JPH11158121A - 液晶化合物およびそれを含む反強誘電性液晶組成物 - Google Patents
液晶化合物およびそれを含む反強誘電性液晶組成物Info
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- JPH11158121A JPH11158121A JP9347172A JP34717297A JPH11158121A JP H11158121 A JPH11158121 A JP H11158121A JP 9347172 A JP9347172 A JP 9347172A JP 34717297 A JP34717297 A JP 34717297A JP H11158121 A JPH11158121 A JP H11158121A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 従来から知られている反強誘電性液晶化合物
の主骨格を修飾することにより、具体的には主骨格のフ
ッ素修飾場所を選択し、さらに従来知られている反強誘
電性液晶化合物のアキラル側のアルキル基末端に二重結
合を導入することにより、安定な反強誘電性を示すとと
もに、ディスプレイに充分使用できる応答速度の温度依
存性に優れた新規な反強誘電性液晶化合物およびそれを
含む液晶組成物の提供。 【解決手段】 一般式(1) 【化1】 (式中、mは4〜14の整数、nは2〜10の整数、C
fはCF3、CH3、CClF2およびCCl2Fよりなる
群から選ばれた基であり、*は光学活性炭素を示す。)
で表わされる反強誘電性液晶化合物。
の主骨格を修飾することにより、具体的には主骨格のフ
ッ素修飾場所を選択し、さらに従来知られている反強誘
電性液晶化合物のアキラル側のアルキル基末端に二重結
合を導入することにより、安定な反強誘電性を示すとと
もに、ディスプレイに充分使用できる応答速度の温度依
存性に優れた新規な反強誘電性液晶化合物およびそれを
含む液晶組成物の提供。 【解決手段】 一般式(1) 【化1】 (式中、mは4〜14の整数、nは2〜10の整数、C
fはCF3、CH3、CClF2およびCCl2Fよりなる
群から選ばれた基であり、*は光学活性炭素を示す。)
で表わされる反強誘電性液晶化合物。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、室温付近で安定な
反強誘電性を示し、かつディスプレイ表示上不可欠な特
性である応答速度の温度依存性に優れた反強誘電性液晶
化合物に関する。
反強誘電性を示し、かつディスプレイ表示上不可欠な特
性である応答速度の温度依存性に優れた反強誘電性液晶
化合物に関する。
【0002】
【従来技術】液晶表示素子は、1)低電圧作動性、2)
低消費電力性、3)薄形表示、4)受光型などの優れた
特徴を有するため、現在まで、TN方式、STN方式、
ゲスト−ホスト(Gest−Host)方式などが開発
され実用化されている。しかし、現在広く利用されてい
るネマチック液晶を用いたものは、応答速度が数mse
c〜数十msecと遅い欠点があり、応用上種々の制約
を受けている。
低消費電力性、3)薄形表示、4)受光型などの優れた
特徴を有するため、現在まで、TN方式、STN方式、
ゲスト−ホスト(Gest−Host)方式などが開発
され実用化されている。しかし、現在広く利用されてい
るネマチック液晶を用いたものは、応答速度が数mse
c〜数十msecと遅い欠点があり、応用上種々の制約
を受けている。
【0003】これらの問題を解決するため、STN方式
や薄層トランジスタなどを用いたアクティブマトリック
ス方式などが開発されたが、STN型表示素子は、表示
コントラストや視野角などの表示品位は優れたものとな
ったが、セルギャップやチルト角の制御に高い精度を必
要とすることや応答がやや遅いことなどが問題となって
いる。
や薄層トランジスタなどを用いたアクティブマトリック
ス方式などが開発されたが、STN型表示素子は、表示
コントラストや視野角などの表示品位は優れたものとな
ったが、セルギャップやチルト角の制御に高い精度を必
要とすることや応答がやや遅いことなどが問題となって
いる。
【0004】このため、応答性のすぐれた新しい液晶表
示方式の開発が要望されており、光学応答時間がμse
cオーダーと極めて短かい超高速デバイスが可能になる
強誘電性液晶の開発が試みられていた。
示方式の開発が要望されており、光学応答時間がμse
cオーダーと極めて短かい超高速デバイスが可能になる
強誘電性液晶の開発が試みられていた。
【0005】強誘電性液晶は、1975年、Meyer
等によりDOBAMBC(p−デシルオキシベンジリデ
ン−p−アミノ−2−メチルブチルシンナメート)が初
めて合成された(Le Journal de Phy
sique,36巻1975,L−69)。
等によりDOBAMBC(p−デシルオキシベンジリデ
ン−p−アミノ−2−メチルブチルシンナメート)が初
めて合成された(Le Journal de Phy
sique,36巻1975,L−69)。
【0006】さらに、1980年、ClarkとLag
awallによりDOBAMBCのサブマイクロ秒の高
速応答、メモリー特性など表示デバイス上の特性が報告
されて以来、強誘電性液晶が大きな注目を集めるように
なった〔N.A.Clark,etal.,Appl.
Phys.Lett.36.899(1980)〕。
awallによりDOBAMBCのサブマイクロ秒の高
速応答、メモリー特性など表示デバイス上の特性が報告
されて以来、強誘電性液晶が大きな注目を集めるように
なった〔N.A.Clark,etal.,Appl.
Phys.Lett.36.899(1980)〕。
【0007】しかし、彼らの方式には、実用化に向けて
多くの技術的課題があり、特に室温で強誘電性液晶を示
す材料は無く、表示ディスプレイに不可欠な液晶分子の
配列制御に有効かつ実用的な方法も確立されていなかっ
た。
多くの技術的課題があり、特に室温で強誘電性液晶を示
す材料は無く、表示ディスプレイに不可欠な液晶分子の
配列制御に有効かつ実用的な方法も確立されていなかっ
た。
【0008】この報告以来、液晶材料/デバイス両面か
らの様々な試みがなされ、ツイスト二状態間のスイッチ
ングを利用した表示デバイスが試作され、それを用いた
高速電気光学装置も例えば特開昭56−107216号
などで提案されているが、高いコントラストや適正なし
きい値特性は得られていない。
らの様々な試みがなされ、ツイスト二状態間のスイッチ
ングを利用した表示デバイスが試作され、それを用いた
高速電気光学装置も例えば特開昭56−107216号
などで提案されているが、高いコントラストや適正なし
きい値特性は得られていない。
【0009】このような視点から他のスイッチング方式
についても探索され、過渡的な散乱方式が提案された。
その後、1988年に本発明者らによる三安定状態を有
する液晶の三状態スイッチング方式が報告された〔A.
D.L.Chandani,T.Hagiwara,
Y.Suzuki etal.,Japan.J.of
Appl.Phys.,27,(5),L729−L7
32(1988)〕。
についても探索され、過渡的な散乱方式が提案された。
その後、1988年に本発明者らによる三安定状態を有
する液晶の三状態スイッチング方式が報告された〔A.
D.L.Chandani,T.Hagiwara,
Y.Suzuki etal.,Japan.J.of
Appl.Phys.,27,(5),L729−L7
32(1988)〕。
【0010】前記「三状態を有する」とは、第一の電極
基板と所定の間隙を隔てて配置されている第二の電極基
板の間に強誘電性液晶が挟まれてなる液晶電気光学装置
において、前記第一及び第二の電極基板に電界形成用の
電圧が印加されるよう構成されており、図1Aで示され
る三角波として電圧を印加したとき、図1Dのように前
記強誘電性液晶が、無電界時に分子配向が第一の安定状
態(図1Dの1)を有し、かつ、電界印加時に一方の電
界方向に対し分子配向が前記第一の安定状態とは異なる
第二の安定状態(図1Dの2)を有し、さらに他方の電
界方向に対し前記第一及び第二の安定状態とは異なる第
三の分子配向安定状態(図1Dの3)を有することを意
味する。なお、この三安定状態、すなわち三状態を利用
する液晶電気光学装置については、本出願人は特願昭6
3−70212号として出願し、特開平2−15332
2号として公開されている。
基板と所定の間隙を隔てて配置されている第二の電極基
板の間に強誘電性液晶が挟まれてなる液晶電気光学装置
において、前記第一及び第二の電極基板に電界形成用の
電圧が印加されるよう構成されており、図1Aで示され
る三角波として電圧を印加したとき、図1Dのように前
記強誘電性液晶が、無電界時に分子配向が第一の安定状
態(図1Dの1)を有し、かつ、電界印加時に一方の電
界方向に対し分子配向が前記第一の安定状態とは異なる
第二の安定状態(図1Dの2)を有し、さらに他方の電
界方向に対し前記第一及び第二の安定状態とは異なる第
三の分子配向安定状態(図1Dの3)を有することを意
味する。なお、この三安定状態、すなわち三状態を利用
する液晶電気光学装置については、本出願人は特願昭6
3−70212号として出願し、特開平2−15332
2号として公開されている。
【0011】三安定状態を示す反強誘電性液晶の特徴を
さらに詳しく説明する。クラーク/ラーガーバァル(C
lark−Lagawall)により提案された表面安
定化強誘電性液晶素子では、S*C相において強誘電性液
晶分子が図2(a),(b)のように一方向に均一配向
した2つの安定状態を示し、印加電界の方向により、ど
ちらか一方の状態に安定化され、電界を切ってもその状
態が保持される。
さらに詳しく説明する。クラーク/ラーガーバァル(C
lark−Lagawall)により提案された表面安
定化強誘電性液晶素子では、S*C相において強誘電性液
晶分子が図2(a),(b)のように一方向に均一配向
した2つの安定状態を示し、印加電界の方向により、ど
ちらか一方の状態に安定化され、電界を切ってもその状
態が保持される。
【0012】しかしながら実際には、強誘電性液晶分子
の配向状態は、液晶分子のダイレクターが捩れたツイス
ト二状態を示したり、層がくの字に折れ曲ったシエブロ
ン構造を示す。シエブロン層構造では、スイッチング角
が小さくなり低コントラストの原因になるなど、実用化
へ向けて大きな障害になっている。一方、“反”強誘電
性液晶は三安定状態を示すS*(3)相では、上記液晶電気
光学装置において、無電界時には、図3(a)に示すご
とく隣り合う層毎に分子は逆方向に傾き反平行に配列
し、液晶分子の双極子はお互に打ち消し合っている。し
たがって、液晶層全体として自発分極は打ち消されてい
る。この分子配列を示す液晶相は、図1Dの1に対応し
ている。
の配向状態は、液晶分子のダイレクターが捩れたツイス
ト二状態を示したり、層がくの字に折れ曲ったシエブロ
ン構造を示す。シエブロン層構造では、スイッチング角
が小さくなり低コントラストの原因になるなど、実用化
へ向けて大きな障害になっている。一方、“反”強誘電
性液晶は三安定状態を示すS*(3)相では、上記液晶電気
光学装置において、無電界時には、図3(a)に示すご
とく隣り合う層毎に分子は逆方向に傾き反平行に配列
し、液晶分子の双極子はお互に打ち消し合っている。し
たがって、液晶層全体として自発分極は打ち消されてい
る。この分子配列を示す液晶相は、図1Dの1に対応し
ている。
【0013】さらに、(+)又は(−)のしきい値より
充分大きい電圧を印加すると、図3(b)および(c)
に示す液晶分子が同一方向に傾き平行に配列する。この
状態では、分子の双極子も同一方向に揃うため自発分極
が発生し、強誘電相となる。
充分大きい電圧を印加すると、図3(b)および(c)
に示す液晶分子が同一方向に傾き平行に配列する。この
状態では、分子の双極子も同一方向に揃うため自発分極
が発生し、強誘電相となる。
【0014】すなわち、“反”強誘電性液晶のS*(3)相
においては、無電界時の“反”強誘電相と印加電界の極
性による2つの強誘電相が安定になり、“反”強誘電相
と2つの強誘電相間を直流的しきい値を持って三安定状
態間スイッチングを行うものである。このスイッチング
に伴う液晶分子配列の変化により図4に示すダブル・ヒ
ステリシスを描いて光透過率が変化する。このダブル・
ヒステリシスに、図4の(A)に示すようにバイアス電
圧を印加して、さらにパルス電圧を重畳することにより
メモリー効果を実現できる特徴を有する。
においては、無電界時の“反”強誘電相と印加電界の極
性による2つの強誘電相が安定になり、“反”強誘電相
と2つの強誘電相間を直流的しきい値を持って三安定状
態間スイッチングを行うものである。このスイッチング
に伴う液晶分子配列の変化により図4に示すダブル・ヒ
ステリシスを描いて光透過率が変化する。このダブル・
ヒステリシスに、図4の(A)に示すようにバイアス電
圧を印加して、さらにパルス電圧を重畳することにより
メモリー効果を実現できる特徴を有する。
【0015】さらに、電界印加により強誘電相は層がス
トレッチされ、ブックシエルフ構造となる。一方、第三
安定状態の“反”強誘電相では類似ブックシエルフ構造
となる。この電界印加による層構造スイッチングが液晶
層に動的シエアーを与えるため駆動中に配向欠陥が改善
され、良好な分子配向が実現できる。そして、“反”強
誘電性液晶では、プラス側とマイナス側の両方のヒステ
リシスを交互に使い画像表示を行なうため、自発分極に
基づく内部電界の蓄積による画像の残像現象を防止する
ことができる。
トレッチされ、ブックシエルフ構造となる。一方、第三
安定状態の“反”強誘電相では類似ブックシエルフ構造
となる。この電界印加による層構造スイッチングが液晶
層に動的シエアーを与えるため駆動中に配向欠陥が改善
され、良好な分子配向が実現できる。そして、“反”強
誘電性液晶では、プラス側とマイナス側の両方のヒステ
リシスを交互に使い画像表示を行なうため、自発分極に
基づく内部電界の蓄積による画像の残像現象を防止する
ことができる。
【0016】以上のように、“反”強誘電性液晶は、
1)高速応答が可能で、2)高いコントラストと広い視
野角および3)良好な配向特性とメモリー効果が実現で
きる、非常に有用な液晶化合物と言える。
1)高速応答が可能で、2)高いコントラストと広い視
野角および3)良好な配向特性とメモリー効果が実現で
きる、非常に有用な液晶化合物と言える。
【0017】“反”強誘電性液晶の三安定状態を示す液
晶相については、1)A.D.L.Chandani
etal.,Japan J.Appl.Phys.,2
8,L−1265(1989)、2)H.Orihar
a etal.,JapanJ.Appl.Phys.,
29,L−333(1990)に報告されており、
“反”強誘電的性質にちなみS*CA相(Antife
rroelectric Smectic C*相)と
命名している。本発明者らは、この液晶相が三安定状態
間のスイッチングを行なうためS*(3)相と定義した。
晶相については、1)A.D.L.Chandani
etal.,Japan J.Appl.Phys.,2
8,L−1265(1989)、2)H.Orihar
a etal.,JapanJ.Appl.Phys.,
29,L−333(1990)に報告されており、
“反”強誘電的性質にちなみS*CA相(Antife
rroelectric Smectic C*相)と
命名している。本発明者らは、この液晶相が三安定状態
間のスイッチングを行なうためS*(3)相と定義した。
【0018】三安定状態を示す“反”強誘電相S*(3)を
相系列に有する液晶化合物は、本発明者の出願した特開
平1−316367号、特開平1−316372号、特
開平1−316339号、特開平2−28128号及び
市橋等の特開平1−213390号公報があり、また三
安定状態を利用した液晶電気光学装置としては本出願人
は特開平2−40625号、特開平2−153322
号、特開平2−173724号において新しい提案を行
っている。
相系列に有する液晶化合物は、本発明者の出願した特開
平1−316367号、特開平1−316372号、特
開平1−316339号、特開平2−28128号及び
市橋等の特開平1−213390号公報があり、また三
安定状態を利用した液晶電気光学装置としては本出願人
は特開平2−40625号、特開平2−153322
号、特開平2−173724号において新しい提案を行
っている。
【0019】“反”強誘電性液晶を液晶ディスプレイへ
応用する場合、1)動作温度範囲、2)応答速度、3)
自発分極、4)ヒステリシス特性等を単一液晶で全て満
足させることは困難であり、通常十数種類の混合液晶と
して調製される。
応用する場合、1)動作温度範囲、2)応答速度、3)
自発分極、4)ヒステリシス特性等を単一液晶で全て満
足させることは困難であり、通常十数種類の混合液晶と
して調製される。
【0020】現在、一般的に反強誘電性液晶材料として
知られている反強誘電性液晶化合物は応答速度の温度依
存性が大きいため、ディスプレイ表示した際に、表示む
ら等の欠点が生じる可能性があることが懸念されてい
る。
知られている反強誘電性液晶化合物は応答速度の温度依
存性が大きいため、ディスプレイ表示した際に、表示む
ら等の欠点が生じる可能性があることが懸念されてい
る。
【0021】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、従来
知られている反強誘電性液晶化合物の主骨格を修飾する
ことにより、具体的には主骨格のフッ素修飾場所を選択
することにより、さらに従来知られている反強誘電性液
晶化合物のアキラル側のアルキル基末端に二重結合を導
入することにより、安定な反強誘電性を示すとともに、
ディスプレイに充分使用できる応答速度の温度依存性に
優れた新規な反強誘電性液晶化合物を提供する点にあ
る。
知られている反強誘電性液晶化合物の主骨格を修飾する
ことにより、具体的には主骨格のフッ素修飾場所を選択
することにより、さらに従来知られている反強誘電性液
晶化合物のアキラル側のアルキル基末端に二重結合を導
入することにより、安定な反強誘電性を示すとともに、
ディスプレイに充分使用できる応答速度の温度依存性に
優れた新規な反強誘電性液晶化合物を提供する点にあ
る。
【0022】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記目的
を達成するために、具体的には、従来の反強誘電性液晶
化合物の主骨格におけるフッ素修飾場所を適正化した反
強誘電性液晶化合物の合成に関して鋭意努力を行ってき
た。また、従来の反強誘電性液晶化合物のアキラル側の
アルキル基末端に二重結合を導入した反強誘電性液晶化
合物の合成に関する研究も行ってきた。さらに、前記化
合物群を合成する際に、前記2つのフッ素元素により修
飾された新規な反強誘電性液晶化合物の合成に関する研
究も行ってきた。それらの結果、従来の反強誘電性液晶
化合物は言うまでもなく、修飾を組み合わせることによ
って、さらに応答速度の温度依存性に優れた反強誘電性
液晶化合物を見出し、本発明を完成するに至った。
を達成するために、具体的には、従来の反強誘電性液晶
化合物の主骨格におけるフッ素修飾場所を適正化した反
強誘電性液晶化合物の合成に関して鋭意努力を行ってき
た。また、従来の反強誘電性液晶化合物のアキラル側の
アルキル基末端に二重結合を導入した反強誘電性液晶化
合物の合成に関する研究も行ってきた。さらに、前記化
合物群を合成する際に、前記2つのフッ素元素により修
飾された新規な反強誘電性液晶化合物の合成に関する研
究も行ってきた。それらの結果、従来の反強誘電性液晶
化合物は言うまでもなく、修飾を組み合わせることによ
って、さらに応答速度の温度依存性に優れた反強誘電性
液晶化合物を見出し、本発明を完成するに至った。
【0023】本発明の第一は、一般式(1)
【化2】 (式中、mは4〜14の整数、nは2〜10の整数、C
fはCF3、CH3、CClF2およびCCl2Fよりなる
群から選ばれた基であり、*は光学活性炭素を示す。)
で表わされる反強誘電性液晶化合物に関する。
fはCF3、CH3、CClF2およびCCl2Fよりなる
群から選ばれた基であり、*は光学活性炭素を示す。)
で表わされる反強誘電性液晶化合物に関する。
【0024】本発明の第二は、請求項1記載の反強誘電
性液晶化合物を少なくとも1種含有することを特徴とす
る反強誘電性液晶組成物に関する。
性液晶化合物を少なくとも1種含有することを特徴とす
る反強誘電性液晶組成物に関する。
【0025】本発明の化合物を列挙すると下記表の通り
である。
である。
【0026】本発明の好ましい化合物を以下に列挙す
る。
る。
【表1】
【0027】
【表2】
【0028】
【表3】
【0029】
【表4】
【0030】
【表5】
【0031】
【表6】
【0032】
【表7】
【0033】
【表8】
【0034】本発明化合物の一般的な合成方法とその反
応式を以下に示す。4′−アルケニルオキシ−3−フル
オロ−4−ビフェニルカルボン酸(i)と塩化チオニル
等の塩素化剤とを反応させることにより、4′−アルケ
ニルオキシ−3−フルオロ−4−ビフェニルカルボン酸
クロリド(ii)を調整する。これに、従来の方法で調整
した(1,1,1−トリフルオロ−2−アルキル)−4
−ヒドロキシベンゾエート(iii)を塩化メチレンを溶
媒とし、トリエチルアミン(以下TEAと略す)、ジメ
チルアミノピリジン(以下DMAPと略す)を触媒とし
て、窒素雰囲気下、室温で一晩以上反応させる。この反
応溶液を塩酸溶液で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで脱
水し、塩化メチレンを蒸留することにより、粗生成物を
得る。この粗生成物をヘキサン/酢酸エチルの混合溶液
でシリカゲルを用いて分離精製し、4−(1,1,1−
トリフルオロ−2−アルコキシカルボニル)フェニル−
4′−アルケニルオキシ−2−フルオロビフェニル−4
−カルボキシレート(iv)を得る。これは、エタノール
を用いて更に精製することができる。また、上記の粗生
成物の分離精製、エステル合成及び液晶の再結晶は記載
の方法以外にも公知の手法により代替することができ
る。
応式を以下に示す。4′−アルケニルオキシ−3−フル
オロ−4−ビフェニルカルボン酸(i)と塩化チオニル
等の塩素化剤とを反応させることにより、4′−アルケ
ニルオキシ−3−フルオロ−4−ビフェニルカルボン酸
クロリド(ii)を調整する。これに、従来の方法で調整
した(1,1,1−トリフルオロ−2−アルキル)−4
−ヒドロキシベンゾエート(iii)を塩化メチレンを溶
媒とし、トリエチルアミン(以下TEAと略す)、ジメ
チルアミノピリジン(以下DMAPと略す)を触媒とし
て、窒素雰囲気下、室温で一晩以上反応させる。この反
応溶液を塩酸溶液で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで脱
水し、塩化メチレンを蒸留することにより、粗生成物を
得る。この粗生成物をヘキサン/酢酸エチルの混合溶液
でシリカゲルを用いて分離精製し、4−(1,1,1−
トリフルオロ−2−アルコキシカルボニル)フェニル−
4′−アルケニルオキシ−2−フルオロビフェニル−4
−カルボキシレート(iv)を得る。これは、エタノール
を用いて更に精製することができる。また、上記の粗生
成物の分離精製、エステル合成及び液晶の再結晶は記載
の方法以外にも公知の手法により代替することができ
る。
【0035】
【化3】
【0036】本発明における応答速度の測定方法は下記
のとおりである。ポリイミドを塗布しラビング処理を施
した透明電極付ガラスからなる厚さ2μmのセルに化合
物を注入し、この液晶物性測定セルをホットステージに
セットし、これを2枚の偏光板を直交させた光電子増倍
管付き偏光顕微鏡に無電界の状態で暗視野となるように
配置した。セル中の液晶が反強誘電性相であるときに、
セルに図5に示すような±50Vの矩形波を印加したと
きの光の相対透過率の変化から応答時間τを求めること
ができる。τは強誘電相の状態(マイナス側の矩形波電
圧終了時)から反強誘電相の状態を経由して次の強誘電
相の状態(プラス側の矩形波電圧印加により相対透過率
が90%に達したとき)になるまでの時間であり、その
単位はμsecである。
のとおりである。ポリイミドを塗布しラビング処理を施
した透明電極付ガラスからなる厚さ2μmのセルに化合
物を注入し、この液晶物性測定セルをホットステージに
セットし、これを2枚の偏光板を直交させた光電子増倍
管付き偏光顕微鏡に無電界の状態で暗視野となるように
配置した。セル中の液晶が反強誘電性相であるときに、
セルに図5に示すような±50Vの矩形波を印加したと
きの光の相対透過率の変化から応答時間τを求めること
ができる。τは強誘電相の状態(マイナス側の矩形波電
圧終了時)から反強誘電相の状態を経由して次の強誘電
相の状態(プラス側の矩形波電圧印加により相対透過率
が90%に達したとき)になるまでの時間であり、その
単位はμsecである。
【0037】また、前記の方法により求めた応答速度
(τ)より、以下の式(1)を用いて、応答速度の温度
依存性(τI)を算出する。
(τ)より、以下の式(1)を用いて、応答速度の温度
依存性(τI)を算出する。
【数1】 τI(80/60)=Log(τ60)/Log(τ80) (1) なお、τI(80/60)は80〜60℃での温度依存
性を示し、τ60、τ80はそれぞれ60℃の応答速
度、80℃の応答速度を示す。さらに、上記τIは通常
1以上であり、小さいものほどその温度依存性が優れて
いるこを示す。
性を示し、τ60、τ80はそれぞれ60℃の応答速
度、80℃の応答速度を示す。さらに、上記τIは通常
1以上であり、小さいものほどその温度依存性が優れて
いるこを示す。
【0038】
【実施例】以下の実施例、比較例を挙げて本発明を説明
するが、本発明はこれにより何ら限定されるものではな
い。
するが、本発明はこれにより何ら限定されるものではな
い。
【0039】実施例1 下記式
【化4】 4−(1,1,1−トリフルオロ−2−ヘキシルオキシ
カルボニル)フェニル−4′−(9−デセニルオキシ)
−2−フルオロビフェニル−4−カルボキシレートの合
成 3−フルオロ−4′−9−デセニルオキシ−4−ビフェ
ニルカルボン酸と塩化チオニル等の塩素化剤とを反応さ
せることにより、3−フルオロ−4′−(9−デセニル
オキシ)−4−ビフェニルカルボン酸クロリドを調整す
る。この化合物0.26g(0.7mmol)に、従来
の方法で調整した(1,1,1−トリフルオロ−2−ヘ
キシル)−4−ヒドロキシベンゼゾエート0.20g
(0.7mmol)を塩化メチレンを溶媒とし、TEA
0.07g(0.7mmol)、DMAP0.02g
(0.2mmol)を触媒として、窒素雰囲気下室温で
一晩以上反応させる。この反応溶液を塩酸溶液で洗浄
し、無水硫酸マグネシウムで脱水し、塩化メチレンを蒸
留することにより、粗生成物を得る。この粗生成物をヘ
キサン/酢酸エチルの20/1(v/v)混合溶液でシ
リカゲルを用いて分離精製し、4−(1,1,1−トリ
フルオロ−2−ヘキシルオキシカルボニル)フェニル−
4′−(9−デセニルオキシ)−2−フルオロビフェニ
ル−4−カルボキシレート0.34g(82%)を得
る。これは、エタノールを用いて更に精製することがで
きる。
カルボニル)フェニル−4′−(9−デセニルオキシ)
−2−フルオロビフェニル−4−カルボキシレートの合
成 3−フルオロ−4′−9−デセニルオキシ−4−ビフェ
ニルカルボン酸と塩化チオニル等の塩素化剤とを反応さ
せることにより、3−フルオロ−4′−(9−デセニル
オキシ)−4−ビフェニルカルボン酸クロリドを調整す
る。この化合物0.26g(0.7mmol)に、従来
の方法で調整した(1,1,1−トリフルオロ−2−ヘ
キシル)−4−ヒドロキシベンゼゾエート0.20g
(0.7mmol)を塩化メチレンを溶媒とし、TEA
0.07g(0.7mmol)、DMAP0.02g
(0.2mmol)を触媒として、窒素雰囲気下室温で
一晩以上反応させる。この反応溶液を塩酸溶液で洗浄
し、無水硫酸マグネシウムで脱水し、塩化メチレンを蒸
留することにより、粗生成物を得る。この粗生成物をヘ
キサン/酢酸エチルの20/1(v/v)混合溶液でシ
リカゲルを用いて分離精製し、4−(1,1,1−トリ
フルオロ−2−ヘキシルオキシカルボニル)フェニル−
4′−(9−デセニルオキシ)−2−フルオロビフェニ
ル−4−カルボキシレート0.34g(82%)を得
る。これは、エタノールを用いて更に精製することがで
きる。
【0040】本化合物の1H−NMR(CDCl3中、T
MS基準、δ値ppm)は 8.3〜6.9(m,11H),5.9〜5.75
(m,1H),5.7〜5.5(m,1H),5.1〜
4.9(dd,2H),4.1〜3.9(t,2H),
2.1〜2.0(q,2H)1.95〜0.85(m,
23H) であった。
MS基準、δ値ppm)は 8.3〜6.9(m,11H),5.9〜5.75
(m,1H),5.7〜5.5(m,1H),5.1〜
4.9(dd,2H),4.1〜3.9(t,2H),
2.1〜2.0(q,2H)1.95〜0.85(m,
23H) であった。
【0041】また、ポリイミドを塗布しラビング処理を
施した透明電極付ガラスからなる厚さ2μmのセルに前
記化合物を注入し、ホットステージ付偏光顕微鏡観察に
よる80℃、60℃における応答速度及び式(1)で表
わされるτI(80/60)も表9に示す。
施した透明電極付ガラスからなる厚さ2μmのセルに前
記化合物を注入し、ホットステージ付偏光顕微鏡観察に
よる80℃、60℃における応答速度及び式(1)で表
わされるτI(80/60)も表9に示す。
【0042】比較例1 下記式
【化5】 で示される4−(1,1,1−トリフルオロ−2−ヘキ
シルオキシカルボニル)フェニル−4′−(デシルオキ
シ)−2−フルオロビフェニル−4−カルボキシレート
を、ポリイミドを塗布しラビング処理を施した透明電極
付ガラスからなる厚さ2μmのセルに注入し、ホットス
テージ付偏光顕微鏡観察による80℃、60℃における
応答速度及び式(1)で表わされるτI(80/60)
も表9に示す。
シルオキシカルボニル)フェニル−4′−(デシルオキ
シ)−2−フルオロビフェニル−4−カルボキシレート
を、ポリイミドを塗布しラビング処理を施した透明電極
付ガラスからなる厚さ2μmのセルに注入し、ホットス
テージ付偏光顕微鏡観察による80℃、60℃における
応答速度及び式(1)で表わされるτI(80/60)
も表9に示す。
【0043】比較例2 下記式
【化6】 で示される4−(1,1,1−トリフルオロ−2−ヘキ
シルオキシカルボニル)フェニル−4′−(9−デセニ
ルオキシ)−ビフェニル−4−カルボキシレートを、ポ
リイミドを塗布しラビング処理を施した透明電極付ガラ
スからなる厚さ2μmのセルに注入し、ホットステージ
付偏光顕微鏡観察による80℃、60℃における応答速
度及び式(1)で表わされるτI(80/60)も表9
に示す。
シルオキシカルボニル)フェニル−4′−(9−デセニ
ルオキシ)−ビフェニル−4−カルボキシレートを、ポ
リイミドを塗布しラビング処理を施した透明電極付ガラ
スからなる厚さ2μmのセルに注入し、ホットステージ
付偏光顕微鏡観察による80℃、60℃における応答速
度及び式(1)で表わされるτI(80/60)も表9
に示す。
【0044】比較例3 下記式
【化7】 で示される4−(1,1,1−トリフルオロ−2−ヘキ
シルオキシカルボニル)フェニル−4′−(デシルオキ
シ)−2−フルオロビフェニル−4−チオカルボキシレ
ートを、ポリイミドを塗布しラビング処理を施した透明
電極付ガラスからなる厚さ2μmのセルに注入し、ホッ
トステージ付偏光顕微鏡観察による80℃、60℃にお
ける応答速度及び式(1)で表わされるτI(80/6
0)も表9に示す。
シルオキシカルボニル)フェニル−4′−(デシルオキ
シ)−2−フルオロビフェニル−4−チオカルボキシレ
ートを、ポリイミドを塗布しラビング処理を施した透明
電極付ガラスからなる厚さ2μmのセルに注入し、ホッ
トステージ付偏光顕微鏡観察による80℃、60℃にお
ける応答速度及び式(1)で表わされるτI(80/6
0)も表9に示す。
【0045】比較例4 下記式
【化8】 で示される4−(1,1,1−トリフルオロ−2−ヘキ
シルオキシカルボニル)−3−フルオロフェニル−4′
−(9−デセニルオキシ)−2−フルオロビフェニル−
4−カルボキシレートを、ポリイミドを塗布しラビング
処理を施した透明電極付ガラスからなる厚さ2μmのセ
ルに注入し、ホットステージ付偏光顕微鏡観察による8
0℃、60℃における応答速度及び式(1)で表わされ
るτI(80/60)も表9に示す。
シルオキシカルボニル)−3−フルオロフェニル−4′
−(9−デセニルオキシ)−2−フルオロビフェニル−
4−カルボキシレートを、ポリイミドを塗布しラビング
処理を施した透明電極付ガラスからなる厚さ2μmのセ
ルに注入し、ホットステージ付偏光顕微鏡観察による8
0℃、60℃における応答速度及び式(1)で表わされ
るτI(80/60)も表9に示す。
【0046】
【表9】
【0047】
【考察】1)実施例1と比較例1、2、3の比較から、
従来の反強誘電性液晶化合物よりも応答速度の温度依存
性の優れていた比較例1、比較例2、比較例3と比較し
ても、実施例1の反強誘電性液晶化合物は、 その応答
速度の温度依存性がさらに約5%、約5%、約1%改善
されたことが わかる。 2)実施例1と比較例4の比較から、特願平9−103
834で発明した応答速度の温度依存性の優れていた比
較例4と比較しても、応答速度の温度依存性がさらに約
3%改善されたことがわかる。
従来の反強誘電性液晶化合物よりも応答速度の温度依存
性の優れていた比較例1、比較例2、比較例3と比較し
ても、実施例1の反強誘電性液晶化合物は、 その応答
速度の温度依存性がさらに約5%、約5%、約1%改善
されたことが わかる。 2)実施例1と比較例4の比較から、特願平9−103
834で発明した応答速度の温度依存性の優れていた比
較例4と比較しても、応答速度の温度依存性がさらに約
3%改善されたことがわかる。
【0048】
【効果】従来の反強誘電性液晶化合物の主骨格のフッ素
修飾場所の適正化をしたことにより、また、従来の反強
誘電性液晶化合物のアキラル側アルキル基の末端に二重
結合を導入したことにより、室温付近において安定な反
強誘電性を示し、かつディスプレイ材料として不可欠の
応答速度の温度依存性が小さいという特性を有する反強
誘電性液晶化合物を提供することができた。
修飾場所の適正化をしたことにより、また、従来の反強
誘電性液晶化合物のアキラル側アルキル基の末端に二重
結合を導入したことにより、室温付近において安定な反
強誘電性を示し、かつディスプレイ材料として不可欠の
応答速度の温度依存性が小さいという特性を有する反強
誘電性液晶化合物を提供することができた。
【図1】(A)は印加される三角波を、(B)は市販の
ネマチック液晶の、(C)は二状態液晶の、(D)は三
安定状態液晶の、それぞれの光学応答特性を示す。
ネマチック液晶の、(C)は二状態液晶の、(D)は三
安定状態液晶の、それぞれの光学応答特性を示す。
【図2】クラーク/ラーガーバァルにより提案された強
誘電性液晶分子の二つの安定した配向状態を示す。
誘電性液晶分子の二つの安定した配向状態を示す。
【図3】(A)は、本発明の“反”強誘電性液晶分子の
三つの安定した配向状態を示し、(B)は、Aの各
(a)、(b)、(c)に対応した三状態スイッチング
と液晶分子配列の変化を示す。
三つの安定した配向状態を示し、(B)は、Aの各
(a)、(b)、(c)に対応した三状態スイッチング
と液晶分子配列の変化を示す。
【図4】“反”強誘電性液晶分子が印加電圧に対してダ
ブルヒステリシスを描いて光透過率が変化することを示
す印加電圧−光透過率特性図である。
ブルヒステリシスを描いて光透過率が変化することを示
す印加電圧−光透過率特性図である。
【図5】(A)は印加電圧と時間の関係を示し、(B)
はその印加電圧がかかったときの液晶分子の応答状態を
示すグラフである。
はその印加電圧がかかったときの液晶分子の応答状態を
示すグラフである。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 山川 則子 東京都港区台場2丁目3番2号 昭和シェ ル石油株式会社内
Claims (2)
- 【請求項1】 一般式(1) 【化1】 (式中、mは4〜14の整数、nは2〜10の整数、C
fはCF3、CH3、 CClF2およびCCl2Fよりなる群から選ばれた基で
あり、*は光学活性炭素を示す。)で表わされる反強誘
電性液晶化合物。 - 【請求項2】 請求項1記載の反強誘電性液晶化合物を
少なくとも1種含有することを特徴とする反強誘電性液
晶組成物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9347172A JPH11158121A (ja) | 1997-12-02 | 1997-12-02 | 液晶化合物およびそれを含む反強誘電性液晶組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9347172A JPH11158121A (ja) | 1997-12-02 | 1997-12-02 | 液晶化合物およびそれを含む反強誘電性液晶組成物 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11158121A true JPH11158121A (ja) | 1999-06-15 |
Family
ID=18388410
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9347172A Pending JPH11158121A (ja) | 1997-12-02 | 1997-12-02 | 液晶化合物およびそれを含む反強誘電性液晶組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11158121A (ja) |
-
1997
- 1997-12-02 JP JP9347172A patent/JPH11158121A/ja active Pending
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