JPH1088062A - コーティング組成物 - Google Patents
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- FAYMLNNRGCYLSR-UHFFFAOYSA-M triphenylsulfonium triflate Chemical compound [O-]S(=O)(=O)C(F)(F)F.C1=CC=CC=C1[S+](C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 FAYMLNNRGCYLSR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
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- 150000007964 xanthones Chemical class 0.000 description 1
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D133/00—Coating compositions based on homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof; Coating compositions based on derivatives of such polymers
- C09D133/04—Homopolymers or copolymers of esters
- C09D133/06—Homopolymers or copolymers of esters of esters containing only carbon, hydrogen and oxygen, the oxygen atom being present only as part of the carboxyl radical
- C09D133/10—Homopolymers or copolymers of methacrylic acid esters
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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- C09D133/04—Homopolymers or copolymers of esters
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- C09D133/062—Copolymers with monomers not covered by C09D133/06
- C09D133/064—Copolymers with monomers not covered by C09D133/06 containing anhydride, COOH or COOM groups, with M being metal or onium-cation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D5/00—Coating compositions, e.g. paints, varnishes or lacquers, characterised by their physical nature or the effects produced; Filling pastes
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 耐熱性、平坦性、密着性等に優れた保護膜を
形成し得るコーティング組成物を提供する。 【解決手段】 (a)少なくともカルボキシル基を含む
ポリマー(b)溶剤及び(c)エポキシ系硬化剤を含
み、好ましくは更に(d)活性線照射重合開始剤、更に
場合により(e)重合可能な不飽和結合を有する化合物
を含む組成物。
形成し得るコーティング組成物を提供する。 【解決手段】 (a)少なくともカルボキシル基を含む
ポリマー(b)溶剤及び(c)エポキシ系硬化剤を含
み、好ましくは更に(d)活性線照射重合開始剤、更に
場合により(e)重合可能な不飽和結合を有する化合物
を含む組成物。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は保護膜形成に有用な
平滑且つ透明な表面を得るコーティング組成物、特には
硝子又は透明材料上に形成されたカラーフィルターの保
護膜用コーティング組成物に関する。
平滑且つ透明な表面を得るコーティング組成物、特には
硝子又は透明材料上に形成されたカラーフィルターの保
護膜用コーティング組成物に関する。
【0002】
【従来の技術】近年、AV機器、パソコン等の電子機器
へ液晶表示素子が盛んに応用されている。特に、カラー
表示ディスプレイは視認性の良さ、豊富な情報量等によ
り需要が急激に伸びている。一般にカラー表示を得るた
めには、透明なガラス等の基板上に、例えばモザイク状
あるいはストライプ状のカラーフィルターを、染色法、
印刷法、顔料分散法、電着法等で形成する。カラーフィ
ルターは通常1ミクロン程度に製造されるが、表面には
サブミクロンの段差が生じる。カラーSTNにおいて
は、この段差は表示品質(色むら等)に影響を与え、表
示にムラを生じないようにするには、表面平坦度を0.
1ミクロン以下に押さえる必要がある。通常、スムース
な表面を得るには、熱硬化性のアクリル樹脂をカラーフ
ィルター表面に塗布し表面を平坦化していた。また、液
晶表示素子だけに限らず固体撮像素子においても、カラ
ーフィルターの表面を保護し、後製造工程で処理され
る、例えば溶剤、酸、アルカリ溶液等の浸漬処理、又は
電極層をスパッタリングにより形成する際に発生する高
温などの過酷な条件から、カラーフィルターを保護する
ための保護膜を設ける必要がある。
へ液晶表示素子が盛んに応用されている。特に、カラー
表示ディスプレイは視認性の良さ、豊富な情報量等によ
り需要が急激に伸びている。一般にカラー表示を得るた
めには、透明なガラス等の基板上に、例えばモザイク状
あるいはストライプ状のカラーフィルターを、染色法、
印刷法、顔料分散法、電着法等で形成する。カラーフィ
ルターは通常1ミクロン程度に製造されるが、表面には
サブミクロンの段差が生じる。カラーSTNにおいて
は、この段差は表示品質(色むら等)に影響を与え、表
示にムラを生じないようにするには、表面平坦度を0.
1ミクロン以下に押さえる必要がある。通常、スムース
な表面を得るには、熱硬化性のアクリル樹脂をカラーフ
ィルター表面に塗布し表面を平坦化していた。また、液
晶表示素子だけに限らず固体撮像素子においても、カラ
ーフィルターの表面を保護し、後製造工程で処理され
る、例えば溶剤、酸、アルカリ溶液等の浸漬処理、又は
電極層をスパッタリングにより形成する際に発生する高
温などの過酷な条件から、カラーフィルターを保護する
ための保護膜を設ける必要がある。
【0003】この保護膜は、平滑であり且つ強靭である
こと、透明性に優れていること、長期にわたって変色、
変質をしない耐熱性、耐薬品性に優れていることが要求
される。現在使われている保護膜材料としては、ベース
ポリマーの種類により、ポリイミド系、エポキシ樹脂
系、アクリル系等がある。ポリイミド系は、耐熱性に優
れているが、透明性は85%(400nmにおいて)前
後の低い値を示し、また密着性にも不安を抱えている。
一方、エポキシ樹脂系は、密着性、耐薬品性に優れてい
るものの、透明性が低く、ポリエステル系のカラーフィ
ルターに対して密着性が劣るという問題がある。アクリ
ル系は、耐熱性・耐薬品性・透明性に優れており、ほぼ
理想的な保護膜であるといえるが、密着性をより上げる
ために、どのような組成を用いるかが、鍵になってい
る。
こと、透明性に優れていること、長期にわたって変色、
変質をしない耐熱性、耐薬品性に優れていることが要求
される。現在使われている保護膜材料としては、ベース
ポリマーの種類により、ポリイミド系、エポキシ樹脂
系、アクリル系等がある。ポリイミド系は、耐熱性に優
れているが、透明性は85%(400nmにおいて)前
後の低い値を示し、また密着性にも不安を抱えている。
一方、エポキシ樹脂系は、密着性、耐薬品性に優れてい
るものの、透明性が低く、ポリエステル系のカラーフィ
ルターに対して密着性が劣るという問題がある。アクリ
ル系は、耐熱性・耐薬品性・透明性に優れており、ほぼ
理想的な保護膜であるといえるが、密着性をより上げる
ために、どのような組成を用いるかが、鍵になってい
る。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、かかる問題
点を解決するためのもので、安価で高信頼性及び平坦
性、耐熱性、耐薬品性、密着性の高い材料を提供するこ
とをその目的とする。
点を解決するためのもので、安価で高信頼性及び平坦
性、耐熱性、耐薬品性、密着性の高い材料を提供するこ
とをその目的とする。
【0005】
【課題を解決するための手段】これらの課題を解決する
ために、本発明者らは鋭意研究を重ねた結果、アクリル
系ポリマーを用い、且つ特定のエポキシ系硬化剤を含む
組成物、すなわち次のような組成を有する混合物を用い
ることにより、耐熱性、耐薬品性、透明性、平坦性、密
着性等に優れた保護膜が得られることを見出し、本発明
に到達した。
ために、本発明者らは鋭意研究を重ねた結果、アクリル
系ポリマーを用い、且つ特定のエポキシ系硬化剤を含む
組成物、すなわち次のような組成を有する混合物を用い
ることにより、耐熱性、耐薬品性、透明性、平坦性、密
着性等に優れた保護膜が得られることを見出し、本発明
に到達した。
【0006】すなわち、本発明によれば、第一に、
(a)少なくともカルボキシル基を含むポリマー、
(b)溶剤、及び(c)エポキシ系硬化剤を必須成分と
して含むコーティング組成物において、前記エポキシ系
硬化剤が、脂肪族多価アルコールポリグリシジル−エー
テル又は−エステルであることを特徴とするコーティン
グ組成物が提供される。第二に、前記ポリマー成分
(a)が、アルカリ水溶液に可溶又は少なくとも膨潤す
るポリマーであって、(d)活性線照射重合開始剤を更
に含むことを特徴とする上記第一に記載したコーティン
グ組成物が提供される。第三に、(e)重合可能な不飽
和結合を有する化合物を更に含むことを特徴とする上記
第二に記載したコーティング組成物が提供される。第四
に、前記ポリマー成分(a)が、少なくとも下記式
(I)又は(II)で示されるセグメントを含む重合体で
ある上記第一〜第三のいずれかに記載したコーティング
組成物が提供される。
(a)少なくともカルボキシル基を含むポリマー、
(b)溶剤、及び(c)エポキシ系硬化剤を必須成分と
して含むコーティング組成物において、前記エポキシ系
硬化剤が、脂肪族多価アルコールポリグリシジル−エー
テル又は−エステルであることを特徴とするコーティン
グ組成物が提供される。第二に、前記ポリマー成分
(a)が、アルカリ水溶液に可溶又は少なくとも膨潤す
るポリマーであって、(d)活性線照射重合開始剤を更
に含むことを特徴とする上記第一に記載したコーティン
グ組成物が提供される。第三に、(e)重合可能な不飽
和結合を有する化合物を更に含むことを特徴とする上記
第二に記載したコーティング組成物が提供される。第四
に、前記ポリマー成分(a)が、少なくとも下記式
(I)又は(II)で示されるセグメントを含む重合体で
ある上記第一〜第三のいずれかに記載したコーティング
組成物が提供される。
【化1】
【化2】 第五に、前記ポリマー成分(a)が、少なくともアクリ
ル酸若しくはメタクリル酸と下記式(III)〜(VI)で
示される少なくとも1種のモノマーとの共重合体である
上記第一〜第四のいずれかに記載したコーティング組成
物が提供される。
ル酸若しくはメタクリル酸と下記式(III)〜(VI)で
示される少なくとも1種のモノマーとの共重合体である
上記第一〜第四のいずれかに記載したコーティング組成
物が提供される。
【化3】
【化4】CH2=CHCO2R
(IV) (式中、Rは前記と同じ基を示す。)
(IV) (式中、Rは前記と同じ基を示す。)
【化5】
【化6】 (式中、R1は低級アルキル基、芳香族炭化水素基、水
酸基を有する低級アルキル基又は水酸基を有する芳香族
炭化水酸基を示す。) 第六に、前記ポリマー成分(a)が、分子構造中重合可
能な不飽和結合を有する化合物との反応生成物である上
記第四又は五に記載したコーティング組成物が提供され
る。
酸基を有する低級アルキル基又は水酸基を有する芳香族
炭化水酸基を示す。) 第六に、前記ポリマー成分(a)が、分子構造中重合可
能な不飽和結合を有する化合物との反応生成物である上
記第四又は五に記載したコーティング組成物が提供され
る。
【0007】
【発明の実施の形態】以下、本発明を詳しく説明する。
本発明の組成物においては、エポキシ系硬化剤(c)と
して、脂肪族多価アルコールポリグリシジル−エーテル
又は−エステルを使用することを特徴とする。この場合
の多価アルコールポリグリシジル−エーテル及び−エス
テルとしては、例えばアジピン酸ジグリシジルエステ
ル、グリセロールα,α−ジグリシジルエーテル、グリ
セロールトリジグリシジルエーテル、トリメチロールプ
ロパンジグリシジルエーテル、トリメチロールプロパン
トリグリシジルエーテル、ポリ(オキシエチレン)−
α,ω−ジグリシジルエーテル、エチレングリコールジ
グリシジルエーテル、ポリ(オキシプロピレン)−α,
ω−ジグリシジルエーテル、プロピレグリコールジグリ
シジルエーテル、ポリ(オキシテトラメチレン)−α,
ω−ジグリシジルエーテル、アルキルジグリシジルエー
テル、ポリ(オキシエチレン)−α−ラウリル−ω−グ
リシジルエーテル、ソルビトールテトラグリシジルエー
テル、ソルビタントリグリシジルエーテル、テトラグリ
セロールテトラグリシジルエーテル、ヘキサグリセロー
ルテトラグリシジルエーテル、ペンタエルスリトールテ
トラグリシジルエーテル、ジグリセロールトリグリシジ
ルエーテル、1,4−テトラメチレンジオールジグノシ
ジルエーテル等が挙げられる。エポキシ系硬化剤の添加
量は、固形成分に対して0.1〜20重量%、好ましく
は1〜10重量%である。
本発明の組成物においては、エポキシ系硬化剤(c)と
して、脂肪族多価アルコールポリグリシジル−エーテル
又は−エステルを使用することを特徴とする。この場合
の多価アルコールポリグリシジル−エーテル及び−エス
テルとしては、例えばアジピン酸ジグリシジルエステ
ル、グリセロールα,α−ジグリシジルエーテル、グリ
セロールトリジグリシジルエーテル、トリメチロールプ
ロパンジグリシジルエーテル、トリメチロールプロパン
トリグリシジルエーテル、ポリ(オキシエチレン)−
α,ω−ジグリシジルエーテル、エチレングリコールジ
グリシジルエーテル、ポリ(オキシプロピレン)−α,
ω−ジグリシジルエーテル、プロピレグリコールジグリ
シジルエーテル、ポリ(オキシテトラメチレン)−α,
ω−ジグリシジルエーテル、アルキルジグリシジルエー
テル、ポリ(オキシエチレン)−α−ラウリル−ω−グ
リシジルエーテル、ソルビトールテトラグリシジルエー
テル、ソルビタントリグリシジルエーテル、テトラグリ
セロールテトラグリシジルエーテル、ヘキサグリセロー
ルテトラグリシジルエーテル、ペンタエルスリトールテ
トラグリシジルエーテル、ジグリセロールトリグリシジ
ルエーテル、1,4−テトラメチレンジオールジグノシ
ジルエーテル等が挙げられる。エポキシ系硬化剤の添加
量は、固形成分に対して0.1〜20重量%、好ましく
は1〜10重量%である。
【0008】また、本発明においては、バインダーとし
て少なくともともカルボキシル基を含むポリマー(a)
が用いられる。このポリマーとしては、ノボラック樹
脂、ヒドロキシスチレン等のフェノール樹脂、(メタ)
アクリル酸エステルの共重合体、更にこれらの重合体に
重合可能な不飽和結合を導入したものなど、アルカリ水
溶液に可溶若しくは少なくとも膨潤するポリマーが挙げ
られる。好ましくは、このポリマーは、少なくとも下記
の一般式(I)又は(II)で示されるセグメントを含む
重合体である。
て少なくともともカルボキシル基を含むポリマー(a)
が用いられる。このポリマーとしては、ノボラック樹
脂、ヒドロキシスチレン等のフェノール樹脂、(メタ)
アクリル酸エステルの共重合体、更にこれらの重合体に
重合可能な不飽和結合を導入したものなど、アルカリ水
溶液に可溶若しくは少なくとも膨潤するポリマーが挙げ
られる。好ましくは、このポリマーは、少なくとも下記
の一般式(I)又は(II)で示されるセグメントを含む
重合体である。
【0009】
【化1】
【0010】
【化2】
【0011】また、上記ポリマー(a)としては、例え
ば少なくともアクリル酸若しくはメタクリル酸と下記式
(III)〜(VI)で示される少なくとも1種のモノマー
との共重合体が用いられる。
ば少なくともアクリル酸若しくはメタクリル酸と下記式
(III)〜(VI)で示される少なくとも1種のモノマー
との共重合体が用いられる。
【0012】
【化3】
【0013】
【化4】CH2=CHCO2R
(IV) (式中、Rは前記と同じ基を示す。)
(IV) (式中、Rは前記と同じ基を示す。)
【0014】
【化5】
【0015】
【化6】 (式中、R1は低級アルキル基、芳香族炭化水素基、水
酸基を有する低級アルキル基又は水酸基を有する芳香族
炭化水酸基を示す。)
酸基を有する低級アルキル基又は水酸基を有する芳香族
炭化水酸基を示す。)
【0016】前記一般式(III)〜(IV)において、低
級アルキル基とは、炭素数1〜15、好ましくは1〜1
0のアルキル基である。
級アルキル基とは、炭素数1〜15、好ましくは1〜1
0のアルキル基である。
【0017】また、前記一般式(III)〜(VI)で示さ
れる少なくとも1種のモノマーを含むポリマー成分
(a)として、更に好ましいものとしては、例えば、
(メタ)アクリル酸−(メタ)アクリル酸エステル共重
合体、例えば、ポリ(メタクリル酸−co−メタクリル
酸メチル)、ポリ(メタクリル酸−co−アクリル酸メ
チル)、ポリ(メタクリル酸−co−アクリル酸ブチ
ル)、ポリ(アクリル酸−co−メタクリル酸メチ
ル)、ポリ(アクリル酸−co−アクリル酸メチル)、
ポリ(メタクリル酸−co−ベンジルメタクリレー
ト)、ポリ(メタクリル酸−co−ヒドロキシメチルメ
タクリレート)等や、(メタ)アクリル酸−ラクトン変
性ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート共重合体、例
えば
れる少なくとも1種のモノマーを含むポリマー成分
(a)として、更に好ましいものとしては、例えば、
(メタ)アクリル酸−(メタ)アクリル酸エステル共重
合体、例えば、ポリ(メタクリル酸−co−メタクリル
酸メチル)、ポリ(メタクリル酸−co−アクリル酸メ
チル)、ポリ(メタクリル酸−co−アクリル酸ブチ
ル)、ポリ(アクリル酸−co−メタクリル酸メチ
ル)、ポリ(アクリル酸−co−アクリル酸メチル)、
ポリ(メタクリル酸−co−ベンジルメタクリレー
ト)、ポリ(メタクリル酸−co−ヒドロキシメチルメ
タクリレート)等や、(メタ)アクリル酸−ラクトン変
性ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート共重合体、例
えば
【化7】 (上式中、R3は、水素原子若しくはメチル基、p,q
は重合度、nは1〜5の整数を示す、)や、(メタ)ア
クリル酸−スチレン共重合体等が挙げられる。
は重合度、nは1〜5の整数を示す、)や、(メタ)ア
クリル酸−スチレン共重合体等が挙げられる。
【0018】本発明において(b)の溶剤としては、エ
チルセロソルブ、プロピレングリコールメチルエーテル
アセテート(PGMEA)、エチルラクテート、ポリエ
チレングリコール、ポリプロピレングリコール、シクロ
ヘキサノン、プロピレングリコールメチルエーテル等が
用いられ、単独あるいは混合溶剤いずれの形で用いても
よい。なお、本発明の組成物には、更に安定剤、酸化防
止剤等を添加することもできる。
チルセロソルブ、プロピレングリコールメチルエーテル
アセテート(PGMEA)、エチルラクテート、ポリエ
チレングリコール、ポリプロピレングリコール、シクロ
ヘキサノン、プロピレングリコールメチルエーテル等が
用いられ、単独あるいは混合溶剤いずれの形で用いても
よい。なお、本発明の組成物には、更に安定剤、酸化防
止剤等を添加することもできる。
【0019】また、本発明においては、活性線照射重合
開始剤(d)が好ましく用いられる。この場合の活性線
照射重合開始剤としては、アジド化合物、ハロメチルオ
キサゾール系化合物、ハロメチル−s−トリアジン化合
物、オニウム塩、ベンゾインエーテル類、キサントン
類、アセトフェノン誘導体等種々のものが使用できる。
開始剤(d)が好ましく用いられる。この場合の活性線
照射重合開始剤としては、アジド化合物、ハロメチルオ
キサゾール系化合物、ハロメチル−s−トリアジン化合
物、オニウム塩、ベンゾインエーテル類、キサントン
類、アセトフェノン誘導体等種々のものが使用できる。
【0020】アジド化合物としては、次のものが挙げら
れる。4,4’−ジアジドスチルベン、4,4’−ジア
ジドスチルベン−2,2’−ジスルホン酸−N,N−ジ
エチレンオキシエチルアミド、4,4’−ジアジドスチ
ルベン−2,2’−ジスルホン酸−N−プロピルヒドロ
キシアミド、4,4’−ジアジドスチルベン−2,2’
−ジスルホン酸、4,4’−ジアジドスチルベン−2,
2’−ジスルホン酸−N,N−ジエチルアミド、4,
4’−ジアジドスチルベン−2,2’−ジスルホン酸ナ
トリウム塩等のアジドスチルベン類及びその誘導体;
2,6−ジ−(p−アジドベンザル)−シクロヘキサノ
ン、2,6−ジ−(p−アジドベンザル)−4−メチル
シクロヘキサノン、2,6−ジ−(p−アジドベンザ
ル)−4−tert−アミルシクロヘキサノン、2,6
−ジ−(p−アジドシンナミリデン)−4−tert−
アミノシクロヘキサノン等のアジドベンザルシクロヘキ
サノン及びその誘導体;アジドシンナミリデンシクロヘ
キサノン類及びその誘導体;p−アジドベンザルアセト
フェノン、p−アジドベンザルアセトン、4,4’−ジ
アジドカルコン、2,6−ビス(4’−アジドベンザ
ル)アセトン、2,6−ビス(4’−アジドベンザル)
アセトン−2’−スルホン酸−N,N−ジエチレンオキ
シエチルアミド、2,6−ビス(4’−アジドベンザ
ル)−アセトン−2,2’−ジスルホン酸−N,N−ジ
エチレンオキシエチルアミド等のアジドベンザルケトン
類及びその誘導体等。また、ポリマー鎖にアジド基を導
入したものを用いることもできる。
れる。4,4’−ジアジドスチルベン、4,4’−ジア
ジドスチルベン−2,2’−ジスルホン酸−N,N−ジ
エチレンオキシエチルアミド、4,4’−ジアジドスチ
ルベン−2,2’−ジスルホン酸−N−プロピルヒドロ
キシアミド、4,4’−ジアジドスチルベン−2,2’
−ジスルホン酸、4,4’−ジアジドスチルベン−2,
2’−ジスルホン酸−N,N−ジエチルアミド、4,
4’−ジアジドスチルベン−2,2’−ジスルホン酸ナ
トリウム塩等のアジドスチルベン類及びその誘導体;
2,6−ジ−(p−アジドベンザル)−シクロヘキサノ
ン、2,6−ジ−(p−アジドベンザル)−4−メチル
シクロヘキサノン、2,6−ジ−(p−アジドベンザ
ル)−4−tert−アミルシクロヘキサノン、2,6
−ジ−(p−アジドシンナミリデン)−4−tert−
アミノシクロヘキサノン等のアジドベンザルシクロヘキ
サノン及びその誘導体;アジドシンナミリデンシクロヘ
キサノン類及びその誘導体;p−アジドベンザルアセト
フェノン、p−アジドベンザルアセトン、4,4’−ジ
アジドカルコン、2,6−ビス(4’−アジドベンザ
ル)アセトン、2,6−ビス(4’−アジドベンザル)
アセトン−2’−スルホン酸−N,N−ジエチレンオキ
シエチルアミド、2,6−ビス(4’−アジドベンザ
ル)−アセトン−2,2’−ジスルホン酸−N,N−ジ
エチレンオキシエチルアミド等のアジドベンザルケトン
類及びその誘導体等。また、ポリマー鎖にアジド基を導
入したものを用いることもできる。
【0021】ハロメチルオキサゾール系化合物として
は、2−トリクロロメチル−5−スチリル−1,3,4
−オキサジアゾール、2−トリクロロメチル−5−(p
−シアノスチリル)−1,3,4−オキサジアゾール、
2−トリクロロメチル−5−(p−メトキシスチリル)
−1,3,4−オキサジアゾール等が挙げられる。
は、2−トリクロロメチル−5−スチリル−1,3,4
−オキサジアゾール、2−トリクロロメチル−5−(p
−シアノスチリル)−1,3,4−オキサジアゾール、
2−トリクロロメチル−5−(p−メトキシスチリル)
−1,3,4−オキサジアゾール等が挙げられる。
【0022】また、ハロメチル−s−トリアジン化合物
としては、特にトリハロメチル−s−トリアジン化合
物、例えば2,4−ビス(トリクロロメチル)−6−p
−メトキシスチリル−s−トリアジン、2,4−ビス
(トリクロロメチル)−6−(1−p−ジエチルアミノ
フェニル−1,3−ブタジエニル)−s−トリアジン、
2,4−ビス(トリクロロメチル)−6−(p−フェニ
ルスチリル)−s−トリアジン、2,4−ビス(トリク
ロロメチル)−6−スチリル−s−トリアジン、2,4
−ビス(トリクロロメチル)−6−フェニル−s−トリ
アジン、2〔2’(5''−メチルフリル)エチリデン〕
−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジ
ン、2(2’−フリルエチリデン)−4,6−(トリク
ロロメチル)−s−トリアジン、5,7−ビス(トリブ
ロモメチル)−s−トリアゾロ〔1,5−a〕ピリミジ
ン等が挙げられる。これらは単独で用いてもよいし、複
数組み合わせて用いてもよい。
としては、特にトリハロメチル−s−トリアジン化合
物、例えば2,4−ビス(トリクロロメチル)−6−p
−メトキシスチリル−s−トリアジン、2,4−ビス
(トリクロロメチル)−6−(1−p−ジエチルアミノ
フェニル−1,3−ブタジエニル)−s−トリアジン、
2,4−ビス(トリクロロメチル)−6−(p−フェニ
ルスチリル)−s−トリアジン、2,4−ビス(トリク
ロロメチル)−6−スチリル−s−トリアジン、2,4
−ビス(トリクロロメチル)−6−フェニル−s−トリ
アジン、2〔2’(5''−メチルフリル)エチリデン〕
−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジ
ン、2(2’−フリルエチリデン)−4,6−(トリク
ロロメチル)−s−トリアジン、5,7−ビス(トリブ
ロモメチル)−s−トリアゾロ〔1,5−a〕ピリミジ
ン等が挙げられる。これらは単独で用いてもよいし、複
数組み合わせて用いてもよい。
【0023】また、ベンゾインエーテル類としては、例
えばベンゾインメチルエーテル、ベンゾインイソブチル
エーテル等が挙げられる。ベンゾフェノン類としては、
例えばアセトフェノン、2,2−ジメトキシ−2−フェ
ニルアセトフェノン、1,1−ジクロロアセトフェノ
ン、ミヒラーズケトン、o−ベンゾイルメチルベンゾエ
ート等が挙げられる。キサントン類としては、例えば、
キサントン、チオキサントン、2−クロロチオキサント
ン、2−アルキルチオキサントン、2,4−ジアルキル
チオキサントン等が挙げられる。
えばベンゾインメチルエーテル、ベンゾインイソブチル
エーテル等が挙げられる。ベンゾフェノン類としては、
例えばアセトフェノン、2,2−ジメトキシ−2−フェ
ニルアセトフェノン、1,1−ジクロロアセトフェノ
ン、ミヒラーズケトン、o−ベンゾイルメチルベンゾエ
ート等が挙げられる。キサントン類としては、例えば、
キサントン、チオキサントン、2−クロロチオキサント
ン、2−アルキルチオキサントン、2,4−ジアルキル
チオキサントン等が挙げられる。
【0024】アセトフェノン誘導体としては、例えばア
セトフェノン、トリクロロアセトフェノン、2,2−ジ
エトキシアセトフェノン、2,2−ジメトキシ−2−フ
ェニルアセトフェノン等が挙げられる。
セトフェノン、トリクロロアセトフェノン、2,2−ジ
エトキシアセトフェノン、2,2−ジメトキシ−2−フ
ェニルアセトフェノン等が挙げられる。
【0025】オニウム塩としては、種々のスルホニウム
塩、ヨードニウム塩、ジアゾニウム塩が挙げられ、具体
例としては、トリフェニルスルホニウムトリフルオロメ
タンスルホネート、ベンジル−4−ヒドロキシフェニル
メチルスルホニウム、ヘキサフルオロホスフェート、α
−ナフチルメチル−4−ヒドロキシフェニルメチルスル
ホニウムヘキサフルオロホスフェート(又はヘキサフル
オロアンチモネート)、ジフェニル−t−ブチルフェニ
ルスルホニウムトリフルオロメタンスルホネート、ジフ
ェニルメトキシフェニルスルホニウムヘキサフルオロア
ンチモネート、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオ
ロアンチモネート、ジ−t−ブチルフェニルヨードニウ
ムトリフルオロメタンスルホネート(又はヘキサフルオ
ロアンチモネート、又はテトラフルオロボレート)、メ
トキシフェニルヨードニウムトリフルオロメタンスルホ
ネート、ジフェニルヨードニウムトリフルオロメタンス
ルホネート、アミノフェニルベンゼンジアゾニウムテト
ラフルオロボレート、ピレンジアゾニウムテトラフルオ
ロボレート等が挙げられる。これらは単独で用いてもよ
いし、複数組み合わせてもよい。
塩、ヨードニウム塩、ジアゾニウム塩が挙げられ、具体
例としては、トリフェニルスルホニウムトリフルオロメ
タンスルホネート、ベンジル−4−ヒドロキシフェニル
メチルスルホニウム、ヘキサフルオロホスフェート、α
−ナフチルメチル−4−ヒドロキシフェニルメチルスル
ホニウムヘキサフルオロホスフェート(又はヘキサフル
オロアンチモネート)、ジフェニル−t−ブチルフェニ
ルスルホニウムトリフルオロメタンスルホネート、ジフ
ェニルメトキシフェニルスルホニウムヘキサフルオロア
ンチモネート、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオ
ロアンチモネート、ジ−t−ブチルフェニルヨードニウ
ムトリフルオロメタンスルホネート(又はヘキサフルオ
ロアンチモネート、又はテトラフルオロボレート)、メ
トキシフェニルヨードニウムトリフルオロメタンスルホ
ネート、ジフェニルヨードニウムトリフルオロメタンス
ルホネート、アミノフェニルベンゼンジアゾニウムテト
ラフルオロボレート、ピレンジアゾニウムテトラフルオ
ロボレート等が挙げられる。これらは単独で用いてもよ
いし、複数組み合わせてもよい。
【0026】また、感度向上のために増感剤を組み合わ
せてもよい。増感剤としては、2−ニトロフルオレン、
2,4,7−トリニトロフルオレン、ベンズアンスロ
ン、ピクラミド、1,2−ベンズアントラキノン、11
−クロロ−6−ヒドロキシベンズアンスロン、フェナン
スラキノン、4−(4−ブトキシフェニル)−2,6−
ジフェニルチオピリリウムパークロレート等が例示され
る。
せてもよい。増感剤としては、2−ニトロフルオレン、
2,4,7−トリニトロフルオレン、ベンズアンスロ
ン、ピクラミド、1,2−ベンズアントラキノン、11
−クロロ−6−ヒドロキシベンズアンスロン、フェナン
スラキノン、4−(4−ブトキシフェニル)−2,6−
ジフェニルチオピリリウムパークロレート等が例示され
る。
【0027】重合可能な不飽和結合を有する化合物とし
ては、種々のビニルモノマー、ビニルオリゴマーが例示
できる。具体的には、アクリレートモノマー、メチクリ
レートモノマー等が挙げられ、エチレングリコールやト
リメチロールプロパノールのような多価アルコールとア
クリル酸及びメタクリル酸とのエステル、ポリビニルア
ルコールのようなアルコール性水酸基をもつポリマーや
オリゴマーとの上記エステルも含まれる。また、アクリ
レートメラミン、メタクリレートメラミン、ウレタンメ
タクリレート、ウレタンアクリレート等も本発明に含ま
れる。より具体的には、2−ヒドロキシエチルメタクリ
レート、n−ブチルメタクリレート、グリシジルメタク
リレート、2−エチルヘキシルアクリレート、ジエチレ
ングリコールジメタクリレート、ポリエチレングリコー
ルメタクリレート、トリメチロールエタンテトラメタク
リレート、テトラメチロールメタンテトラアクリレート
等が挙げられる。これらは単独で用いてもよいし、二種
以上組み合わせて用いてもよい。
ては、種々のビニルモノマー、ビニルオリゴマーが例示
できる。具体的には、アクリレートモノマー、メチクリ
レートモノマー等が挙げられ、エチレングリコールやト
リメチロールプロパノールのような多価アルコールとア
クリル酸及びメタクリル酸とのエステル、ポリビニルア
ルコールのようなアルコール性水酸基をもつポリマーや
オリゴマーとの上記エステルも含まれる。また、アクリ
レートメラミン、メタクリレートメラミン、ウレタンメ
タクリレート、ウレタンアクリレート等も本発明に含ま
れる。より具体的には、2−ヒドロキシエチルメタクリ
レート、n−ブチルメタクリレート、グリシジルメタク
リレート、2−エチルヘキシルアクリレート、ジエチレ
ングリコールジメタクリレート、ポリエチレングリコー
ルメタクリレート、トリメチロールエタンテトラメタク
リレート、テトラメチロールメタンテトラアクリレート
等が挙げられる。これらは単独で用いてもよいし、二種
以上組み合わせて用いてもよい。
【0028】また、本発明の組成物においては、前記
(a)〜(c)成分、前記(a)〜(d)成分又は前記
(a)〜(e)成分を含むコーティング組成物に、更に
レベリング剤、密着性改善剤等を混合することもでき
る。使用されるレベリング剤としては、例えばシラン系
レベリング剤として、ポリエーテルジメチルポリシロキ
サン系のBYK300、BYK301、BYK306、
BYK335、BYK330、BYK331、BYK9
41、BYK344、BYK346、BYK302、B
YK164等、ポリエーテル変性ジメチルアルキルポリ
シロキサン系のBYK320、BYK325、BYK0
77、ポリエステル変性ジメチルアルキルポリシロキサ
ン系のBYK322、BYK075〔すべてビーワイケ
イ・シェミー社(BYK CHEMIE)製〕が挙げら
れる。
(a)〜(c)成分、前記(a)〜(d)成分又は前記
(a)〜(e)成分を含むコーティング組成物に、更に
レベリング剤、密着性改善剤等を混合することもでき
る。使用されるレベリング剤としては、例えばシラン系
レベリング剤として、ポリエーテルジメチルポリシロキ
サン系のBYK300、BYK301、BYK306、
BYK335、BYK330、BYK331、BYK9
41、BYK344、BYK346、BYK302、B
YK164等、ポリエーテル変性ジメチルアルキルポリ
シロキサン系のBYK320、BYK325、BYK0
77、ポリエステル変性ジメチルアルキルポリシロキサ
ン系のBYK322、BYK075〔すべてビーワイケ
イ・シェミー社(BYK CHEMIE)製〕が挙げら
れる。
【0029】また、フッ素系レベリング剤としては、フ
ルオロアルキルカルボン酸、N−パーフルオロオクタン
スルホニルグルタミン酸ジナトリウム、3−〔ω−フル
オロアルキルオキシ〕−1−アルキルスルホン酸ナトリ
ウム、パーフルオロカルボン酸、パーフルオロオクタン
スルホン酸ジエタノールアミド、パーフルオロアルキル
スルホンアミドプロピルトリメチルアンモニウム塩、モ
ノパーフルオロアルキルエチルリン酸エステル等が挙げ
られる。
ルオロアルキルカルボン酸、N−パーフルオロオクタン
スルホニルグルタミン酸ジナトリウム、3−〔ω−フル
オロアルキルオキシ〕−1−アルキルスルホン酸ナトリ
ウム、パーフルオロカルボン酸、パーフルオロオクタン
スルホン酸ジエタノールアミド、パーフルオロアルキル
スルホンアミドプロピルトリメチルアンモニウム塩、モ
ノパーフルオロアルキルエチルリン酸エステル等が挙げ
られる。
【0030】使用される密着性改善剤としては、例え
ば、アルコキシシラン化合物、アルコキシチタン化合
物、アルコキシジルコニウム化合物、アルコキシアルミ
ニウム化合物が挙げられる。具体的には、アルコキシシ
ラン化合物としては、次のものが挙げられる。ビニルト
リエトキシシラン、ビニルトリス(β−メトキシ・エト
キシ)シラン、β−(3,4−エポキシシクロヘキシ
ル)エチルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロ
ピルメトキシシラン、γ−メタクリルオキシプロピルト
リメトキシシラン、N−β(アミノエチル)−γ−アミ
ノプロピルトリメトキシシラン、N−β(アミノエチ
ル)−γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ
−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−クロロプロ
ピルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリ
メトキシシラン、γ−クロロプロピルメチルジメトキシ
シラン、γ−クロロプロピルメチルジエトキシシラン、
γ−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ
−メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ
−ウレイドプロピルトリエトキシシラン等。
ば、アルコキシシラン化合物、アルコキシチタン化合
物、アルコキシジルコニウム化合物、アルコキシアルミ
ニウム化合物が挙げられる。具体的には、アルコキシシ
ラン化合物としては、次のものが挙げられる。ビニルト
リエトキシシラン、ビニルトリス(β−メトキシ・エト
キシ)シラン、β−(3,4−エポキシシクロヘキシ
ル)エチルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロ
ピルメトキシシラン、γ−メタクリルオキシプロピルト
リメトキシシラン、N−β(アミノエチル)−γ−アミ
ノプロピルトリメトキシシラン、N−β(アミノエチ
ル)−γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ
−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−クロロプロ
ピルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリ
メトキシシラン、γ−クロロプロピルメチルジメトキシ
シラン、γ−クロロプロピルメチルジエトキシシラン、
γ−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ
−メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ
−ウレイドプロピルトリエトキシシラン等。
【0031】また、アルコキシアルミニウム化合物とし
ては、次のものが挙げられる。アセトアルコキシアルミ
ニウムジイソプロピレート、アルミニウムイソプロピレ
ート、モノsec−ブトキシアルミニウムジイソプロピ
レート、アルミニウムsec−ブチレート、エチルアセ
トアセテートアルミニウムジイソプロピレート、アルミ
ニウムトリス(エチルアセトアセテート)、アルミニウ
ムモノ−アセチルアセトナートビス(エチルアセトアセ
テート)、アルミニウムジ−sec−ブトキシモノエチ
ルアセトアセテート等。
ては、次のものが挙げられる。アセトアルコキシアルミ
ニウムジイソプロピレート、アルミニウムイソプロピレ
ート、モノsec−ブトキシアルミニウムジイソプロピ
レート、アルミニウムsec−ブチレート、エチルアセ
トアセテートアルミニウムジイソプロピレート、アルミ
ニウムトリス(エチルアセトアセテート)、アルミニウ
ムモノ−アセチルアセトナートビス(エチルアセトアセ
テート)、アルミニウムジ−sec−ブトキシモノエチ
ルアセトアセテート等。
【0032】また、アルコキシチタン化合物、アルコキ
シジルコニウム化合物としては、次のものが挙げられ
る。イソプロピルトリイソステアロイルチタネート、イ
ソプロピルトリデシルベンゼンスルホニルチタネート、
イソプロピルトリス(ジオクチルパイロホスフェート)
チタネート、テトライソプロピルビス(ジオクチルホス
ファイト)チタネート、テトラオクチルビス(ジトリデ
シルホスファイト)チタネート、テトラ(2,2−ジア
リルオキシメチル−1−ブチル)ビス(ジ−トリデシ
ル)ホスファイトチタネート、トリス(ジオクチルパイ
ロホスフェート)エチルチタネート、ジルコニウム−n
−プロピレート、ジルコニウム−n−ブチレート、テト
ラ−n−ブトキシジルコニウム等。
シジルコニウム化合物としては、次のものが挙げられ
る。イソプロピルトリイソステアロイルチタネート、イ
ソプロピルトリデシルベンゼンスルホニルチタネート、
イソプロピルトリス(ジオクチルパイロホスフェート)
チタネート、テトライソプロピルビス(ジオクチルホス
ファイト)チタネート、テトラオクチルビス(ジトリデ
シルホスファイト)チタネート、テトラ(2,2−ジア
リルオキシメチル−1−ブチル)ビス(ジ−トリデシ
ル)ホスファイトチタネート、トリス(ジオクチルパイ
ロホスフェート)エチルチタネート、ジルコニウム−n
−プロピレート、ジルコニウム−n−ブチレート、テト
ラ−n−ブトキシジルコニウム等。
【0033】更に、上記のほかに、例えば下記式で示さ
れるオルガノシロキサン化合物等が挙げられる。
れるオルガノシロキサン化合物等が挙げられる。
【化8】 〔式中、それぞれのR2は、同一か又は異なり、非置換
のアルキル基、又は置換基としてのアミノ基、ハロゲン
原子、シアノ基、水酸基、α−メルカプト基又はグリシ
ジル基で置換されたアルキル基、非置換のフェニル基、
又はジメチルシリル基で置換されたフェニル基、(p−
アクリロキシメチル基)フェネチル基、アルキルフェネ
チル基、ベンジル基、ビニル基よりなる群より選択され
る基であり、それぞれのR3は同一か又は異なり、水素
原子、アルキル基、アリール基、フルオロアルキル基;
又はアルキル基又はアリール基で置換されたシロキサン
基であり、nは1〜13の整数である。〕
のアルキル基、又は置換基としてのアミノ基、ハロゲン
原子、シアノ基、水酸基、α−メルカプト基又はグリシ
ジル基で置換されたアルキル基、非置換のフェニル基、
又はジメチルシリル基で置換されたフェニル基、(p−
アクリロキシメチル基)フェネチル基、アルキルフェネ
チル基、ベンジル基、ビニル基よりなる群より選択され
る基であり、それぞれのR3は同一か又は異なり、水素
原子、アルキル基、アリール基、フルオロアルキル基;
又はアルキル基又はアリール基で置換されたシロキサン
基であり、nは1〜13の整数である。〕
【0034】本発明によるエポキシ系硬化剤を添加する
ことにより、感光性樹脂保護膜ないし熱硬化性樹脂保護
膜では、耐熱性、耐薬品性が向上し、また密着性も著し
く向上し、感光性コーティング組成物の場合、現像時間
の許容範囲が広がる。本発明による硬化剤が、現像工程
において現像時間の許容範囲を広げる理由は定かではな
いが、おそらく、従来の保護膜では、基板との接着が弱
く、現像液が基板と保護膜又はカラーフィルターと保護
膜の間に入り込み、剥離を起こすと推定される。よっ
て、本発明によるエポキシ系硬化剤は、基板又はカラー
フィルターとの界面の接着性を改善し、現像時間の許容
範囲及び密着性を改善するのみならず、耐熱性、耐薬品
性もあわせて改善することができる。
ことにより、感光性樹脂保護膜ないし熱硬化性樹脂保護
膜では、耐熱性、耐薬品性が向上し、また密着性も著し
く向上し、感光性コーティング組成物の場合、現像時間
の許容範囲が広がる。本発明による硬化剤が、現像工程
において現像時間の許容範囲を広げる理由は定かではな
いが、おそらく、従来の保護膜では、基板との接着が弱
く、現像液が基板と保護膜又はカラーフィルターと保護
膜の間に入り込み、剥離を起こすと推定される。よっ
て、本発明によるエポキシ系硬化剤は、基板又はカラー
フィルターとの界面の接着性を改善し、現像時間の許容
範囲及び密着性を改善するのみならず、耐熱性、耐薬品
性もあわせて改善することができる。
【0035】本発明のコーティング組成物を基材に適用
する方法としては、スプレー、流し塗り、ロール塗布、
スピンコート、ディップ塗布により、例えば0.5〜1
0μmの厚さに塗布することができる。次いで溶剤を蒸
着により除去し、パターン形成用材料を基材上に残す。
溶剤の除去は、所望により加熱減圧により促進すること
ができる。加熱温度は、上記のコーティング組成物中の
固形分であるパターン形成用材及び基材の劣化が起こら
ないことが重要であり、例えば150℃まで加熱するこ
とができる。感光性樹脂の場合、次いでその層にパター
ンを映すように活性線を照射する。次いで、その層を現
像液で処理し、照射された部分が不溶化され、未照射部
分を溶解してパターンを出現させる。また、照射後、加
熱した後現像してもよい。この加熱により例えば感度を
更に向上させることができる。加熱温度としては、パタ
ーンの形状、基材の劣化等か起こらないことが望まし
く、例えば200℃以下で行なうことができる。上記照
射に用いる光源としては、例えば190〜450nm、
好ましくは200〜400nm領域のUV照射が挙げら
れ、また電子線あるいはX線照射も用いられる。パター
ン端部の傾斜をなだらかにするために、通常数マイクロ
メーターのUV照射時に、層表面とマスクとの距離をお
いて露光してもよい。上記層表面とマスク間の距離は、
所望する形状によって異なるが、一般に0.2〜200
μmである。また、ステッパー、ミラープロジェクショ
ン等の露光装置を用いて、パターンの結像位置を層の上
下に調節して、パターン端部の傾斜をなだらかにするこ
とも可能である。
する方法としては、スプレー、流し塗り、ロール塗布、
スピンコート、ディップ塗布により、例えば0.5〜1
0μmの厚さに塗布することができる。次いで溶剤を蒸
着により除去し、パターン形成用材料を基材上に残す。
溶剤の除去は、所望により加熱減圧により促進すること
ができる。加熱温度は、上記のコーティング組成物中の
固形分であるパターン形成用材及び基材の劣化が起こら
ないことが重要であり、例えば150℃まで加熱するこ
とができる。感光性樹脂の場合、次いでその層にパター
ンを映すように活性線を照射する。次いで、その層を現
像液で処理し、照射された部分が不溶化され、未照射部
分を溶解してパターンを出現させる。また、照射後、加
熱した後現像してもよい。この加熱により例えば感度を
更に向上させることができる。加熱温度としては、パタ
ーンの形状、基材の劣化等か起こらないことが望まし
く、例えば200℃以下で行なうことができる。上記照
射に用いる光源としては、例えば190〜450nm、
好ましくは200〜400nm領域のUV照射が挙げら
れ、また電子線あるいはX線照射も用いられる。パター
ン端部の傾斜をなだらかにするために、通常数マイクロ
メーターのUV照射時に、層表面とマスクとの距離をお
いて露光してもよい。上記層表面とマスク間の距離は、
所望する形状によって異なるが、一般に0.2〜200
μmである。また、ステッパー、ミラープロジェクショ
ン等の露光装置を用いて、パターンの結像位置を層の上
下に調節して、パターン端部の傾斜をなだらかにするこ
とも可能である。
【0036】また、現像により得たパターンをさらに加
熱、あるいは活性線照射等により硬化させ、耐クラック
性、耐溶剤性等を向上させることが好ましい。前記にお
いて現像液としては、例えばアルカリ金属及び/又はア
ルカリ土類金属、特にアンモニウムイオンのケイ酸塩、
メタケイ酸塩、水酸化物、リン酸水素塩、アンモニア等
を使用する。なお、金属イオンを含まない現像剤とし
て、例えばUSP4,729,941号、EP−A6
2,733号明細書等に記載の公知のものを使用するこ
とができる。また、現像液に界面活性剤、洗浄剤、有機
溶剤等を添加してもよい。上記目的で現像液に添加する
ものとしては、例えばノニオン系活性剤、イオン系活性
剤、アルコール、カルボン酸、アミン及びそれらの誘導
体が挙げられ、具体的には、ポリアルキレングリコール
及びそのエステル、ポリオキシアルキレン、多価アルコ
ールエステルアルキレンオキシド付加物、アルコールア
ルキレンオキシド付加物、アルキルフェノールアルキレ
ノキシド付加物、スルホン酸エステル、スルホン酸塩、
カルボン酸エステル、カルボン酸塩、アルキルアミドア
ルキレンオキシド付加物、アルキルアミン等が挙げられ
る。これらは単独で添加してもよいし、二種以上組み合
わせて添加してもよい。なお、この場合の添加量は、好
ましくは現像液に対して0.1〜0.3重量%である。
熱、あるいは活性線照射等により硬化させ、耐クラック
性、耐溶剤性等を向上させることが好ましい。前記にお
いて現像液としては、例えばアルカリ金属及び/又はア
ルカリ土類金属、特にアンモニウムイオンのケイ酸塩、
メタケイ酸塩、水酸化物、リン酸水素塩、アンモニア等
を使用する。なお、金属イオンを含まない現像剤とし
て、例えばUSP4,729,941号、EP−A6
2,733号明細書等に記載の公知のものを使用するこ
とができる。また、現像液に界面活性剤、洗浄剤、有機
溶剤等を添加してもよい。上記目的で現像液に添加する
ものとしては、例えばノニオン系活性剤、イオン系活性
剤、アルコール、カルボン酸、アミン及びそれらの誘導
体が挙げられ、具体的には、ポリアルキレングリコール
及びそのエステル、ポリオキシアルキレン、多価アルコ
ールエステルアルキレンオキシド付加物、アルコールア
ルキレンオキシド付加物、アルキルフェノールアルキレ
ノキシド付加物、スルホン酸エステル、スルホン酸塩、
カルボン酸エステル、カルボン酸塩、アルキルアミドア
ルキレンオキシド付加物、アルキルアミン等が挙げられ
る。これらは単独で添加してもよいし、二種以上組み合
わせて添加してもよい。なお、この場合の添加量は、好
ましくは現像液に対して0.1〜0.3重量%である。
【0037】熱硬化性樹脂の場合は、同様に塗布後10
0℃前後で溶媒乾燥後、190℃から250℃において
ホットプレート上で10分から20分間熱処理し、好ま
しくは230℃、20分間熱処理することにより、耐熱
性・耐薬品性の優れた保護膜を得ることができる。感光
性樹脂の場合も、現像後190℃から250℃において
ホットプレート上で10分から20分間熱処理すること
により、好ましくは230℃、20分間熱処理すること
により、耐熱性・耐薬品性の優れた保護膜を得ることが
できる。
0℃前後で溶媒乾燥後、190℃から250℃において
ホットプレート上で10分から20分間熱処理し、好ま
しくは230℃、20分間熱処理することにより、耐熱
性・耐薬品性の優れた保護膜を得ることができる。感光
性樹脂の場合も、現像後190℃から250℃において
ホットプレート上で10分から20分間熱処理すること
により、好ましくは230℃、20分間熱処理すること
により、耐熱性・耐薬品性の優れた保護膜を得ることが
できる。
【0038】
【実施例】以下、実施例により本発明を更に具体的に説
明する。なお、本発明はこの実施例により限定されるも
のではない。
明する。なお、本発明はこの実施例により限定されるも
のではない。
【0039】実施例1 感光性コーティング組成物として下記の試料を作成し
た。 ポリマー1(メタクリル酸/メタクリル酸メチル 共重合体のグリシジルメタクリレート付加物) 91g 2,4−ビス(トリクロロメチル)−6−スチリル −s−トリアジン 5g 1,6−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル(エポキシ系硬化剤)3g γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン 1g 上記組成物に対して溶剤としてプロピレングリコールメ
チルエーテルアセテートを加え、上記非溶剤成分が20
重量%含有される組成物を調製した。
た。 ポリマー1(メタクリル酸/メタクリル酸メチル 共重合体のグリシジルメタクリレート付加物) 91g 2,4−ビス(トリクロロメチル)−6−スチリル −s−トリアジン 5g 1,6−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル(エポキシ系硬化剤)3g γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン 1g 上記組成物に対して溶剤としてプロピレングリコールメ
チルエーテルアセテートを加え、上記非溶剤成分が20
重量%含有される組成物を調製した。
【0040】前記の組成物を1.2μmのカラーフィル
ターを形成した基板上に膜厚2.0μmにスピンコート
し、次いでホットプレート上で100℃で1分間乾燥さ
せた。該感光性コーティング層を所定形状のマスクを介
して、高圧水銀灯で約100μmのPROXIMITY
露光を行なった。次いで、パターン露光した感光性コー
ティング層を、0.05N水酸化カリウム水溶液で現像
して、パターンを得た。その後230℃のホットプレー
ト上で10分間熱硬化した。このようにして得た保護膜
パターンは、密着性、耐磨耗性、耐汚染性、耐薬品性の
優れたものであり、またエッジの緩やかなものであっ
た。
ターを形成した基板上に膜厚2.0μmにスピンコート
し、次いでホットプレート上で100℃で1分間乾燥さ
せた。該感光性コーティング層を所定形状のマスクを介
して、高圧水銀灯で約100μmのPROXIMITY
露光を行なった。次いで、パターン露光した感光性コー
ティング層を、0.05N水酸化カリウム水溶液で現像
して、パターンを得た。その後230℃のホットプレー
ト上で10分間熱硬化した。このようにして得た保護膜
パターンは、密着性、耐磨耗性、耐汚染性、耐薬品性の
優れたものであり、またエッジの緩やかなものであっ
た。
【0041】実施例2 実施例1の組成物において、エポキシ系硬化剤としてポ
リ(オキシエチレン)−α,ω−ジグリシジルエーテル
を用いたこと以外は、実施例1と同様にして感光性樹脂
組成物を調製し、PROXIMITY露光、現像を行な
った。密着性、耐磨耗性、耐汚染性、耐薬品性の優れ
た、またエッジの緩やかなパターンが得られた。
リ(オキシエチレン)−α,ω−ジグリシジルエーテル
を用いたこと以外は、実施例1と同様にして感光性樹脂
組成物を調製し、PROXIMITY露光、現像を行な
った。密着性、耐磨耗性、耐汚染性、耐薬品性の優れ
た、またエッジの緩やかなパターンが得られた。
【0042】実施例3 実施例1の組成物において、エポキシ系硬化剤としてポ
リ(オキシテトラメチレン)−α,ω−ジグリシジルエ
ーテルを用いたこと以外は、実施例1と同様にして感光
性コーティング組成物を調製し、PROXIMITY露
光、現像を行なった。密着性、耐磨耗性、耐汚染性、耐
薬品性の優れた、またエッジの緩やかなパターンが得ら
れた。
リ(オキシテトラメチレン)−α,ω−ジグリシジルエ
ーテルを用いたこと以外は、実施例1と同様にして感光
性コーティング組成物を調製し、PROXIMITY露
光、現像を行なった。密着性、耐磨耗性、耐汚染性、耐
薬品性の優れた、またエッジの緩やかなパターンが得ら
れた。
【0043】実施例4 実施例1の組成物において、エポキシ系硬化剤としてト
リメチロールプロパンジグリシジルエーテルを用いたこ
と以外は、実施例1と同様にして感光性コーテイング組
成物を調製し、PROXIMITY露光、現像を行なっ
た。密着性、耐磨耗性、耐汚染性、耐薬品性の優れた、
またエッジの緩やかなパターンが得られた。
リメチロールプロパンジグリシジルエーテルを用いたこ
と以外は、実施例1と同様にして感光性コーテイング組
成物を調製し、PROXIMITY露光、現像を行なっ
た。密着性、耐磨耗性、耐汚染性、耐薬品性の優れた、
またエッジの緩やかなパターンが得られた。
【0044】実施例5 実施例1の組成物において、エポキシ系硬化剤としてグ
リセロールトリグリシジルエーテルを用いたこと以外
は、実施例1と同様にして感光性コーティング組成物を
調製し、PROXIMITY露光、現像を行なった。密
着性、耐磨耗性、耐汚染性、耐薬品性の優れた、またエ
ッジの緩やかなパターンが得られた。
リセロールトリグリシジルエーテルを用いたこと以外
は、実施例1と同様にして感光性コーティング組成物を
調製し、PROXIMITY露光、現像を行なった。密
着性、耐磨耗性、耐汚染性、耐薬品性の優れた、またエ
ッジの緩やかなパターンが得られた。
【0045】実施例6 実施例1の組成物において、エポキシ系硬化剤としてポ
リ(オキシエチレン)−α−ラウリル−ω−グリシジル
エーテルを用いたこと以外は、実施例1と同様にして感
光性コーティング組成物を調製し、PROXIMITY
露光、現像を行なった。密着性、耐磨耗性、耐汚染性、
耐薬品性の優れた、またエッジの緩やかなパターンが得
られた。
リ(オキシエチレン)−α−ラウリル−ω−グリシジル
エーテルを用いたこと以外は、実施例1と同様にして感
光性コーティング組成物を調製し、PROXIMITY
露光、現像を行なった。密着性、耐磨耗性、耐汚染性、
耐薬品性の優れた、またエッジの緩やかなパターンが得
られた。
【0046】実施例7 実施例1の組成物において、エポキシ系硬化剤としてア
ジピン酸グリシジルエステルを用いたこと以外は、実施
例1と同様にしてPROXIMITY露光、現像を行な
った。密着性、耐磨耗性、耐汚染性、耐薬品性の優れ
た、またエッジの緩やかなパターンが得られた。
ジピン酸グリシジルエステルを用いたこと以外は、実施
例1と同様にしてPROXIMITY露光、現像を行な
った。密着性、耐磨耗性、耐汚染性、耐薬品性の優れ
た、またエッジの緩やかなパターンが得られた。
【0047】実施例8 実施例1の組成物において、エポキシ系硬化剤としてア
ルキルグリシジルエーテルを用いたこと以外は、実施例
1と同様にして感光性コーティング組成物を調製し、P
ROXIMITY露光、現像を行なった。密着性、耐磨
耗性、耐汚染性、耐薬品性の優れた、またエッジの緩や
かなパターンが得られた。
ルキルグリシジルエーテルを用いたこと以外は、実施例
1と同様にして感光性コーティング組成物を調製し、P
ROXIMITY露光、現像を行なった。密着性、耐磨
耗性、耐汚染性、耐薬品性の優れた、またエッジの緩や
かなパターンが得られた。
【0048】実施例9 熱硬化性コーティング組成物として、下記の試料を作成
した。 ポリマー1 95.5g 1,6−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル 3g γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン 1g BYK300 0.5g 上記組成物に対して溶剤としてプロピレングリコールメ
チルエーテルアセテートを加え、非溶剤成分が20重量
%含有される組成物を調製した。
した。 ポリマー1 95.5g 1,6−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル 3g γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン 1g BYK300 0.5g 上記組成物に対して溶剤としてプロピレングリコールメ
チルエーテルアセテートを加え、非溶剤成分が20重量
%含有される組成物を調製した。
【0049】前記の組成物をそれぞれ1.2μmのカラ
ーフィルターを形成した基板上に膜厚1.5μmにスピ
ンコートし、次いでホットプレート上で100℃で1分
間乾燥させた。その後230℃のホットプレート上で2
0分間熱硬化した。このようにして得た保護膜パターン
は、密着性、耐磨耗性、耐汚染性、耐薬品性の優れた、
また400nm以上の可視光において透明性の良い保護
膜が得られた。
ーフィルターを形成した基板上に膜厚1.5μmにスピ
ンコートし、次いでホットプレート上で100℃で1分
間乾燥させた。その後230℃のホットプレート上で2
0分間熱硬化した。このようにして得た保護膜パターン
は、密着性、耐磨耗性、耐汚染性、耐薬品性の優れた、
また400nm以上の可視光において透明性の良い保護
膜が得られた。
【0050】実施例10 実施例9の組成物において、エポキシ系硬化剤としてポ
リ(オキシエチレン)−α,ω−ジグリシジルエーテル
を用いたこと以外は、実施例9と同様にして熱硬化性コ
ーティング組成物を調製し、保護膜を得た。密着性、耐
磨耗性、耐汚染性、耐薬品性の優れた、また400nm
以上の可視光において透明性の良い保護膜パターンが得
られた。
リ(オキシエチレン)−α,ω−ジグリシジルエーテル
を用いたこと以外は、実施例9と同様にして熱硬化性コ
ーティング組成物を調製し、保護膜を得た。密着性、耐
磨耗性、耐汚染性、耐薬品性の優れた、また400nm
以上の可視光において透明性の良い保護膜パターンが得
られた。
【0051】実施例11 実施例9の組成物において、エポキシ系硬化剤としてポ
リ(オキシテトラメチレン)−α,ω−ジグリシジルエ
ーテルを用いたこと以外は、実施例9と同様にして熱硬
化性コーティング組成物を調製し、保護膜を得た。密着
性、耐磨耗性、耐汚染性、耐薬品性の優れた、また40
0nm以上の可視光において透明性の良い保護膜パター
ンが得られた。
リ(オキシテトラメチレン)−α,ω−ジグリシジルエ
ーテルを用いたこと以外は、実施例9と同様にして熱硬
化性コーティング組成物を調製し、保護膜を得た。密着
性、耐磨耗性、耐汚染性、耐薬品性の優れた、また40
0nm以上の可視光において透明性の良い保護膜パター
ンが得られた。
【0052】実施例12 エポキシ系硬化剤としてトリメチロールプロパンジグリ
シジルエーテルを用いたこと以外は、実施例9と同様に
して熱硬化性コーティング組成物を調製し、保護膜を得
た。密着性、耐磨耗性、耐汚染性、耐薬品性の優れた、
保護膜パターンが得られ、また400nm以上の可視光
において透明性の良い保護膜であった。
シジルエーテルを用いたこと以外は、実施例9と同様に
して熱硬化性コーティング組成物を調製し、保護膜を得
た。密着性、耐磨耗性、耐汚染性、耐薬品性の優れた、
保護膜パターンが得られ、また400nm以上の可視光
において透明性の良い保護膜であった。
【0053】実施例13 エポキシ系硬化剤としてグリセロールトリグリシジルエ
ーテルを用いたこと以外は、実施例9と同様にして、熱
硬化性コーティング組成物を調製し、保護膜を得た。密
着性、耐磨耗性、耐汚染性、耐薬品性の優れた、また4
00nm以上の可視光において透明性の良い保護膜パタ
ーンが得られた。
ーテルを用いたこと以外は、実施例9と同様にして、熱
硬化性コーティング組成物を調製し、保護膜を得た。密
着性、耐磨耗性、耐汚染性、耐薬品性の優れた、また4
00nm以上の可視光において透明性の良い保護膜パタ
ーンが得られた。
【0054】実施例14 エポキシ系硬化剤としてポリ(オキシエチレン)−α−
ラウリル−ω−グリシジルエーテルを用いたこと以外
は、実施例9と同様にして、熱硬化性コーティング組成
物を調製し、保護膜を得た。密着性、耐磨耗性、耐汚染
性、耐薬品性の優れた、保護膜パターンが得られ、また
400nm以上の可視光において透明性の良い保護膜で
あった。
ラウリル−ω−グリシジルエーテルを用いたこと以外
は、実施例9と同様にして、熱硬化性コーティング組成
物を調製し、保護膜を得た。密着性、耐磨耗性、耐汚染
性、耐薬品性の優れた、保護膜パターンが得られ、また
400nm以上の可視光において透明性の良い保護膜で
あった。
【0055】実施例15 エポキシ系硬化剤としてアジピン酸ジグリシジルエステ
ルを用いたこと以外は、実施例9と同様にして、熱硬化
性コーティング組成物を調製し、保護膜を得た。密着
性、耐磨耗性、耐汚染性、耐薬品性の優れた、保護膜パ
ターンが得られ、また400nm以上の可視光において
透明性の良い保護膜であった。
ルを用いたこと以外は、実施例9と同様にして、熱硬化
性コーティング組成物を調製し、保護膜を得た。密着
性、耐磨耗性、耐汚染性、耐薬品性の優れた、保護膜パ
ターンが得られ、また400nm以上の可視光において
透明性の良い保護膜であった。
【0056】実施例16 エポキシ系硬化剤としてアルキルグリシジルエーテルを
用いたこと以外は、実施例9と同様にして、熱硬化性コ
ーティング組成物を調製し、保護膜を得た。密着性、耐
磨耗性、耐汚染性、耐薬品性の優れた、保護膜パターン
が得られ、また400nm以上の可視光において透明性
の良い保護膜であった。
用いたこと以外は、実施例9と同様にして、熱硬化性コ
ーティング組成物を調製し、保護膜を得た。密着性、耐
磨耗性、耐汚染性、耐薬品性の優れた、保護膜パターン
が得られ、また400nm以上の可視光において透明性
の良い保護膜であった。
【0057】実施例17〜20 実施例1の組成物において、ポリマー1の代わりに下記
のポリマー2〜5を用いたこと以外は、実施例1と同様
にして感光性コーティング組成物を調製し、PROXIMITY
露光、現像を行った。密着性、耐磨耗性、耐汚染性、耐
薬品性の優れた、400μm以上の可視光において透明
性のよい、エッジの緩やかなパターンが得られた。 2.ポリ(メタクリル酸)0.25−co−(ベンジルメタ
クリレート)0.75 分子量 約30、000 3.ポリ(メタクリル酸)0.3−co−(ベンジルメタ
クリレート)0.7 分子量 約25、000 4.ポリ(スチレン)0.8−co−(メタクリル酸)0.2 分子量 約15、000 5.ポリ(メタクリル酸)0.2−co−(ブチルメタク
リレート)0.8 分子量 約45、000
のポリマー2〜5を用いたこと以外は、実施例1と同様
にして感光性コーティング組成物を調製し、PROXIMITY
露光、現像を行った。密着性、耐磨耗性、耐汚染性、耐
薬品性の優れた、400μm以上の可視光において透明
性のよい、エッジの緩やかなパターンが得られた。 2.ポリ(メタクリル酸)0.25−co−(ベンジルメタ
クリレート)0.75 分子量 約30、000 3.ポリ(メタクリル酸)0.3−co−(ベンジルメタ
クリレート)0.7 分子量 約25、000 4.ポリ(スチレン)0.8−co−(メタクリル酸)0.2 分子量 約15、000 5.ポリ(メタクリル酸)0.2−co−(ブチルメタク
リレート)0.8 分子量 約45、000
【0058】実施例21〜24 実施例9の組成物において、ポリマー1の代わりに上記
のポリマー2〜5を用いたこと以外は、実施例9と同様
にして熱硬化性コーティング組成物を調製し、保護膜を
得た。密着性、耐汚染性、耐薬品性の優れた、400μ
m以上の可視光において透明性のよい、エッジの緩やか
なパターンが得られた。
のポリマー2〜5を用いたこと以外は、実施例9と同様
にして熱硬化性コーティング組成物を調製し、保護膜を
得た。密着性、耐汚染性、耐薬品性の優れた、400μ
m以上の可視光において透明性のよい、エッジの緩やか
なパターンが得られた。
【0059】
【発明の効果】本発明のコーティング組成物は、前記構
成としたことから、密着性、耐磨耗性、耐汚染性、耐薬
品性、耐熱性及び平滑性に優れた保護膜を安価な硬化剤
を用いて得ることができるので、工業上の利用値価は極
めて大きい。
成としたことから、密着性、耐磨耗性、耐汚染性、耐薬
品性、耐熱性及び平滑性に優れた保護膜を安価な硬化剤
を用いて得ることができるので、工業上の利用値価は極
めて大きい。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (71)出願人 597143498 Rothausstrasse 61,CH −4132 Muttenzl,Switze rland
Claims (6)
- 【請求項1】(a)少なくともカルボキシル基を含むポ
リマー、 (b)溶剤、及び (c)エポキシ系硬化剤 を必須成分として含むコーティング組成物において、前
記エポキシ系硬化剤が、脂肪族多価アルコールポリグリ
シジル−エーテル又は−エステルであることを特徴とす
るコーティング組成物。 - 【請求項2】 前記ポリマー成分(a)が、アルカリ水
溶液に可溶又は少なくとも膨潤するポリマーであって、 (d)活性線照射重合開始剤を更に含むことを特徴とす
る請求項1に記載のコーティング組成物。 - 【請求項3】(e)重合可能な不飽和結合を有する化合
物を更に含むことを特徴とする請求項2に記載のコーテ
ィング組成物。 - 【請求項4】 前記ポリマー成分(a)が、少なくとも
下記式(I)又は(II)で示されるセグメントを含む重
合体である請求項1〜3のいずれかに記載のコーティン
グ組成物。 【化1】 【化2】 - 【請求項5】 前記ポリマー成分(a)が、少なくとも
アクリル酸若しくはメタクリル酸と下記式(III)〜(V
I)で示される少なくとも1種のモノマーとの共重合体
である請求項1〜4のいずれかに記載のコーティング組
成物。 【化3】 【化4】CH2=CHCO2R
(IV) (式中、Rは前記と同じ基を示す。) 【化5】 【化6】 (式中、R1は低級アルキル基、芳香族炭化水素基、水
酸基を有する低級アルキル基又は水酸基を有する芳香族
炭化水酸基を示す。) - 【請求項6】 前記ポリマー成分(a)が、分子構造中
重合可能な不飽和結合を有する化合物との反応生成物で
ある請求項4又は5に記載のコーティング組成物。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8252479A JPH1088062A (ja) | 1996-09-03 | 1996-09-03 | コーティング組成物 |
| KR1019970045579A KR19980024290A (ko) | 1996-09-03 | 1997-09-03 | 코팅 조성물 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8252479A JPH1088062A (ja) | 1996-09-03 | 1996-09-03 | コーティング組成物 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1088062A true JPH1088062A (ja) | 1998-04-07 |
Family
ID=17237960
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8252479A Pending JPH1088062A (ja) | 1996-09-03 | 1996-09-03 | コーティング組成物 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH1088062A (ja) |
| KR (1) | KR19980024290A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2004101677A1 (en) * | 2004-04-21 | 2004-11-25 | Achilles Corporation | Heat-resistant soft resinous sheet articles and compositions therefor |
-
1996
- 1996-09-03 JP JP8252479A patent/JPH1088062A/ja active Pending
-
1997
- 1997-09-03 KR KR1019970045579A patent/KR19980024290A/ko not_active Ceased
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2004101677A1 (en) * | 2004-04-21 | 2004-11-25 | Achilles Corporation | Heat-resistant soft resinous sheet articles and compositions therefor |
| US7759421B2 (en) | 2004-04-21 | 2010-07-20 | Achilles Corporation | Heat-stable soft resinous sheet articles and compositions therefor |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| KR19980024290A (ko) | 1998-07-06 |
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