JPH1067986A5 - - Google Patents
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- JPH1067986A5 JPH1067986A5 JP1997147688A JP14768897A JPH1067986A5 JP H1067986 A5 JPH1067986 A5 JP H1067986A5 JP 1997147688 A JP1997147688 A JP 1997147688A JP 14768897 A JP14768897 A JP 14768897A JP H1067986 A5 JPH1067986 A5 JP H1067986A5
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【0012】
さらにもう1つの態様において、本発明は、多層誘電体デバイスに関係するチタンとタングステンの金属層を研磨するための、フッ化物含有添加剤を含む化学的・機械的研磨用スラリーの使用方法である。
本発明のさらにもう1つの態様は、基材(以下、「基板」ともいう)に化学的・機械的研磨用スラリーを施し、基材にパッドを接触させ、基材に対してパッドを動かすことによってチタン接着層の少なくとも一部を除去することによってチタンを含む基材を研磨するために、本発明の化学的・機械的研磨用スラリーを使用する方法である。
さらにもう1つの態様において、本発明は、多層誘電体デバイスに関係するチタンとタングステンの金属層を研磨するための、フッ化物含有添加剤を含む化学的・機械的研磨用スラリーの使用方法である。
本発明のさらにもう1つの態様は、基材(以下、「基板」ともいう)に化学的・機械的研磨用スラリーを施し、基材にパッドを接触させ、基材に対してパッドを動かすことによってチタン接着層の少なくとも一部を除去することによってチタンを含む基材を研磨するために、本発明の化学的・機械的研磨用スラリーを使用する方法である。
Claims (40)
- (a) 酸化剤、(b) 研磨剤、及び(c) フッ化物含有添加剤を含んでなることを特徴とする水系の化学的・機械的研磨用スラリー。
- 0.01〜2.0重量%のフッ化物含有添加剤を含む請求項1に記載の化学的・機械的研磨用スラリー。
- フッ化物含有添加剤が、フッ化物含有酸、フッ化物塩、及びそれらの混合物から選択された請求項1に記載の化学的・機械的研磨用スラリー。
- フッ化物含有添加剤が、フッ化水素酸、フルオロケイ酸、フルオロホウ酸、フルオロチタン酸、及びそれらの混合物からなる群より選択されたフッ化物含有酸である請求項3に記載の化学的・機械的研磨用スラリー。
- フッ化物含有酸が、化学的・機械的研磨用スラリー中に、0.01〜0.3重量%の範囲の量で存在する請求項4に記載の化学的・機械的研磨用スラリー。
- フッ化物含有添加剤が、フッ化アンモニウム、フッ化カリウム、二フッ化水素アンモニウム、二フッ化水素カリウム、及びそれらの混合物からなる群より選択されたフッ化物塩である請求項3に記載の化学的・機械的研磨用スラリー。
- フッ化物塩がスラリー中に0.2〜1.0重量%の量で存在する請求項6に記載の化学的・機械的研磨用スラリー。
- 酸化剤が、鉄塩、カリウム塩、アンモニウム塩、第四アンモニウム塩、ホスホニウム塩、過酸化物、塩素酸塩、過塩素酸塩、硝酸塩、過マンガン酸塩、過硫酸塩、及びそれらの混合物を含む群より選択された請求項1に記載の化学的・機械的研磨用スラリー。
- 酸化剤が硝酸第二鉄である請求項8に記載の化学的・機械的研磨用スラリー。
- 1.5〜3.0のpHを有する請求項9に記載の化学的・機械的研磨用スラリー。
- 1.0〜5.0のpHを有する請求項1に記載の化学的・機械的研磨用スラリー。
- フッ化物含有添加剤がフッ化水素酸である請求項1に記載の化学的・機械的研磨用スラリー。
- フッ化水素酸がスラリー中に0.01〜0.3重量%の量で存在する請求項12に記載の化学的・機械的研磨用スラリー。
- 研磨材が金属酸化物である請求項1に記載の化学的・機械的研磨用スラリー。
- 金属酸化物研磨材が、アルミナ、セリア、ゲルマニア、シリカ、チタニア、ジルコニア、及びそれらの混合物からなる群より選択された請求項14に記載の化学的・機械的研磨用スラリー。
- 研磨材が金属酸化物の水分散系である請求項1に記載の化学的・機械的研磨用スラリー。
- 研磨材がアルミナである請求項1に記載の化学的・機械的研磨用スラリー。
- アルミナがヒュームドアルミナである請求項17に記載の化学的・機械的研磨用スラリー。
- 研磨材が微細な金属酸化物粒子からなる請求項1に記載の化学的・機械的研磨用スラリー。
- 微細な金属酸化物粒子が、沈降アルミナ又はヒュームドアルミナを含んでなる請求項19に記載の化学的・機械的研磨用スラリー。
- さらに界面活性剤を含んでなる請求項1に記載の化学的・機械的研磨用スラリー。
- 有機系酸、有機系酸の塩、及びそれらの混合物から選択された化合物をさらに含んでなる請求項1に記載の化学的・機械的研磨用スラリー。
- 無機系酸、無機系酸の塩、及びそれらの混合物から選択された化合物をさらに含んでなる請求項1に記載の化学的・機械的研磨用スラリー。
- 1〜7重量%の硝酸第二鉄、1〜12重量%のアルミナ、及び0.01〜2.0重量%のフッ化物含有添加剤を含んでなる、チタンとタングステンを含む基材の研磨に有用な水系の化学的・機械的研磨用スラリー。
- フッ化物含有添加剤が、フッ化物含有酸、フッ化物塩、及びそれらの混合物から選択された請求項24に記載の化学的・機械的研磨用スラリー。
- フッ化物含有添加剤が少なくとも1種のフッ化物含有酸と少なくとも1種のフッ化物塩をさらに含み、1.5〜3.0のpHを有する請求項24に記載の化学的・機械的研磨用スラリー。
- アルミナが水分散系のアルミナである請求項24に記載の化学的・機械的研磨用スラリー。
- アルミナがヒュームドアルミナである請求項24に記載の化学的・機械的研磨用スラリー。
- 3:1〜1:2のタングステン対チタンの研磨選択性(W:Ti)を有する請求項24に記載の化学的・機械的研磨用スラリー。
- (a) 酸化剤、フッ化物含有添加剤、及び研磨材を混合し、1.0〜5.0のpHを有する化学的・機械的研磨用スラリーを作成し、
(b) その化学的・機械的研磨用スラリーを基材に施し、
(c) パッドを基材に接触させ、基材に対してパッドを動かすことによってチタン接着層の少なくとも一部を除去する、
ことを含むことを特徴とする、チタン接着層を有する基材を研磨する方法。 - パッドを基材に接触して配置する前に、化学的・機械的研磨用スラリーをパッドに施す請求項30に記載の方法。
- 酸化剤とフッ化物含有添加剤が第1容器の中で水系溶液として収納され、研磨材の水分散系が第2溶液の中に収納され、パッドにスラリーを施す前に、第1容器の内容物の一部を第2容器の内容物の少なくとも一部と混合し、1〜7重量%の酸化剤、1〜6重量%の研磨材、及び0.01〜2.0重量%のフッ化物含有添加剤を含む水系の化学的・機械的研磨用スラリーを調製することを含む請求項30に記載の方法。
- フッ化物含有添加剤が、フッ化水素酸、フルオロケイ酸、及びそれらの混合物からなる群より選択されたフッ化物含有酸である請求項32に記載の方法。
- フッ化物含有添加剤がフッ化水素酸である請求項33に記載の方法。
- フッ化水素酸が0.05〜0.3重量%の量でスラリー中に存在する請求項34に記載の方法。
- フッ化物含有添加剤が、フッ化アンモニウム、フッ化カリウム、二フッ化水素アンモニウム、及びそれらの混合物からなる群より選択されたフッ化物塩である請求項32に記載の方法。
- フッ化物塩が0.2〜1.0重量%の量のフッ化カリウムである請求項36に記載の方法。
- (a) 硝酸第二鉄、アルミナ、及びフッ化水素酸を脱イオン水と混合し、1〜7重量%の硝酸第二鉄、1〜6重量%のアルミナ、及び0.1〜0.3重量%のフッ化水素酸を含む化学的・機械的研磨用スラリーを作成し、ここで、その化学的・機械的研磨用スラリーは1.5〜2.5のpHと、3:1〜1:2のタングステン対チタンの研磨選択性(W:Ti)を有し、
(b) その化学的・機械的研磨用スラリーを基材に施し、
(c) パッドを基材に接触させ、基材に対してパッドを動かすことによってチタン接着層の少なくとも一部とタングステン層の一部を除去する、
ことを含むことを特徴とする、チタン接着層とタングステン層を有する基材を研磨する方法。 - (a) 研磨材の水分散系を含む第1容器、及び(b) 酸化剤とフッ化物含有添加剤を含む第2容器、を備えた化学的・機械的研磨用スラリーを調製するのに有用なマルチパッケージシステム。
- 酸化剤とフッ化物含有添加剤を含む容器。
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