JPH11190801A

JPH11190801A - 反射防止膜

Info

Publication number: JPH11190801A
Application number: JP9358206A
Authority: JP
Inventors: Hiroichi Ishikawa; 博一石川; Tsunenari Saito; 恒成斉藤
Original assignee: Sony Corp
Current assignee: Sony Corp
Priority date: 1997-12-25
Filing date: 1997-12-25
Publication date: 1999-07-13

Abstract

(57)【要約】【課題】広い波長領域に亘って反射を抑え、製造コス
トを抑え、作業も容易とし、生産性を良好とする。【解決手段】基板２の一主面２ａ上に、波長４００〜
７３０（ｎｍ）の光における屈折率ｎが０．１〜２．７
の範囲であるとともに、長波長側での屈折率ｎが短波長
側のそれよりも低く、消衰係数ｋが１．０〜５．４の範
囲であるとともに、長波長側での消衰係数ｋが短波長側
のそれより高い微粒子を少なくとも含有する第１の光学
薄膜３と、この上に第２の光学薄膜４を形成する。な
お、上記第１の光学薄膜３が光学的に透明な材料を含有
していても良い。上記光学的に透明な材料においては、
波長５５０（ｎｍ）の光における屈折率ｎが１．３８〜
２．７であることが好ましい。また、上記微粒子が金で
あることが好ましい。さらに、上記第２の光学薄膜４の
波長３８０〜７８０（ｎｍ）の光における屈折率ｎが
１．３５〜１．７であることが好ましい。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、反射防止膜に関す
る。詳しくは、基板上に所定の屈折率及び消衰係数を有
する微粒子を含む光学薄膜が形成され、広い波長域に対
応して良好な反射防止特性を有するとともに、生産性も
良好な反射防止膜に係わるものである。

【０００２】

【従来の技術】従来、反射防止膜は、例えば空気とガラ
スとの光学的境界面における屈折率を減少させることが
好ましかったり、また、その必要がある光学や電気光学
の分野で広く使われている。これらの応用分野として
は、カメラのレンズ、コピー装置のプラテン（原稿
台）、機器用のカバーガラス、陰極線管（いわゆる、Ｃ
ＲＴ）用パネル、その他の表示装置等がある。

【０００３】各種の応用分野で使われる反射防止膜とし
ては、マグネシウムフッ化物からなる薄膜を形成した単
一層のコーティングがなされたもの、１つの波長領域に
おける屈折率を最小とする２層のコーティングがなされ
たもの、比較的広い波長領域、例えば可視光領域の範囲
に亘って低い屈折率を有する多層のコーティングがなさ
れたもの等が挙げられる。

【０００４】上記多層のコーティングがなされた反射防
止膜としては、低屈折率誘電体膜、高屈折率誘電体膜、
高屈折率導電体膜、低屈折率導電体膜を組み合わせた構
成のもの等が挙げられる。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】ところで、上述のよう
な反射防止膜においては、近年、比較的広い波長領域、
例えば可視光領域の範囲に亘って低い屈折率を有するこ
とが要求されており、上述の多層のコーティングがなさ
れた反射防止膜が注目されている。

【０００６】しかしながら、この多層コーティングがな
された反射防止膜においては、これら多層コーティング
を真空薄膜形成手段により形成しており、製造コストが
高価となってしまい、また作業も煩雑であることから、
生産性が良好とは言えない。

【０００７】そこで、本発明は、上述の実情に鑑みて提
案されるものであって、広い波長領域に亘って反射が抑
えられ、製造コストが抑えられ、作業も容易で、生産性
が良好な反射防止膜を提供しようとするものである。

【０００８】

【課題を解決するための手段】上述の課題を解決するた
め、本発明に係る反射防止膜は、基板の一主面上に、波
長４００〜７３０（ｎｍ）の光における屈折率ｎが０．
１〜２．７の範囲であるとともに、長波長側での屈折率
ｎが短波長側のそれよりも低く、消衰係数ｋが１．０〜
５．４の範囲であるとともに、長波長側での消衰係数ｋ
が短波長側のそれより高い微粒子を少なくとも含有する
第１の光学薄膜が形成され、上記第１の光学薄膜の上に
第２の光学薄膜が形成されてなることを特徴とするもの
である。このとき、上記第１の光学薄膜に含有される微
粒子の波長４００〜７３０（ｎｍ）の光における屈折率
ｎが１．５〜０．２であり、消衰係数ｋが２．０〜４．
５であることが好ましい。

【０００９】より具体的には、光の波長と上記微粒子に
おける屈折率ｎ及び消衰係数ｋの関係が、表１に示すよ
うな関係に近似した関係を有することが好ましい。そし
て、微粒子の各波長における屈折率が表１中に示す各波
長における屈折率に対して零以上で且つ±１．０の範
囲、好ましくは零以上で且つ±０．６の範囲となること
が好ましい。さらには、微粒子の各波長における消衰係
数が表１中に示す各波長における消衰係数に対して±
１．０の範囲、好ましくは±０．６の範囲となることが
好ましい。

【００１０】

【表１】

【００１１】なお、上記本発明の反射防止膜において
は、上記第１の光学薄膜が光学的に透明な材料を含有し
ていても良い。上記光学的に透明な材料としては、ポリ
マーや無機物が挙げられ、このような光学的に透明な材
料においては、波長５５０（ｎｍ）の光における屈折率
ｎが１．３８〜２．７であることが好ましい。

【００１２】さらに、上記本発明の反射防止膜において
は、上記第１の光学薄膜に含有される微粒子が金である
こと、金属の窒化物であることが好ましく、上記金属の
窒化物が、窒化チタン、窒化ジルコニウム、窒化ハフニ
ウムの何れかであることが好ましい。また、上記第１の
光学薄膜に含有される微粒子は、銅あるいは黄銅の何れ
かであっても良い。

【００１３】また、上記本発明の反射防止膜において、
第１の光学薄膜中に光学的に透明な材料が含有されてお
り、微粒子が金である場合には、上記金の含有量が３０
〜８０（体積％）であることが好ましい。

【００１４】そして、上記本発明の反射防止膜において
は、上記第２の光学薄膜の波長３８０〜７８０（ｎｍ）
の光における屈折率ｎが１．３５〜１．７であることが
好ましく、このような特性を有するものとしては、二酸
化珪素よりなる薄膜やフッ化マグネシウムよりなる薄膜
が挙げられる。なお、上記第２の光学薄膜が二酸化珪素
よりなる薄膜とされている場合には、その膜厚が５５〜
８０（ｎｍ）であることが好ましい。

【００１５】また、上記のような条件を満たすものであ
れば、上記第２の光学薄膜は、ポリマーよりなる単層
膜、第１の光学薄膜側から珪素の酸化物と二酸化珪素が
積層された積層膜であっても良い。このとき、上記珪素
の酸化物は、化学式ＳｉＯ_x で表されるものであり、Ｘ
が１〜１．９の化合物を示す。このように第２の光学薄
膜が積層膜とされている場合には、珪素の酸化物よりな
る部分の膜厚が２〜１０（ｎｍ）とされている、或いは
第１の光学薄膜の膜厚が８〜２５（ｎｍ）とされ、珪
素の酸化物よりなる部分の膜厚が２〜１０（ｎｍ）とさ
れ、二酸化珪素よりなる部分の膜厚が５５〜８０（ｎ
ｍ）とされていることが好ましい。

【００１６】上記本発明に係る反射防止膜においては、
基板の一主面上に、波長４００〜７３０（ｎｍ）の光に
おける屈折率ｎが０．１〜２．７の範囲であるととも
に、長波長側での屈折率ｎが短波長側のそれよりも低
く、消衰係数ｋが１．０〜５．４の範囲であるととも
に、長波長側での消衰係数ｋが短波長側のそれより高い
微粒子を少なくとも含有する第１の光学薄膜と、この上
に第２の光学薄膜が形成されていることから、第２の光
学薄膜側から光が入射した場合に、第１の光学薄膜との
光の干渉により、反射が抑えられる。また、上記本発明
の反射防止膜においては、従来の反射防止膜よりも層数
が少なく、製造コストが低減され、作業も容易となる。

【００１７】なお、上記本発明の反射防止膜において、
上記第１の光学薄膜に光学的に透明な材料を含有させ、
これを基板上に塗布可能なポリマー等とすれば、ポリマ
ーと微粒子を含む第１の光学薄膜が塗布形成され、第２
の光学薄膜のみを真空薄膜形成手段により形成すれば良
く、製造コストが更に低減され、作業も更に容易とな
る。

【００１８】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
を参照しながら説明する。

【００１９】本発明に係る反射防止膜は、図１に示すよ
うに、例えばポリエチレンテレフタレートよりなる基台
１の一主面１ａ上に例えばアクリル等のポリマーよりな
るハードコート２（以下、基板２と称する。）が積層形
成され、上記基板２の基台１との対向面とは反対側とな
る一主面２ａ上に、第１の光学薄膜３が形成され、この
第１の光学薄膜３の基板２との対向面とは反対側となる
一主面３ａ上に第２の光学薄膜４が形成されてなるもの
である。

【００２０】そして、本発明の反射防止膜においては、
上記第１の光学薄膜３が、波長４００〜７３０（ｎｍ）
の光における屈折率ｎが０．１〜２．７の範囲であると
ともに、長波長側での屈折率ｎが短波長側のそれよりも
低く、消衰係数ｋが１．０〜５．４の範囲であるととも
に、長波長側での消衰係数ｋが短波長側のそれより高い
微粒子を少なくとも含有する薄膜として形成されてい
る。なお、上記第１の光学薄膜に含有される微粒子の波
長４００〜７３０（ｎｍ）の光における屈折率ｎが１．
５〜０．２であり、消衰係数ｋが２．０〜４．５である
ことがより好ましい。

【００２１】より具体的には、光の波長と上記微粒子に
おける屈折率ｎ及び消衰係数ｋの関係が、先に示した表
１に示すような関係に近似した関係を有することが好ま
しい。そして、微粒子の各波長における屈折率が表１中
に示す各波長における屈折率に対して零以上で且つ±
１．０の範囲、好ましくは零以上で且つ±０．６の範囲
となることが好ましい。さらには、微粒子の各波長にお
ける消衰係数が表１中に示す各波長における消衰係数に
対して±１．０の範囲、好ましくは±０．６の範囲とな
ることが好ましい。

【００２２】また、この反射防止膜においては、上記第
１の光学薄膜３が光学的に透明な材料を含有していても
良い。上記光学的に透明な材料としては、ポリマーや無
機物が挙げられ、このような光学的に透明な材料におい
ては、波長５５０（ｎｍ）の光における屈折率ｎが１．
３８〜２．７であることが好ましい。このように光学的
に透明な材料を含有させれば、当該材料と微粒子の割合
により第１の光学薄膜の光学特性を変更することが可能
である。

【００２３】なお、上記第１の光学薄膜３に含有される
微粒子としては、金が最も好ましく例示され、その他に
金属の窒化物や銅あるいは黄銅が例示される。上記金属
の窒化物としては、窒化チタン、窒化ジルコニウム、窒
化ハフニウムが例示される。

【００２４】また、上記本発明の反射防止膜において、
第１の光学薄膜３中に光学的に透明な材料が含有されて
おり、微粒子が金である場合には、上記金の含有量が３
０〜８０（体積％）であることが好ましい。

【００２５】そして、上記本発明の反射防止膜において
は、上記第２の光学薄膜４の波長３８０〜７８０（ｎ
ｍ）の光における屈折率ｎが１．３５〜１．７であるこ
とが好ましく、このような特性を有するものとしては、
二酸化珪素よりなる薄膜やフッ化マグネシウムよりなる
薄膜が挙げられる。なお、上記第２の光学薄膜４が二酸
化珪素よりなる薄膜とされている場合には、その膜厚が
５５〜８０（ｎｍ）であることが好ましい。

【００２６】また、上記のような条件を満たすものであ
れば、上記第２の光学薄膜４は、ポリマーよりなる単層
膜、第１の光学薄膜３側から珪素の酸化物と二酸化珪素
が積層された積層膜であっても良い。このとき、上記珪
素の酸化物は、化学式ＳｉＯ_x で表されるものであり、
Ｘが１〜１．９の化合物を示す。このように第２の光学
薄膜４が積層膜とされている場合には、珪素の酸化物よ
りなる部分の膜厚が２〜１０（ｎｍ）とされている、或
いは第１の光学薄膜３の膜厚が８〜２５（ｎｍ）とさ
れ、珪素の酸化物よりなる部分の膜厚が２〜１０（ｎ
ｍ）とされ、二酸化珪素よりなる部分の膜厚が５５〜８
０（ｎｍ）とされていることが好ましい。

【００２７】なお、上記本発明の反射防止膜において
は、例えば、基台１の厚さＴ₁ を１８８（μｍ）、基板
２の厚さＴ₂ を３〜６（μｍ）、第１の光学薄膜３の厚
さＴ_３を１２．０（ｎｍ）、第２の光学薄膜４の厚さＴ
_４を７０．８（ｎｍ）として形成すれば良い。

【００２８】上記本発明の反射防止膜においては、基板
２の一主面２ａ上に、所定の特性を有する微粒子を少な
くとも含有する第１の光学薄膜３と、この上に第２の光
学薄膜４を形成しており、第２の光学薄膜４側から光が
入射した場合に、第１の光学薄膜３との光の干渉によ
り、反射が抑えられる。また、上記本発明の反射防止膜
においては、従来の反射防止膜よりも格段に層数が少な
く、真空薄膜形成手段による薄膜形成工程が削減される
ことから、製造コストが低減され、作業も容易となり、
生産性が向上する。さらに、全体の膜厚も例えば８０
（ｎｍ）程度であり、従来の反射防止膜よりも格段に薄
く、薄膜形成材料にかかるコストが抑えられ、このこと
からも製造コストが抑えられて、生産性が向上する。

【００２９】なお、上記本発明の反射防止膜において、
上記第１の光学薄膜３に光学的に透明な材料を含有さ
せ、これを基板２上に塗布可能なポリマー等とすれば、
ポリマーと微粒子を含む第１の光学薄膜３を塗布形成し
て、第２の光学薄膜４のみを真空薄膜形成手段により形
成すれば良く、真空薄膜形成手段による薄膜形成工程が
更に削減され、製造コストが更に低減され、作業も更に
容易となり、生産性が更に向上する。

【００３０】さらには、上記本発明の反射防止膜におい
て、上記第１の光学薄膜３に含有される微粒子を金等の
導電性微粒子とすれば、この反射防止膜を導電膜として
使用することも可能となり、反射防止膜に導電性を付与
するためにＩＴＯガラス膜等の導電膜を改めて形成する
必要がない。

【００３１】このような本発明の反射防止膜は、前述し
たようなカメラのレンズ、コピー装置のプラテン（原稿
台）、機器用のカバーガラス、陰極線管（いわゆる、Ｃ
ＲＴ）用パネル、その他の表示装置等に適用可能である
が、ここでは、ＣＲＴ用パネルに適用した例を示す。

【００３２】すなわち、図２に示すように、ＣＲＴ５の
画像表示面となる一主面５ａ上に、前述のような反射防
止膜６を基台１側が下層となるようにパネルとして配置
すれば良い。このとき、図２中に示すように、反射防止
膜６を接地しておけば、ＣＲＴ５内部で発生する図２中
矢印Ａ₁ で示す電磁波は反射防止膜６により遮断され、
ＣＲＴ５の画像表示面である一主面５ａから漏れ出す図
２中矢印Ａ₂ で示す電磁波は大幅に低減されたものとな
る。

【００３３】また、当然のことながら、反射防止膜６が
配されておりＣＲＴ５の画像表示面となる一主面５ａに
図２中矢印Ｂ₁ で示すように外部から光が入射した場合
においては、ＣＲＴ５の画像表示面である一主面５ａか
ら反射される図２中矢印Ｂ₂で示す光は反射防止膜６に
より大幅に低減されたものとなる。

【００３４】

【実施例】次に、本発明の効果を確認するべく、以下に
示すようなシミュレーションを行った。

【００３５】実験例１すなわち、先ず、波長５５０（ｎｍ）の光における屈折
率が１．５のアクリル系の有機ポリマーと表２に示すよ
うな光学特性を有する金を混合し、金を５２（体積％）
の割合で含む混合物を用意したと想定した。そして、こ
れを厚さ１８８（μｍ）のポリエチレンテレフタレート
よりなる基台上に配される厚さ３．５（μｍ）のアクリ
ル系ポリマーよりなる基板上に厚さが１２．０（ｎｍ）
の膜として配して第１の光学薄膜を塗布形成したと想定
した。

【００３６】

【表２】

【００３７】屈折率の異なる材料の混合物の屈折率は、
個々の材料の屈折率とその含有量から単純な算出平均で
算出可能である。すなわち、個々の材料の含有量を変更
することで、混合物の光学特性を変更することが可能で
ある。そこで、上記第１の光学薄膜の屈折率及び消衰係
数を算出し、これを表２に併せて示した。

【００３８】そして、上記第１の光学薄膜の上に厚さ７
０．８（ｎｍ）のＳｉＯ₂ よりなる薄膜をスパッタリン
グにより形成し、第２の光学薄膜として形成し、反射防
止膜とすることとした。ＳｉＯ₂ の屈折率を表２中に併
せて示す。

【００３９】次に、この反射防止膜の分光反射特性と分
光透過率を計算した。結果を図３及び図４に示す。図３
中横軸は波長を示し、縦軸は反射率を示す。また、図４
中横軸は波長を示し、縦軸は透過率を示す。

【００４０】図３から、上記の反射防止膜においては、
広い波長領域で反射が低く抑えられており、図４から、
上記の反射防止膜においては、波長に関係なく透過率が
略一定とされていることが確認された。このように、波
長に関係なく透過率が略一定であると、全体的に光の透
過が少なくなり、光の波長による偏りがない。このた
め、前述のようにＣＲＴのパネルに適用した場合等にお
いて、色調整に問題が発生しにくい。

【００４１】さらに、上記の反射防止膜の光学特性をま
とめて表３に示す。ただし、表３中の平均反射率及び最
大反射率は波長４５０〜６５０（ｎｍ）の範囲内におけ
る値とする。また、表３中ｘ，ｙはＣＩＥ１９３１の色
度を示す。

【００４２】

【表３】

【００４３】すなわち、本発明を適用し、基板の一主面
上に、波長４００〜７３０（ｎｍ）の光における屈折率
ｎが０．１〜２．７の範囲であるとともに、長波長側で
の屈折率ｎが短波長側のそれよりも低く、消衰係数ｋが
１．０〜５．４の範囲であるとともに、長波長側での消
衰係数ｋが短波長側のそれより高い微粒子である金を含
有する第１の光学薄膜と第２の光学薄膜が積層形成され
てなる反射防止膜においては、第２の光学薄膜側から光
が入射した場合に、第１の光学薄膜との光の干渉によ
り、反射が抑えられ、広い波長領域で反射が低く抑えら
れることが計算上確認された。

【００４４】ところで、上記本発明を適用した反射防止
膜においては、第１の光学薄膜中に含有される微粒子の
光学特性を規定して、第２の光学薄膜側から光が入射し
た場合に、第１の光学薄膜との光の干渉により、反射を
抑えるようにしている。すなわち、微粒子としては、上
記の光学特性を有するものであれば、使用可能である。
より具体的には、光の波長と上記微粒子における屈折率
ｎ及び消衰係数ｋの関係が、先に述べたように表４に示
すような関係に近似した関係を有するものであれば使用
可能であり、微粒子の各波長における屈折率が表４中に
示す各波長における屈折率に対して零以上で且つ±１．
０の範囲、好ましくは零以上で且つ±０．６の範囲であ
るもの、微粒子の各波長における消衰係数が表４中に示
す各波長における消衰係数に対して±１．０の範囲、好
ましくは±０．６の範囲であるものであれば十分使用可
能である。

【００４５】

【表４】

【００４６】表４にて示した上記微粒子の波長と屈折率
及び消衰係数の関係を図５に示す。図５中横軸は波長を
示し、縦軸は屈折率及び消衰係数を示し、図５中○は表
４中に示した各波長における屈折率、◎は表４中に示し
た各波長における消衰係数を示す。さらに、図５中に金
及び銅の屈折率と消衰係数も併せて示す。図５中△は金
の屈折率を示し、図５中□は金の消衰係数を示し、図５
中▽は銅の屈折率を示し、図５中×は銅の消衰係数を示
す。図５を見て明らかなように、これら金及び銅の特性
は前述の条件を十分満たしており、先に使用した金以外
に銅も十分使用可能であることが確認された。また、こ
こには示さないが、銅の他にも、窒化チタン、窒化ジル
コニウム、窒化ハフニウムといった金属の窒化物や黄銅
等も同様の特性を有することから使用可能である。

【００４７】実験例２次に、第１の光学薄膜及び第２の光学薄膜の条件を変更
して種々の反射防止膜を想定し、その光学特性をシミュ
レーションした。これらの反射防止膜は、種々の材料の
組合わせにより、実験例１で使用した反射防止膜と同様
に十分実現可能である。

【００４８】すなわち、表５に示すように、金を表５中
に示す割合で含有し、これと波長５５０（ｎｍ）の光に
対して表５中に示すような屈折率を有する光学的に透明
な材料を含有する混合材料を想定し、これを基板上に配
して表５中に示す厚さを有する第１の光学薄膜を形成し
たと想定し、その上に表５中に示す厚さのＳｉＯ₂ 単層
或いは第１の光学薄膜側から表５中に示す厚さのＳｉＯ
_x 層と表５中に示す厚さのＳｉＯ₂ 層が積層されてなる
第２の光学薄膜を形成したと想定し、サンプル１〜１３
の１３種の反射防止膜を想定した。

【００４９】

【表５】

【００５０】表５中屈折率が１．５２とされている透明
材料としては、波長３８０（ｎｍ）の光に対する屈折率
ｎが１．５３、波長４５０（ｎｍ）の光に対する屈折率
ｎが１．５１、波長５５０（ｎｍ）の光に対する屈折率
ｎが１．５２、波長６５０（ｎｍ）の光に対する屈折率
ｎが１．５４、波長７８０（ｎｍ）の光に対する屈折率
ｎが１．５６であるものを想定し、表５中に示される屈
折率が１．５２以外の透明材料については、波長３８０
〜７８０（ｎｍ）の光に対して屈折率が一定であるもの
を想定した。

【００５１】そして、上記サンプル１〜１３について、
視感反射率、ＣＩＥ１９３１の色度（ｘ，ｙ）、波長５
５０（ｎｍ）及び４５０（ｎｍ）の光に対する透過率を
シミュレートし、総合的な評価を行った。これらの結果
を表５に併せて示すこととする。なお、総合的な評価
は、３段階で評価することとし、△は実用上問題は無い
が、所定の単一波長において反射を零とすることができ
るものの他の波長での反射率が高いものを示し、○は実
用に十分対応可能であるが、所定の単一波長において反
射を零とすることができるものの他の波長での反射率が
若干高いものを示し、◎は実用上非常に好ましく、広い
波長領域に亘って反射率が低く抑えられているものを示
す。

【００５２】すなわち、表５の結果から、波長４００〜
７３０（ｎｍ）の光における屈折率ｎが０．１〜２．７
の範囲であるとともに、長波長側での屈折率ｎが短波長
側のそれよりも低く、消衰係数ｋが１．０〜５．４の範
囲であるとともに、長波長側での消衰係数ｋが短波長側
のそれより高い微粒子である金と波長５５０（ｎｍ）の
光における屈折率ｎが１．３８〜２．７とされている光
学的に透明な材料を含有する第１の光学薄膜が形成さ
れ、その上に第２の光学薄膜が形成されているサンプル
１〜５、７〜９、１２，１３においては、実用上問題の
無い特性が得られることが確認された。

【００５３】そして、これらのうち、金の含有量が３０
〜８０（体積％）とされているサンプル３〜５、７〜
９、１２，１３においては、実用に十分対応可能である
特性が得られることが確認された。

【００５４】また、表５の結果から、第２の光学薄膜と
して、波長５５０（ｎｍ）の光に対する屈折率ｎが１．
３５〜１．７である薄膜が形成されているサンプル１〜
１３においては、実用上問題の無い特性が得られること
が確認された。サンプル１０〜１３においては、第２の
光学薄膜をＳｉＯ_X 層とＳｉＯ₂ 層を積層した積層膜と
しており、ＳｉＯ_X との光学特性としては、表６に示す
ようなものが例示されるが、この第２の光学薄膜の光学
特性は光の入射側となるＳｉＯ₂ の光学特性により略決
定されるため、上記のような特性を有するものとなる。

【００５５】

【表６】

【００５６】さらに、表５の結果から、第２の光学薄膜
をＳｉＯ₂ よりなる薄膜としているサンプル１〜９のう
ち、第２の光学薄膜の厚さを５５〜８０（ｎｍ）として
いるサンプル３〜９においては、実用に十分対応可能で
ある特性が得られることが確認された。ただし、サンプ
ル２においては、金の含有量が若干少ないことから、特
性が若干劣っている。

【００５７】さらにまた、表５の結果から、第２の光学
薄膜をＳｉＯ_X とＳｉＯ₂ を積層した積層膜としてお
り、ＳｉＯ_X よりなる部分の膜厚が２〜１０（ｎｍ）と
されている、或いは第１の光学薄膜の膜厚が８〜２５
（ｎｍ）とされ、ＳｉＯ_X よりなる部分の膜厚が２〜１
０（ｎｍ）とされ、ＳｉＯ₂ よりなる部分の膜厚が５５
〜８０（ｎｍ）とされているサンプル１０〜１３におい
ては、実用上非常に好ましい特性が得られることが確認
された。

【００５８】

【発明の効果】上述のように、本発明に係る反射防止膜
においては、基板の一主面上に、波長４００〜７３０
（ｎｍ）の光における屈折率ｎが０．１〜２．７の範囲
であるとともに、長波長側での屈折率ｎが短波長側のそ
れよりも低く、消衰係数ｋが１．０〜５．４の範囲であ
るとともに、長波長側での消衰係数ｋが短波長側のそれ
より高い微粒子を少なくとも含有する第１の光学薄膜
と、この上に第２の光学薄膜が形成されていることか
ら、第２の光学薄膜側から光が入射した場合に、第１の
光学薄膜との光の干渉により、反射が抑えられ、広い波
長領域に亘って反射が抑えられる。また、上記本発明の
反射防止膜においては、従来の反射防止膜よりも層数が
少なく、製造コストが低減され、作業も容易となり、生
産性が向上する。

【００５９】なお、上記本発明の反射防止膜において、
上記第１の光学薄膜に光学的に透明な材料を含有させ、
これを基板上に塗布可能なポリマー等とすれば、ポリマ
ーと微粒子を含む第１の光学薄膜が塗布形成され、第２
の光学薄膜のみを真空薄膜形成手段により形成すれば良
く、製造コストが更に低減され、作業も更に容易とな
り、生産性が更に向上する。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に係る反射防止膜の構成を模式的に示す
断面図である。

【図２】本発明に係わる反射防止膜をＣＲＴのパネルに
適用した状態を示す模式図である。

【図３】波長と反射率の関係を示す特性図である。

【図４】波長と透過率の関係を示す特性図である。

【図５】波長と屈折率及び消衰係数の関係を示す特性図
である。

【符号の説明】

１基台、１ａ，２ａ，３ａ一主面、２基板、３
第１の光学薄膜、４第２の光学薄膜

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】基板の一主面上に、波長４００〜７３０（ｎｍ）の光における屈折率ｎが
０．１〜２．７の範囲であるとともに、長波長側での屈
折率ｎが短波長側のそれよりも低く、消衰係数ｋが１．
０〜５．４の範囲であるとともに、長波長側での消衰係
数ｋが短波長側のそれより高い微粒子を少なくとも含有
する第１の光学薄膜が形成され、上記第１の光学薄膜の上に第２の光学薄膜が形成されて
なることを特徴とする反射防止膜。
【請求項２】上記第１の光学薄膜が光学的に透明な材
料を含有することを特徴とする請求項１記載の反射防止
膜。
【請求項３】上記第１の光学薄膜に含有される光学的
に透明な材料がポリマーであることを特徴とする請求項
２記載の反射防止膜。
【請求項４】上記第１の光学薄膜に含有される光学的
に透明な材料が無機物であることを特徴とする請求項２
記載の反射防止膜。
【請求項５】上記第１の光学薄膜に含有される光学的
に透明な材料の波長５５０（ｎｍ）の光における屈折率
ｎが１．３８〜２．７であることを特徴とする請求項２
記載の反射防止膜。
【請求項６】上記第１の光学薄膜に含有される微粒子
が金であることを特徴とする請求項１記載の反射防止
膜。
【請求項７】上記第１の光学薄膜に含有される微粒子
が金属の窒化物であることを特徴とする請求項１記載の
反射防止膜。
【請求項８】上記金属の窒化物が、窒化チタン、窒化
ジルコニウム、窒化ハフニウムの何れかであることを特
徴とする請求項７記載の反射防止膜。
【請求項９】上記第１の光学薄膜に含有される微粒子
が銅あるいは黄銅の何れかであることを特徴とする請求
項１記載の反射防止膜。
【請求項１０】上記第２の光学薄膜の波長３８０〜７
８０（ｎｍ）の光における屈折率ｎが１．３５〜１．７
であることを特徴とする請求項１記載の反射防止膜。
【請求項１１】上記第２の光学薄膜が二酸化珪素より
なる薄膜であることを特徴とする請求項１０記載の反射
防止膜。
【請求項１２】上記第２の光学薄膜の膜厚が５５〜８
０（ｎｍ）であることを特徴とする請求項１１記載の反
射防止膜。
【請求項１３】上記第２の光学薄膜がフッ化マグネシ
ウムよりなる薄膜であることを特徴とする請求項１０記
載の反射防止膜。
【請求項１４】上記第２の光学薄膜がポリマーよりな
る単層膜であることを特徴とする請求項１０記載の反射
防止膜。
【請求項１５】上記第２の光学薄膜が第１の光学薄膜
側から珪素の酸化物と二酸化珪素が積層された積層膜で
あることを特徴とする請求項１０記載の反射防止膜。
【請求項１６】上記第２の光学薄膜を形成する珪素の
酸化物よりなる部分の膜厚が２〜１０（ｎｍ）であるこ
とを特徴とする請求項１５記載の反射防止膜。
【請求項１７】上記第１の光学薄膜の膜厚が８〜２５
（ｎｍ）であり、上記第２の光学薄膜を形成する珪素の
酸化物よりなる部分の膜厚が２〜１０（ｎｍ）であり、
二酸化珪素よりなる部分の膜厚が５５〜８０（ｎｍ）で
あることを特徴とする請求項１５記載の反射防止膜。
【請求項１８】上記第１の光学薄膜に含有される微粒
子が金であることを特徴とする請求項２記載の反射防止
膜。
【請求項１９】上記金の含有量が３０〜８０（体積
％）であることを特徴とする請求項１７記載の反射防止
膜。