JPH1068939A - 液晶表示パネルの製造方法 - Google Patents
液晶表示パネルの製造方法Info
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- JPH1068939A JPH1068939A JP22643396A JP22643396A JPH1068939A JP H1068939 A JPH1068939 A JP H1068939A JP 22643396 A JP22643396 A JP 22643396A JP 22643396 A JP22643396 A JP 22643396A JP H1068939 A JPH1068939 A JP H1068939A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 液晶表示パネルの製造方法、特に液晶表示パ
ネルにおいてＴＦＴ基板に形成するカラーフィルタに関
し、低コストで高開口率化させる。 【解決手段】 絶縁基板２の上に遮光性金属にてなる複
数本のゲートバスライン（第１の帯状電極）３と、遮光
性金属にてなりゲートバスライン３に交差する複数本の
ドレインバスライン（第２の帯状電極）４を形成する工
程と、バスライン３と４の上に電着させることで格子状
となる樹脂層２１を形成する工程と、樹脂層２１の格子
状の空域部を埋め、一部分がバスライン３と４に重なる
透光性着色樹脂パターン２３を形成する工程と、樹脂層
２１を溶去せしめ、その溶去によって透光性着色樹脂パ
ターンの該一部分を除去させる工程を含む。
ネルにおいてＴＦＴ基板に形成するカラーフィルタに関
し、低コストで高開口率化させる。 【解決手段】 絶縁基板２の上に遮光性金属にてなる複
数本のゲートバスライン（第１の帯状電極）３と、遮光
性金属にてなりゲートバスライン３に交差する複数本の
ドレインバスライン（第２の帯状電極）４を形成する工
程と、バスライン３と４の上に電着させることで格子状
となる樹脂層２１を形成する工程と、樹脂層２１の格子
状の空域部を埋め、一部分がバスライン３と４に重なる
透光性着色樹脂パターン２３を形成する工程と、樹脂層
２１を溶去せしめ、その溶去によって透光性着色樹脂パ
ターンの該一部分を除去させる工程を含む。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は液晶表示パネルの製
造方法、特にアクティブマトリクス方式の液晶表示パネ
ルにおけるカラーフィルタを、薄膜トランジスタ（ＴＦ
Ｔ）基板に形成させる方法に関する。
造方法、特にアクティブマトリクス方式の液晶表示パネ
ルにおけるカラーフィルタを、薄膜トランジスタ（ＴＦ
Ｔ）基板に形成させる方法に関する。
【０００２】近年、液晶表示パネルは携帯用ＯＡ機器へ
の適応を考慮して、低消費電力化（バックライトの低輝
度化）、即ち液晶表示パネルの光透過率の改善が要望さ
れるようになった。
の適応を考慮して、低消費電力化（バックライトの低輝
度化）、即ち液晶表示パネルの光透過率の改善が要望さ
れるようになった。
【０００３】
【従来の技術】液晶表示パネルは一対の基板の間に液晶
を充填した構成であり、アクティブマトリクス方式の液
晶表示パネルは、一般に、一方のＴＦＴ基板に複数のド
レインバスラインと、複数のゲートバスラインと、その
交差部に位置するＴＦＴと、表示用画素電極を形成し、
他方のコモン基板にコモン電極とカラーフィルタを形成
する構成である。
を充填した構成であり、アクティブマトリクス方式の液
晶表示パネルは、一般に、一方のＴＦＴ基板に複数のド
レインバスラインと、複数のゲートバスラインと、その
交差部に位置するＴＦＴと、表示用画素電極を形成し、
他方のコモン基板にコモン電極とカラーフィルタを形成
する構成である。
【０００４】通常のカラーフィルタは、赤（Ｒ）と青
（Ｂ）と緑（Ｇ）の透光性着色樹脂パターンを、画素電
極に対応せしめストライプ状またはトライアングル状ま
たはモザイク状の選択的配列に形成したものであり、多
数の着色樹脂パターンの境界部分には、遮光マスクパタ
ーンが形成されている。
（Ｂ）と緑（Ｇ）の透光性着色樹脂パターンを、画素電
極に対応せしめストライプ状またはトライアングル状ま
たはモザイク状の選択的配列に形成したものであり、多
数の着色樹脂パターンの境界部分には、遮光マスクパタ
ーンが形成されている。
【０００５】図７は基本的なＴＦＴ基板の説明図、図８
は液晶表示パネルの断面図である。ただし、図７の平面
図において層間絶縁膜は、便宜上省略してある。図７に
おいて、ＴＦＴ基板１（図８参照）の表面には、図の左
右方向に延在する多数本のゲートバスライン３と、図の
上下方向に延在する多数本のドレインバスライン４が形
成され、ゲートバスライン３とドレインバスライン４の
各交差点近傍には、ＴＦＴ５が形成されており、ＴＦＴ
５はゲートバスライン３から延在するゲート電極６と、
ドレインバスライン４から延在するドレイン電極７と、
チャンネル形成層８およびソース電極９にて構成されて
いる。
は液晶表示パネルの断面図である。ただし、図７の平面
図において層間絶縁膜は、便宜上省略してある。図７に
おいて、ＴＦＴ基板１（図８参照）の表面には、図の左
右方向に延在する多数本のゲートバスライン３と、図の
上下方向に延在する多数本のドレインバスライン４が形
成され、ゲートバスライン３とドレインバスライン４の
各交差点近傍には、ＴＦＴ５が形成されており、ＴＦＴ
５はゲートバスライン３から延在するゲート電極６と、
ドレインバスライン４から延在するドレイン電極７と、
チャンネル形成層８およびソース電極９にて構成されて
いる。
【０００６】ゲートバスライン３とドレインバスライン
４とに囲われた領域には、ＴＦＴ５を避けＴＦＴ５のソ
ース電極９に接続された画素電極１０がパターン形成さ
れており、一般に画素電極１０はＩＴＯにて形成され
る。
４とに囲われた領域には、ＴＦＴ５を避けＴＦＴ５のソ
ース電極９に接続された画素電極１０がパターン形成さ
れており、一般に画素電極１０はＩＴＯにて形成され
る。
【０００７】図８において、ドレインバスライン４を横
切る方向の断面で示す液晶表示パネル１１は、ＴＦＴ基
板１とコモン基板１２の対向間隙に液晶１３が充填され
てなる。
切る方向の断面で示す液晶表示パネル１１は、ＴＦＴ基
板１とコモン基板１２の対向間隙に液晶１３が充填され
てなる。
【０００８】ＴＦＴ基板１において、ガラス基板２の表
面には、ドレインバスライン４等を覆う層間絶縁膜１４
が形成され、絶縁膜１４の上に形成された画素電極１０
を覆って配向膜１５が形成され、配向膜１５には液晶分
子を規則正しく配列させるラビング処理が施されてい
る。
面には、ドレインバスライン４等を覆う層間絶縁膜１４
が形成され、絶縁膜１４の上に形成された画素電極１０
を覆って配向膜１５が形成され、配向膜１５には液晶分
子を規則正しく配列させるラビング処理が施されてい
る。
【０００９】コモン基板１２は、ＴＦＴ基板８との対向
面に多数の窓があけられた遮光マスクパターン１７をガ
ラス基板１６に形成し、そのマスクパターン１７の開口
部を塞ぐように、透光性の透光性着色樹脂パターン１８
が形成され、その上のコモン電極膜１９の上に配向膜２
０が形成され、配向膜２０には液晶分子を規則正しく配
列させるラビング処理が施されている。
面に多数の窓があけられた遮光マスクパターン１７をガ
ラス基板１６に形成し、そのマスクパターン１７の開口
部を塞ぐように、透光性の透光性着色樹脂パターン１８
が形成され、その上のコモン電極膜１９の上に配向膜２
０が形成され、配向膜２０には液晶分子を規則正しく配
列させるラビング処理が施されている。
【００１０】透光性着色樹脂パターン１８は、赤
（Ｒ），緑（Ｇ），青（Ｂ）の３色に色分けされてお
り、色別の着色樹脂パターン１８の間に製造上の間隙が
生じたり色別段差が生じるときは、一般に平坦化層でそ
の間隙および段差を埋め、その透光性平坦化層の上にコ
モン電極１９と配向膜２０が形成される。
（Ｒ），緑（Ｇ），青（Ｂ）の３色に色分けされてお
り、色別の着色樹脂パターン１８の間に製造上の間隙が
生じたり色別段差が生じるときは、一般に平坦化層でそ
の間隙および段差を埋め、その透光性平坦化層の上にコ
モン電極１９と配向膜２０が形成される。
【００１１】かかる液晶表示パネル７における光透過率
を向上させるために、従来はカラーフィルタを構成す
る着色樹脂パターン１８を薄くする、遮光マスクパタ
ーン１７の開口率を大きくする方法が検討されてきた。
を向上させるために、従来はカラーフィルタを構成す
る着色樹脂パターン１８を薄くする、遮光マスクパタ
ーン１７の開口率を大きくする方法が検討されてきた。
【００１２】しかし、前記の方法は色純度が低下し、
の方法は形成される各種パターンの精度や製造過程に
おけるマスク合わせ精度および、コモン基板１２とＴＦ
Ｔ基板１の位置合わせ精度を改善する必要があり、所望
の効果が得難いという問題点があった。
の方法は形成される各種パターンの精度や製造過程に
おけるマスク合わせ精度および、コモン基板１２とＴＦ
Ｔ基板１の位置合わせ精度を改善する必要があり、所望
の効果が得難いという問題点があった。
【００１３】また、コモン基板１２とＴＦＴ基板１の位
置合わせ精度を緩和させためＴＦＴ基板１に着色樹脂パ
ターン１８を形成し、その開口率を向上させる方法とし
て、電着法により着色樹脂パターンを形成する構成（例
えば特開昭６１−６９０３０号参照）が提案されてい
る。しかし、その方法は画素電極の上に着色樹脂パター
ンを形成するため、液晶の駆動電圧が低下するといった
問題があった。
置合わせ精度を緩和させためＴＦＴ基板１に着色樹脂パ
ターン１８を形成し、その開口率を向上させる方法とし
て、電着法により着色樹脂パターンを形成する構成（例
えば特開昭６１−６９０３０号参照）が提案されてい
る。しかし、その方法は画素電極の上に着色樹脂パター
ンを形成するため、液晶の駆動電圧が低下するといった
問題があった。
【００１４】前記駆動電圧の低下に関する対策として、
着色樹脂パターンを電着法で形成したのち、その上に画
素電極を形成する方法（例えば特開平２−１５３３２５
号参照）が提案された。
着色樹脂パターンを電着法で形成したのち、その上に画
素電極を形成する方法（例えば特開平２−１５３３２５
号参照）が提案された。
【００１５】しかし、電着法で着色樹脂パターンを形成
するには、そのために電着用ダミー電極を形成する必要
があり、製造工程が増え高コストになるといった問題が
あった。
するには、そのために電着用ダミー電極を形成する必要
があり、製造工程が増え高コストになるといった問題が
あった。
【００１６】なお、電着法に限定されず画素電極の下に
カラーフィルタを形成する提案も多々あるが、パターン
形成精度が最近の高精細化に対応できない。
カラーフィルタを形成する提案も多々あるが、パターン
形成精度が最近の高精細化に対応できない。
【００１７】
【発明が解決しようとする課題】以上説明したように、
色純度を損なうことなく、高開口化させようという従来
技術は、何れも効果の程度が低い、または製造工程が複
雑となり高コストになるという問題点があり、最近の高
精細化と低価格化に対応できなかった。
色純度を損なうことなく、高開口化させようという従来
技術は、何れも効果の程度が低い、または製造工程が複
雑となり高コストになるという問題点があり、最近の高
精細化と低価格化に対応できなかった。
【００１８】
【課題を解決するための手段】本発明の目的は、カラー
フィルタの従来の製造コストを維持し、アクティブマト
リクス方式における液晶表示パネルの高開口化である。
フィルタの従来の製造コストを維持し、アクティブマト
リクス方式における液晶表示パネルの高開口化である。
【００１９】上記目的を達成する本発明の第１の構成
は、絶縁基板の上に遮光性金属にてなる複数本の第１の
帯状電極と、遮光性金属にてなり該第１の帯状電極に交
差する複数本の第２の帯状電極を形成する工程と、該第
１および第２の帯状電極の上に電着させることで格子状
となる樹脂層を形成する工程と、該樹脂層の格子状の空
域部を埋め、一部分が該樹脂層に重なる透光性着色樹脂
パターンを形成する工程と、該樹脂層を溶去せしめ、そ
の溶去によって透光性着色樹脂パターンの該一部分を除
去させる工程を含むことである。
は、絶縁基板の上に遮光性金属にてなる複数本の第１の
帯状電極と、遮光性金属にてなり該第１の帯状電極に交
差する複数本の第２の帯状電極を形成する工程と、該第
１および第２の帯状電極の上に電着させることで格子状
となる樹脂層を形成する工程と、該樹脂層の格子状の空
域部を埋め、一部分が該樹脂層に重なる透光性着色樹脂
パターンを形成する工程と、該樹脂層を溶去せしめ、そ
の溶去によって透光性着色樹脂パターンの該一部分を除
去させる工程を含むことである。
【００２０】上記目的を達成する本発明の第２の構成
は、基板上に複数本の遮光性金属にてなるゲートバスラ
イン、層間絶縁膜を介して該ゲートバスラインに交差す
る複数本の遮光性金属にてなるドレインバスライン、該
ゲートバスラインとドレインバスラインとの各交差点近
傍に配設されたＴＦＴを形成する工程と、露呈する該ゲ
ートバスラインとドレインバスラインを電極とし、それ
らの上に電着させることで格子状となる樹脂層を形成す
る工程と、該樹脂層の格子状の空域部を埋め、一部分が
該樹脂層に重なる透光性着色樹脂パターンを形成する工
程と、該樹脂層を溶去せしめ、その溶去によって透光性
着色樹脂パターンの該一部分を除去する工程と、該樹脂
層を貫通するコンタクトホールを介して該ＴＦＴのソー
ス電極に接続する画素電極を、該透光性着色樹脂パター
ンの上に形成する工程を含むことである。
は、基板上に複数本の遮光性金属にてなるゲートバスラ
イン、層間絶縁膜を介して該ゲートバスラインに交差す
る複数本の遮光性金属にてなるドレインバスライン、該
ゲートバスラインとドレインバスラインとの各交差点近
傍に配設されたＴＦＴを形成する工程と、露呈する該ゲ
ートバスラインとドレインバスラインを電極とし、それ
らの上に電着させることで格子状となる樹脂層を形成す
る工程と、該樹脂層の格子状の空域部を埋め、一部分が
該樹脂層に重なる透光性着色樹脂パターンを形成する工
程と、該樹脂層を溶去せしめ、その溶去によって透光性
着色樹脂パターンの該一部分を除去する工程と、該樹脂
層を貫通するコンタクトホールを介して該ＴＦＴのソー
ス電極に接続する画素電極を、該透光性着色樹脂パター
ンの上に形成する工程を含むことである。
【００２１】上記目的を達成する本発明の第３の構成
は、前記第１または第２の構成における樹脂層に導電性
のポジ型感光性樹脂を使用することである。上記目的を
達成する本発明の第４の構成は、前記第１または第２の
構成における透光性着色樹脂パターンが赤と青と緑の３
色であり、該３色の透光性着色樹脂パターンを色別に選
択的配列で形成させることである。
は、前記第１または第２の構成における樹脂層に導電性
のポジ型感光性樹脂を使用することである。上記目的を
達成する本発明の第４の構成は、前記第１または第２の
構成における透光性着色樹脂パターンが赤と青と緑の３
色であり、該３色の透光性着色樹脂パターンを色別に選
択的配列で形成させることである。
【００２２】前記本発明の第１の構成は、交差する帯状
電極の上に樹脂層を電着し、樹脂層の空域部を埋めて着
色樹脂パターンを形成したのち、樹脂層を溶去させて着
色樹脂パターンの整形を行なう構成であり、帯状電極が
ブラックマスクとなる。
電極の上に樹脂層を電着し、樹脂層の空域部を埋めて着
色樹脂パターンを形成したのち、樹脂層を溶去させて着
色樹脂パターンの整形を行なう構成であり、帯状電極が
ブラックマスクとなる。
【００２３】かかるカラーフィルタの製造方法は、比較
的簡易な位置合わせ方法で、帯状電極の外縁に沿った着
色樹脂パターンが形成されるようになる。前記本発明の
第２の構成は、前記第１の構成のカラーフィルタの製造
方法を、液晶表示パネルのＴＦＴ基板におけるカラーフ
ィルタの製造に適用したものであり、該カラーフィルタ
の製造を容易ならしめることになる。
的簡易な位置合わせ方法で、帯状電極の外縁に沿った着
色樹脂パターンが形成されるようになる。前記本発明の
第２の構成は、前記第１の構成のカラーフィルタの製造
方法を、液晶表示パネルのＴＦＴ基板におけるカラーフ
ィルタの製造に適用したものであり、該カラーフィルタ
の製造を容易ならしめることになる。
【００２４】前記本発明の第３の構成は、樹脂層の溶去
を容易ならしめるためのものであり、前記本発明の第４
の構成は、フルカラーの液晶表示装置用ＴＦＴ基板に適
用するため、着色樹脂パターンを赤，青，緑の３色とし
たものである。
を容易ならしめるためのものであり、前記本発明の第４
の構成は、フルカラーの液晶表示装置用ＴＦＴ基板に適
用するため、着色樹脂パターンを赤，青，緑の３色とし
たものである。
【００２５】
【発明の実施の形態】図１と図２は本発明の実施例にお
けるカラーフィルタの製造方法の説明図である。ただ
し、図１（ａ）は本発明の液晶表示パネル用カラーフィ
ルタ形成前の平面図であり、ゲートバスラインとドレイ
ンバスラインの交差部の層間絶縁膜を省略した図、図１
（ｂ）〜（ｄ）と図２（ａ）〜（ｃ）は本発明の液晶表
示パネル用カラーフィルタの製造工程を説明するためド
レインバスラインを横断する断面図であり、図１および
２において、図７および８と共通部分には同一符号を使
用した。
けるカラーフィルタの製造方法の説明図である。ただ
し、図１（ａ）は本発明の液晶表示パネル用カラーフィ
ルタ形成前の平面図であり、ゲートバスラインとドレイ
ンバスラインの交差部の層間絶縁膜を省略した図、図１
（ｂ）〜（ｄ）と図２（ａ）〜（ｃ）は本発明の液晶表
示パネル用カラーフィルタの製造工程を説明するためド
レインバスラインを横断する断面図であり、図１および
２において、図７および８と共通部分には同一符号を使
用した。
【００２６】図１（ａ）に示す如く、ガラス基板の表面
には、遮光性金属にてなる帯状のゲートバスライン（第
１の帯状電極）３とドレインバスライン（第２の帯状電
極）４および、ゲートバスライン３とドレインバスライ
ン４に接続するＴＦＴ５を形成する。
には、遮光性金属にてなる帯状のゲートバスライン（第
１の帯状電極）３とドレインバスライン（第２の帯状電
極）４および、ゲートバスライン３とドレインバスライ
ン４に接続するＴＦＴ５を形成する。
【００２７】ゲートバスライン３とドレインバスライン
４およびＴＦＴ５は、通常の従来技術、即ち成膜工程・
レジスト塗布工程・レジスト膜の露光現像工程・成膜の
エッチング工程・レジストパターンの剥離工程を繰り返
しで形成するが、幅が１０μｍ〜２０μｍ程度のゲート
バスライン３とドレインバスライン４は、遮光性金属例
えば厚さ０．１μｍ程度の金属クローム膜から形成す
る。
４およびＴＦＴ５は、通常の従来技術、即ち成膜工程・
レジスト塗布工程・レジスト膜の露光現像工程・成膜の
エッチング工程・レジストパターンの剥離工程を繰り返
しで形成するが、幅が１０μｍ〜２０μｍ程度のゲート
バスライン３とドレインバスライン４は、遮光性金属例
えば厚さ０．１μｍ程度の金属クローム膜から形成す
る。
【００２８】次いで、図１（ｂ）に示す如く、ガラス基
板２の表面に露呈するが図示さないゲートバスライン３
と、露呈するドレインバスライン４を電極とし、それら
の上に厚さ１〜２μｍ程度の導電性樹脂（レジスト）層
２１を電着させる。
板２の表面に露呈するが図示さないゲートバスライン３
と、露呈するドレインバスライン４を電極とし、それら
の上に厚さ１〜２μｍ程度の導電性樹脂（レジスト）層
２１を電着させる。
【００２９】格子状の樹脂層２１は、ゲートバスライン
３，ドレインバスライン４，ゲート電極６，ドレイン電
極７の側面にも電着される。しかし，それら側面におけ
る樹脂層２１の厚さは、バスライン３，４の幅に比べて
僅かである。従って、図１（ｂ）以降の図ではバスライ
ン３，４等の側面に被着する樹脂層２１の図示を省略し
ている。
３，ドレインバスライン４，ゲート電極６，ドレイン電
極７の側面にも電着される。しかし，それら側面におけ
る樹脂層２１の厚さは、バスライン３，４の幅に比べて
僅かである。従って、図１（ｂ）以降の図ではバスライ
ン３，４等の側面に被着する樹脂層２１の図示を省略し
ている。
【００３０】次いで、図１（ｃ）に示す如く、スピンコ
ート法等により所定色の第１の透光性着色樹脂層、例え
ば透光性赤色樹脂層２２を形成したのち、その樹脂層２
２を通常の方法（露光・現像）で選択的に除去し、所定
の硬化処理、例えば２００℃のホットプレートで１分程
度焼成すると図１（ｄ）に示す如く、一部（周辺部）が
樹脂層２１に重なる赤色樹脂パターン２３が形成され
る。
ート法等により所定色の第１の透光性着色樹脂層、例え
ば透光性赤色樹脂層２２を形成したのち、その樹脂層２
２を通常の方法（露光・現像）で選択的に除去し、所定
の硬化処理、例えば２００℃のホットプレートで１分程
度焼成すると図１（ｄ）に示す如く、一部（周辺部）が
樹脂層２１に重なる赤色樹脂パターン２３が形成され
る。
【００３１】次いで、図２（ａ）に示す如く、赤色樹脂
パターン２３と同様な工程によって、第２，第３の着色
樹脂パターン、例えば青色樹脂パターン２４と緑色樹脂
パターン２５を形成すると、周辺部が樹脂層２１に重な
る樹脂パターン２３，２４，２５は、格子状樹脂層２１
の全ての空域部を、所定の配列例えばストライプ配列ま
たはモザイク配列またはトライアングル配列で埋めるよ
うになる。
パターン２３と同様な工程によって、第２，第３の着色
樹脂パターン、例えば青色樹脂パターン２４と緑色樹脂
パターン２５を形成すると、周辺部が樹脂層２１に重な
る樹脂パターン２３，２４，２５は、格子状樹脂層２１
の全ての空域部を、所定の配列例えばストライプ配列ま
たはモザイク配列またはトライアングル配列で埋めるよ
うになる。
【００３２】そこで、樹脂層２１が紫外線に反応するポ
ジ型レジストであるときには、図２（ｂ）に示す如くガ
ラス基板２の上方から、例えば強度が３５０mj/cm2の紫
外線２６を照射したのち、３０℃に加熱した１％メタ珪
酸ソーダ希釈液を、６０〜１２０秒程度スプレーする
と、図２（ｃ）に示す如く、樹脂層２１が溶去される。
ジ型レジストであるときには、図２（ｂ）に示す如くガ
ラス基板２の上方から、例えば強度が３５０mj/cm2の紫
外線２６を照射したのち、３０℃に加熱した１％メタ珪
酸ソーダ希釈液を、６０〜１２０秒程度スプレーする
と、図２（ｃ）に示す如く、樹脂層２１が溶去される。
【００３３】その際、樹脂層２１に重なる樹脂パターン
２３，２４，２５の一部も、樹脂層２１と共にリフトオ
フされるようになり、ガラス基板２の上に赤色樹脂パタ
ーン１８Ｒと青色樹脂パターン１８Ｂと緑色樹脂パター
ン１８Ｇが形成され、カラーフィルタが完成する。
２３，２４，２５の一部も、樹脂層２１と共にリフトオ
フされるようになり、ガラス基板２の上に赤色樹脂パタ
ーン１８Ｒと青色樹脂パターン１８Ｂと緑色樹脂パター
ン１８Ｇが形成され、カラーフィルタが完成する。
【００３４】図３と図４は着色樹脂パターンの上に画素
電極が形成されたＴＦＴ基板の製造方法の説明図、図５
はＴＦＴと透明電極の接続構造の説明図であり、図１ま
たは２と共通部分には同一符号を使用する。
電極が形成されたＴＦＴ基板の製造方法の説明図、図５
はＴＦＴと透明電極の接続構造の説明図であり、図１ま
たは２と共通部分には同一符号を使用する。
【００３５】図３（ａ）において、ガラス基板２の表面
には、図示されないＴＦＴと遮光性金属にてなる複数本
のゲートバスライン３および、遮光性金属にてなる複数
本のドレインバスライン４を形成したのち、ゲートバス
ライン３とドレインバスライン４を電極とし、それらの
上に厚さ１〜２μｍ程度の樹脂層２１を電着させる。
には、図示されないＴＦＴと遮光性金属にてなる複数本
のゲートバスライン３および、遮光性金属にてなる複数
本のドレインバスライン４を形成したのち、ゲートバス
ライン３とドレインバスライン４を電極とし、それらの
上に厚さ１〜２μｍ程度の樹脂層２１を電着させる。
【００３６】次いで、図３（ｂ）示す如く、スピンコー
ト法等により所定色の第１の透光性着色樹脂層、例えば
透光性赤色樹脂層２２を形成したのち、その樹脂層２２
を通常の方法で選択的に除去し、所定の硬化処理、例え
ば２００℃のホットプレートで１分程度焼成すると図３
（ｃ）に示す如く、基板２上には赤色樹脂パターン２３
が形成される。
ト法等により所定色の第１の透光性着色樹脂層、例えば
透光性赤色樹脂層２２を形成したのち、その樹脂層２２
を通常の方法で選択的に除去し、所定の硬化処理、例え
ば２００℃のホットプレートで１分程度焼成すると図３
（ｃ）に示す如く、基板２上には赤色樹脂パターン２３
が形成される。
【００３７】次いで、図３（ｄ）に示す如く、赤色樹脂
パターン２３と同様な工程によって、第２，第３の着色
樹脂パターン、例えば青色樹脂パターン２４と緑色樹脂
パターン２５を形成すると、一部分（周辺部）が樹脂層
２１に重なる樹脂パターン２３，２４，２５は、樹脂層
２１の全ての空域部を、所定の配列例えばストライプ配
列またはモザイク配列またはトライアングル配列で埋め
るようになる。
パターン２３と同様な工程によって、第２，第３の着色
樹脂パターン、例えば青色樹脂パターン２４と緑色樹脂
パターン２５を形成すると、一部分（周辺部）が樹脂層
２１に重なる樹脂パターン２３，２４，２５は、樹脂層
２１の全ての空域部を、所定の配列例えばストライプ配
列またはモザイク配列またはトライアングル配列で埋め
るようになる。
【００３８】そこで、樹脂パターン２３，２４，２５の
所定部、即ちＴＦＴ５のソース電極９に連通するコンタ
クトホール２９（図５参照）を形成したのち、図４
（ａ）に示す如く、樹脂パターン２３，２４，２５を覆
うＩＴＯ膜２７を被着する。
所定部、即ちＴＦＴ５のソース電極９に連通するコンタ
クトホール２９（図５参照）を形成したのち、図４
（ａ）に示す如く、樹脂パターン２３，２４，２５を覆
うＩＴＯ膜２７を被着する。
【００３９】次いで、樹脂層２１が紫外線で反応するポ
ジ型レジストであるときには、図４（ｂ）に示す如くガ
ラス基板２の上方から、例えば強度が３５０mj/cm2の紫
外線２６を照射したのち、３０℃に加熱した１％メタ珪
酸ソーダ希釈液を、６０〜１２０秒程度スプレーする
と、図４（ｃ）に示す如く、樹脂層２１が溶去される。
ジ型レジストであるときには、図４（ｂ）に示す如くガ
ラス基板２の上方から、例えば強度が３５０mj/cm2の紫
外線２６を照射したのち、３０℃に加熱した１％メタ珪
酸ソーダ希釈液を、６０〜１２０秒程度スプレーする
と、図４（ｃ）に示す如く、樹脂層２１が溶去される。
【００４０】その際、樹脂層２１に重なる樹脂パターン
２３，２４，２５の一部（周辺部）も、樹脂層２１と共
にリフトオフされるようになり、該リフトオフによって
形成された着色樹脂パターン１８Ｒ，１８Ｂ，１８Ｇの
上に画素電極１０が形成され、カラーフィルタ付きＴＦ
Ｔ基板３０が完成する。
２３，２４，２５の一部（周辺部）も、樹脂層２１と共
にリフトオフされるようになり、該リフトオフによって
形成された着色樹脂パターン１８Ｒ，１８Ｂ，１８Ｇの
上に画素電極１０が形成され、カラーフィルタ付きＴＦ
Ｔ基板３０が完成する。
【００４１】なお、ＴＦＴ５を横断する断面図である図
５において、６はゲート電極、３１は層間絶縁層、７は
ドレイン電極、８はチャンネル形成層、９はソース電
極、２９はコンタクトホールであり、画素電極１０の一
部がコンタクトホール２９に充填されソース電極９に接
続する。
５において、６はゲート電極、３１は層間絶縁層、７は
ドレイン電極、８はチャンネル形成層、９はソース電
極、２９はコンタクトホールであり、画素電極１０の一
部がコンタクトホール２９に充填されソース電極９に接
続する。
【００４２】図６は本発明のＴＦＴ基板を使用した液晶
表示パネルの説明図である。図６において、液晶表示パ
ネル４１は、ＴＦＴ基板３０とコモン基板３３の対向間
隙に液晶１３が充填されてなる。
表示パネルの説明図である。図６において、液晶表示パ
ネル４１は、ＴＦＴ基板３０とコモン基板３３の対向間
隙に液晶１３が充填されてなる。
【００４３】ＴＦＴ基板３０は、ガラス基板２の上面に
図１（ａ）に示す如き複数の遮光性金属にてなるゲート
バスライン３とドレインバスライン４および、ＴＦＴ５
を形成したのち、図３と４を用いて説明した樹脂パター
ン１８Ｒ，１８Ｂ，１８Ｇおよび画素電極１０を形成し
たのち、それらを覆う配向膜１５を被着せしめ、配向膜
１５には液晶分子を規則正しく配列させるラビング処理
が施されてなる。
図１（ａ）に示す如き複数の遮光性金属にてなるゲート
バスライン３とドレインバスライン４および、ＴＦＴ５
を形成したのち、図３と４を用いて説明した樹脂パター
ン１８Ｒ，１８Ｂ，１８Ｇおよび画素電極１０を形成し
たのち、それらを覆う配向膜１５を被着せしめ、配向膜
１５には液晶分子を規則正しく配列させるラビング処理
が施されてなる。
【００４４】ＴＦＴ基板３０に対向するコモン基板３３
は、ガラス基板１６の下面にコモン電極１９と配向膜２
０が形成され、配向膜２０には液晶分子を規則正しく配
列させるラビング処理が施されてなる。
は、ガラス基板１６の下面にコモン電極１９と配向膜２
０が形成され、配向膜２０には液晶分子を規則正しく配
列させるラビング処理が施されてなる。
【００４５】かかる液晶表示パネル４１は、ゲートバス
ライン３とドレインバスライン４を駆動回路に接続し、
従来の液晶表示パネル１１と同様に駆動されるようにな
るが、着色樹脂パターン（カラーフィルタ）を電着でＴ
ＦＴ基板に形成し、その着色樹脂パターンの上に画素電
極を形成した従来の液晶表示パネルに比べ、ゲートバス
ライン３およびドレインバスライン４を電極し電着した
樹脂層２１の利用により工程が簡易となる、即ちカラー
フィルタ上の画素電極が着色樹脂パターンと同時に形成
されるため工程が簡易で低コストとなり、画素電極の外
縁はゲートバスラインおよびドレインバスラインの縁に
接するようになるため高開口となる。
ライン３とドレインバスライン４を駆動回路に接続し、
従来の液晶表示パネル１１と同様に駆動されるようにな
るが、着色樹脂パターン（カラーフィルタ）を電着でＴ
ＦＴ基板に形成し、その着色樹脂パターンの上に画素電
極を形成した従来の液晶表示パネルに比べ、ゲートバス
ライン３およびドレインバスライン４を電極し電着した
樹脂層２１の利用により工程が簡易となる、即ちカラー
フィルタ上の画素電極が着色樹脂パターンと同時に形成
されるため工程が簡易で低コストとなり、画素電極の外
縁はゲートバスラインおよびドレインバスラインの縁に
接するようになるため高開口となる。
【００４６】
【発明の効果】以上説明したように本発明のカラーフィ
ルタの製造方法は、低コストで高開口率のＴＦＴ基板を
提供し、アクティブマトリクス方式の液晶表示パネルの
低消費電力化を可能にする。
ルタの製造方法は、低コストで高開口率のＴＦＴ基板を
提供し、アクティブマトリクス方式の液晶表示パネルの
低消費電力化を可能にする。
【図１】 実施例におけるカラーフィルタの製造方法の
説明図（その１）
説明図（その１）
【図２】 実施例におけるカラーフィルタの製造方法の
説明図（その２）
説明図（その２）
【図３】 着色樹脂パターンの上に画素電極が形成され
たＴＦＴ基板の製造方法の説明図（その１）
たＴＦＴ基板の製造方法の説明図（その１）
【図４】 着色樹脂パターンの上に画素電極が形成され
たＴＦＴ基板の製造方法の説明図（その２）
たＴＦＴ基板の製造方法の説明図（その２）
【図５】 ＴＦＴと透明電極の接続構造の説明図
【図６】 実施例における液晶表示パネルの説明図
【図７】 基本的な従来のＴＦＴ基板の説明図
【図８】 従来の液晶表示パネルの断面図
２，１６ ガラス基板 ３ ゲートバスライン（第１の帯状電極） ４ ドレインバスライン（第２の帯状電極） ５ ＴＦＴ ６ ゲート電極 ７ ドレイン電極 ８ チャンネル形成層 ９ ソース電極 １０ 画素電極（透明電極） １３ 液晶 １８Ｒ 赤色樹脂パターン １８Ｂ 青色樹脂パターン １８Ｇ 緑色樹脂パターン １９ コモン電極 ２１ 樹脂層 ２２ 赤色樹脂層 ２３，２４，２５ 樹脂パターン ２６ 紫外線 ２９ コンタクトホール ３０ ＴＦＴ基板 ３３ コモン基板 ４１ 液晶表示パネル
Claims (4)
- 【請求項１】 絶縁基板の上に遮光性金属にてなる複数
本の第１の帯状電極と、遮光性金属にてなり該第１の帯
状電極に交差する複数本の第２の帯状電極を形成する工
程と、 該第１および第２の帯状電極の上に電着させることで格
子状となる樹脂層を形成する工程と、 該樹脂層の格子状の空域部を埋め、一部分が該樹脂層に
重なる透光性着色樹脂パターンを形成する工程と、 該樹脂層を溶去せしめ、その溶去によって透光性着色樹
脂パターンの該一部分を除去させる工程、 を含むことを特徴とする液晶表示パネルの製造方法。 - 【請求項２】 基板上に複数本の遮光性金属にてなるゲ
ートバスライン、層間絶縁膜を介して該ゲートバスライ
ンに交差する複数本の遮光性金属にてなるドレインバス
ライン、該ゲートバスラインとドレインバスラインとの
各交差点近傍に配設された薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）
を形成する工程と、 露呈する該ゲートバスラインとドレインバスラインの上
に電着させることで格子状となる樹脂層を形成する工程
と、 該樹脂層の格子状の空域部を埋め、一部分が該樹脂層に
重なる透光性着色樹脂パターンを形成する工程と、 該樹脂層を溶去せしめ、その溶去によって透光性着色樹
脂パターンの該一部分を除去する工程と、 該樹脂層を貫通するコンタクトホールを介して該ＴＦＴ
のソース電極に接続する画素電極を、該透光性着色樹脂
パターンの上に形成する工程、 を含むことを特徴とする液晶表示パネルの製造方法。 - 【請求項３】 前記樹脂層が導電性のポジ型感光性樹脂
であること、 を特徴とする請求項１または２記載の液晶表示パネルの
製造方法。 - 【請求項４】 前記透光性着色樹脂パターンが赤と青と
緑の３色であり、該３色の透光性着色樹脂パターンを色
別に選択的配列で形成させること、 を特徴とする請求項１または２記載の液晶表示パネルの
製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22643396A JP3620933B2 (ja) | 1996-08-28 | 1996-08-28 | 液晶表示パネルの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22643396A JP3620933B2 (ja) | 1996-08-28 | 1996-08-28 | 液晶表示パネルの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1068939A true JPH1068939A (ja) | 1998-03-10 |
| JP3620933B2 JP3620933B2 (ja) | 2005-02-16 |
Family
ID=16845045
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP22643396A Expired - Fee Related JP3620933B2 (ja) | 1996-08-28 | 1996-08-28 | 液晶表示パネルの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3620933B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2012506566A (ja) * | 2008-10-23 | 2012-03-15 | ケンブリッジ ディスプレイ テクノロジー リミテッド | 表示デバイスおよびバックプレーン |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH04253028A (ja) * | 1991-01-30 | 1992-09-08 | Sharp Corp | アクティブマトリクス型液晶表示装置およびその製造方法 |
| JPH06301057A (ja) * | 1993-04-16 | 1994-10-28 | Seiko Epson Corp | アクティブマトリックス液晶表示装置 |
| JPH07281169A (ja) * | 1994-04-06 | 1995-10-27 | Hitachi Ltd | カラー液晶表示装置及びその製造方法 |
| JPH0822027A (ja) * | 1994-07-05 | 1996-01-23 | Fujitsu Ltd | 薄膜トランジスタマトリクス基板とその製造方法 |
-
1996
- 1996-08-28 JP JP22643396A patent/JP3620933B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH04253028A (ja) * | 1991-01-30 | 1992-09-08 | Sharp Corp | アクティブマトリクス型液晶表示装置およびその製造方法 |
| JPH06301057A (ja) * | 1993-04-16 | 1994-10-28 | Seiko Epson Corp | アクティブマトリックス液晶表示装置 |
| JPH07281169A (ja) * | 1994-04-06 | 1995-10-27 | Hitachi Ltd | カラー液晶表示装置及びその製造方法 |
| JPH0822027A (ja) * | 1994-07-05 | 1996-01-23 | Fujitsu Ltd | 薄膜トランジスタマトリクス基板とその製造方法 |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2012506566A (ja) * | 2008-10-23 | 2012-03-15 | ケンブリッジ ディスプレイ テクノロジー リミテッド | 表示デバイスおよびバックプレーン |
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3620933B2 (ja) | 2005-02-16 |
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