JPH10862A - 発色性記録材料 - Google Patents
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- Heat Sensitive Colour Forming Recording (AREA)
Abstract
特に耐油・耐可塑剤性が優れた記録材料を提供するこ
と。 【解決手段】 発色性染料を含有する記録材料におい
て、一般式(I) 【化1】 で表されるジフェニルスルホン架橋型化合物の少なくと
も一種と、一般式(II)または一般式(III) 【化2】 (式中、Rは直鎖または分岐を有してもよい炭素数1〜
12の飽和あるいは不飽和炭化水素基、またはアラルキ
ル基を表す。) 【化3】 (式中、Zは直鎖または分岐を有してもよい炭素数1〜
12の飽和、不飽和あるいはエーテル結合を有してもよ
い炭化水素基を表す。)で表されるフェノール化合物の
少なくとも一種を含有することを特徴とする記録材料に
より解決できる。
Description
つ画像の保存性、特に耐油・耐可塑剤性が優れた記録材
料に関する。
を利用した記録材料は、現像定着等の煩雑な処理を施す
ことなく比較的簡単な装置で短時間に記録出来ることか
ら、ファクシミリ、プリンター等の出力記録のための感
熱記録紙又は数枚を同時に複写する帳票のための感圧複
写紙等に広く使用されている。これらの記録材料として
は、速やかに発色、未発色部分(以下「地肌」と言う)
の白度が保持され、又発色した画像及び地肌の堅牢性の
高いものが要望されている。更に近年に至ってはラベル
等記録画像の信頼性の重視される分野で多量に使用され
るようになり、包装等に使用される有機高分子材料に含
有される可塑剤や油脂類等に対して高い保存安定性を示
す記録材料が求められている。そのために、発色性染
料、顕色剤、保存安定剤等種々の助剤の開発努力がなさ
れているが、発色の感度、地肌並びに画像の保存性をバ
ランス良く充分に満足できるものは未だ見出されていな
い。
いて高い効果を示す材料として、国際公開WO93/0
6074、WO95/33714号にジフェニルスルホ
ン誘導体が開示されているが、これらを用いた記録材料
においては発色の感度が不足しており、この感度を改良
して感度、保存性共に優れた記録材料を提供する技術が
求められている。
のような従来の記録材料が有する欠点を改善し、発色感
度が高く、かつ地肌及び画像の保存性、特に耐油・耐可
塑剤性が優れた記録材料を提供することにある。
有する記録材料において、一般式(I)
枝を有してもよい炭素数1〜12の飽和、不飽和あるい
はエーテル結合を有してもよい炭化水素基を表し、また
は、
原子、C1 〜C4 のアルキル基を表す。)を表す。R1
〜R6 はそれぞれ独立にハロゲン原子、C1 〜C6 のア
ルキル基、アルケニル基を示す。またm,n,p,q,
r,tは0〜4までの整数を表し、2以上の時はR1 〜
R6 は、それぞれ異なっていてもよい。aは0、1また
は2の整数を表す。〕で表されるジフェニルスルホン架
橋型化合物の少なくとも一種と、一般式(II)または一
般式(III)
12の飽和あるいは不飽和炭化水素基またはアラルキル
基を表す。)
12の飽和、不飽和あるいはエーテル結合を有してもよ
い炭化水素基を表す。)で表されるフェノール化合物の
少なくとも一種を含有することにより、発色感度が高
く、かつ地肌及び画像の保存性、特に耐油・耐可塑剤性
が優れた記録材料を提供するものである。
表される基を具体的に示すと以下のものが挙げられる。
メチレン基、エチレン基、トリメチレン基、テトラメチ
レン基、ペンタメチレン基、ヘキサメチレン基、ヘプタ
メチレン基、オクタメチレン基、ノナメチレン基、デカ
メチレン基、ウンデカメチレン基、ドデカメチレン基、
メチルメチレン基、ジメチルメチレン基、メチルエチレ
ン基、メチレンエチレン基、エチルエチレン基、1,2
−ジメチルエチレン基、1−メチルトリメチレン基、1
−メチルテトラメチレン基、1,3−ジメチルトリメチ
レン基、1−エチル−4−メチル−テトラメチレン基、
ビニレン基、プロペニレン基、2−ブテニレン基、エチ
ニレン基、2−ブチニレン基、1−ビニルエチレン基、
エチレンオキシエチレン基、テトラメチレンオキシテト
ラメチレン基、エチレンオキシエチレンオキシエチレン
基、エチレンオキシメチレンオキシエチレン基、1,3
−ジオキサン−5,5−ビスメチレン基、1,2−キシ
リル基、1,3−キシリル基、1,4−キシリル基、2
−ヒドロキシトリメチレン基、2−ヒドロキシ−2−メ
チルトリメチレン基、2−ヒドロキシ2−エチルトリメ
チレン基、2−ヒドロキシ−2−プロピルトリメチレン
基、2−ヒドロキシ−2−イソプロピルトリメチレン
基、2−ヒドロキシ−2−ブチルトリメチレン基などが
挙げられる。
は、C1 〜C6 のアルキル基またはC2 〜C4 のアルケ
ニル基であり、具体的な例としては、メチル基、エチル
基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、
sec−ブチル基、tert−ブチル基、n−ペンチル
基、イソペンチル基、ネオペンチル基、tert−ペン
チル基、n−ヘキシル基、イソヘキシル基、1−メチル
ペンチル基、2−メチルペンチル基、ビニル基、アリル
基、イソプロペニル基、1−プロペニル基、2−ブテニ
ル基、3−ブテニル基、1,3−ブタンジエニル基、2
−メチル−2−プロペニル基などが挙げられる。また、
ハロゲン原子とは塩素、臭素、フッ素、ヨウ素を表す。
特に一般式(I)のジフェニルスルホンの置換基として
は、無置換あるいはR1 〜R6 のすべて同一、同位置に
あるものが本化合物製造上有利である。
としては、好ましくはエチル基、プロピル基、イソプロ
ピル基、ブチル基、イソブチル基、ベンジル基、クロロ
ベンジル基、メチルベンジル基などが挙げられ、特にベ
ンジル基が好ましい。さらに一般式(III)においてZで
表される基としては、好ましくはエーテル結合を有する
炭化水素基であり、特にエチレンオキシエチレン基及び
エチレンオキシメチレンオキシエチレン基が好ましい。
般式(I)で表されるジフェニルスルホン架橋型化合物
の少なくとも一種と、一般式(II)または一般式(III)
で表されるフェノール化合物の少なくとも一種を含んで
いればよいが、その使用割合は一般式(I)で表される
ジフェニルスルホン架橋型化合物100重量部に対し
て、一般式(II)または一般式(III)で表されるフェノ
ール化合物を10〜500重量部、好ましくは25〜3
00重量部、さらに好ましくは50〜200重量部使用
する。
(I)のaが0であるジフェニルスルホン架橋型化合物
の一種または二種以上及び一般式(I)のaが1または
2であるジフェニルスルホン架橋型化合物の一種または
二種以上と、一般式(II)または一般式(III)で表され
るフェノール化合物の一種または二種以上とを含有する
ことにより、感度と保存性が相乗的に向上する。この際
一般式(I)で表されるジフェニルスルホン架橋型化合
物100重量部に対して、一般式(II)または一般式
(III)で表されるフェノール化合物は10〜500重量
部、好ましくは25〜300重量部、さらに好ましくは
50〜200重量部使用する。
式(I)のaが0であるジフェニルスルホン架橋型化合
物100重量部に対して、一般式(I)のaが1または
2であるジフェニルスルホン架橋型化合物が0.05〜
100重量部であり、これらジフェニルスルホン架橋型
化合物100重量部に対して、一般式(II)または一般
式(III)で表されるフェノール化合物を10〜500重
量部、好ましくは25〜300重量部、さらに好ましく
は50〜200重量部使用する。
ある化合物は、特開平7−149713号、国際公開W
O93/06074、WO95/33714号に記載の
化合物であり、代表的には、 1,3−ビス〔4−(4−ヒドロキシフェニルスルホニ
ル)フェノキシ〕−2−ヒドロキシプロパン 1,1−ビス〔4−(4−ヒドロキシフェニルスルホニ
ル)フェノキシ〕メタン 1,2−ビス〔4−(4−ヒドロキシフェニルスルホニ
ル)フェノキシ〕エタン 1,3−ビス〔4−(4−ヒドロキシフェニルスルホニ
ル)フェノキシ〕プロパン 1,4−ビス〔4−(4−ヒドロキシフェニルスルホニ
ル)フェノキシ〕ブタン 1,5−ビス〔4−(4−ヒドロキシフェニルスルホニ
ル)フェノキシ〕ペンタン 1,6−ビス〔4−(4−ヒドロキシフェニルスルホニ
ル)フェノキシ〕ヘキサン α,α′−ビス〔4−(4−ヒドロキシフェニルスルホ
ニル)フェノキシ〕−p−キシレン α,α′−ビス〔4−(4−ヒドロキシフェニルスルホ
ニル)フェノキシ〕−m−キシレン α,α′−ビス〔4−(4−ヒドロキシフェニルスルホ
ニル)フェノキシ〕−o−キシレン 2,2′−ビス〔4−(4−ヒドロキシフェニルスルホ
ニル)フェノキシ〕ジエチルエーテル 4,4′−ビス〔4−(4−ヒドロキシフェニルスルホ
ニル)フェノキシ〕ジエチルエーテル 1,2−ビス〔4−(4−ヒドロキシフェニルスルホニ
ル)フェノキシ〕エチレン 1,4−ビス〔4−(4−ヒドロキシフェニルスルホニ
ル)フェノキシ〕−2−ブテン が挙げられる。
際の条件、例えば溶媒の種類、析出温度などによって結
晶形が異なったり、あるいは溶媒との付加体を形成する
場合がある。これらは、その結晶の融点、赤外分光分析
あるいはX線回折分析等で明らかにすることができ、本
発明に属する。次に本発明で使用する一般式(I)のa
が1あるいは2である化合物は、以下に例示することが
できる。
ドロキシフェニルスルホニル)フェノキシ−2−トラン
ス−ブテニルオキシ}ジフェニルスルホン 融点(℃)176〜180 (1−2)4,4′−ビス{4−(4−ヒドロキシフェ
ニルスルホニル)フェノキシブチルオキシ}ジフェニル
スルホン 融点(℃)215〜220 (1−3)4,4′−ビス{3−(4−ヒドロキシフェ
ニルスルホニル)フェノキシプロピルオキシ}ジフェニ
ルスルホン 融点(℃)237〜242 (1−4)4,4′−ビス{2−(4−ヒドロキシフェ
ニルスルホニル)フェノキシエチルオキシ}ジフェニル
スルホン (1−5)4−{4−(4−ヒドロキシフェニルスルホ
ニル)フェノキシブチルオキシ}−4′−{3−(4−
ヒドロキシフェニルスルフォニル)フェノキシプロピル
オキシ}ジフェニルスルホン
ェニルスルホニル)フェノキシブチルオキシ}−4′−
{2−(4−ヒドロキシフェニルスルフォニル)フェノ
キシエチルオキシ}ジフェニルスルホン (1−7)4−{3−(4−ヒドロキシフェニルスルホ
ニル)フェノキシプロピルオキシ}−4′−{2−(4
−ヒドロキシフェニルスルフォニル)フェノキシエチル
オキシ}ジフェニルスルホン (1−8)4,4′−ビス{5−(4−ヒドロキシフェ
ニルスルホニル)フェノキシペンチルオキシ}ジフェニ
ルスルホン (1−9)4,4′−ビス{5−(4−ヒドロキシフェ
ニルスルホニル)フェノキシヘキシルオキシ}ジフェニ
ルスルホン (1−10)4−{4−(4−ヒドロキシフェニルスルホ
ニル)フェノキシ−2−トランス−ブテニルオキシ}−
4′−{4−(4−ヒドロキシフェニルスルホニル)フ
ェノキシエチルオキシ}ジフェニルスルホン
ェニルスルホニル)フェノキシ−2−トランス−ブテニ
ルオキシ}−4′−{3−(4−ヒドロキシフェニルス
ルホニル)フェノキシプロピルオキシ}ジフェニルスル
ホン (1−12)4−{4−(4−ヒドロキシフェニルスルホ
ニル)フェノキシ−2−トランス−ブテニルオキシ}−
4′−{2−(4−ヒドロキシフェニルスルホニル)フ
ェノキシエチルオキシ}ジフェニルスルホン (1−13)1,4−ビス−4−〔4−{4−(4−ヒド
ロキシフェニルスルホニル)フェノキシ−2(t)ブテ
ニルオキシ}フェニルスルホニル〕フェノキシ−シス−
2−ブテン 融点(℃)185〜190 (1−14)1,4−ビス−4−〔4−{4−(4−ヒド
ロキシフェニルスルホニル)フェノキシ−2(t)ブテ
ニルオキシ}フェニルスルホニル〕フェノキシ−トラン
ス−2−ブテン 融点(℃)240〜243 (1−15)4、4′−ビス−〔4−{4−(2−ヒドロ
キシフェニルスルホニル)フェノキシ}ブチルオキシ〕
ジフェニルスルホン
(4−ヒドロキシフェニルスルホニル)フェノキシ}ブ
チルオキシ〕ジフェニルスルホン (1−17)4、4′−ビス{4−(4−ヒドロキシフェ
ニルスルホニル)フェノキシ−2−エチレンオキシエト
キシ}ジフェニルスルホン 融点(℃)130〜134 (1−18)4、4′−ビス{4−(4−ヒドロキシフェ
ニルスルホニル)フェニル−1,4−フェニレンビスメ
チレンオキシ}ジフェニルスルホン (1−19)4、4′−ビス{4−(4−ヒドロキシフェ
ニルスルホニル)フェニル−1,3−フェニレンビスメ
チレンオキシ}ジフェニルスルホン (1−20)4、4′−ビス{4−(4−ヒドロキシフェ
ニルスルホニル)フェニル−1,2−フェニレンビスメ
チレンオキシ}ジフェニルスルホン
{4−(4−ヒドロキシフェニルスルホニル)フェノキ
シ−2−エチレンオキシエトキシ}フェニルスルホニ
ル〕フェノキシ−ジエチルエーテル (1−22)α、α′−ビス−4−〔4−{4−(4−ヒ
ドロキシフェニルスルホニル)フェニル−1,4−フェ
ニレンビスメチレンオキシ}フェニルスルホニル〕フェ
ノキシ−p−キシレン (1−23)α、α′−ビス−4−〔4−{4−(4−ヒ
ドロキシフェニルスルホニル)フェニル−1,3−フェ
ニレンビスメチレンオキシ}フェニルスルホニル〕フェ
ノキシ−m−キシレン (1−24)α、α′−ビス−4−〔4−{4−(4−ヒ
ドロキシフェニルスルホニル)フェニル−1,2−フェ
ニレンビスメチレンオキシ}フェニルスルホニル〕フェ
ノキシ−o−キシレン (1−25)2,4′−ビス{2−(4−ヒドロキシフェ
ニルスルホニル)フェノキシ−2−エチレンオキシエト
キシ}ジフェニルスルホン
ドロキシフェニルスルホニル)フェノキシ−2−エチレ
ンオキシエトキシ}ジフェニルスルホン (1−27)4,4′−ビス{3,5−ジメチル−4−
(3,5−ジメチル−4−ヒドロキシフェニルスルホニ
ル)フェノキシ−2−エチレンオキシエトキシ}ジフェ
ニルスルホン (1−28)4,4′−ビス{3−アリル−4−(3−ア
リル−4−ヒドロキシフェニルスルホニル)フェノキシ
−2−エチレンオキシエトキシ}ジフェニルスルホン (1−29)4,4′−ビス{3,5−ジメチル−4−
(3,5−ジメチル−4−ヒドロキシフェニルスルホニ
ル)フェニル−1,4−フェニレンビスメチレンオキ
シ}ジフェニルスルホン (1−30)4,4′−ビス{3,5−ジメチル−4−
(3,5−ジメチル−4−ヒドロキシフェニルスルホニ
ル)フェニル−1,3−フェニレンビスメチレンオキ
シ}ジフェニルスルホン
チル−4−(3,5−ジメチル−4−ヒドロキシフェニ
ルスルホニル)フェニル−1,2−フェニレンビスメチ
レンオキシ}ジフェニルスルホン (1−32)4,4′−ビス{3−アリル−4−(3−ア
リル−4−ヒドロキシフェニルスルホニル)1,4−フ
ェニレンビスメチレンオキシ}ジフェニルスルホン (1−33)4,4′−ビス{3−アリル−4−(3−ア
リル−4−ヒドロキシフェニルスルホニル)1,3−フ
ェニレンビスメチレンオキシ}ジフェニルスルホン (1−34)4,4′−ビス{3−アリル−4−(3−ア
リル−4−ヒドロキシフェニルスルホニル)1,2−フ
ェニレンビスメチレンオキシ}ジフェニルスルホン (1−35)4,4′−ビス{4(4−ヒドロキシフェニ
ルスルホニル)フェノキシ−2−ヒドロキシプロピルオ
キシ}ジフェニルスルホン (1−36)1,3−ビス−4−〔4−{4−(4−ヒド
ロキシフェニルスルホニル)フェノキシ−2−ヒドロキ
シプロピルオキシ}フェニルスルホニル〕フェノキシ−
2−ヒドロキシプロパン
る化合物と一般式(I)のaが1または2である化合物
を組合わせて使用する場合、特に好ましい組合わせを示
すと次の通りである。
ドロキシフェニルスルホニル)フェノキシ}ジエチルエ
ーテルと4,4′−ビス{4−(4−ヒドロキシフェニ
ルスルホニル)フェノキシ−2−エチレンオキシエトキ
シ}ジフェニルスルホンの組み合わせ (2−2)α,α′−ビス{4−(4−ヒドロキシフェ
ニルスルホニル)フェノキシ}−p−キシレンと4,
4′−ビス{4−(4−ヒドロキシフェニルスルホニ
ル)フェニル−1,4−フェニレンビスメチレンオキ
シ}ジフェニルスルホンの組み合わせ (2−3)α,α′−ビス{4−(4−ヒドロキシフェ
ニルスルホニル)フェノキシ}−m−キシレンと4,
4′−ビス{4−(4−ヒドロキシフェニルスルホニ
ル)フェニル−1,3−フェニレンビスメチレンオキ
シ}ジフェニルスルホンの組み合わせ (2−4)α,α′−ビス{4−(4−ヒドロキシフェ
ニルスルホニル)フェノキシ}−o−キシレンと4,
4′−ビス{4−(4−ヒドロキシフェニルスルホニ
ル)フェニル−1,2−フェニレンビスメチレンオキ
シ}ジフェニルスルホンの組み合わせ (2−5)2,2′−ビス{4−(4−ヒドロキシフェ
ニルスルホニル)フェノキシ}ジエチルエーテルと4,
4′−ビス{4−(4−ヒドロキシフェニルスルホニ
ル)フェノキシ−2−エチレンオキシエトキシ}ジフェ
ニルスルホン及び2,2′−ビス−4−〔4−{4−
(4−ヒドロキシフェニルスルホニル)フェノキシ−2
−エチレンオキシエトキシ}フェニルスルホニル〕フェ
ノキシ−ジエチルエーテルの組み合わせ
ドロキシフェニルスルホニル)フェノキシ}−p−キシ
レンと4,4′−ビス{4−(4−ヒドロキシフェニル
スルホニル)フェニル−1,4−フェニレンビスメチレ
ンオキシ}ジフェニルスルホン及びα,α′−ビス−4
−〔4−{4−(4−ヒドロキシフェニルスルホニル)
フェニル−1,4−フェニレンビスメチレンオキシ}フ
ェニルスルホニル〕フェノキシ−p−キシレンの組み合
わせ (2−7)α,α′−ビス{4−(4−ヒドロキシフェ
ニルスルホニル)フェノキシ}−m−キシレンと4,
4′−ビス{4−(4−ヒドロキシフェニルスルホニ
ル)フェニル−1,3−フェニレンビスメチレンオキ
シ}ジフェニルスルホン及びα,α′−ビス−4−〔4
−{4−(4−ヒドロキシフェニルスルホニル)フェニ
ル−1,3−フェニレンビスメチレンオキシ}フェニル
スルホニル〕フェノキシ−m−キシレンの組み合わせ (2−8)α,α′−ビス{4−(4−ヒドロキシフェ
ニルスルホニル)フェノキシ}−o−キシレンと4,
4′−ビス{4−(4−ヒドロキシフェニルスルホニ
ル)フェニル−1,2−フェニレンビスメチレンオキ
シ}ジフェニルスルホン及びα,α′−ビス−4−〔4
−{4−(4−ヒドロキシフェニルスルホニル)フェニ
ル−1,2−フェニレンビスメチレンオキシ}フェニル
スルホニル〕フェノキシ−o−キシレンの組み合わせ (2−9)1,4−ビス{4−(4−ヒドロキシフェニ
ルスルホニル)フェノキシ}−トランス−2−ブテンと
4,4′−ビス{4−(4−ヒドロキシフェニルスルホ
ニル)フェノキシ−2−トランス−ブテニルオキシ}ジ
フェニルスルホンの組み合わせ (2−10)1,2−ビス{4−(4−ヒドロキシフェニ
ルスルホニル)フェノキシ}−エタンと4,4′−ビス
{2−(4−ヒドロキシフェニルスルホニル)フェノキ
シ−エチルオキシ}ジフェニルスルホンの組み合わせ
ロキシフェニルスルホニル)フェノキシ}−ブタンと
4,4′−ビス{4−(4−ヒドロキシフェニルスルホ
ニル)フェノキシ−ブチルオキシ}ジフェニルスルホン
の組み合わせ (2−12)1,6−ビス{4−(4−ヒドロキシフェニ
ルスルホニル)フェノキシ}ヘキサンと4,4′−ビス
{6−(4−ヒドロキシフェニルスルホニル)フェノキ
シ−ヘキシルオキシ}ジフェニルスルホンの組み合わせ (2−13)1,3−ビス{4−(4−ヒドロキシフェニ
ルスルホニル)フェノキシ}−2−ヒドロキシプロパン
と4,4′−ビス{4−(4−ヒドロキシフェニルスル
ホニル)フェノキシ−2−ヒドロキシプロピルオキシ}
ジフェニルスルホンとの組み合せ (2−14)1,3−ビス{4−(4−ヒドロキシフェニ
ルスルホニル)フェノキシ}−2−ヒドロキシプロパン
と4,4′−ビス{4−(4−ヒドロキシフェニルスル
ホニル)フェノキシ−2−ヒドロキシプロピルオキシ}
ジフェニルスルホン及び、1,3−ビス−4−〔4−
{4−(4−ヒドロキシフェニルスルホニル)フェノキ
シ−2−ヒドロキシプロピルオキシ}フェニルスルホニ
ル〕フェノキシ−2−ヒドロキシプロパンとの組み合
せ。
ェノール誘導体のうち特に好ましいのは4−ヒドロキシ
安息香酸ベンジルである。また一般式(III)で表される
フェノール誘導体のうち特に好ましいのは1,7−ジ
(4−ヒドロキシフェニルチオ)−3,5−ジオキサヘ
プタン及び2,2′−ビス(4−ヒドロキシフェニルチ
オ)ジエチルエーテルである。
らばどの様な用途にも使用でき、例えば感熱記録材料ま
たは感圧複写材料等に利用することができる。本発明を
感熱記録紙に使用する場合には、既知の画像保存安定
剤、顕色剤の使用方法と同様に行えばよく、例えば、本
発明の化合物の微粒子および発色性染料の微粒子のそれ
ぞれをポリビニルアルコールやセルロールなどの水溶性
結合剤の水溶液中に分散された懸濁液を混合して紙等の
支持体に塗布して乾燥することにより製造できる。
及び(III)で表される化合物の使用割合は、発色性染料
1重量部に対して、一般式(I)、(II)及び(III)で
表される化合物の合計量が1〜10重量部、好ましくは
1.5〜5重量部である。本発明の記録材料の中には、
発色性染料並びに、一般式(I)、(II)及び(III)で
表される化合物以外に公知の顕色剤、画像安定剤、増感
剤、填料、分散剤、酸化防止剤、減感剤、粘着防止剤、
消泡剤、光安定剤、蛍光増白剤等を必要に応じ含有させ
ることができる。
もよいが、多層構造からなる場合には、例えば保護層等
任意の層中に含有せしめてもよい。特に、発色層の上部
および/または下部にオーバーコート層やアンダーコー
ト層を設けた場合、これらの層には酸化防止剤、光安定
剤などを含有することができる。さらに、酸化防止剤、
光安定剤は必要に応じマイクロカプセルに内包するかた
ちで、これらの層に含有させることができる。
としては、フルオラン系、フタリド系、ラクタム系、ト
リフェニルメタン系、フェノチアジン系、スピロピラン
系等のロイコ染料を挙げることができるが、これらに限
定されるものではなく、酸性物質である顕色剤と接触す
ることにより発色する発色性染料であれば使用できる。
また、これらの発色性染料は単独で使用し、その発色す
る色の記録材料を製造することは勿論であるが、それら
の2種以上を混合使用することができる。例えば赤色、
青色、緑色の3原色の発色性染料または黒発色染料を混
合使用して真に黒色に発色する記録材料を製造すること
ができる。
を例示すれば、3−ジエチルアミノ−6−メチル−7−
アニリノフルオラン、3−ジブチルアミノ−6−メチル
−7−アニリノフルオラン、3−(N−エチル−N−イ
ソブチルアミノ)−6−メチル−7−アニリノフルオラ
ン、3−(N−メチル−N−プロピルアミノ)−6−メ
チル−7−アニリノフルオラン、3−(N−エチル−N
−イソペンチルアミノ)−6−メチル−7−アニリノフ
ルオラン、3−ジエチルアミノ−7−(o−クロロアニ
リノ)フルオラン、3−ジブチルアミノ−7−(o−ク
ロロアニリノ)フルオラン、3−(N−エチル−p−ト
ルイジノ)−6−メチル−7−アニリノフルオラン、3
−(N−シクロヘキシル−N−メチルアミノ)−6−メ
チル−7−アニリノフルオラン、
ノフルオラン、3−ピペリジノ−6−メチル−7−アラ
リノフルオラン、3−ジメチルアミノ−7−(m−トリ
フロロメチルアニリノ)フルオラン、3−ジペンチルア
ミノ−6−メチル−7−アニリノフルオラン、3−(N
−エトキシプロピル−N−エチルアミノ)−6−メチル
−7−アニリノフルオラン、3−ジブチルアミノ−7−
(o−フロロアニリノ)フルオラン、3−ジエチルアミ
ノベンゾ〔a〕フルオラン、3−ジメチルアミノ−6−
メチル−7−クロロフルオラン、3−ジエチルアミノ−
5−メチル−7−ジベンジルアミノフルオラン、3−ジ
エチルアミノ−7−ジベンジルアミノフルオラン、3−
ジエチルアミノ−5−クロロフルオラン、3−ジエチル
アミノ−6−(N,N′−ジベンジルアミノ)フルオラ
ン、3,6−ドメトキシフルオラン 2,4−ジメチル−6−(4−ジメチルアミノフェニ
ル)アミノフルオラン等が挙げられる。
−(4−(4−アニリノ)−アニリノ)アニリノ−6−
メチル−7−クロロフルオラン、3,3−ビス(2−
(4−ジメチルアミノフェニル)−2−(4−メトキシ
フェニル)ビニル)−4,5,6,7−テトラクロロフ
タリド、3,6,6′−トリス(ジメチルアミノ)スピ
ロ〔フルオレン−9,3′−フタリド〕等が挙げられ
る。その他、3,3−ビス(4′−ジエチルアミノフェ
ニル)−6−ジエチルアミノフタリドなども挙げられ
る。
A、4,4′−sec−ブチリデンビスフェノール、
4,4′−シクロヘキシリデンビスフェノール、2,2
−ジメチル−3,3−ビス(4−ヒドロキシフェニル)
ブタン、2,2′−ジヒドロキシジフェニル、ペンタメ
チレン−ビス(4−ヒドロキシベンゾエート)、2,2
−ジメチル−3,3−ジ(4−ヒドロキシフェニル)ペ
ンタン、2,2−ジ(4−ヒドロキシフェニル)ヘキサ
ン等のビスフェノール化合物、安息香酸亜鉛、4−ニト
ロ安息香酸亜鉛等の安息香酸金属塩、4−(2−(4−
メトキシフェニルオキシ)エチルオキシ)サリチル酸な
どのサリチル酸類、サリチル酸亜鉛、ビス{4−(オク
チルオキシカルボニルアミノ)−2−ヒドロキシ安息香
酸}亜鉛等のサリチル酸金属塩、4,4′−ジヒドロキ
シジフェニルスルホン、2,4′−ジヒドロキシジフェ
ニルスルホン、4−ヒドロキシ−4′−メチルジフェニ
ルスルホン、4−ヒドロキシ−4′−イソプロポキシジ
フェニルスルホン、4−ヒドロキシ−4′−ブトキシジ
フェニルスルホン、4,4′−ジヒドロキシ−3,3′
−ジアリルジフェニルスルホン、3,4−ジヒドロキシ
−4′−メチルジフェニルスルホン、4,4′−ジヒド
ロキシ−3,3′,5,5′−テトラブロモジフェニル
スルホン等のヒドロキシスルホン類、4−ヒドロキシフ
タル酸ジメチル、4−ヒドロキシフタル酸ジシクロヘキ
シル、4−ヒドロキシフタル酸ジフェニル等の4−ヒド
ロキシフタル酸ジエステル類、2−ヒドロキシ−6−カ
ルボキシナフタレン等のヒドロキシナフトエ酸のエステ
ル類、ヒドロキシアセトフェノン、p−フェニルフェノ
ール、4−ヒドロキシフェニル酢酸ベンジル、p−ベン
ジルフェノール、ハイドロキノン−モノベンジルエーテ
ル、更にトリブロモメチルフェニルスルホン等のトリハ
ロメチルスルホン類、4,4′−ビス(p−トルエンス
ルホニルアミノカルボニルアミノ)ジフェニルメタン等
のスルホニルウレア類、テトラシアノキノジメタン類、
2,4−ジヒドロキシ−2′−メトキシベンズアニリド
などを挙げることができる。
オキシ−4′−(2−メチルグリシジルオキシ)−ジフ
ェニルスルホン、4,4′−ジグリシジルオキシジフェ
ニルスルホン、などのエポキシ基含有ジフェニルスルホ
ン類、1,4−ジグリシジルオキシベンゼン、4−(α
−(ヒドロキシメチル)ベンジルオキシ)−4′−ヒド
ロキシジフェニルスルホン、2−プロパノール誘導体、
サリチル酸誘導体、オキシナフトエ酸誘導体の金属塩
(特に亜鉛塩)、その他水不溶性の亜鉛化合物等を挙げ
ることができる。
ドなどの高級脂肪酸アミド、ベンズアミド、ステアリン
酸アニリド、アセト酢酸アニリド、チオアセトアニリ
ド、シュウ酸ジベンジル、シュウ酸ジ(4−メチルベン
ジル)、シュウ酸ジ(4−クロロベンジル)、フタル酸
ジメチル、テレフタル酸ジメチル、テレフタル酸ジベン
ジル、イソフタル酸ジベンジル、ビス(tert−ブチ
ルフェノール)類、4,4′−ジヒドロキシジフェニル
スルホンのジエーテル類、1,2−ビス(フェノキシ)
エタン、1,2−ビス(4−メチルフェノキシ)エタ
ン、1,2−ビス(3−メチルフェノキシ)エタン、2
−ナフトールベンジルエーテル、ジフェニルアミン、カ
ルバゾール、2,3−ジ−m−トリルブタン、4−ベン
ジルビフェニル、4,4′−ジメチルビフェニル、m−
ターフェニル、ジ−β−ナフチルフェニレンジアミン、
1−ヒドロキシ−ナフトエ酸フェニル、2−ナフチルベ
ンジルエーテル、4−メチルフェニル−ビフェニルエー
テル、2,2−ビス(3,4−ジメチルフェニル)エタ
ン、2,3,5,6−テトラメチル−4′−メチルジフ
ェニルメタン等を挙げることができる。好ましくは、
1,2−ビス(3−メチルフェノキシ)エタン、2−ナ
フチルベンジルエーテルなどのエーテル類、m−ターフ
ェニル、4−ベンジルビフェニルなどの芳香族炭化水素
類を挙げることができる。
ン、焼成カオリン、タルク、サテンホワイト、水酸化ア
ルミニウム、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、酸化
亜鉛、酸化チタン、硫酸バリウム、珪酸マグネシウム、
珪酸アルミニウム、プラスチックピグメントなどが使用
できる。特に本発明の記録材料ではアルカリ土類金属の
塩が好ましい。さらに炭酸塩が好ましく、炭酸カルシウ
ム、炭酸マグネシウムなどが好適である。填料の使用割
合は、発色染料1重量部に対して0.1〜15重量部、
好ましくは1〜10重量部である。また、上記その他の
填料を混合して使用することも可能である。
ルナトリウム等のスルホコハク酸エステル類、ドデシル
ベンゼンスルホン酸ナトリウム、ラウリルアルコール硫
酸エステルのナトリウム塩、脂肪酸塩等を挙げることが
できる。
ス(4−メチル−6−tert−ブチルフェノール)、
2,2′−メチレンビス(4−エチル−6−tert−
ブチルフェノール)、4,4′−プロピルメチレンビス
(3−メチル−6−tert−ブチルフェノール)、
4,4′−ブチリデンビス(3−メチル−6−tert
−ブチルフェノール)、4,4′−チオビス(2−te
rt−ブチル−5−メチルフェノール)、1,1,3−
トリス(2−メチル−4−ヒドロキシ−5−tert−
ブチルフェニル)ブタン、1,1,3−トリス(2−メ
チル−4−ヒドロキシ−5−シクロヘキシルフェニル)
ブタン等を挙げることができる。
リエチレングリコール、グアニジン誘導体等を挙げるこ
とができる。
リン酸亜鉛、ステアリン酸カルシウム、カルナウバワッ
クス、パラフィンワックス、エステルワックス等を例示
することができる。光安定剤としては、フェニルサリシ
レート、p−tert−ブチルフェニルサリシレート、
p−オクチルフェニルサリシレートなどのサリチル酸系
紫外線吸収剤、2,4−ジヒドロキシベンゾフェノン、
2−ヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン、2−ヒ
ドロキシ−4−ベンジルオキシベンゾフェノン、2−ヒ
ドロキシ−4−オクチルオキシベンゾフェノン、2−ヒ
ドロキシ−4−ドデシルオキシベンゾフェノン、2,
2′−ジヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン、
2,2′−ジヒドロキシ−4,4′−ジメトキシベンゾ
フェノン、2−ヒドロキシ−4−メトキシ−5−スルホ
ベンゾフェノン等のベンゾフェノン系紫外線吸収剤、2
−(2′−ヒドロキシ−5′−メチルフェニル)ベンゾ
トリアゾール、2−(2′−ヒドロキシ−5′−ter
t−ブチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(2′
−ヒドロキシ−3′,5′−ジ−tert−ブチルフェ
ニル)ベンゾトリアゾール、2−(2′−ヒドロキシ−
3′−tert−ブチル−5′−メチルフェニル)−5
−クロロベンゾトリアゾール、2−(2′−ヒドロキシ
−3′,5′−ジ−tert−ブチルフェニル)−5−
クロロベンゾトリアゾール、2−(2′−ヒドロキシ−
3′,5′−ジ−tert−アミルフェニル)ベンゾト
リアゾール、2−〔2′−ヒドロキシ−3′−(3″,
4″,5″,6″−テトラヒドロフタルイミドメチル)
−5′−メチルフェニル〕ベンゾトリアゾール、2−
(2′−ヒドロキシ−5′−tert−オクチルフェニ
ル)ベンゾトリアゾール、2−〔2′−ヒドロキシ−
3′,5′−ビス(α,α−ジメチルベンジル)フェニ
ル〕−2H−ベンゾトリアゾール、2−(2′−ヒドロ
キシ−3′−ドデシル−5′−メチルフェニル)ベンゾ
トリアゾール、2−(2′−ヒドロキシ−3′−ウンデ
シル−5′−メチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2
−(2′−ヒドロキシ−3′−ウンデシル−5′−メチ
ルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(2′−ヒドロ
キシ−3′−トリデシル−5′−メチルフェニル)ベン
ゾトリアゾール、2−(2′−ヒドロキシ−3′−テト
ラデシル−5′−メチルフェニル)ベンゾトリアゾー
ル、2−(2′−ヒドロキシ−3′−ペンタデシル−
5′−メチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−
(2′−ヒドロキシ−3′−ヘキサデシル−5′−メチ
ルフェニル)ヘンゾトリアゾール、2−〔2′−ヒドロ
キシ−4′−(2″−エチルヘキシル)オキシフェニ
ル〕ベンゾトリアゾール、2−〔2′−ヒドロキシ−
4′−(2″−エチルヘプチル)オキシフェニル〕ベン
ゾトリアゾール、2−〔2′−ヒドロキシ−4′−
(2″−エチルオクチル)オキシフェニル〕ベンゾトリ
アゾール、2−〔2′−ヒドロキシ−4′−(2″−プ
ロピルオクチル)オキシフェニル〕ベンゾトリアゾー
ル、2−〔2.−ヒドロキシ−4′−(2″−プロピル
ヘプチル)オキシフェニル〕ベンゾトリアゾール、2−
〔2′−ヒドロキシ−4′−(2″−プロピルヘキシ
ル)オキシフェニル〕ベンゾトリアゾール、2−〔2′
−ヒドロキシ−4′−(1″−エチルヘキシル)オキシ
フェニル〕ベンゾトリアゾール、2−〔2′−ヒドロキ
シ−4′−(1″−エチルヘプチル)オキシフェニル〕
ベンゾトリアゾール、2−〔2′−ヒドロキシ−4′−
(1′−エチルオクチル)オキシフェニル〕ベンゾトリ
アゾール、2−〔2′−ヒドロキシ−4′−(1″−プ
ロピルオクチル)オキシフェニル〕ベンゾトリアゾー
ル、2−〔2′−ヒドロキシ−4′−(1″−プロピル
ヘプチル)オキシフェニル〕ベンゾトリアゾール、2−
〔2′−ヒドロキシ−4′−(1″−プロピルヘキシ
ル)オキシフェニル〕ベンゾトリアゾール、ポリエチレ
ングリコールとメチル−3−〔3−tert−ブチル−
5−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)−4−ヒ
ドロキシフェニル〕プロピオネートとの縮合物などのベ
ンゾトリアゾール系紫外線吸収剤、2′−エチルヘキシ
ル−2−シアノ−3,3−ジフェニルアクリレート、エ
チル−2−シアノ−3,3−ジフェニルアクリレートな
どのシアノアクリレート系紫外線吸収剤、ビス(2,
2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)セバケー
ト、コハク酸−ビス(2,2,6,6−テトラメチル−
4−ピペリジル)エステル、2−(3,5−ジ−ter
t−ブチル)マロン酸−ビス(1,2,2,6,6−ペ
ンタメチル−4−ピペリジル)エステルなどのヒンダー
ドアミン系紫外線吸収剤などを挙げることができる。
る。 4,4′−ビス〔2−アニリノ−4−(2−ヒドロキシ
エチル)アミノ−1,3,5−トリアジニル−6−アミ
ノ)スチルベン−2,2′−ジスルホン酸=二ナトリウ
ム塩 4,4′−ビス〔2−アニリノ−4−ビス(ヒドロキシ
エチル)アミノ−1,3,5−トリアジニル−6−アミ
ノ)スチルベン−2,2′−ジスルホン酸=二ナトリウ
ム塩 4,4′−ビス〔2−メトキシ−4−(2−ヒドロキシ
エチル)アミノ−1,3,5−トリアジニル−6−アミ
ノ)スチルベン−2,2′−ジスルホン酸=二ナトリウ
ム塩 4,4′−ビス〔2−メトキシ−4−(2−ヒドロキシ
プロピル)アミノ−1,3,5−トリアジニル−6−ア
ミノ)スチルベン−2,2′−ジスルホン酸=二ナトリ
ウム塩 4,4′−ビス〔2−m−スルホアニリノ−4−ビス
(ヒドロキシエチル)アミノ−1,3,5−トリアジニ
ル−6−アミノ〕スチルベン−2,2′−ジスルホン酸
=二ナトリウム塩 4−〔2−p−スルホアニリノ−4−ビス(ヒドロキシ
エチル)アミノ−1,3,5−トリアジニル−6−アミ
ノ〕−4′−〔2−m−スルホアニリノ−4−ビス(ヒ
ドロキシエチル)アミノ−1,3,5−トリアジニル−
6−アミノ〕スチルベン−2,2′−ジスルホン酸=四
ナトリウム塩
−4−ビス(ヒドロキシエチル)アミノ−1,3,5−
トリアジニル−6−アミノ〕スチルベン−2,2′−ジ
スルホン酸=四ナトリウム塩 4,4′−ビス〔2−(2,5−ジスルホアニリノ)−
4−フェノキシアミノ−1,3,5−トリアジニル−6
−アミノ〕スチルベン−2,2′−ジスルホン酸=六ナ
トリウム塩 4,4′−ビス〔2−(2,5−ジスルホアニリノ)−
4−(p−メトキシカルボニルフェノキシ)アミノ−
1,3,5−トリアジニル−6−アミノ〕スチルベン−
2,2′−ジスルホン酸=六ナトリウム塩 4,4′−ビス〔2−(p−スルホフェノキシ)−4−
ビス(ヒドロキシエチル)アミノ−1,3,5−トリア
ジニル−6−アミノ〕スチルベン−2,2′−ジスルホ
ン酸=四ナトリウム塩 4,4′−ビス〔2−(2,5−ジスルホアニリノ)−
4−ホルマリニルアミノ−1,3,5−トリアジニル−
6−アミノ〕スチルベン−2,2′−ジスルホン酸=六
ナトリウム塩 4,4′−ビス〔2−(2,5−ジスルホアニリノ)−
4−ビス(ヒドロキシエチル)アミノ−1,3,5−ト
リアジニル−6−アミノ〕スチルベン−2,2′−ジス
ルホン酸=六ナトリウム塩
は既知の画像保存安定剤、顕色剤あるいは増感剤を使用
する場合と同様にして製造できる。例えば、公知の方法
によりマイクロカプセル化した発色性染料を適当な分散
剤によって分散し、紙に塗布して発色剤シートを作製す
る。また、顕色剤の分散液を紙に塗布して顕色剤シート
を作製する。その際、本発明の化合物を画像保存安定剤
として使用する場合には発色剤シートあるいは顕色剤シ
ートのいずれの分散液中に分散して使用してもよい。こ
のようにして作製された両シートを組合せて感圧複写紙
が作製される。感圧複写紙としては、発色性染料の有機
溶媒溶液を内包するマイクロカプセルを下面に塗布担持
している上用紙と顕色剤(酸性物質)を上面に塗布担持
している下用紙とからなるユニットでも、あるいはマイ
クロカプセルと顕色剤とが同一の紙面に塗布されている
いわゆるセルフコンテントペーパーであってもよい。
と混合して使用する顕色剤としては従来既知のものが用
いられ、例えば酸性白土、活性白土、アパタルジャイ
ト、ベントナイト、コロイダルシリカ、珪酸アルミニウ
ム、珪酸マグネシウム、珪酸亜鉛、珪酸錫、焼成カオリ
ン、タルク等の無機酸性物質、蓚酸、マレイン酸、酒石
酸、クエン酸、コハク酸、スイアリン酸等の脂肪族カル
ボン酸、安息香酸、p−tert−ブチル安息香酸、フ
タル酸、没食子酸、サリチル酸、3−イソプロピルサリ
チル酸、3−フェニルサリチル酸、3−シクロヘキシル
サリチル酸、3,5−ジ−tert−ブチルサリチル
酸、3−メチル−5−ベンジルサリチル酸、3−フェニ
ル−5−(2,2−ジメチルベンジル)サリチル酸、
3,5−ジ−(2−メチルベンジル)サリチル酸、2−
ヒドロキシ−1−ベンジル−3−ナフトエ酸等の芳香族
カルボン酸、これら芳香族カルボン酸の亜鉛、マグネシ
ウム、アルミニウム、チタン等の金属塩、p−フェニル
フェノール−ホルマリン樹脂、p−ブチルフェノール−
アセチレン樹脂等のフェノール樹脂系顕色剤、これらフ
ェノール樹脂系顕色剤と上記芳香族カルボン酸の金属塩
との混合物等を挙げることができる。
げて詳細に説明するが、必ずしもこれだけに限定される
ものではない。 実施例1 分散液A 2−アニリノ−3−メチル−6−ジブチルアミノフルオラン 20.0g PVA−105 10%水溶液 105.0g 分散液B 2,2′−ビス〔4−(4−ヒドロキシフェニルスルホン) フェノキシ〕ジエチルエーテル 20.0g PVA−105 10%水溶液 105.0g 分散液C 1,7−ジ(4−ヒドロキシフェニルチオ)−3,5− ジオキサヘプタン 20.0g PVA−105 10%水溶液 105.0g 分散液D シュウ酸ビス(4−メチルベンジル) 20.0g PVA−105 10%水溶液 105.0g 分散液E 填料(炭酸カルシウム) 27.8g PVA−105 10%水溶液 26.2g 純水 71.0g
ンダーで十分に摩砕して、分散液A,B,C,D,Eの
各分散液を調製し、分散液Al重量部、B2重量部、C
1重量部、D1重量部、E4重量部、及びステアリン酸
亜鉛分散液(中京油脂製のハイドリンZ−7−30)
0.5重量部を混合して塗布液を調製した。この塗布液
をワイヤーロッド(No.12)を使用して白色紙に塗
布、乾燥した後、カレンダー掛け処理をして感熱記録紙
を作成した(塗布量は乾燥重量で約5.5g/m 2 )。
2重量部、E4重量部、及びステアリン酸亜鉛分散液
(中京油脂製のハイドリンZ−7−30)0.5重量部
を混合して塗布液を調製し、他は実施例1と同様にして
感熱記録紙を作成した。
−ヒドロキシフェニルスルホン)フェノキシ〕ジエチル
エーテルの代りに、2,2′−ビス〔4−(4−ヒドロ
キシフェニルスルホン)フェノキシ〕ジエチルエーテル
75重量%、4,4′−ビス〔4−(4−ヒドロキシフ
ェニルスルホニル)フェノキシ−2−エチレンオキシエ
トキシ〕ジフェニルスルホン20重量%及び2,2′−
ビス〔4−(4−〔4−(4−ヒドロキシフェニルスル
ホニル)フェノキシ−2−エチレンオキシエトキシ〕フ
ェニルスルホニル)フェノキシ〕ジエチルエーテル5重
量%の混合物20.0gを使用し、他は実施例2と同様
にして感熱記録紙を作成した。
キシフェニルチオ)−3,5−ジオキサヘプタンの代り
に、2,2′−ビス(4−ヒドロキシフェニルチオ)ジ
エチルエーテルを使用し、他は実施例2と同様にして感
熱記録紙を作成した。
キシフェニルチオ)−3,5−ジオキサヘプタンの代り
に、4−ヒドロキシ安息香酸ベンジルを使用し、他は実
施例2と同様にして感熱記録紙を作成した。
2重量部、E4重量部、及びステアリン酸亜鉛分散液
(中京油脂製のハイドリンZ−7−30)0.5重量部
を混合して塗布液を調製し、他は実施例1と同様にして
感熱記録紙を作成した。
キシフェニルチオ)−3,5−ジオキサヘプタンの代り
に、4−イソプロポキシ−4′−ヒドロキシジフェニル
スルホンを使用し、他は実施例2と同様にして感熱記録
紙を作成した。
キシフェニルチオ)−3,5−ジオキサヘプタンの代り
に、ビスフェノールAを使用し、他は実施例2と同様に
して感熱記録紙を作成した。
2重量部、E4重量部、及びステアリン酸亜鉛分散液
(中京油脂製のハイドリンZ−7−30)0.5重量部
を混合して塗布液を調製し、他は実施例1と同様にして
感熱記録紙を作成した。
紙発色試験装置(大倉電機製、TH−PMD、サーマル
ヘッドの抵抗値1204Ω)を使用し、印字電圧22
V、パルス幅0.95ミリ秒の条件で発色させ、画像の
光学濃度をマクベス反射濃度計RD−514〔フィルタ
ーBW(ラッテン#106)を装着〕を使用して測定し
た。その結果を第1表に示した。
光学濃度が高いことを示している。即ち、本発明の記録
材料は発色感度が優れていることを示している。実施例
1〜5の感熱紙は白色度も良好であった。
の発色面に、塩化ビニルラップフィルムを密着させ、温
度40℃で16時間放置し、耐可塑剤性試験を行なっ
た。それぞれ試験前後の画像の光学濃度をマクベス反射
濃度計RD−514〔フィルターBW(ラッテン#10
6)を装着〕を使用して測定した。その結果を第2表に
示した。なお、画像は感熱紙発色試験装置(大倉電機
製、TH−PMD、サーマルヘッドの抵抗値1204
Ω)を使用して印字電圧22V、パルス幅1.8ミリ秒
の条件で発色させた。
試験例2と同様にして発色させ、この発色画像を、サラ
ダ油に浸漬したまま、25℃で24時間放置し、耐油性
試験を行なった。それぞれ試験前後の画像の光学濃度を
マクベス反射濃度計RD−514〔フィルターBW(ラ
ッテン#106)を装着〕を使用して測定した。その結
果を第2表に示した。
光学濃度が高いことを示している。即ち、本発明の記録
材料は耐可塑剤性及び耐油性が優れていることを示して
いる。
つ画像の保存性、特に耐油、耐可塑剤性が優れている。
Claims (4)
- 【請求項1】 発色性染料を含有する記録材料におい
て、一般式(I) 【化1】 〔式中、X及びYは各々相異なってもよく直鎖または分
枝を有してもよい炭素数1〜12の飽和、不飽和あるい
はエーテル結合を有してもよい炭化水素基を表し、また
は、 【化2】 (R7 はメチレン基またはエチレン基を表し、Tは水素
原子、C1 〜C4 のアルキル基を表す。)を表す。R1
〜R6 はそれぞれ独立にハロゲン原子、C1 〜C6 のア
ルキル基、アルケニル基を示す。またm,n,p,q,
r,tは0〜4までの整数を表し、2以上の時はR1 〜
R6 は、それぞれ異なっていてもよい。aは0、1また
は2の整数を表す。〕で表されるジフェニルスルホン架
橋型化合物の少なくとも一種と、一般式(II)または一
般式(III) 【化3】 (式中、Rは直鎖または分岐を有してもよい炭素数1〜
12の飽和あるいは不飽和炭化水素基、またはアラルキ
ル基を表す。) 【化4】 (式中、Zは直鎖または分岐を有してもよい炭素数1〜
12の飽和、不飽和あるいはエーテル結合を有してもよ
い炭化水素基を表す。)で表されるフェノール化合物の
少なくとも一種を含有することを特徴とする記録材料。 - 【請求項2】 発色性染料を含有する記録材料におい
て、一般式(I)のaが0であるジフェニルスルホン架
橋型化合物の一種または二種以上及び一般式(I)のa
が1または2であるジフェニルスルホン架橋型化合物の
一種または二種以上と、一般式(II)または一般式(II
I)で表されるフェノール化合物の一種または二種以上と
を含有することを特徴とする記録材料。 - 【請求項3】 一般式(I)のaが0であるジフェニル
スルホン架橋型化合物100重量部に対して、一般式
(I)のaが1または2であるジフェニルスルホン架橋
型化合物が0.05〜100重量部であることを特徴と
する請求項2記載の記録材料。 - 【請求項4】 一般式(I)で表されるジフェニルスル
ホン架橋型化合物100重量部に対して、一般式(II)
または一般式(III)で表されるフェノール化合物が10
〜500重量部であることを特徴とする請求項1、2ま
たは3記載の記録材料。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17726896A JP3743987B2 (ja) | 1996-06-18 | 1996-06-18 | 発色性記録材料 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17726896A JP3743987B2 (ja) | 1996-06-18 | 1996-06-18 | 発色性記録材料 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10862A true JPH10862A (ja) | 1998-01-06 |
| JP3743987B2 JP3743987B2 (ja) | 2006-02-08 |
Family
ID=16028091
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17726896A Expired - Lifetime JP3743987B2 (ja) | 1996-06-18 | 1996-06-18 | 発色性記録材料 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3743987B2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2003059640A1 (fr) * | 2002-01-17 | 2003-07-24 | Nippon Paper Industries Co., Ltd. | Support pour thermogravure |
| US6960553B2 (en) | 1999-03-17 | 2005-11-01 | Mitsubishi Paper Mills Ltd. | Heat-sensitive recording material |
| AU2009245244B2 (en) * | 2008-05-07 | 2011-10-27 | Nippon Soda Co., Ltd. | Color-developing compositions and recording material containing same |
-
1996
- 1996-06-18 JP JP17726896A patent/JP3743987B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6960553B2 (en) | 1999-03-17 | 2005-11-01 | Mitsubishi Paper Mills Ltd. | Heat-sensitive recording material |
| WO2003059640A1 (fr) * | 2002-01-17 | 2003-07-24 | Nippon Paper Industries Co., Ltd. | Support pour thermogravure |
| US7081435B2 (en) | 2002-01-17 | 2006-07-25 | Nippon Paper Industries Co., Ltd. | Thermal recording medium |
| AU2009245244B2 (en) * | 2008-05-07 | 2011-10-27 | Nippon Soda Co., Ltd. | Color-developing compositions and recording material containing same |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3743987B2 (ja) | 2006-02-08 |
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