JPH10206603A - 反射防止フィルム及びその製造方法 - Google Patents
反射防止フィルム及びその製造方法Info
- Publication number
- JPH10206603A JPH10206603A JP9019562A JP1956297A JPH10206603A JP H10206603 A JPH10206603 A JP H10206603A JP 9019562 A JP9019562 A JP 9019562A JP 1956297 A JP1956297 A JP 1956297A JP H10206603 A JPH10206603 A JP H10206603A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- refractive index
- layer
- index layer
- film
- hard coat
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
- G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
- G02B1/11—Anti-reflection coatings
- G02B1/113—Anti-reflection coatings using inorganic layer materials only
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/24—Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.]
- Y10T428/24355—Continuous and nonuniform or irregular surface on layer or component [e.g., roofing, etc.]
- Y10T428/24364—Continuous and nonuniform or irregular surface on layer or component [e.g., roofing, etc.] with transparent or protective coating
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/24—Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.]
- Y10T428/24942—Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.] including components having same physical characteristic in differing degree
- Y10T428/2495—Thickness [relative or absolute]
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 各種ディスプレイに使用する反射防止フィル
ムにおいて、表面の光の反射を防止して、必要な視覚情
報を明瞭に判読できる反射防止フィルムを提供すること
を課題とする。 【解決手段】透明基材フィルム５に、ハードコート層
４、中屈折率層３、高屈折率層２及び低屈折率層１を順
に積層し、上記各層の隣接する屈折率は、２．２０＞高
屈折率層の屈折率＞中屈折率層の屈折率＞低屈折率層の
屈折率＞１．４０に構成する。
ムにおいて、表面の光の反射を防止して、必要な視覚情
報を明瞭に判読できる反射防止フィルムを提供すること
を課題とする。 【解決手段】透明基材フィルム５に、ハードコート層
４、中屈折率層３、高屈折率層２及び低屈折率層１を順
に積層し、上記各層の隣接する屈折率は、２．２０＞高
屈折率層の屈折率＞中屈折率層の屈折率＞低屈折率層の
屈折率＞１．４０に構成する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、防眩性をもつ光学
的機能をもつフィルムに関し、特にワープロ、コンピュ
ータ、テレビなどの各種ディスプレイ、液晶表示装置に
用いる偏光板の表面、透明なプラスチック類からなりサ
ングラスのレンズ、度付きメガネのレンズ、カメラ用フ
ァインダーのレンズなどの光学レンズ、各種計器のカバ
ー、自動車、電車などの窓ガラスの表面の反射防止フィ
ルムに適する光学的特性に優れたフィルムに属する。
的機能をもつフィルムに関し、特にワープロ、コンピュ
ータ、テレビなどの各種ディスプレイ、液晶表示装置に
用いる偏光板の表面、透明なプラスチック類からなりサ
ングラスのレンズ、度付きメガネのレンズ、カメラ用フ
ァインダーのレンズなどの光学レンズ、各種計器のカバ
ー、自動車、電車などの窓ガラスの表面の反射防止フィ
ルムに適する光学的特性に優れたフィルムに属する。
【０００２】
【従来の技術】カーブミラー、バックミラー、ゴーグ
ル、窓ガラス、パソコン、ワープロなどのディスプレイ
その他種々の商業ディスプレイなどには、ガラスやプラ
スチックなどの透明基板が使用されている。そして、こ
れらの透明基板を通して物体や文字、図形などの視覚情
報、あるいはミラーからの像を透明基板を通して反射層
からの像を観察する場合に、これら透明基板の表面が光
を反射して、内部の必要な視覚情報が判読し難いという
問題点があった。
ル、窓ガラス、パソコン、ワープロなどのディスプレイ
その他種々の商業ディスプレイなどには、ガラスやプラ
スチックなどの透明基板が使用されている。そして、こ
れらの透明基板を通して物体や文字、図形などの視覚情
報、あるいはミラーからの像を透明基板を通して反射層
からの像を観察する場合に、これら透明基板の表面が光
を反射して、内部の必要な視覚情報が判読し難いという
問題点があった。
【０００３】従来、これらの光の反射を防止する技術に
は、ガラスやプラスチックの表面に反射防止塗料を塗工
する方法、ガラスなどの透明基板の表面に厚み０．１μ
ｍ程度のＭg Ｆ2 などの極薄膜や金属蒸着膜を設ける方
法、プラスチックレンズなどの表面に電離放射線硬化型
樹脂を塗工し、更に、その上に蒸着によりＳi ＯｘやＭ
g Ｆ2 の膜を形成する方法、電離放射線硬化型樹脂の硬
化膜の上に更に低屈折率の塗膜を形成したりする方法な
どがあった。
は、ガラスやプラスチックの表面に反射防止塗料を塗工
する方法、ガラスなどの透明基板の表面に厚み０．１μ
ｍ程度のＭg Ｆ2 などの極薄膜や金属蒸着膜を設ける方
法、プラスチックレンズなどの表面に電離放射線硬化型
樹脂を塗工し、更に、その上に蒸着によりＳi ＯｘやＭ
g Ｆ2 の膜を形成する方法、電離放射線硬化型樹脂の硬
化膜の上に更に低屈折率の塗膜を形成したりする方法な
どがあった。
【０００４】前記のガラスに形成された厚みが０．１μ
ｍ程度のＭg Ｆ2 の薄膜を更に詳述する。該薄膜は、空
気中で入射光が薄膜に垂直に入射する場合に、特定の波
長をλ0 とし、この波長に対する反射防止膜の屈折率を
ｎ0 、反射防止膜の厚みをｈ、及び基板の屈折率をｎg
とすると、反射防止膜が光の反射を１００％防止して、
かつ、光を１００％透過するための条件は次の式（数
１）及び式（数２）の関係を満たすことが必要であとこ
とは既に知られている。（サイエンスライブラリ物理学
＝９「光学」７０〜７２頁、昭和５５年、（株）サイエ
ンス社発行）。
ｍ程度のＭg Ｆ2 の薄膜を更に詳述する。該薄膜は、空
気中で入射光が薄膜に垂直に入射する場合に、特定の波
長をλ0 とし、この波長に対する反射防止膜の屈折率を
ｎ0 、反射防止膜の厚みをｈ、及び基板の屈折率をｎg
とすると、反射防止膜が光の反射を１００％防止して、
かつ、光を１００％透過するための条件は次の式（数
１）及び式（数２）の関係を満たすことが必要であとこ
とは既に知られている。（サイエンスライブラリ物理学
＝９「光学」７０〜７２頁、昭和５５年、（株）サイエ
ンス社発行）。
【０００５】
【数１】 ｎ0 ＝（ｎg ）1/2 ・・・・・（数１）
【０００６】
【数２】 ｎ0 ｈ＝λ0 ／４・・・・・・（数２）
【０００７】ガラスの屈折率ｎg ≒１．５であり、Ｍg
Ｆ2 の膜の屈折率ｎ0 ＝１．３８、入射光の波長λ0 ＝
５５００Å（基準）は既知である。これらの数値を前記
の（数２）に代入すると反射防止膜の厚みｈは約０．１
μｍが最適であることが算出される。
Ｆ2 の膜の屈折率ｎ0 ＝１．３８、入射光の波長λ0 ＝
５５００Å（基準）は既知である。これらの数値を前記
の（数２）に代入すると反射防止膜の厚みｈは約０．１
μｍが最適であることが算出される。
【０００８】前記（数１）式によれば、光の反射を１０
０％防止するためには、上層側の塗膜の屈折率が、それ
が設けられる下層の屈折率の平方根の値に近い材料を選
択すればよい。
０％防止するためには、上層側の塗膜の屈折率が、それ
が設けられる下層の屈折率の平方根の値に近い材料を選
択すればよい。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、各種ディス
プレイに使用して透明基板を通して識別する物体や文
字、図形などの視覚情報、あるいはミラーからの像を透
明基板を通して反射層からの像を観察する場合に、これ
ら透明基板の表面が光の反射を防止して、内部の必要な
視覚情報を透過して、明瞭に判読できる反射防止フィル
ムの提供を課題とするものである。
プレイに使用して透明基板を通して識別する物体や文
字、図形などの視覚情報、あるいはミラーからの像を透
明基板を通して反射層からの像を観察する場合に、これ
ら透明基板の表面が光の反射を防止して、内部の必要な
視覚情報を透過して、明瞭に判読できる反射防止フィル
ムの提供を課題とするものである。
【００１０】
【課題を解決するための手段】上記の課題を解決する本
発明は、図１又は図２に示すように、透明基材フィルム
５に、ハードコート層４を介して、中屈折率層３、高屈
折率層２及び低屈折率層１を順に積層した反射防止フィ
ルム１０にあって、 Ｓi Ｏｘ層よりなる低屈折率層１、 バインダーと、１．５以上の屈折率をもつ超微粒子と
からなる塗料の塗工で構成された中屈折率層３、 導電性をもつ高屈折率層２、 ２．２０＞高屈折率層の屈折率＞中屈折率層の屈折率
＞低屈折率層の屈折率＞１．４０の関係がある上記各層
の隣接する屈折率、 低屈折率層が８０〜１１０ｎｍ、高屈折率層が８０〜
１１０ｎｍそして中屈折率層が５５〜７０ｎｍである各
屈折率層の厚み、 可視光の波長以下である光学的膜厚Ｄ（Ｄ＝ｎ・ｄ、
但し、ｎ：中屈折率の屈折率、ｄ＝中屈折率層の厚み） で表される反射防止フィルムである。そして、上記ハー
ドコート層４は、中屈折率層３と接する面に凹凸形状を
もち、透明基材フィルム５には図６に示すように、直接
あるいはプライマー層７及び／又は接着剤層９を介して
ハードコート３を設けた反射防止フィルム１０である。
また、上記中屈折率層は、熱硬化型樹脂及び／又は電離
放射線型樹脂１重量部に対して、超微粒子のＺｎＯ、Ｔ
ｉＯ2 、ＣｅＯ2 、Ｓｂ2 Ｏ5 、ＳｎＯ2 、ＩＴＯ、Ｙ
2 Ｏ3 、Ｌａ2 Ｏ3 、Ａｌ2 Ｏ3 、Ｈｆ2 Ｏ3 、ＺｒＯ
2 から選ばれた１種類以上の微粒子から選択したマット
材が、０．１〜２０重量部で構成されている反射防止フ
ィルムである。また、上記高屈折率層、及び低屈折率層
は真空コーティングで設けられた層である反射防止フィ
ルムである。そして、上記高屈折率層が、有機シロキサ
ンを原料ガスを放電によるプラズマＣＶＤで行い、未分
解の有機シロキサンがＳi Ｏｘに対して０．１〜０．２
部残存する反射防止フィルムである。また、上記高屈折
率層に、更に防汚コート層を形成した反射防止フィルム
である。
発明は、図１又は図２に示すように、透明基材フィルム
５に、ハードコート層４を介して、中屈折率層３、高屈
折率層２及び低屈折率層１を順に積層した反射防止フィ
ルム１０にあって、 Ｓi Ｏｘ層よりなる低屈折率層１、 バインダーと、１．５以上の屈折率をもつ超微粒子と
からなる塗料の塗工で構成された中屈折率層３、 導電性をもつ高屈折率層２、 ２．２０＞高屈折率層の屈折率＞中屈折率層の屈折率
＞低屈折率層の屈折率＞１．４０の関係がある上記各層
の隣接する屈折率、 低屈折率層が８０〜１１０ｎｍ、高屈折率層が８０〜
１１０ｎｍそして中屈折率層が５５〜７０ｎｍである各
屈折率層の厚み、 可視光の波長以下である光学的膜厚Ｄ（Ｄ＝ｎ・ｄ、
但し、ｎ：中屈折率の屈折率、ｄ＝中屈折率層の厚み） で表される反射防止フィルムである。そして、上記ハー
ドコート層４は、中屈折率層３と接する面に凹凸形状を
もち、透明基材フィルム５には図６に示すように、直接
あるいはプライマー層７及び／又は接着剤層９を介して
ハードコート３を設けた反射防止フィルム１０である。
また、上記中屈折率層は、熱硬化型樹脂及び／又は電離
放射線型樹脂１重量部に対して、超微粒子のＺｎＯ、Ｔ
ｉＯ2 、ＣｅＯ2 、Ｓｂ2 Ｏ5 、ＳｎＯ2 、ＩＴＯ、Ｙ
2 Ｏ3 、Ｌａ2 Ｏ3 、Ａｌ2 Ｏ3 、Ｈｆ2 Ｏ3 、ＺｒＯ
2 から選ばれた１種類以上の微粒子から選択したマット
材が、０．１〜２０重量部で構成されている反射防止フ
ィルムである。また、上記高屈折率層、及び低屈折率層
は真空コーティングで設けられた層である反射防止フィ
ルムである。そして、上記高屈折率層が、有機シロキサ
ンを原料ガスを放電によるプラズマＣＶＤで行い、未分
解の有機シロキサンがＳi Ｏｘに対して０．１〜０．２
部残存する反射防止フィルムである。また、上記高屈折
率層に、更に防汚コート層を形成した反射防止フィルム
である。
【００１１】上記の反射防止フィルムにおいて、本発明
の第１の製造方法は、図３に示すように、硬化反応型の
未硬化のハードコート層４６を透明基材フィルム５に設
け、次いで、バインダーと、該バインダーの屈折率より
高い屈折率をもつ微粒子とを含む組成物からなる未硬化
の中屈折率層３６を透明基材フィルムに塗工・形成す
る。そして、上記未硬化のハードコート層及び中屈折率
層に、微細な凹凸をもつマット状の賦型フィルム６を積
層・賦型した積層物（図３（Ａ）参照）を加熱処理及び
／又は電離放射線処理によりハードコート層と中屈折率
層とを硬化する。更に、硬化した積層物から前記賦型フ
ィルム６Ｈを剥離・除去して図３（Ｂ）に示すとおりハ
ードコート層４に凹凸をもつ中屈折率層３を形成する。
そして、凹凸形状をもち硬化形成した中屈折率層３に、
図３（Ｃ）に示すように高屈折率層２を真空蒸着、又は
スパッタリングにて形成し、更に、Ｓi Ｏｘ層よりなる
低屈折率層１を真空蒸着、スパッタリング又はプラズマ
ＣＶＤで形成して反射防止フィルム１０を構成する。
の第１の製造方法は、図３に示すように、硬化反応型の
未硬化のハードコート層４６を透明基材フィルム５に設
け、次いで、バインダーと、該バインダーの屈折率より
高い屈折率をもつ微粒子とを含む組成物からなる未硬化
の中屈折率層３６を透明基材フィルムに塗工・形成す
る。そして、上記未硬化のハードコート層及び中屈折率
層に、微細な凹凸をもつマット状の賦型フィルム６を積
層・賦型した積層物（図３（Ａ）参照）を加熱処理及び
／又は電離放射線処理によりハードコート層と中屈折率
層とを硬化する。更に、硬化した積層物から前記賦型フ
ィルム６Ｈを剥離・除去して図３（Ｂ）に示すとおりハ
ードコート層４に凹凸をもつ中屈折率層３を形成する。
そして、凹凸形状をもち硬化形成した中屈折率層３に、
図３（Ｃ）に示すように高屈折率層２を真空蒸着、又は
スパッタリングにて形成し、更に、Ｓi Ｏｘ層よりなる
低屈折率層１を真空蒸着、スパッタリング又はプラズマ
ＣＶＤで形成して反射防止フィルム１０を構成する。
【００１２】また、上記の反射防止フィルムを製造する
第２の製造方法は、表面に凹凸形状をもつマット状の賦
型フィルム６に、バインダーと、該バインダーの屈折率
より高い屈折率をもつ微粒子を含む組成物からなる未硬
化の中屈折率層３６を塗工し、図４（Ａ）に示すように
前記未硬化の中屈折率層と、透明基材フィルム５に設け
た未硬化のハードコート層４６とを積層する。そして、
得られた積層物を加熱処理及び／又は電離放射線処理に
より中屈折率層とハードコート層とを硬化し、硬化した
積層物から前記賦型フィルム６Ｈを剥離・除去してハー
ドコート層４に凹凸をもつ中屈折率層３を透明基材フィ
ルム５に形成する（図４（Ｂ）参照）。そして、図４
（Ｃ）に示すように、第１の製造方法と同様にして、高
屈折率層２及び低屈折率層４を積層形成するものであ
る。また必要によっては防汚コート層４２を低屈折率層
に形成することもできる。
第２の製造方法は、表面に凹凸形状をもつマット状の賦
型フィルム６に、バインダーと、該バインダーの屈折率
より高い屈折率をもつ微粒子を含む組成物からなる未硬
化の中屈折率層３６を塗工し、図４（Ａ）に示すように
前記未硬化の中屈折率層と、透明基材フィルム５に設け
た未硬化のハードコート層４６とを積層する。そして、
得られた積層物を加熱処理及び／又は電離放射線処理に
より中屈折率層とハードコート層とを硬化し、硬化した
積層物から前記賦型フィルム６Ｈを剥離・除去してハー
ドコート層４に凹凸をもつ中屈折率層３を透明基材フィ
ルム５に形成する（図４（Ｂ）参照）。そして、図４
（Ｃ）に示すように、第１の製造方法と同様にして、高
屈折率層２及び低屈折率層４を積層形成するものであ
る。また必要によっては防汚コート層４２を低屈折率層
に形成することもできる。
【００１３】本発明の反射防止フィルムを製造する第３
の方法は、図５（Ａ）に示すとおり、賦型フィルム６
に、バインダーと該バインダーの屈折率より高い屈折率
をもつ微粒子を含む未硬化の中屈折率層及び未硬化のハ
ードコート層４を塗布・硬化して形成する。一方、透明
基材フィルムに反応型接着剤層９を塗工した未硬化状態
の面と、前記の硬化した中屈折率層とを積層して、得ら
れた積層物を加熱処理及び／又は電離放射線による処理
を施し接着剤層を硬化して図５（Ｂ）に示す積層体を作
成する。そして、硬化した積層物から前記賦型フィルム
６Ｈを剥離除去して透明基材フィルム５に接着剤層９と
ハードコート層４を介して中屈折率層３を形成する。そ
して、第１の製造方法と同様にして、図５（Ｃ）に示す
ように高屈折率層２及び低屈折率層１を積層して反射防
止フィルム１０を構成するものである。
の方法は、図５（Ａ）に示すとおり、賦型フィルム６
に、バインダーと該バインダーの屈折率より高い屈折率
をもつ微粒子を含む未硬化の中屈折率層及び未硬化のハ
ードコート層４を塗布・硬化して形成する。一方、透明
基材フィルムに反応型接着剤層９を塗工した未硬化状態
の面と、前記の硬化した中屈折率層とを積層して、得ら
れた積層物を加熱処理及び／又は電離放射線による処理
を施し接着剤層を硬化して図５（Ｂ）に示す積層体を作
成する。そして、硬化した積層物から前記賦型フィルム
６Ｈを剥離除去して透明基材フィルム５に接着剤層９と
ハードコート層４を介して中屈折率層３を形成する。そ
して、第１の製造方法と同様にして、図５（Ｃ）に示す
ように高屈折率層２及び低屈折率層１を積層して反射防
止フィルム１０を構成するものである。
【００１４】
【発明の実施の形態】以下、図に基づいて好ましい実施
形態を挙げ説明を行う。図１又は図２に示すように、本
発明の反射防止フィルム１０は、透明基材フィルム５の
一方の面に、ミラー状又は凹凸形状を賦型したハードコ
ート層４を介して、中屈折率層（第１層）３、高屈折率
層（第２層）２及び低屈折率層（第３層）１を順に積層
したものである。そして、 低屈折率層１は、Ｓi Ｏｘ層であり、 中屈折率層３は、凹凸形状に賦型したハードコート層
４に、１．５以上の屈折率をもつ超微粒子とバインダー
とからなる塗料の塗工で構成され、 高屈折率層２は、導電性、電磁遮蔽性をもち、 上記各層の隣接する屈折率層の各屈折率は、２．２０
＞高屈折率層の屈折率＞中屈折率層（又は凹凸形状を賦
型した中屈折率層）の屈折率＞低屈折率層の屈折率＞
１．４０の関係があり、 各屈折率層の厚みは、低屈折率層１が８０〜１００ｎ
ｍ、高屈折率層２が８０〜１１０ｎｍ、そして中屈折率
層３が５５〜７０ｎｍの数値を示し、 Ｄ＝ｎ・ｄ （但し、ｎ：中屈折率層の屈折率、ｄ：
中屈折率層の厚み）の式で、算出される光学的膜厚Ｄが
可視光の波長以下に構成する反射防止フィルム１０であ
る。
形態を挙げ説明を行う。図１又は図２に示すように、本
発明の反射防止フィルム１０は、透明基材フィルム５の
一方の面に、ミラー状又は凹凸形状を賦型したハードコ
ート層４を介して、中屈折率層（第１層）３、高屈折率
層（第２層）２及び低屈折率層（第３層）１を順に積層
したものである。そして、 低屈折率層１は、Ｓi Ｏｘ層であり、 中屈折率層３は、凹凸形状に賦型したハードコート層
４に、１．５以上の屈折率をもつ超微粒子とバインダー
とからなる塗料の塗工で構成され、 高屈折率層２は、導電性、電磁遮蔽性をもち、 上記各層の隣接する屈折率層の各屈折率は、２．２０
＞高屈折率層の屈折率＞中屈折率層（又は凹凸形状を賦
型した中屈折率層）の屈折率＞低屈折率層の屈折率＞
１．４０の関係があり、 各屈折率層の厚みは、低屈折率層１が８０〜１００ｎ
ｍ、高屈折率層２が８０〜１１０ｎｍ、そして中屈折率
層３が５５〜７０ｎｍの数値を示し、 Ｄ＝ｎ・ｄ （但し、ｎ：中屈折率層の屈折率、ｄ：
中屈折率層の厚み）の式で、算出される光学的膜厚Ｄが
可視光の波長以下に構成する反射防止フィルム１０であ
る。
【００１５】そして、上記ハードコート層４の中屈折率
層３と接するハードコート層側が凹凸形状をもち、ハー
ドコート層は、透明基材フィルム５に直接あるいは図６
に示すプライマー層７を設けたり、図５に示す接着剤層
９を介して設けられたり、また低屈折率層１に防汚コー
ト層４２を設けることがある反射防止フィルム１０であ
る。
層３と接するハードコート層側が凹凸形状をもち、ハー
ドコート層は、透明基材フィルム５に直接あるいは図６
に示すプライマー層７を設けたり、図５に示す接着剤層
９を介して設けられたり、また低屈折率層１に防汚コー
ト層４２を設けることがある反射防止フィルム１０であ
る。
【００１６】上記中屈折率層３は、熱硬化型樹脂及び／
又は電離放射線型樹脂を１重量部に対して、超微粒子の
ＺｎＯ、ＴｉＯ2 、ＣｅＯ2 、Ｓｂ2 Ｏ5 、ＳｎＯ2 、
ＩＴＯ、Ｙ2 Ｏ3 、Ｌａ2 Ｏ3 、Ａｌ2 Ｏ3 、Ｈｆ2 Ｏ
3 、ＺｒＯ2 から選ばれた１種類以上の微粒子から選択
したマット材が、０．１〜２０重量部で構成されている
反射防止フィルム１０である。また、上記高屈折率層
２、及び低屈折率層１は真空コーティングで設けられる
層である。そして、上記Ｓi Ｏｘ層よりなる高屈折率層
１は、有機シロキサンを原料ガスを放電によるプラズマ
ＣＶＤで行い、未分解の有機シロキサンがＳi Ｏｘ層に
残存する反射防止フィルムである。また、上記高屈折率
層１に、更に図６で示す防汚コート層４２を形成した反
射防止フィルムである。
又は電離放射線型樹脂を１重量部に対して、超微粒子の
ＺｎＯ、ＴｉＯ2 、ＣｅＯ2 、Ｓｂ2 Ｏ5 、ＳｎＯ2 、
ＩＴＯ、Ｙ2 Ｏ3 、Ｌａ2 Ｏ3 、Ａｌ2 Ｏ3 、Ｈｆ2 Ｏ
3 、ＺｒＯ2 から選ばれた１種類以上の微粒子から選択
したマット材が、０．１〜２０重量部で構成されている
反射防止フィルム１０である。また、上記高屈折率層
２、及び低屈折率層１は真空コーティングで設けられる
層である。そして、上記Ｓi Ｏｘ層よりなる高屈折率層
１は、有機シロキサンを原料ガスを放電によるプラズマ
ＣＶＤで行い、未分解の有機シロキサンがＳi Ｏｘ層に
残存する反射防止フィルムである。また、上記高屈折率
層１に、更に図６で示す防汚コート層４２を形成した反
射防止フィルムである。
【００１７】本発明の透明基材シートは、ガラスなどの
セラミックス、又は透明のプラスチックの延伸又は未延
伸のフィルムから形成される。通常の光学ガラスの他
に、ポリエステル、ポリアミド、ポリイミド、ポリプロ
ピレン、ポリメチルペンテン、ポリ塩化ビニル、ポリビ
ニルアセタール、ポリメタアクリル酸メチル、ポリカー
ボネート、ポリウレタンなどの熱可塑性樹脂を使用する
ことができる。
セラミックス、又は透明のプラスチックの延伸又は未延
伸のフィルムから形成される。通常の光学ガラスの他
に、ポリエステル、ポリアミド、ポリイミド、ポリプロ
ピレン、ポリメチルペンテン、ポリ塩化ビニル、ポリビ
ニルアセタール、ポリメタアクリル酸メチル、ポリカー
ボネート、ポリウレタンなどの熱可塑性樹脂を使用する
ことができる。
【００１８】透明基材フィルムに、直接又はハードコー
ト層の接着を強固にするプライマー層を設けて、微細凹
凸形状をもつハードコート層に図２に示す中屈折率層３
を設けて他の屈折層を設けることもできる。中屈折率層
３は、高屈折率層２より屈折率が低く、低屈折率層１ハ
ードコート層４及び／又は透明基材フィルム５よりは高
い屈折率をもつものである。
ト層の接着を強固にするプライマー層を設けて、微細凹
凸形状をもつハードコート層に図２に示す中屈折率層３
を設けて他の屈折層を設けることもできる。中屈折率層
３は、高屈折率層２より屈折率が低く、低屈折率層１ハ
ードコート層４及び／又は透明基材フィルム５よりは高
い屈折率をもつものである。
【００１９】中屈折率層３は、バインダーにＺｎＯ、Ｔ
ｉＯ2 、ＣｅＯ2 （屈折率１．９５）や、Ｓｂ2 Ｏ5 、
ＳｎＯ2 、ＩＴＯ、Ｙ2 Ｏ3 、Ｌａ2 Ｏ3 、ＺｒＯ
2 （屈折率２．０５）、Ａｌ2 Ｏ3 、Ｈｆ2 Ｏ3 から選
ばれた１種類以上の微粒子から選択したマット材の超微
粒子の金属酸化物からなる組成物を塗工して塗膜を形成
して基材フィルム５に設けるものである。
ｉＯ2 、ＣｅＯ2 （屈折率１．９５）や、Ｓｂ2 Ｏ5 、
ＳｎＯ2 、ＩＴＯ、Ｙ2 Ｏ3 、Ｌａ2 Ｏ3 、ＺｒＯ
2 （屈折率２．０５）、Ａｌ2 Ｏ3 、Ｈｆ2 Ｏ3 から選
ばれた１種類以上の微粒子から選択したマット材の超微
粒子の金属酸化物からなる組成物を塗工して塗膜を形成
して基材フィルム５に設けるものである。
【００２０】中屈折率層３は、図３に示すように、上記
組成物の未硬化のハードコート４６未硬化のハードコー
ト層４６を透明基材フィルム５に塗工し、更に未硬化の
中屈折率層３６を塗工して未硬化状態で賦型フィルム６
と積層して加熱及び／又は電離放射線処理で硬化して、
賦型フィルム６を剥離して形成する。また、図４に示す
ように、凹凸形状をもつ賦型フィルム６に未硬化の中屈
折率層３６及びハードコート４６を設けて透明基材フィ
ルムに必要によっては接着剤層９を設けて積層して硬化
・賦型する転写方法で中屈折率層を構成することができ
る。
組成物の未硬化のハードコート４６未硬化のハードコー
ト層４６を透明基材フィルム５に塗工し、更に未硬化の
中屈折率層３６を塗工して未硬化状態で賦型フィルム６
と積層して加熱及び／又は電離放射線処理で硬化して、
賦型フィルム６を剥離して形成する。また、図４に示す
ように、凹凸形状をもつ賦型フィルム６に未硬化の中屈
折率層３６及びハードコート４６を設けて透明基材フィ
ルムに必要によっては接着剤層９を設けて積層して硬化
・賦型する転写方法で中屈折率層を構成することができ
る。
【００２１】中屈折率層における、超微粒子とバインダ
ーとの比率（重量比）は、バインダーが１に対して超微
粒子が１〜２０が好ましく、１以下では、反射防止の効
果がなく、２０以上では超微粒子の固着性が低下し脱落
するという問題がある。
ーとの比率（重量比）は、バインダーが１に対して超微
粒子が１〜２０が好ましく、１以下では、反射防止の効
果がなく、２０以上では超微粒子の固着性が低下し脱落
するという問題がある。
【００２２】本発明の中屈折率層を設ける凹凸形状は、
賦型したハードコート層３上に設けるばかりでなく、透
明基材フィルムに設ける層である接着剤層９、プライマ
ー層７に凹凸形状を賦型して同一の機能をもたせること
もできる。ハードコート層４の凹凸形状は、中屈折率層
３と直接に接触されるものであり、その屈折率は、中屈
折率層の屈折率より小さく形成する。
賦型したハードコート層３上に設けるばかりでなく、透
明基材フィルムに設ける層である接着剤層９、プライマ
ー層７に凹凸形状を賦型して同一の機能をもたせること
もできる。ハードコート層４の凹凸形状は、中屈折率層
３と直接に接触されるものであり、その屈折率は、中屈
折率層の屈折率より小さく形成する。
【００２３】上記の、要件を満たす、中屈折率層又はハ
ードコート層を形成する反応型の樹脂は、好ましくはア
クリレート系の官能基をもつもの、例えば、比較的低分
子量のポリエステル、ポリエーテル、アクリル系樹脂、
エポキシ樹脂、ポリウレタン、アルキッド樹脂、スピロ
アセタール樹脂、ポリブタジエン、ポリチオールポリエ
ン系樹脂、多価アルコールなどの多官能化合物の（メ
タ）アクリレート（以下本明細書では、アクリレートと
メタアクリレートとを（メタ）アクリレートと記載す
る。）などのオリゴマー又はプレポリマー及び反応性の
希釈剤であるエチル（メタ）アクリレート、エチルヘキ
シル（メタ）アクリレート、スチレン、ビニルトルエ
ン、Ｎ−ビニルピロリドンなどの単官能モノマー、並び
に多官能モノマー、例えばトリメチロールプロパントリ
（メタ）アクリレート、ヘキサンジオール（メタ）アク
リレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリ
レート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレー
ト、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、
ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、
１，６ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオ
ペンチルグリコールジ（メタ）アクリレートなどを比較
的多量に含むものを使用する。
ードコート層を形成する反応型の樹脂は、好ましくはア
クリレート系の官能基をもつもの、例えば、比較的低分
子量のポリエステル、ポリエーテル、アクリル系樹脂、
エポキシ樹脂、ポリウレタン、アルキッド樹脂、スピロ
アセタール樹脂、ポリブタジエン、ポリチオールポリエ
ン系樹脂、多価アルコールなどの多官能化合物の（メ
タ）アクリレート（以下本明細書では、アクリレートと
メタアクリレートとを（メタ）アクリレートと記載す
る。）などのオリゴマー又はプレポリマー及び反応性の
希釈剤であるエチル（メタ）アクリレート、エチルヘキ
シル（メタ）アクリレート、スチレン、ビニルトルエ
ン、Ｎ−ビニルピロリドンなどの単官能モノマー、並び
に多官能モノマー、例えばトリメチロールプロパントリ
（メタ）アクリレート、ヘキサンジオール（メタ）アク
リレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリ
レート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレー
ト、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、
ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、
１，６ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオ
ペンチルグリコールジ（メタ）アクリレートなどを比較
的多量に含むものを使用する。
【００２４】更に、上記の電離放射線硬化型樹脂を紫外
線硬化型樹脂として使用するときは、これらの中に光重
合開始剤として、アセトフェノン類、ベンゾフェノン
類、ミヒラーベンゾイルベンゾエート、αーアミロキシ
ムエステル、チオキサントン類や、光増感剤としてｎ−
ブチルアミン、トリエチルアミン、トリｎ−ブチルホス
フィンなどを混合して使用する。
線硬化型樹脂として使用するときは、これらの中に光重
合開始剤として、アセトフェノン類、ベンゾフェノン
類、ミヒラーベンゾイルベンゾエート、αーアミロキシ
ムエステル、チオキサントン類や、光増感剤としてｎ−
ブチルアミン、トリエチルアミン、トリｎ−ブチルホス
フィンなどを混合して使用する。
【００２５】上記の電離放射線硬化型樹脂には、次の反
応性有機ケイ素化合物を含ませることもできる。Ｒm Ｓ
ｉ（０Ｒ′）n で表せる化合物であり、ここでＲ、Ｒ′
は炭素数１〜１０のアルキル基を表し、ｍ＋ｎ＝４であ
り、そしてｍ及びｎはそれぞれ整数である。更に具体的
には、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、
テトラ−ｉｓｏ−プロポキシシラン、テトラ−ｎ−プロ
ポキシシラン、テトラ−ｎ−ブトキシシラン、テトラ−
ｓｅｃ−ブトキシシラン、テトラ−ｔｅｒｔ−ブトキシ
シラン、テトラペンタエトキシシラン、テトラペンタ−
ｉｓｏ−プロポキシシラン、テトラペンタ−ｎ−プロポ
キシシラン、テトラペンタ−ｎ−ブトキシシラン、テト
ラペンタ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、テトラペンタ−ｔ
ｅｒｔ−ブトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、
メチルトリエトキシシラン、メチルトリプロポキシシラ
ン、メチルトリブトキシシラン、ジメチルジメトキシシ
ラン、ジメチルジエトキシシラン、ジメチルエトキシシ
ラン、ジメチルメトキシシラン、ジメチルプロポキシシ
ラン、ジメチルブトキシシラン、メチルジメトキシシラ
ン、メチルジエトキシシラン、ヘキシルトリメトキシシ
ランなどがあげられる。
応性有機ケイ素化合物を含ませることもできる。Ｒm Ｓ
ｉ（０Ｒ′）n で表せる化合物であり、ここでＲ、Ｒ′
は炭素数１〜１０のアルキル基を表し、ｍ＋ｎ＝４であ
り、そしてｍ及びｎはそれぞれ整数である。更に具体的
には、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、
テトラ−ｉｓｏ−プロポキシシラン、テトラ−ｎ−プロ
ポキシシラン、テトラ−ｎ−ブトキシシラン、テトラ−
ｓｅｃ−ブトキシシラン、テトラ−ｔｅｒｔ−ブトキシ
シラン、テトラペンタエトキシシラン、テトラペンタ−
ｉｓｏ−プロポキシシラン、テトラペンタ−ｎ−プロポ
キシシラン、テトラペンタ−ｎ−ブトキシシラン、テト
ラペンタ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、テトラペンタ−ｔ
ｅｒｔ−ブトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、
メチルトリエトキシシラン、メチルトリプロポキシシラ
ン、メチルトリブトキシシラン、ジメチルジメトキシシ
ラン、ジメチルジエトキシシラン、ジメチルエトキシシ
ラン、ジメチルメトキシシラン、ジメチルプロポキシシ
ラン、ジメチルブトキシシラン、メチルジメトキシシラ
ン、メチルジエトキシシラン、ヘキシルトリメトキシシ
ランなどがあげられる。
【００２６】ハードコート層４の厚みは、０．５〜６μ
ｍ好ましくは３μｍ以上に形成する。０．５μｍ以下で
は、透明基材フィルムに形成する中屈折率層、高屈折率
層、低屈折率層の硬度を維持できず、３μｍ以上で硬度
を維持することができ反射防止フィルムにハード性能を
与えることができる。ハードコート層を必要以上に厚く
することは、反射防止フィルムの可撓性を損なうばかり
でなく、硬化時間を必要とし生産性、コスト面からの制
約を受けることとなる。
ｍ好ましくは３μｍ以上に形成する。０．５μｍ以下で
は、透明基材フィルムに形成する中屈折率層、高屈折率
層、低屈折率層の硬度を維持できず、３μｍ以上で硬度
を維持することができ反射防止フィルムにハード性能を
与えることができる。ハードコート層を必要以上に厚く
することは、反射防止フィルムの可撓性を損なうばかり
でなく、硬化時間を必要とし生産性、コスト面からの制
約を受けることとなる。
【００２７】なお、本発明の「ハード性能」あるいは
「ハードコート」とは、ＪＩＳＫ５４００で示す鉛筆硬
度試験で、Ｈ以上の硬度を示すことである。
「ハードコート」とは、ＪＩＳＫ５４００で示す鉛筆硬
度試験で、Ｈ以上の硬度を示すことである。
【００２８】本発明の中屈折率層の面に更に設ける高屈
折率層２の超微粒子は、バインダーよりも屈折率が高
く、かつ屈折率が１．５以上のものが高屈折率層の屈折
率を高くするために望ましい。例えば、ＺｎＯ（屈折率
１．９０、以下数値は屈折率を示す））、ＴｉＯ
2 （２．３〜２．７）、ＣｅＯ2 （１．９５）、Ｓｂ2
Ｏ5 、（１．７１）、ＩＴＯ（屈折率１．９５）、Ｙ2
Ｏ3 （屈折率１．８７）、Ｌａ2 Ｏ3 （屈折率１．９
５）、ＺｒＯ2 （屈折率２．０５）、Ａｌ2 Ｏ3 （１．
６３）などがある。
折率層２の超微粒子は、バインダーよりも屈折率が高
く、かつ屈折率が１．５以上のものが高屈折率層の屈折
率を高くするために望ましい。例えば、ＺｎＯ（屈折率
１．９０、以下数値は屈折率を示す））、ＴｉＯ
2 （２．３〜２．７）、ＣｅＯ2 （１．９５）、Ｓｂ2
Ｏ5 、（１．７１）、ＩＴＯ（屈折率１．９５）、Ｙ2
Ｏ3 （屈折率１．８７）、Ｌａ2 Ｏ3 （屈折率１．９
５）、ＺｒＯ2 （屈折率２．０５）、Ａｌ2 Ｏ3 （１．
６３）などがある。
【００２９】上記の中から選ばれた１種類以上の材料を
用いて、高屈折率層として真空蒸着又はスパッタリング
することによって形成する。そして、その厚みｄは、８
０〜１１０ｎｍ、それによって得られる屈折率ｎは１．
９０〜２．１０になるように本発明の各層のなかで最も
屈折率を高くするようにする。そして、屈折率ｎと厚み
ｄとの積（光学的厚みＤ）が、可視光の波長以下に構成
して、光の反射を防止するとともに、可視光の透過を最
適に行えるようにする。
用いて、高屈折率層として真空蒸着又はスパッタリング
することによって形成する。そして、その厚みｄは、８
０〜１１０ｎｍ、それによって得られる屈折率ｎは１．
９０〜２．１０になるように本発明の各層のなかで最も
屈折率を高くするようにする。そして、屈折率ｎと厚み
ｄとの積（光学的厚みＤ）が、可視光の波長以下に構成
して、光の反射を防止するとともに、可視光の透過を最
適に行えるようにする。
【００３０】本発明の低屈折率層は、Ｓi Ｏｘ（ｘは
１．５〜４．０）はＣＶＤ好ましくは有機シロキサンを
原料ガスとして、他の無機蒸着源が存在しない条件でプ
ラズマＣＶＤで行う。そして、被蒸着フィルムをできる
だけ低温度に維持する。本発明のＳi Ｏｘ層（低屈折率
層）には未分解の有機シロキサンを含み、ケイ素に対し
て炭素が０．１〜０．２残存することにより、Ｓi Ｏｘ
の可撓性と接着性を維持することに効果がある。
１．５〜４．０）はＣＶＤ好ましくは有機シロキサンを
原料ガスとして、他の無機蒸着源が存在しない条件でプ
ラズマＣＶＤで行う。そして、被蒸着フィルムをできる
だけ低温度に維持する。本発明のＳi Ｏｘ層（低屈折率
層）には未分解の有機シロキサンを含み、ケイ素に対し
て炭素が０．１〜０．２残存することにより、Ｓi Ｏｘ
の可撓性と接着性を維持することに効果がある。
【００３１】このようにして、形成された上記低屈折率
層は、水に対する表面の接触角が、４０〜１８０度のＳ
i Ｏｘ層をもつ反射防止フィルムを構成できる。したが
って、粉塵の付着を防止する効果を奏する。
層は、水に対する表面の接触角が、４０〜１８０度のＳ
i Ｏｘ層をもつ反射防止フィルムを構成できる。したが
って、粉塵の付着を防止する効果を奏する。
【００３２】上記のように構成された反射防止フィルム
１０を、偏光素子と積層して得られる偏光板は、鮮明な
画像をもつとともに反射のないものである。そして、上
記の偏光板を、組込んだ液晶表示装置においても、反射
光のない鮮明な画像を表示するものである。
１０を、偏光素子と積層して得られる偏光板は、鮮明な
画像をもつとともに反射のないものである。そして、上
記の偏光板を、組込んだ液晶表示装置においても、反射
光のない鮮明な画像を表示するものである。
【００３３】以下、実施例について図面を参照にして更
に詳細に説明する。
に詳細に説明する。
【００３４】（実施例１）図４に示す賦型フィルム６と
して、厚み２５μｍの二軸延伸ポリエチレンテレフタレ
ートフィルム（ユニチカ（株）製 ＰＴＨ２５、Ｒａ＝
０．１７７μｍ）の一方の側に、ＺｒＯ2 微粒子コーテ
イング液ＮＯ．９２６（ＺｒＯ2 微粒子１００重量部に
対しバインダー０．１５重量部よりなる塗工液（住友大
阪セメント（株）製 商品名）を厚み５７ｎｍ（乾燥時
の厚みを示す、以下同様）になるように塗工して、未硬
化の中屈折率層３６（屈折率１．７４）をワイヤーバー
で塗工した。一方、紫外線硬化型樹脂（ＰＥＴ−Ｄ３
１：大日精化工業（株）製 商品名）を、透明基材フィ
ルム５として厚み１８８μｍのＰＥＴフィルム（Ａ−４
３５０＃１８８ 東洋紡（株） 商品名）に、厚みが８
μｍになるように塗工して、溶剤成分を乾燥して未硬化
ハードコート層４６を形成した。次いで、前記の賦型フ
ィルム６に設けた未硬化の中屈折率層３６と、透明基材
フィルム５に設けた未硬化ハードコート層４６とを相接
するように積層・圧着して、紫外線を４８０ｍＪ（１０
ｍ／ｍｉｎ）照射して、未硬化の中屈折率層３６とハー
ドコート層４６を硬化して中屈折率層３とハードコート
層４とを形成し、賦型フィルム６を剥離した。図４
（Ｂ）に示すように、剥離賦型フィルム６Ｈを除いた透
明基材フィルム５には、中屈折率層３の微粒子が、ハー
ドコート層４の表面に埋没・転写されて、ハードコート
層４と中屈折率層３とが透明基材フィルム５の上に積層
・形成された。更に、図４（Ｃ）に示すように、前記中
屈折率層３の側に、ＩＴＯスパッタリング（屈折率：
２．０）を、真空度が５×１０-6ｔｏｒｒ、基板温度が
室温、アルゴンが１００ｓｃｃ／ｍｉｎ、酸素５ｓｃｃ
／ｍｉｎを導入し、デポジットレート１．６Å／ｓで１
０５ｎｍの条件で行い、高屈折率層２を形成した。そし
て、前記の高屈折率層２に更に、Ｓi Ｏ2 （屈折率：
１．４６）を、真空度が５×１０-6ｔｏｒｒ、基板温度
が室温、蒸着速度を２６Å／ｓで８５ｎｍの低屈折率層
１を構成した。上記、低屈折率層２の側に、更に、フッ
素界面活性剤ＦＣ−７７２（３Ｍ製商品名）をワイヤー
バーで、厚み２ｎｍで塗工して実施例１の反射防止フィ
ルム１０を作製した。
して、厚み２５μｍの二軸延伸ポリエチレンテレフタレ
ートフィルム（ユニチカ（株）製 ＰＴＨ２５、Ｒａ＝
０．１７７μｍ）の一方の側に、ＺｒＯ2 微粒子コーテ
イング液ＮＯ．９２６（ＺｒＯ2 微粒子１００重量部に
対しバインダー０．１５重量部よりなる塗工液（住友大
阪セメント（株）製 商品名）を厚み５７ｎｍ（乾燥時
の厚みを示す、以下同様）になるように塗工して、未硬
化の中屈折率層３６（屈折率１．７４）をワイヤーバー
で塗工した。一方、紫外線硬化型樹脂（ＰＥＴ−Ｄ３
１：大日精化工業（株）製 商品名）を、透明基材フィ
ルム５として厚み１８８μｍのＰＥＴフィルム（Ａ−４
３５０＃１８８ 東洋紡（株） 商品名）に、厚みが８
μｍになるように塗工して、溶剤成分を乾燥して未硬化
ハードコート層４６を形成した。次いで、前記の賦型フ
ィルム６に設けた未硬化の中屈折率層３６と、透明基材
フィルム５に設けた未硬化ハードコート層４６とを相接
するように積層・圧着して、紫外線を４８０ｍＪ（１０
ｍ／ｍｉｎ）照射して、未硬化の中屈折率層３６とハー
ドコート層４６を硬化して中屈折率層３とハードコート
層４とを形成し、賦型フィルム６を剥離した。図４
（Ｂ）に示すように、剥離賦型フィルム６Ｈを除いた透
明基材フィルム５には、中屈折率層３の微粒子が、ハー
ドコート層４の表面に埋没・転写されて、ハードコート
層４と中屈折率層３とが透明基材フィルム５の上に積層
・形成された。更に、図４（Ｃ）に示すように、前記中
屈折率層３の側に、ＩＴＯスパッタリング（屈折率：
２．０）を、真空度が５×１０-6ｔｏｒｒ、基板温度が
室温、アルゴンが１００ｓｃｃ／ｍｉｎ、酸素５ｓｃｃ
／ｍｉｎを導入し、デポジットレート１．６Å／ｓで１
０５ｎｍの条件で行い、高屈折率層２を形成した。そし
て、前記の高屈折率層２に更に、Ｓi Ｏ2 （屈折率：
１．４６）を、真空度が５×１０-6ｔｏｒｒ、基板温度
が室温、蒸着速度を２６Å／ｓで８５ｎｍの低屈折率層
１を構成した。上記、低屈折率層２の側に、更に、フッ
素界面活性剤ＦＣ−７７２（３Ｍ製商品名）をワイヤー
バーで、厚み２ｎｍで塗工して実施例１の反射防止フィ
ルム１０を作製した。
【００３５】（実施例２）図５に示すように、表面にア
クリル・メラミン樹脂により処理された厚み５０μｍの
賦型フィルム６としてＭＣ−１９（麗光（株）製 商品
名）の一方の側に、ＺｒＯ2 微粒子コーティング液Ｎ
０．９２６（ＺｒＯ2 微粒子１００重量部に対しバイン
ダー０．１５重量部よりなるコーティング液：住友大阪
セメント（株）製 商品名）を膜厚が５７ｎｍになるよ
うに未硬化の中屈折率層３６（屈折率１．７４）をワイ
ヤーバーで塗工して設けた。そして、中屈折率層３６の
側に、紫外線硬化型樹脂（ＰＥＴ−Ｄ３１：大日精化工
業（株）製 商品名）を、厚みが８μｍになるように塗
工して、溶剤成分を乾燥して未硬化ハードコート層４６
を形成した。次いで、未硬化の中屈折率層３６と、ハー
ドコート層４６とに紫外線を４８０ｍＪ（１０ｍ／ｍｉ
ｎ）照射して、未硬化の中屈折率層及び未硬化のそれぞ
れの樹脂層を硬化して中屈折率層３及びハードコート層
４とを賦型フィルム６に設けた。これにより中屈折率層
３の超微粒子が、透明硬化樹脂層４の表面に埋没・転写
され、ハードコート層４の中屈折率層３とが透明離形フ
ィルム８の上に積層・形成された。更に、中屈折率層３
の側に、ウレタン系２液硬化型接着剤：ＬＸ−６６０／
ＫＷ７５＝４／１（ＤＩＣ製 商品名）を厚み１０μｍ
なるようにワイヤーバーコートで設けた、未硬化接着剤
層４３と、透明基材フィルム５としてトリアセチルセル
ロースフィルムＦＴ−ＵＶ８０（富士写真フィルム
（株）製 商品名）とを積層し、４０℃で７日間のエー
ジングして接着剤の硬化を完結し、ハードコート層４に
相当する透明硬化接着剤層４６を形成し、賦型フィルム
６を剥離した。そして剥離した賦型フィルム６Ｈを除い
た中屈折率層３の面に、実施例１と同様の条件で高屈折
率層２となるＩＴＯのスパッタリングし、更にＳi Ｏ2
をプラズマＣＶＤ法により積層して実施例２の反射防止
フィルム１０を作製した。
クリル・メラミン樹脂により処理された厚み５０μｍの
賦型フィルム６としてＭＣ−１９（麗光（株）製 商品
名）の一方の側に、ＺｒＯ2 微粒子コーティング液Ｎ
０．９２６（ＺｒＯ2 微粒子１００重量部に対しバイン
ダー０．１５重量部よりなるコーティング液：住友大阪
セメント（株）製 商品名）を膜厚が５７ｎｍになるよ
うに未硬化の中屈折率層３６（屈折率１．７４）をワイ
ヤーバーで塗工して設けた。そして、中屈折率層３６の
側に、紫外線硬化型樹脂（ＰＥＴ−Ｄ３１：大日精化工
業（株）製 商品名）を、厚みが８μｍになるように塗
工して、溶剤成分を乾燥して未硬化ハードコート層４６
を形成した。次いで、未硬化の中屈折率層３６と、ハー
ドコート層４６とに紫外線を４８０ｍＪ（１０ｍ／ｍｉ
ｎ）照射して、未硬化の中屈折率層及び未硬化のそれぞ
れの樹脂層を硬化して中屈折率層３及びハードコート層
４とを賦型フィルム６に設けた。これにより中屈折率層
３の超微粒子が、透明硬化樹脂層４の表面に埋没・転写
され、ハードコート層４の中屈折率層３とが透明離形フ
ィルム８の上に積層・形成された。更に、中屈折率層３
の側に、ウレタン系２液硬化型接着剤：ＬＸ−６６０／
ＫＷ７５＝４／１（ＤＩＣ製 商品名）を厚み１０μｍ
なるようにワイヤーバーコートで設けた、未硬化接着剤
層４３と、透明基材フィルム５としてトリアセチルセル
ロースフィルムＦＴ−ＵＶ８０（富士写真フィルム
（株）製 商品名）とを積層し、４０℃で７日間のエー
ジングして接着剤の硬化を完結し、ハードコート層４に
相当する透明硬化接着剤層４６を形成し、賦型フィルム
６を剥離した。そして剥離した賦型フィルム６Ｈを除い
た中屈折率層３の面に、実施例１と同様の条件で高屈折
率層２となるＩＴＯのスパッタリングし、更にＳi Ｏ2
をプラズマＣＶＤ法により積層して実施例２の反射防止
フィルム１０を作製した。
【００３６】（実施例３）図３に示す透明基材フィルム
５として、厚み１８８μｍの二軸延伸ポリエチレンテレ
フタレートフィルムＴ−ＰＥＴ（東レ（株）製 ルミラ
ーＴー６０＃５０）の一方の側に、実施例１に用いたも
のと同様の未硬化のハードコート層４６を厚み８μｍ、
及びＴｉＯ2 微粒子１００重量部に対しバインダー０．
４重量部よりなる塗工液（住友大阪セメント（株）性
商品名）を５７ｎｍになるように塗工して、未硬化の中
屈折率層３６（屈折率１．７４）とをワイヤーバーで塗
工した。そして、上記未硬化の中屈折率層３６の面と実
施例１で使用した賦型フィルム６とを積層・硬化した。
そして、実施例１と同様にハードコート層４と、凹凸形
状をもつ中屈折率層３とを形成して剥離賦型フィルム６
Ｈを剥離した。更に、前記中屈折率層３の側に、ＩＴＯ
スパッタリング（屈折率：２．０）よりなる１０５ｎｍ
の高屈折率層２及びＳi Ｏ2 （屈折率：１．４６）を８
５ｎｍで設けて低屈折率層１を構成した。上記低屈折率
層２の側に、更に実施例１で用いたフッ素系界面活性剤
ＦＣ−７７２を２ｎｍ塗工した。上記、実施例１とは、
ＺｒＯ2 にかえてＴｉＯ2 とした実施例３の反射防止フ
ィルム１０を作製した。
５として、厚み１８８μｍの二軸延伸ポリエチレンテレ
フタレートフィルムＴ−ＰＥＴ（東レ（株）製 ルミラ
ーＴー６０＃５０）の一方の側に、実施例１に用いたも
のと同様の未硬化のハードコート層４６を厚み８μｍ、
及びＴｉＯ2 微粒子１００重量部に対しバインダー０．
４重量部よりなる塗工液（住友大阪セメント（株）性
商品名）を５７ｎｍになるように塗工して、未硬化の中
屈折率層３６（屈折率１．７４）とをワイヤーバーで塗
工した。そして、上記未硬化の中屈折率層３６の面と実
施例１で使用した賦型フィルム６とを積層・硬化した。
そして、実施例１と同様にハードコート層４と、凹凸形
状をもつ中屈折率層３とを形成して剥離賦型フィルム６
Ｈを剥離した。更に、前記中屈折率層３の側に、ＩＴＯ
スパッタリング（屈折率：２．０）よりなる１０５ｎｍ
の高屈折率層２及びＳi Ｏ2 （屈折率：１．４６）を８
５ｎｍで設けて低屈折率層１を構成した。上記低屈折率
層２の側に、更に実施例１で用いたフッ素系界面活性剤
ＦＣ−７７２を２ｎｍ塗工した。上記、実施例１とは、
ＺｒＯ2 にかえてＴｉＯ2 とした実施例３の反射防止フ
ィルム１０を作製した。
【００３７】（比較例１）図５に示すように、透明基材
フィルム５として、厚み１８８μｍのＰＥＴフィルム
（Ａ−４３５０ ＃１８８ 東洋紡（株）製 商品名）
の一方の側にハードコート層４５を８μｍ設け、更にＭ
ｇＯ（屈折率：１．７２）を５７ｎｍになるように蒸着
した第１屈折層２６を設けた。次いで実施例１と同様に
ＩＴＯスパッタリングによる第２屈折層２７、Ｓi Ｏ2
の蒸着による第３屈折層２８を設けた比較例の反射防止
フィルム１０Ｈを構成した。
フィルム５として、厚み１８８μｍのＰＥＴフィルム
（Ａ−４３５０ ＃１８８ 東洋紡（株）製 商品名）
の一方の側にハードコート層４５を８μｍ設け、更にＭ
ｇＯ（屈折率：１．７２）を５７ｎｍになるように蒸着
した第１屈折層２６を設けた。次いで実施例１と同様に
ＩＴＯスパッタリングによる第２屈折層２７、Ｓi Ｏ2
の蒸着による第３屈折層２８を設けた比較例の反射防止
フィルム１０Ｈを構成した。
【００３８】（比較例２）比較例１の第２屈折層をＩＴ
ＯのスパッタリングからＴi Ｏ2 の蒸着に代えた以外
は、比較例１と同一に構成した比較例２の反射防止フィ
ルムを作製した。基材フィルム５の一方の側にハードコ
ート層４５を８μｍ設けた側に、更にＴi Ｏ2 （屈折
率：２．４５）を５７ｎｍになるように蒸着した第１屈
折層２６を設けた。次いで実施例１と同様にＩＴＯスパ
ッタリングによる第２屈折層２７、Ｓi Ｏ2 の蒸着によ
る第３屈折層２８を設けた比較例の反射防止フィルム１
０Ｈを構成した。
ＯのスパッタリングからＴi Ｏ2 の蒸着に代えた以外
は、比較例１と同一に構成した比較例２の反射防止フィ
ルムを作製した。基材フィルム５の一方の側にハードコ
ート層４５を８μｍ設けた側に、更にＴi Ｏ2 （屈折
率：２．４５）を５７ｎｍになるように蒸着した第１屈
折層２６を設けた。次いで実施例１と同様にＩＴＯスパ
ッタリングによる第２屈折層２７、Ｓi Ｏ2 の蒸着によ
る第３屈折層２８を設けた比較例の反射防止フィルム１
０Ｈを構成した。
【００３９】（比較例３）図６に示すように、比較例１
と同様に透明基材フィルム５にハードコート層４５を厚
み８μｍで設けた。更に、前記ハードコート層４５の側
に、ＩＴＯスパッタリング（屈折率：２．０）を、真空
度が５×１０-6ｔｏｒｒ、基板温度が室温、アルゴンが
１００ｓｃｃ／ｍｉｎ、酸素５ｓｃｃ／ｍｉｎを導入
し、デポジットレート１．６Å／ｓで膜厚が２０ｎｍの
条件で行い、第１屈折率層２６を形成した。そして、前
記の第１屈折率層２６に更に、Ｓi Ｏ2 （屈折率：１．
４３）を、真空度が５×１０-6ｔｏｒｒ、基板温度が室
温、蒸着速度を２Å／ｓで、厚みが２０ｎｍの第２屈折
率層２７を構成した。更に、前記第２屈折層２７の側に
ＩＴＯスパッタリングを、真空度が５×１０-6ｔｏｒ
ｒ、基板温度が室温、アルゴンが１００ｓｃｃ／ｍｉ
ｎ、酸素５ｓｃｃ／ｍｉｎを導入し、デポジットレート
１．６Å／ｓで膜厚が１２０ｎｍとなる条件で行い、第
３屈折率層２８を形成した。そして、前記の第３屈折率
層２８にＳi Ｏ2 蒸着を、真空度が５×１０-6ｔｏｒ
ｒ、基板温度が室温、蒸着速度を２Å／ｓで、厚みが１
００ｎｍの第４屈折率層２９を構成して、比較例３の反
射防止フィルムを作製した。
と同様に透明基材フィルム５にハードコート層４５を厚
み８μｍで設けた。更に、前記ハードコート層４５の側
に、ＩＴＯスパッタリング（屈折率：２．０）を、真空
度が５×１０-6ｔｏｒｒ、基板温度が室温、アルゴンが
１００ｓｃｃ／ｍｉｎ、酸素５ｓｃｃ／ｍｉｎを導入
し、デポジットレート１．６Å／ｓで膜厚が２０ｎｍの
条件で行い、第１屈折率層２６を形成した。そして、前
記の第１屈折率層２６に更に、Ｓi Ｏ2 （屈折率：１．
４３）を、真空度が５×１０-6ｔｏｒｒ、基板温度が室
温、蒸着速度を２Å／ｓで、厚みが２０ｎｍの第２屈折
率層２７を構成した。更に、前記第２屈折層２７の側に
ＩＴＯスパッタリングを、真空度が５×１０-6ｔｏｒ
ｒ、基板温度が室温、アルゴンが１００ｓｃｃ／ｍｉ
ｎ、酸素５ｓｃｃ／ｍｉｎを導入し、デポジットレート
１．６Å／ｓで膜厚が１２０ｎｍとなる条件で行い、第
３屈折率層２８を形成した。そして、前記の第３屈折率
層２８にＳi Ｏ2 蒸着を、真空度が５×１０-6ｔｏｒ
ｒ、基板温度が室温、蒸着速度を２Å／ｓで、厚みが１
００ｎｍの第４屈折率層２９を構成して、比較例３の反
射防止フィルムを作製した。
【００４０】（比較例４）図５に示すように、透明基材
フィルム５として、厚み１８８μｍのＰＥＴフィルム
（Ａ−４３５０ ＃１８８ 東洋紡（株）製 商品名）
の一方の側に比較例１で使用したハードコート層４５を
７μｍ設け、更に第１屈折層２６、第２屈折層２７及び
第３屈折層２８として、ＭｇＯ、ＴｉＯ2 、ＳｉＯ2 の
順に（λ／４ーλ／４ーλ／４）の光学膜厚で積層し
て、比較例４の反射防止フィルムを作製した。
フィルム５として、厚み１８８μｍのＰＥＴフィルム
（Ａ−４３５０ ＃１８８ 東洋紡（株）製 商品名）
の一方の側に比較例１で使用したハードコート層４５を
７μｍ設け、更に第１屈折層２６、第２屈折層２７及び
第３屈折層２８として、ＭｇＯ、ＴｉＯ2 、ＳｉＯ2 の
順に（λ／４ーλ／４ーλ／４）の光学膜厚で積層し
て、比較例４の反射防止フィルムを作製した。
【００４１】（比較例５）図示はしないが、比較例４と
同様にしてＰＥＴフィルム５に比較例４で使用したハー
ドコート層４５を７μｍ設け、更に第１屈折層、及び第
２屈折層からなる２層の屈折層として、ＩＴＯ、ＳｉＯ
2 の順に（λ／４ーλ／４）の光学膜厚で積層して、比
較例５の反射防止フィルムを作製した。
同様にしてＰＥＴフィルム５に比較例４で使用したハー
ドコート層４５を７μｍ設け、更に第１屈折層、及び第
２屈折層からなる２層の屈折層として、ＩＴＯ、ＳｉＯ
2 の順に（λ／４ーλ／４）の光学膜厚で積層して、比
較例５の反射防止フィルムを作製した。
【００４２】実施例及び比較例で得られた試料につい
て、反射防止膜のスペクトル図を測定し、１％以下の低
反射率の領域及び、表面特性（表面抵抗：４端子法で測
定、表面の接触角：エルマ社製接触角測定器 Ｍｏｄｅ
ｌ Ｇ１にて測定、耐湿試験：５０℃相対湿度９５％の
環境下で４８時間放置した後における外観変化の目視評
価、及び動摩擦係数）を測定評価した。その測定結果を
図９及び表１に示す。 （以下余白）
て、反射防止膜のスペクトル図を測定し、１％以下の低
反射率の領域及び、表面特性（表面抵抗：４端子法で測
定、表面の接触角：エルマ社製接触角測定器 Ｍｏｄｅ
ｌ Ｇ１にて測定、耐湿試験：５０℃相対湿度９５％の
環境下で４８時間放置した後における外観変化の目視評
価、及び動摩擦係数）を測定評価した。その測定結果を
図９及び表１に示す。 （以下余白）
【００４３】
【表１】 ＊脱落：真空コートにより形成された光学薄膜層が中屈折率層面より脱落。
【００４４】
【発明の効果】本発明の反射防止フィルムは、以上説明
したように基材フィルムに、ハードコート層、中屈折率
層、高屈折率層及び低屈折率層の順で構成され、そし
て、ハードコート層は、熱硬化又は電離放射線硬化型樹
脂で形成されている。したがって、基材フィルムとの接
着も強固に安定し、かつ防眩性に優れた反射防止フィル
ムを提供できる。また、実施例１及び２の反射防止フィ
ルムの屈折層は３層で構成されているにもかかわらず、
比較例２の４層品と同等の反射防止効果が得られ、４層
品と比較して工程数が削減する効果を奏する。
したように基材フィルムに、ハードコート層、中屈折率
層、高屈折率層及び低屈折率層の順で構成され、そし
て、ハードコート層は、熱硬化又は電離放射線硬化型樹
脂で形成されている。したがって、基材フィルムとの接
着も強固に安定し、かつ防眩性に優れた反射防止フィル
ムを提供できる。また、実施例１及び２の反射防止フィ
ルムの屈折層は３層で構成されているにもかかわらず、
比較例２の４層品と同等の反射防止効果が得られ、４層
品と比較して工程数が削減する効果を奏する。
【図１】本発明の反射防止フィルムの基本的層構成を示
す断面図である。
す断面図である。
【図２】本発明の反射防止フィルムに凹凸形状をもつ中
屈折率層を付加した構成を示す断面図である。
屈折率層を付加した構成を示す断面図である。
【図３】本発明の第１の製造方法の工程を示す断面概略
図である。
図である。
【図４】本発明の第２の製造方法の工程を示す断面概略
図である。
図である。
【図５】本発明の第３の製造方法の工程を示す断面概略
図である。
図である。
【図６】本発明の他の構成を示す断面概略図である。
【図７】比較例の構成を示す断面概略図である。
【図８】他の比較例の構成を示す断面概略図である。
【図９】本発明の実施例及び比較例の反射防止フィルム
の一部について可視光線部における反射スペクトル図で
ある。
の一部について可視光線部における反射スペクトル図で
ある。
１ 低屈折率層 ２ 高屈折率層 ３ 中屈折率層 36 未硬化の中屈折率層 ４ ハードコート層 42 防汚コート層 45 比較例のハードコート層 46 未硬化ハードコート層 ５ 透明基材フィルム ６ 賦型フィルム 6H 剥離賦型フィルム ７ プライマー層 ９ 接着剤層 96 未硬化接着剤層 10 反射防止フィルム 10H 比較例の反射防止フィルム 10 反射防止フィルム 26 第１屈折層 27 第２屈折層 28 第３屈折層 29 第４屈折層
フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 ＦＩ Ｇ０２Ｂ 1/10 Ｇ０２Ｂ 1/10 Ｚ
Claims (10)
- 【請求項１】透明基材フィルムに、ハードコート層を介
して、中屈折率層、高屈折率層及び低屈折率層とを順に
積層した反射防止フィルムにあって、 Ｓi Ｏｘ層よりなる低屈折率層、 バインダーと、１．５以上の屈折率をもつ超微粒子と
からなる塗料の塗工で構成された中屈折率層、 導電性をもつ高屈折率層、 ２．２０＞高屈折率層の屈折率＞中屈折率層の屈折率
＞低屈折率層の屈折率＞１．４０の関係がある上記各層
の隣接する屈折率、 低屈折率層が８０〜１１０ｎｍ、高屈折率層が８０〜
１１０ｎｍそして中屈折率層が５５〜７０ｎｍである各
屈折率層の厚み、 可視光の波長以下である光学的膜厚Ｄ（Ｄ＝ｎ・ｄ、
但し、ｎ：中屈折率の屈折率、ｄ＝中屈折率層の厚み） で、表されることを特徴とする反射防止フィルム。 - 【請求項２】上記ハードコート層は、中屈折率層と接す
る面に凹凸形状が形成されていることを特徴とする請求
項１記載の反射防止フィルム。 - 【請求項３】上記ハードコート層は、透明基材フィルム
に直接あるいはプライマー層及び／又は接着剤層を介し
て設けられたことを特徴とする請求項１乃至２記載の反
射防止フィルム。 - 【請求項４】上記中屈折率層は、熱硬化型樹脂、及び／
又は電離放射線型樹脂１重量部と超微粒子のＺｎＯ、Ｔ
ｉＯ2 、ＣｅＯ2 、Ｓｂ2 Ｏ5 、ＳｎＯ2 、ＩＴＯ、Ｙ
2 Ｏ3 、Ｌａ2 Ｏ3 、Ａｌ2 Ｏ3 、Ｈｆ2 Ｏ3 、ＺｒＯ
2 から選ばれた１種類以上の超微粒子０．１〜２０重量
部で構成されていることを特徴とする請求項１、２乃至
３記載の反射防止フィルム。 - 【請求項５】上記高屈折率層、及び低屈折率層は真空コ
ーティングで設けられた層であることを特徴とする請求
項１、２、３乃至４記載の反射防止フィルム。 - 【請求項６】上記低屈折率層が、有機シロキサンを原料
ガスを放電によるプラズマＣＶＤで行い、未分解のカー
ボンがケイ素に対し０．１〜０．２部残存することを特
徴とする請求項１、２、３、４乃至５記載の反射防止フ
ィルム。 - 【請求項７】上記低屈折率層に更に防汚コート層を設け
たことを特徴とする請求項１、２、３、４、５乃至６記
載の反射防止フィルム。 - 【請求項８】透明基材フィルムに、ハードコート層、中
屈折率層、更に、高屈折率層及び低屈折率層を順に積層
した反射防止フィルムにあって、 ハードコート層となる未硬化のハードコート層を透明
基材フィルムに、次いで、バインダーと、該バインダー
の屈折率より高い屈折率をもつ微粒子とを含む組成物か
らなる未硬化の中屈折率層を透明基材フィルムに塗工す
る工程、 上記未硬化の中屈折率層に、ミラー状又は微細な凹凸
をもつマット状の賦型フィルムを積層・賦型する工程、 得られた積層物を加熱処理及び／又は電離放射線処理
により中屈折率層を硬化する工程、 硬化した積層物から前記賦型フィルムを剥離除去して
凹凸をもつ中屈折率層を透明基材フィルムに形成する工
程、 前記中屈折率層に、高屈折率層を真空蒸着、又はスパ
ッタリングにて形成する工程、 ) Ｓi Ｏｘ層よりなる低屈折率層を真空蒸着、スパッ
タリング又はプラズマＣＶＤで形成する工程、 をもつことを特徴とする反射防止フィルムの製造方法。 - 【請求項９】透明基材フィルムに、ハードコート層、中
屈折率層、更に、高屈折率層及び低屈折率層を順に積層
した反射防止フィルムにあって、 ミラー状又は表面に凹凸形状をもつマット状の賦型フ
ィルムに、バインダーと、該バインダーの屈折率より高
い屈折率をもつ微粒子を含む組成物からなる未硬化の中
屈折率層を塗工する工程、 前記未硬化の中屈折率層と、透明基材フィルムに設け
た未硬化のハードコート層とを積層する工程、 上記未硬化のハードコート層に透明基材フィルムを積
層する工程、 得られた積層物を加熱処理及び／又は電離放射線処理
により中屈折率層及びハードコート層を硬化する工程、 硬化した積層物から前記賦型フィルムを剥離・除去し
て凹凸をもつ中屈折率層を透明基材フィルムに形成する
工程、 前記中屈折率層に、更に高屈折率層を真空蒸着又はス
パッタリングで形成する工程、 ) Ｓi Ｏｘ層よりなる低屈折率層をスパッタリング又
はプラズマＣＶＤで形成する工程、 をもつことを特徴とする反射防止フィルムの製造方法。 - 【請求項１０】透明基材フィルムに、ハードコート層を
介して、中屈折率層、高屈折率層及び低屈折率層を順に
積層した反射防止フィルムにあって、 賦型フィルムに、バインダーと該バインダーの屈折率
より高い屈折率をもつ微粒子を含む未硬化の中屈折率層
及び未硬化のハードコート層とを塗工・硬化して中屈折
率層及びハードコート層を形成する工程、 一方、透明基材フィルムに反応型接着剤層を塗工した
未硬化状態の面と、前記の硬化した中屈折率層とを積層
する工程、 得られた積層物を加熱処理及び／又は電離放射線によ
る処理により接着剤層を硬化する工程、 硬化した積層物から前記離形フィルムを剥離除去して
中屈折率層及びハードコート層を透明基材フィルムに形
成する工程、 前記の中屈折率層に、更に高屈折率層を真空蒸着又は
スパッタリングで形成する工程、 ) Ｓi Ｏｘ層よりなる低屈折率層をスパッタリング又
はプラズマＣＶＤで形成する工程、 とをもつことを特徴とする反射防止フィルムの製造方
法。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9019562A JPH10206603A (ja) | 1997-01-20 | 1997-01-20 | 反射防止フィルム及びその製造方法 |
| US09/007,796 US6207263B1 (en) | 1997-01-20 | 1998-01-15 | Anti-reflection film and process for preparation thereof |
| JP10007544A JPH10300902A (ja) | 1997-01-20 | 1998-01-19 | 反射防止フィルム及びその製造方法 |
| US09/754,130 US20010021446A1 (en) | 1997-01-20 | 2001-01-05 | Anti-reflection film and process for preparation thereof |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9019562A JPH10206603A (ja) | 1997-01-20 | 1997-01-20 | 反射防止フィルム及びその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10206603A true JPH10206603A (ja) | 1998-08-07 |
Family
ID=12002750
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9019562A Pending JPH10206603A (ja) | 1997-01-20 | 1997-01-20 | 反射防止フィルム及びその製造方法 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (2) | US6207263B1 (ja) |
| JP (1) | JPH10206603A (ja) |
Cited By (21)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH10246802A (ja) * | 1997-03-05 | 1998-09-14 | Sumitomo Chem Co Ltd | 低反射樹脂基材 |
| WO1999041066A1 (fr) * | 1998-02-17 | 1999-08-19 | Nippon Kayaku Kabushiki Kaisha | Feuille ou film transparent |
| JPH11258405A (ja) * | 1998-03-12 | 1999-09-24 | Toppan Printing Co Ltd | 反射防止フィルム |
| JP2000094590A (ja) * | 1998-09-25 | 2000-04-04 | Dainippon Printing Co Ltd | 帯電防止性着色ハードコートフィルム及び表示装置 |
| JP2000121804A (ja) * | 1998-10-09 | 2000-04-28 | Sekisui Chem Co Ltd | 反射防止フィルム |
| GB2345021A (en) * | 1998-12-22 | 2000-06-28 | Nokia Mobile Phones Ltd | Matt surface display window |
| JP2000329905A (ja) * | 1998-09-22 | 2000-11-30 | Fuji Photo Film Co Ltd | 反射防止膜およびその製造方法 |
| JP2001021701A (ja) * | 1999-07-09 | 2001-01-26 | Sumitomo Osaka Cement Co Ltd | 帯電防止・反射防止膜付き透明フィルム |
| JP2002036457A (ja) * | 2000-05-19 | 2002-02-05 | Toray Ind Inc | 積層フィルムおよびその製造方法 |
| JP2002103507A (ja) * | 2000-09-29 | 2002-04-09 | Dainippon Printing Co Ltd | シリカ層、及びシリカ層を用いた反射防止フィルム |
| JP2003090902A (ja) * | 2001-09-19 | 2003-03-28 | Dainippon Printing Co Ltd | 反射防止賦形フィルム及びそれを用いた反射防止加工方法 |
| JP2003149407A (ja) * | 2001-08-28 | 2003-05-21 | Dainippon Printing Co Ltd | 反射防止フィルム |
| JP2004009420A (ja) * | 2002-06-05 | 2004-01-15 | Nakajima Kogyo Kk | 低反射転写箔、成型品の製造方法及び成型品 |
| JP2004069867A (ja) * | 2002-08-05 | 2004-03-04 | Dainippon Printing Co Ltd | 低反射フィルム |
| JP2004309898A (ja) * | 2003-04-09 | 2004-11-04 | Teijin Dupont Films Japan Ltd | 反射防止フィルム |
| JP2007182024A (ja) * | 2006-01-10 | 2007-07-19 | Kitagawa Ind Co Ltd | 防眩フィルム |
| KR100822242B1 (ko) * | 1999-01-14 | 2008-04-16 | 스미또모 가가꾸 가부시끼가이샤 | 반사방지막 |
| US7713579B2 (en) | 2006-03-30 | 2010-05-11 | Fujifilm Corporation | Coating apparatus, coating method, and method for manufacturing optical film |
| JP2010229520A (ja) * | 2009-03-27 | 2010-10-14 | Fujifilm Corp | 機能性フィルムの製造方法、及び製造装置 |
| JP2014167620A (ja) * | 2013-01-29 | 2014-09-11 | Nitto Denko Corp | 反射防止フィルムおよびその製造方法 |
| WO2015050203A1 (ja) | 2013-10-03 | 2015-04-09 | 富士フイルム株式会社 | 投映像表示用ハーフミラーおよびその製造方法、ならびに投映像表示システム |
Families Citing this family (58)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6586193B2 (en) * | 1996-04-25 | 2003-07-01 | Genicon Sciences Corporation | Analyte assay using particulate labels |
| JP3959803B2 (ja) * | 1997-10-24 | 2007-08-15 | 日本板硝子株式会社 | ゾルゲル法による最外層に複数の凸部を有する多層被覆基板の製造方法 |
| JP4316696B2 (ja) * | 1998-02-12 | 2009-08-19 | 株式会社きもと | アンチニュートンリング性フィルム |
| WO2002068932A2 (en) * | 2001-02-23 | 2002-09-06 | Genicon Sciences Corporation | Methods for providing extended dynamic range in analyte assays |
| WO2003005069A1 (en) * | 2001-07-05 | 2003-01-16 | Teijin Dupon Films Japan Limited | Antireflection film and method for production thereof |
| US6689479B2 (en) * | 2001-08-28 | 2004-02-10 | Dai Nippon Printing Co., Ltd. | Anti-reflection film, and silica layer |
| US20030049866A1 (en) * | 2001-09-05 | 2003-03-13 | Genicon Sciences Corporation | Sample device preservation |
| US6956084B2 (en) * | 2001-10-04 | 2005-10-18 | Bridgestone Corporation | Nano-particle preparation and applications |
| EP1367653A1 (en) | 2002-05-27 | 2003-12-03 | Centro De Investigaciones Energeticas Medioambientales Y Tecnologicas (C.I.E.M.A.T.) | Method for preparing transparent and conducting sheets on polymers |
| JP3840170B2 (ja) * | 2002-10-11 | 2006-11-01 | 外男 林 | 金属蒸着加工レンズの製造方法 |
| JP2004181706A (ja) * | 2002-12-02 | 2004-07-02 | Mitsubishi Polyester Film Copp | 二軸配向積層ポリエステルフィルム |
| TWI330262B (en) * | 2003-03-31 | 2010-09-11 | Zeon Corp | Protective film for polarizing plate |
| TWI339741B (en) * | 2003-06-26 | 2011-04-01 | Zeon Corp | Optical laminated film, polarizer and optical article |
| US20050136180A1 (en) * | 2003-12-19 | 2005-06-23 | 3M Innovative Properties Company | Method of coating a substrate with a fluoropolymer |
| US20050141843A1 (en) * | 2003-12-31 | 2005-06-30 | Invitrogen Corporation | Waveguide comprising scattered light detectable particles |
| US7205370B2 (en) * | 2004-01-12 | 2007-04-17 | Bridgestone Corporation | Polymeric nano-particles of flower-like structure and applications |
| US7718737B2 (en) | 2004-03-02 | 2010-05-18 | Bridgestone Corporation | Rubber composition containing functionalized polymer nanoparticles |
| US20050228074A1 (en) * | 2004-04-05 | 2005-10-13 | Bridgestone Corporation | Amphiphilic polymer micelles and use thereof |
| US20050282956A1 (en) * | 2004-06-21 | 2005-12-22 | Xiaorong Wang | Reversible polymer/metal nano-composites and method for manufacturing same |
| US7998554B2 (en) * | 2004-07-06 | 2011-08-16 | Bridgestone Corporation | Hydrophobic surfaces with nanoparticles |
| US7534491B2 (en) * | 2004-09-29 | 2009-05-19 | Dai Nippon Printing Co., Ltd. | Optical laminate |
| US7662483B2 (en) * | 2004-09-29 | 2010-02-16 | Dai Nippon Printing Co., Ltd. | Optical laminate |
| CN100388013C (zh) * | 2005-01-14 | 2008-05-14 | 索尼株式会社 | 光学设备、透镜镜筒、图像拾取设备和电子设备 |
| JP4723974B2 (ja) * | 2005-10-24 | 2011-07-13 | 日立マクセル株式会社 | 光学フィルムの製造方法 |
| TW200728763A (en) * | 2005-10-24 | 2007-08-01 | Hitachi Maxell | Optical thin film and manufacturing method thereof |
| US9061900B2 (en) * | 2005-12-16 | 2015-06-23 | Bridgestone Corporation | Combined use of liquid polymer and polymeric nanoparticles for rubber applications |
| US7884160B2 (en) * | 2005-12-19 | 2011-02-08 | Bridgestone Corporation | Non-spherical nanoparticles made from living triblock polymer chains |
| US8288473B2 (en) | 2005-12-19 | 2012-10-16 | Bridgestone Corporation | Disk-like nanoparticles |
| US8697775B2 (en) * | 2005-12-20 | 2014-04-15 | Bridgestone Corporation | Vulcanizable nanoparticles having a core with a high glass transition temperature |
| US8877250B2 (en) | 2005-12-20 | 2014-11-04 | Bridgestone Corporation | Hollow nano-particles and method thereof |
| JP2007326357A (ja) * | 2006-05-10 | 2007-12-20 | Fujifilm Corp | 積層フィルム及び画像表示装置 |
| JP6096398B2 (ja) | 2006-07-28 | 2017-03-15 | 株式会社ブリヂストン | 重合体ナノ粒子、ゴム組成物及び使用 |
| US7668112B2 (en) * | 2006-07-31 | 2010-02-23 | Sap Portals Israel Ltd. | Method for application modeling |
| US7597959B2 (en) * | 2006-12-19 | 2009-10-06 | Bridgestone Corporation | Core-shell fluorescent nanoparticles |
| US7829624B2 (en) * | 2007-06-29 | 2010-11-09 | Bridgestone Corporation | One-pot synthesis of nanoparticles and liquid polymer for rubber applications |
| JP5076729B2 (ja) * | 2007-08-20 | 2012-11-21 | 凸版印刷株式会社 | 反射防止フィルム及びそれを用いた偏光板 |
| WO2010078320A2 (en) | 2008-12-31 | 2010-07-08 | Bridgestone Corporation | Core-first nanoparticle formation process, nanoparticle, and composition |
| US9062144B2 (en) | 2009-04-03 | 2015-06-23 | Bridgestone Corporation | Hairy polymeric nanoparticles with first and second shell block polymer arms |
| US8252390B2 (en) * | 2009-05-22 | 2012-08-28 | Sharp Kabushiki Kaisha | Optical structure to reduce internal reflections |
| US20110172364A1 (en) * | 2009-12-29 | 2011-07-14 | Chen Yaohong | Charged Nanoparticles And Method Of Controlling Charge |
| US9115222B2 (en) * | 2009-12-29 | 2015-08-25 | Bridgestone Corporation | Well defined, highly crosslinked nanoparticles and method for making same |
| CN102463714B (zh) * | 2010-11-11 | 2015-04-15 | 鸿富锦精密工业（深圳）有限公司 | 具有抗指纹性的被覆件及其制造方法 |
| US9435626B2 (en) * | 2011-08-12 | 2016-09-06 | Corning Incorporated | Kinematic fixture for transparent part metrology |
| JP5644753B2 (ja) * | 2011-12-26 | 2014-12-24 | 豊田合成株式会社 | Ｉｉｉ族窒化物半導体発光素子 |
| US9428604B1 (en) | 2011-12-30 | 2016-08-30 | Bridgestone Corporation | Nanoparticle fillers and methods of mixing into elastomers |
| JP2013156523A (ja) * | 2012-01-31 | 2013-08-15 | Topcon Corp | 基板 |
| JP6730803B2 (ja) * | 2015-12-18 | 2020-07-29 | デクセリアルズ株式会社 | 反射防止光学体の形成方法、ディスプレイパネルおよび光学フィルム |
| CN106959479B (zh) * | 2016-04-01 | 2019-05-24 | 江苏集萃智能液晶科技有限公司 | 一种光学膜 |
| WO2019009199A1 (ja) * | 2017-07-03 | 2019-01-10 | デクセリアルズ株式会社 | 微細凹凸積層体及びその製造方法、並びに、カメラモジュール搭載装置 |
| US12180581B2 (en) | 2017-09-18 | 2024-12-31 | Waters Technologies Corporation | Use of vapor deposition coated flow paths for improved chromatography of metal interacting analytes |
| US11709156B2 (en) | 2017-09-18 | 2023-07-25 | Waters Technologies Corporation | Use of vapor deposition coated flow paths for improved analytical analysis |
| US12181452B2 (en) | 2017-09-18 | 2024-12-31 | Waters Technologies Corporation | Use of vapor deposition coated flow paths for improved chromatography of metal interacting analytes |
| US11709155B2 (en) | 2017-09-18 | 2023-07-25 | Waters Technologies Corporation | Use of vapor deposition coated flow paths for improved chromatography of metal interacting analytes |
| KR102032316B1 (ko) * | 2018-07-09 | 2019-10-15 | 에스케이씨 주식회사 | 광학 다층 필름, 이를 포함하는 광학 부품 및 표시장치 |
| JP7208765B2 (ja) * | 2018-11-08 | 2023-01-19 | デクセリアルズ株式会社 | 積層体、積層体の製造方法、光学体の形成方法及びカメラモジュール搭載装置 |
| EP3930867B1 (en) | 2019-02-27 | 2025-11-12 | Waters Technologies Corporation | Chromatographic seal and coated flow paths for minimizing analyte adsorption |
| US11918936B2 (en) | 2020-01-17 | 2024-03-05 | Waters Technologies Corporation | Performance and dynamic range for oligonucleotide bioanalysis through reduction of non specific binding |
| US12352734B2 (en) | 2020-09-24 | 2025-07-08 | Waters Technologies Corporation | Chromatographic hardware improvements for separation of reactive molecules |
-
1997
- 1997-01-20 JP JP9019562A patent/JPH10206603A/ja active Pending
-
1998
- 1998-01-15 US US09/007,796 patent/US6207263B1/en not_active Expired - Lifetime
-
2001
- 2001-01-05 US US09/754,130 patent/US20010021446A1/en not_active Abandoned
Cited By (25)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH10246802A (ja) * | 1997-03-05 | 1998-09-14 | Sumitomo Chem Co Ltd | 低反射樹脂基材 |
| US6723423B1 (en) | 1998-02-17 | 2004-04-20 | Nippon Kayaku Kabushiki Kaisha | Transparent sheet or film |
| WO1999041066A1 (fr) * | 1998-02-17 | 1999-08-19 | Nippon Kayaku Kabushiki Kaisha | Feuille ou film transparent |
| JPH11258405A (ja) * | 1998-03-12 | 1999-09-24 | Toppan Printing Co Ltd | 反射防止フィルム |
| JP2000329905A (ja) * | 1998-09-22 | 2000-11-30 | Fuji Photo Film Co Ltd | 反射防止膜およびその製造方法 |
| JP2000094590A (ja) * | 1998-09-25 | 2000-04-04 | Dainippon Printing Co Ltd | 帯電防止性着色ハードコートフィルム及び表示装置 |
| JP2000121804A (ja) * | 1998-10-09 | 2000-04-28 | Sekisui Chem Co Ltd | 反射防止フィルム |
| GB2345021A (en) * | 1998-12-22 | 2000-06-28 | Nokia Mobile Phones Ltd | Matt surface display window |
| US6273573B1 (en) | 1998-12-22 | 2001-08-14 | Nokia Mobile Phone Limited | Display window |
| KR100822242B1 (ko) * | 1999-01-14 | 2008-04-16 | 스미또모 가가꾸 가부시끼가이샤 | 반사방지막 |
| JP2001021701A (ja) * | 1999-07-09 | 2001-01-26 | Sumitomo Osaka Cement Co Ltd | 帯電防止・反射防止膜付き透明フィルム |
| JP2002036457A (ja) * | 2000-05-19 | 2002-02-05 | Toray Ind Inc | 積層フィルムおよびその製造方法 |
| JP2002103507A (ja) * | 2000-09-29 | 2002-04-09 | Dainippon Printing Co Ltd | シリカ層、及びシリカ層を用いた反射防止フィルム |
| JP2003149407A (ja) * | 2001-08-28 | 2003-05-21 | Dainippon Printing Co Ltd | 反射防止フィルム |
| JP2003090902A (ja) * | 2001-09-19 | 2003-03-28 | Dainippon Printing Co Ltd | 反射防止賦形フィルム及びそれを用いた反射防止加工方法 |
| JP2004009420A (ja) * | 2002-06-05 | 2004-01-15 | Nakajima Kogyo Kk | 低反射転写箔、成型品の製造方法及び成型品 |
| JP2004069867A (ja) * | 2002-08-05 | 2004-03-04 | Dainippon Printing Co Ltd | 低反射フィルム |
| JP2004309898A (ja) * | 2003-04-09 | 2004-11-04 | Teijin Dupont Films Japan Ltd | 反射防止フィルム |
| JP2007182024A (ja) * | 2006-01-10 | 2007-07-19 | Kitagawa Ind Co Ltd | 防眩フィルム |
| US7713579B2 (en) | 2006-03-30 | 2010-05-11 | Fujifilm Corporation | Coating apparatus, coating method, and method for manufacturing optical film |
| JP2010229520A (ja) * | 2009-03-27 | 2010-10-14 | Fujifilm Corp | 機能性フィルムの製造方法、及び製造装置 |
| JP2014167620A (ja) * | 2013-01-29 | 2014-09-11 | Nitto Denko Corp | 反射防止フィルムおよびその製造方法 |
| US9851473B2 (en) | 2013-01-29 | 2017-12-26 | Nitto Denko Corporation | Anti-reflection film and production method therefor |
| JP2019148806A (ja) * | 2013-01-29 | 2019-09-05 | 日東電工株式会社 | 反射防止フィルムおよびその製造方法 |
| WO2015050203A1 (ja) | 2013-10-03 | 2015-04-09 | 富士フイルム株式会社 | 投映像表示用ハーフミラーおよびその製造方法、ならびに投映像表示システム |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US20010021446A1 (en) | 2001-09-13 |
| US6207263B1 (en) | 2001-03-27 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPH10206603A (ja) | 反射防止フィルム及びその製造方法 | |
| KR100323024B1 (ko) | 저반사 대전 방지성 하드 코트 필름 | |
| US6340404B1 (en) | Optical functional materials and process for producing the same | |
| US6146753A (en) | Antistatic hard coat film | |
| JP2000214302A (ja) | 反射防止フィルム及びその製造方法 | |
| JPH07287102A (ja) | 反射防止フィルム、その製造方法、偏光板及び液晶表示装置 | |
| JP4080520B2 (ja) | 防眩性ハードコートフィルム、防眩性ハードコートフィルムの製造方法、光学素子、偏光板および画像表示装置 | |
| JPH07333404A (ja) | 光学機能性膜、光学機能性フィルム、防眩性反射防止フィルム、その製造方法、偏光板および液晶表示装置 | |
| KR20000071241A (ko) | 반사방지막 | |
| JP4275237B2 (ja) | 低反射帯電防止性ハードコートフイルム | |
| JPH10300902A (ja) | 反射防止フィルム及びその製造方法 | |
| JP2000221302A (ja) | 反射防止フィルム及びその製造方法 | |
| JPH09220791A (ja) | 反射防止フイルム | |
| JPH08122504A (ja) | 反射防止フィルム及びその製造方法 | |
| JP2004258394A (ja) | 光学機能性膜、反射防止フィルム、偏光板および表示装置 | |
| JPH07325203A (ja) | 防眩性反射防止フィルム、偏光板及び液晶表示装置 | |
| JP2003039586A (ja) | 低反射帯電防止性ハードコートフィルム | |
| JP3329924B2 (ja) | 反射防止フィルム及びその製造方法 | |
| JP2000338305A (ja) | 反射防止フィルム | |
| JPH10206604A (ja) | 反射防止フィルム | |
| WO2004031814A1 (ja) | 光学基材及び反射防止フィルム | |
| JPH1142729A (ja) | 帯電防止性ハードコートフィルム | |
| JP2000338307A (ja) | 反射防止フィルム | |
| JPH10726A (ja) | 反射防止フイルム及びその製造方法 | |
| JP3751922B2 (ja) | 反射防止フィルム、およびこれを用いたディスプレイ装置、液晶ディスプレイ装置 |