JPH11200020A - 真空蒸着装置 - Google Patents
真空蒸着装置Info
- Publication number
- JPH11200020A JPH11200020A JP1790898A JP1790898A JPH11200020A JP H11200020 A JPH11200020 A JP H11200020A JP 1790898 A JP1790898 A JP 1790898A JP 1790898 A JP1790898 A JP 1790898A JP H11200020 A JPH11200020 A JP H11200020A
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- JP
- Japan
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- electron gun
- vacuum
- vapor deposition
- cathode
- degassing
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- Pending
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 電子銃内の部品を交換した際に、大気にさら
されることで初期異常放電の発生回数が増大しても、そ
れを早期に減少させる装置を提供する。 【解決手段】 真空容器内において、電子銃により発生
した電子ビームにより、るつぼ内の蒸着材料を蒸発し
て、これを被蒸着材料に蒸着させる真空蒸着装置におい
て、電子銃内部に脱ガス機構を有する電子銃を用いた真
空蒸着装置。
されることで初期異常放電の発生回数が増大しても、そ
れを早期に減少させる装置を提供する。 【解決手段】 真空容器内において、電子銃により発生
した電子ビームにより、るつぼ内の蒸着材料を蒸発し
て、これを被蒸着材料に蒸着させる真空蒸着装置におい
て、電子銃内部に脱ガス機構を有する電子銃を用いた真
空蒸着装置。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、真空蒸着装置に関
しより詳しくは、蒸着装置に用いられる電子銃に関す
る。
しより詳しくは、蒸着装置に用いられる電子銃に関す
る。
【0002】
【従来の技術】金属薄膜を成膜するために、真空蒸着装
置が実用化されている。とくに、金属薄膜型磁気記録媒
体（いわゆる蒸着テープ）を製造するために、斜め蒸着
式の真空蒸着装置が用いられており、生産に活用されて
いる。最近の記録密度の進歩にともない蒸着テープの需
要が増大してきているが、真空中で行うというバッチ式
生産のため生産性向上が急務となっている。
置が実用化されている。とくに、金属薄膜型磁気記録媒
体（いわゆる蒸着テープ）を製造するために、斜め蒸着
式の真空蒸着装置が用いられており、生産に活用されて
いる。最近の記録密度の進歩にともない蒸着テープの需
要が増大してきているが、真空中で行うというバッチ式
生産のため生産性向上が急務となっている。
【0003】とくに、蒸着装置の保守のために、電子銃内の
カソード、フィラメント交換時に大気中にさらすことに
より、カソードやフィラメント表面に付着する水分等の
影響で、交換時より数時間電子ビームの照射が安定しな
かった。このような状況のもと、安定な蒸着操作を行う
上で、またフィラメント等に電流を流すことで加熱し脱
ガスを行う方法も知られているが、いまだ不十分であ
り、安定な電子ビームを得られるまでの時間を短縮する
ことが困難で、生産性の向上が図れないでいた。とく
に、特開平４−２７４１４８号公報では、カソードをカ
ソードカバーで覆い、輻射熱で加熱する加熱ヒーターの
長寿命化を提案している。しかし、この加熱方法では脱
ガス効果としては不十分で、交換初期に集中して発生す
る放電を減少させることができなかった。このため、今
まではカソードおよびガン内部の脱ガスのために実際に
電子ビームを照射して４〜５時間以上の予備運転を行っ
ていた。その間に成膜した製品は膜厚安定性、磁気特性
均一性が通常のものと比較して劣り、製品としては使用
できないため生産歩留まりを落とす要因となっていた。
カソード、フィラメント交換時に大気中にさらすことに
より、カソードやフィラメント表面に付着する水分等の
影響で、交換時より数時間電子ビームの照射が安定しな
かった。このような状況のもと、安定な蒸着操作を行う
上で、またフィラメント等に電流を流すことで加熱し脱
ガスを行う方法も知られているが、いまだ不十分であ
り、安定な電子ビームを得られるまでの時間を短縮する
ことが困難で、生産性の向上が図れないでいた。とく
に、特開平４−２７４１４８号公報では、カソードをカ
ソードカバーで覆い、輻射熱で加熱する加熱ヒーターの
長寿命化を提案している。しかし、この加熱方法では脱
ガス効果としては不十分で、交換初期に集中して発生す
る放電を減少させることができなかった。このため、今
まではカソードおよびガン内部の脱ガスのために実際に
電子ビームを照射して４〜５時間以上の予備運転を行っ
ていた。その間に成膜した製品は膜厚安定性、磁気特性
均一性が通常のものと比較して劣り、製品としては使用
できないため生産歩留まりを落とす要因となっていた。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、電子
銃内の部品を交換した際に、大気にさらされることで初
期異常放電の発生回数が増大しても、それを早期に減少
させる装置を提供することにある。
銃内の部品を交換した際に、大気にさらされることで初
期異常放電の発生回数が増大しても、それを早期に減少
させる装置を提供することにある。
【0005】
【発明を解決するための手段】このような目的は、以下
の本発明によって達成可能となる。すなわち本発明は、
真空容器内において、電子銃により発生した電子ビーム
により、るつぼ内の蒸着材料を蒸発して、これを被蒸着
材料に蒸着させる真空蒸着装置において、電子銃内部に
脱ガス機構を有する電子銃を用いた真空蒸着装置にあ
る。
の本発明によって達成可能となる。すなわち本発明は、
真空容器内において、電子銃により発生した電子ビーム
により、るつぼ内の蒸着材料を蒸発して、これを被蒸着
材料に蒸着させる真空蒸着装置において、電子銃内部に
脱ガス機構を有する電子銃を用いた真空蒸着装置にあ
る。
【0006】
【発明の実施の形態】以下、本発明の具体的構成につい
て、図１の真空蒸着装置を例に用いて詳細に説明する。
て、図１の真空蒸着装置を例に用いて詳細に説明する。
【0007】図１に示される斜め蒸着装置１０１では、真空
槽１１０中において、排気口１０８を経て真空ポンプ
（図示せず）に接続されて真空状態に保たれ、この真空
槽内で長尺フィルム状の非磁性基体１０２を供給ロール
１０３から繰り出し、回転する冷却ドラム１０４の表面
に添わせて搬送しながら、遮蔽板（マスク）１９１を用
いて蒸着角度を決定し、定置されたるつぼ１０５中の強
磁性金属１５０表面に電子銃１０６からの電子ビーム１
０６Ｂを照射して斜め蒸着を行なうことにより、前記非
磁性基体１０２上に強磁性金属薄膜を形成する。また、
金属が溶けるまでの間はシャッター１９３によって非磁
性基体への金属の付着を防止する。このような金属の蒸
着に際して、ガス供給装置１９４から蒸着金属にガスが
幅方向に均一となるように供給される。このようにして
強磁性金属薄膜が形成された非磁性基体１０２は、巻き
取りロール１０７に巻き取られる。
槽１１０中において、排気口１０８を経て真空ポンプ
（図示せず）に接続されて真空状態に保たれ、この真空
槽内で長尺フィルム状の非磁性基体１０２を供給ロール
１０３から繰り出し、回転する冷却ドラム１０４の表面
に添わせて搬送しながら、遮蔽板（マスク）１９１を用
いて蒸着角度を決定し、定置されたるつぼ１０５中の強
磁性金属１５０表面に電子銃１０６からの電子ビーム１
０６Ｂを照射して斜め蒸着を行なうことにより、前記非
磁性基体１０２上に強磁性金属薄膜を形成する。また、
金属が溶けるまでの間はシャッター１９３によって非磁
性基体への金属の付着を防止する。このような金属の蒸
着に際して、ガス供給装置１９４から蒸着金属にガスが
幅方向に均一となるように供給される。このようにして
強磁性金属薄膜が形成された非磁性基体１０２は、巻き
取りロール１０７に巻き取られる。
【0008】電子銃内の脱ガス用のヒーターは、図２、図３
に示すように、カソード及びフィラメント等を加熱する
ことのできるものであればどのようなものでも良い。こ
のようなヒーターは、図４のように、電子銃設計上の悪
影響を防止する意味で、可能な限り電子銃ユニットの外
部に設けることが望ましい。ヒーターの機構について
は、とくに指定は無く、バンドヒーターや金属ヒーター
線などをユニット内外部に巻き付けたりして、カソード
及びフィラメント等を十分に加熱出来る機構をもつもの
であれば良い。
に示すように、カソード及びフィラメント等を加熱する
ことのできるものであればどのようなものでも良い。こ
のようなヒーターは、図４のように、電子銃設計上の悪
影響を防止する意味で、可能な限り電子銃ユニットの外
部に設けることが望ましい。ヒーターの機構について
は、とくに指定は無く、バンドヒーターや金属ヒーター
線などをユニット内外部に巻き付けたりして、カソード
及びフィラメント等を十分に加熱出来る機構をもつもの
であれば良い。
【実施例】以下、本発明の具体的実施例を示し、本発明
をさらに詳細に説明する。
をさらに詳細に説明する。
【0009】図１に示される構成の斜め蒸着装置を用いて、
厚さ７μｍのポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フ
ィルムからなる非磁性基体１０２上に、強磁性金属薄膜
を形成した。平均の最小入射角θｍｉｎ．を５０度、る
つぼの湯面とドラム１０４の蒸着面の平均距離を約３０
０ｍｍ、蒸着部の幅を５００ｍｍとした。
厚さ７μｍのポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フ
ィルムからなる非磁性基体１０２上に、強磁性金属薄膜
を形成した。平均の最小入射角θｍｉｎ．を５０度、る
つぼの湯面とドラム１０４の蒸着面の平均距離を約３０
０ｍｍ、蒸着部の幅を５００ｍｍとした。
【0010】（実施例、比較例）表１に示すように、電子銃
に対して脱ガス用のヒーターを取り付けた後、真空槽内
を排気し、槽内の圧力を１０-5Ｔｏｒｒに保ち、加熱装
置により、カソード及びフィラメント近傍を加熱して脱
ガスを行い、電子銃の操作を行った。ガン内部の脱ガス
が完了した指標として、フィラメント交換等を行った初
期に集中的に発生する放電が終了するまでの時間を計測
した。 脱ガス用ヒーターの効果 特開平４−２７４１４８号公報では、カソードをカソー
ドカバーで覆い、輻射熱で加熱する加熱ヒーターの長寿
命化を提案している。しかしこの加熱方法では脱ガス効
果としては不十分で、交換初期に集中して発生する放電
を減少させることができなかった。
に対して脱ガス用のヒーターを取り付けた後、真空槽内
を排気し、槽内の圧力を１０-5Ｔｏｒｒに保ち、加熱装
置により、カソード及びフィラメント近傍を加熱して脱
ガスを行い、電子銃の操作を行った。ガン内部の脱ガス
が完了した指標として、フィラメント交換等を行った初
期に集中的に発生する放電が終了するまでの時間を計測
した。 脱ガス用ヒーターの効果 特開平４−２７４１４８号公報では、カソードをカソー
ドカバーで覆い、輻射熱で加熱する加熱ヒーターの長寿
命化を提案している。しかしこの加熱方法では脱ガス効
果としては不十分で、交換初期に集中して発生する放電
を減少させることができなかった。
【0011】このため今まではカソードおよびガン内部の脱
ガスのために実際に電子ビームを照射して４〜５時間以
上の予備運転を行っていた。その間に成膜した製品は膜
厚安定性、磁気特性均一性が通常のものと比較して劣
り、製品としては使用できないため生産歩留まりを落と
す要因となっていた。
ガスのために実際に電子ビームを照射して４〜５時間以
上の予備運転を行っていた。その間に成膜した製品は膜
厚安定性、磁気特性均一性が通常のものと比較して劣
り、製品としては使用できないため生産歩留まりを落と
す要因となっていた。
【0012】それに対し、本発明の脱ガス専用ヒーターを内
蔵した電子銃では、カソードとフィラメント交換後に真
空中で確実に脱ガスが可能となり、電子ビームの照射無
しに安定状態に移行できるため、生産効率が大幅に向上
した。
蔵した電子銃では、カソードとフィラメント交換後に真
空中で確実に脱ガスが可能となり、電子ビームの照射無
しに安定状態に移行できるため、生産効率が大幅に向上
した。
【0013】
【発明の効果】効率的にカソードとフィラメントおよび
ガン内部の脱ガスを行い、電子ビームの安定照射可能な
までの時間が短縮可能になった。
ガン内部の脱ガスを行い、電子ビームの安定照射可能な
までの時間が短縮可能になった。
【図1】蒸着装置を説明するための模式図である。
【図2】本発明の内蔵脱ガス機構の模式図である。
【図3】本発明の内蔵脱ガス機構の別の模式図である。
【図4】本発明の外部脱ガス機構の模式図である。
１０１ 斜め蒸着装置（真空槽） １０２ 非磁性基体 １０３ 供給ロール １０４ 冷却ドラム １０５ るつぼ １５０ 溶湯 １０６ 電子銃 １０６Ｂ 電子ビーム １０７ 巻き取りロール １０８ 排気口 １１０ 真空槽 １９１ 遮蔽板（マスク） １９３ シャッター １９４ ガス導入口
Claims (1)
- 【請求項1】真空容器内において、電子銃により発生し
た電子ビームにより、るつぼ内の蒸着材料を蒸発して、
これを被蒸着材料に蒸着させる真空蒸着装置において、
電子銃内部に脱ガス機構を有する電子銃を用いたことを
特徴とする真空蒸着装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1790898A JPH11200020A (ja) | 1998-01-13 | 1998-01-13 | 真空蒸着装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1790898A JPH11200020A (ja) | 1998-01-13 | 1998-01-13 | 真空蒸着装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11200020A true JPH11200020A (ja) | 1999-07-27 |
| JPH11200020A5 JPH11200020A5 (ja) | 2005-08-18 |
Family
ID=11956860
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1790898A Pending JPH11200020A (ja) | 1998-01-13 | 1998-01-13 | 真空蒸着装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11200020A (ja) |
-
1998
- 1998-01-13 JP JP1790898A patent/JPH11200020A/ja active Pending
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20041217 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20041217 |
|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20041217 |
|
| RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 Effective date: 20041217 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20050204 |
|
| RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Effective date: 20050225 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Effective date: 20070724 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20070726 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20071115 |