JPH11167872A

JPH11167872A - プラズマディスプレイ用基板およびその製造方法

Info

Publication number: JPH11167872A
Application number: JP33297797A
Authority: JP
Inventors: Yoshiki Masaki; 孝樹正木; Takeshi Horiuchi; 健堀内; Hiroe Yamada; 洋恵山田
Original assignee: Toray Industries Inc
Current assignee: Toray Industries Inc
Priority date: 1997-12-03
Filing date: 1997-12-03
Publication date: 1999-06-22
Anticipated expiration: 2017-12-03
Also published as: JP3959811B2

Abstract

(57)【要約】【課題】高アスペクト比かつ高精細な隔壁パターン加工
を可能にすると共に、焼成して形成される隔壁の着色や
剥がれなどの欠陥が解消されたプラズマディスプレイ用
基板を提供する。【解決手段】プラズマディスプレイ用基板を、隔壁が形
成された基板であって、該隔壁の炭素含有量が０．１重
量％以下とする。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、プラズマディスプ
レイパネルやプラズマアドレス液晶ディスプレイなどの
基板に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）
は液晶パネルに比べて高速の表示が可能であり、かつ大
型化が容易であることから、ＯＡ機器および広報表示装
置などの分野に浸透している。また、高品位テレビジョ
ンの分野などでの進展が非常に期待されている。このよ
うな用途の拡大に伴って、精細で多数の表示セルを有す
るカラーＰＤＰが注目されている。

【０００３】ＰＤＰは、前面ガラス基板と背面ガラス基
板との間に設けられた放電空間内で対向するアノードお
よびカソード電極間にプラズマ放電を生じさせ、上記放
電空間内に封入されているガスから発生した紫外線を、
放電空間内の蛍光体にあてることにより表示を行うもの
である。この場合、放電の広がりを一定領域に抑え、表
示を規定のセル内で行わせると同時に、かつ均一な放電
空間を確保するために隔壁（障壁、リブともいう）が設
けられている。

【０００４】これらの隔壁は、通常背面ガラス基板にガ
ラスからなる絶縁ペーストをスクリーン印刷法で印刷・
乾燥し、この印刷・乾燥工程を１０〜１５回繰り返して
所定の高さにした後、焼成して形成している。しかしな
がら、通常のスクリーン印刷法では、特にパネルサイズ
が大型化した場合に、予め前面基板上に形成された放電
電極と絶縁ガラスペーストの印刷場所との位置合わせが
難しく、位置精度が得られ難いという問題がある。しか
も１０〜１５回ガラスペーストを重ね合わせ印刷を行う
ことになるため、隔壁および壁体の側面エッジ部の波打
ちや裾の乱れが生じ、高さの精度が得られないため、表
示品質が悪くなり、また作業性が悪い、歩留まりが低い
などの問題もある。特に、線幅が狭く、ピッチの小さな
高精細な隔壁パターンを形成する場合には、隔壁底部が
ペーストのチクソトロピー性により滲みやすく、シャー
プで残渣のない隔壁形成が難しくなる問題がある。

【０００５】ＰＤＰの大面積化、高解像度化に伴い、こ
のようなスクリーン印刷による方法では、高アスペクト
比、高精細の隔壁の製造がますます技術的に困難とな
り、かつコスト的に不利になってきている。

【０００６】これらの問題を改良する方法として、特開
平１−２９６５３４号公報、特開平２−１６５５３８号
公報、特開平５−３４２９９２号公報、特開平６−２９
５６７６号公報では、隔壁を感光性ペーストを用いてフ
ォトリソグラフィ技術により形成する方法が提案されて
いる。しかしながら、これらの方法では、感光性絶縁ペ
ーストのガラス含有量が少ないために焼成後に緻密な隔
壁が得られなかったり、感光性ペーストの感度や解像度
が低いという問題があった。このために高アスペクト比
の隔壁を得る為には、スクリーン印刷・露光・現像の工
程を繰り返し行うことが必要であった。しかし、印刷・
露光・現像を繰り返し行うのでは、依然として位置合わ
せの問題が生じたり、コストの問題があり限界があっ
た。

【０００７】そこで特開平８−５０８１１号公報では、
ガラス微粒子と感光性有機成分を必須とする感光性ガラ
スペースト法を用いて、隔壁を１回の露光で形成する方
法が提案されている。しかしながら、この方法では、ピ
ッチが２００μm以下、隔壁の線幅が５０μm以下の高精
細隔壁を作製する際、感光性ペースト中のガラス微粒子
と感光性有機成分の割合によっては、線幅の太り、所望
の線幅が得られない、または現像残りが発生し、いわゆ
る残膜が発生したり、パターン形成性が悪いという問題
があった。また、焼成時に有機成分が消失し難く、いわ
ゆる脱バインダー性が悪く、剥がれ、着色の原因になっ
たり、焼成時の収縮が大きくなり、所望の高さの隔壁を
得るためにパターン形成時の高さが高く必要になり、パ
ターン形成時のマージンが小さく、歩留まりが悪くなる
という問題があった。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】さらに、感光性ペース
トがパターン形成の工程で優れた特性を示す成分組み合
わせであっても、次の焼成工程において問題を生じるこ
とがある。すなわち、パターンを形成しているガラス微
粒子と光反応で硬化している有機成分は、焼成工程にお
いて溶融や熱分解の作用を受けるが、感光性ペースト中
のガラス微粒子と感光性有機成分の割合によっては、有
機成分がガラス溶融物中に閉じ込められて炭化するとい
う現象などにより、焼成されたパターンが褐色や黒色に
着色したり、パターンが基板から剥がれたりするという
問題が発生し、欠陥のない隔壁パターンが得られなかっ
た。

【０００９】そこで、本発明は上記した従来技術の問題
点を改良し、高アスペクト比かつ高精細であり、着色や
剥がれなどの欠陥のない隔壁を有するプラズマディスプ
レイ用基板を提供することをその目的とするものであ
る。

【００１０】

【課題を解決するための手段】前記した本発明の目的
は、隔壁が形成された基板であって、該隔壁の炭素含有
量が０．１重量％以下であることを特徴とするプラズマ
ディスプレイ用基板によって達成される。

【００１１】

【発明の実施の形態】本発明において、隔壁の炭素含有
量が０．１重量％を超えると、隔壁が褐色を呈する。褐
色化するとパネル放電時に、紫外線が蛍光体にあたり励
起されて発光する際、隔壁に吸収されて輝度、コントラ
ストが低下する。また、隔壁を形成する後述の感光性ペ
ーストの選定が不適切であって隔壁の炭素含有量が０.
１重量％を超える結果になると、隔壁の焼成時に有機成
分の蒸発がスムーズに起こらず、いわゆる脱バインダー
性不良となり、基板や誘電体層から隔壁が剥がれたり、
隔壁曲がりの発生・蛇行する原因となる。さらに、放電
電圧の経時変化が大きくなり、輝度低下や放電特性の低
下が起こる。本発明においては炭素含有量が０．０３重
量％以下であることが好ましい。

【００１２】なお炭素含有量はＪＩＳＺ２６１５−
１９７９（金属材料の炭素定量方法通則）に準拠するも
のであり、管状電気抵抗炉加熱ー赤外線吸収法を用いて
測定したものである。赤外線吸収法は、試料を酸素気流
中で加熱し、炭素を充分に二酸化炭素とし、燃焼ガス中
の水分を除去した後、赤外線吸収セルに導き、二酸化炭
素による赤外線吸収量を積分法または循環法で測定する
方法であり、原則として炭素０．００１重量％以上の試
料に適用される。測定装置はＨＯＲＩＢＡ製ＥＭＩＡ−
８１０型である。その校正には、ＪＳＳ１５５−１２
（鉄鋼）を用い、標準値０．０４１％に対して、０．０
４１１％を検出することを確認している。測定試料は、
隔壁粉末１００ｍｇを用い、繰り返し数２で測定した。
測定値の単位は重量％である。

【００１３】また本発明において、隔壁の高さ６０〜１
６０μｍ、隔壁の線幅２０〜１００μｍ、隔壁のピッチ
８０〜４６０μｍであると、隔壁が高アスペクト比かつ
高精細のプラズマディスプレイとなる点で好ましい。

【００１４】基板上に隔壁を形成する方法としては、例
えば次の方法が挙げられる。すなわち、ガラス材料と感
光性有機成分を必須とする感光性ペーストを基板上に塗
布し、フォトリソグラフィ法で露光し隔壁パターンを形
成した後、焼成する方法である。

【００１５】この時基板としてはガラス基板が好ましく
使用される。

【００１６】また感光性ペーストに関し、本発明者らに
よって、高アスペクト比で高精細なパターン形成のため
には、ガラス材料と感光性有機成分との屈折率を近似さ
せること、ガラス材料であるガラス微粒子の平均粒子径
を規制すること、ガラス微粒子による光の散乱や不要な
光反応を抑制するために紫外線吸光剤を添加することな
どが有効であることが明らかになっている。

【００１７】このため本発明においては、ガラス材料の
平均屈折率と感光性有機成分の平均屈折率の差が０．１
以下であることが好ましい。ガラス材料と感光性有機成
分の平均屈折率の差を０．１以下とすることにより、光
の散乱を抑制することができる。ガラス材料と感光性有
機成分の平均屈折率の差が０．１を越えると、ペースト
内部で光散乱が生じ、高精度のパターン加工を行う点で
好ましくない。なお本発明において感光性有機成分は、
ペーストを塗布・乾燥した後に残るものからガラス材料
を除いたものであり、光重合開始剤、増感剤およびその
他の添加物を含むものを意味する。

【００１８】また、一般に絶縁体として用いられるガラ
ス材料は、１．５〜１．９程度の屈折率を有しているの
に対し、一般的な有機成分の屈折率は１．４５〜１．７
程度であるため屈折率を整合するために、本発明におい
てはガラス材料の平均屈折率を１．５〜１．８にするの
が好ましい。より好ましくは１．５〜１．６５である。
ガラス微粒子個々の屈折率のバラツキが小さいことも光
散乱低減には重要なことであり、成分組成の均一化が必
要である。

【００１９】ガラス材料の平均屈折率を１．５〜１．８
にすることによって、感光性有機成分との屈折率を整合
しやすくなり、感光性ペーストの光線透過率向上（散乱
や反射の抑制）に結びつき、照射された光が塗布膜の最
下部まで直進的に透過する割合が増加するので高精度の
パターン形成が可能になる。

【００２０】なお本発明におけるガラス材料の屈折率測
定は、ベッケ法により行うものとする。特に、３５０〜
５５０ｎｍの範囲の波長の光で測定することが好まし
い。さらには、ｉ線（３６５ｎｍ）もしくはｇ線（４３
６ｎｍ）での屈折率測定が好ましい。

【００２１】また、焼成工程において、光硬化反応の結
果で形成された有機成分３次元硬化物の熱分解とガラス
微粒子の溶融が並行して進行すると考えられ、これらが
バランスよく進行しない場合には、パターンの変形や着
色、基板からの剥がれなどの欠陥が発生することにな
る。このためガラス微粒子成分の熱的特性であるガラス
転移点や軟化点が重要となる。

【００２２】ガラス基板上への焼き付けは、低温で行う
ことが好ましいので、この点からガラス材料は低融点を
有するものが望ましいが、組み合わせる感光性有機成分
の熱分解性とのバランスが悪いと、前記のような欠陥が
生じてくる。

【００２３】このような問題をペーストの脱バインダー
性で評価し、感光性有機成分に組み合わせるガラス材料
の熱特性を検討した結果、本発明においてガラス転移点
４５０〜５５０℃、軟化点５００〜６００℃かつ熱膨張
係数７５〜９０×１０^-7／Ｋであることが好ましく、ガ
ラス転移点が４８０〜５１０℃、軟化点が５１０〜５４
０℃がより好ましい。このような熱特性を有するガラス
材料と感光性有機成分とを適宜選択し組み合わせること
により、および／または感光性有機成分を構成する後述
の感光性モノマ、感光性オリゴマ、感光性ポリマを適宜
選択し組み合わせることにより、隔壁の炭素含有量を
０．１重量％以下とすることが容易であり、焼成におけ
る着色（褐色化）や基板からの剥がれが発生しない。

【００２４】またガラス微粒子の熱特性を上記の範囲に
限定することにより、通常焼成工程で炭化などのトラブ
ルを起こしやすい感光性モノマ成分をも感光性成分とし
て使用可能となる。このような感光性モノマの中には、
感光性ペーストの感度や解像度を高く保つのに有効な成
分があるので、その使用範囲の広がることは隔壁作製に
おいて非常に有効である。

【００２５】特に、熱膨張係数が前記の範囲であると、
ガラス基板に主として用いられる高歪み点ガラスの熱膨
張係数（８０〜９０×１０^-7／Ｋ）との整合性を保持さ
れ、プラズマディスプレイパネルの作製における後工程
および実用条件下での種々の熱履歴によるガラス基板と
隔壁の熱膨張係数の不適合による反りに起因する種々の
問題を効果的に回避することができ、優れた特性のディ
スプレイを提供することができる。

【００２６】また、このような熱特性に加えて、ガラス
材料が１０重量％粒子径が１μｍ以下、９０重量％粒子
径が９μｍ以下、平均粒子径２〜３．５μｍ、トップサ
イズ３０μｍ以下である粒度分布を有するガラス微粒子
であることが、焼成工程における欠陥の発生を防止する
点で好ましい。

【００２７】上記したガラス微粒子を用いることによっ
て、分散性が向上し凝集しにくくなり、気泡の残存がな
くなりペースト中の有機成分に対するガラス材料の充填
率が向上すると推定される。その結果、ペーストの全光
線透過率や直進透過率向上（散乱や反射の抑制）に結び
つき、露光時に照射された光が塗布膜の最下部まで直進
的に透過する割合が増加し、光硬化が充分行われるた
め、高精度の隔壁パターン形成が可能になる。

【００２８】なお上記粒子径の測定は、レーザー回折・
散乱法を用いることが簡便に測定でき好ましい。たとえ
ば、粒度分布計ＨＲＡ９３２０−Ｘ１００（マイクロト
ラック社製）を用いた場合の測定条件は下記の通りであ
る。

【００２９】試料量：１ｇ分散条件：精製水中で１〜１．５分間超音波分散、分
散しにくい場合は０．２％ヘキサメタリン酸ナトリウム
水溶液中で行う。

【００３０】粒子屈折率：ガラス種類によって変更（リ
チウム系１．６、ビスマス系１．８８）溶媒屈折率：１．３３測定数：２回本発明において好ましく用いられるガラス材料の組成と
しては次に示すものが挙げられる。

【００３１】酸化リチウム：３〜１０重量％酸化珪素：１０〜３０重量％酸化ホウ素：２０〜４０重量％酸化バリウム：２〜１５重量％酸化アルミニウム：１０〜２５重量％上記の組成において、酸化リチウムの代わりに、酸化ナ
トリウム、酸化カリウムを用いてもよいが、ペーストの
安定性の点では酸化リチウムが好ましい。これらのアル
カリ金属酸化物の含有により、熱軟化温度、熱膨張係数
のコントロールが容易になるのみならず、ガラス材料の
平均屈折率を低くすることができるため、感光性有機成
分との屈折率差を小さくすることが容易になる。酸化カ
リウムを用いた場合は、比較的少量の添加でも屈折率の
制御ができる利点があることから、酸化リチウムと酸化
カリウムの添加が有効である。この場合、ガラス材料中
にアルカリ金属酸化物を合計で３〜１０重量％含有する
ことが好ましい。

【００３２】酸化珪素（ＳｉＯ₂）は１０〜３０重量％
の範囲で配合することが好ましく、１０重量％未満の場
合は隔壁の緻密性、強度や安定性が低下し、また熱膨張
係数が所望の値から外れ、ガラス基板とのミスマッチが
起こり易い。また、３０重量％を越えると、軟化点が高
くなりガラス基板への焼き付けの点で好ましくない。

【００３３】酸化ホウ素（Ｂ₂Ｏ₃）は２０〜４０重量％
の範囲で配合することが好ましい。酸化ホウ素はガラス
材料を８００〜１２００℃付近の温度で溶融するため、
およびガラスペーストの焼き付け温度を酸化珪素が多い
場合でも電気絶縁性、強度、熱膨張係数、隔壁の緻密性
などの電気、機械および熱的特性を損なうことのないよ
うに焼き付け温度を５４０〜６１０℃の範囲に制御する
ために配合される。２０重量％未満では隔壁の強度が低
下し、ガラス材料の安定性が低下する点で好ましくな
く、４０重量％を超えるとガラス材料の安定性が低下す
る点で好ましくない。

【００３４】酸化バリウム（ＢａＯ）は２〜１５重量％
の範囲で配合することが好ましい。２重量％未満では、
ガラス焼き付け温度および電気絶縁性を制御するのが難
しくなり、また、１５重量％を超えるとガラス材料の安
定性や隔壁の緻密性が低下する点で好ましくない。

【００３５】酸化アルミニウム（Ａｌ₂Ｏ₃）は１０〜２
５重量％の範囲で配合するのが好ましい。酸化アルミニ
ウムはガラス材料の歪み点を高めるために添加される。
１０重量％未満では隔壁の強度が低下し、２５重量％を
超えるとガラス材料の耐熱温度が高くなり過ぎてガラス
基板上に焼き付けが難しい点で好ましくない。また、６
００℃以下の温度では緻密な隔壁を得られ難くなる。

【００３６】上記成分に加え、酸化亜鉛、酸化カルシウ
ム、酸化マグネシウムなども含むことができる。

【００３７】この時、酸化亜鉛（ＺｎＯ）は１．５〜１
０重量％の範囲で含まれることが好ましい。１．５重量
％未満では、隔壁の緻密性向上に効果がない。１０重量
％を超えると、ガラス基板上に焼き付けする温度が低く
なり過ぎて制御できなくなり、また隔壁の絶縁抵抗が低
くなるので好ましくない。

【００３８】酸化カルシウム（ＣａＯ）は、ガラス材料
を溶融し易くするとともに熱膨張係数を制御する点で、
２〜１０重量％の範囲で配合することが好ましい。２重
量％より少ないと、歪み点が低くなり過ぎる。

【００３９】酸化マグネシウム（ＭｇＯ）は、ガラス材
料を溶融し易くするとともに熱膨張係数を制御するため
に１〜１０重量％の範囲で含まれることが好ましい。１
０重量％を超えるとガラス材料が失透し易くなる点で好
ましくない。

【００４０】また、ガラス材料中に、酸化チタン、酸化
ジルコニウムなども含有することができるが、その量は
１０重量％未満であることが好ましい。酸化ジルコニウ
ムは、耐酸性が優れているためペーストのポットライフ
延長に効果がある。また、ガラス転移点、軟化点および
電気絶縁性を制御するのに効果がある。

【００４１】本発明においては、感光性ペーストのガラ
ス材料を、前記したガラス転移点４５０〜５５０℃、軟
化点５００〜６００℃かつ熱膨張係数７５〜９０×１０
^-7／Ｋであるガラス材料に無機微粒子を加えたものとす
ることもできる。すなわち、前記したガラス転移点４５
０〜５５０℃、軟化点５００〜６００℃かつ熱膨張係数
７５〜９０×１０^-7／Ｋであるガラス材料４０〜９５重
量％、無機微粒子を５〜６０重量％含有するガラス成分
とすると、感光性ガラスペースト法において、パターン
形成後の焼成時の収縮率が小さくなり、隔壁パターンの
形状保持性や精度が向上する。また、熱膨張係数の制御
がしやすくなり、ガラス基板との密着強度が向上する。
さらに、屈折率の制御が容易になるのでパターン形成性
が向上する。

【００４２】無機微粒子としては、アルミナ、ジルコニ
ア、ムライト、コーディエライト、スピネル、チタニ
ア、ムライトおよびガラスからなる群より選ばれた少な
くとも一種のフィラーが挙げられる。

【００４３】無機微粒子が５重量％未満では、感光性ペ
ースト法で隔壁を形成する場合に、焼成収縮率を低くし
たり、熱膨張係数を制御する効果が少ない。

【００４４】また、無機微粒子の含有量が６０重量％を
越えると、焼成後の隔壁が緻密性の点で劣るものとな
り、隔壁が低強度になり、隔壁が剥がれたり脱落するな
どの欠陥が発生することがある。また、隔壁中に、微量
水分の吸着や有機成分が残留し、放電特性の低下を引き
起こすことがある。

【００４５】特に無機微粒子が、ガラス転移点が６００
〜７００℃、軟化点が６００〜８５０℃の高融点ガラス
であること好ましい。

【００４６】高融点ガラスの平均屈折率は１．５〜１．
８であることが好ましく、１．５〜１．６８がより好ま
しい。これは、感光性ペースト中の感光性化合物をはじ
めとする感光性有機成分との屈折率を整合しやすくな
り、感光性ペーストの透過率向上（散乱や反射の防止）
に結びつくため、高精度のパターン形成が容易になるた
めである。

【００４７】また、前記したガラス転移点４５０〜５５
０℃、軟化点５００〜６００℃のガラス材料の平均屈折
率ｎ１と高融点ガラスの平均屈折率ｎ２が、次の式を満
たすことが好ましい。

【００４８】−０．０５≦ｎ１−ｎ２≦０．０５この範囲にあると、感光性ペースト中の感光性有機成分
との屈折率整合が容易になり、隔壁パターン性が向上す
るので好ましい。

【００４９】前記した条件を満足する高融点ガラスとし
ては、酸化珪素、酸化アルミニウムを１０重量％以上含
有するガラス微粒子が好ましく挙げられ、これらの合計
量が５０重量％以上であることが、必要な熱特性を持た
せるのに有効である。

【００５０】一例としては、次の組成の高融点ガラスが
挙げられる。

【００５１】ＳｉＯ₂ ：１５〜５０重量％Ｂ₂Ｏ₃ ：５〜４０重量％Ａｌ₂Ｏ₃ ：１０〜５０重量％ＢａＯ：２〜１５重量％また、高融点ガラスの粒子径は、Ｄ１０が０．４〜２μ
ｍ、Ｄ５０が１〜３μｍ、Ｄ９０が３〜８μｍおよびト
ップサイズ１０μｍ以下の粒度分布を持つものを使用す
るのが好ましい。この範囲にすることによって焼成収縮
率を低くすることができ、かつ低気孔率の隔壁を作製す
る上で好ましい。また隔壁上部の長手方向の凹凸を２μ
ｍ以下にすることができる。高融点ガラスに大きい粒子
径の粉末を用いると、気孔率が上昇するばかりでなく、
隔壁上部の凹凸が拡大し、誤放電を引き起こすことから
好ましくない。

【００５２】ここで、Ｄ１０、Ｄ５０、Ｄ９０は、それ
ぞれ、粒径の小さいガラス粉末から１０体積％、５０体
積％、９０体積％のガラスの粒子径である。

【００５３】なお高融点ガラスは、例えば、所定の配合
組成となるように各成分を混合し、９００〜１４００℃
で溶融後、急冷し、ガラスフリットにしてから粉砕し、
上記した粒径のものとして使用できる。

【００５４】一方ガラス材料の作製法としては、例えば
原料である酸化リチウム、酸化珪素、酸化アルミニウ
ム、酸化ホウ素、酸化バリウムおよび酸化亜鉛を所定の
配合組成となるように混合し、８００〜１２００℃で溶
融後、急冷し、ガラスフリットにしてから粉砕して１〜
５μｍの微細な微粒子とすることができる。原料は高純
度の炭酸塩、酸化物、水酸化物などを使用できる。ま
た、ガラス微粒子の種類や組成によっては９９．９９％
以上の超高純度なアルコキシドや有機金属の原料を使用
し、ゾル・ゲル法で均質に作製した微粒子を使用すると
高電気抵抗で緻密な気孔の少ない、高強度な隔壁が得ら
れる点で好ましい。

【００５５】上記において使用されるガラス材料の粒子
径は、作製しようとする隔壁の線幅や高さを考慮して選
ばれるが、５０重量％粒子径（平均粒子径、Ｄ５０）が
２〜４．０μｍ、トップサイズ３０μｍ以下であること
が好ましい。さらに、１０重量％粒子径（Ｄ１０）が
０．６〜１．５μｍ、９０重量％粒子径（Ｄ９０）が４
〜１０μｍ、トップサイズ２５μｍ以下、比表面積１．
５〜３．０ｍ²／ｇを有していることが好ましい。より
好ましくは平均粒子径２．０〜３．５μｍ、比表面積
１．５〜３．０ｍ²／ｇである。

【００５６】上記のような粒度分布をもったガラス微粒
子を用いることにより、ガラス材料の充填性が向上し、
感光性ペースト中のガラス材料比率を増加させても気泡
を巻き込むことが少なくなり、余分な光散乱が小さいた
め、好ましい隔壁パターン形状が形成できる。

【００５７】ガラス微粒子の粒度が上記範囲より小さい
と比表面積が増えるため、ガラス微粒子が凝集し易くな
り、有機成分内への分散性が下がるため、気泡を巻き込
みやすくなる。そのため光散乱が増え、隔壁中央部の太
り、底部の硬化不足が生じやすい。またガラス微粒子の
粒度が上記範囲より大きくても、粉末のかさ密度が下が
るため充填性がさがり、感光性有機成分の量が不足し気
泡を巻き込みやすくなり、やはり光散乱を起こしやすく
なる。特に平均粒子径が２．０μｍ未満、比表面積が
３．０ｍ²／ｇを超えると、微粒子が細かくなり過ぎ
て、露光時に光が散乱されて非露光部分を硬化すること
がある。

【００５８】それに対し、ガラス微粒子の粒度分布が上
記範囲にあると、ガラス材料充填比率が高いので焼成収
縮率が低くなり、焼成時にパターン形状が崩れず、隔壁
形状が安定して得られる。また紫外線露光時に光が十分
透過し、上下で線幅差のない均一な隔壁パターンが得ら
れる。

【００５９】本発明における感光性ペーストにあって
は、前記したガラス材料、もしくはガラス材料と無機微
粒子／感光性有機成分の混合比は６０／４０〜９０／１
０（重量比）であることが好ましい。より好ましくは６
５／３５〜８５／１５（重量比）である。ここで感光性
有機成分とは、感光性官能基を有するモノマおよびオリ
ゴマもしくはポリマを示し、光重合開始剤、増感剤およ
びその他必要に応じて添加される成分を意味する。

【００６０】ガラス材料、もしくはガラス材料および無
機微粒子の割合が６０より少なくなると、焼成時に有機
成分が消失し難く、形成された隔壁の着色や剥がれの原
因になり好ましくない。また、高精細隔壁パターン形成
時には、感光性有機成分が多いと、隔壁線幅に太りがみ
られ所望の線幅が得られ難くなる。さらに、焼成時の収
縮が大きく、所望の高さを得るためには焼成前のパター
ンを高くすることが必要になり、形成時のマージンが小
さくなる。

【００６１】ガラス材料、もしくはガラス材料および無
機微粒子の割合が９０より多いと、ペースト中に気泡が
入り易くなり、光散乱の原因となり、線幅が太り好まし
くない。また、感光性有機成分から構成される３次元硬
化した樹脂成分が少ないことに起因して、パターン全体
として硬化が不十分となり、パターン形成時に基板との
密着性が劣り剥がれ易い。

【００６２】次に感光性有機成分について説明する。

【００６３】本発明においては、感光性有機成分とは、
感光性ペーストからガラス材料や無機微粒子を除いた部
分のことであり、好ましくは感光性ペースト中に１０〜
４０重量％、より好ましくは１５〜３５重量％含まれる
ものであり、感光性モノマ、感光性オリゴマ、感光性ポ
リマのうち少なくとも１種から選ばれた感光性成分の他
に、バインダー、光重合開始剤、増感剤、増感助剤、紫
外線吸光剤、重合禁止剤、可塑剤、増粘剤、酸化防止
剤、分散剤、その他必要に応じた添加剤から構成され
る。感光性成分としては、感光性モノマおよび感光性オ
リゴマもしくは感光性ポリマを混合して用いることが好
ましい。

【００６４】感光性ペーストの感度や解像度は、主とし
て感光性有機成分に依存するものであり、これらの有機
成分は、パターン形成における露光・現像の工程におい
て重要な役割を担うと共に、次の焼成工程においては、
速やかに熱分解して消失する必要がある。従って、感光
性有機成分は、感光性ペーストとしての必要特性に加
え、熱分解特性に優れたものでなければならない。

【００６５】本発明においては、感光性モノマとして
は、活性な炭素ー炭素二重結合を有する化合物が挙げら
れ、官能基として、ビニル基、アリル基、アクリレート
基、メタクリレート基、アクリルアミド基を有する単官
能および多官能化合物が好ましい。多官能アクリレート
化合物および／または多官能メタクリレート化合物を感
光性有機成分中に１０〜８０重量％含有することが好ま
しい。多官能アクリレート化合物および／または多官能
メタクリレート化合物としては多様な種類の化合物が開
発されているので、それらから反応性、屈折率などを考
慮して選択することが可能である。選択の基準として
は、ペーストの安定性、塗布性などの特性が良好か、感
度、解像度の優れたパターンが形成できるかなどがある
が、一方、焼成した後のガラス成分で形成されたパター
ン状物を褐色や黒色に着色させたり、その特性に影響を
与えたりしないという条件が加えられる。

【００６６】また感光性有機成分の屈折率を制御する方
法として、感光性モノマの屈折率を制御する方法が簡便
であるため、感光性モノマの屈折率が１．５５〜１．８
であることが好ましい。この点から感光性モノマとして
は、ベンゼン環、ナフタレン環などの芳香環や硫黄原子
を含有するアクリレートもしくはメタクリレートモノマ
が好ましく挙げられる。

【００６７】さらに感光性成分として、光反応で形成さ
れる硬化物の物性の向上やペーストの粘度の調整などの
役割を果たすと共に、未露光部の現像性をコントロール
する機能を果たす成分として感光性オリゴマもしくはポ
リマが含まれることが好ましく、これらについても感光
性モノマと同様の特性が必要である。加えて感光性オリ
ゴマもしくはポリマは、感光性ペーストの塗布性にも関
与する成分であり、ガラス微粒子を分散させるバインダ
ーの役割も要求される。さらに感光性オリゴマもしくは
ポリマも焼成工程において速やかに熱分解して除去され
ることが必要であり、主鎖分子構造としては熱分解し易
い構造を選ぶことが好ましい。

【００６８】このような感光性オリゴマもしくはポリマ
としては、炭素ー炭素二重結合を有する化合物から選ば
れた成分の重合または共重合により得られた炭素連鎖の
骨格を有するものが挙げられる。共重合するモノマとし
ては、不飽和カルボン酸などが、パターン露光後に未露
光部分をアルカリ水溶液で容易に現像できる点で好まし
く挙げられる。

【００６９】不飽和カルボン酸の具体的な例として、ア
クリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、マ
レイン酸、フマル酸、ビニル酢酸またはこれらの酸無水
物などが挙げられる。

【００７０】上記した側鎖にカルボキシル基などの酸基
を有するオリゴマもしくはポリマの酸価は３０〜１５
０、好ましくは５０〜１２０の範囲になるようにコント
ロールすることが好ましい。酸価が１５０を越えると、
現像許容幅が狭くなる。また、酸価が３０未満になると
未露光部の現像液に対する溶解性が低下する傾向があ
る。

【００７１】本発明において、感光性オリゴマもしくは
ポリマとしては、特に、分子内にカルボキシル基と炭素
−炭素二重結合を含有する重量平均分子量５００〜１０
万のオリゴマもしくはポリマを用いることが最も好まし
いが、炭素−炭素二重結合を導入するには、上記のよう
なカルボキシル基を側鎖に有するオリゴマもしくはポリ
マに、グリシジル基やイソシアネート基を有するエチレ
ン性不飽和化合物やアクリル酸クロライド、メタクリル
酸クロライドまたはアリルクロライドを付加反応させる
方法が適用される。アルカリ水溶液による現像性のため
のカルボキシル基数と、オリゴマもしくはポリマを感光
性にするエチレン性不飽和基数とは、反応条件により自
由に選択することができる。

【００７２】感光性有機成分として、さらにバインダー
成分を含むことも可能であり、バインダーとしては、ポ
リビニルアルコール、ポリビニルブチラール、メタクリ
ル酸エステル重合体、アクリル酸エステル重合体、それ
らの共重合体などを用いることができる。

【００７３】また、前記感光性モノマ、感光性オリゴマ
もしくはポリマ、バインダーはいずれも活性光線のエネ
ルギー吸収能力はないので、光反応を開始するためには
光重合開始剤や増感剤を加える必要がある。

【００７４】感光性ペーストによるパターン形成は、露
光された部分の感光性成分（モノマ、オリゴマ、ポリ
マ）を重合および架橋させて現像液に不溶性にすること
であり、用いる感光性を示す官能基はラジカル重合性で
あるため、光重合開始剤はラジカル種を発生するものか
ら選んで用いられる。光重合開始剤には、１分子系直接
開裂型、イオン対間電子移動型、水素引き抜き型、２分
子複合系など機構的に異なる種類があるが、本発明にお
いては、１分子系直接開裂型から選ばれた化合物を用い
ることが好ましい。例えば、ベンゾインアルキルエーテ
ルやα，α−ジメトキシ−α−モルフォリノアセトフェ
ノン，α，α−ジメトキシ−α−フェニルアセトフェノ
ンなどが挙げられる。また、過酸化物、ホスフィンオキ
シド、硫黄化合物、ハロゲン化合物なども用いられる。
これらを１種または２種以上使用することができる。光
重合開始剤は、通常、感光性成分に対して０．０５〜１
０重量％、より好ましくは、０．１〜１０重量％の範囲
で添加されるが、本発明においては、感光性ペースト中
のガラス材料の量を考慮して、感光性成分に対し２〜１
０重量％用いるのが好ましい。

【００７５】さらに、光重合開始剤と共に増感剤を使用
し、感度を向上させたり（化学増感）、反応に有効な波
長範囲を拡大する（分光増感）ことができる。増感剤の
作用機構にも種々のものがあるが、三重項増感剤と称さ
れるものが最もよく使われる。具体的には、炭化水素系
化合物、アミノ・ニトロ化合物、キノン類、キサントン
類、アンスロン類、ケトン類、有機色素類が挙げられ、
これらの中には光重合開始剤としての作用を有するもの
も含まれている。本発明においては、キサントン類から
選ばれた化合物が好ましく使用され、２，４−ジエチル
チオキサントン、イソプロピルチオキサントンなどが例
示される。これらは１種または２種以上使用することが
できる。

【００７６】増感剤を感光性ペーストに添加する場合、
通常その添加量は感光性成分に対して０．０５〜１０重
量％、より好ましくは０．１〜１０重量％であるが、本
発明においては、ガラス材料の量を考慮して、感光性成
分に対して２〜１０重量％用いるのが好ましい。

【００７７】光重合開始剤および増感剤が、少な過ぎる
と十分な感度が得られないが、多くすることによって感
度を高めることは可能であるが、硬化した部分の重合度
合いが十分に高くならず、露光部の残存率が小さくなる
おそれがあり、また、パターン間での不要な硬化が発生
して残膜が形成されるなどの不都合が起こる。光重合開
始剤と増感剤を適量ずつ使用することが適度の感度で優
れた形状を示すパターンを形成するのに必要である。

【００７８】さらに感光性ペースト中に紫外線吸光剤を
添加することが、狭ピッチで、線幅が細く、高い隔壁す
なわち優れた形状のパターン加工のために有効である。
紫外光の吸収効果の高い化合物を添加することによって
高アスペクト比、高精細、高解像度が得られる。紫外線
吸光剤としては有機系染料からなるもの、中でも３５０
〜４５０ｎｍの波長範囲で高い吸光係数を有するものが
好ましく用いられる。

【００７９】具体的にはアゾ系染料、アミノケトン系染
料、キサンテン系染料、キノリン系染料、アントラキノ
ン系染料、ベンゾフェノン系染料、ジフェニルシアノア
クリレート系染料、トリアジン系染料、ｐ−アミノ安息
香酸系染料などが使用できる。これらの中でも、アゾ系
およびベンゾフェノン系染料が好ましい。有機系染料は
紫外線吸光剤として添加した場合にも、焼成後の絶縁膜
中に残存しないので絶縁特性の低下を少なくできるので
好ましい。

【００８０】紫外線吸光剤としての有機系染料の添加量
は、感光性ペースト中に分散されるガラス材料と無機微
粒子の総和に対して０．０５〜０．５重量％であること
が好ましい。この紫外線吸光剤は、予め有機溶媒に溶解
した溶液を作製し、それをペースト作製時に混練する方
法や該染料溶液中にガラス微粒子を混合し乾燥する方法
がある。後者の方法ではガラス微粒子の個々の粒子表面
に有機染料膜をコートしたいわゆるカプセル状のガラス
粉末が作製できる。これにより、ガラス微粒子の界面に
おける反射が抑制され、不要な光反応が阻止されるの
で、パターンの太りや残膜発生が防止されるものと推定
される。

【００８１】さらに感光性ペーストには、必要に応じ
て、保存時の熱安定性を向上させるための重合禁止剤、
アクリル系共重合体の酸化を防ぐための酸化防止剤、そ
の他可塑剤などを加えることができる。

【００８２】感光性ペーストは、例えば、ガラス微粒
子、紫外線吸光剤、感光性モノマ、感光性オリゴマもし
くはポリマ、光重合開始剤、増感剤、その他の添加剤お
よび溶媒などの各種成分を所定の組成となるように調合
した後、３本ローラや混練機で均質に混合分散し作製さ
れる。ペーストの粘度はガラス微粒子、感光性成分、増
粘剤、有機溶媒、可塑剤などの添加割合で調整される
が、その範囲は２０００〜２０万ｃｐｓ（センチ・ポイ
ズ）である。例えば、ガラス基板への塗布をスクリーン
印刷法で１回塗布して膜厚１０〜２０μｍを得るには５
万〜２０万ｃｐｓが好ましい。スピンコート法には２０
００〜５０００ｃｐｓ、ブレードコーター法やダイコー
ター法などを用いる場合は１万〜２万ｃｐｓが好ましい
ので、塗布方法に応じて有機溶媒を使用し、粘度を調整
して塗布することが好ましい。

【００８３】この時使用される有機溶媒としては、メチ
ルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、
メチルエチルケトン、ジオキサン、アセトン、シクロヘ
キサノン、シクロペンタノン、イソブチルアルコール、
イソプロピルアルコール、テトラヒドロフラン、ジメチ
ルスルフォキシド、γ−ブチロラクトンなどやこれらの
うちの１種以上を含有する有機溶媒混合物が用いられ
る。

【００８４】次に、上記感光性ペーストを用いた本発明
のプラズマディスプレイ用基板の製造法について具体例
を挙げて説明する。

【００８５】先ず、ガラス基板に感光性ペーストを塗布
する。塗布方法としては、スクリーン印刷法、バーコー
ター法、ロールコーター法、ダイコーター法、ドクター
ブレード法など一般的な方法を用いることができる。塗
布厚みは、塗布回数、スクリーン印刷のスクリーンメッ
シュ、ペーストの粘度を選ぶことによって調整できる。

【００８６】感光性ペーストを必要に応じて表面処理し
たガラス基板上または誘電体層を形成した上に塗布した
後、露光装置を用いて露光を行う。露光は通常のフォト
リソグラフィ技術で行われるように、フォトマスクを介
して行われる。この際にフォトマスクを感光性ペースト
の塗布膜表面に密着する方法あるいは一定の間隔をあけ
て行うプロキシミティー露光法のいずれを用いてもよ
い。

【００８７】露光に使用される活性光線は、紫外線が最
も好ましく、その光源として、例えば、低圧水銀灯、高
圧水銀灯、超高圧水銀灯、ハロゲンランプなどが使用さ
れる。超高圧水銀灯を光源とした平行光線を用いプロキ
シミティー露光機を用いるのが一般的である。露光条件
は感光性ペーストの塗布厚みによって異なるが、１〜１
００ｍＷ/ｃｍ²の出力の超高圧水銀灯を用いて２０秒〜
３０分間露光を行う。

【００８８】露光後、露光部分と未露光部分の現像液に
対する溶解度差を利用して、現像を行うが、この場合、
浸漬法、スプレー法、ブラシ法などが用いられる。現像
液には、感光性ペースト中の有機成分、特に感光性オリ
ゴマもしくはポリマが溶解可能な溶液を用いる。本発明
に用いる感光性ペーストの感光性オリゴマもしくはポリ
マは、先に述べたとおりカルボキシル基を側鎖に有する
ことが好ましく、この場合はアルカリ水溶液で現像する
ことができる。

【００８９】アルカリ水溶液としては水酸化ナトリウ
ム、炭酸ナトリウム、水酸化カルシウムの水溶液などが
使用できるが、有機アルカリ水溶液を用いた方が焼成時
にアルカリ成分を除去し易いので好ましい。

【００９０】有機アルカリとしては、一般的なアミン化
合物を用いることができる。具体的には、テトラメチル
アンモニウムヒドロキサイド、トリメチルベンジルアン
モニウムヒドロキサイド、モノエタノールアミン、ジエ
タノールアミンなどが挙げられる。アルカリ水溶液の濃
度は０．０５〜１重量％が好ましく、０．１〜０．５重
量％がより好ましい。アルカリ濃度が低すぎれば可溶部
が完全に除去されず、アルカリ濃度が高すぎれば、露光
部のパターンを剥離させたり、侵食したりするおそれが
ある。現像時の温度は、２０〜５０℃で行うことが工程
管理上好ましい。

【００９１】感光性ペーストの塗布膜から露光・現像の
工程を経て形成された隔壁パターンは、次に焼成炉で焼
成され、有機成分を熱分解して完全に除去し、同時にガ
ラス成分を溶融させて無機ガラス材料からなる隔壁を形
成する。焼成雰囲気や温度は、ペーストや基板の特性に
よって異なるが、例えば空気中のような酸素含有雰囲気
下で焼成される。焼成炉は、バッチ式の焼成炉やベルト
式の連続焼成炉を用いことができる。

【００９２】前記のような熱特性を有するガラス成分か
らなる感光性ペーストを用いて、隔壁を形成することに
より、隔壁の炭素含有量が０．１重量％以下となり、高
アスペクト比かつ高精細であり、着色や剥がれなどの欠
陥のない隔壁を有するプラズマディスプレイ用基板を容
易に製造することができる。

【００９３】以下、本発明を実施例を用いて具体的に説
明する。ただし、本発明はこれに限定されるものではな
い。なお、実施例中の濃度は断りのない場合は重量％で
ある。

【００９４】また実施例中の略記号は次のものを意味す
るものとする。

【００９５】Ｘ−４００７：４０％メタクリル酸、３０
％メチルメタクリレート、３０％スチレンからなる共重
合体のカルボキシル基に対して０．４当量のグリシジル
メタクリレートを付加重合させた重量平均分子量４３０
００、酸価９５の感光性ポリマ。

【００９６】ＭＧＰ４００：次の化学式で示される化合
物。

【００９７】

【化１】ＧＸ：次の化学式で示される化合物。

【００９８】

【化２】ＩＣ−３６９：Ｉｒｇａｃｕｒｅ−３６９（チバ・ガイ
ギー社製品）２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフ
ォリノフェニル）ブタノン−１ＤＥＴＸ−Ｓ：２，４−ジエチルチオキサントン

【００９９】

【実施例】実施例１感光性ペーストを、次の組成比（乾燥塗布膜ベースの
値）で作製した。

【０１００】ガラス微粒子は、組成（分析値）が、酸化
リチウム６．７％、酸化珪素２２％、酸化ホウ素３２
％、酸化バリウム３．９％、酸化アルミニウム１９％、
酸化亜鉛２．２％、酸化マグネシウム５．５％、酸化カ
ルシウム４．１％のものを用意した。

【０１０１】なおこのガラス微粒子のガラス転移点は４
９７℃、軟化点は５３０℃、熱膨張係数７５×１０^-7／
Ｋ、Ｄ１０、Ｄ５０、Ｄ９０、トップサイズはそれぞ
れ、０．９μm、２．６μm、７．５μm、２２μmであっ
た。また比表面積は１．９２ｍ²／ｇ、屈折率は１．５
９であった。

【０１０２】この組成のガラス微粒子に対して、紫外線
吸光剤をコーティング処理した。紫外線吸光剤として
は、スダンＩＶ（アゾ系有機染料東京化成工業（株）
製）をガラス微粒子に対して０．０８％使用した。

【０１０３】このように処理したガラス微粒子７０重量
部に、感光性有機成分として、感光性ポリマ（Ｘ−４０
０７）１５重量部、感光性モノマ（ＭＧＰ４００）１５
重量部、光重合開始剤（ＩＣ−３６９）３重量部および
増感剤（ＤＥＴＸ−Ｓ）１．８重量部を配合し感光性ペ
ーストを作製した。

【０１０４】感光性ペーストは、有機成分の各成分およ
び紫外線吸光剤をコート処理したガラス微粒子を混合
し、３本ローラーで混練するという手順で作製した。粘
度はγ−ブチロラクトンの量で調整したが、ペースト中
の溶媒量は１０〜４０％になるように調整した。

【０１０５】次に高歪み点ガラス基板ＰＤ−２００（旭
硝子製）上に、得られた感光性ペーストをスクリーン印
刷により、均一に塗布し、パターン形成用サンプルを作
製した。塗布膜にピンホールなどの発生をなくすために
塗布・乾燥を数回繰り返し行い、乾燥厚みが１８０μｍ
になるように塗布した。途中の乾燥は８０℃で１０分間
行った。所定の厚みに塗布した後、８０℃で４０分乾燥
した。

【０１０６】次にプラズマディスプレイ用の隔壁パター
ン形成を目的としたフォトマスク（ストライプ状パター
ン、パターンピッチ１５０μｍ、線幅２０μｍ）を介し
てパターン形成用サンプルに露光ギャップ３０μｍで露
光を行った。露光は、５０ｍＷ／ｃｍ²の出力の超高圧
水銀灯で１Ｊ／ｃｍ²の紫外線露光を行った。その後、
モノエタノールアミンの０．２％水溶液をシャワーで３
００秒間かけることにより現像し、さらに、シャワース
プレーを用いて水洗浄し、光硬化していないスペース部
分を除去してガラス基板上にストライプ状の隔壁パター
ンを形成した。

【０１０７】隔壁パターンの加工を終了したガラス基板
を８０℃で１５分乾燥した後、加熱速度２００℃／時間
で５７０℃まで昇温し、その温度で１５分間保持して隔
壁を形成した。焼成により約３０％程度の収縮が生じ
た。

【０１０８】途中、感光性ペーストの塗布膜に対してマ
スク露光・現像を行って形成したパターンの形状を電子
顕微鏡観察したところ、断面形状は下部に向かってやや
広がった台形状であり、頂部の巾は４０μｍであった。
スペース部分に残膜はなく高アスペクト比の隔壁パター
ンが得られた。

【０１０９】また焼成した後に得られる隔壁中の炭素含
有量を分析したところ、全炭素量は、０．０４２重量％
であり、白色の隔壁が得られ、剥がれ等の欠点は見られ
なかった。

【０１１０】実施例２感光性ペーストを、次の組成比（乾燥塗布膜ベースの
値）で作製した。

【０１１１】まず、ガラス微粒子として、組成（分析
値）が、酸化リチウム４．５％、酸化珪素１５％、酸化
ホウ素３０％、酸化バリウム１１％、酸化アルミニウム
１１％、酸化亜鉛６．７％、酸化マグネシウム９．１
％、酸化カルシウム８．６％のものを用意した。このガ
ラス微粒子は実施例１で用いたものと成分は類似してい
るが、酸化リチウムなどの量が異なり、従ってガラス転
移点は４８６℃、軟化点は５２３℃であり、熱膨張係数
８５×１０^-7／Ｋ、屈折率は１．５９であった。粒径は
Ｄ１０、Ｄ５０、Ｄ９０、トップサイズは順に０．９μ
ｍ、２．３μm、７．６μm、２２μmであった。さらに
比表面積は２ｍ²／ｇであった。

【０１１２】この組成のガラス微粒子に対して、紫外線
吸光剤をコーティング処理したものを使用した。紫外線
吸光剤としてはスダンＩＶ（アゾ系有機染料東京化成
工業（株）製）をガラス微粒子に対して０．１％使用し
た。

【０１１３】このように処理したガラス微粒子７０重量
部に、有機成分として、感光性ポリマ（Ｘ−４００７）
１５重量部、感光性モノマ（ＧＸ）１５重量部、光重合
開始剤（ＩＣ−３６９）３重量部および増感剤（ＤＥＴ
Ｘ−Ｓ）１．８重量部を配合した。ここで用いた感光性
モノマＧＸは、感度の高い感光性ペーストを与えるもの
であるが、ガラス転移点が低いガラス微粒子と組み合わ
せた感光性ペーストでは焼成工程で隔壁の着色を起こし
易い成分である。

【０１１４】上記の組成のガラス微粒子と組み合わせた
この感光性ペーストを用いて実施例１と同様に処理して
パターン化と焼成を行った結果、着色がなく、剥がれも
発生しないことが確認された。得られた隔壁の炭素含有
量の分析値は０．０８８重量％であり、ほぼ白色であっ
た。

【０１１５】実施例３ガラス粉末８０重量％に対して、無機フィラーを２０重
量％入れた以外は実施例１と同様に行った。

【０１１６】無機フィラーは組成がＳｉＯ₂３８％、Ｂ
₂Ｏ₃ ９％、ＢａＯ５％、Ａｌ₂Ｏ₃３５％、ＺｎＯ
３％、ＭｇＯ５％、ＣａＯ５％、平均粒径２．７
μｍ、屈折率１．５８、球状、ガラス転移点が６５２℃
である高融点ガラスを用いた。

【０１１７】焼成温度を１０℃上げた以外は、実施例１
と同様にして、パターン化と焼成を行ったところ、着色
がなく、剥がれも発生しないことが確認された。得られ
た隔壁の炭素含有量の分析値は０．０３重量％であり、
ほぼ白色であった。

【０１１８】実施例４ガラス粉末８０重量％に対して、無機フィラーを２０重
量％入れた以外は実施例１と同様に行った。

【０１１９】無機フィラーには平均粒径０．２４μmの
チタニアを用いた。

【０１２０】焼成温度を１０℃上げた以外は、実施例１
と同様にして、パターン化と焼成を行ったところ、着色
がなく、剥がれも発生しないことが確認された。得られ
た隔壁の炭素含有量の分析値は０．０２重量％であり、
ほぼ白色であった。

【０１２１】比較例有機成分として、感光性ポリマ（Ｘ−４００７）７．５
重量部、感光性モノマ（ＧＸ）２２．５重量部にした以
外は実施例２と同様に行った。

【０１２２】パターン化と焼成を行った結果、黒色化
し、剥がれが発生した。

【０１２３】得られた隔壁の炭素含有量を測定したとこ
ろ、０．２重量％であった。

【０１２４】

【発明の効果】本発明のプラズマディスプレイ用基板
は、隔壁が形成された基板であって、該隔壁の炭素含有
量が０．１重量％以下であるため、高アスペクト比かつ
高精度のパターン加工が可能であり、隔壁には着色や剥
がれ等の欠点がなく優れたプラズマディスプレイ用基板
である。

【０１２５】このため本発明のプラズマディスプレイ用
基板を用いてプラズマディスプレイパネルを製造する
と、高い輝度を示すと共に効率の高い放電特性を示し、
寿命も長い優れた製品が得られる。

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】隔壁が形成された基板であって、該隔壁の
炭素含有量が０．１重量％以下であることを特徴とする
プラズマディスプレイ用基板。
【請求項２】隔壁の高さが６０〜１６０μｍ、隔壁の線
幅が２０〜１００μｍであることを特徴とする請求項１
記載のプラズマディスプレイ用基板。
【請求項３】隔壁のピッチが８０〜４６０μｍであるこ
とを特徴とする請求項２記載のプラズマディスプレイ用
基板。
【請求項４】隔壁が、ガラス転移点４５０〜５５０℃、
軟化点５００〜６００℃かつ熱膨張係数７５〜９０×１
０^-7／Ｋであるガラス材料から構成されていることを特
徴とする請求項１〜３いずれか１項記載のプラズマディ
スプレイ用基板。
【請求項５】隔壁が、平均屈折率１．５〜１．８のガラ
ス材料から構成されていることを特徴とする請求項１〜
４いずれか１項記載のプラズマディスプレイ用基板。
【請求項６】隔壁を構成するガラス材料が、次の組成か
らなることを特徴とする請求項１〜５いずれか１項記載
のプラズマディスプレイ用基板。酸化リチウム：３〜１０重量％酸化珪素：１０〜３０重量％酸化ホウ素：２０〜４０重量％酸化バリウム：２〜１５重量％酸化アルミニウム：１０〜２５重量％
【請求項７】隔壁が、ガラス転移点４５０〜５５０℃、
軟化点５００〜６００℃かつ熱膨張係数７５〜９０×１
０^-7／Ｋであるガラス材料４０〜９５重量％、無機微粒
子５〜６０重量％からなるガラス成分で構成されること
を特徴とする請求項１〜６いずれか１項記載のプラズマ
ディスプレイ用基板。
【請求項８】無機微粒子が、アルミナ、ジルコニア、ム
ライト、コーディエライト、スピネル、チタニア、ムラ
イトおよびガラスからなる群より選ばれた少なくとも一
種のフィラーであることを特徴とする請求項７記載のプ
ラズマディスプレイ用基板。
【請求項９】無機微粒子が、ガラス転移点が６００〜７
００℃、軟化点が６００〜８５０℃の高融点ガラスであ
ることを特徴とする請求項８記載のプラズマディスプレ
イ用基板。
【請求項１０】ガラス材料の平均屈折率ｎ１、高融点ガ
ラスの平均屈折率ｎ２が、次の式を満たすことを特徴と
する請求項９記載のプラズマディスプレイ用基板。 −０．０５≦ｎ１−ｎ２≦０．０５
【請求項１１】高融点ガラスが平均屈折率１．５〜１．
８であることを特徴とする請求項９または１０記載のプ
ラズマディスプレイ用基板。
【請求項１２】高融点ガラスが下記組成から構成されて
いることを特徴とする請求項９〜１１いずれか１項記載
のプラズマディスプレイ用基板。酸化珪素：１５〜５０重量％酸化ホウ素：５〜４０重量％酸化アルミニウム：１０〜５０重量％酸化バリウム：２〜１５重量％
【請求項１３】ガラス転移点４５０〜５５０℃、軟化点
５００〜６００℃かつ熱膨張係数７５〜９０×１０^-7／
Ｋであるガラス材料と感光性有機成分とを必須成分とす
る感光性ペーストを基板上に塗布し、フォトリソグラフ
ィ法で隔壁パターンを形成した後、焼成することを特徴
とするのプラズマディスプレイ用基板の製造方法。