JPH1087810A - 光硬化性樹脂組成物および樹脂製型の製造方法 - Google Patents

光硬化性樹脂組成物および樹脂製型の製造方法

Info

Publication number
JPH1087810A
JPH1087810A JP8250584A JP25058496A JPH1087810A JP H1087810 A JPH1087810 A JP H1087810A JP 8250584 A JP8250584 A JP 8250584A JP 25058496 A JP25058496 A JP 25058496A JP H1087810 A JPH1087810 A JP H1087810A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
resin composition
meth
acrylate
component
resin
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP8250584A
Other languages
English (en)
Other versions
JP3820289B2 (ja
Inventor
Takeshi Watanabe
毅 渡辺
Yuichi Haruta
裕一 春田
Hideaki Takase
英明 高瀬
Takashi Ukaji
孝志 宇加地
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
JSR Corp
Japan Fine Coatings Co Ltd
Original Assignee
Japan Fine Coatings Co Ltd
Japan Synthetic Rubber Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Japan Fine Coatings Co Ltd, Japan Synthetic Rubber Co Ltd filed Critical Japan Fine Coatings Co Ltd
Priority to JP25058496A priority Critical patent/JP3820289B2/ja
Priority to EP19970202886 priority patent/EP0831373B1/en
Priority to DE1997627274 priority patent/DE69727274T2/de
Publication of JPH1087810A publication Critical patent/JPH1087810A/ja
Priority to US09/905,203 priority patent/US20020045126A1/en
Application granted granted Critical
Publication of JP3820289B2 publication Critical patent/JP3820289B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/0037—Production of three-dimensional images
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/038—Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Epoxy Resins (AREA)
  • Polymerisation Methods In General (AREA)
  • Moulds For Moulding Plastics Or The Like (AREA)
  • Polyethers (AREA)
  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 機械的強度が高くて耐熱性に優れた硬化物を
形成することができ、光硬化性材料として好適な光硬化
性樹脂組成物の提供。寸法精度が高く、繰り返し耐久性
に優れた樹脂製型を容易に製造することができる方法の
提供。 【解決手段】 本発明の樹脂組成物は、(A)シクロヘ
キセンオキサイド構造を有する化合物、(B)カチオン
性光重合開始剤、(C)エチレン性不飽和モノマー、
(D)ラジカル性光重合開始剤および(E)球状のシリ
カ粒子を含有してなり、これを硬化して得られる硬化物
の熱変形温度が100℃以上であることを特徴とする。
本発明の樹脂製型の製造方法は、前記樹脂組成物を用い
て実行される。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、光硬化性樹脂組成
物およびこれを使用した光造形法により樹脂製型を製造
する方法に関する。
【0002】
【従来の技術】近年、光硬化性材料に選択的に光照射し
て硬化樹脂層を形成する工程を繰り返すことにより、硬
化樹脂層が一体的に積層されてなる立体形状物を形成す
る光造形法が提案されている〔特開昭60−24751
5号公報、米国特許明細書第4,575,330号(特
開昭62−35966号公報)、特開昭62−1014
08号公報、特開平5−24119号公報参照〕。この
光造形法は、目的とする立体形状物の形状が複雑なもの
であっても、容易にしかも短時間で得ることができるた
め注目されている。
【0003】かかる光造形法の代表的な例を説明する
と、液状の光硬化性樹脂組成物の薄層を形成し、この薄
層に例えば紫外線レーザーによって選択的に光を照射す
ることによって硬化樹脂層を形成する。次いで、この硬
化樹脂層の上に、一層分の光硬化性樹脂組成物を供給し
てその薄層を形成し、当該薄層に選択的に光を照射する
ことにより、先行して形成された硬化樹脂層上にこれと
連続するよう新しい硬化樹脂層を一体的に積層形成す
る。そして、光が照射されるパターンを変化させながら
あるいは変化させずに上記の工程を所定回数繰り返すこ
とにより、複数の硬化性樹脂が一体的に積層されてなる
立体形状物が形成される。
【0004】そして、光造形法に用いられる光硬化性樹
脂組成物においては、粘度が低いこと、光照射されるこ
とによって迅速に硬化されること、硬化物が光硬化性樹
脂組成物によって膨潤しないこと、光硬化時の硬化収縮
に起因する反り、引け、張出部(オーバーハング部)の
持ち上がり等の変形量が小さいこと、硬化物の寸法精度
が高く、複雑で微細な形状を有する硬化物であっても造
形が可能であること等が要求される。
【0005】従来、光造形法により得られる立体形状物
は、デザインモデル、医療用モデルさらには樹脂成形用
型のマスターモデル等に用いられている。そして、最近
においては、コネクター、プラグ等の実装部品、ヒー
タ、モータ、エンジン等のテスト用の組み込み部品等
を、光造形法によって直接製造する試みがなされてい
る。このような部品においては、高い寸法精度は勿論の
こと、使用条件に耐え得る十分な機械的強度および耐熱
性が要求される。しかしながら、従来の光硬化性樹脂組
成物を用いた光造形法では、機械的強度が高く、耐熱性
の高い硬化物が得られず、実装部品や組み込み部品とし
て実用上十分な機械的強度および耐熱性を兼ね備えた立
体形状物を製造することは困難である。
【0006】一方、射出成形法、プレス成形法、真空成
形法、圧空成形法、発泡成形法、パルプモールド成形法
等の各種成形法に用いる「型」を、光造形法によって製
造する試みがなされている。
【0007】しかしながら、従来公知の光硬化性樹脂組
成物を用いて光造形を行う場合において、得られる光造
形物は「型」に要求される機械的強度、耐圧性および耐
熱性を有するものとはならない。特に、高温、高圧条件
下に実行されるエンジニアリングプラスチックの射出成
形法において、当該条件に耐え得る光造形物(型)を与
える樹脂組成物は知られておらず、このため、繰り返し
耐久性に優れた樹脂製型を光造形法によって造形するこ
とは困難であった。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、以上のよう
な事情に基づいてなされたものであって、その目的は、
機械的強度が高くて耐熱性に優れた硬化物を形成するこ
とができ、光造形法に用いる光硬化性材料として好適な
光硬化性樹脂組成物を提供することにある。本発明の他
の目的は、寸法精度の高い成形品を得ることができ、繰
り返し耐久性に優れた樹脂製型を容易に製造することが
できる樹脂製型の製造方法を提供することにある。
【0009】
【課題を解決するための手段】本発明の光硬化性樹脂組
成物は、(A)シクロヘキセンオキサイド構造を有する
化合物、(B)カチオン性光重合開始剤、(C)エチレ
ン性不飽和モノマー、(D)ラジカル性光重合開始剤、
および(E)球状のシリカ粒子を含有してなり、これを
硬化して得られる硬化物の熱変形温度が100℃以上で
あることを特徴とする。
【0010】本発明の樹脂製型の製造方法は、光硬化性
材料に選択的に光照射して硬化樹脂層を形成する工程を
繰り返すことにより、複数の硬化樹脂層が一体的に積層
されてなる樹脂製型を製造する方法において、光硬化性
材料として、前記光硬化性樹脂組成物を用いることを特
徴とする。
【0011】
【発明の実施の形態】以下、本発明について詳細に説明
する。本発明の光硬化性樹脂組成物は、シクロヘキセン
オキサイド構造を有する化合物よりなる(A)成分と、
カチオン性光重合開始剤よりなる(B)成分と、エチレ
ン性不飽和モノマーよりなる(C)成分と、ラジカル性
光重合開始剤よりなる(D)成分と、球状のシリカ粒子
よりなる(E)成分とを必須成分として含有してなるも
のである。
【0012】<(A)成分>(A)成分を構成するシク
ロヘキセンオキサイド構造を有する化合物は、カチオン
性光重合開始剤の存在下で光照射されることにより重合
反応や架橋反応を起こすカチオン重合性有機化合物であ
る。かかるシクロヘキセンオキサイド構造を有する化合
物としては、例えば3,4−エポキシシクロヘキシルメ
チル−3’,4’−エポキシシクロヘキサンカルボキシ
レート、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル−5,
5−スピロ−3,4−エポキシ)シクロヘキサン−メタ
−ジオキサン、ビス(3,4−エポキシシクロヘキシル
メチル)アジペート、ビニルシクロヘキセンオキサイ
ド、4−ビニルエポキシシクロヘキサン、ビス(3,4
−エポキシ−6−メチルシクロヘキシルメチル)アジペ
ート、3,4−エポキシ−6−メチルシクロヘキシル−
3’,4’−エポキシ−6’−メチルシクロヘキサンカ
ルボキシレート、メチレンビス(3,4−エポキシシク
ロヘキサン)、ジシクロペンタジエンジエポキサイド、
エチレングリコールのジ(3,4−エポキシシクロヘキ
シルメチル)エーテル、エチレンビス(3,4−エポキ
シシクロヘキサンカルボキシレート)、ラクトン変性
3,4−エポキシシクロヘキシルメチル−3’,4’−
エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、エポキシ化
テトラベンジルアルコール、ラクトン変性エポキシ化テ
トラヒドロベンジルアルコール、シクロヘキセンオキサ
イドなどを挙げることができ、これらの化合物は、単独
でまたは2種以上のものを組み合わせて(A)成分とし
て用いることができる。
【0013】これらのうち、(A)成分として特に好ま
しいシクロヘキセンオキサイド構造を有する化合物は、
3,4−エポキシシクロヘキシルメチル−3’,4’−
エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、ビス(3,
4−エポキシシクロヘキシルメチル)アジペートなどの
1分子中に2個以上の脂環式エポキシ基を有するエポキ
シ化合物である。このようなエポキシ化合物が(A)成
分中に50〜100重量%の割合で含有されている場合
には、得られる樹脂組成物のカチオン重合反応速度(硬
化速度)が大きくなって造形時間の短縮化を図ることが
できると共に、硬化収縮率が小さくなって立体形状物の
経時的変形を抑制することができる。
【0014】シクロヘキセンオキサイド構造を有する化
合物の市販品としては、UVR−6100、UVR−6
105、UVR−6110、UVR−6128、UVR
−6200(以上、ユニオンカーバイド社製)、セロキ
サイド2021、セロキサイド2021P、セロキサイ
ド2081、セロキサイド2083、セロキサイド20
85、セロキサイド2000、セロキサイド3000、
サイクロマーA200、サイクロマーM100、サイク
ロマーM101、エポリードGT−301、エポリード
GT−302、エポリード401、エポリード403、
ETHB、エポリードHD300(以上、ダイセル化学
工業株式会社製)、KRM−2110、KRM−219
9(以上、旭電化工業株式会社製)などを挙げることが
できる。
【0015】本発明の光硬化性樹脂組成物における
(A)成分の含有割合は、通常5〜60重量%とされ、
好ましくは10〜50重量%、更に好ましくは15〜4
0重量%とされる。(A)成分の含有割合が過小である
場合には、得られる樹脂組成物の光硬化性が低下して造
形効率の低下を招くことがある。一方、(A)成分の含
有割合が過大である場合には、得られる立体形状物の靭
性が低下すると共に型としての耐久性が低下する傾向に
ある。
【0016】<(B)成分>(B)成分を構成するカチ
オン性光重合開始剤は、光などのエネルギー線を受ける
ことによって、前記(A)成分のカチオン重合を開始さ
せる物質を放出することができる化合物である。このよ
うなカチオン性光重合開始剤としては、下記一般式
(1)で表される構造を有するオニウム塩を好適に用い
ることができる。このオニウム塩は、光を受けることに
よりルイス酸を放出する化合物である。
【0017】
【化1】 一般式(1) 〔R1 a R2 b R3 c R4 d Z〕+m〔MXn+m 〕-m
【0018】〔式中、カチオンはオニウムであり、Zは
S、Se、Te、P、As、Sb、Bi、O、I、B
r、ClまたはN≡Nであり、R1 、R2 、R3 および
R4 は同一または異なる有機基である。a、b、c、d
は、それぞれ0〜3の整数であって(a+b+c+d)
は、Zの価数に等しい。Mは、ハロゲン化物錯体の中心
原子を構成する金属またはメタロイドであり、例えば
B、P、As、Sb、Fe、Sn、Bi、Al、Ca、
In、Ti、Zn、Sc、V、Cr、Mn、Coなどで
ある。Xはハロゲン原子である。mはハロゲン化物錯体
イオンの正味の電荷であり、nはハロゲン化物錯体イオ
ン中の原子の数である。〕
【0019】上記一般式(1)中における陰イオン(M
Xn+m )の具体例としては、テトラフルオロボレート
(BF4 - )、ヘキサフルオロホスフェート(P
F6 - )、ヘキサフルオロアンチモネート(Sb
F6 - )、ヘキサフルオロアルセネート(As
F6 - )、ヘキサクロロアンチモネート(SbC
l6 - )などが挙げられる。
【0020】また、カチオン性光重合開始剤としては、
一般式〔MXn (OH)- 〕で表される陰イオンを有す
るオニウム塩を用いることができ、さらに、過塩素酸イ
オン(ClO4 - )、トリフルオロメタンスルフォン酸
イオン(CF3 SO3-)、フルオロスルフォン酸イオン
(FSO3 - )、トルエンスルフォン酸イオン、トリニ
トロベンゼンスルフォン酸陰イオン、トリニトロトルエ
ンスルフォン酸陰イオンなどの他の陰イオンを有するオ
ニウム塩を用いることもできる。これらのカチオン性光
重合開始剤は、単独でまたは2種以上のものを組み合わ
せて(B)成分として用いることができる。
【0021】このようなオニウム塩のうち、(B)成分
として特に有効なオニウム塩は芳香族オニウム塩であ
る。中でも、特開昭50−151996号公報、特開昭
50−158680号公報などに記載の芳香族ハロニウ
ム塩、特開昭50−151997号公報、特開昭52−
30899号公報、特開昭56−55420号公報、特
開昭55−125105号公報などに記載のVIA族芳
香族オニウム塩、特開昭50−158698号公報など
に記載のVA族芳香族オニウム塩、特開昭56−842
8号公報、特開昭56−149402号公報、特開昭5
7−192429号公報などに記載のオキソスルホキソ
ニウム塩、特開昭49−17040号公報などに記載の
芳香族ジアゾニウム塩、米国特許第4,139,655
号明細書に記載のチオビリリウム塩などが好ましい。ま
た、鉄/アレン錯体、アルミニウム錯体/光分解ケイ素
化合物系開始剤なども挙げることができる。
【0022】カチオン性光重合開始剤の市販品として
は、UVI−6950、UVI−6970、UVI−6
974、UVI−6990(以上、ユニオンカーバイド
社製)、アデカオプトマーSP−150、SP−15
1、SP−170、SP−171(以上、旭電化工業株
式会社製)、Irgacure 261(以上、チバガ
イギー社製)、CI−2481、CI−2624、CI
−2639、CI−2064(以上、日本曹達株式会社
製)、CD−1010、CD−1011、CD−101
2(以上、サートマー社製)、DTS−102、DTS
−103、NAT−103、NDS−103、TPS−
103、MDS−103、MPI−103、BBI−1
03(以上、みどり化学株式会社製)などを挙げること
ができる。これらのうち、UVI−6970、UVI−
6974、アデカオプトマーSP−170、SP−17
1、CD−1012、MPI−103は、これらを含有
してなる樹脂組成物に高い硬化感度を発現させることが
できることから特に好ましい。
【0023】本発明の光硬化性樹脂組成物における
(B)成分の含有割合は、通常0.1〜10重量%とさ
れ、好ましくは0.2〜5重量%、更に好ましくは0.
3〜3重量%とされる。(B)成分の含有割合が過小で
ある場合には、得られる樹脂組成物の光硬化性が低下
し、十分な機械的強度を有する立体形状物を造形するこ
とが困難となることがある。一方、(B)成分の含有割
合が過大である場合には、得られる樹脂組成物を光造形
法に供する場合に、適当な光透過性(硬化深さ)を得る
ことができず、得られる立体形状物について、靭性など
の機械的強度が低下する傾向がある。
【0024】<(C)成分>(C)成分を構成するエチ
レン性不飽和モノマーは、エチレン性不飽和結合(C=
C)を分子中に有する化合物であり、1分子中に1個の
エチレン性不飽和結合を有する単官能性モノマー、およ
び1分子中に2個以上のエチレン性不飽和結合を有する
多官能性モノマーを挙げることができる。
【0025】(C)成分として好適に用いられる上記単
官能性モノマーとしては、例えばアクリルアミド、(メ
タ)アクリロイルモルホリン、7−アミノ−3,7−ジ
メチルオクチル(メタ)アクリレート、イソブトキシメ
チル(メタ)アクリルアミド、イソボルニルオキシエチ
ル(メタ)アクリレート、イソボルニル(メタ)アクリ
レート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、エ
チルジエチレングリコール(メタ)アクリレート、t−
オクチル(メタ)アクリルアミド、ジアセトン(メタ)
アクリルアミド、ジメチルアミノエチル(メタ)アクリ
レート、ジエチルアミノエチル(メタ)アクリレート、
ラウリル(メタ)アクリレート、ジシクロペンタジエン
(メタ)アクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチ
ル(メタ)アクリレート、ジシクロペンテニル(メタ)
アクリレート、N,N−ジメチル(メタ)アクリルアミ
ドテトラクロロフェニル(メタ)アクリレート、2−テ
トラクロロフェノキシエチル(メタ)アクリレート、テ
トラヒドロフルフリル(メタ)アクリレート、テトラブ
ロモフェニル(メタ)アクリレート、2−テトラブロモ
フェノキシエチル(メタ)アクリレート、2−トリクロ
ロフェノキシエチル(メタ)アクリレート、トリブロモ
フェニル(メタ)アクリレート、2−トリブロモフェノ
キシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシエチ
ル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メ
タ)アクリレート、ビニルカプロラクタム、N−ビニル
ピロリドン、フェノキシエチル(メタ)アクリレート、
ブトキシエチル(メタ)アクリレート、ペンタクロロフ
ェニル(メタ)アクリレート、ペンタブロモフェニル
(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールモノ
(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ
(メタ)アクリレート、ボルニル(メタ)アクリレー
ト、メチルトリエチレンジグリコール(メタ)アクリレ
ート、および下記一般式(2)〜一般式(4)で表され
る化合物を挙げることができる。
【0026】
【化2】
【0027】(式中、R5 は水素原子またはメチル基を
示し、R6 は炭素数2〜6、好ましくは2〜4のアルキ
レン基を示し、R7 は水素原子または炭素数1〜12、
好ましくは1〜9のアルキル基を示し、R8 は炭素数2
〜8、好ましくは2〜5のアルキレン基を示す。rは0
〜12、好ましくは1〜8の整数であり、qは1〜8、
好ましくは1〜4の整数である。)
【0028】これらの単官能性モノマーうち、イソボル
ニル(メタ)アクリレート、ラウリル(メタ)アクリレ
ート、フェノキシエチル(メタ)アクリレートが特に好
ましい。
【0029】このような単官能性モノマーの市販品とし
ては、例えばアローニクスM−101、M−102、M
−111、M−113、M−117、M−152、TO
−1210(以上、東亞合成株式会社製)、KAYAR
AD TC−110S、R−564、R−128H(以
上、日本化薬株式会社)、ビスコート192、ビスコー
ト220、ビスコート2311HP、ビスコート200
0、ビスコート2100、ビスコート2150、ビスコ
ート8F、ビスコート17F(以上、大阪有機化学工業
株式会社製)などを挙げることができる。
【0030】(C)成分として好適に用いられる上記多
官能性モノマーとしては、例えばエチレングリコールジ
(メタ)アクリレート、ジシクロペンテニルジ(メタ)
アクリレート、トリエチレングリコールジアクリレー
ト、テトラエチレングリコールジ(メタ)アクリレー
ト、トリシクロデカンジイルジメチレンジ(メタ)アク
リレート、トリス(2−ヒドロキシエチル)イソシアヌ
レートジ(メタ)アクリレート、トリプロピレングリコ
ールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコール
ジ(メタ)アクリレート、ビスフェノールAジグリシジ
ルエーテルの両末端(メタ)アクリル酸付加物、1,4
−ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、1,6−ヘ
キサンジオールジ(メタ)アクリレート、ポリエステル
ジ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールジ
(メタ)アクリレート、エチレンオキシド(以下「E
O」とも略記する。)変性ビスフェノールAジ(メタ)
アクリレート、プロピレンオキシド(以下「PO」とも
略記する。)変性ビスフェノールAジ(メタ)アクリレ
ート、EO変性水添ビスフェノールAジ(メタ)アクリ
レート、PO変性水添ビスフェノールAジ(メタ)アク
リレート、EO変性ビスフェノールFジ(メタ)アクリ
レート等のジ(メタ)アクリレート化合物;トリス(2
−ヒドロキシエチル)イソシアヌレートトリ(メタ)ア
クリレート、カプロラクトン変性トリス(2−ヒドロキ
シエチル)イソシアヌレートトリ(メタ)アクリレー
ト、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレー
ト、EO変性トリメチロールプロパントリ(メタ)アク
リレート、PO変性トリメチロールプロパントリ(メ
タ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)
アクリレート等のトリ(メタ)アクリレート化合物;ペ
ンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペ
ンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジト
リメチロールプロパンテトラ(メタ)アクリレート等の
テトラ(メタ)アクリレート化合物;ジペンタエリスリ
トールペンタ(メタ)アクリレート、カプロラクトン変
性ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート
等のペンタ(メタ)アクリレート化合物;ジペンタエリ
スリトールヘキサ(メタ)アクリレート、カプロラクト
ン変性ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレ
ート等のヘキサ(メタ)アクリレート化合物;フェノー
ルノボラックポリグリシジルエーテルの(メタ)アクリ
レートなどを挙げることができる。
【0031】このような多官能性モノマーの市販品とし
ては、例えばSA1002(以上、三菱化学株式会社
製)、ビスコート195、ビスコート230、ビスコー
ト260、ビスコート215、ビスコート310、ビス
コート214HP、ビスコート295、ビスコート30
0、ビスコート360、ビスコートGPT、ビスコート
400、ビスコート700、ビスコート540、ビスコ
ート3000、ビスコート3700(以上、大阪有機化
学工業株式会社製)、カヤラッドR−526、HDD
A、NPGDA、TPGDA、MANDA、R−55
1、R−712、R−604、R−684、PET−3
0、GPO−303、TMPTA、THE−330、D
PHA、DPHA−2H、DPHA−2C、DPHA−
2I、D−310、D−330、DPCA−20、DP
CA−30、DPCA−60、DPCA−120、DN
−0075、DN−2475、T−1420、T−20
20、T−2040、TPA−320、TPA−33
0、RP−1040、RP−2040、R−011、R
−300、R−205(以上、日本化薬株式会社製)、
アロニックスM−210、M−220、M−233、M
−240、M−215、M−305、M−309、M−
310、M−315、M−325、M−400、M−6
200、M−6400(以上、東亞合成株式会社製)、
ライトアクリレートBP−4EA、BP−4PA、BP
−2EA、BP−2PA、DCP−A(以上、共栄社油
脂化学工業株式会社製)、ニューフロンティアBPE−
4、TEICA、BR−42M、GX−8345(以
上、第一工業製薬株式会社製)、ASF−400(以
上、新日鐵化学株式会社製)、リポキシSP−150
6、SP−1507、SP−1509、VR−77、S
P−4010、SP−4060(以上、昭和高分子株式
会社製)、NKエステルA−BPE−4(以上、新中村
化学工業株式会社製)などを挙げることができる。
【0032】上記の単官能性モノマーおよび多官能性モ
ノマーは、単独でまたは2種以上のものを組み合わせて
(C)成分として用いることができるが、本発明におい
ては、(C)成分の一部または全部として、1分子中に
3個以上のエチレン性不飽和結合を有する3官能以上の
多官能性モノマーを用いることが好ましい。このような
3官能以上の多官能性モノマーの(C)成分に占める割
合は、好ましくは、60重量%、より好ましくは80重
量%以上、特に好ましくは100重量%である。(C)
成分中に占める3官能以上の多官能性モノマーの割合が
60重量%未満の場合には、得られる樹脂組成物の光硬
化性が低下すると共に、造形される立体形状物の経時的
変形が生じやすくなることがある。
【0033】かかる3官能以上の多官能性モノマーとし
ては、上述の多官能性モノマーとして例示した化合物の
うち、トリ(メタ)アクリレート化合物、テトラ(メ
タ)アクリレート化合物、ペンタ(メタ)アクリレート
化合物、ヘキサ(メタ)アクリレート化合物の中から選
択することができ、これらのうち、トリメチロールプロ
パントリ(メタ)アクリレート、EO変性トリメチロー
ルプロパントリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリス
リトールヘキサ(メタ)アクリレート、ジペンタエリス
リトールペンタ(メタ)アクリレート、ジトリメチロー
ルプロパンテトラ(メタ)アクリレートが特に好まし
い。
【0034】本発明の光硬化性樹脂組成物における
(C)成分の含有割合は、通常1〜30重量%とされ、
好ましくは2〜20重量%、更に好ましくは3〜15重
量%とされる。(C)成分の含有割合が過小である場合
には、得られる樹脂組成物の光硬化性が低下し、十分な
機械的強度を有する立体形状物を造形することが困難と
なることがある。一方、(C)成分の含有割合が過大で
ある場合には、得られる樹脂組成物が光硬化により収縮
しやすいものとなり、また、得られる立体形状物につい
て、靭性などの機械的強度が低下する傾向がある。
【0035】<(D)成分>(D)成分を構成するラジ
カル性光重合開始剤は、光などのエネルギー線を受ける
ことにより分解してラジカルを発生し、当該ラジカルに
よって(C)成分のラジカル重合反応を開始させる化合
物である。
【0036】(D)成分として用いられるラジカル性光
重合開始剤の具体例としては、例えばアセトフェノン、
アセトフェノンベンジルケタール、アントラキノン、1
−(4−イソプロピルフェニル)−2−ヒドロキシ−2
−メチルプロパン−1−オン、カルバゾール、キサント
ン、4−クロロベンゾフェノン、4,4’−ジアミノベ
ンゾフェノン、1,1−ジメトキシデオキシベンゾイ
ン、3,3’−ジメチル−4−メトキシベンゾフェノ
ン、チオキサントン系化合物、2−メチル−1−[4−
(メチルチオ)フェニル]−2−モルフォリノ−プロパ
ン−2−オン、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1
−(4−モルフォリノフェニル)−ブタン−1−オン、
トリフェニルアミン、2,4,6−トリメチルベンゾイ
ルジフェニルホスフィンオキサイド、ビス(2,6−ジ
メトキシベンゾイル)−2,4,4−トリ−メチルペン
チルフォスフィンオキサイド、ベンジルジメチルケター
ル、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2
−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1
−オン、フルオレノン、フルオレン、ベンズアルデヒ
ド、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインプロピルエ
ーテル、ベンゾフェノン、ミヒラーケトン、3−メチル
アセトフェノン、3,3’,4,4’−テトラ(t−ブ
チルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノン(BTT
B)、およびBTTBとキサンテン、チオキサンテン、
クマリン、ケトクマリンその他の色素増感剤との組み合
わせなどを挙げることができ、これらは、単独でまたは
2種以上のものを組み合わせて(D)成分として用いる
ことができる。これらのうち、ベンジルジメチルケター
ル、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、
2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィ
ンオキサイド、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1
−(4−モルフォリノフェニル)−ブタン−1−オンな
どが特に好ましい。
【0037】本発明の光硬化性樹脂組成物における
(D)成分の含有割合は、通常0.01〜8重量%とさ
れ、好ましくは0.1〜5重量%とされる。(D)成分
の含有割合が過小である場合には、得られる樹脂組成物
のラジカル重合反応速度(硬化速度)が小さくなって造
形に時間を要したり、解像度が低下したりする傾向があ
る。一方、(D)成分の含有割合が過大である場合に
は、過剰量の重合開始剤が樹脂組成物の硬化特性、立体
形状物の物性、耐熱性、取扱性などに悪影響を及ぼすこ
とがある。
【0038】<(E)成分>本発明においては、光硬化
性樹脂組成物を構成する充填材として球状のシリカ粒子
〔(E)成分〕を使用する点に特徴を有する。(E)成
分を構成する球状のシリカ粒子によれば、これを含有す
る樹脂組成物の光硬化性および造形性を損なうことな
く、硬化物の機械的特性および耐熱性、並びに当該硬化
物により構成される樹脂製型の耐久性を向上させること
ができる。
【0039】すなわち、シリカ粒子であることによ
り、これを含有する樹脂組成物の硬化物において優れた
機械的特性および耐熱性が発現される。また、 当該
シリカ粒子が球状のものであるので、これを含有する樹
脂組成物の流動性が向上し、光造形の際に平滑性に優れ
た積層面を形成することができると共に、不定形の粒子
を使用する場合に生じやすい造形物内における未硬化樹
脂の残留現象などが生じることはない。従って、球状の
シリカ粒子を含有する樹脂組成物を用いて「型」を造形
することにより、得られる「型」は、高い寸法精度およ
び優れた耐久性を兼ね備えたものとなる。
【0040】本発明において、「球状のシリカ粒子」と
は、真球度の平均値(以下「平均真球度」ともいう。)
が0.9以上のものをいう。ここで、真球度とは、球
(円)形度とも称され、次の式で定義されるものをい
い、粒子の投影像が真円である場合の真球度は1とな
る。
【0041】
【数1】
【0042】〔式中、Sp は粒子の投影面積、cは粒子
の投影像の周長、dpaは、粒子の投影面積(Sp )と同
一面積を有する円の直径、dpcは、粒子の投影像の周長
(c)と同一周長を有する円の直径を示す。〕
【0043】この真球度は、走査型電子顕微鏡(SE
M)を用いて撮影された電子顕微鏡写真を画像解析装置
を用いて解析処理することにより測定することができ
る。また、平均真球度は、前記電子顕微鏡写真中におい
て任意に選ばれた例えば100個の粒子について、真球
度の平均値を求めることにより算出することができる。
(E)成分を構成するシリカ粒子の平均真球度は0.9
2以上であることが好ましく、更に好ましくは0.95
以上とされる。
【0044】かかる球状のシリカ粒子としては、アルカ
リ金属等の不純物含有量の少ない酸化ケイ素を主成分と
するものを用いることができる。球状のシリカ粒子の平
均粒子径は1〜50μmであることが好ましく、更に好
ましくは2〜30μmとされる。この平均粒子径が過小
である場合には、得られる樹脂組成物の粘度が過大とな
ると共に寸法精度の高い硬化物を得ることが困難となる
ことがある。一方、この平均粒子径が過大となる場合に
は、得られる樹脂組成物によって平滑な表面を有する硬
化物を得ることが困難となる。
【0045】(E)成分として用いられる球状のシリカ
粒子は、シランカップリング剤により表面処理されたも
のであってもよい。球状のシリカ粒子の表面処理剤とし
て用いられるシランカップリング剤としては、ビニルト
リクロルシラン、ビニルトリス(βメトキシエトキシ)
シラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリメトキ
シシラン、γ−(メタクリロキシプロピル)トリメトキ
シシラン、β−(3、4−エポキシシクロヘキシル)エ
チルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルト
リメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジ
エトキシシラン、N−β(アミノエチル)γ−アミノプ
ロピルトリメトキシシラン、N−β(アミノエチル)γ
−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ−アミノ
プロピルトリエトキシシラン、N−フェニル−γ−アミ
ノプロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプロピ
ルトリメトキシシラン、γ−クロロプロピルトリメトキ
シシラン等を挙げることができる。
【0046】球状のシリカ粒子の市販品としては、例え
ばサンスフェアNP−100、NP−200(以上、洞
海化学工業株式会社製)、シルスターMK−08、MK
−15(以上、日本化学工業株式会社製)、FB−48
(以上、電気化学工業株式会社製)等が挙げられる。
【0047】本発明の光硬化性樹脂組成物における
(E)成分の含有割合は、40〜80重量%であること
が好ましく、更に好ましくは45〜75重量%とされ
る。(E)成分の含有割合が過小である場合には、高い
機械的強度および優れた耐熱性を有する硬化物を得るこ
とが困難となり、型としての耐久性も低下する傾向があ
る。一方、(E)成分の含有割合が過大となる場合に
は、当該組成物の粘度が高くなる傾向があり、寸法精度
の高い硬化物を得ることが困難となる。
【0048】<任意成分>本発明の光硬化性樹脂組成物
には、その光硬化性を損なわない範囲において、上記の
必須成分〔(A)成分〜(E)成分〕以外の成分を含有
させることができる。かかる任意成分としては、前述の
(A)成分以外のカチオン重合性有機化合物を挙げるこ
とができる。
【0049】このようなカチオン重合性有機化合物とし
ては、エポキシ化合物、オキセタン化合物、オキソラン
化合物、環状アセタール化合物、環状ラクトン化合物、
チイラン化合物、チエタン化合物、ビニルエーテル化合
物、エポキシ化合物とラクトンとの反応生成物であるス
ピロオルソエステル化合物、エチレン性不飽和化合物、
環状エーテル化合物、環状チオエーテル化合物、ビニル
化合物などを用いることができる。
【0050】任意成分として使用することのできるエポ
キシ化合物としては、グリシジルエーテル構造を有する
化合物、脂肪族長鎖二塩基酸のジグリシジルエステル
類、高級脂肪酸のグリシジルエステル類などを例示する
ことができる。グリシジルエーテル構造を有する化合物
の具体例としては、例えばビスフェノールAジグリシジ
ルエーテル、ビスフェノールFジグリシジルエーテル、
ビスフェノールSジグリシジルエーテル、臭素化ビスフ
ェノールAジグリシジルエーテル、臭素化ビスフェノー
ルFジグリシジルエーテル、臭素化ビスフェノールSジ
グリシジルエーテル、水添ビスフェノールAジグリシジ
ルエーテル、水添ビスフェノールFジグリシジルエーテ
ル、水添ビスフェノールADジグリシジルエーテル、エ
ポキシノボラック樹脂、1,4−ブタンジオールジグリ
シジルエーテル、1,6−ヘキサンジオールジグリシジ
ルエーテル、グリセリントリグリシジルエーテル、トリ
メチロールプロパントリグリシジルエーテル、ポリエチ
レングリコールジグリシジルエーテル、ポリプロピレン
グリコールジグリシジルエーテル類;エチレングリコー
ル、プロピレングリコール、グリセリンなどの脂肪族多
価アルコールに1種または2種以上のアルキレンオキサ
イドを付加することにより得られるポリエーテルポリオ
ールのポリグリシジルエーテル類;脂肪族高級アルコー
ルのモノグリシジルエーテル類;フェノール、クレゾー
ル、ブチルフェノールまたはこれらにアルキレンオキサ
イドを付加して得られるポリエーテルアルコールのモノ
グリシジルエーテル類などを挙げることができる。これ
らの化合物は、単独でまたは2種以上のものを組み合わ
せて使用することができる。
【0051】これらエポキシ化合物の市販品としては、
エピコート801、エピコート828、(以上油化シェ
ルエポキシ社製)、PY−306、0163、DY−0
22(以上チバガイギー社製)、KRM−2720、E
P−4000、EP−4080、EP−4900、ED
−505、ED−506(以上旭電化工業株式会社
製)、エポライトM−1230、エポライトEHDG−
L、エポライト40E、エポライト100E、エポライ
ト200E、エポライト400E、エポライト70P、
エポライト200P、エポライト400P、エポライト
1500NP、エポライト1600、エポライト80M
F、エポライト100MF、エポライト4000、エポ
ライト3002、エポライトFR−1500(以上共栄
社化学株式会社製)、サントートST3000、YD−
716、YH−300、PG−202、PG−207、
YD−172、YDPN638(以上東都化成株式会社
製)などを挙げることができる。
【0052】本発明の光硬化性樹脂組成物において、
(A)成分以外のカチオン重合性有機化合物としてエポ
キシ化合物を含有させる場合には、その含有割合は、通
常0〜20重量%とされ、好ましくは2〜18重量%、
更に好ましくは3〜15重量%とされる。エポキシ化合
物の含有割合が過小である場合には、得られる立体成形
物の経時変形が生じやすくなると共に、靭性等の機械的
特性が低下することがある。一方、エポキシ化合物の含
有割合が過大である場合には、得られる樹脂組成物の硬
化性が低下して造形効率の低下を招くことがある。
【0053】任意成分として使用することのできるその
他のカチオン重合性有機化合物の具体例としては、オキ
セタン化合物として、トリメチレンオキシド、3,3−
ジメチルオキセタン、3,3−ジクロロメチルオキセタ
ン、3−エチル−3−フェノキシメチルオキセタン、ビ
ス(3−エチル−3−メチルオキシ)ブタン;オキソラ
ン化合物として、テトラヒドロフラン、2,3−ジメチ
ルテトラヒドロフラン;環状アセタール化合物として、
トリオキサン、1,3−ジオキソラン、1,3,6−ト
リオキサンシクロオクタン;環状ラクトン化合物とし
て、β−プロピオラクトン、ε−カプロラクトン;チイ
ラン化合物として、エチレンスルフィド、1,2−プロ
ピレンスルフィド、チオエピクロロヒドリン;チエタン
化合物として、3,3−ジメチルチエタン;ビニルエー
テル化合物として、エチレングリコールジビニルエーテ
ル、トリエチレングリコールジビニルエーテル、トリメ
チロールプロパントリビニルエーテル;エチレン性不飽
和化合物として、ビニルシクロヘキサン、イソブチレ
ン、ポリブタジエン;上記の各化合物の誘導体などを挙
げることができる。
【0054】また、本発明の光硬化性樹脂組成物には、
カチオン重合性物質の光硬化性、光造形により得られる
立体形状物の形状安定性(経時的変形の抑制性能)およ
び物性安定性(機械的特性の経時的変化の抑制性能)を
発現させるために、任意成分としてポリオールを含有さ
せることができる。このようなポリオールとしては、1
分子中に3〜6個の水酸基を有するものを用いることが
好ましい。1分子中に有する水酸基の数が3個未満であ
るポリオール(ジオール)を使用しても、光硬化性の向
上効果を十分に図ることができず、また、十分な機械的
特性を有する立体形状物が得られないことがある。一
方、1分子中に6個を超えるポリオールを含有させる場
合には、得られる立体形状物の伸びや靭性が低下する傾
向がある。
【0055】かかるポリオールとしては、例えば、トリ
メチロールプロパン、グリセリン、ペンタエリスルトー
ル、ソルビトール、スクロース、クオドロールなどの3
価以上の多価アルコールを、エチレンオキシド、プロピ
レンオキシド、ブチレンオキシド、テトラヒドロフラン
などの環状エーテル化合物で変性することにより得られ
るポリエーテルポリオール、カプロラクトンで変性する
ことにより得られるポリカプロラクトンポリオール、2
塩基酸とジオールからなるポリエステルで変性すること
により得られるポリエステルポリオールを挙げることが
でき、具体的には、EO変性トリメチロールプロパン、
PO変性トリメチロールプロパン、テトラヒドロフラン
変性トリメチロールプロパン、カプロラクトン変性トリ
メチロールプロパン、EO変性グリセリン、PO変性グ
リセリン、テトラヒドロフラン変性グリセリン、カプロ
ラクトン変性グリセリン、EO変性ペンタエリスリトー
ル、PO変性ペンタエリスリトール、テトラヒドロフラ
ン変性ペンタエリスリトール、カプロラクトン変性ペン
タエリスリトール、EO変性ソルビトール、PO変性ソ
ルビトール、カプロラクトン変性ソルビトール、EO変
性スクロース、PO変性スクロース、EO変性スクロー
ス、EO変性クオドールなどを例示することができ、こ
れらのうち、EO変性トリメチロールプロパン、PO変
性トリメチロールプロパン、カプロラクトン変性トリメ
チロールプロパン、PO変性グリセリン、カプロラクト
ン変性グリセリン、PO変性ソルビトールが好ましい。
これらのポリオールは、単独でまたは2種以上のものを
組み合わせて用いることができる。
【0056】また、ポリオールの分子量は、100〜
2,000、特に160〜1,000であることが好ま
しい。分子量が過小なポリオールを用いる場合には、得
られる樹脂組成物によっては、形状安定性および物性安
定性を有する立体形状物を得ることが困難となる。一
方、分子量が過大なポリオールを用いる場合には、得ら
れる樹脂組成物の粘度が過大となり、光造形により得ら
れる立体形状物の機械的強度や耐熱性が低下する傾向が
ある。
【0057】このようなポリオールの市販品としては、
サンニックスTP−400、サンニックスGP−60
0、サンニックスGP−1000、サンニックスSP−
750、サンニックスGP−250、サンニックスGP
−400、サンニックスGP−600(以上、三洋化成
株式会社製)、TMP−3 Glycol、PNT−4
Glycol、EDA−P−4、EDA−P−8(以
上、日本乳化剤株式会社製)、G−300、G−40
0、G−700、T−400、EDP−450、SP−
600、SC−800(以上、旭電化工業株式会社
製)、TONE0301、TONE0305、TONE
0310(以上、ユニオンカーバイド社製)、プラクセ
ル303、プラクセル305、プラクセル308(以
上、ダイセル化学工業株式会社製)などを挙げることが
できる。
【0058】本発明の光硬化性樹脂組成物においてポリ
オールを含有させる場合には、その含有割合は、通常0
〜10重量%とされ、好ましくは1〜5重量%とされ
る。ポリオールの含有割合が過大である場合には、光造
形により得られる立体形状物の機械的強度が低下すると
共に、湿度や水分の影響を受けやすくなる傾向がある。
【0059】その他の任意成分としては、トリエタノー
ルアミン、メチルジエタノールアミン、トリエチルアミ
ン、ジエチルアミンなどのアミン系化合物からなる光増
感剤(重合促進剤);チオキサントン、チオキサントン
の誘導体、アントラキノン、アントラキノンの誘導体、
アントラセン、アントラセンの誘導体、ペリレン、ペリ
レンの誘導体、ベンゾフェノン、ベンゾインイソプロピ
ルエーテルなどからなる光増感剤;ビニルエーテル類、
ビニルスルフィド類、ビニルウレタン類、ウレタンアク
リレート類、ビニルウレア類などの反応性希釈剤;エポ
キシ樹脂、ポリアミド、ポリアミドイミド、ポリウレタ
ン、ポリブタジエン、ポリクロロプレン、ポリエーテ
ル、ポリエステル、スチレン−ブタジエンスチレンブロ
ック共重合体、石油樹脂、キシレン樹脂、ケトン樹脂、
セルロース樹脂、フッ素系オリゴマー、シリコーン系オ
リゴマー、ポリスルフィド系オリゴマーなどのポリマー
ないしオリゴマー;フェノチアジン、2,6−ジ−t−
ブチル−4−メチルフェノール等の重合禁止剤や、その
他重合開始助剤、老化防止剤、レベリング剤、濡れ性改
良剤、界面活性剤、可塑剤、紫外線安定剤、紫外線吸収
剤、シランカップリング剤、無機充填剤、樹脂粒子、顔
料、染料などを挙げることができる。
【0060】本発明の光硬化性樹脂組成物は、上記
(A)成分〜(E)成分および必要に応じて用いられる
任意成分を均一に混合することによって製造することが
できる。このようにして得られる光硬化性樹脂組成物の
粘度(25℃)は、500〜20,000cpsである
ことが好ましく、更に好ましくは1,000〜10,0
00cpsとされる。得られる光硬化性樹脂組成物の粘
度(25℃)が500cps未満である場合には、シリ
カ粒子の沈降速度が速くなり、造形物中におけるシリカ
粒子の分布が不均一となるため、射出成形に十分耐えう
る機械的強度を有する「型」を製造することが困難とな
る。一方、光硬化性樹脂組成物の粘度(25℃)が2
0,000cpsを超えると、平滑な表面を得ることが
難しく、高精度な型を得ることができない、などの問題
が生じる。
【0061】<立体形状物の製造>このようにして得ら
れる本発明の光硬化性樹脂組成物は、光造形法における
光硬化性材料として好適に使用することができる。すな
わち、本発明の光硬化性樹脂組成物に対して、可視光、
紫外光、赤外光等の光を選択的に照射して硬化樹脂層を
形成する工程を繰り返すことにより、硬化樹脂層が一体
的に積層されてなる、所望の形状の立体形状物を製造す
ることができる。
【0062】具体的に説明すると、適宜の支持ステージ
上に光硬化性樹脂組成物を供給してその薄層(1)を形
成し、この薄層(1)に対して選択的に光を照射するこ
とにより、固体状の硬化樹脂層(1)とする。次いで、
この硬化樹脂層(1)上に光硬化性樹脂組成物を供給し
てその薄層(2)を形成し、この薄層(2)に対して選
択的に光照射することにより、前記硬化樹脂層(1)上
にこれと連続して一体的に積層するよう新しい硬化樹脂
層(2)を形成する。そして、光照射されるパターンを
変化させながら或いは変化させずに、この工程を所定回
数繰り返すことにより、複数の硬化樹脂層(n)が一体
的に積層されてなる立体形状物が形成される。
【0063】光硬化性樹脂組成物に光を選択的に照射す
る手段としては、特に制限されるものではなく、種々の
手段を採用することができる。例えば、 レーザー
光、あるいはレンズやミラー等を用いて得られた収束光
を走査させながら組成物に照射する手段、 所定のパ
ターンの光透過部を有するマスクを用い、このマスクを
介して非収束光を組成物に照射する手段、 多数の光
ファイバーが束ねられてなる導光部材を用い、この導光
部材における所定のパターンに対応する光ファイバーを
介して光を組成物に照射する手段等を採用することがで
きる。また、マスクを用いる手段においては、マスクと
して、液晶表示装置と同様の原理により、指定のパター
ンに従って、光透過領域と光不透過領域とよりなるマス
ク像を電気光学的に形成するものを用いることもでき
る。以上において、目的とする立体形状物が微細な形状
を有するものである場合および高い寸法精度が要求され
るものである場合には、組成物に選択的に光を照射する
手段として、レーザー光を走査する手段を採用すること
が好ましい。
【0064】このようにして得られる立体形状物に対し
て、その表面に残存する未反応の光硬化性樹脂組成物の
除去処理を行った後、必要に応じて、洗浄処理を行う。
この洗浄処理においては、洗浄剤として、イソプロピル
アルコールおよびエチルアルコール等のアルコール類、
酢酸エチル等のエステル類、アセトンおよびメチルエチ
ルケトン等のケトン類等に代表される有機溶剤、テルペ
ン類、グリコールエステル類に代表される脂肪族系有機
溶剤、低粘度の熱硬化性樹脂組成物および光硬化性樹脂
組成物を用いることができる。
【0065】また、表面平滑性に優れた立体形状物を得
ようとする場合には、上記の樹脂組成物によって洗浄し
た後、当該樹脂組成物の種類に応じて、熱処理または光
照射処理によるポストキュアを行うことが好ましい。な
お、このポストキュアは、立体形状物の表面に存在する
樹脂組成物を硬化させるだけでなく、内部に残存する未
硬化の樹脂組成物を硬化させることもできるので、有機
溶剤によって洗浄した場合であってもポストキュアを行
うことが好ましい。
【0066】さらに、洗浄処理が施された立体造形物に
ついて、表面強度および耐熱性を向上させる観点から、
熱硬化性または光硬化性のハードコート材を用いて表面
コーティング処理を行うことが好ましい。かかるハード
コート材としては、アクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、
シリコーン系樹脂等よりなる有機コート材および各種の
無機コート材を使用することができ、2種以上のハード
コート材を併用することも可能である。
【0067】以上のようにして得られる立体形状物(本
発明の組成物による硬化物)は、高い寸法精度を有し、
しかも、熱変形温度が100℃以上であって、高温高圧
条件下で使用する「型」に要求される機械的強度および
耐熱性を十分に具備するものである。従って、当該立体
形状物は、射出成形法、プレス成形法、真空成形法、圧
空成形法、発泡成形法、パルプモールド成形法等の各種
成形法に用いる樹脂製型として特に好適である。
【0068】
【実施例】以下、本発明を実施例で説明するが、本発明
はこれら実施例に限定されるものではない。なお、球状
シリカ粒子〔(E)成分〕、不定形シリカ粒子およびガ
ラスビーズにおける平均真球度は、走査型電子顕微鏡
〔日本電子(株)製〕を用いて撮影された電子顕微鏡写
真を画像解析装置を用いて解析処理し、任意に選んだ1
00個の粒子の各々について、その投影面積(Sp )お
よび投影像の周長(c)を測定することにより算出し
た。
【0069】<実施例1〜3>表1に示す配合処方に従
って、(A)成分、(B)成分、(C)成分、(D)成
分および任意成分を攪拌容器内に仕込み、50℃で2時
間攪拌することによって均一な樹脂液を得た。次いで、
この樹脂液と、(E)成分である球状シリカ粒子(平均
真球度:0.97,平均粒子径:10μm)とを混合
し、高速撹拌装置を備えた攪拌容器内に仕込んで、室温
にて10分間撹拌(回転数:3000rpm)すること
により、(E)成分が均一に分散されてなる本発明の光
硬化性樹脂組成物(組成物〔1〕〜組成物〔3〕)を調
製した。上記のようにして調製された本発明の組成物
は、何れも不透明で均一な粘調液体であった。
【0070】<比較例1>表1に示す配合処方に従っ
て、(A)成分、(B)成分、(C)成分、(D)成分
および任意成分を攪拌容器内に仕込み、50℃で2時間
攪拌することによって均一な樹脂液を得た。次いで、こ
の樹脂液と、(E)成分である球状シリカ粒子(平均真
球度:0.97,平均粒子径:10μm)とを混合し、
高速撹拌装置を備えた攪拌容器内に仕込んで、室温にて
10分間撹拌(回転数:3000rpm)することによ
り、(E)成分が均一に分散されてなる比較用の光硬化
性樹脂組成物(組成物〔4〕)を調製した。この比較例
1は、これを硬化して得られる硬化物の熱変形温度が1
00℃未満となる例である。上記のようにして調製され
た比較用の組成物は、不透明で均一な粘調液体であっ
た。
【0071】<比較例2>表1に示す配合処方に従っ
て、(A)成分、(B)成分、(C)成分、(D)成分
および任意成分を攪拌容器内に仕込み、50℃で2時間
攪拌することによって均一な樹脂液を得た。次いで、こ
の樹脂液と、表1に示す割合の不定形シリカ粒子(平均
真球度:0.85,平均粒子径:14μm)とを混合
し、高速撹拌装置を備えた攪拌容器内に仕込んで、室温
にて10分間撹拌(回転数:3000rpm)すること
により、不定形シリカ粒子が均一に分散されてなる比較
用の光硬化性樹脂組成物(組成物〔5〕)を調製した。
この比較例2は、(E)成分の代わりに不定形のシリカ
粒子を使用した例である。上記のようにして調製された
比較用の組成物は、不透明で均一な粘調液体であった。
【0072】<比較例3>表1に示す配合処方に従っ
て、(A)成分、(B)成分、(C)成分、(D)成分
および任意成分を攪拌容器内に仕込み、50℃で2時間
攪拌することによって均一な樹脂液を得た。次いで、こ
の樹脂液と、表1に示す割合のガラスビーズ(平均真球
度:0.97,平均粒子径:17μm)とを混合し、高
速撹拌装置を備えた攪拌容器内に仕込んで、室温にて1
0分間撹拌(回転数:3000rpm)することによ
り、ガラスビーズが均一に分散されてなる比較用の光硬
化性樹脂組成物(組成物〔6〕)を調製した。この比較
例3は、(E)成分の代わりにガラスビースを使用した
例である。上記のようにして調製された比較用の組成物
は、不透明で均一な粘調液体であった。
【0073】<比較例4>表1に示す配合処方に従っ
て、(A)成分、(B)成分および任意成分を攪拌容器
内に仕込み、50℃で2時間攪拌することによって均一
な樹脂液を得た。次いで、この樹脂液と、表1に示す割
合の(E)成分とを混合し、高速撹拌装置を備えた攪拌
容器内に仕込んで、室温にて10分間撹拌(回転数:3
000rpm)することにより、(E)成分が均一に分
散されてなる比較用の光硬化性樹脂組成物(組成物
〔7〕)を調製した。この比較例4は、(C)成分およ
び(D)成分が含有されていない例である。上記のよう
にして調製された比較用の組成物は、不透明で均一な粘
調液体であった。
【0074】
【表1】
【0075】なお、表1中、(a)〜(j)で注記され
た構成成分の商品名は次のとおりである。 (a):「UVR6110」〔ユニオンカーバイド社
製〕 (b):「ビスコート295」〔大阪有機化学工業
(株)製〕 (c):「カヤラッドDPHA」〔日本化薬(株)製〕 (d):「Irgacure184」〔チバガイギー社
製〕 (e):「サンスフェアNP−100」〔洞海化学工業
(株)製〕 (f):「アラルダイトDY−022」〔チバガイギー
社製〕 (g):「TONE−0301」〔ユニオンカーバイド
社製〕 (h):「S−530」〔チッソ(株)製〕 (i):「RD−8X」〔龍森工業(株)製〕 (j):「GB045ZC」〔東芝バロティーニ(株)
製〕
【0076】<光硬化性樹脂組成物の評価>実施例1〜
実施例3により調製された組成物〔1〕〜組成物
〔3〕、比較例1〜比較例4により調製された組成物
〔4〕〜組成物〔7〕の各々について、下記のようにし
て、当該組成物についての適正走査速度を測定して光硬
化性を評価し、さらに、当該組成物による硬化物を作製
してその熱変形温度を測定した。結果を表2に示す。
【0077】〔光硬化性〕照射用光源としてアルゴンイ
オンレーザー(波長351nm、365nm)を搭載し
た光造形装置「ソリッドクリエーターJSC−200
0」(ソニー株式会社製)により、各組成物に対して、
その液面におけるレーザー光強度が100mWとなる条
件で、走査速度を変えてレーザ光を照射し、形成される
硬化層の厚さ(以下、「硬化深さ」という。)が0.3
mmとなる走査速度(これを「適正走査速度」とする)
を求めた。なお、光硬化性の評価は次のとおりである。
【0078】 ・適正走査速度が120cm/秒以上である場合:
「◎」 ・適正走査速度が100〜120cm/秒である場合:
「○」 ・適正走査速度が10〜100cm/秒である場合:
「△」 ・硬化層を得ることができなかった場合:「×」
【0079】〔熱変形温度〕各組成物を用い、光造形装
置「ソリッドクリエーターJSC−2000」(ソニー
株式会社製)により、下記(1)〜(4)の条件に従っ
て造形物(縦120mm、横11mm、厚み4mm)を
形成した。
【0080】 (1)液面におけるレーザー光強度:100mW, (2)走査速度:各組成物において硬化深さが0.3m
mとなる適正走査速度, (3)形成する硬化樹脂層の厚み:0.2mm, (4)積層回数:20回
【0081】得られた造形物の表面に付着した樹脂組成
物を拭き取り、溶剤洗浄したのち、熱オーブンにより1
60℃、約2時間の条件でアニールを行うことにより熱
変形温度測定用の試験片を作製した。このようにして作
製された試験片の熱変形温度を、JIS K7207
A法に従って測定した。
【0082】<樹脂型の製造>実施例1〜実施例3およ
び比較例1〜比較例2により調製された組成物〔1〕〜
組成物〔5〕の各々を用い、光造形装置「ソリッドクリ
エーターJSC−2000」(ソニー株式会社製)によ
り、下記条件(1)〜(5)に従ってキャビティー型お
よびコア型をそれぞれ造形した。なお、図1は、キャビ
ティー型を示す平面図(I)および側面図(II)であ
る。同図において、1はピン形状、2はリブ、3はピン
形状、4はツメ、5は固定用ネジ穴、6はピン形状であ
る。
【0083】 (1)液面におけるレーザー光強度:100mW, (2)走査速度:各組成物において硬化深さが0.3m
mとなる適正走査速度, (3)形成する硬化樹脂層の厚み:0.2mm, (4)キャビティー型積層回数:306回, (5)コア型積層回数:220回
【0084】〔後処理〕造形されたキャビティー型およ
びコア型の表面に付着した樹脂組成物を拭き取り、溶剤
洗浄したのち、熱オーブンにより160℃、約2時間の
条件でアニールを行った。
【0085】<樹脂製型の評価(射出成形)>以上のよ
うにして造形された樹脂製型(キャビティー型およびコ
ア型)を用い、ポリカーボネート樹脂「ユーピロンS−
2000」(三菱ガス化学株式会社製)よりなる成形材
料を、型締力75t、シリンダー温度300℃、樹脂製
型温度65℃、射出圧200kg/cm2 、1段目保圧
360kg/cm2 (4秒間)、2段目保圧230kg
/cm2 (6秒間)の条件で射出成形を行うことにより
射出成形物を得た。得られた成形物の寸法精度、および
樹脂製型の繰り返し耐久性を下記のようにして評価し
た。結果を表2に示す。
【0086】〔射出成形物の寸法精度〕射出成形物の設
計寸法に対して、誤差0.5%未満の場合を「良好」、
誤差0.5%以上の場合を「不良」として評価した。
【0087】〔繰り返し耐久性〕樹脂製型を用いた射出
成形を連続して行い、当該樹脂製型が破損せずに成形可
能な回数を測定した。
【0088】
【表2】
【0089】表1および表2から明かなように、実施例
1〜実施例3により得られた組成物〔1〕〜組成物
〔3〕は、何れも、光造形法に使用する光硬化性材料と
して好適な光硬化性を有し、各組成物による硬化物は、
熱変形温度が100℃以上と高いものであり、耐熱性を
十分に備えたものであることが理解される。そして、光
硬化性材料として組成物〔1〕〜組成物〔3〕を用いて
造形された樹脂製型によれば寸法精度の高い成形品を得
ることができ、当該樹脂製型は繰り返し耐久性に優れて
いることが理解される。
【0090】これに対して、比較例1により得られた組
成物〔4〕は、これを硬化して得られる硬化物の熱変形
温度が100℃未満となり、このため、当該組成物を用
いて造形された樹脂製型によっては寸法精度の高い成形
品を得ることができず、当該樹脂製型は繰り返し耐久性
にも劣るものであった。
【0091】また、比較例2により得られた組成物
〔5〕の硬化物は、光造形法に使用する光硬化性材料と
して好適な光硬化性を有し、その硬化物は、熱変形温度
160℃と高いものであり、耐熱性を十分に備えたもの
であったが、(E)成分である球状のシリカ粒子の代わ
りに不定形シリカ粒子を使用したものであるため、当該
組成物を用いて造形された樹脂製型によっては寸法精度
の高い成形品を得ることができず、当該樹脂製型は繰り
返し耐久性にも劣るものであった。
【0092】また、比較例3により得られた組成物
〔6〕は、(E)成分である球状のシリカ粒子の代わり
に球状のガラスビーズを使用したものであるため、当該
組成物をレーザー光により硬化させることができなかっ
た。
【0093】また、比較例4により得られた組成物
〔7〕は、(C)成分および(D)成分が含有されてい
ないものであるため、レーザー光による硬化性が低く、
当該組成物によって十分な機械強度を有する硬化物を得
ることができなかった。
【0094】
【発明の効果】請求項1に記載の発明によれば、機械的
強度が高くて耐熱性に優れた硬化物を形成することがで
き、光造形法に用いる光硬化性材料として好適に用いる
ことができる光硬化性樹脂組成物を提供することができ
る。
【0095】請求項2に記載の発明によれば、寸法精度
の高い成形品を得ることができ、100回以上の成形加
工に供した場合であっても変形・破損を生じない、繰り
返し耐久性に優れた樹脂製型を容易に製造することがで
きる。
【図面の簡単な説明】
【図1】実施例および比較例において製造した樹脂製型
の構成を示す説明図である。
【符号の説明】
1 ピン形状 2 リブ 3 ピン形状 4 ツメ 5 固定用ネジ穴 6 ピン形状
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 FI G03F 7/029 G03F 7/029 (72)発明者 高瀬 英明 東京都中央区築地2丁目11番24号 日本合 成ゴム株式会社内 (72)発明者 宇加地 孝志 東京都中央区築地2丁目11番24号 日本合 成ゴム株式会社内

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 (A)シクロヘキセンオキサイド構造を
    有する化合物、 (B)カチオン性光重合開始剤、 (C)エチレン性不飽和モノマー、 (D)ラジカル性光重合開始剤、および (E)球状のシリカ粒子を含有してなり、 これを硬化して得られる硬化物の熱変形温度が100℃
    以上であることを特徴とする光硬化性樹脂組成物。
  2. 【請求項2】 光硬化性材料に選択的に光照射して硬化
    樹脂層を形成する工程を繰り返すことにより、複数の硬
    化樹脂層が一体的に積層されてなる樹脂製型を製造する
    方法において、光硬化性材料として、請求項1に記載の
    光硬化性樹脂組成物を用いることを特徴とする樹脂製型
    の製造方法。
JP25058496A 1996-09-20 1996-09-20 樹脂製成形用型製造用光硬化性樹脂組成物および樹脂製成形用型の製造方法 Expired - Lifetime JP3820289B2 (ja)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP25058496A JP3820289B2 (ja) 1996-09-20 1996-09-20 樹脂製成形用型製造用光硬化性樹脂組成物および樹脂製成形用型の製造方法
EP19970202886 EP0831373B1 (en) 1996-09-20 1997-09-19 Photo-curable resin compositions and process for preparing a resin-based mold
DE1997627274 DE69727274T2 (de) 1996-09-20 1997-09-19 Photohärtbare Harzzusammensetzungen und Verfahren zur Herstellung von einer Form auf Harzbasis
US09/905,203 US20020045126A1 (en) 1996-09-20 2001-07-16 Photo-curable resin compositions and process for preparing a resin-based mold

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP25058496A JP3820289B2 (ja) 1996-09-20 1996-09-20 樹脂製成形用型製造用光硬化性樹脂組成物および樹脂製成形用型の製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH1087810A true JPH1087810A (ja) 1998-04-07
JP3820289B2 JP3820289B2 (ja) 2006-09-13

Family

ID=17210070

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP25058496A Expired - Lifetime JP3820289B2 (ja) 1996-09-20 1996-09-20 樹脂製成形用型製造用光硬化性樹脂組成物および樹脂製成形用型の製造方法

Country Status (3)

Country Link
EP (1) EP0831373B1 (ja)
JP (1) JP3820289B2 (ja)
DE (1) DE69727274T2 (ja)

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007509192A (ja) * 2003-10-03 2007-04-12 ハンツマン・アドヴァンスト・マテリアルズ・(スイッツランド)・ゲーエムベーハー 安定した引張特性を有する物品を得るための光硬化可能な組成物
JP2007290391A (ja) * 2003-08-19 2007-11-08 Three D Syst Inc ナノ粒子が充填されたステレオリソグラフィー樹脂
JP2009197155A (ja) * 2008-02-22 2009-09-03 Bridgestone Corp 光硬化性組成物、その組成物の反射防止膜を有する反射防止フィルム、及びこれを備えたディスプレイ用光学フィルタ
US8338074B2 (en) 2003-06-25 2012-12-25 Cmet Inc. Actinic radiation-curable stereolithographic resin composition having improved stability
JP2020111057A (ja) * 2014-07-15 2020-07-27 有限会社スワニー 樹脂成形品量産用の金型の製造方法
WO2024068708A1 (en) * 2022-09-30 2024-04-04 Basf Se Radiation-curable resin composition used for manufacturing three-dimensional mold

Families Citing this family (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3844824B2 (ja) * 1996-11-26 2006-11-15 株式会社Adeka エネルギー線硬化性エポキシ樹脂組成物、光学的立体造形用樹脂組成物及び光学的立体造形方法
JP3765896B2 (ja) 1996-12-13 2006-04-12 Jsr株式会社 光学的立体造形用光硬化性樹脂組成物
JP2000318048A (ja) * 1999-05-10 2000-11-21 Jsr Corp 光造形物の後処理法および成形型
JP4067718B2 (ja) * 1999-09-20 2008-03-26 Jsr株式会社 樹脂製型の処理法および樹脂製型
US7521155B2 (en) * 2003-06-10 2009-04-21 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Volume hologram layer and volume hologram transfer foil
EP3971235B1 (en) 2013-11-05 2025-01-01 Stratasys, Inc. Stabilized matrix-filled liquid radiation curable resin compositions for additive fabrication
EP3561595B1 (en) * 2016-12-26 2021-07-07 Toray Industries, Inc. Photosensitive resin composition for a photosensitive resin printing plate precursor
TWI784721B (zh) * 2021-09-22 2022-11-21 住華科技股份有限公司 感光性著色樹脂組成物及應用其之彩色濾光片與顯示裝置
CN115960561A (zh) * 2023-01-04 2023-04-14 宁波力合博汇光敏材料有限公司 一种阳离子光固化压敏胶及其制备方法和应用

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0275618A (ja) * 1988-09-13 1990-03-15 Asahi Denka Kogyo Kk 光学的造形用樹脂組成物
JPH0280422A (ja) * 1988-09-19 1990-03-20 Asahi Denka Kogyo Kk 樹脂の光学的造形方法

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2762389B2 (ja) * 1994-07-06 1998-06-04 帝人製機株式会社 光学的立体造形用樹脂組成物
JPH09174563A (ja) * 1995-12-26 1997-07-08 Teijin Seiki Co Ltd 光造形型およびその製造方法

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0275618A (ja) * 1988-09-13 1990-03-15 Asahi Denka Kogyo Kk 光学的造形用樹脂組成物
JPH0280422A (ja) * 1988-09-19 1990-03-20 Asahi Denka Kogyo Kk 樹脂の光学的造形方法

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8338074B2 (en) 2003-06-25 2012-12-25 Cmet Inc. Actinic radiation-curable stereolithographic resin composition having improved stability
JP2007290391A (ja) * 2003-08-19 2007-11-08 Three D Syst Inc ナノ粒子が充填されたステレオリソグラフィー樹脂
JP2007509192A (ja) * 2003-10-03 2007-04-12 ハンツマン・アドヴァンスト・マテリアルズ・(スイッツランド)・ゲーエムベーハー 安定した引張特性を有する物品を得るための光硬化可能な組成物
JP4772681B2 (ja) * 2003-10-03 2011-09-14 ハンツマン・アドヴァンスト・マテリアルズ・(スイッツランド)・ゲーエムベーハー 安定した引張特性を有する物品を得るための光硬化可能な組成物
KR101165481B1 (ko) * 2003-10-03 2012-07-13 훈츠만 어드밴스트 머티리얼스(스위처랜드) 게엠베하 안정한 인장 특성을 갖는 물품용 광경화성 조성물
JP2009197155A (ja) * 2008-02-22 2009-09-03 Bridgestone Corp 光硬化性組成物、その組成物の反射防止膜を有する反射防止フィルム、及びこれを備えたディスプレイ用光学フィルタ
JP2020111057A (ja) * 2014-07-15 2020-07-27 有限会社スワニー 樹脂成形品量産用の金型の製造方法
WO2024068708A1 (en) * 2022-09-30 2024-04-04 Basf Se Radiation-curable resin composition used for manufacturing three-dimensional mold

Also Published As

Publication number Publication date
DE69727274T2 (de) 2004-11-18
EP0831373A3 (en) 1999-12-29
EP0831373B1 (en) 2004-01-21
JP3820289B2 (ja) 2006-09-13
DE69727274D1 (de) 2004-02-26
EP0831373A2 (en) 1998-03-25

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3765896B2 (ja) 光学的立体造形用光硬化性樹脂組成物
EP2135136B1 (en) Stereolithography resin compositions and three-dimensional objects made therefrom
JP3626302B2 (ja) 光硬化性樹脂組成物
EP0938026B1 (en) Photocurable liquid resin composition
KR100735409B1 (ko) 입체 형상물의 광조형용 수지조성물
EP0837366B1 (en) Photocurable resin composition
JP3626275B2 (ja) 光硬化性樹脂組成物
JP4017238B2 (ja) 光硬化性液状樹脂組成物
JP3820289B2 (ja) 樹脂製成形用型製造用光硬化性樹脂組成物および樹脂製成形用型の製造方法
JP3824286B2 (ja) 光硬化性樹脂組成物
JP4620380B2 (ja) 光学的立体造形用放射線硬化性液状樹脂組成物及びそれを光硬化させて得られる光造形物
JP2013166893A (ja) 光学的立体造形用放射線硬化性組成物
JP4578223B2 (ja) 光学的立体造形用光硬化性樹脂組成物
JPH11240939A (ja) 光硬化性液状樹脂組成物
US20020045126A1 (en) Photo-curable resin compositions and process for preparing a resin-based mold
JP2005015627A (ja) 光硬化性液状樹脂組成物
JP2005281414A (ja) 放射線硬化性液状樹脂組成物
JPH10168107A (ja) 光硬化性樹脂組成物
KR100461688B1 (ko) 광-경화성 수지조성물
HK1146750A (en) Stereolithography resin compositions and three-dimensional objects made therefrom

Legal Events

Date Code Title Description
A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20050915

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20051025

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20051221

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20060613

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20060619

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090623

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090623

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100623

Year of fee payment: 4

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100623

Year of fee payment: 4

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110623

Year of fee payment: 5

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110623

Year of fee payment: 5

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120623

Year of fee payment: 6

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120623

Year of fee payment: 6

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130623

Year of fee payment: 7

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130623

Year of fee payment: 7

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

EXPY Cancellation because of completion of term