JPH11100357A - ジアミン化合物の製造方法 - Google Patents
ジアミン化合物の製造方法Info
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Landscapes
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 金属イオン遮蔽剤などとして有用なジアミン
化合物を、短い工程で、保護基の脱離などの工程を必要
とせず製造する。 【解決手段】 下記式(I)で表されるアジリジン化合
物とアミン化合物RNH2 とを反応させることを特徴と
する下記式(II)で表されるジアミン化合物の製造方
法。 【化1】 (式中、M1 及びM2 は水素原子またはカチオンを表
す。Lは、アルキレン基および/またはアリーレン基を
含む二価の連結基を表す。Rはアルキル基、アリール基
またはヘテロ環基を表す。)
化合物を、短い工程で、保護基の脱離などの工程を必要
とせず製造する。 【解決手段】 下記式(I)で表されるアジリジン化合
物とアミン化合物RNH2 とを反応させることを特徴と
する下記式(II)で表されるジアミン化合物の製造方
法。 【化1】 (式中、M1 及びM2 は水素原子またはカチオンを表
す。Lは、アルキレン基および/またはアリーレン基を
含む二価の連結基を表す。Rはアルキル基、アリール基
またはヘテロ環基を表す。)
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、金属イオン遮蔽剤
などに有用なジアミン化合物の製造方法に関する。より
詳しくは例えば医療・化粧用製剤、石鹸、洗剤、クリー
ニング組成物、材料分析、金属材料への被覆、メッキ、
触媒、コロイド化学、写真、液晶等の分野での金属イオ
ン遮蔽剤として有用なジアミン化合物の製造方法に関す
る。
などに有用なジアミン化合物の製造方法に関する。より
詳しくは例えば医療・化粧用製剤、石鹸、洗剤、クリー
ニング組成物、材料分析、金属材料への被覆、メッキ、
触媒、コロイド化学、写真、液晶等の分野での金属イオ
ン遮蔽剤として有用なジアミン化合物の製造方法に関す
る。
【0002】
【従来の技術】このような金属イオン遮蔽剤として有用
なジアミン化合物(例えば後記式(II)の化合物)の製
造方法としては、従来特開平7−199433号に記載
の方法やZh.Neorg.Khim.,1980,2
5(6),1692−4、Bull.Soc.Chi
m.France,1964(11),2778−82
に記載の方法がある。しかし、これらの方法はすべて工
程が長く、トータルでの収率が低いため、工業的に合成
する方法としては適していなかった。さらに、副生成物
が多く、一貫法で合成することが困難であった。また、
上記文献の方法では、ジアミン部に左右別々の基を導入
することは困難であり、特にジアミン部のNに隣接する
炭素の光学活性を維持したまま合成することはできなか
った(通常ラセミ化が起きる)。
なジアミン化合物(例えば後記式(II)の化合物)の製
造方法としては、従来特開平7−199433号に記載
の方法やZh.Neorg.Khim.,1980,2
5(6),1692−4、Bull.Soc.Chi
m.France,1964(11),2778−82
に記載の方法がある。しかし、これらの方法はすべて工
程が長く、トータルでの収率が低いため、工業的に合成
する方法としては適していなかった。さらに、副生成物
が多く、一貫法で合成することが困難であった。また、
上記文献の方法では、ジアミン部に左右別々の基を導入
することは困難であり、特にジアミン部のNに隣接する
炭素の光学活性を維持したまま合成することはできなか
った(通常ラセミ化が起きる)。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】したがって、本発明の
目的は特定のアジリジン化合物をアミン化合物と反応さ
せ、金属イオン遮蔽剤として有用なジアミン化合物を、
短工程で高収率で得る製造法を提供することにある。
目的は特定のアジリジン化合物をアミン化合物と反応さ
せ、金属イオン遮蔽剤として有用なジアミン化合物を、
短工程で高収率で得る製造法を提供することにある。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明者らは上記目的を
達成するため種々検討を重ねた結果、アジリジン化合物
としてアジリジン環の窒素原子上にカルボキシ置換アル
キルが置換されており、そのカルボキシル基とアジリジ
ン上のカルボキシル基の両方ともが保護基によって修飾
されておらず、水素原子またはカチオンの形になってい
る特定のアジリジン化合物を用いることにより、これを
アミン化合物と水性媒体中で一段で反応させて高収率目
的のジアミン化合物を得ることができることを見い出
し、この知見に基づき本発明をなすに至った。すなわち
本発明は、下記式(I)で表されるアジリジン化合物と
アミン化合物、R−NH2 とを反応させることを特徴と
する下記式(II)で表されるジアミン化合物の製造方法
を提供するものである。
達成するため種々検討を重ねた結果、アジリジン化合物
としてアジリジン環の窒素原子上にカルボキシ置換アル
キルが置換されており、そのカルボキシル基とアジリジ
ン上のカルボキシル基の両方ともが保護基によって修飾
されておらず、水素原子またはカチオンの形になってい
る特定のアジリジン化合物を用いることにより、これを
アミン化合物と水性媒体中で一段で反応させて高収率目
的のジアミン化合物を得ることができることを見い出
し、この知見に基づき本発明をなすに至った。すなわち
本発明は、下記式(I)で表されるアジリジン化合物と
アミン化合物、R−NH2 とを反応させることを特徴と
する下記式(II)で表されるジアミン化合物の製造方法
を提供するものである。
【0005】
【化2】
【0006】(式中、M1 及びM2 は水素原子またはカ
チオンを表す。Lは、アルキレン基および/またはアリ
ーレン基を含む二価の連結基を表す。Rはアルキル基、
アリール基またはヘテロ環基を表す。)
チオンを表す。Lは、アルキレン基および/またはアリ
ーレン基を含む二価の連結基を表す。Rはアルキル基、
アリール基またはヘテロ環基を表す。)
【0007】
【発明の実施の形態】本発明の反応は次式で表すことが
できる。
できる。
【0008】
【化3】
【0009】(式中、M1 、M2 、R及びLは前記と同
じ意味を持つ。)
じ意味を持つ。)
【0010】上記反応で用いられる式(I)で表される
アジリジン化合物について説明する。式(I)のLで表
されるアルキレン基としては、直鎖状、分岐状または環
状のいずれでもよく、好ましくは炭素数1〜10の直鎖
状または分岐状アルキレン基であり、より好ましくは炭
素数1〜5の直鎖状または分岐状アルキレン基であり、
最も好ましくは炭素数1〜5の直鎖状アルキレン基であ
る。例えば、メチレン、エチレン、n−プロピレン、n
−ブチレンである。本発明においてLの表すアルキレン
基又はアリーレン基は置換基を有するものも包含する。
したがってこのアルキレン基は置換基を有していてもよ
い。置換基としては、アリール基(フェニル基、ナフチ
ル基が挙げられ、好ましくはフェニル基である。このフ
ェニル基はさらに置換基を有してもよい。)、ヘテロ環
基(例えば2−ピリジル、3−ピリジル、4−ピリジ
ル、4−イミダゾリル、2−イミダゾリル、3−ピラゾ
リル、4−ピラゾリル、2−チアゾリル、4−チアゾリ
ル、2−フリル、3−フリル、2−チエニル、3−チエ
ニル、2−ピロリル、3−ピロリル、2−オキサゾリ
ル、4−オキサゾリル、2−ピラジニル、2−ピロリジ
ニル、2−インドリル、3−インダゾニル、2−キノリ
ル、8−キノリル、ピペリジノ、モルホリノ、2−ピペ
リジル、2−モルホリニル、3−インダゾリル、2−プ
リニル、6−プリニル、2−(1,3,4−チアゾリ
ル)、2−(1,3,4−オキサジアゾリル)、1−フ
タラジル、2−キノキサリニル、5−キノキサリニル、
2−キナゾリニル、4−キナゾリニル、8−キナゾリニ
ル、3−シンノリニル、8−シンノリニル、2−(1,
10−フェナントロリニル)、5−テトラゾリルであ
る。好ましくは、2−ピリジル、4−イミダゾリル、2
−イミダゾリル、3−ピラゾリル、2−チアゾリル、2
−ピロリル、2−オキサゾリル、4−オキサゾリル、2
−ピラジニル、2−ピロリジニル、2−インドリル、3
−インダゾニル、2−キノリル、8−キノリル、ピペリ
ジノ、2−ピペリジル、2−インドリル、3−インダゾ
リル、2−(1,3,4−チアゾリル)、2−(1,
3,4−オキサジアゾリル)であり、より好ましくは、
4−イミダゾリル、2−イミダゾリル、2−ピリジルで
ある。これらのヘテロ環基はさらに置換基を有してもよ
い。)、カルボキシル基、アルコキシ基(アルコキシ基
は、好ましくは炭素数1〜8であり、より好ましくは炭
素数1〜6であり、特に好ましくは1〜4である。例え
ばメトキシ、エトキシである。)、スルホ基、ニトロ
基、ホスホノ基、ヒドロキサム酸基、ヒドロキシ基、ア
リールオキシ基(好ましくは炭素数6〜12であり、よ
り好ましくは炭素数6〜10であり、特に好ましくは6
〜8である。例えば、フェニルオキシが挙げられ
る。)、スルファモイル基(好ましくは炭素数0〜10
であり、より好ましくは炭素数0〜6であり、特に好ま
しくは炭素数0〜4である。例えば、スルファモイル、
メチルスルファモイルが挙げられる。)、カルバモイル
基(好ましくは炭素数1〜10であり、より好ましくは
炭素数1〜6であり、特に好ましくは炭素数1〜4であ
る。例えば、カルバモイル、メチルカルバモイルが挙げ
られる。)、アルキルチオ基(アルキルチオ基は、好ま
しくは炭素数1〜8であり、より好ましくは炭素数1〜
6であり、特に好ましくは炭素数1〜4である。例え
ば、メチルチオ、エチルチオが挙げられる。)、アリー
ルチオ基(好ましくは炭素数6〜20であり、より好ま
しくは炭素数6〜10であり、特に好ましくは炭素数6
〜8である。例えばフェニルチオが挙げられる。)、メ
ルカプト基、アシル基(好ましくは炭素数2〜10であ
り、より好ましくは炭素数2〜6であり、特に好ましく
は炭素数2〜4である。例えば、アセチル、ベンゾイル
が挙げられる。)、アシルアミノ基(好ましくは炭素数
1〜10であり、より好ましくは炭素数2〜6であり、
特に好ましくは炭素数2〜4である。例えば、アセチル
アミノが挙げられる。)、スルホニルアミノ基(好まし
くは炭素数1〜10であり、より好ましくは炭素数1〜
6であり、特に好ましくは炭素数1〜4である。例え
ば、メタンスルホニルアミノが挙げられる。)、アミノ
基(好ましくは炭素数0〜20であり、より好ましくは
炭素数0〜10であり、特に好ましくは0〜6である。
例えばアミノ、メチルアミノ、エチルアミノ、ジメチル
アミノ、ジエチルアミノが挙げられる。)、が挙げられ
る。好ましくは、アリール基、ヘテロ環基、カルボキシ
ル基であり、より好ましくは、カルボキシル基である。
アジリジン化合物について説明する。式(I)のLで表
されるアルキレン基としては、直鎖状、分岐状または環
状のいずれでもよく、好ましくは炭素数1〜10の直鎖
状または分岐状アルキレン基であり、より好ましくは炭
素数1〜5の直鎖状または分岐状アルキレン基であり、
最も好ましくは炭素数1〜5の直鎖状アルキレン基であ
る。例えば、メチレン、エチレン、n−プロピレン、n
−ブチレンである。本発明においてLの表すアルキレン
基又はアリーレン基は置換基を有するものも包含する。
したがってこのアルキレン基は置換基を有していてもよ
い。置換基としては、アリール基(フェニル基、ナフチ
ル基が挙げられ、好ましくはフェニル基である。このフ
ェニル基はさらに置換基を有してもよい。)、ヘテロ環
基(例えば2−ピリジル、3−ピリジル、4−ピリジ
ル、4−イミダゾリル、2−イミダゾリル、3−ピラゾ
リル、4−ピラゾリル、2−チアゾリル、4−チアゾリ
ル、2−フリル、3−フリル、2−チエニル、3−チエ
ニル、2−ピロリル、3−ピロリル、2−オキサゾリ
ル、4−オキサゾリル、2−ピラジニル、2−ピロリジ
ニル、2−インドリル、3−インダゾニル、2−キノリ
ル、8−キノリル、ピペリジノ、モルホリノ、2−ピペ
リジル、2−モルホリニル、3−インダゾリル、2−プ
リニル、6−プリニル、2−(1,3,4−チアゾリ
ル)、2−(1,3,4−オキサジアゾリル)、1−フ
タラジル、2−キノキサリニル、5−キノキサリニル、
2−キナゾリニル、4−キナゾリニル、8−キナゾリニ
ル、3−シンノリニル、8−シンノリニル、2−(1,
10−フェナントロリニル)、5−テトラゾリルであ
る。好ましくは、2−ピリジル、4−イミダゾリル、2
−イミダゾリル、3−ピラゾリル、2−チアゾリル、2
−ピロリル、2−オキサゾリル、4−オキサゾリル、2
−ピラジニル、2−ピロリジニル、2−インドリル、3
−インダゾニル、2−キノリル、8−キノリル、ピペリ
ジノ、2−ピペリジル、2−インドリル、3−インダゾ
リル、2−(1,3,4−チアゾリル)、2−(1,
3,4−オキサジアゾリル)であり、より好ましくは、
4−イミダゾリル、2−イミダゾリル、2−ピリジルで
ある。これらのヘテロ環基はさらに置換基を有してもよ
い。)、カルボキシル基、アルコキシ基(アルコキシ基
は、好ましくは炭素数1〜8であり、より好ましくは炭
素数1〜6であり、特に好ましくは1〜4である。例え
ばメトキシ、エトキシである。)、スルホ基、ニトロ
基、ホスホノ基、ヒドロキサム酸基、ヒドロキシ基、ア
リールオキシ基(好ましくは炭素数6〜12であり、よ
り好ましくは炭素数6〜10であり、特に好ましくは6
〜8である。例えば、フェニルオキシが挙げられ
る。)、スルファモイル基(好ましくは炭素数0〜10
であり、より好ましくは炭素数0〜6であり、特に好ま
しくは炭素数0〜4である。例えば、スルファモイル、
メチルスルファモイルが挙げられる。)、カルバモイル
基(好ましくは炭素数1〜10であり、より好ましくは
炭素数1〜6であり、特に好ましくは炭素数1〜4であ
る。例えば、カルバモイル、メチルカルバモイルが挙げ
られる。)、アルキルチオ基(アルキルチオ基は、好ま
しくは炭素数1〜8であり、より好ましくは炭素数1〜
6であり、特に好ましくは炭素数1〜4である。例え
ば、メチルチオ、エチルチオが挙げられる。)、アリー
ルチオ基(好ましくは炭素数6〜20であり、より好ま
しくは炭素数6〜10であり、特に好ましくは炭素数6
〜8である。例えばフェニルチオが挙げられる。)、メ
ルカプト基、アシル基(好ましくは炭素数2〜10であ
り、より好ましくは炭素数2〜6であり、特に好ましく
は炭素数2〜4である。例えば、アセチル、ベンゾイル
が挙げられる。)、アシルアミノ基(好ましくは炭素数
1〜10であり、より好ましくは炭素数2〜6であり、
特に好ましくは炭素数2〜4である。例えば、アセチル
アミノが挙げられる。)、スルホニルアミノ基(好まし
くは炭素数1〜10であり、より好ましくは炭素数1〜
6であり、特に好ましくは炭素数1〜4である。例え
ば、メタンスルホニルアミノが挙げられる。)、アミノ
基(好ましくは炭素数0〜20であり、より好ましくは
炭素数0〜10であり、特に好ましくは0〜6である。
例えばアミノ、メチルアミノ、エチルアミノ、ジメチル
アミノ、ジエチルアミノが挙げられる。)、が挙げられ
る。好ましくは、アリール基、ヘテロ環基、カルボキシ
ル基であり、より好ましくは、カルボキシル基である。
【0011】式(I)のLで表されるアリーレン基とし
ては、o−フェニレン、m−フェニレン、p−フェニレ
ンなどがある。好ましくはo−フェニレン、p−フェニ
レンであり、より好ましくはo−フェニレンである。こ
れらのアリーレン基は置換基を有してもよく、置換基と
してはLで表されるアルキレン基が有してもよい置換基
として挙げたものが適用できる。また、Lはアルキレン
基とアリーレン基を同時に含んでいてもよいが、好まし
くはアルキレン基のみである。アジリジン骨格のNを含
むN−L−CO2 M2 の構造として好ましくは、いわゆ
るアミノ酸と言われる化合物から合成された構造を有す
ることが好ましく、より好ましくは天然のアミノ酸(例
えば、グリシン、L−アラニン、L−バリン、L−ロイ
シン、L−イソロイシン、L−チロシン、L−ヒスチジ
ン、L−トリプトファン、L−セリン、L−トレオニ
ン、L−メチオニン、L−アスパラギン酸、L−グルタ
ミン酸、L−フェニルアラニン)構造を有することであ
る。M1 及びM2 で表されるカチオンとしては有機性の
カチオンでもよく無機性のカチオンでもよい。また、カ
チオンが1分子中に2個以上ある場合には、それぞれ異
なるカチオンでもよい。カチオンとして例えば、アンモ
ニウム(例えば、アンモニウム、テトラエチルアンモニ
ウム)、アルカリ金属(例えばリチウム、ナトリウム、
カリウム)、アルカリ土類金属(例えばカルシウム、マ
グネシウム、バリウム)、ピリジニウム等を挙げること
ができる。好ましくは無機性のカチオンであり、より好
ましくはアルカリ金属である。M1 及びM2 は、化合物
の安定性の観点から、水素原子よりもカチオンが好まし
い。本発明の式(I)で表される化合物の具体例として
は、下記化合物が挙げられるが、これに限定されるもの
ではない。
ては、o−フェニレン、m−フェニレン、p−フェニレ
ンなどがある。好ましくはo−フェニレン、p−フェニ
レンであり、より好ましくはo−フェニレンである。こ
れらのアリーレン基は置換基を有してもよく、置換基と
してはLで表されるアルキレン基が有してもよい置換基
として挙げたものが適用できる。また、Lはアルキレン
基とアリーレン基を同時に含んでいてもよいが、好まし
くはアルキレン基のみである。アジリジン骨格のNを含
むN−L−CO2 M2 の構造として好ましくは、いわゆ
るアミノ酸と言われる化合物から合成された構造を有す
ることが好ましく、より好ましくは天然のアミノ酸(例
えば、グリシン、L−アラニン、L−バリン、L−ロイ
シン、L−イソロイシン、L−チロシン、L−ヒスチジ
ン、L−トリプトファン、L−セリン、L−トレオニ
ン、L−メチオニン、L−アスパラギン酸、L−グルタ
ミン酸、L−フェニルアラニン)構造を有することであ
る。M1 及びM2 で表されるカチオンとしては有機性の
カチオンでもよく無機性のカチオンでもよい。また、カ
チオンが1分子中に2個以上ある場合には、それぞれ異
なるカチオンでもよい。カチオンとして例えば、アンモ
ニウム(例えば、アンモニウム、テトラエチルアンモニ
ウム)、アルカリ金属(例えばリチウム、ナトリウム、
カリウム)、アルカリ土類金属(例えばカルシウム、マ
グネシウム、バリウム)、ピリジニウム等を挙げること
ができる。好ましくは無機性のカチオンであり、より好
ましくはアルカリ金属である。M1 及びM2 は、化合物
の安定性の観点から、水素原子よりもカチオンが好まし
い。本発明の式(I)で表される化合物の具体例として
は、下記化合物が挙げられるが、これに限定されるもの
ではない。
【0012】
【化4】
【0013】
【化5】
【0014】
【化6】
【0015】
【化7】
【0016】
【化8】
【0017】
【化9】
【0018】
【化10】
【0019】本発明に用いられる式(I)の化合物は、
スキーム1のように式(V)の化合物(アミノ基とカル
ボキシル基とを有する化合物)とプロピオン酸誘導体
(式(III) )との反応によって得ることができる。ま
た、スキーム2のように式(V)の化合物とアクリル酸
誘導体(式(IV))との反応によっても得ることができ
る。式(V)で表される化合物やプロピオン酸誘導体お
よびアクリル酸誘導体は公知の化合物であり容易に合成
することが可能であり、また市販されている化合物でも
ある。 スキーム1
スキーム1のように式(V)の化合物(アミノ基とカル
ボキシル基とを有する化合物)とプロピオン酸誘導体
(式(III) )との反応によって得ることができる。ま
た、スキーム2のように式(V)の化合物とアクリル酸
誘導体(式(IV))との反応によっても得ることができ
る。式(V)で表される化合物やプロピオン酸誘導体お
よびアクリル酸誘導体は公知の化合物であり容易に合成
することが可能であり、また市販されている化合物でも
ある。 スキーム1
【0020】
【化11】
【0021】(スキーム中、L、M1 及びM2 は、それ
ぞれ式(I)のそれと同義である。XおよびX’は、そ
れぞれ脱離基(例えば、ハロゲン原子(例えばフッ素原
子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子)、スルホナート
基(例えばメチルスルホナート基、p−トルエンスルホ
ナート基))を表す。) スキーム2
ぞれ式(I)のそれと同義である。XおよびX’は、そ
れぞれ脱離基(例えば、ハロゲン原子(例えばフッ素原
子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子)、スルホナート
基(例えばメチルスルホナート基、p−トルエンスルホ
ナート基))を表す。) スキーム2
【0022】
【化12】
【0023】(スキーム中、L、M1 及びM2 は、それ
ぞれ式(I)のそれと同義である。X’は、脱離基(例
えば、ハロゲン原子(例えばフッ素原子、塩素原子、臭
素原子、ヨウ素原子)、スルホナート基(例えばメチル
スルホナート基、p−トルエンスルホナート基))を表
す。) スキーム1及び2の反応で用いられる溶媒は、反応に関
与しない限りは特に制限はないが、水、アルコール(例
えばメタノール、エタノール、2−プロパノール、ブタ
ノール等)等を用いると有利に進行する。反応物の溶解
性を上げる点、副生成物を抑える点などから好ましくは
水を含む溶媒であり、より好ましくは水単独である。こ
の反応は、通常−20〜100℃で行うが、最初は50
℃以下で反応させることが好ましい。より好ましくは、
0〜50℃である。反応は、塩基存在下で行うことが好
ましく、塩基としてはアルカリ(水酸化ナトリウム、水
酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等)また
は3級アミン(トリエチルアミン等)が挙げられる。水
を溶媒として使用する場合には、反応条件としてpH6
〜14が好ましく、より好ましくはpH7〜13であ
り、特に好ましくはpH8〜12である。
ぞれ式(I)のそれと同義である。X’は、脱離基(例
えば、ハロゲン原子(例えばフッ素原子、塩素原子、臭
素原子、ヨウ素原子)、スルホナート基(例えばメチル
スルホナート基、p−トルエンスルホナート基))を表
す。) スキーム1及び2の反応で用いられる溶媒は、反応に関
与しない限りは特に制限はないが、水、アルコール(例
えばメタノール、エタノール、2−プロパノール、ブタ
ノール等)等を用いると有利に進行する。反応物の溶解
性を上げる点、副生成物を抑える点などから好ましくは
水を含む溶媒であり、より好ましくは水単独である。こ
の反応は、通常−20〜100℃で行うが、最初は50
℃以下で反応させることが好ましい。より好ましくは、
0〜50℃である。反応は、塩基存在下で行うことが好
ましく、塩基としてはアルカリ(水酸化ナトリウム、水
酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等)また
は3級アミン(トリエチルアミン等)が挙げられる。水
を溶媒として使用する場合には、反応条件としてpH6
〜14が好ましく、より好ましくはpH7〜13であ
り、特に好ましくはpH8〜12である。
【0024】プロピオン酸誘導体あるいはアクリル酸誘
導体(式(III) または(IV))の使用量は、化合物
(V)に対して0.1〜10倍モルが好ましく、より好
ましくは0.4〜2倍モルであり、より好ましくは0.
5〜1.5倍モルである。原料の添加順序は、どのよう
な順序でも構わないが、中和で発熱する場合、初めに化
合物(V)を塩基で中和した後に、プロピオン酸誘導体
(III) あるいはアクリル酸誘導体(IV)と合わせること
が好ましい。次に、本発明の式(I)で表されるアジリ
ジン化合物とアミン化合物との反応を説明する。
導体(式(III) または(IV))の使用量は、化合物
(V)に対して0.1〜10倍モルが好ましく、より好
ましくは0.4〜2倍モルであり、より好ましくは0.
5〜1.5倍モルである。原料の添加順序は、どのよう
な順序でも構わないが、中和で発熱する場合、初めに化
合物(V)を塩基で中和した後に、プロピオン酸誘導体
(III) あるいはアクリル酸誘導体(IV)と合わせること
が好ましい。次に、本発明の式(I)で表されるアジリ
ジン化合物とアミン化合物との反応を説明する。
【0025】用いるアミン化合物R−NH2 のRで表さ
れるアルキル基としては、直鎖状、分岐状及び環状アル
キル基が挙げられるが、好ましくは炭素数1〜10の直
鎖状または分岐状アルキル基であり、より好ましくは炭
素数1〜5の直鎖状または分岐状アルキル基であり、最
も好ましくは炭素数1〜5の直鎖状アルキル基である。
例えば、メチル、エチル、プロピル、ブチルである。ま
た、Rで表されるアルキル基は置換基を有してもよく、
置換基としては例えば式(I)のLで表されるアルキレ
ン基が有してもよい置換基として挙げたものが適用でき
る。Rで表されるアリール基は、単環であっても更に他
の環と縮環を形成してもよく、好ましくは炭素数6〜2
0、より好ましくは炭素数6〜16、更に好ましくは炭
素数6〜12のアリール基である。Rで表されるアリー
ル基としては、好ましくは単環または二環であり、例え
ばフェニル、ナフチル等が挙げられ、より好ましくはフ
ェニルである。Rで表されるアリール基は、置換基を有
してもよく、置換基としては例えば式(I)のLで表さ
れるアルキレン基が有してもよい置換基として挙げたも
のが適用できる。
れるアルキル基としては、直鎖状、分岐状及び環状アル
キル基が挙げられるが、好ましくは炭素数1〜10の直
鎖状または分岐状アルキル基であり、より好ましくは炭
素数1〜5の直鎖状または分岐状アルキル基であり、最
も好ましくは炭素数1〜5の直鎖状アルキル基である。
例えば、メチル、エチル、プロピル、ブチルである。ま
た、Rで表されるアルキル基は置換基を有してもよく、
置換基としては例えば式(I)のLで表されるアルキレ
ン基が有してもよい置換基として挙げたものが適用でき
る。Rで表されるアリール基は、単環であっても更に他
の環と縮環を形成してもよく、好ましくは炭素数6〜2
0、より好ましくは炭素数6〜16、更に好ましくは炭
素数6〜12のアリール基である。Rで表されるアリー
ル基としては、好ましくは単環または二環であり、例え
ばフェニル、ナフチル等が挙げられ、より好ましくはフ
ェニルである。Rで表されるアリール基は、置換基を有
してもよく、置換基としては例えば式(I)のLで表さ
れるアルキレン基が有してもよい置換基として挙げたも
のが適用できる。
【0026】Rで表されるへテロ環基は、N、Oまたは
S原子の少なくとも一つを含む3ないし10員の飽和も
しくは不飽和のヘテロ環であり、これらは単環であって
もよいし、更に他の環と縮合環を形成してもよい。ヘテ
ロ環として好ましくは、5ないし6員の芳香族へテロ環
であり、更に好ましくは窒素原子を1ないし2原子含む
5ないし6員の芳香族ヘテロ環である。へテロ環の具体
例としては、式(I)のLで表されるアルキレン基が有
してもよい置換基としてあげたへテロ環基の具体例を適
用することができる。Rとして好ましくは、アルキル基
またはアリール基であり、より好ましくはアルキル基で
ある。また、式(II)におけるジアミン骨格の一方のN
を含むR−Nの構造として好ましくは、いわゆるアミノ
酸と言われる化合物から合成された構造を有することが
好ましく、より好ましくは天然のアミノ酸(例えば、グ
リシン、L−アラニン、L−バリン、L−ロイシン、L
−イソロイシン、L−チロシン、L−ヒスチジン、L−
トリプトファン、L−セリン、L−トレオニン、L−メ
チオニン、L−アスパラギン酸、L−グルタミン酸、L
−フェニルアラニン)構造を有することである。したが
って、本発明により得られる式(II)で表される化合物
のうち、より好ましくは下記式(VI)で表される化合物
である。式(VI)
S原子の少なくとも一つを含む3ないし10員の飽和も
しくは不飽和のヘテロ環であり、これらは単環であって
もよいし、更に他の環と縮合環を形成してもよい。ヘテ
ロ環として好ましくは、5ないし6員の芳香族へテロ環
であり、更に好ましくは窒素原子を1ないし2原子含む
5ないし6員の芳香族ヘテロ環である。へテロ環の具体
例としては、式(I)のLで表されるアルキレン基が有
してもよい置換基としてあげたへテロ環基の具体例を適
用することができる。Rとして好ましくは、アルキル基
またはアリール基であり、より好ましくはアルキル基で
ある。また、式(II)におけるジアミン骨格の一方のN
を含むR−Nの構造として好ましくは、いわゆるアミノ
酸と言われる化合物から合成された構造を有することが
好ましく、より好ましくは天然のアミノ酸(例えば、グ
リシン、L−アラニン、L−バリン、L−ロイシン、L
−イソロイシン、L−チロシン、L−ヒスチジン、L−
トリプトファン、L−セリン、L−トレオニン、L−メ
チオニン、L−アスパラギン酸、L−グルタミン酸、L
−フェニルアラニン)構造を有することである。したが
って、本発明により得られる式(II)で表される化合物
のうち、より好ましくは下記式(VI)で表される化合物
である。式(VI)
【0027】
【化13】
【0028】(式中、L、M1 及びM2 は、それぞれ式
(II)のそれらと同義であり、好ましい範囲も同様であ
る。L2 は、式(II)におけるLと同義であり、好まし
い範囲も同様である。M3 は、式(II)におけるM1 及
びM2 と同義であり、好ましい範囲も同様である。) ここで用いられる溶媒としては、反応に関与しない限り
特に制限はないが、水、アルコール(例えばメタノー
ル、エタノール、2−プロパノール、ブタノール等)等
を用いると有利に進行する。好ましくは水を含む溶媒で
あり、より好ましくは水単独である。この反応は、好ま
しくは0〜150℃で行い、より好ましくは50〜13
0℃であり、さらに好ましくは70〜120℃である。
(II)のそれらと同義であり、好ましい範囲も同様であ
る。L2 は、式(II)におけるLと同義であり、好まし
い範囲も同様である。M3 は、式(II)におけるM1 及
びM2 と同義であり、好ましい範囲も同様である。) ここで用いられる溶媒としては、反応に関与しない限り
特に制限はないが、水、アルコール(例えばメタノー
ル、エタノール、2−プロパノール、ブタノール等)等
を用いると有利に進行する。好ましくは水を含む溶媒で
あり、より好ましくは水単独である。この反応は、好ま
しくは0〜150℃で行い、より好ましくは50〜13
0℃であり、さらに好ましくは70〜120℃である。
【0029】反応は、塩基存在下で行うことが好まし
く、塩基としてはアルカリ(水酸化ナトリウム、水酸化
カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等)または3
級アミン(トリエチルアミン等)が挙げられる。好まし
くは、水酸化ナトリウムまたは水酸化カリウムであり、
より好ましくは水酸化ナトリウムである。水を溶媒とし
て使用する場合には、反応条件としてpH6〜14が好
ましく、より好ましくはpH7〜13であり、特に好ま
しくはpH8〜12である。アミン化合物の添加量は、
アジリジン化合物の0.5〜5倍モルが好ましく、より
好ましくは0.8〜3倍モルであり、更に好ましくは
0.9〜2倍モルである。式(I)の合成に用いる式
(V)の化合物(H2 N−L−CO2 M2 )と式(II)
の合成で反応させるアミン化合物(R−NH2 )が異な
る場合、それぞれのアミン化合物は、反応の各過程で添
加することが好ましい。但し、同じアミン化合物の場合
には、反応に用いるアミン化合物の全量をアジリジン化
合物の合成時(初期の段階)に一括添加してもよい。以
下に、上記製造法で作られる具体例を示すが、これに限
定されるわけではない。
く、塩基としてはアルカリ(水酸化ナトリウム、水酸化
カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等)または3
級アミン(トリエチルアミン等)が挙げられる。好まし
くは、水酸化ナトリウムまたは水酸化カリウムであり、
より好ましくは水酸化ナトリウムである。水を溶媒とし
て使用する場合には、反応条件としてpH6〜14が好
ましく、より好ましくはpH7〜13であり、特に好ま
しくはpH8〜12である。アミン化合物の添加量は、
アジリジン化合物の0.5〜5倍モルが好ましく、より
好ましくは0.8〜3倍モルであり、更に好ましくは
0.9〜2倍モルである。式(I)の合成に用いる式
(V)の化合物(H2 N−L−CO2 M2 )と式(II)
の合成で反応させるアミン化合物(R−NH2 )が異な
る場合、それぞれのアミン化合物は、反応の各過程で添
加することが好ましい。但し、同じアミン化合物の場合
には、反応に用いるアミン化合物の全量をアジリジン化
合物の合成時(初期の段階)に一括添加してもよい。以
下に、上記製造法で作られる具体例を示すが、これに限
定されるわけではない。
【0030】
【化14】
【0031】
【化15】
【0032】
【化16】
【0033】
【実施例】次に本発明を実施例に基づきさらに詳細に説
明する。 参考例1(式(I)で表される化合物の合成) ・合成例1(化合物1の合成) 三口フラスコにグリシン25g(0.33mol)と水
150mlを加えよく撹拌しながら、氷浴につけて50
%水酸化ナトリウム水溶液53.2gを添加した。完溶
後、温度を30℃以下に保ちながら、2,3−ジブロモ
プロピオン酸77g(0.33mol)を徐々に添加し
た。氷浴をはずし、室温にもどし、1晩撹拌した。 1H
核磁気共鳴分光法で目的のアジリジン化合物(化合物
1)の生成を確認した後、電気透析により脱塩し、減圧
濃縮することによって、目的物のナトリウム塩を得た。
ガラス状粉末のため100℃付近より徐々に融解。粗収
率96%。
明する。 参考例1(式(I)で表される化合物の合成) ・合成例1(化合物1の合成) 三口フラスコにグリシン25g(0.33mol)と水
150mlを加えよく撹拌しながら、氷浴につけて50
%水酸化ナトリウム水溶液53.2gを添加した。完溶
後、温度を30℃以下に保ちながら、2,3−ジブロモ
プロピオン酸77g(0.33mol)を徐々に添加し
た。氷浴をはずし、室温にもどし、1晩撹拌した。 1H
核磁気共鳴分光法で目的のアジリジン化合物(化合物
1)の生成を確認した後、電気透析により脱塩し、減圧
濃縮することによって、目的物のナトリウム塩を得た。
ガラス状粉末のため100℃付近より徐々に融解。粗収
率96%。
【0034】1 H NMR(D2 O+NaOD、内標DSS) δ1.67 (d 1H) δ2.00−2.15 (m 2H) δ2.75 (d 1H) δ3.20 (d 1H)
【0035】・合成例2(化合物2の合成) 三口フラスコにL−アラニン50g(0.56mol)
と水100mlを加えよく撹拌しながら、氷浴につけて
50%水酸化ナトリウム水溶液112.2gを添加し
た。完溶後、温度を30℃以下に保ちながら、2,3−
ジブロモプロピオン酸65.1g(0.28mol)を
徐々に添加した。氷浴をはずし、室温にもどし、2晩撹
拌した。 1H核磁気共鳴分光法で目的のアジリジン化合
物(化合物2)の生成を確認した後、電気透析により脱
塩し、減圧濃縮することによって、目的物のナトリウム
塩を得た。ガラス状粉末のため100℃付近より徐々に
融解。粗収率88%。1 H NMR(D2 O+NaOD、内標DSS) δ1.28 (t 3H) δ1.63 (d 1H) δ1.90−2.20 (m 3H)
と水100mlを加えよく撹拌しながら、氷浴につけて
50%水酸化ナトリウム水溶液112.2gを添加し
た。完溶後、温度を30℃以下に保ちながら、2,3−
ジブロモプロピオン酸65.1g(0.28mol)を
徐々に添加した。氷浴をはずし、室温にもどし、2晩撹
拌した。 1H核磁気共鳴分光法で目的のアジリジン化合
物(化合物2)の生成を確認した後、電気透析により脱
塩し、減圧濃縮することによって、目的物のナトリウム
塩を得た。ガラス状粉末のため100℃付近より徐々に
融解。粗収率88%。1 H NMR(D2 O+NaOD、内標DSS) δ1.28 (t 3H) δ1.63 (d 1H) δ1.90−2.20 (m 3H)
【0036】・合成例3(化合物4の合成) 三口フラスコにアスパラギン酸57.4g(0.42m
ol)と水100mlを加えよく撹拌しながら、氷浴に
つけて50%水酸化ナトリウム水溶液120.8gを添
加した。完溶後、温度を30℃以下に保ちながら、2,
3−ジブロモプロピオン酸50g(0.216mo1)
を徐々に添加した。氷浴をはずし、室温にもどし、3晩
撹拌した。 1H核磁気共鳴分光法で目的のアジリジン化
合物(化合物4)の生成を確認した後、電気透析により
脱塩し、減圧濃縮することによって、目的物のナトリウ
ム塩を得た。ガラス状粉末のため100℃付近より徐々
に融解。粗収率91%。1 H NMR(D2 O+NaOD、内標DSS) δ1.71 (dd1H) δ1.93 (dd1H) δ2.05−2.18 (m 1H) δ2.39−2.65 (m 3H)
ol)と水100mlを加えよく撹拌しながら、氷浴に
つけて50%水酸化ナトリウム水溶液120.8gを添
加した。完溶後、温度を30℃以下に保ちながら、2,
3−ジブロモプロピオン酸50g(0.216mo1)
を徐々に添加した。氷浴をはずし、室温にもどし、3晩
撹拌した。 1H核磁気共鳴分光法で目的のアジリジン化
合物(化合物4)の生成を確認した後、電気透析により
脱塩し、減圧濃縮することによって、目的物のナトリウ
ム塩を得た。ガラス状粉末のため100℃付近より徐々
に融解。粗収率91%。1 H NMR(D2 O+NaOD、内標DSS) δ1.71 (dd1H) δ1.93 (dd1H) δ2.05−2.18 (m 1H) δ2.39−2.65 (m 3H)
【0037】・合成例4(化合物9の合成) 三口フラスコにβ−アラニン50g(0.56mol)
と水100mlを加えよく撹拌しながら、氷浴につけて
50%水酸化ナトリウム水溶液112.2gを添加し
た。完溶後、温度を20℃以下に保ちながら、2,3−
ジブロモプロピオン酸65g(0.28mol)を徐々
に添加した。氷浴をはずし、室温にもどし、1晩撹拌し
た。 1H核磁気共鳴分光法で目的のアジリジン化合物
(化合物9)の生成を確認した後、電気透析により脱塩
し、減圧濃縮することによって、目的物のナトリウム塩
を得た。ガラス状粉末のため100℃付近より徐々に融
解。粗収率91%。1 H NMR(D2 O+NaOD、内標DSS) δ1.65 (d 1H) δ1.93 (d 1H) δ2.05 (t 1H) δ2.35−2.70 (m 4H)
と水100mlを加えよく撹拌しながら、氷浴につけて
50%水酸化ナトリウム水溶液112.2gを添加し
た。完溶後、温度を20℃以下に保ちながら、2,3−
ジブロモプロピオン酸65g(0.28mol)を徐々
に添加した。氷浴をはずし、室温にもどし、1晩撹拌し
た。 1H核磁気共鳴分光法で目的のアジリジン化合物
(化合物9)の生成を確認した後、電気透析により脱塩
し、減圧濃縮することによって、目的物のナトリウム塩
を得た。ガラス状粉末のため100℃付近より徐々に融
解。粗収率91%。1 H NMR(D2 O+NaOD、内標DSS) δ1.65 (d 1H) δ1.93 (d 1H) δ2.05 (t 1H) δ2.35−2.70 (m 4H)
【0038】・合成例5(化合物11の合成) 三口フラスコにL−フェニルアラニン30g(0.18
2mol)と水100mlを加えよく撹拌しながら、氷
浴につけて50%水酸化ナトリウム水溶液72.6gを
添加した。完溶後、温度を20℃以下に保ちながら、
2,3−ジブロモプロピオン酸42.1g(0.182
mol)を徐々に添加した。氷浴をはずし、室温にもど
し、3晩撹拌した。 1H核磁気共鳴分光法で目的のアジ
リジン化合物(化合物11)の生成を確認した後、電気
透析により脱塩し、減圧濃縮することによって、目的物
のナトリウム塩を得た。ガラス状粉末のため120℃付
近より徐々に融解。粗収率99%。1 H NMR(D2 O+NaOD、内標DSS) δ1.45−2.10 (m 3H) δ2.32 (dd1H) δ2.78−3.15 (m 2H) δ7.20−7.40 (m 5H)
2mol)と水100mlを加えよく撹拌しながら、氷
浴につけて50%水酸化ナトリウム水溶液72.6gを
添加した。完溶後、温度を20℃以下に保ちながら、
2,3−ジブロモプロピオン酸42.1g(0.182
mol)を徐々に添加した。氷浴をはずし、室温にもど
し、3晩撹拌した。 1H核磁気共鳴分光法で目的のアジ
リジン化合物(化合物11)の生成を確認した後、電気
透析により脱塩し、減圧濃縮することによって、目的物
のナトリウム塩を得た。ガラス状粉末のため120℃付
近より徐々に融解。粗収率99%。1 H NMR(D2 O+NaOD、内標DSS) δ1.45−2.10 (m 3H) δ2.32 (dd1H) δ2.78−3.15 (m 2H) δ7.20−7.40 (m 5H)
【0039】実施例1(式(II)で表される化合物の合
成) ・合成例6(化合物II−1の合成) 三口フラスコにグリシン50g(0.67mol)と水
150mlを加えよく撹拌しながら、氷浴につけて50
%水酸化ナトリウム水溶液53.2gを添加した。完溶
後、温度を30℃以下に保ちながら、2,3−ジブロモ
プロピオン酸77g(0.33mol)を徐々に添加し
た。氷浴をはずし、室温にもどし、1晩撹拌した。 1H
核磁気共鳴分光法でアジリジン化合物(化合物1)の生
成を確認した後、この反応器を油浴につけ、8時間加熱
還流した。室温まで下げた後、濃塩酸を加えてpH2に
調整した。析出した結晶を濾取し、加熱乾燥した。目的
の化合物II−1を62g得た。収率84%。 mp 191〜2℃(分解)1 H NMR(D2 O+NaOD、内標DSS) δ2.72 (m 2H) δ3.08−3.30 (m 5H)
成) ・合成例6(化合物II−1の合成) 三口フラスコにグリシン50g(0.67mol)と水
150mlを加えよく撹拌しながら、氷浴につけて50
%水酸化ナトリウム水溶液53.2gを添加した。完溶
後、温度を30℃以下に保ちながら、2,3−ジブロモ
プロピオン酸77g(0.33mol)を徐々に添加し
た。氷浴をはずし、室温にもどし、1晩撹拌した。 1H
核磁気共鳴分光法でアジリジン化合物(化合物1)の生
成を確認した後、この反応器を油浴につけ、8時間加熱
還流した。室温まで下げた後、濃塩酸を加えてpH2に
調整した。析出した結晶を濾取し、加熱乾燥した。目的
の化合物II−1を62g得た。収率84%。 mp 191〜2℃(分解)1 H NMR(D2 O+NaOD、内標DSS) δ2.72 (m 2H) δ3.08−3.30 (m 5H)
【0040】・合成例7(化合物II−6の合成) 三口フラスコにL−アラニン50g(0.56mol)
と水100mlを加えよく撹拌しながら、氷浴につけて
50%水酸化ナトリウム水溶液112.2gを添加し
た。完溶後、温度を30℃以下に保ちながら、2,3−
ジブロモプロピオン酸65.1g(0.28mol)を
徐々に添加した。氷浴をはずし、室温にもどし、2晩撹
拌した。 1H核磁気共鳴分光法でアジリジン化合物(化
合物2)の生成を確認した後、この反応器を油浴につ
け、90℃で8時間加熱した。室温まで下げた後、濃塩
酸を加えてpH2に調整した。電気透析により脱塩を行
い、途中で析出した結晶を濾取して、加熱乾燥した。目
的の化合物II−6を70g得た。収率93%。 mp 170℃〜徐々に分解 NMR(D2 O+NaOD、内標DSS) δ1.10−1.35 (m 6H) δ2.55−2.75 (m 2H) δ3.05−3.25 (m 3H) 元素分析値 C9 H16N2 O6 ・H2 O=266.25として H C N 計算値 6.81 40.60 10.52 実測値 6.70 40.75 10.63
と水100mlを加えよく撹拌しながら、氷浴につけて
50%水酸化ナトリウム水溶液112.2gを添加し
た。完溶後、温度を30℃以下に保ちながら、2,3−
ジブロモプロピオン酸65.1g(0.28mol)を
徐々に添加した。氷浴をはずし、室温にもどし、2晩撹
拌した。 1H核磁気共鳴分光法でアジリジン化合物(化
合物2)の生成を確認した後、この反応器を油浴につ
け、90℃で8時間加熱した。室温まで下げた後、濃塩
酸を加えてpH2に調整した。電気透析により脱塩を行
い、途中で析出した結晶を濾取して、加熱乾燥した。目
的の化合物II−6を70g得た。収率93%。 mp 170℃〜徐々に分解 NMR(D2 O+NaOD、内標DSS) δ1.10−1.35 (m 6H) δ2.55−2.75 (m 2H) δ3.05−3.25 (m 3H) 元素分析値 C9 H16N2 O6 ・H2 O=266.25として H C N 計算値 6.81 40.60 10.52 実測値 6.70 40.75 10.63
【0041】・合成例8(化合物II−14の合成) 三口フラスコにアスパラギン酸57.4g(0.42m
ol)と水100mlを加えよく撹拌しながら、氷浴に
つけて50%水酸化ナトリウム水溶液120.8gを添
加した。完溶後、温度を30℃以下に保ちながら、2,
3−ジブロモプロピオン酸50g(0.216mol)
を徐々に添加した。氷浴をはずし、室温にもどし、3晩
撹拌した。 1H核磁気共鳴分光法でアジリジン化合物
(化合物4)の生成を確認した後、この反応器を油浴に
つけ、15時間加熱還流した。室温まで下げた後、濃塩
酸を加えてpH2に調整した。電気透析により脱塩した
後、減圧濃縮することによって析出した結晶を濾取し、
加熱乾燥した。目的の化合物II−14を66g得た。収
率91%。 mp 115−7℃(分解) NMR(D2 O+NaOD、内標DSS) δ2.28−2.60 (m 4H) δ2.60−2.78 (m 2H) δ3.15 (t 1H) δ3.35 (t 1H) δ3.40 (t 1H) 元素分析値 C11H15N2 O10・2H2 O=371.28として H C N 計算値 5.16 35.59 7.55 実測値 5.09 35.66 7.73
ol)と水100mlを加えよく撹拌しながら、氷浴に
つけて50%水酸化ナトリウム水溶液120.8gを添
加した。完溶後、温度を30℃以下に保ちながら、2,
3−ジブロモプロピオン酸50g(0.216mol)
を徐々に添加した。氷浴をはずし、室温にもどし、3晩
撹拌した。 1H核磁気共鳴分光法でアジリジン化合物
(化合物4)の生成を確認した後、この反応器を油浴に
つけ、15時間加熱還流した。室温まで下げた後、濃塩
酸を加えてpH2に調整した。電気透析により脱塩した
後、減圧濃縮することによって析出した結晶を濾取し、
加熱乾燥した。目的の化合物II−14を66g得た。収
率91%。 mp 115−7℃(分解) NMR(D2 O+NaOD、内標DSS) δ2.28−2.60 (m 4H) δ2.60−2.78 (m 2H) δ3.15 (t 1H) δ3.35 (t 1H) δ3.40 (t 1H) 元素分析値 C11H15N2 O10・2H2 O=371.28として H C N 計算値 5.16 35.59 7.55 実測値 5.09 35.66 7.73
【0042】・合成例9(化合物II−18の合成) 三口フラスコにβ−アラニン50g(0.56mol)
と水100mlを加えよく撹拌しながら、氷浴につけて
50%水酸化ナトリウム水溶液112.2gを添加し
た。完溶後、温度を20℃以下に保ちながら、2,3−
ジブロモプロピオン酸65g(0.28mol)を徐々
に添加した。氷浴をはずし、室温にもどし、1晩撹拌し
た。 1H核磁気共鳴分光法でアジリジン化合物(化合物
9)の生成を確認した後、この反応器を油浴につけ、1
0時問加熱還流した。室温まで下げた後、濃塩酸を加え
てpH2に調整した。電気透析により脱塩した後、析出
した結晶を濾取し、加熱乾燥した。目的の化合物II−1
8を62g得た。収率88%。 NMR(D2 O+NaOD、内標DSS) δ2.40 (t 4H) δ2.55−2.90 (m 6H) δ3.20 (t 1H)
と水100mlを加えよく撹拌しながら、氷浴につけて
50%水酸化ナトリウム水溶液112.2gを添加し
た。完溶後、温度を20℃以下に保ちながら、2,3−
ジブロモプロピオン酸65g(0.28mol)を徐々
に添加した。氷浴をはずし、室温にもどし、1晩撹拌し
た。 1H核磁気共鳴分光法でアジリジン化合物(化合物
9)の生成を確認した後、この反応器を油浴につけ、1
0時問加熱還流した。室温まで下げた後、濃塩酸を加え
てpH2に調整した。電気透析により脱塩した後、析出
した結晶を濾取し、加熱乾燥した。目的の化合物II−1
8を62g得た。収率88%。 NMR(D2 O+NaOD、内標DSS) δ2.40 (t 4H) δ2.55−2.90 (m 6H) δ3.20 (t 1H)
【0043】・合成例10(化合物II−7の合成) 三口フラスコにグリシン50g(0.67mol)と水
100mlを加えよく撹拌しながら、氷浴につけて50
%水酸化ナトリウム水溶液53.2gを添加した。完溶
後、温度を30℃以下に保ちながら、2,3−ジブロモ
プロピオン酸162g(0.70mol)を徐々に添加
した。この溶液に50%水酸化ナトリウム水溶液15
9.6g添加し、氷浴をはずし、室温にもどして1晩撹
拌した。さらに、 1H核磁気共鳴分光法でアジリジン化
合物(化合物1)の生成を確認した後、この溶液を3等
分し、その一つを三口フラスコに入れた。この溶液に、
L−アラニン20g(0.22mol)と50%水酸化
ナトリウム水溶液18gを加え、反応器を油浴につけ
て、8時間加熱還流した。室温まで下げた後、濃塩酸を
加えてpH2に調整した。電気透析により脱塩した後、
析出した結晶を濾取し、加熱乾燥した。目的の化合物II
−7を47g得た。収率83%。 mp 200〜1℃(分解) NMR(D2 O+NaOD、内標DSS) δ1.20 (d 3H) δ2.55−2.80 (m 2H) δ3.00−3.30 (m 4H)
100mlを加えよく撹拌しながら、氷浴につけて50
%水酸化ナトリウム水溶液53.2gを添加した。完溶
後、温度を30℃以下に保ちながら、2,3−ジブロモ
プロピオン酸162g(0.70mol)を徐々に添加
した。この溶液に50%水酸化ナトリウム水溶液15
9.6g添加し、氷浴をはずし、室温にもどして1晩撹
拌した。さらに、 1H核磁気共鳴分光法でアジリジン化
合物(化合物1)の生成を確認した後、この溶液を3等
分し、その一つを三口フラスコに入れた。この溶液に、
L−アラニン20g(0.22mol)と50%水酸化
ナトリウム水溶液18gを加え、反応器を油浴につけ
て、8時間加熱還流した。室温まで下げた後、濃塩酸を
加えてpH2に調整した。電気透析により脱塩した後、
析出した結晶を濾取し、加熱乾燥した。目的の化合物II
−7を47g得た。収率83%。 mp 200〜1℃(分解) NMR(D2 O+NaOD、内標DSS) δ1.20 (d 3H) δ2.55−2.80 (m 2H) δ3.00−3.30 (m 4H)
【0044】比較例1(合成例6の比較例。化合物Bを
用いた化合物II−1の合成) 三口フラスコに2−シアノ−1−アジリジン酢酸エチル
エステル(化合物B)50.9g(0.33mol)、
グリシン24.8g(0.33mol)と水150ml
を加え、よく撹拌しながら、50%水酸化ナトリウム水
溶液105.6gを添加した。この反応器を油浴につ
け、8時間加熱還流した。室温まで下げた後、濃塩酸を
加えてpH2に調整した。一晩放置後、析出した結晶を
濾取し、加熱乾燥した。目的の化合物II−1を10.2
g得た。収率14%。
用いた化合物II−1の合成) 三口フラスコに2−シアノ−1−アジリジン酢酸エチル
エステル(化合物B)50.9g(0.33mol)、
グリシン24.8g(0.33mol)と水150ml
を加え、よく撹拌しながら、50%水酸化ナトリウム水
溶液105.6gを添加した。この反応器を油浴につ
け、8時間加熱還流した。室温まで下げた後、濃塩酸を
加えてpH2に調整した。一晩放置後、析出した結晶を
濾取し、加熱乾燥した。目的の化合物II−1を10.2
g得た。収率14%。
【0045】
【発明の効果】本発明方法によれば式(I)で表される
アジリジン化合物に、アミン化合物を反応させて開環反
応により前記式(II)で示されるようなジアミン化合物
を効率よく、高収率で製造できる。このジアミン化合物
(式(II))は、特開平7−199433に記載される
ように、医療用、化粧用製剤、石鹸、洗剤、クリーニン
グ組成物、材料分析、金属材料への被膜、メッキ、触
媒、コロイド化学、写真(例えば現像液、漂白液)、液
晶分野等で使用する化合物(例えばキレート剤)に利用
できる。写真用としては、キレート剤以外に、Fe錯塩
として漂白剤、減力剤などとして用いることができる。
このアミノ酸類から式(I)で表されるアジリジン化合
物を合成して、さらに式(II)で表されるジアミン化合
物を合成する工程は工程が短く、保護基の脱離、中間生
成物の単離などを必要とせず一貫工程で簡略化された操
作で実施できる。
アジリジン化合物に、アミン化合物を反応させて開環反
応により前記式(II)で示されるようなジアミン化合物
を効率よく、高収率で製造できる。このジアミン化合物
(式(II))は、特開平7−199433に記載される
ように、医療用、化粧用製剤、石鹸、洗剤、クリーニン
グ組成物、材料分析、金属材料への被膜、メッキ、触
媒、コロイド化学、写真(例えば現像液、漂白液)、液
晶分野等で使用する化合物(例えばキレート剤)に利用
できる。写真用としては、キレート剤以外に、Fe錯塩
として漂白剤、減力剤などとして用いることができる。
このアミノ酸類から式(I)で表されるアジリジン化合
物を合成して、さらに式(II)で表されるジアミン化合
物を合成する工程は工程が短く、保護基の脱離、中間生
成物の単離などを必要とせず一貫工程で簡略化された操
作で実施できる。
Claims (1)
- 【請求項1】 下記式(I)で表されるアジリジン化合
物とアミン化合物RNH2 とを反応させることを特徴と
する下記式(II)で表されるジアミン化合物の製造方
法。 【化1】 (式中、M1 及びM2 は水素原子またはカチオンを表
す。Lは、アルキレン基および/またはアリーレン基を
含む二価の連結基を表す。Rはアルキル基、アリール基
またはヘテロ環基を表す。)
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28142097A JPH11100357A (ja) | 1997-09-29 | 1997-09-29 | ジアミン化合物の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28142097A JPH11100357A (ja) | 1997-09-29 | 1997-09-29 | ジアミン化合物の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11100357A true JPH11100357A (ja) | 1999-04-13 |
Family
ID=17638920
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP28142097A Pending JPH11100357A (ja) | 1997-09-29 | 1997-09-29 | ジアミン化合物の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11100357A (ja) |
-
1997
- 1997-09-29 JP JP28142097A patent/JPH11100357A/ja active Pending
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