JPH10727A - 反射防止フイルム及びその製造方法 - Google Patents
反射防止フイルム及びその製造方法Info
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- JPH10727A JPH10727A JP8177509A JP17750996A JPH10727A JP H10727 A JPH10727 A JP H10727A JP 8177509 A JP8177509 A JP 8177509A JP 17750996 A JP17750996 A JP 17750996A JP H10727 A JPH10727 A JP H10727A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 高機能、高品質な反射防止フイルムを大量生
産や設備コスト面で有利な塗布法によって提供するこ
と。 【解決手段】 透明基材フイルム上に、直接又は他の層
を介してハードコート層、高屈折率層及び低屈折率層を
積層してなる反射防止フイルムにおいて、上記低屈折率
層がＲmＳｉ（ＯＲ´）n（Ｒ及びＲ´は炭素数１〜１０
のアルキル基を表し、ｍ＋ｎは４であり、ｍ及びｎはそ
れぞれ整数である）で表される珪素アルコキシドを加水
分解して調製したＳｉＯ2ゾル液から形成されたＳｉＯ2
ゲル層からなることを特徴とする反射防止フイルム、及
びその製造方法。
産や設備コスト面で有利な塗布法によって提供するこ
と。 【解決手段】 透明基材フイルム上に、直接又は他の層
を介してハードコート層、高屈折率層及び低屈折率層を
積層してなる反射防止フイルムにおいて、上記低屈折率
層がＲmＳｉ（ＯＲ´）n（Ｒ及びＲ´は炭素数１〜１０
のアルキル基を表し、ｍ＋ｎは４であり、ｍ及びｎはそ
れぞれ整数である）で表される珪素アルコキシドを加水
分解して調製したＳｉＯ2ゾル液から形成されたＳｉＯ2
ゲル層からなることを特徴とする反射防止フイルム、及
びその製造方法。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、ワープロ、コンピ
ュータ、テレビ、プラズマディスプレイパネル等の各種
ディスプレイ、液晶表示装置に用いる偏光板の表面、透
明プラスチック類からなるサングラスレンズ、度付メガ
ネレンズ、カメラ用ファインダーレンズ等の光学レン
ズ、各種計器のカバー、自動車、電車等の窓ガラス等の
表面の反射防止に優れた反射防止フイルム及びその製造
方法に関する。
ュータ、テレビ、プラズマディスプレイパネル等の各種
ディスプレイ、液晶表示装置に用いる偏光板の表面、透
明プラスチック類からなるサングラスレンズ、度付メガ
ネレンズ、カメラ用ファインダーレンズ等の光学レン
ズ、各種計器のカバー、自動車、電車等の窓ガラス等の
表面の反射防止に優れた反射防止フイルム及びその製造
方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、カーブミラー、バックミラー、ゴ
ーグル、窓ガラス、パソコン、ワープロ、プラズマディ
スプレイ等のディスプレイ、その他種々の商業ディスプ
レイ等には、ガラスやプラスチック等の透明基板が用い
られており、これらの透明基板を通して物体や文字、図
形等の視覚情報を観察する場合、或いはミラーでは透明
基板を通して反射層からの像を観察する場合に、これら
の透明基板の表面が外光で反射して内部の視覚情報が見
えにくいという問題があった。
ーグル、窓ガラス、パソコン、ワープロ、プラズマディ
スプレイ等のディスプレイ、その他種々の商業ディスプ
レイ等には、ガラスやプラスチック等の透明基板が用い
られており、これらの透明基板を通して物体や文字、図
形等の視覚情報を観察する場合、或いはミラーでは透明
基板を通して反射層からの像を観察する場合に、これら
の透明基板の表面が外光で反射して内部の視覚情報が見
えにくいという問題があった。
【０００３】このような透明基板の反射を防止する方法
としては、従来、ガラスやプラスチックの表面に反射防
止塗料を塗布する方法、ガラス・プラスチック基材等の
透明基板の表面に、必要に応じてハードコート層を介し
て膜厚０．１μｍ程度のＭｇＦ2やＳｉＯ2等の薄膜を蒸
着やスパッタリング、プラズマＣＶＤ法等の気相法によ
り形成する方法があった。
としては、従来、ガラスやプラスチックの表面に反射防
止塗料を塗布する方法、ガラス・プラスチック基材等の
透明基板の表面に、必要に応じてハードコート層を介し
て膜厚０．１μｍ程度のＭｇＦ2やＳｉＯ2等の薄膜を蒸
着やスパッタリング、プラズマＣＶＤ法等の気相法によ
り形成する方法があった。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】気相法による機能性薄
膜の製造方法は、高機能且つ高品質な薄膜を得ることが
可能であるが、高真空系での精密な雰囲気の制御が必要
であり、又、特殊な加熱又はイオン発生加速装置を必要
とし、製造装置が複雑で大型化するために、必然的に製
造コストが高くなるという問題がある。又、薄膜の大面
積化或いは複雑な形状のものを製造することが困難であ
るという問題がある。他方、塗布法による機能性薄膜の
製造方法のうち、スプレー法によるものは、塗液の利用
効率が悪く、成膜条件の制御が困難である等の問題があ
る。又、浸漬法及びスクリーン印刷法等による塗布法を
利用する機能性薄膜の製造方法は、成膜原料の利用効率
が良く、大量生産や設備コスト面での有利さがあるが、
塗布法により得られる機能性薄膜は、気相法により得ら
れる薄膜に比較して機能及び品質が劣ると云う問題点が
ある。
膜の製造方法は、高機能且つ高品質な薄膜を得ることが
可能であるが、高真空系での精密な雰囲気の制御が必要
であり、又、特殊な加熱又はイオン発生加速装置を必要
とし、製造装置が複雑で大型化するために、必然的に製
造コストが高くなるという問題がある。又、薄膜の大面
積化或いは複雑な形状のものを製造することが困難であ
るという問題がある。他方、塗布法による機能性薄膜の
製造方法のうち、スプレー法によるものは、塗液の利用
効率が悪く、成膜条件の制御が困難である等の問題があ
る。又、浸漬法及びスクリーン印刷法等による塗布法を
利用する機能性薄膜の製造方法は、成膜原料の利用効率
が良く、大量生産や設備コスト面での有利さがあるが、
塗布法により得られる機能性薄膜は、気相法により得ら
れる薄膜に比較して機能及び品質が劣ると云う問題点が
ある。
【０００５】近年、塗布法によって優れた品質の薄膜を
得る方法として、無機又は有機超微粒子を酸性及び又は
アルカリ水溶液中に分散した分散液を、基材上に塗布
し、焼成する方法が提案されている。この製造方法によ
ると、大量生産や設備コスト面では有利であるが、製造
工程中に高温での焼成過程を必要とするため、プラスチ
ック基材には成膜が不可能なこと、又、基材と塗布膜と
の収縮度の違い等により被膜の均一性が十分でなく、気
相法により得られる薄膜に比較した場合に、依然として
性能が劣り、又、熱処理に長時間（例えば、数十分間以
上）を要し、生産性に劣ると云う欠点を有する。従っ
て、本発明の目的は、高機能且つ高品質な反射防止フイ
ルムを、大量生産や設備コスト面で有利な塗布法によっ
て提供することである。
得る方法として、無機又は有機超微粒子を酸性及び又は
アルカリ水溶液中に分散した分散液を、基材上に塗布
し、焼成する方法が提案されている。この製造方法によ
ると、大量生産や設備コスト面では有利であるが、製造
工程中に高温での焼成過程を必要とするため、プラスチ
ック基材には成膜が不可能なこと、又、基材と塗布膜と
の収縮度の違い等により被膜の均一性が十分でなく、気
相法により得られる薄膜に比較した場合に、依然として
性能が劣り、又、熱処理に長時間（例えば、数十分間以
上）を要し、生産性に劣ると云う欠点を有する。従っ
て、本発明の目的は、高機能且つ高品質な反射防止フイ
ルムを、大量生産や設備コスト面で有利な塗布法によっ
て提供することである。
【０００６】
【課題を解決するための手段】上記目的は以下の本発明
によって達成される。即ち、本発明は、透明基材フイル
ム上に、直接又は他の層を介してハードコート層、高屈
折率層及び低屈折率層を積層してなる反射防止フイルム
において、上記低屈折率層がＲmＳｉ（ＯＲ´）n（Ｒ及
びＲ´は炭素数１〜１０のアルキル基を表し、ｍ＋ｎは
４であり、ｍ及びｎはそれぞれ整数である）で表される
珪素アルコキシドを加水分解して調製したＳｉＯ2ゾル
液から形成されたＳｉＯ2ゲル層からなることを特徴と
する反射防止フイルム、及びその製造方法である。
によって達成される。即ち、本発明は、透明基材フイル
ム上に、直接又は他の層を介してハードコート層、高屈
折率層及び低屈折率層を積層してなる反射防止フイルム
において、上記低屈折率層がＲmＳｉ（ＯＲ´）n（Ｒ及
びＲ´は炭素数１〜１０のアルキル基を表し、ｍ＋ｎは
４であり、ｍ及びｎはそれぞれ整数である）で表される
珪素アルコキシドを加水分解して調製したＳｉＯ2ゾル
液から形成されたＳｉＯ2ゲル層からなることを特徴と
する反射防止フイルム、及びその製造方法である。
【０００７】本発明によれば、低級珪素アルコキシドを
加水分解して、数ナノメートルの微粒子をゾル−ゲル法
によって調製し、この超微粒子が分散しているゾル溶液
を、透明基材フイルムの面のハードコート層上に形成し
た高屈折率層上へ塗布後、透明基材フイルムの熱変形温
度以下の温度で熱処理するか、或いは活性エネルギー線
を照射してＳｉＯ2ゲル層を形成することにより、気相
法により得られる低屈折率層の性能とほぼ同様な性能を
有する低屈折率層が得られ、プラスチック基材等の如く
熱変形温度が低温である基材を用いても、高機能且つ高
品質の反射防止フイルムの形成が可能である。
加水分解して、数ナノメートルの微粒子をゾル−ゲル法
によって調製し、この超微粒子が分散しているゾル溶液
を、透明基材フイルムの面のハードコート層上に形成し
た高屈折率層上へ塗布後、透明基材フイルムの熱変形温
度以下の温度で熱処理するか、或いは活性エネルギー線
を照射してＳｉＯ2ゲル層を形成することにより、気相
法により得られる低屈折率層の性能とほぼ同様な性能を
有する低屈折率層が得られ、プラスチック基材等の如く
熱変形温度が低温である基材を用いても、高機能且つ高
品質の反射防止フイルムの形成が可能である。
【０００８】
【発明の実施の形態】次に実施の形態を挙げて本発明を
更に詳細に説明する。図１は、本発明の反射防止フイル
ムの一例の断面を図解的に示す図である。この例の反射
防止フイルムは、透明基材フイルム１上に、ハードコー
ト層２、高苦節率層３及び低屈折率層４を積層した例で
あり、図中の符号５は必要に応じて積層される接着層又
はプライマー層である。
更に詳細に説明する。図１は、本発明の反射防止フイル
ムの一例の断面を図解的に示す図である。この例の反射
防止フイルムは、透明基材フイルム１上に、ハードコー
ト層２、高苦節率層３及び低屈折率層４を積層した例で
あり、図中の符号５は必要に応じて積層される接着層又
はプライマー層である。
【０００９】本発明において、上記透明基材フイルムと
しては、透明性のあるフイルムであればいずれのフイル
ムでもよく、例えば、トリアセチルセルロースフイル
ム、ジアセチルセルロースフイルム、アセテートブチレ
ートセルロースフイルム、ポリエーテルサルホンフイル
ム、ポリアクリル系樹脂フイルム、ポリウレタン系樹脂
フイルム、ポリエステルフイルム、ポリカーボネートフ
イルム、ポリスルホンフイルム、ポリエーテルフイル
ム、トリメチルペンテンフイルム、ポリエーテルケトン
フイルム、（メタ）アクリロニトリルフイルム等が使用
できるが、これらの中では一軸又は二軸延伸ポリエステ
ルが透明性及び耐熱性に優れ、光学的に異方性が無い点
で好適に用いられる。その厚みは、通常は８μｍ〜１，
０００μｍ程度のものが好適に用いられる。
しては、透明性のあるフイルムであればいずれのフイル
ムでもよく、例えば、トリアセチルセルロースフイル
ム、ジアセチルセルロースフイルム、アセテートブチレ
ートセルロースフイルム、ポリエーテルサルホンフイル
ム、ポリアクリル系樹脂フイルム、ポリウレタン系樹脂
フイルム、ポリエステルフイルム、ポリカーボネートフ
イルム、ポリスルホンフイルム、ポリエーテルフイル
ム、トリメチルペンテンフイルム、ポリエーテルケトン
フイルム、（メタ）アクリロニトリルフイルム等が使用
できるが、これらの中では一軸又は二軸延伸ポリエステ
ルが透明性及び耐熱性に優れ、光学的に異方性が無い点
で好適に用いられる。その厚みは、通常は８μｍ〜１，
０００μｍ程度のものが好適に用いられる。
【００１０】上記透明基材フイルムの面に形成するハー
ドコート層及び高屈折率層は、熱硬化性樹脂や電離放射
線硬化型樹脂から形成するが、前記透明基材フイルムが
熱可塑性樹脂からなるので、塗膜の硬化時に高温を必要
としない電離放射線硬化型樹脂を使用することが好まし
い。尚、本明細書において、「ハードコート層」或いは
「ハード性を有する」とは、ＪＩＳ Ｋ５４００で示さ
れる鉛筆硬度試験でＨ以上の硬度を示すものをいう。
又、本発明において「高屈折率」及び「低屈折率」と
は、互いに隣接する層同士の相対的な屈折率の高低をい
う。
ドコート層及び高屈折率層は、熱硬化性樹脂や電離放射
線硬化型樹脂から形成するが、前記透明基材フイルムが
熱可塑性樹脂からなるので、塗膜の硬化時に高温を必要
としない電離放射線硬化型樹脂を使用することが好まし
い。尚、本明細書において、「ハードコート層」或いは
「ハード性を有する」とは、ＪＩＳ Ｋ５４００で示さ
れる鉛筆硬度試験でＨ以上の硬度を示すものをいう。
又、本発明において「高屈折率」及び「低屈折率」と
は、互いに隣接する層同士の相対的な屈折率の高低をい
う。
【００１１】ハードコート層及び高屈折率層を形成する
のに好適な電離放射線硬化型樹脂としては、好ましくは
アクリレート系の官能基を有するもの、例えば、比較的
低分子量のポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、アク
リル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、アルキッド樹
脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリ
チオールポリエン樹脂、多価アルコール等の多官能化合
物の（メタ）アクリレート等のオリゴマー又はプレポリ
マー、及び反応性希釈剤としてエチル（メタ）アクリレ
ート、エチルヘキシル（メタ）アクリレート、スチレ
ン、メチルスチレン、Ｎ−ビニルピロリドン等の単官能
モノマー、並びに多官能モノマー、例えば、トリメチロ
ールプロパントリ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオ
ール（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコール
ジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メ
タ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）
アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）
アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）ア
クリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリ
レート等を比較的多量に含有するものが使用できる。更
に、上記の電離放射線硬化型樹脂を紫外線硬化型樹脂と
するには、この中に光重合開始剤として、アセトフェノ
ン類、ベンゾフェノン類、ミヒラーベンゾイルベンゾエ
ート、α−アミロキシムエステル、テトラメチルチウラ
ムモノサルファイド、チオキサントン類や、光増感剤と
してｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、トリーｎ−
ブチルホスフィン等を混合して用いることができる。
のに好適な電離放射線硬化型樹脂としては、好ましくは
アクリレート系の官能基を有するもの、例えば、比較的
低分子量のポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、アク
リル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、アルキッド樹
脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリ
チオールポリエン樹脂、多価アルコール等の多官能化合
物の（メタ）アクリレート等のオリゴマー又はプレポリ
マー、及び反応性希釈剤としてエチル（メタ）アクリレ
ート、エチルヘキシル（メタ）アクリレート、スチレ
ン、メチルスチレン、Ｎ−ビニルピロリドン等の単官能
モノマー、並びに多官能モノマー、例えば、トリメチロ
ールプロパントリ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオ
ール（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコール
ジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メ
タ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）
アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）
アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）ア
クリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリ
レート等を比較的多量に含有するものが使用できる。更
に、上記の電離放射線硬化型樹脂を紫外線硬化型樹脂と
するには、この中に光重合開始剤として、アセトフェノ
ン類、ベンゾフェノン類、ミヒラーベンゾイルベンゾエ
ート、α−アミロキシムエステル、テトラメチルチウラ
ムモノサルファイド、チオキサントン類や、光増感剤と
してｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、トリーｎ−
ブチルホスフィン等を混合して用いることができる。
【００１２】ハードコート層及び高屈折率層を、上記の
電離放射線硬化型樹脂単独で形成する場合、硬化時に架
橋密度が高くなりすぎると、可撓性が低下し、得られる
反射防止フイルムの屈曲時にハードコート層或いは高屈
折率層にクラック等が入り易くなる場合がある。この場
合にはハードコート層及び高屈折率層形成用組成物に、
非反応性樹脂を組成物全体中で約５０重量％を占める量
までの範囲で混合することが好ましい。非反応性樹脂の
添加量が多すぎると、得られる層のハード性が不十分に
なる場合がある。この非反応性樹脂としては主として熱
可塑性樹脂が用いられる。特に、電離放射線硬化型樹脂
にポリエステルアクリレートとポリウレタンアクリレー
トの混合物を使用した場合には、使用する熱可塑性樹脂
にはポリメタクリル酸メチルアクリレート又はポリメタ
クリル酸ブチルアクリレートが塗膜の硬度を高く保つこ
とができる。しかも、この場合、主たる電離放射線硬化
型樹脂との屈折率が近いので塗膜の透明性を損なわず、
透明性、特に、低ヘイズ値、高透過率、又、相溶性の点
において有利である。
電離放射線硬化型樹脂単独で形成する場合、硬化時に架
橋密度が高くなりすぎると、可撓性が低下し、得られる
反射防止フイルムの屈曲時にハードコート層或いは高屈
折率層にクラック等が入り易くなる場合がある。この場
合にはハードコート層及び高屈折率層形成用組成物に、
非反応性樹脂を組成物全体中で約５０重量％を占める量
までの範囲で混合することが好ましい。非反応性樹脂の
添加量が多すぎると、得られる層のハード性が不十分に
なる場合がある。この非反応性樹脂としては主として熱
可塑性樹脂が用いられる。特に、電離放射線硬化型樹脂
にポリエステルアクリレートとポリウレタンアクリレー
トの混合物を使用した場合には、使用する熱可塑性樹脂
にはポリメタクリル酸メチルアクリレート又はポリメタ
クリル酸ブチルアクリレートが塗膜の硬度を高く保つこ
とができる。しかも、この場合、主たる電離放射線硬化
型樹脂との屈折率が近いので塗膜の透明性を損なわず、
透明性、特に、低ヘイズ値、高透過率、又、相溶性の点
において有利である。
【００１３】以上の成分からなるハードコート層及び高
屈折率層の屈折率は通常１．４９〜１．５１程度であ
る。図１に示した例では、ハードコート層及び高屈折率
層を高屈折率にするために、ハードコート層及び高屈折
率層形成用樹脂組成物中に、高屈折率の金属や金属酸化
物の超微粒子を添加して、形成されるハードコート層及
び高屈折率層の屈折率を１．５０〜２．３０程度に向上
させることが好ましい。ハードコート層及び高屈折率層
の屈折率を向上させる材料としては、例えば、ＺｎＯ
（屈折率１．９０）、ＴｉＯ2（屈折率２．３〜２．
７）、ＣｅＯ2（屈折率１．９５）、Ｓｂ2Ｏ5（屈折率
１．７１）、ＳｎＯ2、ＩＴＯ（屈折率１．９５）、Ｙ2
Ｏ3（屈折率１．８７）、Ｌａ2Ｏ3（屈折率１．９
５）、ＺｒＯ2（屈折率２．０５）、Ａｌ2Ｏ3（屈折率
１．６３）等の微粉末が挙げられる。又、ハードコート
層及び高屈折率層の屈折率を更に向上させるために、ハ
ードコート層及び高屈折率層形成用樹脂組成物中に、高
屈折率成分の分子や原子を含んだ樹脂を用いてもよい。
前記屈折率を向上させる成分の分子及び原子としては、
Ｆ以外のハロゲン原子、Ｓ、Ｎ、Ｐの原子、芳香族環等
が挙げられる。
屈折率層の屈折率は通常１．４９〜１．５１程度であ
る。図１に示した例では、ハードコート層及び高屈折率
層を高屈折率にするために、ハードコート層及び高屈折
率層形成用樹脂組成物中に、高屈折率の金属や金属酸化
物の超微粒子を添加して、形成されるハードコート層及
び高屈折率層の屈折率を１．５０〜２．３０程度に向上
させることが好ましい。ハードコート層及び高屈折率層
の屈折率を向上させる材料としては、例えば、ＺｎＯ
（屈折率１．９０）、ＴｉＯ2（屈折率２．３〜２．
７）、ＣｅＯ2（屈折率１．９５）、Ｓｂ2Ｏ5（屈折率
１．７１）、ＳｎＯ2、ＩＴＯ（屈折率１．９５）、Ｙ2
Ｏ3（屈折率１．８７）、Ｌａ2Ｏ3（屈折率１．９
５）、ＺｒＯ2（屈折率２．０５）、Ａｌ2Ｏ3（屈折率
１．６３）等の微粉末が挙げられる。又、ハードコート
層及び高屈折率層の屈折率を更に向上させるために、ハ
ードコート層及び高屈折率層形成用樹脂組成物中に、高
屈折率成分の分子や原子を含んだ樹脂を用いてもよい。
前記屈折率を向上させる成分の分子及び原子としては、
Ｆ以外のハロゲン原子、Ｓ、Ｎ、Ｐの原子、芳香族環等
が挙げられる。
【００１４】以上の成分からなるハードコート層及び高
屈折率層は、以上の成分を適当な溶剤に溶解又は分散さ
せて塗工液とし、この塗工液を前記基材フイルムに直接
塗布して硬化させるか、或いは離型フイルムに塗布して
硬化させた後、適当な接着剤を用いて前記透明基材フイ
ルムに転写させて形成することもできる。ハードコート
層の厚みは通常約３〜１０μｍ程度が好ましい。上記ハ
ードコート層及び高屈折率層の硬化には、通常の電離放
射線硬化型樹脂の硬化方法、即ち、電子線又は紫外線の
照射によって硬化する方法を用いることができる。例え
ば、電子線硬化の場合にはコックロフトワルトン型、バ
ンデグラフ型、共振変圧型、絶縁コア変圧器型、直線
型、ダイナミトロン型、高周波型等の各種電子線加速器
から放出される５０〜１０００ＫｅＶ、好ましくは１０
０〜３００ＫｅＶのエネルギーを有する電子線等が使用
され、紫外線硬化の場合には超高圧水銀灯、高圧水銀
灯、低圧水銀灯、カーボンアーク、キセノンアーク、メ
タルハライドランプ等の光線から発する紫外線等が利用
できる。
屈折率層は、以上の成分を適当な溶剤に溶解又は分散さ
せて塗工液とし、この塗工液を前記基材フイルムに直接
塗布して硬化させるか、或いは離型フイルムに塗布して
硬化させた後、適当な接着剤を用いて前記透明基材フイ
ルムに転写させて形成することもできる。ハードコート
層の厚みは通常約３〜１０μｍ程度が好ましい。上記ハ
ードコート層及び高屈折率層の硬化には、通常の電離放
射線硬化型樹脂の硬化方法、即ち、電子線又は紫外線の
照射によって硬化する方法を用いることができる。例え
ば、電子線硬化の場合にはコックロフトワルトン型、バ
ンデグラフ型、共振変圧型、絶縁コア変圧器型、直線
型、ダイナミトロン型、高周波型等の各種電子線加速器
から放出される５０〜１０００ＫｅＶ、好ましくは１０
０〜３００ＫｅＶのエネルギーを有する電子線等が使用
され、紫外線硬化の場合には超高圧水銀灯、高圧水銀
灯、低圧水銀灯、カーボンアーク、キセノンアーク、メ
タルハライドランプ等の光線から発する紫外線等が利用
できる。
【００１５】次に上記高屈折率層の面に、ＳｉＯ2ゾル
液から屈折率１．３８〜１．４６のＳｉＯ2ゲル膜から
なる低屈折率層を形成することによって、図１に示した
本発明の反射防止フイルムが得られる。ＳｉＯ2ゾル
は、珪素アルコキシドを塗布に適した有機溶剤に溶解
し、一定量の水を添加して加水分解を行って調製するこ
とができる。ＳｉＯ2ゾルの形成に使用する珪素アルコ
キシドの好ましい例は、ＲmＳｉ（ＯＲ´）nで表される
化合物であり、ここでＲ、Ｒ´は炭素数１〜１０のアル
キル基を表し、ｍ＋ｎは４であり、ｍ及びｎはそれぞれ
整数である。更に具体的には、テトラメトキシシラン、
テトラエトキシシラン、テトラ−ｉｓｏ−プロポキシシ
ラン、テトラ−ｎ−プロポキシシラン、テトラ−ｎ−ブ
トキシシラン、テトラ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、テト
ラ−ｔｅｒｔ−ブトキシシラン、テトラペンタエトキシ
シラン、テトラペンタ−ｉｓｏ−プロポキシシラン、テ
トラペンタ−ｎ−プロポキシシラン、テトラペンタ−ｎ
−ブトキシシラン、テトラペンタ−ｓｅｃ−ブトキシシ
ラン、テトラペンタ−ｔｅｒｔ−ブトキシシラン、メチ
ルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メ
チルトリプロポキシシラン、メチルトリブトキシシラ
ン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシ
ラン、ジメチルエトキシシラン、ジメチルメトキシシラ
ン、ジメチルプロポキシシラン、ジメチルブトキシシラ
ン、メチルジメトキシシラン、メチルジエトキシシラ
ン、ヘキシルトリメトキシシラン等が挙げられる。
液から屈折率１．３８〜１．４６のＳｉＯ2ゲル膜から
なる低屈折率層を形成することによって、図１に示した
本発明の反射防止フイルムが得られる。ＳｉＯ2ゾル
は、珪素アルコキシドを塗布に適した有機溶剤に溶解
し、一定量の水を添加して加水分解を行って調製するこ
とができる。ＳｉＯ2ゾルの形成に使用する珪素アルコ
キシドの好ましい例は、ＲmＳｉ（ＯＲ´）nで表される
化合物であり、ここでＲ、Ｒ´は炭素数１〜１０のアル
キル基を表し、ｍ＋ｎは４であり、ｍ及びｎはそれぞれ
整数である。更に具体的には、テトラメトキシシラン、
テトラエトキシシラン、テトラ−ｉｓｏ−プロポキシシ
ラン、テトラ−ｎ−プロポキシシラン、テトラ−ｎ−ブ
トキシシラン、テトラ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、テト
ラ−ｔｅｒｔ−ブトキシシラン、テトラペンタエトキシ
シラン、テトラペンタ−ｉｓｏ−プロポキシシラン、テ
トラペンタ−ｎ−プロポキシシラン、テトラペンタ−ｎ
−ブトキシシラン、テトラペンタ−ｓｅｃ−ブトキシシ
ラン、テトラペンタ−ｔｅｒｔ−ブトキシシラン、メチ
ルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メ
チルトリプロポキシシラン、メチルトリブトキシシラ
ン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシ
ラン、ジメチルエトキシシラン、ジメチルメトキシシラ
ン、ジメチルプロポキシシラン、ジメチルブトキシシラ
ン、メチルジメトキシシラン、メチルジエトキシシラ
ン、ヘキシルトリメトキシシラン等が挙げられる。
【００１６】上記珪素アルコキシドの加水分解は、上記
珪素アルコキシドを適当な溶媒中に溶解して行う。使用
する溶媒としては、例えば、メチルエチルケトン、イソ
プロピルアルコール、メタノール、エタノール、メチル
イソブチルケトン、酢酸エチル、酢酸ブチル等のアルコ
ール、ケトン、エステル類、ハロゲン化炭化水素、トル
エン、キシレン等の芳香族炭化水素、或いはこれらの混
合物が挙げられる。上記アルコキシドは上記溶媒中に、
該アルコキシドが１００％加水分解及び縮合したとして
生じるＳｉＯ2換算で０．１重量％以上、好ましくは
０．１〜１０重量％になるように溶解する。ＳｉＯ2ゾ
ルの濃度が０．１重量％未満であると形成されるゾル膜
が所望の特性が充分に発揮できず、一方、１０重量％を
越えると透明均質膜の形成が困難となる。又、本発明に
おいては、以上の固形分以内であるならば、有機物や無
機物バインダーを併用することも可能である。
珪素アルコキシドを適当な溶媒中に溶解して行う。使用
する溶媒としては、例えば、メチルエチルケトン、イソ
プロピルアルコール、メタノール、エタノール、メチル
イソブチルケトン、酢酸エチル、酢酸ブチル等のアルコ
ール、ケトン、エステル類、ハロゲン化炭化水素、トル
エン、キシレン等の芳香族炭化水素、或いはこれらの混
合物が挙げられる。上記アルコキシドは上記溶媒中に、
該アルコキシドが１００％加水分解及び縮合したとして
生じるＳｉＯ2換算で０．１重量％以上、好ましくは
０．１〜１０重量％になるように溶解する。ＳｉＯ2ゾ
ルの濃度が０．１重量％未満であると形成されるゾル膜
が所望の特性が充分に発揮できず、一方、１０重量％を
越えると透明均質膜の形成が困難となる。又、本発明に
おいては、以上の固形分以内であるならば、有機物や無
機物バインダーを併用することも可能である。
【００１７】この溶液に加水分解に必要な量以上の水を
加え、１５〜３５℃、好ましくは２２〜２８℃の温度
で、０．５〜１０時間、好ましくは２〜５時間撹拌を行
う。上記加水分解においては、触媒を用いることが好ま
しく、これらの触媒としては、塩酸、硝酸、硫酸又は酢
酸等の酸が好ましく、これらの酸を約０．００１〜２
０．０Ｎ、好ましくは０．００５〜５．０Ｎ程度の水溶
液として加え、該水溶液中の水分を加水分解用の水分と
することができる。以上の如くして得られたＳｉＯ2ゾ
ルは、無色透明な液体であり、ポットライフが約１ケ月
の安定な溶液であり、前記高屈折率層に対して濡れ性が
良く、塗布適性に優れている。
加え、１５〜３５℃、好ましくは２２〜２８℃の温度
で、０．５〜１０時間、好ましくは２〜５時間撹拌を行
う。上記加水分解においては、触媒を用いることが好ま
しく、これらの触媒としては、塩酸、硝酸、硫酸又は酢
酸等の酸が好ましく、これらの酸を約０．００１〜２
０．０Ｎ、好ましくは０．００５〜５．０Ｎ程度の水溶
液として加え、該水溶液中の水分を加水分解用の水分と
することができる。以上の如くして得られたＳｉＯ2ゾ
ルは、無色透明な液体であり、ポットライフが約１ケ月
の安定な溶液であり、前記高屈折率層に対して濡れ性が
良く、塗布適性に優れている。
【００１８】上記ゾル溶液には、各種の添加剤を添加す
ることができる。添加剤としては、成膜を促進する硬化
剤が挙げられ、これらの硬化剤としては、酢酸ナトリウ
ム、酢酸リチウム等の有機酸金属塩の酢酸、ギ酸等の有
機酸溶液が挙げられる。該有機溶剤溶液の濃度は約０．
０１〜０．１重量％程度であり、ゾル溶液に対する添加
量は、ゾル溶液中に存在するＳｉＯ2１００重量部に対
して上記有機酸塩として約０．１〜１重量部程度の範囲
が好ましい。
ることができる。添加剤としては、成膜を促進する硬化
剤が挙げられ、これらの硬化剤としては、酢酸ナトリウ
ム、酢酸リチウム等の有機酸金属塩の酢酸、ギ酸等の有
機酸溶液が挙げられる。該有機溶剤溶液の濃度は約０．
０１〜０．１重量％程度であり、ゾル溶液に対する添加
量は、ゾル溶液中に存在するＳｉＯ2１００重量部に対
して上記有機酸塩として約０．１〜１重量部程度の範囲
が好ましい。
【００１９】更に最終的に得られるゲル膜は、反射防止
フイルムの低屈折率層となるが、その屈折率を調整する
必要がある場合もある。例えば、屈折率を下げるために
フッ素系有機珪素化合物、屈折率を高めるために有機珪
素化合物、屈折率を更に高めるために硼素系有機化合物
等を添加することができる。具体的には、テトラエトキ
シシラン、テトラメトキシシラン、テトラプロポキシシ
ラン、テトラブトキシシラン、アルキルトリアルコキシ
シラン、コルコート４０（コルコート社製）、ＭＳ５１
（三菱化学製）、スノーテックス（日産化学製）等の有
機珪素化合物、ザフロンＦＣ−１１０，２２０，２５０
（東亜合成化学製）、セクラルコートＡ−４０２Ｂ（セ
ントラル硝子製）、ヘプタデカフルオロデシルトリメト
キシシラン、トリデカフルオロオクチルトリメトキシシ
ラン、トリフルオロプロピルトリメトキシシラン等のフ
ッ素化合物、硼酸トリエチル、硼酸トリメチル、硼酸ト
リプロピル、硼酸トリブチル等の硼素系化合物が挙げら
れる。これらの添加剤はゾルの調製時に加えてもよい
し、ゾルの形成後に加えてもよい。これらの添加剤を用
いることによって、珪素アルコキシドの加水分解時、或
いはその後にシラノール基と反応して更に均一で透明な
ゾル溶液が得られ、且つ形成されるゲル膜の屈折率をあ
る程度の範囲で変化させることができる。
フイルムの低屈折率層となるが、その屈折率を調整する
必要がある場合もある。例えば、屈折率を下げるために
フッ素系有機珪素化合物、屈折率を高めるために有機珪
素化合物、屈折率を更に高めるために硼素系有機化合物
等を添加することができる。具体的には、テトラエトキ
シシラン、テトラメトキシシラン、テトラプロポキシシ
ラン、テトラブトキシシラン、アルキルトリアルコキシ
シラン、コルコート４０（コルコート社製）、ＭＳ５１
（三菱化学製）、スノーテックス（日産化学製）等の有
機珪素化合物、ザフロンＦＣ−１１０，２２０，２５０
（東亜合成化学製）、セクラルコートＡ−４０２Ｂ（セ
ントラル硝子製）、ヘプタデカフルオロデシルトリメト
キシシラン、トリデカフルオロオクチルトリメトキシシ
ラン、トリフルオロプロピルトリメトキシシラン等のフ
ッ素化合物、硼酸トリエチル、硼酸トリメチル、硼酸ト
リプロピル、硼酸トリブチル等の硼素系化合物が挙げら
れる。これらの添加剤はゾルの調製時に加えてもよい
し、ゾルの形成後に加えてもよい。これらの添加剤を用
いることによって、珪素アルコキシドの加水分解時、或
いはその後にシラノール基と反応して更に均一で透明な
ゾル溶液が得られ、且つ形成されるゲル膜の屈折率をあ
る程度の範囲で変化させることができる。
【００２０】上記のＳｉＯ2ゾル溶液を用いて低屈折率
層を形成する方法は、該ＳｉＯ2ゾル溶液を、前記高屈
折率層の表面に対し、塗布法を用いて塗布し、その後塗
布物を活性エネルギー線照射処理するか或いは熱処理す
ることにより、ＳｉＯ2ゲル膜を形成することができ、
高屈折率層に対するゲル膜の密着性は著しく改善され
る。このようにして形成する低屈折率層の厚みは通常約
５０〜３００ｎｍの範囲が好ましい。前記ＳｉＯ2ゾル
溶液を高屈折率層へ塗布する方法としては、スピンコー
ト法、ディップ法、スプレー法、ロールコーター法、メ
ニスカスコーター法、フレキソ印刷法、スクリーン印刷
法、ビードコーター法等が挙げられる。
層を形成する方法は、該ＳｉＯ2ゾル溶液を、前記高屈
折率層の表面に対し、塗布法を用いて塗布し、その後塗
布物を活性エネルギー線照射処理するか或いは熱処理す
ることにより、ＳｉＯ2ゲル膜を形成することができ、
高屈折率層に対するゲル膜の密着性は著しく改善され
る。このようにして形成する低屈折率層の厚みは通常約
５０〜３００ｎｍの範囲が好ましい。前記ＳｉＯ2ゾル
溶液を高屈折率層へ塗布する方法としては、スピンコー
ト法、ディップ法、スプレー法、ロールコーター法、メ
ニスカスコーター法、フレキソ印刷法、スクリーン印刷
法、ビードコーター法等が挙げられる。
【００２１】上記ゾル溶液の塗布後に行う塗布層の熱処
理は、前記透明基材フイルムの熱変形温度以下の温度で
行う。例えば、透明基材フイルムがポリエチレンテレフ
タレートフイルム（ＰＥＴ）である場合には、約８０〜
１５０℃の温度で約１分間〜１時間熱処理を行ってシリ
カのゲル膜を形成することができる。このような熱処理
条件は、使用する透明基材フイルムの種類及び厚みによ
って異なるので、使用する透明基材フイルムの種類に応
じて決定すればよい。
理は、前記透明基材フイルムの熱変形温度以下の温度で
行う。例えば、透明基材フイルムがポリエチレンテレフ
タレートフイルム（ＰＥＴ）である場合には、約８０〜
１５０℃の温度で約１分間〜１時間熱処理を行ってシリ
カのゲル膜を形成することができる。このような熱処理
条件は、使用する透明基材フイルムの種類及び厚みによ
って異なるので、使用する透明基材フイルムの種類に応
じて決定すればよい。
【００２２】ゾル溶液の塗布後の硬化に使用する活性エ
ネルギー線としては、電子線又は紫外線が挙げられ、特
に前記ハードコート層及び高屈折率層の硬化に使用する
と同様な電子線が好ましい。上記熱処理及び電子線照射
は、空気を酸素で置換しながら、或いは十分な酸素雰囲
気中で行うことが好ましく、酸素雰囲気中で行うことに
よりＳｉＯ2の生成、重合・縮合が促進され、より均質
且つ高品質のゲル層を形成することができる。
ネルギー線としては、電子線又は紫外線が挙げられ、特
に前記ハードコート層及び高屈折率層の硬化に使用する
と同様な電子線が好ましい。上記熱処理及び電子線照射
は、空気を酸素で置換しながら、或いは十分な酸素雰囲
気中で行うことが好ましく、酸素雰囲気中で行うことに
よりＳｉＯ2の生成、重合・縮合が促進され、より均質
且つ高品質のゲル層を形成することができる。
【００２３】高屈折率層の形成の一例を挙げると、高屈
折率層は、低級金属アルコキシドＲ mＴｉ（ＯＲ´）
n（Ｒ及びＲ´は炭素数１〜１０のアルキル基を表し、
ｍ＋ｎは４であり、ｍ及びｎはそれぞれ整数である）又
はＲ mＴａ（ＯＲ´）n（Ｒ及びＲ´は炭素数１〜１０の
アルキル基を表し、ｍ＋ｎは５であり、ｍ及びｎはそれ
ぞれ整数である）で表される金属アルコキシドを加水分
解して調製した金属酸化物ゾルから形成することができ
る。
折率層は、低級金属アルコキシドＲ mＴｉ（ＯＲ´）
n（Ｒ及びＲ´は炭素数１〜１０のアルキル基を表し、
ｍ＋ｎは４であり、ｍ及びｎはそれぞれ整数である）又
はＲ mＴａ（ＯＲ´）n（Ｒ及びＲ´は炭素数１〜１０の
アルキル基を表し、ｍ＋ｎは５であり、ｍ及びｎはそれ
ぞれ整数である）で表される金属アルコキシドを加水分
解して調製した金属酸化物ゾルから形成することができ
る。
【００２４】上記低級金属アルコキシドとしては、例え
ば、チタンテトラエトキシド、チタンテトラ−ｉ−プロ
ポキシド、チタンテトラ−ｎ−プロポキシド、チタンテ
トラ−ｎ−ブトキシド、チタンテトラ−ｓｅｃ−ブトキ
シド、チタンテトラ−ｔｅｒｔ−ブトキシド、タンタル
ペンタエトキシド、タンタルペンタ−ｉ−プロポキシ
ド、タンタルペンタ−ｎ−プロポキシド、タンタルペン
タ−ｎ−ブトキシド、タンタルペンタ−ｓｅｃ−ブトキ
シド、タンタルペンタ−ｔｅｒｔ−ブトキシド等が挙げ
られる。
ば、チタンテトラエトキシド、チタンテトラ−ｉ−プロ
ポキシド、チタンテトラ−ｎ−プロポキシド、チタンテ
トラ−ｎ−ブトキシド、チタンテトラ−ｓｅｃ−ブトキ
シド、チタンテトラ−ｔｅｒｔ−ブトキシド、タンタル
ペンタエトキシド、タンタルペンタ−ｉ−プロポキシ
ド、タンタルペンタ−ｎ−プロポキシド、タンタルペン
タ−ｎ−ブトキシド、タンタルペンタ−ｓｅｃ−ブトキ
シド、タンタルペンタ−ｔｅｒｔ−ブトキシド等が挙げ
られる。
【００２５】上記金属アルコキシドの加水分解は、上記
金属アルコキシドを適当な溶媒中に溶解して行う。使用
する溶媒としては、例えば、メチルエチルケトン、イソ
プロピルアルコール、メタノール、エタノール、メチル
イソブチルケトン、酢酸エチル、酢酸ブチル等のアルコ
ール、ケトン、エステル類、ハロゲン化炭化水素、トル
エン、キシレン等の芳香族炭化水素、或いはこれらの混
合物が挙げられる。上記金属アルコキシドは上記溶媒中
に、該金属アルコキシドが１００％加水分解及び縮合し
たとして生じる金属酸化物換算で０．１％以上、好まし
くは０．１〜１０重量％になるように溶解する。金属酸
化物ゾルの濃度が０．１重量％未満であると形成される
機能膜が所望の特性が充分に発揮できず、一方、１０重
量％を越えると透明均質膜の形成が困難となる。又、上
記範囲内において、金属酸化物ゲル濃度を変化させるこ
とによって、ゲル濃度に比例して、得られるゲル膜の屈
折率を調整することができる。又、本発明においては、
以上の固形分以内であるならば、有機物や無機物バイン
ダーを併用することも可能である。
金属アルコキシドを適当な溶媒中に溶解して行う。使用
する溶媒としては、例えば、メチルエチルケトン、イソ
プロピルアルコール、メタノール、エタノール、メチル
イソブチルケトン、酢酸エチル、酢酸ブチル等のアルコ
ール、ケトン、エステル類、ハロゲン化炭化水素、トル
エン、キシレン等の芳香族炭化水素、或いはこれらの混
合物が挙げられる。上記金属アルコキシドは上記溶媒中
に、該金属アルコキシドが１００％加水分解及び縮合し
たとして生じる金属酸化物換算で０．１％以上、好まし
くは０．１〜１０重量％になるように溶解する。金属酸
化物ゾルの濃度が０．１重量％未満であると形成される
機能膜が所望の特性が充分に発揮できず、一方、１０重
量％を越えると透明均質膜の形成が困難となる。又、上
記範囲内において、金属酸化物ゲル濃度を変化させるこ
とによって、ゲル濃度に比例して、得られるゲル膜の屈
折率を調整することができる。又、本発明においては、
以上の固形分以内であるならば、有機物や無機物バイン
ダーを併用することも可能である。
【００２６】上記金属アルコキシド溶液に加水分解に必
要な量以上の水を加え、１５〜３５℃、好ましくは２２
〜２８℃の温度で、５〜３０時間、好ましくは１２〜１
６時間撹拌を行う。該加水分解においては、触媒を用い
ることが好ましく、これらの触媒としては、塩酸、硝
酸、硫酸、ギ酸、酢酸等の酸が好ましく、これらの酸を
約０．１〜２０．０Ｎ、好ましくは０．５〜７．０Ｎ程
度の水溶液として加え、該水溶液中の水分を加水分解用
の水分とすることができる。加水分解に際して上記範囲
において触媒の濃度を変化させることによって、触媒の
濃度に比例して、得られるゲル膜の屈折率を調整するこ
とができる。
要な量以上の水を加え、１５〜３５℃、好ましくは２２
〜２８℃の温度で、５〜３０時間、好ましくは１２〜１
６時間撹拌を行う。該加水分解においては、触媒を用い
ることが好ましく、これらの触媒としては、塩酸、硝
酸、硫酸、ギ酸、酢酸等の酸が好ましく、これらの酸を
約０．１〜２０．０Ｎ、好ましくは０．５〜７．０Ｎ程
度の水溶液として加え、該水溶液中の水分を加水分解用
の水分とすることができる。加水分解に際して上記範囲
において触媒の濃度を変化させることによって、触媒の
濃度に比例して、得られるゲル膜の屈折率を調整するこ
とができる。
【００２７】以上の如くして得られた金属酸化物ゾル
は、無色透明な液体であり、ポットライフが約１ケ月の
安定な溶液であり、前記ハードコート層に対して濡れ性
が良く、塗布適性に優れている。前記金属酸化物ゾル
を、前記ハードコート層の表面に対し、塗布法を用いて
塗布する。金属酸化物ゾルのハードコート層への塗布方
法としては、スピンコート法、ディップ法、スプレー
法、ロールコーター法、メニスカスコーター法、フレキ
ソ印刷法、スクリーン印刷法、ビードコーター法等が挙
げられる。
は、無色透明な液体であり、ポットライフが約１ケ月の
安定な溶液であり、前記ハードコート層に対して濡れ性
が良く、塗布適性に優れている。前記金属酸化物ゾル
を、前記ハードコート層の表面に対し、塗布法を用いて
塗布する。金属酸化物ゾルのハードコート層への塗布方
法としては、スピンコート法、ディップ法、スプレー
法、ロールコーター法、メニスカスコーター法、フレキ
ソ印刷法、スクリーン印刷法、ビードコーター法等が挙
げられる。
【００２８】その後塗布物を加熱処理及び又は活性エネ
ルギー線照射処理することにより、金属酸化物ゲル膜を
形成する。上記ゾル溶液を塗布後に行う塗布層の熱処理
は、前記ＳｉＯ2ゾル溶液の場合と同様に透明基材フイ
ルムの熱変形温度以下の温度で行う。又、上記ゾル溶液
を塗布後、その硬化に用いる活性エネルギー線として
は、前記ハードコート層の硬化に使用すると同様に電子
線が好ましい。電子線照射は、空気を酸素で置換しなが
ら、或いは十分な酸素雰囲気中で行うことが好ましく、
酸素雰囲気中で行うことにより金属酸化物の生成、重合
・縮合が促進され、より均質且つ高品質のゲル層を形成
することができる。次にＳｉＯ2ゲルからなる低屈折率
層を既術の様に形成して、本発明の反射防止フイルムが
得られる。
ルギー線照射処理することにより、金属酸化物ゲル膜を
形成する。上記ゾル溶液を塗布後に行う塗布層の熱処理
は、前記ＳｉＯ2ゾル溶液の場合と同様に透明基材フイ
ルムの熱変形温度以下の温度で行う。又、上記ゾル溶液
を塗布後、その硬化に用いる活性エネルギー線として
は、前記ハードコート層の硬化に使用すると同様に電子
線が好ましい。電子線照射は、空気を酸素で置換しなが
ら、或いは十分な酸素雰囲気中で行うことが好ましく、
酸素雰囲気中で行うことにより金属酸化物の生成、重合
・縮合が促進され、より均質且つ高品質のゲル層を形成
することができる。次にＳｉＯ2ゲルからなる低屈折率
層を既術の様に形成して、本発明の反射防止フイルムが
得られる。
【００２９】本発明の反射防止フイルムは、以上説明し
た各層の他に、各種機能を付与するための層を更に設け
ることができる。例えば、透明基材フイルムとハードコ
ート層との密着性を向上させるために接着剤層やプライ
マー層を設けたり、又、ハード性能を向上させるために
ハードコート層を複数層とすることができる。上記のよ
うに透明基材フイルムとハードコート層との中間に設け
られるその他の層の屈折率は、透明基材フイルムの屈折
率とハードコート層の屈折率の中間の値とすることが好
ましい。
た各層の他に、各種機能を付与するための層を更に設け
ることができる。例えば、透明基材フイルムとハードコ
ート層との密着性を向上させるために接着剤層やプライ
マー層を設けたり、又、ハード性能を向上させるために
ハードコート層を複数層とすることができる。上記のよ
うに透明基材フイルムとハードコート層との中間に設け
られるその他の層の屈折率は、透明基材フイルムの屈折
率とハードコート層の屈折率の中間の値とすることが好
ましい。
【００３０】上記他の層の形成方法は、上記のように透
明基材フイルム上に、所望の塗工液を直接又は間接的に
塗布して形成してもよく、又、透明基材フイルム上にハ
ードコート層を転写により形成する場合には、予め離型
フイルム上に形成したハードコート層上に他の層を形成
する塗工液を塗布して形成し、その後、透明基材フイル
ムと離型フイルムとを、離型フイルムの塗布面を内側に
してラミネートし、次いで離型フイルムを剥離すること
により、透明基材フイルムに他の層を転写してもよい。
又、本発明の反射防止フイルムの下面には、粘着剤が塗
布されていてもよく、この反射防止フイルムは反射防止
すべき対象物、例えば、偏光素子に貼着して用いること
ができる。以上の如くして得られる本発明の反射防止フ
イルムは、ワープロ、コンピュータ、テレビ、プラズマ
ディスプレイパネル等の各種ディスプレイ、液晶表示装
置に用いる偏光板の表面、透明プラスチック類からなる
サングラスレンズ、度付メガネレンズ、カメラ用ファイ
ンダーレンズ等の光学レンズ、各種計器のカバー、自動
車、電車等の窓ガラス等の表面の反射防止に有用であ
る。
明基材フイルム上に、所望の塗工液を直接又は間接的に
塗布して形成してもよく、又、透明基材フイルム上にハ
ードコート層を転写により形成する場合には、予め離型
フイルム上に形成したハードコート層上に他の層を形成
する塗工液を塗布して形成し、その後、透明基材フイル
ムと離型フイルムとを、離型フイルムの塗布面を内側に
してラミネートし、次いで離型フイルムを剥離すること
により、透明基材フイルムに他の層を転写してもよい。
又、本発明の反射防止フイルムの下面には、粘着剤が塗
布されていてもよく、この反射防止フイルムは反射防止
すべき対象物、例えば、偏光素子に貼着して用いること
ができる。以上の如くして得られる本発明の反射防止フ
イルムは、ワープロ、コンピュータ、テレビ、プラズマ
ディスプレイパネル等の各種ディスプレイ、液晶表示装
置に用いる偏光板の表面、透明プラスチック類からなる
サングラスレンズ、度付メガネレンズ、カメラ用ファイ
ンダーレンズ等の光学レンズ、各種計器のカバー、自動
車、電車等の窓ガラス等の表面の反射防止に有用であ
る。
【００３１】
【実施例】次に実施例及び比較例を挙げて本発明を更に
具体的に説明する。 実施例１ メチルトリエトキシシラン（ＭＴＥＯＳ）が理想的にＳ
ｉＯ2又はＭｅＳｉＯ1.5に加水分解及び縮合したと仮定
した時の固形分濃度が３重量％となるように、ＭＴＥＯ
Ｓを溶媒であるメチルエチルケトンに溶解し、液温が２
５℃に安定するまで３０分間撹拌した（Ａ液）。Ａ液中
に、触媒である濃度０．００５Ｎの塩酸をＭＴＥＯＳの
アルコキシド基と等モル量加え、２５℃で３時間加水分
解を行った（Ｂ液）。このＢ液に、硬化剤として酢酸ナ
トリウムと酢酸とを混合したものを加え、２５℃で１時
間撹拌しＳｉＯ２ゾル溶液を得た。
具体的に説明する。 実施例１ メチルトリエトキシシラン（ＭＴＥＯＳ）が理想的にＳ
ｉＯ2又はＭｅＳｉＯ1.5に加水分解及び縮合したと仮定
した時の固形分濃度が３重量％となるように、ＭＴＥＯ
Ｓを溶媒であるメチルエチルケトンに溶解し、液温が２
５℃に安定するまで３０分間撹拌した（Ａ液）。Ａ液中
に、触媒である濃度０．００５Ｎの塩酸をＭＴＥＯＳの
アルコキシド基と等モル量加え、２５℃で３時間加水分
解を行った（Ｂ液）。このＢ液に、硬化剤として酢酸ナ
トリウムと酢酸とを混合したものを加え、２５℃で１時
間撹拌しＳｉＯ２ゾル溶液を得た。
【００３２】表面が平滑なＰＥＴフイルム（ルミラーＴ
−６０：商品名、ダイヤホイル株式会社製、厚さ５０μ
ｍ）上に、電離放射線硬化型樹脂（Ｘ−１２−２４０
０：商品名、信越化学工業株式会社製）とＺｒＯ2超微
粒子（Ｎｏ．９２６：商品名、住友大阪セメント製、屈
折率１．９）とを重量比１５：１に配合した微粒子分散
液を０．１μｍ／ｄｒｙになるようにスリットリバース
コートにより塗工し、電子線を加速電圧１７５ｋＶで５
Ｍｒａｄ照射して塗膜を硬化させ、高屈折率層を形成し
た。この高屈折率層上に電離放射線硬化型樹脂（Ｘ−１
２−２４００）を７μｍ／ｄｒｙになるようにグラビア
リバースコートにより塗工し、電子線を加速電圧１７５
ＫｅＶで５Ｍｒａｄ照射して塗膜を硬化させ、ハードコ
ート層を形成した。このハードコート層上に２液硬化型
接着剤（ＬＸ６６０、ＫＷ７５（硬化剤））をグラビア
リバースコートにより塗工して接着剤層を形成した。
−６０：商品名、ダイヤホイル株式会社製、厚さ５０μ
ｍ）上に、電離放射線硬化型樹脂（Ｘ−１２−２４０
０：商品名、信越化学工業株式会社製）とＺｒＯ2超微
粒子（Ｎｏ．９２６：商品名、住友大阪セメント製、屈
折率１．９）とを重量比１５：１に配合した微粒子分散
液を０．１μｍ／ｄｒｙになるようにスリットリバース
コートにより塗工し、電子線を加速電圧１７５ｋＶで５
Ｍｒａｄ照射して塗膜を硬化させ、高屈折率層を形成し
た。この高屈折率層上に電離放射線硬化型樹脂（Ｘ−１
２−２４００）を７μｍ／ｄｒｙになるようにグラビア
リバースコートにより塗工し、電子線を加速電圧１７５
ＫｅＶで５Ｍｒａｄ照射して塗膜を硬化させ、ハードコ
ート層を形成した。このハードコート層上に２液硬化型
接着剤（ＬＸ６６０、ＫＷ７５（硬化剤））をグラビア
リバースコートにより塗工して接着剤層を形成した。
【００３３】次いで、この接着剤層を介してＰＥＴフイ
ルム（Ａ−４３００：商品名、東洋紡製、厚さ１００μ
ｍ）をラミネートし、４０℃で４日間エージングした
後、上記ＰＥＴフイルム（Ｔ−６０）を剥離して、ハー
ドコート層及び高屈折率層をＰＥＴフイルム（Ａ−４３
００）上に転写させた。得られたＰＥＴフイルム（Ａ−
４３００）上の高屈折率層上に、更に上記のＳｉＯ2ゾ
ル溶液を、膜厚が０．１μｍ／ｄｒｙになるように塗工
し、１２０℃で１時間の熱処理を行い、本発明の反射防
止フイルムを得た。得られた反射防止フイルムの全光線
透過率は９４．５％、ヘイズ値０．５、可視光線の波長
領域での最低反射率は０．２であり、反射防止性に優れ
ていた。又、その表面鉛筆硬度は３Ｈであり、ハード性
にも優れていた。
ルム（Ａ−４３００：商品名、東洋紡製、厚さ１００μ
ｍ）をラミネートし、４０℃で４日間エージングした
後、上記ＰＥＴフイルム（Ｔ−６０）を剥離して、ハー
ドコート層及び高屈折率層をＰＥＴフイルム（Ａ−４３
００）上に転写させた。得られたＰＥＴフイルム（Ａ−
４３００）上の高屈折率層上に、更に上記のＳｉＯ2ゾ
ル溶液を、膜厚が０．１μｍ／ｄｒｙになるように塗工
し、１２０℃で１時間の熱処理を行い、本発明の反射防
止フイルムを得た。得られた反射防止フイルムの全光線
透過率は９４．５％、ヘイズ値０．５、可視光線の波長
領域での最低反射率は０．２であり、反射防止性に優れ
ていた。又、その表面鉛筆硬度は３Ｈであり、ハード性
にも優れていた。
【００３４】実施例２ テトラブトキシチタン（Ｔｉ（ＯＣ4Ｈ9）4）が理想的
にＴｉＯ2に加水分解及び縮合したと仮定したときの固
形分濃度が３重量％となるように、（Ｔｉ（ＯＣ4Ｈ9）
4）を溶媒であるエチルセロソルブに溶解し、液温が２
５℃に安定する迄３０分間撹拌した（Ｃ液）。Ｃ液中
に、触媒である３Ｎの塩酸を（Ｔｉ（ＯＣ4Ｈ9）4）の
アルコキシド基に対して２．５倍モル量加え、２５℃で
３時間、加水分解を行いＴｉＯ2ゾル溶液を得た。
にＴｉＯ2に加水分解及び縮合したと仮定したときの固
形分濃度が３重量％となるように、（Ｔｉ（ＯＣ4Ｈ9）
4）を溶媒であるエチルセロソルブに溶解し、液温が２
５℃に安定する迄３０分間撹拌した（Ｃ液）。Ｃ液中
に、触媒である３Ｎの塩酸を（Ｔｉ（ＯＣ4Ｈ9）4）の
アルコキシド基に対して２．５倍モル量加え、２５℃で
３時間、加水分解を行いＴｉＯ2ゾル溶液を得た。
【００３５】透明基材フイルムとして厚さ５０μｍのＰ
ＥＴフイルム（ルミラーＴ−６０）を用意した。一方、
上記ＴｉＯ2ゾル溶液を、上記ＰＥＴフイルム上に乾燥
後の膜厚が０．１μｍ／ｄｒｙになるようにグラビアリ
バースコートにより塗工し、１２０℃で１時間熱処理を
行い、高屈折率層（屈折率１．９）を形成した。この高
屈折率層上にハードコート樹脂（ＰＰＺ−Ｎ−２００
０：商品名、大阪共栄化学社製）を７μｍ／ｄｒｙにな
るようにグラビアリバースコートにより塗工し、電子線
を加速電圧１７５ＫｅＶで５Ｍｒａｄ照射して塗膜を硬
化させ、ハードコート層を形成した。
ＥＴフイルム（ルミラーＴ−６０）を用意した。一方、
上記ＴｉＯ2ゾル溶液を、上記ＰＥＴフイルム上に乾燥
後の膜厚が０．１μｍ／ｄｒｙになるようにグラビアリ
バースコートにより塗工し、１２０℃で１時間熱処理を
行い、高屈折率層（屈折率１．９）を形成した。この高
屈折率層上にハードコート樹脂（ＰＰＺ−Ｎ−２００
０：商品名、大阪共栄化学社製）を７μｍ／ｄｒｙにな
るようにグラビアリバースコートにより塗工し、電子線
を加速電圧１７５ＫｅＶで５Ｍｒａｄ照射して塗膜を硬
化させ、ハードコート層を形成した。
【００３６】このハードコート層上に２液硬化型接着剤
（ＬＸ６６０、ＫＷ７５（硬化剤）：商品名、大日本イ
ンキ化学工業製）をグラビアリバースコートにより塗工
して接着剤層を形成した。次いで、この接着剤層を介し
てＰＥＴフイルム（Ａ−４３００）をラミネートし、４
０℃で４日間エージングした後、上記ＰＥＴフイルム
（Ｔ−６０）を剥離して、ハードコート層及び高屈折率
層をＰＥＴフイルム（Ａ−４３００）上に転写させた。
得られたＰＥＴフイルム（Ａ−４３００）上の高屈折率
層上に、実施例１のＳｉＯ2ゾル溶液を膜厚０．１μｍ
／ｄｒｙとなるように成膜して本発明の反射防止フイル
ムを得た。得られた反射防止フイルムの全光線透過率は
９４．５％、ヘイズ値０．４であり、反射防止性に優れ
ていた。又、その表面鉛筆硬度は３Ｈであり、ハード性
にも優れていた。
（ＬＸ６６０、ＫＷ７５（硬化剤）：商品名、大日本イ
ンキ化学工業製）をグラビアリバースコートにより塗工
して接着剤層を形成した。次いで、この接着剤層を介し
てＰＥＴフイルム（Ａ−４３００）をラミネートし、４
０℃で４日間エージングした後、上記ＰＥＴフイルム
（Ｔ−６０）を剥離して、ハードコート層及び高屈折率
層をＰＥＴフイルム（Ａ−４３００）上に転写させた。
得られたＰＥＴフイルム（Ａ−４３００）上の高屈折率
層上に、実施例１のＳｉＯ2ゾル溶液を膜厚０．１μｍ
／ｄｒｙとなるように成膜して本発明の反射防止フイル
ムを得た。得られた反射防止フイルムの全光線透過率は
９４．５％、ヘイズ値０．４であり、反射防止性に優れ
ていた。又、その表面鉛筆硬度は３Ｈであり、ハード性
にも優れていた。
【００３７】比較例１ 低屈折率層として真空蒸着法によってＳｉＯx膜を形成
した以外は実施例１と同様にして反射防止フイルムを作
製した。この反射防止フイルムの全光線透過率は９３．
８％、ヘイズ値は０．７であり、反射防止性が前記実施
例の場合よりも劣っていた。又、その表面鉛筆硬度は２
Ｈであった。
した以外は実施例１と同様にして反射防止フイルムを作
製した。この反射防止フイルムの全光線透過率は９３．
８％、ヘイズ値は０．７であり、反射防止性が前記実施
例の場合よりも劣っていた。又、その表面鉛筆硬度は２
Ｈであった。
【００３８】比較例２ 低屈折率層として真空蒸着法によってＳｉＯx膜を形成
した以外は実施例２と同様にして反射防止フイルムを作
製した。この反射防止フイルムの全光線透過率は９４．
０％、ヘイズ値は０．５であり、反射防止性が前記実施
例の場合よりも劣っていた。又、その表面鉛筆硬度は２
Ｈであった。
した以外は実施例２と同様にして反射防止フイルムを作
製した。この反射防止フイルムの全光線透過率は９４．
０％、ヘイズ値は０．５であり、反射防止性が前記実施
例の場合よりも劣っていた。又、その表面鉛筆硬度は２
Ｈであった。
【００３９】
【発明の効果】以上の如く、本発明によれば、低級珪素
アルコキシドを加水分解して、数ナノメートルの微粒子
をゾル−ゲル法によって調製し、この超微粒子が分散し
ているゾル溶液を、透明基材フイルムの面のハードコー
ト層上に形成した高屈折率層へ塗布後、透明基材フイル
ムの熱変形温度以下の温度で熱処理するか、或いは活性
エネルギー線を照射してＳｉＯ2ゲル層を形成すること
により、気相法により得られる低屈折率層の性能とほぼ
同様な性能を有する低屈折率層が得られ、プラスチック
基材等の如く熱変形温度が低温である基材を用いても、
高機能且つ高品質の反射防止フイルムの形成が可能であ
る。
アルコキシドを加水分解して、数ナノメートルの微粒子
をゾル−ゲル法によって調製し、この超微粒子が分散し
ているゾル溶液を、透明基材フイルムの面のハードコー
ト層上に形成した高屈折率層へ塗布後、透明基材フイル
ムの熱変形温度以下の温度で熱処理するか、或いは活性
エネルギー線を照射してＳｉＯ2ゲル層を形成すること
により、気相法により得られる低屈折率層の性能とほぼ
同様な性能を有する低屈折率層が得られ、プラスチック
基材等の如く熱変形温度が低温である基材を用いても、
高機能且つ高品質の反射防止フイルムの形成が可能であ
る。
【図１】 本発明の反射防止フイルムの一例の断面を説
明する図。
明する図。
１：透明基材フイルム ２：ハードコート層 ３：高屈折率層 ４：低屈折率層 ５：接着剤層
フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｂ３２Ｂ 27/36 Ｂ３２Ｂ 27/36 Ｇ０２Ｂ 1/11 Ｇ０２Ｂ 1/10 Ａ
Claims (7)
- 【請求項１】 透明基材フイルム上に、直接又は他の層
を介してハードコート層、高屈折率層及び低屈折率層を
積層してなる反射防止フイルムにおいて、上記低屈折率
層がＲmＳｉ（ＯＲ´）n（Ｒ及びＲ´は炭素数１〜１０
のアルキル基を表し、ｍ＋ｎは４であり、ｍ及びｎはそ
れぞれ整数である）で表される珪素アルコキシドを加水
分解して調製したＳｉＯ2ゾル液から形成されたＳｉＯ2
ゲル層からなることを特徴とする反射防止フイルム。 - 【請求項２】 低屈折率層の屈折率が１．３８〜１．４
６である請求項１に記載の反射防止フイルム。 - 【請求項３】 高屈折率層が、低級金属アルコキシドＲ
mＴｉ（ＯＲ´）n（Ｒ及びＲ´はそれぞれ炭素数０〜１
０のアルキル基を表し、ｍ＋ｎは４であり、ｍ及びｎは
それぞれ整数である）又はＲ mＴａ（ＯＲ´）n（Ｒ及び
Ｒ´は炭素数０〜１０のアルキル基を表し、ｍ＋ｎは５
であり、ｍ及びｎはそれぞれ整数である）で表される金
属アルコキシドを加水分解して調製した金属酸化物ゾル
からなる金属酸化物ゲル層である請求項１に記載の反射
防止フイルム。 - 【請求項４】 高屈折率層の屈折率が１．５０〜２．３
０である請求項１に記載の反射防止フイルム。 - 【請求項５】 透明基材フイルム上に、直接又は他の層
を介してハードコート層、高屈折率層及び低屈折率層を
積層することからなる反射防止フイルムの製造方法にお
いて、上記低屈折率層をＲmＳｉ（ＯＲ´）n（Ｒ及びＲ
´は炭素数１〜１０のアルキル基を表し、ｍ＋ｎは４で
あり、ｍ及びｎはそれぞれ整数である）で表される珪素
アルコキシドを加水分解して調製したＳｉＯ2ゾル液
を、透明基材フイルムの面に直接又は他の層を介して塗
布し、形成された塗布層を熱処理又は電離放射線照射し
てＳｉ０2ゲル層として形成することを特徴とする反射
防止フイルムの製造方法。 - 【請求項６】 低屈折率層の屈折率が１．３８〜１．４
６である請求項５に記載の反射防止フイルムの製造方
法。 - 【請求項７】 高屈折率層を、低級金属アルコキシドＲ
mＴｉ（ＯＲ´）n（Ｒ及びＲ´はそれぞれ炭素数０〜１
０のアルキル基を表し、ｍ＋ｎは４であり、ｍ及びｎは
それぞれ整数である）又はＲ mＴａ（ＯＲ´）n（Ｒ及び
Ｒ´は炭素数０〜１０のアルキル基を表し、ｍ＋ｎは５
であり、ｍ及びｎはそれぞれ整数である）で表される金
属アルコキシドを加水分解して調製した金属酸化物ゾル
から金属酸化物ゲル層として形成する請求項５に記載の
反射防止フイルムの製造方法。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17750996A JP3776979B2 (ja) | 1996-06-17 | 1996-06-17 | 反射防止フイルム及びその製造方法 |
| US08/876,907 US5925438A (en) | 1996-06-17 | 1997-06-16 | Antireflection film |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17750996A JP3776979B2 (ja) | 1996-06-17 | 1996-06-17 | 反射防止フイルム及びその製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10727A true JPH10727A (ja) | 1998-01-06 |
| JP3776979B2 JP3776979B2 (ja) | 2006-05-24 |
Family
ID=16032155
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17750996A Expired - Fee Related JP3776979B2 (ja) | 1996-06-17 | 1996-06-17 | 反射防止フイルム及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3776979B2 (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002307594A (ja) * | 2001-04-17 | 2002-10-23 | Nof Corp | 透過色調補正材料および用途 |
| JP2002317152A (ja) * | 2001-02-16 | 2002-10-31 | Toppan Printing Co Ltd | 低屈折率コーティング剤および反射防止フィルム |
| JP2003039586A (ja) * | 2001-08-03 | 2003-02-13 | Dainippon Printing Co Ltd | 低反射帯電防止性ハードコートフィルム |
| JP2004291540A (ja) * | 2003-03-28 | 2004-10-21 | Nippon Paper Industries Co Ltd | 高反射フィルム又はシート材 |
-
1996
- 1996-06-17 JP JP17750996A patent/JP3776979B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002317152A (ja) * | 2001-02-16 | 2002-10-31 | Toppan Printing Co Ltd | 低屈折率コーティング剤および反射防止フィルム |
| JP2002307594A (ja) * | 2001-04-17 | 2002-10-23 | Nof Corp | 透過色調補正材料および用途 |
| JP2003039586A (ja) * | 2001-08-03 | 2003-02-13 | Dainippon Printing Co Ltd | 低反射帯電防止性ハードコートフィルム |
| JP2004291540A (ja) * | 2003-03-28 | 2004-10-21 | Nippon Paper Industries Co Ltd | 高反射フィルム又はシート材 |
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3776979B2 (ja) | 2006-05-24 |
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