed in the exposure device 2 is transported, the buffer unit 26 By stopping the rotation of the pair of rollers 27 and 28 disposed for a certain period of time, the lithographic printing plate M is stored in the buffer unit 26 for a certain length, and then conveyed to the developing device 3. ing.
【0017】次に、この発明に係る現像処理装置3の構
成について説明する。図2は、図1における現像処理装
置3を拡大して示す概要図であり、図3はその配管系を
示す概要図である。Next, the configuration of the developing apparatus 3 according to the present invention will be described. FIG. 2 is an enlarged schematic view showing the developing device 3 in FIG. 1, and FIG. 3 is an outline diagram showing a piping system thereof.
【0018】この現像処理装置3は、露光後の平版印刷
版Mに現像液(アクチベータ)を塗布して現像処理する
現像部32と、現像処理後の平版印刷版Mに安定液(ス
タビライザー)を塗布して安定化処理する安定部33
と、安定化処理後の平版印刷版Mを乾燥するための乾燥
部34とから構成される。The developing unit 3 applies a developing solution (activator) to the exposed lithographic printing plate M and performs a developing process, and a developing solution (stabilizer) to the lithographic printing plate M after the developing process. Stabilizer 33 for applying and stabilizing
And a drying unit 34 for drying the lithographic printing plate M after the stabilization process.
【0019】現像部32は、バッファ部26のローラ2
7、28によって現像部32に搬送された平版印刷版M
を挟持して搬送する一対の導入ローラ41、42と、一
対の導入ローラ41、42によって搬送された平版印刷
版Mの感光面に一定量の現像液を計量して塗布するため
の現像液塗布機構43と、現像処理に供された現像液を
平版印刷版Mから除去するための一対の絞りローラ4
4、45と、平版印刷版Mを案内するための複数のガイ
ド部材46、47、48、49、50とを有する。The developing section 32 includes a roller 2 of the buffer section 26.
Lithographic printing plate M conveyed to developing section 32 by 7, 28
A pair of introduction rollers 41 and 42 for nipping and transporting the developer, and a developer application for measuring and applying a fixed amount of the developer to the photosensitive surface of the lithographic printing plate M transported by the pair of introduction rollers 41 and 42 A mechanism 43 and a pair of squeezing rollers 4 for removing the developer supplied to the developing process from the lithographic printing plate M;
4, 45, and a plurality of guide members 46, 47, 48, 49, 50 for guiding the lithographic printing plate M.
【0020】前記一対の導入ローラ41、42のうち下
側のローラ41は、そこを通過する平版印刷版Mを加熱
するため、ヒータを内蔵したヒートローラとなってい
る。現像処理に先立って平版印刷版Mを予め加熱するの
は、温度制御された少量の現像液を平版印刷版Mに塗布
して現像処理する際に、平版印刷版Mの熱容量により平
版印刷版Mに接触した現像液の温度が低下することを防
止するためである。The lower roller 41 of the pair of introduction rollers 41, 42 is a heat roller having a built-in heater for heating the lithographic printing plate M passing therethrough. The lithographic printing plate M is heated in advance prior to the development process because a small amount of a temperature-controlled developer is applied to the lithographic printing plate M and the lithographic printing plate M is heated by the heat capacity of the lithographic printing plate M when developing. This is to prevent the temperature of the developer that has come into contact with the developer from decreasing.
【0021】現像液塗布機構43は、図3に示すよう
に、現像液を貯留する現像液タンク52とポンプ53を
介して接続されている。また、現像液塗布機構43の下
方には回収トレイ54が設置されている。現像液タンク
52内の現像液はポンプ53により現像液塗布機構43
に圧送され、平版印刷版M上に供給される。そして、平
版印刷版Mの両端部や後端部から流出した現像液等の平
版印刷版Mに塗布されなかった現像液は、回収トレイ5
4上に滴下する。さらに、この現像液は、再使用が可能
なため、回収トレイ54の下端部に設けられた回収管5
5を介して現像液タンク52の液受部56に滴下し、現
像液タンク52内に回収される。現像液タンク52に
は、パネルヒータ57が内蔵されており、現像液タンク
52から現像液塗布機構43に至る現像液の循環路中を
循環する現像液を所定の温度に維持するように構成され
ている。As shown in FIG. 3, the developing solution application mechanism 43 is connected via a pump 53 to a developing solution tank 52 for storing the developing solution. A collection tray 54 is provided below the developer application mechanism 43. The developing solution in a developing solution tank 52 is pumped by a pump 53 to a developing solution application mechanism 43.
And supplied onto the lithographic printing plate M. Then, the developer not applied to the lithographic printing plate M, such as the developing solution flowing out from both ends and the rear end of the lithographic printing plate M, is collected on a collecting tray 5.
4. Drop on top. Further, since this developer can be reused, the collection tube 5 provided at the lower end of the collection tray 54 is provided.
5, the liquid is dropped into the liquid receiving portion 56 of the developer tank 52 and collected in the developer tank 52. The developer tank 52 has a built-in panel heater 57 and is configured to maintain the developer circulating in the developer circulation path from the developer tank 52 to the developer application mechanism 43 at a predetermined temperature. ing.
【0022】また、一対の絞りローラ44、45の下方
には回収トレイ58が設置されている。一対の絞りロー
ラ44、45によって平版印刷版Mから除去された疲労
現像液は、一対の絞りローラ44、45の下方に設けら
れた液受け部材62の回収孔63を介して回収トレイ5
8上に滴下する。そして、さらにこの現像液は、再使用
できないため、回収トレイ58の下端部に設けられた回
収管59を介して排液タンク64に排出される。A collection tray 58 is provided below the pair of squeezing rollers 44 and 45. The fatigue developing solution removed from the lithographic printing plate M by the pair of squeezing rollers 44, 45 passes through the collecting hole 63 of the liquid receiving member 62 provided below the pair of squeezing rollers 44, 45, and the collection tray 5
8 is dropped. Further, since this developer cannot be reused, it is discharged to the drainage tank 64 via the collection pipe 59 provided at the lower end of the collection tray 58.
【0023】現像液塗布機構43は、図4に示すよう
に、その下方に複数の吐出孔121が穿設された現像液
供給管122と、その下端部に現像液を流下させるため
の複数の開口部123を穿設した現像液受け部124
と、その表面に複数の溝を有し平版印刷版Mと当接して
回転する塗布ローラ125と、現像液受け部124の開
口部123から流下した現像液を塗布ローラ125に案
内するための拡散フィルム126と、現像液受け部12
4の開口部123から流下した現像液の逆流を防止する
ための逆流防止フィルム127と、塗布ローラ125に
当接するバックアップローラ128とを有する。なお、
図4における矢印は、平版印刷版Mの搬送方向を示して
いる。As shown in FIG. 4, the developer application mechanism 43 includes a developer supply pipe 122 having a plurality of discharge holes 121 formed thereunder, and a plurality of developer supply pipes 122 for flowing the developer down to the lower end thereof. Developer receiving portion 124 having opening 123
A coating roller 125 having a plurality of grooves on its surface and rotating in contact with the lithographic printing plate M; and a diffusion for guiding the developer flowing down from the opening 123 of the developer receiving portion 124 to the coating roller 125. The film 126 and the developer receiving section 12
4 has a backflow prevention film 127 for preventing backflow of the developer flowing down from the opening 123, and a backup roller 128 abutting on the application roller 125. In addition,
Arrows in FIG. 4 indicate the transport direction of the lithographic printing plate M.
【0024】現像液供給管122は、前述した現像液タ
ンク52とポンプ53を介して接続されており、現像液
はポンプ53の駆動により複数の吐出孔121から吐出
される。この現像液は、現像液受け部124に一旦受け
取られた後、複数の開口部123から拡散フィルム12
6に向けて流下する。現像液受け部124の開口部12
3から流下した現像液は、塗布ローラ125と拡散フィ
ルム126との当接部分に一旦貯留されて、平版印刷版
Mの搬送方向と直交する方向に拡散される。そして、こ
の現像液は、塗布ローラ125の回転に伴い、塗布ロー
ラ125の溝による開口部を通過して塗布ローラ125
とバックアップローラ128との当接部方向に移動し、
そこに液溜めを形成する。The developing solution supply pipe 122 is connected to the developing solution tank 52 via the pump 53, and the developing solution is discharged from the plurality of discharge holes 121 by driving the pump 53. After the developer is once received by the developer receiving section 124, the diffusion film 12
Flow down to 6. Opening 12 of developer receiving section 124
The developer flowing down from 3 is temporarily stored in the contact portion between the application roller 125 and the diffusion film 126 and is diffused in a direction orthogonal to the transport direction of the lithographic printing plate M. Then, with the rotation of the application roller 125, the developer passes through the opening formed by the groove of the application roller 125 and passes through the application roller 125.
Move in the direction of the contact portion between
A reservoir is formed there.
【0025】そして、平版印刷版Mがこの液溜めを通過
するときに、平版印刷版Mの感光面に現像液が塗布され
る。このとき、平版印刷版Mの感光面はバックアップロ
ーラ128により塗布ローラ125の表面に押しつけら
れていることから、平版印刷版Mの感光面に塗布された
現像液は、塗布ローラ125の溝による開口部により一
定量に計量される。従って、バックアップローラ128
と塗布ローラ125との当接部を通過した平版印刷版M
の感光面には、常に現像に必要な一定量の現像液が塗布
されていることになる。When the lithographic printing plate M passes through the liquid reservoir, a developing solution is applied to the photosensitive surface of the lithographic printing plate M. At this time, since the photosensitive surface of the lithographic printing plate M is pressed against the surface of the application roller 125 by the backup roller 128, the developer applied to the photosensitive surface of the lithographic printing plate M is opened by the groove of the application roller 125. It is weighed to a certain amount by the part. Therefore, the backup roller 128
Printing plate M that has passed the contact portion between
A constant amount of developer required for development is always applied to the photosensitive surface.
【0026】安定部33は、現像部32より搬送された
平版印刷版Mの感光面に一定量の安定液を計量して塗布
するための安定液塗布機構73と、安定化処理に供され
た安定液を平版印刷版Mから除去するための一対の絞り
ローラ74、75と、平版印刷版Mを案内するための複
数のガイド部材76、77、78とを有する。The stabilizing section 33 is provided with a stabilizing liquid applying mechanism 73 for measuring and applying a fixed amount of a stabilizing liquid to the photosensitive surface of the lithographic printing plate M conveyed from the developing section 32 and a stabilizing process. The lithographic printing plate M includes a pair of squeezing rollers 74 and 75 for removing the stabilizing liquid from the lithographic printing plate M, and a plurality of guide members 76, 77 and 78 for guiding the lithographic printing plate M.
【0027】安定液塗布機構73は、図3に示すよう
に、安定液を貯留する安定液タンク82とポンプ83を
介して接続されている。また、安定液塗布機構73の下
方には回収トレイ84が設置されている。安定液タンク
82内の安定液はポンプ83により安定液塗布機構73
に圧送され、平版印刷版M上に供給される。そして、平
版印刷版Mの両端部や後端部から流出した安定液等の平
版印刷版Mに塗布されなかった安定液は、再使用が可能
なため、回収トレイ84上に滴下する。そして、さらに
この安定液は、回収トレイ84の下端部に設けられた回
収管85を介して安定液タンク82の液受部86に滴下
し、安定液タンク82内に回収される。As shown in FIG. 3, the stabilizing liquid application mechanism 73 is connected via a pump 83 to a stabilizing liquid tank 82 for storing the stabilizing liquid. A collection tray 84 is provided below the stable liquid application mechanism 73. The stable liquid in the stable liquid tank 82 is supplied to the stable liquid applying mechanism 73 by the pump 83.
And supplied onto the lithographic printing plate M. Then, the stabilizing liquid that has not been applied to the lithographic printing plate M, such as the stabilizing liquid flowing out from both ends and the rear end of the lithographic printing plate M, is dropped onto the collection tray 84 because it can be reused. Further, the stable liquid drops into the liquid receiving section 86 of the stable liquid tank 82 via the recovery pipe 85 provided at the lower end of the recovery tray 84, and is collected in the stable liquid tank 82.
【0028】また、一対の絞りローラ74、75の下方
には回収トレイ88が設置されている。一対の絞りロー
ラ74、75によって平版印刷版Mから除去された安定
液は、一対の絞りローラ74、75の下方に設けられた
液受け部材92の回収孔93を介して回収トレイ88上
に滴下する。そして、さらにこの安定液は、再使用でき
ないため、回収トレイ88の下端部に設けられた回収管
89を介して排液タンク64に排出される。A collection tray 88 is provided below the pair of squeezing rollers 74 and 75. The stable liquid removed from the lithographic printing plate M by the pair of squeezing rollers 74 and 75 is dropped onto the collection tray 88 via the collection holes 93 of the liquid receiving member 92 provided below the pair of squeezing rollers 74 and 75. I do. Further, since this stable liquid cannot be reused, it is discharged to the drainage tank 64 via a collecting pipe 89 provided at the lower end of the collecting tray 88.
【0029】安定液塗布機構73は、図5に示すよう
に、その下方に複数の吐出孔131が穿設された安定液
供給管132と、その下端部に安定液を流下させるため
の複数の開口部133を穿設した安定液受け部134
と、その表面が単泡性のスポンジより構成され平版印刷
版Mと当接して回転する塗布ローラ135と、その表面
が凹凸状に形成され安定液受け部134の開口部133
から流下した安定液を塗布ローラ135に案内するため
の拡散フィルム136と、平版印刷版Mを塗布ローラ1
35に向けて付勢する板バネ138とを有する。なお、
図4における矢印は、平版印刷版Mの搬送方向を示して
いる。As shown in FIG. 5, the stabilizing liquid application mechanism 73 includes a stabilizing liquid supply pipe 132 having a plurality of discharge holes 131 formed below the stabilizing liquid supply pipe 132 and a plurality of stabilizing liquid supply pipes at the lower end thereof. A stable liquid receiving portion 134 having an opening 133 formed therein.
A coating roller 135 whose surface is formed of a single-cell sponge and rotates in contact with the lithographic printing plate M; and an opening 133 of the stable liquid receiving portion 134 whose surface is formed in an uneven shape.
Film 136 for guiding the stable liquid flowing down from the coating roller 135 to the coating roller 135 and the lithographic printing plate M with the coating roller 1
And a leaf spring 138 that urges the plate spring 335. In addition,
Arrows in FIG. 4 indicate the transport direction of the lithographic printing plate M.
【0030】安定液供給管132は、前述した安定液タ
ンク82とポンプ83を介して接続されており、安定液
はポンプ83の駆動により複数の吐出孔131から吐出
される。この安定液は、安定液受け部134に一旦受け
取られた後、複数の開口部133から拡散フィルム13
6に向けて流下する。安定液受け部134の開口部13
3から流下した安定液は、塗布ローラ135と拡散フィ
ルム136との当接部分に一旦貯留されて、平版印刷版
Mの搬送方向と直交する方向に拡散される。そして、こ
の安定液は、塗布ローラ135の回転に伴い、拡散フィ
ルム136表面の凹凸による開口部を通過して塗布ロー
ラ135と板バネ138との当接部方向に移動し、そこ
に液溜めを形成する。The stable liquid supply pipe 132 is connected to the aforementioned stable liquid tank 82 via a pump 83, and the stable liquid is discharged from the plurality of discharge holes 131 by driving the pump 83. After the stable liquid is once received by the stable liquid receiving section 134, the diffusion film 13 passes through the plurality of openings 133.
Flow down to 6. Opening 13 of stable liquid receiving portion 134
The stable liquid flowing down from 3 is temporarily stored in a contact portion between the application roller 135 and the diffusion film 136, and is diffused in a direction orthogonal to the transport direction of the lithographic printing plate M. Then, with the rotation of the application roller 135, the stable liquid passes through the opening formed by the unevenness on the surface of the diffusion film 136, moves toward the contact portion between the application roller 135 and the leaf spring 138, and stores the liquid therein. Form.
【0031】そして、平版印刷版Mがこの液溜めを通過
するときに、平版印刷版Mの感光面に安定液が塗布され
る。このとき、平版印刷版Mの感光面は板バネ138に
より塗布ローラ135の表面に押しつけられていること
から、平版印刷版Mの感光面に塗布された安定液は、塗
布ローラ135表面の単泡スポンジによる多数の孔によ
り一定量に計量される。従って、板バネ138と塗布ロ
ーラ135との当接部を通過した平版印刷版Mの感光面
には、常に安定に必要な一定量の安定液が塗布されてい
ることになる。Then, when the lithographic printing plate M passes through the liquid reservoir, a stabilizing solution is applied to the photosensitive surface of the lithographic printing plate M. At this time, since the photosensitive surface of the lithographic printing plate M is pressed against the surface of the application roller 135 by the leaf spring 138, the stable liquid applied to the photosensitive surface of the lithographic printing plate M is a single bubble on the surface of the application roller 135. It is metered to a constant volume by a number of holes with a sponge. Therefore, a constant amount of the stabilizing liquid required for stabilization is always applied to the photosensitive surface of the lithographic printing plate M that has passed through the contact portion between the leaf spring 138 and the application roller 135.
【0032】なお、板バネ138には、板バネ138と
塗布ローラ135との当接部に必要以上の安定液が貯留
され、液溜めが過度に大きくなることを防止するための
オーバフロー孔137が設けられている。The leaf spring 138 has an overflow hole 137 for storing an excessive amount of stable liquid in a contact portion between the leaf spring 138 and the application roller 135 and preventing the liquid reservoir from becoming excessively large. Is provided.
【0033】乾燥部34は、安定部33より搬送された
平版印刷版Mを支持して搬送するゴムローラ102と、
ゴムローラ102に対して所定の圧力をもって当接する
ことにより平版印刷版Mの乾燥むらを防止する鏡面ロー
ラ103と、鏡面ローラ103に対してゴムローラ10
2を介して洗浄液を供給するための洗浄液貯留部104
と、ファン105およびヒータ106を有し平版印刷版
Mに温風を吹き付けて乾燥する乾燥機構107と、平版
印刷版Mを搬送するための複数の搬送ローラ108、1
09、110とを有する。The drying unit 34 includes a rubber roller 102 that supports and transports the lithographic printing plate M transported from the stabilizing unit 33,
A mirror roller 103 for preventing uneven drying of the lithographic printing plate M by contacting the rubber roller 102 with a predetermined pressure;
Cleaning liquid reservoir 104 for supplying the cleaning liquid via
A drying mechanism 107 having a fan 105 and a heater 106 for blowing hot air onto the lithographic printing plate M to dry it, and a plurality of transport rollers 108 for transporting the lithographic printing plate M;
09 and 110.
【0034】また、洗浄液貯留部104は、図3に示す
ように、現像部32における一対の絞りローラ44、4
5に対して洗浄液を供給するための洗浄液供給管105
とポンプ106を介して接続されている。このポンプ1
06により洗浄液貯留部104から洗浄液供給管105
に供給された洗浄液は、洗浄液供給管105に沿って穿
設された複数の吐出孔より一対の絞りローラ44、45
上に滴下される。なお、一対の絞りローラ44、45の
洗浄動作については、後程詳細に説明する。As shown in FIG. 3, the cleaning liquid storage section 104 includes a pair of squeezing rollers 44, 4 in the developing section 32.
Cleaning liquid supply pipe 105 for supplying a cleaning liquid to
And a pump 106. This pump 1
06 to the cleaning liquid supply pipe 105 from the cleaning liquid storage 104
Is supplied to a pair of squeezing rollers 44 and 45 from a plurality of discharge holes formed along the cleaning liquid supply pipe 105.
It is dripped on. The cleaning operation of the pair of squeezing rollers 44 and 45 will be described later in detail.
【0035】この現像処理装置3による平版印刷版Mの
現像処理は以下のようにしてなされる。The development processing of the lithographic printing plate M by the development processing device 3 is performed as follows.
【0036】すなわち、前段の露光装置2により画像を
記録された平版印刷版Mは、一対の導入ローラ41、4
2によって搬送され、現像液塗布機構43により、平版
印刷版Mの現像処理に必要な量の現像液を塗布される。
現像処理に必要な量の現像液のみを塗布された平版印刷
版Mは、現像液塗布機構43から一対の絞りローラ4
4、45に至る空間現像部を搬送される間に、その感光
面において現像処理が完了する。そして、平版印刷版M
に付着している現像処理に供された現像液は、一対の絞
りローラ44、45により除去される。続いて、平版印
刷版Mは、安定液塗布機構73により、平版印刷版Mの
安定処理に必要な量の安定液を塗布される。安定処理に
必要な量の安定液のみを塗布された平版印刷版Mは、一
対の絞りローラ74、75まで搬送される間に安定化処
理され、平版印刷版Mに付着している安定化処理に供さ
れた安定液は、一対の絞りローラ74、75により除去
される。そして、安定化処理の終了した平版印刷版M
は、鏡面ローラ103によって押圧されることにより乾
燥むらを予防された後、乾燥機構107により乾燥処理
され、図1に示す排出トレイ29上に排出される。That is, the lithographic printing plate M on which an image has been recorded by the exposure device 2 at the former stage is placed on a pair of introduction rollers 41 and 4.
The developing solution is applied by the developer application mechanism 43 to apply an amount of the developing solution necessary for developing the lithographic printing plate M.
The lithographic printing plate M to which only the developing solution necessary for the developing process is applied is supplied from the developing solution applying mechanism 43 to the pair of squeezing rollers 4.
The developing process is completed on the photosensitive surface while being transported through the space developing section reaching to 4, 45. And the lithographic printing plate M
The developing solution adhered to the developing process and removed by the pair of squeezing rollers 44 and 45 is removed. Subsequently, the lithographic printing plate M is applied with a stabilizing solution application mechanism 73 with an amount of stabilizing solution necessary for stabilizing the lithographic printing plate M. The lithographic printing plate M to which only the necessary amount of the stabilizing liquid for the stabilizing process is applied is stabilized while being conveyed to the pair of squeezing rollers 74 and 75, and the stabilizing process attached to the lithographic printing plate M is performed. Is removed by the pair of squeezing rollers 74 and 75. Then, the lithographic printing plate M for which the stabilization process has been completed.
After the unevenness of drying is prevented by being pressed by the mirror surface roller 103, the drying is performed by the drying mechanism 107 and discharged onto the discharge tray 29 shown in FIG.
【0037】この現像処理装置3においては、平版印刷
版Mに現像処理に必要な量の現像液のみが塗布されて現
像処理が行われるため、処理に要する現像液の使用量を
減少することが可能となる。また、平版印刷版Mに対し
て、実質的に未使用の処理液が供給されることとなるた
め、平版印刷版Mに対して常に均一な処理を施すことが
可能となる。In the developing apparatus 3, since only the developing solution required for the developing process is applied to the lithographic printing plate M and the developing process is performed, the amount of the developing solution required for the process can be reduced. It becomes possible. Further, since a substantially unused processing liquid is supplied to the lithographic printing plate M, the lithographic printing plate M can always be uniformly processed.
【0038】上述した現像処理装置3においては、平版
印刷版Mの処理に伴い、現像部32における一対の絞り
ローラ44、45上に現像液の結晶が発生する。このた
め、この現像液の結晶を洗浄することが必要となる。以
下、この発明の特徴部分である一対の絞りローラ44、
45の洗浄動作について説明する。In the developing device 3 described above, crystals of the developing solution are generated on the pair of squeezing rollers 44 and 45 in the developing section 32 as the lithographic printing plate M is processed. For this reason, it is necessary to wash the crystals of the developer. Hereinafter, a pair of squeezing rollers 44, which are characteristic parts of the present invention,
The cleaning operation of No. 45 will be described.
【0039】まず、一対の絞りローラ44、45の洗浄
動作を制御する制御機構の構成について説明する。図6
は、制御部160を示すブロック図である。First, the structure of a control mechanism for controlling the cleaning operation of the pair of squeezing rollers 44 and 45 will be described. FIG.
FIG. 3 is a block diagram showing a control unit 160.
【0040】この現像処理装置3は、前述した洗浄液貯
留部104から洗浄液供給管105に洗浄液を供給する
ためのポンプ106を制御するための、CPU161、
ROM162、RAM163よりなる制御部160を備
える。この制御部160は、インタフェース164を介
して、ポンプ106を駆動するポンプ駆動部165と接
続されている。The developing apparatus 3 includes a CPU 161 for controlling a pump 106 for supplying a cleaning liquid from the cleaning liquid storage section 104 to the cleaning liquid supply pipe 105.
The control unit 160 includes a ROM 162 and a RAM 163. The control unit 160 is connected to a pump driving unit 165 that drives the pump 106 via an interface 164.
【0041】なお、この制御部160は、例えば現像処
理装置3における平版印刷版Mの搬送のための駆動モー
タ等とも接続されており、現像処理装置3の他の動作を
制御する制御手段としても機能する。The control section 160 is also connected to, for example, a drive motor for transporting the lithographic printing plate M in the developing apparatus 3 and also serves as control means for controlling other operations of the developing apparatus 3. Function.
【0042】次に、一対の絞りローラ44、45を洗浄
する洗浄動作について説明する。図7は現像処理装置3
における洗浄工程を示すフローチャートであり、図8は
そのサブルーチンとしての洗浄動作を示すフローチャー
トである。Next, a cleaning operation for cleaning the pair of squeezing rollers 44 and 45 will be described. FIG. 7 shows the developing device 3
FIG. 8 is a flowchart showing a cleaning operation as a subroutine thereof.
【0043】この現像処理装置3においては、現像処理
を開始する時点と、一定時間平版印刷版Mの現像処理が
中断した時点と、現像処理を終了する時点において、一
対の絞りローラ44、45の洗浄動作が行われる。In the developing device 3, at the time when the developing process is started, when the developing process of the planographic printing plate M is interrupted for a certain period of time, and when the developing process is completed, the pair of aperture rollers 44 and 45 A cleaning operation is performed.
【0044】即ち、図7に示すように、オペレータが平
版印刷版Mの現像処理を開始するために露光装置2およ
び現像処理装置3からなる製版装置の起動スイッチをO
Nとすれば(ステップS1)、最初の洗浄動作が行われ
る(ステップS2)。この洗浄動作は、現像処理装置3
の停止中に一対の絞りローラ44、45上に発生した現
像液の結晶やその他の汚染物質を現像処理の開始前に洗
浄して除去することを目的とする。なお、製版装置はオ
ペレータが起動スイッチをONする前に通電されている
ものとする。That is, as shown in FIG. 7, the operator turns on the start switch of the plate making apparatus including the exposure apparatus 2 and the development processing apparatus 3 in order to start the development processing of the planographic printing plate M.
If N (Step S1), the first cleaning operation is performed (Step S2). This cleaning operation is performed by the developing device 3
The purpose of the present invention is to clean and remove the crystal of the developing solution and other contaminants generated on the pair of squeezing rollers 44 and 45 during the stop of the developing process before the start of the developing process. It is assumed that the plate making device is energized before the operator turns on the start switch.
【0045】続いて、現像処理装置3において一定時間
以上現像処理が中断しているか否かを判断する(ステッ
プS3)。これは、一定時間以上現像処理が中断してい
た場合には、その間に現像液が乾燥することにより、一
対の絞りローラ44、45上に現像液の結晶が発生して
いると考えられるためである。一定時間以上現像処理が
中断している場合には、洗浄動作が行われる(ステップ
S4)。この時間としては、例えば10分程度の時間が
設定されている。なお、現像処理開始時においては、ス
テップS3、S4はスキップするようになっている。Subsequently, it is determined whether or not the developing process has been interrupted for a certain period of time in the developing device 3 (step S3). This is because, when the developing process is interrupted for a certain period of time or more, it is considered that the developing solution is dried during that time, and crystals of the developing solution are generated on the pair of squeezing rollers 44 and 45. is there. If the development processing has been interrupted for a certain period of time or longer, a cleaning operation is performed (step S4). As this time, for example, a time of about 10 minutes is set. At the start of the developing process, steps S3 and S4 are skipped.
【0046】そして、現像処理を終了するため、オペレ
ータが製版装置のスイッチをOFFとしたか否かを判断
する(ステップS5)。オペレータが製版装置のスイッ
チをOFFとするまでは、ステップS3、S4により一
定時間以上現像処理が中断する度に洗浄動作が行われ
る。Then, in order to end the development processing, it is determined whether or not the operator has turned off the switch of the plate making apparatus (step S5). Until the operator turns off the switch of the plate making apparatus, the washing operation is performed every time the developing process is interrupted for a certain period of time in steps S3 and S4.
【0047】オペレータが製版装置のスイッチをOFF
とすれば、最終の洗浄動作が行われる(ステップS
6)。この洗浄動作は、現像処理装置3を停止する前に
予め一対の絞りローラ44、45を洗浄しておくことに
より、現像処理装置3の停止中における一対の絞りロー
ラ44、45の表面への現像液の結晶の発生を防止する
ことを目的とするものである。そして、最終の洗浄動作
が終了すれば、処理を終了する。なお、この後必要に応
じて装置への通電を停止する。The operator turns off the switch of the plate making apparatus.
Then, the final cleaning operation is performed (step S
6). This cleaning operation is performed by cleaning the pair of squeezing rollers 44 and 45 in advance before stopping the developing processing device 3, and thereby developing the surface of the pair of squeezing rollers 44 and 45 while the developing processing device 3 is stopped. It is intended to prevent the generation of liquid crystals. Then, when the final cleaning operation is completed, the processing is completed. After that, the power supply to the device is stopped as necessary.
【0048】上記洗浄動作時においては、制御部160
の指令により、ポンプ106がポンプ駆動部165の駆
動を受けて洗浄液貯留部104から洗浄液供給管105
に洗浄液を供給し、この洗浄液を洗浄液供給管105か
ら一対の絞りローラ44、45に滴下する。この一回の
洗浄動作におけるポンプ106による洗浄液の供給は、
洗浄効率を高めるため、複数回に分割して行われる。At the time of the above-mentioned cleaning operation, the controller 160
The pump 106 receives the drive of the pump driving unit 165 from the cleaning liquid storage unit 104 to supply the cleaning liquid supply pipe 105
The cleaning liquid is supplied to the pair of squeezing rollers 44 and 45 from the cleaning liquid supply pipe 105. The supply of the cleaning liquid by the pump 106 in this one cleaning operation is as follows.
In order to increase the cleaning efficiency, the cleaning is performed in a plurality of times.
【0049】即ち、図8に示すように、洗浄動作が開始
されれば、先ず一回の洗浄動作における洗浄液供給回数
Nが0にセットされる(ステップS11)。そして、ポ
ンプ駆動部165の駆動によりポンプ106が駆動され
る(ステップS12)と共に、一対の絞りローラ44、
45の回転が開始される(ステップS13)。そして、
時間T1が経過すれば(ステップS14)、ポンプ10
6の駆動が停止される(ステップS15)。この時間T
1としては、例えば1.2秒程度の時間が設定されてい
る。That is, as shown in FIG. 8, when the cleaning operation is started, the number N of supply of the cleaning liquid in one cleaning operation is set to 0 (step S11). Then, the pump 106 is driven by the driving of the pump driving unit 165 (step S12), and the pair of squeezing rollers 44,
45 rotation is started (step S13). And
If the time T1 has elapsed (step S14), the pump 10
6 is stopped (step S15). This time T
For example, a time of about 1.2 seconds is set as 1.
【0050】その後、さらに時間T2が経過すれば、洗
浄液の供給回数Nに1を加算し(ステップS17)、こ
の供給回数が予め設定した回数nに達していないことを
確認した後(ステップS18)、再度ステップS12に
戻って上記の動作を繰り返す。この時間T2としては、
例えば5秒程度の時間が設定されており、また、nとし
ては、例えば5回程度の回数が設定されている。このた
め、上記ステップS12〜S18により、一回の洗浄動
作中に、互いに当接して回転している一対の絞りローラ
44、45に対する洗浄液の供給が、1.2秒の供給と
5秒の供給停止という動作を5回繰り返す分割供給動作
によりなされる。Thereafter, when the time T2 further elapses, 1 is added to the number of times N of supplying the cleaning liquid (step S17), and it is confirmed that the number of times of supply does not reach the preset number n (step S18). Then, the process returns to step S12 to repeat the above operation. As this time T2,
For example, a time of about 5 seconds is set, and as n, for example, about 5 times is set. Therefore, in steps S12 to S18, during one cleaning operation, the supply of the cleaning liquid to the pair of squeezing rollers 44 and 45 that are rotating while being in contact with each other is performed by the supply of 1.2 seconds and the supply of 5 seconds. This is performed by a divided supply operation in which the operation of stopping is repeated five times.
【0051】このように、洗浄液を複数回に分割して一
対の絞りローラ44、45に供給することにより、一対
の絞りローラ44、45上に先に供給された洗浄液が各
ローラ44、45の表面に拡がった後、再度各ローラ4
4、45表面に洗浄液が供給されることになるため、一
対の絞りローラ44、45上に少量の洗浄液しか供給し
ない場合であっても、各ローラ44、45の表面を効率
的に洗浄することが可能となる。例えば、上記実施の形
態において1.2秒間に5cc程度の洗浄液を供給する
動作を5回繰り返した場合、25ccの洗浄液を一度に
供給して洗浄を行った場合よりはるかに洗浄効果が高い
ことが本発明者等により確認されている。As described above, the cleaning liquid is divided into a plurality of times and supplied to the pair of squeezing rollers 44, 45, whereby the cleaning liquid previously supplied onto the pair of squeezing rollers 44, 45 is applied to the respective rollers 44, 45. After spreading on the surface,
Since the cleaning liquid is supplied to the surfaces of the rollers 4 and 45, even when only a small amount of the cleaning liquid is supplied onto the pair of squeezing rollers 44 and 45, the surfaces of the rollers 44 and 45 are efficiently cleaned. Becomes possible. For example, when the operation of supplying about 5 cc of the cleaning liquid in 1.2 seconds is repeated five times in the above-described embodiment, the cleaning effect is much higher than when 25 cc of the cleaning liquid is supplied at a time and the cleaning is performed. It has been confirmed by the present inventors.
【0052】上記ステップS12〜S18を繰り返すこ
とにより、洗浄液供給回数Nが予め設定した回数nに達
すれば(ステップS18)、一対の絞りローラ44、4
5の回転を停止して(ステップS19)、洗浄動作を終
了する。By repeating the above steps S12 to S18, if the number N of supplying the cleaning liquid reaches the preset number n (step S18), the pair of squeezing rollers 44, 4
The rotation of Step 5 is stopped (Step S19), and the cleaning operation ends.
【0053】なお、一対の絞りローラ44、45が製版
装置の搬送機構全体と同期して駆動を受ける場合のよう
に、洗浄動作とは無関係に回転する場合においては、上
述したステップS13およびS19は実行されない。When the pair of squeezing rollers 44 and 45 rotate independently of the cleaning operation, such as when the pair of squeezing rollers 44 and 45 are driven in synchronization with the entire transport mechanism of the plate making apparatus, the above-described steps S13 and S19 are performed. Not executed.
【0054】上述した実施の形態においては、鏡面ロー
ラ103に供給するための洗浄液貯留部104から一対
の絞りローラ44、45に洗浄液を供給する場合につい
て説明したが、一対の絞りローラ44、45専用の洗浄
液貯留部を別途設置し、この洗浄液貯留部より洗浄液を
供給するようにしてもよい。In the above-described embodiment, a case has been described in which the cleaning liquid is supplied from the cleaning liquid reservoir 104 to the mirror rollers 103 to the pair of squeezing rollers 44 and 45. The cleaning liquid storage section may be separately provided, and the cleaning liquid may be supplied from the cleaning liquid storage section.
【0055】また、一対の絞りローラ44、45を洗浄
するための洗浄液として、現像液や安定液を使用した場
合においても、現像液の結晶等を洗浄することができ
る。但し、図7におけるステップS6の洗浄動作時にお
いては、現像処理装置3の停止中における一対の絞りロ
ーラ44、45の表面への現像液の結晶の発生を防止す
るため、安定液または洗浄液を使用する必要がある。Further, even when a developing solution or a stabilizing solution is used as a washing solution for washing the pair of squeezing rollers 44 and 45, crystals of the developing solution can be washed. However, at the time of the cleaning operation in step S6 in FIG. 7, a stabilizing solution or a cleaning solution is used to prevent generation of crystals of the developing solution on the surfaces of the pair of squeezing rollers 44 and 45 while the developing device 3 is stopped. There is a need to.
【0056】また、上述した実施の形態においては、安
定液は通常結晶化しないことから、安定部33における
一対の絞りローラ74、75の洗浄は行っていないが、
結晶以外の汚染を防止するため、これらの絞りローラ7
4、75を洗浄するようにしてもよい。In the above-described embodiment, since the stabilizing liquid does not usually crystallize, the pair of squeezing rollers 74 and 75 in the stabilizing section 33 are not cleaned.
These squeezing rollers 7 are used to prevent contamination other than crystals.
4, 75 may be washed.
【0057】さらに、上述した実施の形態においては、
感光材料として銀錯塩拡散転写法(DTR法)を用いた
平版印刷版Mを使用し、この平版印刷版Mに現像に必要
な量の現像液のみを塗布して現像処理を行う現像処理装
置3にこの発明を適用した場合について説明したが、こ
の発明はその他の各種の感光材料処理装置にも適用する
ことが可能である。Further, in the above-described embodiment,
A lithographic printing plate M using a silver complex salt diffusion transfer method (DTR method) as a photosensitive material, and a developing processing device 3 for applying only a developing solution necessary for development to the lithographic printing plate M and performing a developing process. Although the present invention has been described with reference to the case where the present invention is applied, the present invention can also be applied to other various kinds of photosensitive material processing apparatuses.
【0058】[0058]
【発明の効果】請求項1に記載の発明によれば、絞りロ
ーラに対する洗浄液の供給を複数回に分割して行うこと
から、少量の洗浄液で絞りローラを効率的に洗浄するこ
とが可能となる。According to the first aspect of the present invention, since the supply of the cleaning liquid to the squeezing roller is performed in a plurality of times, the squeezing roller can be efficiently cleaned with a small amount of the cleaning liquid. .
【0059】請求項2に記載の発明によれば、ポンプを
所定時間間隔で複数回駆動することにより、洗浄液供給
部から絞りローラに洗浄液を複数回に分けて供給するこ
とから、処理液供給部から絞りローラに少量の洗浄液を
供給した場合であっても、絞りローラを十分に洗浄する
ことができる。According to the second aspect of the present invention, the cleaning liquid is supplied from the cleaning liquid supply unit to the squeezing roller in a plurality of times by driving the pump a plurality of times at predetermined time intervals. Even when a small amount of cleaning liquid is supplied to the squeeze roller, the squeeze roller can be sufficiently cleaned.
【図1】平版印刷版の製版装置の概要図である。FIG. 1 is a schematic diagram of a lithographic printing plate making apparatus.
【図2】現像処理装置3の概要図である。FIG. 2 is a schematic diagram of a developing device 3;
【図3】現像処理装置3の配管系を示す概要図である。FIG. 3 is a schematic diagram showing a piping system of the developing device 3;
【図4】現像液塗布機構43を示す概要図である。FIG. 4 is a schematic view showing a developer application mechanism 43.
【図5】安定液塗布機構73を示す概要図である。FIG. 5 is a schematic view showing a stable liquid application mechanism 73.
【図6】制御部160を示すブロック図である。FIG. 6 is a block diagram showing a control unit 160.
【図7】現像処理装置3における洗浄工程を示すフロー
チャートである。FIG. 7 is a flowchart showing a cleaning process in the developing device 3;
【図8】洗浄動作を示すフローチャートである。FIG. 8 is a flowchart showing a cleaning operation.
2 露光装置 3 現像処理装置 32 現像部 33 安定部 34 乾燥部 43 現像液塗布機構 44 絞りローラ 45 絞りローラ 104 洗浄液貯留部 105 洗浄液供給管 106 ポンプ 160 制御部 165 ポンプ駆動部 M 平版印刷版 Reference Signs List 2 Exposure device 3 Development processing device 32 Developing unit 33 Stabilizing unit 34 Drying unit 43 Developer coating mechanism 44 Squeeze roller 45 Squeeze roller 104 Cleaning solution storage unit 105 Cleaning solution supply pipe 106 Pump 160 Control unit 165 Pump drive unit M Planographic printing plate
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 川口 靖弘 滋賀県彦根市高宮町480番地の1 大日本 スクリーン製造株式会社彦根地区事業所内 (72)発明者 宮坂 英二 滋賀県彦根市高宮町480番地の1 大日本 スクリーン製造株式会社彦根地区事業所内 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (72) Inventor Yasuhiro Kawaguchi 1 at 480 Takamiya-cho, Hikone-shi, Shiga Japan Dainippon Screen Mfg. Co., Ltd. Hikone District Office (72) Inventor Eiji Miyasaka 480-takamiya-cho, Hikone-shi, Shiga 1 Dainippon Screen Mfg. Co., Ltd. in Hikone district office
Claims (2)
感光材料に付着した処理液を除去する絞りローラに洗浄
液を供給することによって、当該絞りローラを洗浄する
絞りローラの洗浄方法であって、 前記絞りローラに対する洗浄液の供給を複数回に分割し
て行うことを特徴とする感光材料処理装置における絞り
ローラの洗浄方法。1. A method of cleaning a squeezing roller, comprising: supplying a cleaning liquid to a squeezing roller that removes a processing liquid attached to the photographic material by rotating while sandwiching the photographic material; A method of cleaning a squeezing roller in a photosensitive material processing apparatus, wherein the supply of the cleaning liquid to the squeezing roller is performed in a plurality of times.
感光材料に付着した処理液を除去する一対の絞りローラ
を洗浄するための絞りローラの洗浄装置であって、 前記絞りローラの表面に洗浄液を供給するための洗浄液
供給部と、 洗浄液貯留部に貯留された洗浄液を前記洗浄液供給部に
圧送するためのポンプと、 前記ポンプを所定時間間隔で複数回駆動することによ
り、前記洗浄液供給部から前記絞りローラに洗浄液を複
数回に分けて供給するポンプ制御手段と、 を備えたことを特徴とする感光材料処理装置における絞
りローラの洗浄装置。2. A squeezing roller cleaning device for cleaning a pair of squeezing rollers for removing a processing liquid attached to the photographic material by sandwiching and rotating the photographic material, wherein a cleaning liquid is applied to a surface of the squeezing roller. A cleaning liquid supply section for supplying the cleaning liquid, a pump for pumping the cleaning liquid stored in the cleaning liquid storage section to the cleaning liquid supply section, and by driving the pump a plurality of times at predetermined time intervals, from the cleaning liquid supply section. A pump control means for supplying a cleaning liquid to the squeezing roller in a plurality of times; and a cleaning device for the squeezing roller in the photosensitive material processing apparatus.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23364796A JPH1062944A (en) | 1996-08-14 | 1996-08-14 | Method and apparatus for cleaning squeeze roller in photosensitive material processing apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23364796A JPH1062944A (en) | 1996-08-14 | 1996-08-14 | Method and apparatus for cleaning squeeze roller in photosensitive material processing apparatus |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1062944A true JPH1062944A (en) | 1998-03-06 |
Family
ID=16958327
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP23364796A Pending JPH1062944A (en) | 1996-08-14 | 1996-08-14 | Method and apparatus for cleaning squeeze roller in photosensitive material processing apparatus |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH1062944A (en) |
-
1996
- 1996-08-14 JP JP23364796A patent/JPH1062944A/en active Pending
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