JPH1083086A

JPH1083086A - 化学線感応性重合体組成物用現像液およびパターン形成方法

Info

Publication number: JPH1083086A
Application number: JP23626496A
Authority: JP
Inventors: Saburou Ooshige; 三郎大茂; Masuichi Eguchi; 益市江口; Koji Fujimoto; 康二藤本
Original assignee: Toray Industries Inc
Current assignee: Toray Industries Inc
Priority date: 1996-09-06
Filing date: 1996-09-06
Publication date: 1998-03-31

Abstract

(57)【要約】【課題】化学線感応性重合体組成物被膜の現像におい
て、パターン加工が安全にかつ容易にできるばかりでな
く、現像収率の高いレリーフパターンを得る。【解決手段】ポリイミド前駆体を主成分とするポリマー
を含有する化学線感応性重合体組成物を用いて被膜を形
成し、該被膜を所望のパターン状に化学線を照射した
後、現像を行う現像液において該現像液のｐＨが６〜１
１. ７であることを特徴とする化学線感応性重合体組成
物用現像液。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は化学線感応性重合体
組成物用現像液とパターン形成方法に関するものであ
り、更に詳しくは、水系現像液を用いた感光性ポリイミ
ドの良好なパターン形成方法に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】感光性ポリイミドは自身がパターン加工
性を有するため、通常の非感光性ポリイミドをレジスト
等を用いてパターン加工する場合と比較して、プロセス
の簡略化が可能である。そのため、半導体の保護膜、絶
縁膜などとして広く実用化されている。しかし、実用化
されている感光性ポリイミドは、ほとんどが有機溶剤系
現像液（例えば、特開昭５８−２２３１４９、特開昭６
２−１２７７３８など）でパターン加工されており、現
像装置を防爆構造にしなければならない。また、労働環
境衛生の観点から、排気設備の設置や、廃液処理が困難
など、種々の問題を抱えている。一方、アンモニア水
や、フォトレジスト用の現像液であるテトラヒドロキシ
アンモニウムハイドロオキサイド（以下ＴＭＡＨ）水溶
液などの水系現像液で現像する方法も示されているが、
露光部と未露光部の溶解速度の差が小さく、現像収率の
悪いものであった。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、かかる従来
技術の現状に鑑み創案されたもので、その目的は、上記
欠点、すなわち、防爆上あるいは労働環境衛生上で優位
な水系現像液において、現像収率の高いレリーフパター
ンを提供することにある。

【０００４】

【課題を解決するための手段】前記課題を解決するた
め、本発明の現像液は以下の構成からなる。

【０００５】１．（ａ）下記一般式（１）で表される構
造単位を主成分とするポリマー

【化３】（Ｒ1 は少なくとも２個以上の炭素原子を有する３価ま
たは４価の有機基、Ｒ2は、少なくとも２個以上の炭素
原子を有する２価の有機基、Ｒ3 は、水素、アルカリ金
属イオン、アンモニウムイオン、または炭素数１〜３０
の有機基を表し、ｎは１または２である。) （ｂ）エチレン性不飽和二重結合およびアミノ基を含む
化合物（ｃ）光開始剤および／または増感剤および／または光
反応性モノマーを含有する化学線感応性重合体組成物を
用いて被膜を形成し、該被膜を所望のパターン状に化学
線を照射した後、現像を行う現像液において該現像液の
ｐＨが６〜１１. ７であることを特徴とする化学線感応
性重合体組成物用現像液。

【０００６】

【発明の実施の形態】本発明における請求項１に記載の
化学線感応性重合体組成物における下記一般式（１）で
表される構造単位を主成分とするポリマーとは、加熱あ
るいは適当な触媒によりイミド環や、その他環状構造を
有するポリマー( 以後、「ポリイミド系ポリマー」と呼
ぶ) となり得るものを挙げることができる。

【０００７】

【化４】（Ｒ1 は少なくとも２個以上の炭素原子を有する３価ま
たは４価の有機基、Ｒ2は、少なくとも２個以上の炭素
原子を有する２価の有機基、Ｒ3 は、水素、アルカリ金
属イオン、アンモニウムイオン、または炭素数１〜３０
の有機基を表し、ｎは１または２である。) Ｒ1 の例として、フェニル基、ビフェニル基、ターフェ
ニル基、ナフタレン基、ペリレン基、ジフェニルエーテ
ル基、ジフェニルスルホン基、ジフェニルプロパン基、
ベンゾフェノン基、ジフェニルヘキサフルオロプロパン
基、ビス（トリフルオロメチル）ビフェニル基、シクロ
ペンタン基などが挙げられるが、これらに限定されな
い。Ｒ2 は少なくとも２個以上の炭素原子を有する２価
の有機基であるが、耐熱性の面からＲ2 は芳香族環又は
芳香族複素環を含有し、かつ炭素数６〜３０の２価の基
が好ましい。Ｒ2 の例として、フェニル基、ピフェニル
基、ターフェニル基、ナフタレン基、ペリレン基、ジフ
ェニルエーテル基、ジフェニルスルホン基、ジフェニル
プロパン基、ベンゾフェノン基、ジフェニルヘキサフル
オロプロパン基、ビス（トリフルオロメチル）ビフェニ
ル基、ビス（ヒドロキシフェニル）ヘキサフルオロプロ
パン基、キシリレン基、ジシクロヘキシルプロパン基な
どが挙げられるが、これらに限定されない。構造単位
（１）を主成分とするポリマは、Ｒ1 、Ｒ2 がこれらの
うち各々１種から構成されていても良いし、各々２種以
上から構成される共重合体であってもよい。

【０００８】さらに、基板との接着性を向上させるため
に、耐熱性を低下させない範囲でＲ1 、Ｒ2 として、シ
ロキサン構造を有する脂肪族の基を共重合してもよい。

【０００９】Ｒ3 は水素、アルカリ金属イオン、アンモ
ニウムイオン、または炭素数１〜３０の有機基を表す。
Ｒ3 の好ましい例としては、水素、メチル基、エチル
基、イソプロピル基、ブチル基、アミル基、メタクリル
酸エチル基、アクリル酸エチル基、ｏ−ニトロベンジル
基などが挙げられるが、これらに限定されない。特に、
Ｒ3 としては水素が好ましい。

【００１０】構造単位（１）を主成分とするポリイミド
系ポリマーの具体的な例として、ピロメリット酸二無水
物と4,4'- ジアミノジフェニルエーテル、3,3',4,4'-ベ
ンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物と4,4'- ジアミ
ノジフェニルエーテル、3,3',4,4'-ビフェニルテトラカ
ルボン酸二無水物と4,4'- ジアミノジフェニルエーテ
ル、3,3',4,4'-ジフェニルヘキサフルオロプロパンテト
ラカルボン酸二無水物と4,4'- ジアミノジフェニルエー
テル、3,3',4,4'-ジフェニルスルホンテトラカルボン酸
二無水物と4,4'- ジアミノジフェニルエーテル、ピロメ
リット酸二無水物と3,3'-(または4,4') ジアミノジフェ
ニルスルホン、3,3',4,4'-ベンゾフェノンテトラカルボ
ン酸二無水物と3,3'-(または4,4') ジアミノジフェニル
スルホン、3,3',4,4'-ビフェニルテトラカルボン酸二無
水物と3,3'-(または4,4') ジアミノジフェニルスルホ
ン、ピロメリット酸二無水物と4,4'- ジアミノジフェニ
ルスルフィド、3,3',4,4'-ベンゾフェノンテトラカルボ
ン酸二無水物と4,4'- ジアミノジフェニルスルフィド、
3,3',4,4'-ビフェニルテトラカルボン酸二無水物と4,4'
- ジアミノジフェニルスルフィド、3,3',4,4'-ベンゾフ
ェノンテトラカルボン酸二無水物とパラフェニレンジア
ミン、3,3',4,4'-ビフェニルテトラカルボン酸二無水物
とパラフェニレンジアミン、3,3',4,4'-ジフェニルエー
テルテトラカルボン酸二無水物とパラフェニレンジアミ
ン、3,3',4,4'-ジフェニルヘキサフルオロプロパンテト
ラカルボン酸二無水物とパラフェニレンジアミン、3,
3',4,4'-ビフェニルテトラカルボン酸二無水物とターフ
ェニルジアミン、ピロメリット酸二無水物と2,2-ビス
（3-アミノ-4- ヒドロキシフェニル）ヘキサフルオロプ
ロパン、3,3',4,4'-ベンゾフェノンテトラカルボン酸二
無水物と2,2-ビス（3-アミノ-4-ヒドロキシフェニル）
ヘキサフルオロプロパン、3,3',4,4'-ビフェニルテトラ
カルボン酸二無水物と2,2-ビス（3-アミノ-4- ヒドロキ
シフェニル）ヘキサフルオロプロパン、3,3',4,4'-ジフ
ェニルヘキサフルオロプロパンテトラカルボン酸二無水
物と2,2-ビス（3-アミノ-4- ヒドロキシフェニル）ヘキ
サフルオロプロパン、3,3',4,4'-ジフェニルスルホンテ
トラカルボン酸二無水物と2,2-ビス（3-アミノ-4- ヒド
ロキシフェニル）ヘキサフルオロプロパン、3,3',4,4'-
ビフェニルテトラカルボン酸二無水物および3,3',4,4'-
ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物とパラフェニ
レンジアミン、ピロメリット酸二無水物および3,3',4,
4'-ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物と3,3'-
(または4,4') ジアミノジフェニルエーテル、ピロメリ
ット酸二無水物および3,3',4,4'-ビフェニルテトラカル
ボン酸二無水物とパラフェニレンジアミン、3,3',4,4'-
ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物と4,4'- ジア
ミノジフェニルエーテルおよびビス(3- アミノプロピ
ル) テトラメチルジシロキサン、ピロメリット酸二無水
物と4,4'- ジアミノジフェニルエーテルおよびビス(3-
アミノプロピル) テトラメチルジシロキサン、3,3',4,
4'-ビフェニルテトラカルボン酸二無水物と4,4'- ジア
ミノジフェニルエーテルおよびビス(3- アミノプロピ
ル) テトラメチルジシロキサン、などから合成されたポ
リアミド酸およびエステル化合物が挙げられるが、これ
らに限定されない。

【００１１】水系現像液への溶解性の観点から、分子量
１５０〜３００にカルボン酸を１個含有しているもの、
あるいは分子中にフェノール性水酸基を含有するものが
特に好ましい。

【００１２】これらのポリイミド系ポリマーは公知の方
法すなわち、テトラカルボン酸二無水物とジアミンを選
択的に組み合わせ、これらをＮ−メチル−２−ピロリド
ン、Ｎ, Ｎ−ジメチルアセトアミド、などを主成分とす
る極性溶媒中で反応させることにより、合成される。皮
膜の形成の際に、ポリイミド系ポリマーを良く溶解し、
かつ、低沸点でより飛散し易いＮ, Ｎ−ジメチルアセト
アミドが溶媒として好ましいが、これらに限定されな
い。

【００１３】ｐＨが６〜１１．７の現像液とは水の含有
量が５０％以上好ましくは７０％以上更に好ましくは９
０％以上でＰＨが６〜１１. ７の水系現像液をいう。具
体的な例として、３％トリエタノールアミン水溶液、１
％トリエタノールアミン水溶液、３％Ｎ−エチルジエタ
ノールアミン水溶液、１％Ｎ−エチルジエタノールアミ
ン水溶液、２％ジメチルアミノエタノール水溶液、１％
ジメチルアミノエタノール水溶液、０．３％ジメチルア
ミノエタノール水溶液、１％エタノールアミン水溶液な
どの有機アルカリ水溶液が挙げられるが、無機アルカリ
水溶液でも良い。

【００１４】また、ｐＨが６〜１１．７のＴＭＡＨと酢
酸の塩、ＴＭＡＨとフタル酸の塩、ＴＭＡＨとマレイン
酸の塩の水溶液なども使用できるし、この範囲の緩衝溶
液も現像時のｐＨの中和による変動が少ないなどの利点
から好ましく使用できるが、これらに限定されない。ト
リエタノールアミン水溶液、Ｎ−エチルジエタノールア
ミン水溶液などが特に優れたコントラストを示す。

【００１５】エチレン性不飽和二重結合およびアミノ基
を含む化合物としては、エチレン性不飽和二重結合およ
びアミノ基を有し、炭素数３〜３０の有機基からなる化
合物である。さらに、炭素数３〜３０の有機基からなる
脂肪族化合物が好ましい。有機墓としては、アミノ基の
他に炭化水素基、水酸基、カルボニル基、カルボキシル
基、ウレタン基、ウレア基、アミド基などが挙げられる
がこれに限定されない。

【００１６】具体的な例として、アクリル酸ジメチルア
ミノエチル、アクリル酸ジエチルアミノエチル、メタク
リル酸ジメチルアミノエチル、メタクリル酸ジエチルア
ミノエチル、メタクリル酸ジメチルアミノプロピル、
Ｎ, Ｎ−ジメチルアミノエチルメタクリルアミド、Ｎ,
Ｎジメチルアミノプロピルメタクリルアミド、Ｎ, Ｎ−
ジエチルアミノエチルメタクリルアミド、Ｎ, Ｎ−ジエ
チルアミノプロピルメタクリルアミドが挙げられる。

【００１７】エチレン性不飽和二重結合およびアミノ基
を含む化合物はポリマの全構成単位の５％に、好ましく
は３０％に相当する当量以上で、かつポリマ中の全カル
ボキシル基の当量の5 倍以下の割合で、混合されている
のが望ましい。この範囲をはずれると感度が悪くなった
り、現像への制約が多くなる。

【００１８】光開始剤としてはミヒラーズケトン、4,4'
- ジエチルアミノベンゾフェノン、Ｎ−フェニルジエタ
ノールアミン、Ｎ−フェニルグリシンなど芳香族アミン
化合物、1-フェニルプロパンジオン-2-(ｏ- エトキシカ
ルボニル) オキシム, ビス（1-フェニル-1,2- プロパン
ジオン-2- オキシム）イソフタレートに代表される鎖状
オキシム化合物、3-フェニル-5- イソオキサゾロンに代
表される環状オキシム化合物が有効であるがこれらに限
定されない。とくに3-フェニル-5- イソオキサゾロンに
代表される環状オキシム化合物が感度面で望ましい。

【００１９】増感剤としてはミヒラーズケトン、4 、4'
- ジエチルアミノベンゾフェノンなど芳香族アミン化合
物、 3 、3'- カルボニルピス( ジエチルアミノクマリ
ン)、コダック社( 株) のクマリン339 、クマリン338
、クマリン314 、クマリン7、などのクマリン化合物、
アジドベンザルアセトフェノンなどの芳香族アジド化合
物、フェナントレンキノンなどの芳香族ケトンなど一般
に光硬化性樹脂に使用されるものであれば好ましく使用
できるがこれらに限定されない。これらは単独もしくは
２種以上の混合物として使用される。

【００２０】光開始剤の量はポリマに対して１重量％〜
１００重量％、好ましくは５重量％〜５０重量％混合さ
れているのが望ましい。この範囲をはずれると感度が悪
くなったり、現像への制約が多くなる。

【００２１】増感剤の量はポリマに対して０．１重量％
〜２０重量％、好ましくは０．２重量％〜１０重量％混
合されているのが感度面で望ましい。

【００２２】光反応性モノマーとしては２−ヒドロキシ
エチルメタクリレート、トリメチロールプロパントリア
クリレート、トリメチロールブロパントリメタクリレー
ト、エチレングリコールジメタクリレート、ジアセトン
アクリルアミドなど光反応性のモノマーをポリマに対し
て１重量％〜１００重量％、添加するとさらに感度の向
上が期待できる。また、その他の添加物が感度や耐熱性
を大幅に低下しない程度に添加されていても良い。

【００２３】次に、該化学線感応性重合体組成物のパ
ターン形成方法について説明する。本発明の組成物のパ
ターン形成方法は化学線を用いた微細加工技術でパター
ン加工が可能である。

【００２４】まず、該化学線感応性重合体組成物を適当
な支持体の上に塗布する。支持体の材質としては、例え
ば金属、ガラス、半導体、金属酸化絶縁体、窒化ケイ素
などが挙げられるが、これらに限定されない。

【００２５】塗布方法としては、スピンナーを用いた回
転塗布、スプレーコーターを用いた噴霧塗布、浸積、印
刷、ロールコーティングなどの手段が可能である。塗布
膜厚は塗布手段、組成物の固形分濃度、粘度によって調
節することができるが、通常０．１〜１５０μｍの範囲
になるように塗布される。

【００２６】次に該化学線感応性重合体組成物を塗布し
た基板を乾燥して、該化学線感応性重合体組成物被膜を
得る。乾燥は、オーブン、ホットプレート、赤外線など
を利用し、５０〜１８０℃の範囲で１分〜数時間行うの
が好ましい。

【００２７】次に、所望のパターンを有するマスクを用
い、紫外線露光装置（アライナーあるはステッパーな
ど）で露光を行う。

【００２８】露光量としては５０〜５０００ｍＪ／ｃｍ
²の範囲が好ましい。特に好ましい範囲は１００〜１０
００ｍＪ／ｃｍ²である現像時のパタ−ンの解像度度が
向上したり、現像条件の許容幅が増大したり、現像収率
が向上する場合には、現像前や露光後にべーク処理をす
る工程を取り入れても差支えない。この温度としては５
０〜１８０℃の範囲が好ましく、時間は１０秒−３０分
が好ましい。この範囲を外れると、反応が進行しなかっ
たり、全ての領域が溶解しなくなるのどの恐れがあるの
で注意を要する。

【００２９】ついで未照射部を現像液で溶解除去するこ
とによりレリーフ・パターンを得る。現像液は、上記の
ｐＨが６〜１１．７の水系現像液を用いる。

【００３０】現像は上記の現像液を塗膜面にスプレーす
る、現像液中に浸潰する、あるいは浸潰しながら超音波
をかけるなどの方法によって行うことができる。

【００３１】ついでリンス液により、現像によって形成
したレリーフパターンを洗浄することが望ましい。リン
ス液として水もしくは炭酸などの酸水溶液が好ましく用
いられる。それぞれ単独でも組み合わせても良い。

【００３２】上記の処理によって得られたレリーフ・パ
ターンのポリマは耐熱性を有するポリイミド系ポリマの
前駆体であり、加熱処理により所望するイミド環やその
他の環状構造を有する耐熱ポリマ被膜パターンとなる。
熱処理温度としては、１３５〜４００℃で行うのが好ま
しい。熱処理は通常、段階的にあるいは連続的に昇温し
ながら行われる。

【００３３】本発明の化学線感応性重合体組成物のパタ
ーン形成方法で得られた耐熱性ポリマ被膜パターンは、
半導体のパッシベーション膜、パッシベーション膜
のバッファーコート膜、多層集積回路の層間絶縁膜、混
成集積回路の層間絶縁膜や表面保護膜、プリント回路の
半田付け保護膜、液晶用配向膜、実装基板の層間絶縁膜
などに使用される。さらに高耐熱性のフォトレジストと
して金属付着や、ドライエッチングプロセスへの応用も
可能である。その他ポリイミドの公知の用途へ適用でき
る。

【００３４】

【実施例】以下、実施例に基づいて本発明を具体的に説
明するが、本発明はこれらに限定されない。

【００３５】実施例１ 3,3',4,4'-ビフェニルテトラカルボン酸二無水物 127.1
0gと4,4'- ジアミノジフェニルエーテル 42.81g と、3,
4'- ジアミノジフェニルエーテル 42.81g と、ビス(3-
アミノプロピル) テトラメチルジシロキサン 5.58gを、
Ｎ, Ｎ−ジメチルアセトアミド 119.48gと共に、５４℃
で３時間反応させ、粘度２２０Ｐｓ（２５℃）の構造単
位（１）のポリマー溶液を得た。この溶液50g にメタク
リル酸ジエチルアミノエチル 11g、ビス（1-フェニル-
1,2- プロパンジオン-2- オキシム）イソフタレート 0.
6g 、Ｎ- フェニルジエタノールアミン 0.76g、２−ヒ
ドロキシエチルメタクリレート 1.94g およびＮ, Ｎ−
ジメチルアセトアミド 9.86gを添加し、ネガ型の感光性
ポリイミド前駆体組成物を得た。

【００３６】該感光性ポリイミド前駆体組成物を４イン
チウェハ上に滴下し、スピナーを用いて２５００ｒｐｍ
×３０秒回転して塗布し、吸着ホットプレートで８０℃
×２分＋１００℃×２分乾燥し、マスクを介して、露光
機（キャノン製 PLA501F）で２００ｍＪ／ｃｍ²(365nm
の強度) で露光した。トリエタノールアミンの１％水溶
液（ｐＨ=10.6 ）で未露光部が溶解するまで５５秒間揺
動浸漬現像を行った。現像収率９６％のきれいなレリー
フパターンが得られた。未露光部と露光部の溶解速度比
（未露光部／露光部）は２７であった。

【００３７】実施例２実施例１で得られた感光性ポリイミド前駆体組成物を同
様に４インチウェハに塗布、乾燥し、マスクを介して、
露光機（キャノン製 PLA501F）で２００ｍＪ／ｃｍ²
(365nmの強度) で露光した。ジエタノールアミンの１％
水溶液（ｐＨ=10.9 ）で未露光部が溶解するまで４７秒
揺動浸漬現像を行った。現像収率９６％のきれいなレリ
ーフパターンが得られた。未露光部と露光部の溶解速度
比（未露光部／露光部）は２４であった。

【００３８】実施例３実施例１で得られた感光性ポリイミド前駆体組成物を同
様に４インチウェハに塗布、乾燥し、マスクを介して、
露光機（キャノン製 PLA501F）で２００ｍＪ／ｃｍ²
(365nmの強度) で露光した。Ｎ- エチルジエタノールア
ミンの１％水溶液（ｐＨ=10.9 ）で未露光部が溶解する
まで５０秒揺動浸漬現像を行った。現像収率９４％のき
れいなレリーフパターンが得られた。未露光部と露光部
の溶解速度比（未露光部／露光部）は１９であった。

【００３９】実施例４実施例１で得られた感光性ポリイミド前駆体組成物を同
様に４インチウェハに塗布、乾燥し、マスクを介して、
露光機（キャノン製 PLA501F）で２００ｍＪ／ｃｍ²
(365nmの強度) で露光した。ＴＭＡＨ（テトラメチルア
ンモニウムハイドロオキサイド）―マレイン酸塩の５％
水溶液（ＰＨ＝８．６）で未露光部が溶解するまで５０
秒揺動浸漬現像を行った。現像収率９０％のきれいなレ
リーフパターンが得られた。未露光部と露光部の溶解速
度比（未露光部／露光部）は１５であった。

【００４０】実施例５実施例１で得られた感光性ポリイミド前駆体組成物を同
様に４インチウェハに塗布、乾燥し、マスクを介して、
露光機（キャノン製 PLA501F）で２００ｍＪ／ｃｍ²
(365nmの強度) で露光した。ＴＭＡＨ（テトラメチルア
ンモニウムハイドロオキサイド）―マロン酸緩衝液の２
％水溶液（ＰＨ＝５．５）で未露光部が溶解するまで６
２秒揺動浸漬現像を行った。現像収率８５％のきれいな
レリーフパターンが得られた。未露光部と露光部の溶解
速度比（未露光部／露光部）は１０であった。

【００４１】比較例１実施例１で得られた感光性ポリイミド前駆体組成物を同
様に４インチウェハに塗布、乾燥し、マスクを介して、
露光機（キャノン製 PLA501F）で２００ｍＪ／ｃｍ²
(365nmの強度) で露光した。エタノールアミンの３％水
溶液（ｐＨ=11.8 ）で３５秒間揺動浸漬現像を行った。
未露光部が溶解するのと同時に露光部も溶解し、レリー
フパターンが得られなかった。溶解速度比（未露光部／
露光部）は１であった。

【００４２】比較例２実施例１で得られた感光性ポリイミド前駆体組成物を同
様に４インチウェハに塗布、乾燥し、マスクを介して、
露光機（キャノン製 PLA501F）で２００ｍＪ／ｃｍ²
(365nmの強度) で露光した。トリエチルアミンの１％水
溶液（ｐＨ=12.3 ）で未露光部が溶解するまで６０秒間
揺動浸漬現像を行った。現像収率５６％のきれいなレリ
ーフパターンが得られた。未露光部と露光部の溶解速度
比（未露光部／露光部）は２．３であった。

【００４３】

【発明の効果】本発明は、上述したように、化学線感応
性重合体組成物被膜の現像にｐＨが６〜１１．７の現像
液を用いることにより、パターン加工が安全にかつ容易
にできるばかりでなく、未露光部／露光部の溶解速度比
が高くなり、現像収率の高いパターンを得ることができ
る。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号庁内整理番号ＦＩ技術表示箇所Ｇ０３Ｆ 7/038 ５０４Ｇ０３Ｆ 7/038 ５０４

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】（ａ）下記一般式（１）で表される構造単
位を主成分とするポリマー【化１】（Ｒ1 は少なくとも２個以上の炭素原子を有する３価ま
たは４価の有機基、Ｒ2は、少なくとも２個以上の炭素
原子を有する２価の有機基、Ｒ3 は、水素、アルカリ金
属イオン、アンモニウムイオン、または炭素数１〜３０
の有機基を表し、ｎは１または２である。) （ｂ）エチレン性不飽和二重結合およびアミノ基を含む
化合物（ｃ）光開始剤および／または増感剤および／または光
反応性モノマーを含有する化学線感応性重合体組成物を
用いて被膜を形成し、該被膜を所望のパターン状に化学
線を照射した後、現像を行う現像液において該現像液の
ｐＨが６〜１１. ７であることを特徴とする化学線感応
性重合体組成物用現像液。
【請求項２】現像液が、ｐＨ７〜１１. ７のアルカリ水
溶液であることを特徴とする請求項１記載の化学線感応
性重合体組成物用現像液。
【請求項３】現像液が、ｐＨ６〜１１. ７の塩の水溶液
であることを特徴とする請求項１記載の化学線感応性重
合体組成物用現像液。
【請求項４】現像液が、ｐＨ６〜１１. ７の緩衝溶液で
あることを特徴とする請求項１記載の化学線感応性重合
体組成物用現像液。
【請求項５】（ａ）下記一般式（１）で表される構造単
位を主成分とするポリマー【化２】（Ｒ1 は少なくとも２個以上の炭素原子を有する３価ま
たは４価の有機基、Ｒ2は、少なくとも２個以上の炭素
原子を有する２価の有機基、Ｒ3 は、水素、アルカリ金
属イオン、アンモニウムイオン、または炭素数１〜３０
の有機基を表し、ｎは１または２である。) （ｂ）エチレン性不飽和二重結合およびアミノ基を含む
化合物（ｃ）光開始剤および／または増感剤および／または光
反応性モノマーを含有する化学線感応性重合体組成物を
用いて被膜を形成し、該被膜を所望のパターン状に化学
線を照射した後、ｐＨが６〜１１. ７の現像液で現像す
ることを特徴とする化学線感応性重合体組成物のパター
ン形成方法。
【請求項６】現像液が、ｐＨ７〜１１. ７のアルカリ水
溶液であることを特徴とする請求項５記載のパターン形
成方法。
【請求項７】現像液が、ｐＨ６〜１１. ７の塩の水溶液
であることを特徴とする請求項５記載のパターン形成方
法。
【請求項８】現像液が、ｐＨ６〜１１. ７の緩衝溶液で
あることを特徴とする請求項５記載のパターン形成方
法。