JPH1083579A - 光記録媒体用基板の処理方法 - Google Patents
光記録媒体用基板の処理方法Info
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- JPH1083579A JPH1083579A JP26015096A JP26015096A JPH1083579A JP H1083579 A JPH1083579 A JP H1083579A JP 26015096 A JP26015096 A JP 26015096A JP 26015096 A JP26015096 A JP 26015096A JP H1083579 A JPH1083579 A JP H1083579A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 記録層の有機色素の塗布端部にみだれが生じ
ず、かつ記録層の反射率が低下することがない光記録媒
体用基板の処理方法を提供する。 【解決手段】 表面に塗布法により有機色素からなる記
録層が形成される光記録媒体用プラスチック基板の処理
方法であって、プラスチック基板１０の記録層の形成面
をコロナ放電処理Ａし、次に該プラスチック基板１０を
その熱変形温度よりも５０〜３０℃低い温度の液体で洗
浄Ｂし、脱水乾燥Ｃする光記録媒体用基板の処理方法。
ず、かつ記録層の反射率が低下することがない光記録媒
体用基板の処理方法を提供する。 【解決手段】 表面に塗布法により有機色素からなる記
録層が形成される光記録媒体用プラスチック基板の処理
方法であって、プラスチック基板１０の記録層の形成面
をコロナ放電処理Ａし、次に該プラスチック基板１０を
その熱変形温度よりも５０〜３０℃低い温度の液体で洗
浄Ｂし、脱水乾燥Ｃする光記録媒体用基板の処理方法。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、光学的に情報の記
録および再生を行なう光記録媒体用基板の処理方法およ
び光記録媒体の製造方法に関するものである。
録および再生を行なう光記録媒体用基板の処理方法およ
び光記録媒体の製造方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来、色素等からなる溶媒塗布型記録層
を用いた光情報記録媒体は、凹凸プリフォーマットを形
成した透明プラスチック基板を洗浄し、加熱によるアニ
ール並びに乾燥を行い、次に染料を溶媒に溶解した溶液
をプラスチック基板の凹凸プリフォーマット部上にスピ
ンコート、スプレーコート又はグラビアコート等によっ
てコーティングした後、溶媒を除去して染料記録層を形
成し、その上に接着剤を介して保護層を形成する方法に
より製造されている。
を用いた光情報記録媒体は、凹凸プリフォーマットを形
成した透明プラスチック基板を洗浄し、加熱によるアニ
ール並びに乾燥を行い、次に染料を溶媒に溶解した溶液
をプラスチック基板の凹凸プリフォーマット部上にスピ
ンコート、スプレーコート又はグラビアコート等によっ
てコーティングした後、溶媒を除去して染料記録層を形
成し、その上に接着剤を介して保護層を形成する方法に
より製造されている。
【０００３】しかしながら、プラスチック基板上に例え
ば染料からなる溶媒塗布型記録層を形成する場合におい
ては、プラスチック基板が塗布溶媒に対する耐溶剤性が
低いことが問題となっている。塗布溶媒によって基板表
面が溶解すると、その結果、現れる現象として基板表面
に形成された塗布型染料記録層の反射率の低下が認めら
れる。この現象は、染料溶液の基板上への塗布および乾
燥過程で、基板表面が染料溶液に含まれる塗布溶媒によ
って溶解し、溶出した基板構成物質と染料分子との反応
又は相互作用によって染料記録層の一部が変化するため
に発生するものと考えられる。
ば染料からなる溶媒塗布型記録層を形成する場合におい
ては、プラスチック基板が塗布溶媒に対する耐溶剤性が
低いことが問題となっている。塗布溶媒によって基板表
面が溶解すると、その結果、現れる現象として基板表面
に形成された塗布型染料記録層の反射率の低下が認めら
れる。この現象は、染料溶液の基板上への塗布および乾
燥過程で、基板表面が染料溶液に含まれる塗布溶媒によ
って溶解し、溶出した基板構成物質と染料分子との反応
又は相互作用によって染料記録層の一部が変化するため
に発生するものと考えられる。
【０００４】この様な問題点を解決する方法として、プ
ラスチック基板の熱変形温度近傍まで加熱することによ
って、プラスチック基板中の未硬化成分を重合させて溶
剤に対して溶け易い成分を減少させる熱収縮処理を行な
う方法が有効であることが知られている。
ラスチック基板の熱変形温度近傍まで加熱することによ
って、プラスチック基板中の未硬化成分を重合させて溶
剤に対して溶け易い成分を減少させる熱収縮処理を行な
う方法が有効であることが知られている。
【０００５】また本出願人が特開平３−３４１３８号公
報に開示した様に、脱水処理を行なってプラスチック基
板中の不凍水の含有量を減少させることにより高分子が
収縮し、耐溶剤性が向上することが知られている。
報に開示した様に、脱水処理を行なってプラスチック基
板中の不凍水の含有量を減少させることにより高分子が
収縮し、耐溶剤性が向上することが知られている。
【０００６】さらに、本出願人は、特開平４−３５５２
３０号公報に開示した光記録媒体用基板の処理方法に於
て、基板洗浄工程及び基板の脱水乾燥工程を有し、前記
洗浄工程にて、該基板をその熱変形温度近傍まで加熱
し、次いで基板の脱水乾燥を連続的に行なう基板の処理
方法を提案した。
３０号公報に開示した光記録媒体用基板の処理方法に於
て、基板洗浄工程及び基板の脱水乾燥工程を有し、前記
洗浄工程にて、該基板をその熱変形温度近傍まで加熱
し、次いで基板の脱水乾燥を連続的に行なう基板の処理
方法を提案した。
【０００７】その発明の基板の処理方法によれば、洗浄
工程においてプラスチック基板を加熱洗浄しながらプラ
スチック基板の熱変形温度近傍まで加熱し、その状態の
まま、洗浄槽から引き上げ水切りを行い、引き続いて加
熱されたプラスチック基板を脱水乾燥工程に投入して脱
水乾燥を行なうことにより、洗浄と熱収縮工程を同時に
行い、かつ、脱水収縮工程の時間短縮をはかることがで
きた。この方法によってプラスチック基板上に形成した
色素の反射率の低下は改善できた。
工程においてプラスチック基板を加熱洗浄しながらプラ
スチック基板の熱変形温度近傍まで加熱し、その状態の
まま、洗浄槽から引き上げ水切りを行い、引き続いて加
熱されたプラスチック基板を脱水乾燥工程に投入して脱
水乾燥を行なうことにより、洗浄と熱収縮工程を同時に
行い、かつ、脱水収縮工程の時間短縮をはかることがで
きた。この方法によってプラスチック基板上に形成した
色素の反射率の低下は改善できた。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】光記録媒体に用いるプ
ラスチック基板は、通常、保存する場合に、基板表面に
キズが発生しない様に基板表面は保護フィルムで包まれ
ている。この保護フィルムを剥離した後、基板の洗浄を
行なう。
ラスチック基板は、通常、保存する場合に、基板表面に
キズが発生しない様に基板表面は保護フィルムで包まれ
ている。この保護フィルムを剥離した後、基板の洗浄を
行なう。
【０００９】この基板の洗浄方法として、上記の特開
平４−３５５２３０号公報に開示されている方法によ
り、ポリカーボネート基板を、脱脂洗浄（２槽のジュク
ロ液で各々処理）−水洗（２槽の温純水で各々処理、５
０℃および６０℃）−乾燥（未処理、または８０℃、１
時間の加熱脱水乾燥）の各工程を通して処理した。その
後、基板上に色素記録層を設けると、色素の塗布端部が
波形状になり、かつ色素記録層の反射率が低くなる問題
が発生した。この現象は他のプラスチック基板と比較し
て中でもポリカーボネート基板において顕著であった。
平４−３５５２３０号公報に開示されている方法によ
り、ポリカーボネート基板を、脱脂洗浄（２槽のジュク
ロ液で各々処理）−水洗（２槽の温純水で各々処理、５
０℃および６０℃）−乾燥（未処理、または８０℃、１
時間の加熱脱水乾燥）の各工程を通して処理した。その
後、基板上に色素記録層を設けると、色素の塗布端部が
波形状になり、かつ色素記録層の反射率が低くなる問題
が発生した。この現象は他のプラスチック基板と比較し
て中でもポリカーボネート基板において顕著であった。
【００１０】そのために、上記の基板の処理方法によ
り発生した色素記録層の塗布端部を改良する方法とし
て、次の様に溶剤（ＩＰＡ：イソプロピルアルコール）
を用いて基板の処理を行った。すなわち、ポリカーボネ
ート基板を、脱脂洗浄（２槽のジクロシステム液で各々
処理）−水洗（第１槽：市水４０℃、第２槽：ＩＰＡ３
０℃、第３槽：温純水６０℃で各々処理）−乾燥（９０
℃、１時間の加熱脱水乾燥）の各工程を通して処理し
た。その後、基板上に色素記録層を設けると、色素の塗
布端部の波形は無くなり改良されたが、反射率はさらに
低下した。
り発生した色素記録層の塗布端部を改良する方法とし
て、次の様に溶剤（ＩＰＡ：イソプロピルアルコール）
を用いて基板の処理を行った。すなわち、ポリカーボネ
ート基板を、脱脂洗浄（２槽のジクロシステム液で各々
処理）−水洗（第１槽：市水４０℃、第２槽：ＩＰＡ３
０℃、第３槽：温純水６０℃で各々処理）−乾燥（９０
℃、１時間の加熱脱水乾燥）の各工程を通して処理し
た。その後、基板上に色素記録層を設けると、色素の塗
布端部の波形は無くなり改良されたが、反射率はさらに
低下した。
【００１１】さらに、上記のの基板の洗浄方法によ
り、ポリカーボネート基板を洗浄した後、コロナ放電処
理を行なったが、基板上に設けた色素記録層の色素の塗
布端部のみだれは改善できなかった。
り、ポリカーボネート基板を洗浄した後、コロナ放電処
理を行なったが、基板上に設けた色素記録層の色素の塗
布端部のみだれは改善できなかった。
【００１２】本発明は、この様な従来技術の欠点を改善
するためになされたものであり、塗布法により有機色素
からなる記録層をプラスチック基板、特にポリカーボネ
ート基板上に形成しても、色素の塗布端部にみだれが生
じず、かつ色素記録層の反射率が低下することがない光
記録媒体用基板の処理方法、及びその基板を用いた光記
録媒体の製造方法を提供することを目的とするものであ
る。
するためになされたものであり、塗布法により有機色素
からなる記録層をプラスチック基板、特にポリカーボネ
ート基板上に形成しても、色素の塗布端部にみだれが生
じず、かつ色素記録層の反射率が低下することがない光
記録媒体用基板の処理方法、及びその基板を用いた光記
録媒体の製造方法を提供することを目的とするものであ
る。
【００１３】
【課題を解決するための手段】即ち、本発明は、表面に
塗布法により有機色素からなる記録層が形成される光記
録媒体用プラスチック基板の処理方法であって、プラス
チック基板の記録層の形成面をコロナ放電処理し、次に
該プラスチック基板をその熱変形温度よりも５０〜３０
℃低い温度の液体で洗浄することを特徴とする光記録媒
体用基板の処理方法である。
塗布法により有機色素からなる記録層が形成される光記
録媒体用プラスチック基板の処理方法であって、プラス
チック基板の記録層の形成面をコロナ放電処理し、次に
該プラスチック基板をその熱変形温度よりも５０〜３０
℃低い温度の液体で洗浄することを特徴とする光記録媒
体用基板の処理方法である。
【００１４】また、本発明は、上記の処理をした基板表
面に塗布法により有機色素からなる記録層を形成した
後、該記録層の上に接着剤層を介して保護基板を設ける
ことを特徴とする光記録媒体の製造方法である。
面に塗布法により有機色素からなる記録層を形成した
後、該記録層の上に接着剤層を介して保護基板を設ける
ことを特徴とする光記録媒体の製造方法である。
【００１５】本発明の光記録媒体用基板の処理方法は、
保護フィルムで基板表面があらかじめ保護されて、保存
されていたプラスチック基板の記録層形成面をコロナ放
電処理し、次に該基板をその熱変形温度よりも５０〜３
０℃低い温度の液体で洗浄して処理することを特徴とす
るものである。前記液体で洗浄する工程は、少なくとも
２工程以上からなり、洗浄に用いる液体は最終工程には
温純水であるのが好ましい。
保護フィルムで基板表面があらかじめ保護されて、保存
されていたプラスチック基板の記録層形成面をコロナ放
電処理し、次に該基板をその熱変形温度よりも５０〜３
０℃低い温度の液体で洗浄して処理することを特徴とす
るものである。前記液体で洗浄する工程は、少なくとも
２工程以上からなり、洗浄に用いる液体は最終工程には
温純水であるのが好ましい。
【００１６】
【発明の実施の形態】図１は本発明の光記録媒体用基板
の処理方法の一例を示す説明図である。同図１に於て、
１は超音波洗剤槽、２は純水超音波リンス槽、３は純水
超音波槽、４は純水引上げ槽、５は脱水乾燥装置、６は
洗剤溶液、７〜９は純水である。
の処理方法の一例を示す説明図である。同図１に於て、
１は超音波洗剤槽、２は純水超音波リンス槽、３は純水
超音波槽、４は純水引上げ槽、５は脱水乾燥装置、６は
洗剤溶液、７〜９は純水である。
【００１７】本発明の光記録媒体用基板の処理方法は、
コロナ放電工程Ａと液体洗浄工程Ｂおよび脱水乾燥工程
Ｃからなる。本発明の光記録媒体用基板の処理方法は、
保護フィルムで基板表面があらかじめ保護されて、保存
されていたプラスチック基板の保護フィルムを剥離す
る。
コロナ放電工程Ａと液体洗浄工程Ｂおよび脱水乾燥工程
Ｃからなる。本発明の光記録媒体用基板の処理方法は、
保護フィルムで基板表面があらかじめ保護されて、保存
されていたプラスチック基板の保護フィルムを剥離す
る。
【００１８】プラスチック基板１０としてはポリカーボ
ネート、ポリメチルメタアクリレート、その他のアクリ
ル樹脂、例えばポリメタアクリル酸ブチル等、およびポ
リスチレンなどの透明な樹脂基板を用いることができ
る。
ネート、ポリメチルメタアクリレート、その他のアクリ
ル樹脂、例えばポリメタアクリル酸ブチル等、およびポ
リスチレンなどの透明な樹脂基板を用いることができ
る。
【００１９】まず、コロナ放電工程Ａにより、プラスチ
ック基板の凹凸プリフォーマットが形成されている表
面、すなわち塗布法により有機色素からなる記録層が形
成される記録層の形成面をコロナ放電処理する。
ック基板の凹凸プリフォーマットが形成されている表
面、すなわち塗布法により有機色素からなる記録層が形
成される記録層の形成面をコロナ放電処理する。
【００２０】コロナ放電は、コロナ放電用電源１７より
誘電体ロール１６およびコロナ放電用ワイヤー電極１８
に印加された電圧により、誘電体ロール１６とコロナ放
電用ワイヤー電極１８の間に発生したコロナ放電１５の
中をプラスチック基板１０を凹凸プリフォーマットが形
成されている表面が処理される様に通過させて行なう。
誘電体ロール１６およびコロナ放電用ワイヤー電極１８
に印加された電圧により、誘電体ロール１６とコロナ放
電用ワイヤー電極１８の間に発生したコロナ放電１５の
中をプラスチック基板１０を凹凸プリフォーマットが形
成されている表面が処理される様に通過させて行なう。
【００２１】放電パワーはポリカーボネート基板では８
０〜２００Ｗ、好ましくは８０〜１００Ｗであり、８０
Ｗ未満では塗布端部改質の効果がなく、２００Ｗを越え
ると記録層の反射率が低下する場合が発生する。一方、
アクリル基板では２０〜１００Ｗ、好ましくは３０〜８
０Ｗが好ましい。１００Ｗを越える場合、色素記録層の
反射率が低下する。
０〜２００Ｗ、好ましくは８０〜１００Ｗであり、８０
Ｗ未満では塗布端部改質の効果がなく、２００Ｗを越え
ると記録層の反射率が低下する場合が発生する。一方、
アクリル基板では２０〜１００Ｗ、好ましくは３０〜８
０Ｗが好ましい。１００Ｗを越える場合、色素記録層の
反射率が低下する。
【００２２】次に、液体洗浄工程Ｂを行なう。図１にお
いて、コロナ放電処理された光記録媒体用の透明プラス
チック基板１０は、洗剤溶液６が収容されている超音波
洗剤槽１、純水７，８，９が収容されている各々の純水
超音波リンス槽２、純水超音波槽３及び純水引上げ槽４
に順次投入して洗浄を行なう。
いて、コロナ放電処理された光記録媒体用の透明プラス
チック基板１０は、洗剤溶液６が収容されている超音波
洗剤槽１、純水７，８，９が収容されている各々の純水
超音波リンス槽２、純水超音波槽３及び純水引上げ槽４
に順次投入して洗浄を行なう。
【００２３】そして、この洗浄工程に於て、透明プラス
チック基板をそのガラス転移温度近傍まで加熱すること
が好ましく、従って洗浄工程の最後の純水引上げ槽４の
水温は、該基板の熱変形温度近傍、具体的には熱変形温
度よりも５０℃〜３０℃、好ましくは４０℃〜３０℃低
い熱変形温度に設定することが好ましい。
チック基板をそのガラス転移温度近傍まで加熱すること
が好ましく、従って洗浄工程の最後の純水引上げ槽４の
水温は、該基板の熱変形温度近傍、具体的には熱変形温
度よりも５０℃〜３０℃、好ましくは４０℃〜３０℃低
い熱変形温度に設定することが好ましい。
【００２４】例えば光記録媒体用の透明プラスチック基
板として、熱変形温度が１００℃のポリメチルメタクリ
レートを用いたときは、純水引き上げ槽４の水温は、７
０〜６０℃に設定するのが好ましく、これにより基板表
面にできたコロナ分解物などの溶剤可溶成分を除去する
基板洗浄工程と、熱収縮処理を基板の洗浄と同時に行う
ことができる。
板として、熱変形温度が１００℃のポリメチルメタクリ
レートを用いたときは、純水引き上げ槽４の水温は、７
０〜６０℃に設定するのが好ましく、これにより基板表
面にできたコロナ分解物などの溶剤可溶成分を除去する
基板洗浄工程と、熱収縮処理を基板の洗浄と同時に行う
ことができる。
【００２５】また、熱変形温度が１２０℃のポリカーボ
ネートでは純水引上げ槽４の水温は９０〜７０℃が好ま
しい。
ネートでは純水引上げ槽４の水温は９０〜７０℃が好ま
しい。
【００２６】また、加熱溶液で洗浄することによって、
コロナ分解物の溶解除去が加速され洗浄効果が促進す
る。
コロナ分解物の溶解除去が加速され洗浄効果が促進す
る。
【００２７】最後に、脱水乾燥工程Ｃにおいて、プラス
チック基板を脱水を行なうために脱水乾燥装置５に投入
する。ここで用いる脱水方法は、真空乾燥、加熱（９０
℃〜１１０℃）乾燥、脱水剤（吸湿材）乾燥およびこれ
らの複合した乾燥方法を用いることができる。
チック基板を脱水を行なうために脱水乾燥装置５に投入
する。ここで用いる脱水方法は、真空乾燥、加熱（９０
℃〜１１０℃）乾燥、脱水剤（吸湿材）乾燥およびこれ
らの複合した乾燥方法を用いることができる。
【００２８】又本発明に於て、超音波洗剤槽１で用いる
洗剤としては、環境破壊の少ない、好ましくは破壊のな
いもの、例えば、多糖類洗剤（ジュクロシステム液）等
があげられる。
洗剤としては、環境破壊の少ない、好ましくは破壊のな
いもの、例えば、多糖類洗剤（ジュクロシステム液）等
があげられる。
【００２９】上記の様にしてプラスチック基板を乾燥し
て前処理を行なった後、該基板上に塗布法により有機色
素からなる記録層を形成する。前処理を行なったプラス
チック基板に湿式塗布法により有機色素記録層を形成す
る方法は、ポリメチン系、ピリリウム系、シアニン系、
ナフトキノン系、トリフェニルメタン系などの染料など
を溶媒に溶解し、スピンコータ、グラビアコータ、スプ
レコータ等で塗布することによって形成される。溶媒と
しては、特に制限はなく通常使用されている有機溶剤が
用いられ、例えばエタノール、ジアセトンアルコール、
ジクロルエタン、メチルセルソブル又はそれらの混合液
等が挙げられる。
て前処理を行なった後、該基板上に塗布法により有機色
素からなる記録層を形成する。前処理を行なったプラス
チック基板に湿式塗布法により有機色素記録層を形成す
る方法は、ポリメチン系、ピリリウム系、シアニン系、
ナフトキノン系、トリフェニルメタン系などの染料など
を溶媒に溶解し、スピンコータ、グラビアコータ、スプ
レコータ等で塗布することによって形成される。溶媒と
しては、特に制限はなく通常使用されている有機溶剤が
用いられ、例えばエタノール、ジアセトンアルコール、
ジクロルエタン、メチルセルソブル又はそれらの混合液
等が挙げられる。
【００３０】上記の様にしてプラスチック基板表面に塗
布法により有機色素からなる記録層を形成した後、該記
録層の上に接着剤層を介して保護基板を貼り合わせるこ
とにより光記録媒体を製造する。
布法により有機色素からなる記録層を形成した後、該記
録層の上に接着剤層を介して保護基板を貼り合わせるこ
とにより光記録媒体を製造する。
【００３１】接着剤層としては、ホットメルト系の接着
剤を用いることができる。また、保護基板としては、ポ
リカーボネート、ポリメチルメタクリレート、塩化ビニ
ル、ポリエチレンテレフタレート等の樹脂を用いること
ができる。
剤を用いることができる。また、保護基板としては、ポ
リカーボネート、ポリメチルメタクリレート、塩化ビニ
ル、ポリエチレンテレフタレート等の樹脂を用いること
ができる。
【００３２】なお、図１には洗浄工程が４槽からなる処
理方法を示したが、洗浄槽の構成数はこれに限定され
ず、例えば、プラスチック基板の熱変形温度や洗剤の種
類、基板の汚れの程度、更には製造タクトタイム等に応
じて、増減することも可能である。
理方法を示したが、洗浄槽の構成数はこれに限定され
ず、例えば、プラスチック基板の熱変形温度や洗剤の種
類、基板の汚れの程度、更には製造タクトタイム等に応
じて、増減することも可能である。
【００３３】又、本発明に於て、熱変形温度が１００℃
を越える基板を用いる場合には、純水の代わりに沸点が
高く、且つ、基板に悪影響を与えない液体、例えばフッ
素系の液体等を用いればよい。
を越える基板を用いる場合には、純水の代わりに沸点が
高く、且つ、基板に悪影響を与えない液体、例えばフッ
素系の液体等を用いればよい。
【００３４】
【実施例】以下に実施例を挙げて本発明を具体的に説明
する。
する。
【００３５】実施例１ 保護フィルムで包まれている、凹凸形状のプリフォーマ
ットをローラグルーブ法で成形したポリカーボネート
（ＰＣ）基板（厚さ０．４ｍｍ、熱変形温度１２０℃）
の保護フィルムを剥離した後、放電パワー１２０Ｗでコ
ロナ放電処理し、次の槽構成の液体洗浄装置および脱水
乾燥装置に投入した。
ットをローラグルーブ法で成形したポリカーボネート
（ＰＣ）基板（厚さ０．４ｍｍ、熱変形温度１２０℃）
の保護フィルムを剥離した後、放電パワー１２０Ｗでコ
ロナ放電処理し、次の槽構成の液体洗浄装置および脱水
乾燥装置に投入した。
【００３６】 第１槽：ジュクロシステム液ＵＮＫ−Ｆ５０％水溶液、
温度４０℃、超音波４０ＫＨｚ、８４０Ｗ、時間３分 第２槽：超純水、流量４リットル／ｍｉｎ、温度５５
℃、超音波４０ＫＨｚ、２８０Ｗ、時間３分 第３槽：超純水 流量２リットル／ｍｉｎ、温度７０
℃、超音波４０ＫＨｚ、２８０Ｗ、時間３分 第４槽：超純水、流量１リットル／ｍｉｎ、温度８０
℃、引き上げ速度３ｍｍ／ｓｅｃ 第５槽：真空加熱、圧力１０ｍｍＨｇ、温度９０℃、時
間０〜５分 なお、第５槽に於ける処理時間は０〜５分の間で１分間
隔で変化させた。
温度４０℃、超音波４０ＫＨｚ、８４０Ｗ、時間３分 第２槽：超純水、流量４リットル／ｍｉｎ、温度５５
℃、超音波４０ＫＨｚ、２８０Ｗ、時間３分 第３槽：超純水 流量２リットル／ｍｉｎ、温度７０
℃、超音波４０ＫＨｚ、２８０Ｗ、時間３分 第４槽：超純水、流量１リットル／ｍｉｎ、温度８０
℃、引き上げ速度３ｍｍ／ｓｅｃ 第５槽：真空加熱、圧力１０ｍｍＨｇ、温度９０℃、時
間０〜５分 なお、第５槽に於ける処理時間は０〜５分の間で１分間
隔で変化させた。
【００３７】上記装置で処理したＰＣ基板のプリフォー
マット上に、下記構造式（Ｉ）
マット上に、下記構造式（Ｉ）
【００３８】
【化１】
【００３９】で表わされる染料（日本化薬社製、ＩＲ−
８２０）を、ジアセトンアルコール中に３ｗｔ％となる
ように溶解し、グラビアコータを用いて塗布して、図２
に示す様に、厚さ１０００Åの記録層１１を形成した。
さらに、エチレン−酢酸ビニル系の接着剤（倉敷紡績社
製、Ｐ−２２００）を用いて、デザイン印刷を施したＰ
Ｃ（厚さ０．３ｍｍ）からなる保護基板１３を貼合わせ
て、図２に示されるような光カードを作成した。図２
（ａ）は得られた光カードの平面図、図２（ｂ）は部分
断面図を示す。
８２０）を、ジアセトンアルコール中に３ｗｔ％となる
ように溶解し、グラビアコータを用いて塗布して、図２
に示す様に、厚さ１０００Åの記録層１１を形成した。
さらに、エチレン−酢酸ビニル系の接着剤（倉敷紡績社
製、Ｐ−２２００）を用いて、デザイン印刷を施したＰ
Ｃ（厚さ０．３ｍｍ）からなる保護基板１３を貼合わせ
て、図２に示されるような光カードを作成した。図２
（ａ）は得られた光カードの平面図、図２（ｂ）は部分
断面図を示す。
【００４０】得られた光カードの記録層の染料塗布端部
のみだれはなく、かつ反射率も低下することなく、正常
であった。
のみだれはなく、かつ反射率も低下することなく、正常
であった。
【００４１】
【発明の効果】以上説明した様に、本発明の光記録媒体
用基板の処理方法によれば、塗布法により有機色素から
なる記録層をプラスチック基板、特にポリカーボネート
基板上に形成しても、色素の塗布端部にみだれが生じ
ず、かつ色素記録層の反射率が低下することがない光記
録媒体用基板を得ることができる。
用基板の処理方法によれば、塗布法により有機色素から
なる記録層をプラスチック基板、特にポリカーボネート
基板上に形成しても、色素の塗布端部にみだれが生じ
ず、かつ色素記録層の反射率が低下することがない光記
録媒体用基板を得ることができる。
【００４２】また、本発明の光記録媒体の製造方法によ
れば、色素記録層の色素の塗布端部にみだれがなく、反
射率が低下することがない光記録媒体を得ることができ
る。
れば、色素記録層の色素の塗布端部にみだれがなく、反
射率が低下することがない光記録媒体を得ることができ
る。
【図１】本発明の光記録媒体用基板の処理方法の一例を
示す説明図である。
示す説明図である。
【図２】実施例１の光カードを示す説明図である。
１ 超音波洗剤槽 ２ 純水超音波リンス槽 ３ 純水超音波槽 ４ 純水引上げ槽 ５ 脱水乾燥装置 ６ 洗剤溶液 ７、８、９ 純水 １０ プラスチック基板 １１ 記録層 １２ 接着剤層 １３ 保護基板 １４ 光カード １５ コロナ放電 １６ 誘電体ロール １７ コロナ放電用電源 １８ コロナ放電用ワイヤー電極 Ａ コロナ放電工程 Ｂ 液体洗浄工程 Ｃ 脱水乾燥工程
Claims (4)
- 【請求項１】 表面に塗布法により有機色素からなる記
録層が形成される光記録媒体用プラスチック基板の処理
方法であって、プラスチック基板の記録層の形成面をコ
ロナ放電処理し、次に該プラスチック基板をその熱変形
温度よりも５０〜３０℃低い温度の液体で洗浄すること
を特徴とする光記録媒体用基板の処理方法。 - 【請求項２】 あらかじめ保護フィルムで包まれている
前記プラスチック基板の保護フィルムを剥離した後にコ
ロナ放電処理する請求項１記載の光記録媒体用基板の処
理方法。 - 【請求項３】 前記液体で洗浄する工程が少なくとも２
工程からなり、洗浄に用いる液体が最終工程には温純水
である請求項１記載の光記録媒体用基板の処理方法。 - 【請求項４】 請求項１記載の処理をした基板表面に塗
布法により有機色素からなる記録層を形成した後、該記
録層の上に接着剤層を介して保護基板を設けることを特
徴とする光記録媒体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26015096A JPH1083579A (ja) | 1996-09-10 | 1996-09-10 | 光記録媒体用基板の処理方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26015096A JPH1083579A (ja) | 1996-09-10 | 1996-09-10 | 光記録媒体用基板の処理方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1083579A true JPH1083579A (ja) | 1998-03-31 |
Family
ID=17344013
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP26015096A Pending JPH1083579A (ja) | 1996-09-10 | 1996-09-10 | 光記録媒体用基板の処理方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH1083579A (ja) |
-
1996
- 1996-09-10 JP JP26015096A patent/JPH1083579A/ja active Pending
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