JPH11199399A - 珪素系ウイスカー製造用固体原料、及び、それを用いた珪素系ウイスカーの製造方法 - Google Patents
珪素系ウイスカー製造用固体原料、及び、それを用いた珪素系ウイスカーの製造方法Info
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- JPH11199399A JPH11199399A JP10017756A JP1775698A JPH11199399A JP H11199399 A JPH11199399 A JP H11199399A JP 10017756 A JP10017756 A JP 10017756A JP 1775698 A JP1775698 A JP 1775698A JP H11199399 A JPH11199399 A JP H11199399A
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- Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
- Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】実質的に屈曲物や粒状物を含まず、更には、珪
素源物質から派生するシリカ等の不純物を実質的に含ま
ない炭化珪素ウイスカー及び窒化珪素ウイスカーを容易
に得るための珪素系ウイスカー製造用固体原料、及び、
炭化珪素ウイスカー及び窒化珪素ウイスカーの製造方法
を提供すること。 【解決手段】(A)珪素源物質 (B)繊維状固体炭素 (C)該繊維状固体炭素の平均直径より小さい平均粒径
を有する金属系触媒 (D)上記(A)〜(C)を一体化するためのバインダ
ー を必須成分として含む固体であって、該固体は、珪素系
ウイスカー生成のための加熱処理工程における昇温過程
において、遅くとも雰囲気温度が珪素系ウイスカーの生
成が開始される温度領域に達するまでに、連続性多孔質
構造を有するようになることを特徴とする珪素系ウイス
カー製造用固体原料。
素源物質から派生するシリカ等の不純物を実質的に含ま
ない炭化珪素ウイスカー及び窒化珪素ウイスカーを容易
に得るための珪素系ウイスカー製造用固体原料、及び、
炭化珪素ウイスカー及び窒化珪素ウイスカーの製造方法
を提供すること。 【解決手段】(A)珪素源物質 (B)繊維状固体炭素 (C)該繊維状固体炭素の平均直径より小さい平均粒径
を有する金属系触媒 (D)上記(A)〜(C)を一体化するためのバインダ
ー を必須成分として含む固体であって、該固体は、珪素系
ウイスカー生成のための加熱処理工程における昇温過程
において、遅くとも雰囲気温度が珪素系ウイスカーの生
成が開始される温度領域に達するまでに、連続性多孔質
構造を有するようになることを特徴とする珪素系ウイス
カー製造用固体原料。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、プラスチックス、
金属、セラミックス等の複合材料の強化材として用いら
れる珪素系ウイスカー製造用固体原料、及び、該珪素系
ウイスカー製造用固体原料を用いた珪素系ウイスカーの
製造方法に関するものである。更に詳しくは、粒状の珪
素系セラミックスや珪素源物質から派生するシリカ等の
不純物を含まないのみならず、屈曲のない珪素系ウイス
カーを容易に得るための珪素系ウイスカー製造用固体原
料、並びに、該珪素系ウイスカー製造用固体原料を用い
た珪素系ウイスカーの製造方法に関するものである。
金属、セラミックス等の複合材料の強化材として用いら
れる珪素系ウイスカー製造用固体原料、及び、該珪素系
ウイスカー製造用固体原料を用いた珪素系ウイスカーの
製造方法に関するものである。更に詳しくは、粒状の珪
素系セラミックスや珪素源物質から派生するシリカ等の
不純物を含まないのみならず、屈曲のない珪素系ウイス
カーを容易に得るための珪素系ウイスカー製造用固体原
料、並びに、該珪素系ウイスカー製造用固体原料を用い
た珪素系ウイスカーの製造方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】代表的な珪素系ウイスカーとしては、炭
化珪素ウイスカー、窒化珪素ウイスカーが知られてい
る。これらのうち、炭化珪素ウイスカーの製造方法とし
ては、四塩化珪素等のシリコンのハロゲン化物と、プロ
パン、ベンゼンなどのハイドロカーボンを水素ガスをキ
ャリヤーガスとして反応管内に導入し反応させる方法
(特開昭57−123813号公報)、メチルクロロジ
シランなどの有機珪素化合物を水素ガスをキャリヤーガ
スとして反応炉内に導入して反応させる方法(特開昭6
1−291498号公報)などの気相反応法;二酸化珪
素と炭素の混合物を不活性ガス中で加熱処理する方法
(特開昭61−26600号公報)、もみ殻とカーボン
ブラックの混合物を非酸化性雰囲気下で加熱処理する方
法(特開昭58−45195号公報)などのシリカ還元
反応法が提案されている。
化珪素ウイスカー、窒化珪素ウイスカーが知られてい
る。これらのうち、炭化珪素ウイスカーの製造方法とし
ては、四塩化珪素等のシリコンのハロゲン化物と、プロ
パン、ベンゼンなどのハイドロカーボンを水素ガスをキ
ャリヤーガスとして反応管内に導入し反応させる方法
(特開昭57−123813号公報)、メチルクロロジ
シランなどの有機珪素化合物を水素ガスをキャリヤーガ
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(特開昭61−26600号公報)、もみ殻とカーボン
ブラックの混合物を非酸化性雰囲気下で加熱処理する方
法(特開昭58−45195号公報)などのシリカ還元
反応法が提案されている。
【0003】しかし、上記、気相反応法においては、水
素ガスを使用するため危険性を伴うという問題点があっ
た。
素ガスを使用するため危険性を伴うという問題点があっ
た。
【0004】一方、上記、シリカ還元反応法では固体珪
素源と固体炭素源を直接接触させ高温で反応させる方法
が一般的に行われている。しかしながら、この方法では
炭化珪素粉末が多量に副生し、炭化珪素ウイスカーの収
率が低下するとともに、両者の分離操作が必要であると
いう問題があった。
素源と固体炭素源を直接接触させ高温で反応させる方法
が一般的に行われている。しかしながら、この方法では
炭化珪素粉末が多量に副生し、炭化珪素ウイスカーの収
率が低下するとともに、両者の分離操作が必要であると
いう問題があった。
【0005】この問題点を解決する方法として、籾殻灰
とカーボンブラックからなる配合原料を充填した反応容
器の上層部に多孔性あるいは繊維状の炭素物質を位置さ
せて炭化珪素ウイスカーの生成区域を形成し、該生成区
域において炭化珪素ウイスカーを生成させる方法(特公
昭59−9519号公報)が提案されている。しかしな
がら、この方法では炭化珪素粉末をほとんど含まない高
純度の炭化珪素ウイスカーが得られるものの、収率が著
しく低いという問題点があった。
とカーボンブラックからなる配合原料を充填した反応容
器の上層部に多孔性あるいは繊維状の炭素物質を位置さ
せて炭化珪素ウイスカーの生成区域を形成し、該生成区
域において炭化珪素ウイスカーを生成させる方法(特公
昭59−9519号公報)が提案されている。しかしな
がら、この方法では炭化珪素粉末をほとんど含まない高
純度の炭化珪素ウイスカーが得られるものの、収率が著
しく低いという問題点があった。
【0006】また、シリカ還元反応法による炭化珪素ウ
イスカー製造用原料組成物として、二酸化ケイ素と炭素
質物質からなり、気孔率が35〜85%であり、平均気
孔径が5〜1000μmである三次元網目構造体(特開
平2−9800号公報)が提案されている。この提案
も、炭化珪素粉末の副生を抑えるためになされたもので
あるが、実質的には10〜30%の炭化珪素粒状物が副
生し、問題点を解決するには至っていない。さらには、
反応生成物中に含まれる遊離二酸化珪素を除去するた
め、フッ化水素酸で処理する必要があり、危険性を伴う
という問題があった。
イスカー製造用原料組成物として、二酸化ケイ素と炭素
質物質からなり、気孔率が35〜85%であり、平均気
孔径が5〜1000μmである三次元網目構造体(特開
平2−9800号公報)が提案されている。この提案
も、炭化珪素粉末の副生を抑えるためになされたもので
あるが、実質的には10〜30%の炭化珪素粒状物が副
生し、問題点を解決するには至っていない。さらには、
反応生成物中に含まれる遊離二酸化珪素を除去するた
め、フッ化水素酸で処理する必要があり、危険性を伴う
という問題があった。
【0007】さらに、上記気相反応法及びシリカ還元反
応法による炭化珪素ウイスカーの製造において、炭化珪
素ウイスカーの性状及び収率の向上を目的として金属系
触媒を添加する方法が提案されている(特公昭52−2
8760号公報、特開昭58−145700号公報)。
しかしながら、これらの方法は、水素ガスを使用するた
め危険性を伴うという問題、あるいは、1500℃を超
える高温で加熱する必要があるためエネルギーコストが
高くなるという問題点があった。
応法による炭化珪素ウイスカーの製造において、炭化珪
素ウイスカーの性状及び収率の向上を目的として金属系
触媒を添加する方法が提案されている(特公昭52−2
8760号公報、特開昭58−145700号公報)。
しかしながら、これらの方法は、水素ガスを使用するた
め危険性を伴うという問題、あるいは、1500℃を超
える高温で加熱する必要があるためエネルギーコストが
高くなるという問題点があった。
【0008】一方、珪素系ウイスカーのうち窒化珪素ウ
イスカーについても、ヘキサハロゲノジシランとアンモ
ニアを高温で反応させウイスカーを生成させる方法(特
開平2−34598号公報)などの気相反応法;二酸化
珪素に金属珪素または炭素などの還元剤を混合した粉粒
体を不活性ガス中で加熱して一酸化珪素ガス、または、
一酸化珪素ガスと一酸化炭素ガスの混合ガスを発生さ
せ、これを窒素を含む雰囲気に搬出し、窒素と反応させ
ウイスカーを生成させる方法(特開昭56−10011
5号)、シリカと炭素の混合物を窒素ガス気流中で加熱
処理し、原料の空隙にウイスカーを生成させる方法(特
公昭60−37078号公報)などのシリカ還元窒化反
応法が知られている。しかしながら、上記した特開昭5
6−100115号に開示された方法においては、収率
が著しく低いという問題点があった。
イスカーについても、ヘキサハロゲノジシランとアンモ
ニアを高温で反応させウイスカーを生成させる方法(特
開平2−34598号公報)などの気相反応法;二酸化
珪素に金属珪素または炭素などの還元剤を混合した粉粒
体を不活性ガス中で加熱して一酸化珪素ガス、または、
一酸化珪素ガスと一酸化炭素ガスの混合ガスを発生さ
せ、これを窒素を含む雰囲気に搬出し、窒素と反応させ
ウイスカーを生成させる方法(特開昭56−10011
5号)、シリカと炭素の混合物を窒素ガス気流中で加熱
処理し、原料の空隙にウイスカーを生成させる方法(特
公昭60−37078号公報)などのシリカ還元窒化反
応法が知られている。しかしながら、上記した特開昭5
6−100115号に開示された方法においては、収率
が著しく低いという問題点があった。
【0009】また、上記したシリカ還元窒化反応法のう
ち、特公昭60−37078号公報に開示された方法に
おいては、原料の空隙にウイスカーを生成させるため、
ある程度の収率の向上は認められるものの、粒状の窒化
珪素が多量に副生するという問題点があった。
ち、特公昭60−37078号公報に開示された方法に
おいては、原料の空隙にウイスカーを生成させるため、
ある程度の収率の向上は認められるものの、粒状の窒化
珪素が多量に副生するという問題点があった。
【0010】さらに、上記気相反応法及びシリカ還元窒
化反応法による窒化珪素ウイスカーの製造において、そ
の性状及び収率の向上を目的として金属系触媒を添加す
る方法が提案されている(特開昭57−111300号
公報、特開平1−301595号公報)。しかしなが
ら、これらの方法は、水素ガスを使用するため危険性を
伴うという問題があるのみならず、実質的な収率は20
%程度と低いものであり、未だ前記した問題点を十分に
解決するには至っていない。
化反応法による窒化珪素ウイスカーの製造において、そ
の性状及び収率の向上を目的として金属系触媒を添加す
る方法が提案されている(特開昭57−111300号
公報、特開平1−301595号公報)。しかしなが
ら、これらの方法は、水素ガスを使用するため危険性を
伴うという問題があるのみならず、実質的な収率は20
%程度と低いものであり、未だ前記した問題点を十分に
解決するには至っていない。
【0011】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、このような
状況に鑑みなされたもので、粒状の珪素系セラミックス
や珪素源物質から派生するシリカ等の不純物を含まない
のみならず、屈曲のない珪素系ウイスカーを容易に、し
かも収率よく得ることができる珪素系ウイスカー製造用
固体原料を提供することを目的とする。さらに、該珪素
系ウイスカー製造用固体原料を用いた珪素系ウイスカー
の製造方法を提供することを目的とする。
状況に鑑みなされたもので、粒状の珪素系セラミックス
や珪素源物質から派生するシリカ等の不純物を含まない
のみならず、屈曲のない珪素系ウイスカーを容易に、し
かも収率よく得ることができる珪素系ウイスカー製造用
固体原料を提供することを目的とする。さらに、該珪素
系ウイスカー製造用固体原料を用いた珪素系ウイスカー
の製造方法を提供することを目的とする。
【0012】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、前記した
課題を解決するため鋭意研究を行った。すなわち、珪素
系ウイスカーを製造する際に用いられる原料を、珪素源
物質、特定形状の固体炭素、特定粒径を有する金属系触
媒、前記3成分を一体化するためのバインダーとからな
る固形原料とすることによって、粒状の珪素系セラミッ
クスや珪素源物質から派生するシリカ等の不純物を含ま
ないのみならず、屈曲のない珪素系ウイスカーを得るこ
とができ、さらには、加熱処理工程における操作を格段
に簡略化できることをまず見出した。次いで、珪素系ウ
イスカー生成のための加熱処理工程における昇温過程に
おいて、遅くとも雰囲気温度が珪素系ウイスカーの生成
が開始される温度領域に達するまでに、成形体が連続性
多孔質構造をとることができるようなバインダーを適宜
選定することによって珪素系ウイスカーの収率が大きく
向上することを見いだし本発明に至った。
課題を解決するため鋭意研究を行った。すなわち、珪素
系ウイスカーを製造する際に用いられる原料を、珪素源
物質、特定形状の固体炭素、特定粒径を有する金属系触
媒、前記3成分を一体化するためのバインダーとからな
る固形原料とすることによって、粒状の珪素系セラミッ
クスや珪素源物質から派生するシリカ等の不純物を含ま
ないのみならず、屈曲のない珪素系ウイスカーを得るこ
とができ、さらには、加熱処理工程における操作を格段
に簡略化できることをまず見出した。次いで、珪素系ウ
イスカー生成のための加熱処理工程における昇温過程に
おいて、遅くとも雰囲気温度が珪素系ウイスカーの生成
が開始される温度領域に達するまでに、成形体が連続性
多孔質構造をとることができるようなバインダーを適宜
選定することによって珪素系ウイスカーの収率が大きく
向上することを見いだし本発明に至った。
【0013】すなわち、本発明によれば、 (A)珪素源物質 (B)繊維状固体炭素 (C)該繊維状固体炭素の平均直径より小さい平均粒径
を有する金属系触媒 (D)上記(A)〜(C)を一体化するためのバインダ
ー を必須成分として含む固体であって、該固体は、珪素系
ウイスカー生成のための加熱処理工程における昇温過程
において、遅くとも雰囲気温度が珪素系ウイスカーの生
成が開始される温度領域に達するまでに、連続性多孔質
構造を有するようになることを特徴とする珪素系ウイス
カー製造用固体原料が提供され、より好ましくは、
(C)該繊維状固体炭素の平均直径より小さい平均粒径
を有する金属系触媒が、ニッケル、鉄、コバルト、マン
ガン、バナジウム及びこれら元素を含む化合物群から選
ばれた少なくとも一つであることを特徴とする上記の珪
素系ウイスカー製造用固体原料が提供され、より好まし
くは、(A)珪素源物質が、有機珪素高分子化合物であ
ることを特徴とする請求項1または2に記載の珪素系ウ
イスカー製造用固体原料が提供され、さらに、前記いず
れかの珪素系ウイスカー製造用固体原料を窒素ガス以外
の不活性ガス雰囲気中で加熱処理することを特徴とする
炭化珪素ウイスカーの製造方法が提供され、さらに、前
記いずれかの珪素系ウイスカー製造用固体原料を窒素ガ
ス雰囲気中で加熱処理することを特徴とする窒化珪素ウ
イスカーの製造方法が提供される。
を有する金属系触媒 (D)上記(A)〜(C)を一体化するためのバインダ
ー を必須成分として含む固体であって、該固体は、珪素系
ウイスカー生成のための加熱処理工程における昇温過程
において、遅くとも雰囲気温度が珪素系ウイスカーの生
成が開始される温度領域に達するまでに、連続性多孔質
構造を有するようになることを特徴とする珪素系ウイス
カー製造用固体原料が提供され、より好ましくは、
(C)該繊維状固体炭素の平均直径より小さい平均粒径
を有する金属系触媒が、ニッケル、鉄、コバルト、マン
ガン、バナジウム及びこれら元素を含む化合物群から選
ばれた少なくとも一つであることを特徴とする上記の珪
素系ウイスカー製造用固体原料が提供され、より好まし
くは、(A)珪素源物質が、有機珪素高分子化合物であ
ることを特徴とする請求項1または2に記載の珪素系ウ
イスカー製造用固体原料が提供され、さらに、前記いず
れかの珪素系ウイスカー製造用固体原料を窒素ガス以外
の不活性ガス雰囲気中で加熱処理することを特徴とする
炭化珪素ウイスカーの製造方法が提供され、さらに、前
記いずれかの珪素系ウイスカー製造用固体原料を窒素ガ
ス雰囲気中で加熱処理することを特徴とする窒化珪素ウ
イスカーの製造方法が提供される。
【0014】
【発明の実施の形態】以下、本発明について詳細に説明
する。なお、本発明は炭化珪素ウイスカー、窒化珪素ウ
イスカーの製造のために用いられる固体原料および、該
固体原料を用いた炭化珪素ウイスカー、窒化珪素ウイス
カーの製造方法に係るものである。よって以下の説明に
おいては、炭化珪素ウイスカー、窒化珪素ウイスカーを
珪素系ウイスカーと総称することがある。本発明におい
て用いられる、珪素源物質としては、有機珪素高分子化
合物;シリカ系無機化合物;籾殻 等が使用可能であ
る。なかでも、有機珪素高分子化合物は、屈曲物や粒状
物を含まず、更に珪素源物質から派生するシリカ等の不
純物の混入がない珪素系ウイスカーを容易に高収率で得
られることから特に好ましい。前記した有機珪素高分子
化合物としては、テトラメチルシランの熱分解、ポリ
(ジメチルシラン)のオートクレーブ中での熱分解、ポ
リ(ジメチルシラン)の常圧下での熱分解、ドデカメチ
ルシクロヘキサシランのオートクレーブ中、加圧下での
熱分解などにより得られるポリカルボシラン類、ジメチ
ルジクロロシランとフェニルメチルジクロロシランから
合成されるポリシラスチレン類等が例示できる。
する。なお、本発明は炭化珪素ウイスカー、窒化珪素ウ
イスカーの製造のために用いられる固体原料および、該
固体原料を用いた炭化珪素ウイスカー、窒化珪素ウイス
カーの製造方法に係るものである。よって以下の説明に
おいては、炭化珪素ウイスカー、窒化珪素ウイスカーを
珪素系ウイスカーと総称することがある。本発明におい
て用いられる、珪素源物質としては、有機珪素高分子化
合物;シリカ系無機化合物;籾殻 等が使用可能であ
る。なかでも、有機珪素高分子化合物は、屈曲物や粒状
物を含まず、更に珪素源物質から派生するシリカ等の不
純物の混入がない珪素系ウイスカーを容易に高収率で得
られることから特に好ましい。前記した有機珪素高分子
化合物としては、テトラメチルシランの熱分解、ポリ
(ジメチルシラン)のオートクレーブ中での熱分解、ポ
リ(ジメチルシラン)の常圧下での熱分解、ドデカメチ
ルシクロヘキサシランのオートクレーブ中、加圧下での
熱分解などにより得られるポリカルボシラン類、ジメチ
ルジクロロシランとフェニルメチルジクロロシランから
合成されるポリシラスチレン類等が例示できる。
【0015】また、本発明においては炭素繊維、黒鉛繊
維などの繊維状固体炭素が用いられる。固体炭素を特に
繊維状のものから選択するのは次の理由からである。ま
ず、本発明の原料成形物を用いて炭化珪素ウイスカーを
製造する場合、シリカ還元反応、あるいはそれに類似し
た反応によりウイスカーが生成するものと考えられる。
すなわち、シリカ還元反応による炭化珪素ウイスカーの
生成においては、珪素源物質と炭素源物質との反応によ
り生成したSiOガス及びCOガスの気相反応により炭
化珪素ウイスカーが生成する。その際、固体炭素がカー
ボンブラックなどの比表面積の大きい粉末状であると、
珪素源物質と炭素源物質との接触面積が大きいため、S
iOガス及びCOガスが急激に生成し、その結果、粒状
の炭化珪素が多量に生成する。そこで、本発明では、固
体炭素として炭素繊維、黒鉛繊維などの比表面積の小さ
い繊維状固体炭素が用いられる。繊維状固体炭素を用い
ることにより、炭化珪素ウイスカーの生長速度に適した
速度でSiOガス及びCOガスが発生し、その結果、粒
状物を含まないウイスカーが得られる。
維などの繊維状固体炭素が用いられる。固体炭素を特に
繊維状のものから選択するのは次の理由からである。ま
ず、本発明の原料成形物を用いて炭化珪素ウイスカーを
製造する場合、シリカ還元反応、あるいはそれに類似し
た反応によりウイスカーが生成するものと考えられる。
すなわち、シリカ還元反応による炭化珪素ウイスカーの
生成においては、珪素源物質と炭素源物質との反応によ
り生成したSiOガス及びCOガスの気相反応により炭
化珪素ウイスカーが生成する。その際、固体炭素がカー
ボンブラックなどの比表面積の大きい粉末状であると、
珪素源物質と炭素源物質との接触面積が大きいため、S
iOガス及びCOガスが急激に生成し、その結果、粒状
の炭化珪素が多量に生成する。そこで、本発明では、固
体炭素として炭素繊維、黒鉛繊維などの比表面積の小さ
い繊維状固体炭素が用いられる。繊維状固体炭素を用い
ることにより、炭化珪素ウイスカーの生長速度に適した
速度でSiOガス及びCOガスが発生し、その結果、粒
状物を含まないウイスカーが得られる。
【0016】一方、本発明の原料成形物を用いて窒化珪
素ウイスカーを製造する場合においては、シリカ還元窒
化反応あるいはそれに類似した反応によりウイスカーが
生成するものと考えられる。すなわち、シリカ還元窒化
反応による窒化珪素ウイスカーの生成においても、上述
したシリカ還元反応による炭化珪素ウイスカーの生成と
同様に、珪素源物質と炭素源物質との反応によりSiO
ガスが生成し、このガスと導入された窒素ガスとの気相
反応により窒化珪素ウイスカーが生成する。従って、炭
素繊維、黒鉛繊維などの比表面積の小さい繊維状固体炭
素を用いることにより、窒化珪素ウイスカーの生長速度
に適した速度でSiOガスが発生し、その結果、粒状物
を含まないウイスカーが得られる。
素ウイスカーを製造する場合においては、シリカ還元窒
化反応あるいはそれに類似した反応によりウイスカーが
生成するものと考えられる。すなわち、シリカ還元窒化
反応による窒化珪素ウイスカーの生成においても、上述
したシリカ還元反応による炭化珪素ウイスカーの生成と
同様に、珪素源物質と炭素源物質との反応によりSiO
ガスが生成し、このガスと導入された窒素ガスとの気相
反応により窒化珪素ウイスカーが生成する。従って、炭
素繊維、黒鉛繊維などの比表面積の小さい繊維状固体炭
素を用いることにより、窒化珪素ウイスカーの生長速度
に適した速度でSiOガスが発生し、その結果、粒状物
を含まないウイスカーが得られる。
【0017】また、後述するごとく本発明の珪素系ウイ
スカー製造用固体原料は、珪素系ウイスカーが生成し始
める温度領域までに連続性多孔質構造を有することが必
要である。そしてこの連続性多孔質構造は、珪素系ウイ
スカーが生成する温度領域においても保持されていなけ
ればならない。繊維状固体炭素は、この工程において珪
素系ウイスカー製造用固体原料を絡み合いにより補強
し、連続性多孔質構造を保持するという効果も有する。
スカー製造用固体原料は、珪素系ウイスカーが生成し始
める温度領域までに連続性多孔質構造を有することが必
要である。そしてこの連続性多孔質構造は、珪素系ウイ
スカーが生成する温度領域においても保持されていなけ
ればならない。繊維状固体炭素は、この工程において珪
素系ウイスカー製造用固体原料を絡み合いにより補強
し、連続性多孔質構造を保持するという効果も有する。
【0018】これらの繊維状固体炭素として、アスペク
ト比が約5以上のものを用いるのが望ましい。繊維状固
体炭素のアスペクト比が約5以上であると、上述したよ
うに繊維状固体炭素同士の絡み合いにより、連続性多孔
質構造を保持しやすくなる。繊維状固体炭素の直径及び
長さは特に制限はないが、特に平均直径が1〜100μ
mさらには5〜50μmのものが好ましく、平均長さは
10μm〜100mmさらには50μm〜20mmのも
のが好ましい。このような繊維状固体炭素は、珪素源物
質100重量部に対し20〜1500重量部、特に10
0〜1000重量部用いることが得られる珪素系ウイス
カーの収率の観点から望ましい。
ト比が約5以上のものを用いるのが望ましい。繊維状固
体炭素のアスペクト比が約5以上であると、上述したよ
うに繊維状固体炭素同士の絡み合いにより、連続性多孔
質構造を保持しやすくなる。繊維状固体炭素の直径及び
長さは特に制限はないが、特に平均直径が1〜100μ
mさらには5〜50μmのものが好ましく、平均長さは
10μm〜100mmさらには50μm〜20mmのも
のが好ましい。このような繊維状固体炭素は、珪素源物
質100重量部に対し20〜1500重量部、特に10
0〜1000重量部用いることが得られる珪素系ウイス
カーの収率の観点から望ましい。
【0019】本発明の珪素系ウイスカー製造用固体原料
は、生成触媒として金属系触媒を含有している。上述し
たように、本発明の原料成形物を用いて炭化珪素ウイス
カー、あるいは窒化珪素ウイスカーを製造する場合、シ
リカ還元反応、及びシリカ還元窒化反応あるいはそれら
に類似した反応によりウイスカーが生成する。これらの
反応においては、珪素源物質と炭素源物質との反応によ
り生成したSiOガスとCOガスの関与する気相反応に
よりウイスカーが生成するものとされている。その際、
金属系触媒を共存させると気相(V)−液相(L)−固
相(S)が同時に関与するVLS機構により炭化珪素ウ
イスカー及び窒化珪素ウイスカーが生長する。さらに詳
しくは、ウイスカーの生成開始点は液滴となった金属触
媒であり、その液滴は繊維状固体炭素の表面に付着して
いる。すなわち、繊維状固体炭素の表面に付着している
金属液滴(液相(L))にSiOガス及びCOガス(気
相(V))が溶解し、過飽和状態になると炭化珪素(固
相(S))がウイスカーとして析出する。一方、窒素ガ
スが存在すると、繊維状固体炭素の表面に付着している
金属液滴に窒素ガスも同時に溶け込んでゆくため、その
結果、窒化珪素(固相(S))がウイスカーとして析出
する。このように、本発明における珪素系ウイスカーの
生成においては、繊維状固体炭素の表面に付着している
金属液滴がウイスカーの生成開始点となる。従って、本
発明においては、金属系触媒の平均粒径は繊維状固体炭
素の平均直径より小さいことが必要である。本発明にお
ける、金属系触媒は特に限定されないが、なかでも、ニ
ッケル、鉄、コバルト、マンガン、バナジウム及びこれ
ら元素を含む化合物群から選ばれた少なくとも一つの金
属系触媒は、珪素系ウイスカーの生成における触媒効果
が著しく好ましい。また、ニッケル、鉄、コバルト、マ
ンガン、バナジウムの化合物としては、酸化ニッケル、
酸化鉄、酸化コバルト、酸化マンガン、酸化バナジウ
ム、ニッケルフェライト等が挙げられる。これらの金属
系触媒は、上記繊維状固体炭素100重量部に対し0.
01〜2重量部、特に0.1〜1重量部用いることが望
ましい。金属系触媒が、上記繊維状固体炭素100重量
部に対し0.01未満であると触媒としての効果が少な
く、また、2重量部を超えても配合量に見合った触媒効
果の向上は見られず、逆に得られる珪素系ウイスカーの
純度を低下させるため好ましくない。
は、生成触媒として金属系触媒を含有している。上述し
たように、本発明の原料成形物を用いて炭化珪素ウイス
カー、あるいは窒化珪素ウイスカーを製造する場合、シ
リカ還元反応、及びシリカ還元窒化反応あるいはそれら
に類似した反応によりウイスカーが生成する。これらの
反応においては、珪素源物質と炭素源物質との反応によ
り生成したSiOガスとCOガスの関与する気相反応に
よりウイスカーが生成するものとされている。その際、
金属系触媒を共存させると気相(V)−液相(L)−固
相(S)が同時に関与するVLS機構により炭化珪素ウ
イスカー及び窒化珪素ウイスカーが生長する。さらに詳
しくは、ウイスカーの生成開始点は液滴となった金属触
媒であり、その液滴は繊維状固体炭素の表面に付着して
いる。すなわち、繊維状固体炭素の表面に付着している
金属液滴(液相(L))にSiOガス及びCOガス(気
相(V))が溶解し、過飽和状態になると炭化珪素(固
相(S))がウイスカーとして析出する。一方、窒素ガ
スが存在すると、繊維状固体炭素の表面に付着している
金属液滴に窒素ガスも同時に溶け込んでゆくため、その
結果、窒化珪素(固相(S))がウイスカーとして析出
する。このように、本発明における珪素系ウイスカーの
生成においては、繊維状固体炭素の表面に付着している
金属液滴がウイスカーの生成開始点となる。従って、本
発明においては、金属系触媒の平均粒径は繊維状固体炭
素の平均直径より小さいことが必要である。本発明にお
ける、金属系触媒は特に限定されないが、なかでも、ニ
ッケル、鉄、コバルト、マンガン、バナジウム及びこれ
ら元素を含む化合物群から選ばれた少なくとも一つの金
属系触媒は、珪素系ウイスカーの生成における触媒効果
が著しく好ましい。また、ニッケル、鉄、コバルト、マ
ンガン、バナジウムの化合物としては、酸化ニッケル、
酸化鉄、酸化コバルト、酸化マンガン、酸化バナジウ
ム、ニッケルフェライト等が挙げられる。これらの金属
系触媒は、上記繊維状固体炭素100重量部に対し0.
01〜2重量部、特に0.1〜1重量部用いることが望
ましい。金属系触媒が、上記繊維状固体炭素100重量
部に対し0.01未満であると触媒としての効果が少な
く、また、2重量部を超えても配合量に見合った触媒効
果の向上は見られず、逆に得られる珪素系ウイスカーの
純度を低下させるため好ましくない。
【0020】本発明におけるバインダーは、前述した
(A)珪素源物質、(B)繊維状固体炭素、(C)該繊
維状固体炭素の平均直径より小さい平均粒径を有する金
属系触媒を一体化する役割を果たすものである。バイン
ダーの種類は、後述するように、珪素系セラミックスウ
イスカー生成のための加熱処理工程において、遅くとも
雰囲気温度が珪素系セラミックスウイスカーの生成が開
始される温度領域に達するまでに、連続性多孔質構造を
有するようになるように熱分解されうる有機結合剤の中
から、固体原料の調製方法に応じて適宜選択される。更
に詳しくは、珪素系セラミックスウイスカー生成のため
の加熱処理工程において、雰囲気温度が珪素系セラミッ
クスウイスカーの生成が開始される温度領域に達するま
でに、珪素系セラミックスウイスカー生成のための空間
が充分確保される程度に、熱分解し得るもので、且つ、
珪素系セラミックスウイスカー生成後の大気中での加熱
処理によりほぼ完全に熱分解されて除去され得る有機結
合剤の中から適宜選択される。
(A)珪素源物質、(B)繊維状固体炭素、(C)該繊
維状固体炭素の平均直径より小さい平均粒径を有する金
属系触媒を一体化する役割を果たすものである。バイン
ダーの種類は、後述するように、珪素系セラミックスウ
イスカー生成のための加熱処理工程において、遅くとも
雰囲気温度が珪素系セラミックスウイスカーの生成が開
始される温度領域に達するまでに、連続性多孔質構造を
有するようになるように熱分解されうる有機結合剤の中
から、固体原料の調製方法に応じて適宜選択される。更
に詳しくは、珪素系セラミックスウイスカー生成のため
の加熱処理工程において、雰囲気温度が珪素系セラミッ
クスウイスカーの生成が開始される温度領域に達するま
でに、珪素系セラミックスウイスカー生成のための空間
が充分確保される程度に、熱分解し得るもので、且つ、
珪素系セラミックスウイスカー生成後の大気中での加熱
処理によりほぼ完全に熱分解されて除去され得る有機結
合剤の中から適宜選択される。
【0021】珪素源物質、繊維状固体炭素、金属系触媒
がこのようなバインダーによって一体化されていること
により、ウイスカー製造用原料としての取り扱いが容易
となるのみならず、加熱処理工程においてウイスカーが
生長するための空間を充分に確保することができる。さ
らに、珪素系ウイスカーの生成において必要なガスが、
固体原料に形成された気孔内に均一に拡散し、固体原料
内で効率よく珪素系ウイスカーが生長する。さらには、
固体原料が連続気孔構造を有するため、発生したSiO
ガス及びCOガスは固体原料内の気孔を通じて原料成形
物の表面へも流出し、固体原料の表面においても炭化珪
素ウイスカーが生長する。
がこのようなバインダーによって一体化されていること
により、ウイスカー製造用原料としての取り扱いが容易
となるのみならず、加熱処理工程においてウイスカーが
生長するための空間を充分に確保することができる。さ
らに、珪素系ウイスカーの生成において必要なガスが、
固体原料に形成された気孔内に均一に拡散し、固体原料
内で効率よく珪素系ウイスカーが生長する。さらには、
固体原料が連続気孔構造を有するため、発生したSiO
ガス及びCOガスは固体原料内の気孔を通じて原料成形
物の表面へも流出し、固体原料の表面においても炭化珪
素ウイスカーが生長する。
【0022】一方、珪素系ウイスカーのうち窒化珪素ウ
イスカーを製造する場合にいては、上記した利点に加え
て、窒素ガスが固体原料内の気孔内に連続的に供給され
るため、窒化珪素ウイスカー生成反応が効率よく行わ
れ、高収率で窒化珪素ウイスカーが得られるという利点
もある。
イスカーを製造する場合にいては、上記した利点に加え
て、窒素ガスが固体原料内の気孔内に連続的に供給され
るため、窒化珪素ウイスカー生成反応が効率よく行わ
れ、高収率で窒化珪素ウイスカーが得られるという利点
もある。
【0023】本発明における珪素系ウイスカー製造用固
体原料の調製方法は特に限定されないが、例えば、 珪素源物質、繊維状固体炭素、金属系触媒、重合性不
飽和化合物、重合開始剤を含有する組成物を重合させ成
形物を得る方法。 加熱により溶融、あるいは溶剤に溶解させた合成樹脂
と珪素源物質、繊維状固体炭素、金属系触媒を混合して
得られた組成物を、冷却、あるいは溶剤を除去し固化さ
せ成形物を得る方法。 等がある。上で述べた重合性不飽和化合物が硬化して生
成する重合体、あるいは合成樹脂は、珪素源物質、繊維
状固体炭素と金属系触媒のバインダーとして作用する。
このようにして得られる固体原料は、加熱処理工程の初
期において、バインダーが熱分解し、繊維状固体炭素を
骨格とする連続性多孔質構造を有するようになる。
体原料の調製方法は特に限定されないが、例えば、 珪素源物質、繊維状固体炭素、金属系触媒、重合性不
飽和化合物、重合開始剤を含有する組成物を重合させ成
形物を得る方法。 加熱により溶融、あるいは溶剤に溶解させた合成樹脂
と珪素源物質、繊維状固体炭素、金属系触媒を混合して
得られた組成物を、冷却、あるいは溶剤を除去し固化さ
せ成形物を得る方法。 等がある。上で述べた重合性不飽和化合物が硬化して生
成する重合体、あるいは合成樹脂は、珪素源物質、繊維
状固体炭素と金属系触媒のバインダーとして作用する。
このようにして得られる固体原料は、加熱処理工程の初
期において、バインダーが熱分解し、繊維状固体炭素を
骨格とする連続性多孔質構造を有するようになる。
【0024】さらに、固体原料が加熱処理工程前におい
てすでに連続性多孔質構造を有する場合、バインダーが
熱分解して発生する有機性分解ガスは、連続気孔を通じ
て逸早く、より効率的に排出される。従って、後のウイ
スカー生成段階において発生するSiOガス及びCOガ
スの純度が低下しないため、さらに高収率で珪素系ウイ
スカーが得られるという利点がある。このような加熱処
理工程前においてそれ自身が連続性多孔質構造を有する
固体原料の調製方法としては、 珪素源物質、繊維状固体炭素、金属系触媒、重合性不
飽和化合物、乳化剤、重合開始剤、及び、水を混合、攪
拌して得られるW/O型エマルジョンを重合させた後、
水を蒸発させる方法。あるいは、前記した、いずれ
かの方法に、 発泡剤を用いる方法。 撹拌、或いは、バブリングなどの方法によって気体を
混入させる方法。 可溶性物質を混合しておき、成形の後、該可溶性物質
を溶解除去する方法。 等の多孔化手段を適宜組み合わせた方法が例示できる。
てすでに連続性多孔質構造を有する場合、バインダーが
熱分解して発生する有機性分解ガスは、連続気孔を通じ
て逸早く、より効率的に排出される。従って、後のウイ
スカー生成段階において発生するSiOガス及びCOガ
スの純度が低下しないため、さらに高収率で珪素系ウイ
スカーが得られるという利点がある。このような加熱処
理工程前においてそれ自身が連続性多孔質構造を有する
固体原料の調製方法としては、 珪素源物質、繊維状固体炭素、金属系触媒、重合性不
飽和化合物、乳化剤、重合開始剤、及び、水を混合、攪
拌して得られるW/O型エマルジョンを重合させた後、
水を蒸発させる方法。あるいは、前記した、いずれ
かの方法に、 発泡剤を用いる方法。 撹拌、或いは、バブリングなどの方法によって気体を
混入させる方法。 可溶性物質を混合しておき、成形の後、該可溶性物質
を溶解除去する方法。 等の多孔化手段を適宜組み合わせた方法が例示できる。
【0025】次に、上記した珪素系ウイスカー製造用固
体原料を用いて珪素系ウイスカーを製造する方法につい
て説明する。まず、上記のようにして調製した原料成形
物を、窒素ガス以外の不活性ガス雰囲気中で加熱処理す
ると、炭化珪素ウイスカーが得られる。窒素ガス以外の
不活性ガスとしては、アルゴン、ヘリウム、ネオンなど
の単独ガスもしくは混合ガスが挙げられるが、なかで
も、アルゴンガスがコスト的に最も有利である。加熱処
理温度は、1100〜1550℃が好ましい。
体原料を用いて珪素系ウイスカーを製造する方法につい
て説明する。まず、上記のようにして調製した原料成形
物を、窒素ガス以外の不活性ガス雰囲気中で加熱処理す
ると、炭化珪素ウイスカーが得られる。窒素ガス以外の
不活性ガスとしては、アルゴン、ヘリウム、ネオンなど
の単独ガスもしくは混合ガスが挙げられるが、なかで
も、アルゴンガスがコスト的に最も有利である。加熱処
理温度は、1100〜1550℃が好ましい。
【0026】一方、窒素ガス中で加熱処理すると、窒化
珪素ウイスカーが得られる。加熱処理温度は、1100
〜1600℃が好ましい。なお、原料成形物の加熱処理
に先立ち、原料成形物中に含まれる有機結合剤を分解除
去するための予備加熱を行ってもよい。該予備加熱工程
において用いられるガスとしては、アルゴン、ヘリウ
ム、ネオン、窒素などの不活性ガスが単独で、或いは、
混合ガスの状態で用いられる。
珪素ウイスカーが得られる。加熱処理温度は、1100
〜1600℃が好ましい。なお、原料成形物の加熱処理
に先立ち、原料成形物中に含まれる有機結合剤を分解除
去するための予備加熱を行ってもよい。該予備加熱工程
において用いられるガスとしては、アルゴン、ヘリウ
ム、ネオン、窒素などの不活性ガスが単独で、或いは、
混合ガスの状態で用いられる。
【0027】
【実施例】以下、実施例により本発明を更に詳細に説明
する。原料成形物の調製方法としては、上述した、珪素
源物質、繊維状固体炭素、重合性不飽和化合物、乳化
剤、重合開始剤、及び、水を混合、攪拌して得られるW
/O型エマルジョンを重合させた後、水を蒸発させる方
法を用いた。なお、珪素源物質、繊維状固体炭素、金属
系触媒、重合性不飽和化合物、乳化剤、重合開始剤とし
て以下のものを用いた。また、本発明における金属系触
媒の効果を明確にするため、繊維状固体炭素は、繊維状
固体炭素を2規定HCl水溶液で処理することにより、
不純物として混入している微量な各種金属を除去したも
のを用いた。 ・珪素源物質 ポリカルボシラン ・繊維状固体炭素 ミルド炭素繊維(平均直径15μm、平均長さ150μ
m、平均アスペクト比約10) ・金属系触媒 ニッケルフェライト(平均粒径0.7μm) 一酸化ニッケル(平均粒径0.8μm) 酸化第二鉄(平均粒径1.0μm) 二酸化マンガン(平均粒径1.3μm) 五酸化バナジウム(平均粒径1.5μm) ・重合性不飽和化合物 スチレン トリメチロールプロパントリメタクリレート ・乳化剤 ソルビタンセスキオレート ・重合開始剤 過硫酸アンモニウム
する。原料成形物の調製方法としては、上述した、珪素
源物質、繊維状固体炭素、重合性不飽和化合物、乳化
剤、重合開始剤、及び、水を混合、攪拌して得られるW
/O型エマルジョンを重合させた後、水を蒸発させる方
法を用いた。なお、珪素源物質、繊維状固体炭素、金属
系触媒、重合性不飽和化合物、乳化剤、重合開始剤とし
て以下のものを用いた。また、本発明における金属系触
媒の効果を明確にするため、繊維状固体炭素は、繊維状
固体炭素を2規定HCl水溶液で処理することにより、
不純物として混入している微量な各種金属を除去したも
のを用いた。 ・珪素源物質 ポリカルボシラン ・繊維状固体炭素 ミルド炭素繊維(平均直径15μm、平均長さ150μ
m、平均アスペクト比約10) ・金属系触媒 ニッケルフェライト(平均粒径0.7μm) 一酸化ニッケル(平均粒径0.8μm) 酸化第二鉄(平均粒径1.0μm) 二酸化マンガン(平均粒径1.3μm) 五酸化バナジウム(平均粒径1.5μm) ・重合性不飽和化合物 スチレン トリメチロールプロパントリメタクリレート ・乳化剤 ソルビタンセスキオレート ・重合開始剤 過硫酸アンモニウム
【0028】1.炭化珪素ウイスカー [実施例1]ポリカルボシランのスチレン溶液(ポリカ
ルボシラン:100重量部、スチレン:288重量部)
388重量部、トリメチロールプロパントリメタクリレ
ート32重量部、ソルビタンセスキオレート80重量
部、ミルド炭素繊維500重量部、ニッケルフェライト
2.5重量部をポリエチレン製の容器に入れ、プロペラ
型撹拌羽根で撹拌しペースト状物を得た。次いで、これ
に、過硫酸アンモニウム4重量部を溶解させた水100
0重量部を徐々に加えながら、更に激しく撹拌したとこ
ろ安定なW/O型エマルジョンが得られた。得られたW
/O型エマルジョンを型枠に移し込み、60℃で24時
間重合硬化した後脱型し、60℃で乾燥して原料成形物
を得た。次いで、得られた原料成形物を雰囲気炉に挿入
し、550℃で窒素ガスを毎分1リットルの流量で流し
ながら5時間予備加熱処理することにより、原料成形物
に含まれる有機結合剤を除去した。そして、更に、アル
ゴンガスを毎分0.5リットルの流速で流しながら13
00℃で1時間加熱処理を行なった。次いで、大気中で
650℃で5時間加熱処理して残留する炭素成分を燃焼
除去し生成物を得た。得られた生成物を走査型電子顕微
鏡により観察したところ、屈曲物や粒状物をほとんど含
まないウイスカーであった(図1参照)。更に、X線回
折により分析を行ったところ、SiCによる回折ピーク
のみが観測された(図2参照)。
ルボシラン:100重量部、スチレン:288重量部)
388重量部、トリメチロールプロパントリメタクリレ
ート32重量部、ソルビタンセスキオレート80重量
部、ミルド炭素繊維500重量部、ニッケルフェライト
2.5重量部をポリエチレン製の容器に入れ、プロペラ
型撹拌羽根で撹拌しペースト状物を得た。次いで、これ
に、過硫酸アンモニウム4重量部を溶解させた水100
0重量部を徐々に加えながら、更に激しく撹拌したとこ
ろ安定なW/O型エマルジョンが得られた。得られたW
/O型エマルジョンを型枠に移し込み、60℃で24時
間重合硬化した後脱型し、60℃で乾燥して原料成形物
を得た。次いで、得られた原料成形物を雰囲気炉に挿入
し、550℃で窒素ガスを毎分1リットルの流量で流し
ながら5時間予備加熱処理することにより、原料成形物
に含まれる有機結合剤を除去した。そして、更に、アル
ゴンガスを毎分0.5リットルの流速で流しながら13
00℃で1時間加熱処理を行なった。次いで、大気中で
650℃で5時間加熱処理して残留する炭素成分を燃焼
除去し生成物を得た。得られた生成物を走査型電子顕微
鏡により観察したところ、屈曲物や粒状物をほとんど含
まないウイスカーであった(図1参照)。更に、X線回
折により分析を行ったところ、SiCによる回折ピーク
のみが観測された(図2参照)。
【0029】[実施例2]金属系触媒を一酸化ニッケル
に変える以外は実施例1と同様にして原料成形物を得
た。次いで、実施例1と同様にして生成物を得た。得ら
れた生成物を走査型電子顕微鏡により観察したところ、
屈曲物や粒状物をほとんど含まないウイスカーであった
(図3参照)。更に、X線回折により分析を行ったとこ
ろ、SiCによる回折ピークのみが観測された(図4参
照)。
に変える以外は実施例1と同様にして原料成形物を得
た。次いで、実施例1と同様にして生成物を得た。得ら
れた生成物を走査型電子顕微鏡により観察したところ、
屈曲物や粒状物をほとんど含まないウイスカーであった
(図3参照)。更に、X線回折により分析を行ったとこ
ろ、SiCによる回折ピークのみが観測された(図4参
照)。
【0030】[比較例1]ミルド炭素繊維の代わりに、
カーボンブラック(平均粒径0.07μm)を用いて、
実施例1と同様にして原料成形物を得た。次いで、実施
例1と同様にして生成物を得た。得られた生成物を走査
型電子顕微鏡により観察したところ、僅かにウイスカー
が観察されたものの、ほとんどが粒状物であった。更
に、X線回折により分析を行ったところ、実施例1に比
べてSiCによる回折ピークは著しく低く、更にその他
にSiO2 による回折ピークが観測され、不純物として
SiO2 が混入していることが確認された。
カーボンブラック(平均粒径0.07μm)を用いて、
実施例1と同様にして原料成形物を得た。次いで、実施
例1と同様にして生成物を得た。得られた生成物を走査
型電子顕微鏡により観察したところ、僅かにウイスカー
が観察されたものの、ほとんどが粒状物であった。更
に、X線回折により分析を行ったところ、実施例1に比
べてSiCによる回折ピークは著しく低く、更にその他
にSiO2 による回折ピークが観測され、不純物として
SiO2 が混入していることが確認された。
【0031】[比較例2]金属系触媒を添加しないで、
実施例1と同様にして原料成形物を得た。次いで、実施
例1と同様にして生成物を得た。得られた生成物を走査
型電子顕微鏡により観察したところ、僅かにウイスカー
が観察されたものの、ほとんどが粒状物であった。更
に、X線回折により分析を行ったところ、実施例1に比
べてSiCによる回折ピークは著しく低く、更にその他
にSiO2 による回折ピークが観測され、不純物として
SiO2 が混入していることが確認された。
実施例1と同様にして原料成形物を得た。次いで、実施
例1と同様にして生成物を得た。得られた生成物を走査
型電子顕微鏡により観察したところ、僅かにウイスカー
が観察されたものの、ほとんどが粒状物であった。更
に、X線回折により分析を行ったところ、実施例1に比
べてSiCによる回折ピークは著しく低く、更にその他
にSiO2 による回折ピークが観測され、不純物として
SiO2 が混入していることが確認された。
【0032】2.窒化珪素ウイスカー [実施例3]実施例1と同様にして原料成形物を得た。
次いで、得られた原料成形物を雰囲気炉に挿入し、55
0℃で窒素ガスを毎分1リットルの流量で流しながら5
時間予備加熱処理することにより、原料成形物に含まれ
る有機結合剤を除去した。そして、更に、窒素ガスを毎
分1リットルの流速で流しながら1400℃で5時間加
熱処理を行なった。次いで、大気中で650℃で5時間
加熱処理して残留する炭素成分を燃焼除去し生成物を得
た。得られた生成物を走査型電子顕微鏡により観察した
ところ、屈曲物や粒状物をほとんど含まないウイスカー
であった(図5参照)。更に、X線回折により分析を行
ったところ、Si3 N4 による回折ピークのみが観測さ
れた(図6参照)。
次いで、得られた原料成形物を雰囲気炉に挿入し、55
0℃で窒素ガスを毎分1リットルの流量で流しながら5
時間予備加熱処理することにより、原料成形物に含まれ
る有機結合剤を除去した。そして、更に、窒素ガスを毎
分1リットルの流速で流しながら1400℃で5時間加
熱処理を行なった。次いで、大気中で650℃で5時間
加熱処理して残留する炭素成分を燃焼除去し生成物を得
た。得られた生成物を走査型電子顕微鏡により観察した
ところ、屈曲物や粒状物をほとんど含まないウイスカー
であった(図5参照)。更に、X線回折により分析を行
ったところ、Si3 N4 による回折ピークのみが観測さ
れた(図6参照)。
【0033】[実施例4]金属系触媒を一酸化ニッケル
に変える以外は実施例1と同様にして原料成形物を得
た。次いで、実施例3と同様にして生成物を得た。得ら
れた生成物を走査型電子顕微鏡により観察したところ、
屈曲物や粒状物をほとんど含まないウイスカーであった
(図7参照)。更に、X線回折により分析を行ったとこ
ろ、Si3 N4 による回折ピークのみが観測された(図
8参照)。
に変える以外は実施例1と同様にして原料成形物を得
た。次いで、実施例3と同様にして生成物を得た。得ら
れた生成物を走査型電子顕微鏡により観察したところ、
屈曲物や粒状物をほとんど含まないウイスカーであった
(図7参照)。更に、X線回折により分析を行ったとこ
ろ、Si3 N4 による回折ピークのみが観測された(図
8参照)。
【0034】[実施例5]金属系触媒を酸化第二鉄に変
える以外は実施例1と同様にして原料成形物を得た。次
いで、実施例3と同様にして生成物を得た。得られた生
成物を走査型電子顕微鏡により観察したところ、屈曲物
や粒状物をほとんど含まないウイスカーであった(図9
参照)。更に、X線回折により分析を行ったところ、S
i3 N4 による回折ピークのみが観測された(図10参
照)。
える以外は実施例1と同様にして原料成形物を得た。次
いで、実施例3と同様にして生成物を得た。得られた生
成物を走査型電子顕微鏡により観察したところ、屈曲物
や粒状物をほとんど含まないウイスカーであった(図9
参照)。更に、X線回折により分析を行ったところ、S
i3 N4 による回折ピークのみが観測された(図10参
照)。
【0035】[実施例6]金属系触媒を二酸化マンガン
に変える以外は実施例1と同様にして原料成形物を得
た。次いで、実施例3と同様にして生成物を得た。得ら
れた生成物を走査型電子顕微鏡により観察したところ、
屈曲物や粒状物をほとんど含まないウイスカーであった
(図11参照)。更に、X線回折により分析を行ったと
ころ、Si3N4 による回折ピークのみが観測された
(図12参照)。
に変える以外は実施例1と同様にして原料成形物を得
た。次いで、実施例3と同様にして生成物を得た。得ら
れた生成物を走査型電子顕微鏡により観察したところ、
屈曲物や粒状物をほとんど含まないウイスカーであった
(図11参照)。更に、X線回折により分析を行ったと
ころ、Si3N4 による回折ピークのみが観測された
(図12参照)。
【0036】[実施例7]金属系触媒を五酸化バナジウ
ムに変える以外は実施例1と同様にして原料成形物を得
た。次いで、実施例3と同様にして生成物を得た。得ら
れた生成物を走査型電子顕微鏡により観察したところ、
屈曲物や粒状物をほとんど含まないウイスカーであった
(図13参照)。更に、X線回折により分析を行ったと
ころ、Si3 N4 による回折ピークのみが観測された
(図14参照)。
ムに変える以外は実施例1と同様にして原料成形物を得
た。次いで、実施例3と同様にして生成物を得た。得ら
れた生成物を走査型電子顕微鏡により観察したところ、
屈曲物や粒状物をほとんど含まないウイスカーであった
(図13参照)。更に、X線回折により分析を行ったと
ころ、Si3 N4 による回折ピークのみが観測された
(図14参照)。
【0037】[比較例3]ミルド炭素繊維の代わりに、
カーボンブラック(平均粒径0.07μm)を用いて、
実施例1と同様にして原料成形物を得た。次いで、実施
例3と同様にして生成物を得た。得られた生成物を走査
型電子顕微鏡により観察したところ、ほとんどが粒状物
であった。更に、X線回折により分析を行ったところ、
Si3 N4による回折ピークが観測され、生成物はSi3
N4 粉末であることが確認された。
カーボンブラック(平均粒径0.07μm)を用いて、
実施例1と同様にして原料成形物を得た。次いで、実施
例3と同様にして生成物を得た。得られた生成物を走査
型電子顕微鏡により観察したところ、ほとんどが粒状物
であった。更に、X線回折により分析を行ったところ、
Si3 N4による回折ピークが観測され、生成物はSi3
N4 粉末であることが確認された。
【0038】[比較例4]金属系触媒を添加しないで、
実施例1と同様にして原料成形物を得た。次いで、実施
例3と同様にして生成物を得た。得られた生成物を走査
型電子顕微鏡により観察したところ、ほとんどが粒状物
であった。更に、X線回折により分析を行ったところ、
Si3 N4 による回折ピークが観測され、生成物はSi
3 N4 粉末であることが確認された。
実施例1と同様にして原料成形物を得た。次いで、実施
例3と同様にして生成物を得た。得られた生成物を走査
型電子顕微鏡により観察したところ、ほとんどが粒状物
であった。更に、X線回折により分析を行ったところ、
Si3 N4 による回折ピークが観測され、生成物はSi
3 N4 粉末であることが確認された。
【0039】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
実質的に屈曲物や粒状物を含まず、更に珪素源物質から
派生するシリカ等の不純物を実質的に含まない炭化珪素
ウイスカー及び窒化珪素ウイスカーを容易に得るための
炭化珪素ウイスカー及び窒化珪素ウイスカー製造用固体
原料を提供できる。更に、本発明による原料成形物を、
窒素ガス以外の不活性ガス雰囲気中で加熱処理すること
により炭化珪素ウイスカーが得られ、窒素ガス雰囲気中
で加熱処理することにより窒化珪素ウイスカーが得られ
る。すなわち、目的とするウイスカーの種類により原料
を選定する必要がない。このように、本発明によれば、
高品質な炭化珪素ウイスカー及び窒化珪素ウイスカーを
低コストで供給することが可能となる。
実質的に屈曲物や粒状物を含まず、更に珪素源物質から
派生するシリカ等の不純物を実質的に含まない炭化珪素
ウイスカー及び窒化珪素ウイスカーを容易に得るための
炭化珪素ウイスカー及び窒化珪素ウイスカー製造用固体
原料を提供できる。更に、本発明による原料成形物を、
窒素ガス以外の不活性ガス雰囲気中で加熱処理すること
により炭化珪素ウイスカーが得られ、窒素ガス雰囲気中
で加熱処理することにより窒化珪素ウイスカーが得られ
る。すなわち、目的とするウイスカーの種類により原料
を選定する必要がない。このように、本発明によれば、
高品質な炭化珪素ウイスカー及び窒化珪素ウイスカーを
低コストで供給することが可能となる。
【図1】実施例1において得られた炭化珪素ウイスカー
の走査型電子顕微鏡写真である。
の走査型電子顕微鏡写真である。
【図2】実施例1において得られた炭化珪素ウイスカー
のX線回折図である。
のX線回折図である。
【図3】実施例2において得られた炭化珪素ウイスカー
の走査型電子顕微鏡写真である。
の走査型電子顕微鏡写真である。
【図4】実施例2において得られた炭化珪素ウイスカー
のX線回折図である。
のX線回折図である。
【図5】実施例3において得られた窒化珪素ウイスカー
の走査型電子顕微鏡写真である。
の走査型電子顕微鏡写真である。
【図6】実施例3において得られた窒化珪素ウイスカー
のX線回折図である。
のX線回折図である。
【図7】実施例4において得られた窒化珪素ウイスカー
の走査型電子顕微鏡写真である。
の走査型電子顕微鏡写真である。
【図8】実施例4において得られた窒化珪素ウイスカー
のX線回折図である。
のX線回折図である。
【図9】実施例5において得られた窒化珪素ウイスカー
の走査型電子顕微鏡写真である。
の走査型電子顕微鏡写真である。
【図10】実施例5において得られた窒化珪素ウイスカ
ーのX線回折図である。
ーのX線回折図である。
【図11】実施例6において得られた窒化珪素ウイスカ
ーの走査型電子顕微鏡写真である。
ーの走査型電子顕微鏡写真である。
【図12】実施例6において得られた窒化珪素ウイスカ
ーのX線回折図である。
ーのX線回折図である。
【図13】実施例7において得られた窒化珪素ウイスカ
ーの走査型電子顕微鏡写真である。
ーの走査型電子顕微鏡写真である。
【図14】実施例7において得られた窒化珪素ウイスカ
ーのX線回折図である
ーのX線回折図である
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 FI B01J 23/755 B01J 23/74 321M
Claims (5)
- 【請求項1】 (A)珪素源物質 (B)繊維状固体炭素 (C)該繊維状固体炭素の平均直径より小さい平均粒径
を有する金属系触媒 (D)上記(A)〜(C)を一体化するためのバインダ
ー を必須成分として含む固体であって、該固体は、珪素系
ウイスカー生成のための加熱処理工程における昇温過程
において、遅くとも雰囲気温度が珪素系ウイスカーの生
成が開始される温度領域に達するまでに、連続性多孔質
構造を有するようになることを特徴とする珪素系ウイス
カー製造用固体原料。 - 【請求項2】 (C)該繊維状固体炭素の平均直径より
小さい平均粒径を有する金属系触媒が、ニッケル、鉄、
コバルト、マンガン、バナジウム及びこれら元素を含む
化合物群から選ばれた少なくとも一つであることを特徴
とする請求項1に記載の珪素系ウイスカー製造用固体原
料。 - 【請求項3】 (A)珪素源物質が、有機珪素高分子化
合物であることを特徴とする請求項1または2に記載の
珪素系ウイスカー製造用固体原料。 - 【請求項4】 請求項1乃至3のいずれかに記載の珪素
系ウイスカー製造用固体原料を窒素ガス以外の不活性ガ
ス雰囲気中で加熱処理することを特徴とする炭化珪素ウ
イスカーの製造方法。 - 【請求項5】 請求項1乃至3のいずれかに記載の珪素
系ウイスカー製造用固体原料を窒素ガス雰囲気中で加熱
処理することを特徴とする窒化珪素ウイスカーの製造方
法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10017756A JPH11199399A (ja) | 1998-01-13 | 1998-01-13 | 珪素系ウイスカー製造用固体原料、及び、それを用いた珪素系ウイスカーの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10017756A JPH11199399A (ja) | 1998-01-13 | 1998-01-13 | 珪素系ウイスカー製造用固体原料、及び、それを用いた珪素系ウイスカーの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11199399A true JPH11199399A (ja) | 1999-07-27 |
Family
ID=11952580
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10017756A Pending JPH11199399A (ja) | 1998-01-13 | 1998-01-13 | 珪素系ウイスカー製造用固体原料、及び、それを用いた珪素系ウイスカーの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11199399A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN117342859A (zh) * | 2023-10-07 | 2024-01-05 | 湖南工学院 | Si3N4/SiC复合粉体、低碳镁碳耐火材料及其制备方法 |
-
1998
- 1998-01-13 JP JP10017756A patent/JPH11199399A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN117342859A (zh) * | 2023-10-07 | 2024-01-05 | 湖南工学院 | Si3N4/SiC复合粉体、低碳镁碳耐火材料及其制备方法 |
| CN117342859B (zh) * | 2023-10-07 | 2025-12-05 | 湖南工学院 | Si3N4/SiC复合粉体、低碳镁碳耐火材料及其制备方法 |
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