JPH11202473A - マスク準備装置 - Google Patents
マスク準備装置Info
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- JPH11202473A JPH11202473A JP1827698A JP1827698A JPH11202473A JP H11202473 A JPH11202473 A JP H11202473A JP 1827698 A JP1827698 A JP 1827698A JP 1827698 A JP1827698 A JP 1827698A JP H11202473 A JPH11202473 A JP H11202473A
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- mask
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- mounting table
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- preparation apparatus
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 ＰＤＰ用の背面板、前面板の作製における、
フォトリソ工程に用いられる露光用のマスクの準備を、
品質的にも十分対応でき、且つ、効率的にできる、マス
ク準備装置を提供する。 【解決手段】 マスク面を鉛直方向にしてマスクを保管
するマスク保管庫と、マスク面が鉛直方向の状態から、
マスク面が鉛直方向と所定の角θ１をなす傾斜した状態
へと相互にマスク保持姿勢を変えることができ、且つマ
スク面を鉛直な状態で、あるいはマスク面を傾斜させた
状態でマスクの取り入れ、取り出しができる、マスクを
搬送するためのマスク搬送台車と、マスク面を該所定の
角度θ１に傾斜させた状態でマスクを搬送でき、マスク
面を該所定の角度θ１に傾斜させた状態で、マスク幅を
跨ぎ、該マスク面に沿うように設けた粘着ロールによ
り、マスク面の洗浄を行うマスク洗浄部と、マスク面を
該所定の角度θ１に傾斜させた状態でマスクを搬送で
き、マスク面を該所定の角度θ１に傾斜させた状態でマ
スクの凹欠陥、凸欠陥等の形状欠陥の検査修正を行うマ
スク検査修正部とを備えている。
フォトリソ工程に用いられる露光用のマスクの準備を、
品質的にも十分対応でき、且つ、効率的にできる、マス
ク準備装置を提供する。 【解決手段】 マスク面を鉛直方向にしてマスクを保管
するマスク保管庫と、マスク面が鉛直方向の状態から、
マスク面が鉛直方向と所定の角θ１をなす傾斜した状態
へと相互にマスク保持姿勢を変えることができ、且つマ
スク面を鉛直な状態で、あるいはマスク面を傾斜させた
状態でマスクの取り入れ、取り出しができる、マスクを
搬送するためのマスク搬送台車と、マスク面を該所定の
角度θ１に傾斜させた状態でマスクを搬送でき、マスク
面を該所定の角度θ１に傾斜させた状態で、マスク幅を
跨ぎ、該マスク面に沿うように設けた粘着ロールによ
り、マスク面の洗浄を行うマスク洗浄部と、マスク面を
該所定の角度θ１に傾斜させた状態でマスクを搬送で
き、マスク面を該所定の角度θ１に傾斜させた状態でマ
スクの凹欠陥、凸欠陥等の形状欠陥の検査修正を行うマ
スク検査修正部とを備えている。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、パターニング露光
に用いられる大型のマスクの準備装置に関するもので、
特にプラズマディスプレイパネル用の基板のパターニン
グを行うために用いられる大型のマスクの準備装置に関
する。
に用いられる大型のマスクの準備装置に関するもので、
特にプラズマディスプレイパネル用の基板のパターニン
グを行うために用いられる大型のマスクの準備装置に関
する。
【０００２】
【従来の技術】近年、プラズマディスプレイパネル（以
下ＰＤＰとも記す）は、その奥行きの薄いこと、軽量で
あること、更に鮮明な表示と液晶パネルに比べ視野角が
広いことにより、種々の表示装置に利用されつつある。
例えば、ＡＣ型のＰＤＰは、例えば、図７に示すような
構造をしており、２枚の対向するガラス基板７１０、７
２０にそれぞれ規則的に配列した一対の、バス電極であ
る金属電極７５０と透明電極７４０からなる複合電極と
アドレス７８０を設け、その間にネオン、キセノン等を
主体とするガスを封入した構造となっている。そして、
これらの電極間に電圧を印加し、電極周辺の微小なセル
内で放電を発生させることにより、各セルを発光させて
表示を行うようにしている。尚、図７はＰＤＰ構成斜視
図であるが、分かり易くするため前面板（ガラス基板７
１０）、背面板（ガラス基板７２０）とを実際より離し
て示してある。また、ＤＣ型ＰＤＰにあっては、電極は
誘電体層で被膜されていない構造を有する点でＡＣ型と
相違するが、その放電効果は同じである。また、図７に
示すものは、ガラス基板７２０の一面に下地層７６７を
設けその上に誘電体層７６５を設けた構造となっている
が、下地層７６７、誘電体層７６５は必ずしも必要とし
ない。
下ＰＤＰとも記す）は、その奥行きの薄いこと、軽量で
あること、更に鮮明な表示と液晶パネルに比べ視野角が
広いことにより、種々の表示装置に利用されつつある。
例えば、ＡＣ型のＰＤＰは、例えば、図７に示すような
構造をしており、２枚の対向するガラス基板７１０、７
２０にそれぞれ規則的に配列した一対の、バス電極であ
る金属電極７５０と透明電極７４０からなる複合電極と
アドレス７８０を設け、その間にネオン、キセノン等を
主体とするガスを封入した構造となっている。そして、
これらの電極間に電圧を印加し、電極周辺の微小なセル
内で放電を発生させることにより、各セルを発光させて
表示を行うようにしている。尚、図７はＰＤＰ構成斜視
図であるが、分かり易くするため前面板（ガラス基板７
１０）、背面板（ガラス基板７２０）とを実際より離し
て示してある。また、ＤＣ型ＰＤＰにあっては、電極は
誘電体層で被膜されていない構造を有する点でＡＣ型と
相違するが、その放電効果は同じである。また、図７に
示すものは、ガラス基板７２０の一面に下地層７６７を
設けその上に誘電体層７６５を設けた構造となっている
が、下地層７６７、誘電体層７６５は必ずしも必要とし
ない。
【０００３】そして、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）
は、ＡＣ型の場合、例えば、図６に示すようにして、背
面板、前面板をそれぞれ別個の工程で作製し、両者を用
いてＰＤＰをアセンブリして作製していた。以下、ＰＤ
Ｐ用の背面板、前面板の作製工程を簡単に説明する。先
ず、背面板の作製工程を説明する。はじめに、ガラス基
板を用意し（Ｓ６１１）、ガラス基板に厚膜印刷法によ
り陰極用（電極配線用）ペーストを所定パターンで印刷
し、これを乾燥、焼成し、電極配線を形成する。（Ｓ６
１２） 次いで、このガラス基板の電極配線形成側上に障壁（バ
リアリブとも言う）を、印刷法ないしサンドブラスト法
により形成する。（Ｓ６１３） 印刷法の場合、ガラス基板に厚膜印刷法により障壁（バ
リアリブ）形成用ペーストを所定のパターンに印刷し、
これを乾燥する。障壁の層厚は厚く（例えば１６０〜２
００μｍの厚さ）１回の厚膜印刷ではこの膜厚が得られ
ないため、障壁形成用ペーストの印刷および乾燥は複数
回行う。所定の膜厚が得られた後、ペーストの焼成がな
される。サンドブラスト法の場合は、障壁形成材料をガ
ラス基板上に塗布し、更にこの上に所定のレジストパタ
ーンを形成した後、研磨砂を吹きかけレジストパターン
に対応した形状に障壁形成材料を加工して、これを焼成
して障壁を形成する。更に、障壁が形成された基板に厚
膜印刷法により蛍光体用ペースト（例えば、酸化インジ
ウム含有の螢光体用ペースト）を所定パターンに印刷
し、次いでその乾燥及び焼成を行い（Ｓ６１４）、背面
板を形成する。（Ｓ６１５）
は、ＡＣ型の場合、例えば、図６に示すようにして、背
面板、前面板をそれぞれ別個の工程で作製し、両者を用
いてＰＤＰをアセンブリして作製していた。以下、ＰＤ
Ｐ用の背面板、前面板の作製工程を簡単に説明する。先
ず、背面板の作製工程を説明する。はじめに、ガラス基
板を用意し（Ｓ６１１）、ガラス基板に厚膜印刷法によ
り陰極用（電極配線用）ペーストを所定パターンで印刷
し、これを乾燥、焼成し、電極配線を形成する。（Ｓ６
１２） 次いで、このガラス基板の電極配線形成側上に障壁（バ
リアリブとも言う）を、印刷法ないしサンドブラスト法
により形成する。（Ｓ６１３） 印刷法の場合、ガラス基板に厚膜印刷法により障壁（バ
リアリブ）形成用ペーストを所定のパターンに印刷し、
これを乾燥する。障壁の層厚は厚く（例えば１６０〜２
００μｍの厚さ）１回の厚膜印刷ではこの膜厚が得られ
ないため、障壁形成用ペーストの印刷および乾燥は複数
回行う。所定の膜厚が得られた後、ペーストの焼成がな
される。サンドブラスト法の場合は、障壁形成材料をガ
ラス基板上に塗布し、更にこの上に所定のレジストパタ
ーンを形成した後、研磨砂を吹きかけレジストパターン
に対応した形状に障壁形成材料を加工して、これを焼成
して障壁を形成する。更に、障壁が形成された基板に厚
膜印刷法により蛍光体用ペースト（例えば、酸化インジ
ウム含有の螢光体用ペースト）を所定パターンに印刷
し、次いでその乾燥及び焼成を行い（Ｓ６１４）、背面
板を形成する。（Ｓ６１５）
【０００４】次に、前面板の作製工程を説明する。先
ず、ガラス基板を用意し（Ｓ６２１）、ガラス基板に例
えばＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ）の蒸
着層をパターニングする。（Ｓ６２１） パターニングは通常のフォトリソ工程（リゾグラフィー
技術）により行う。次いで、Ｃｒ−Ｃｕ−Ｃｒ（クロ
ム、銅、クロム）の３層を蒸着やスパッタリングにより
成膜し（Ｓ６２２）、同様にフォトリソ工程（リゾグラ
フィー技術）によりパターニングして、あるいは電極配
線用ペーストを所定パターンで印刷して、パターニング
されたＩＴＯ膜とともに、放電用の電極配線を形成す
る。（Ｓ６２３） 次いで、ペースト状にした低融点ガラスのベタ印刷によ
り、透明誘電体層を形成して（Ｓ６２４）、前面板が得
られる。（Ｓ６２５）
ず、ガラス基板を用意し（Ｓ６２１）、ガラス基板に例
えばＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ）の蒸
着層をパターニングする。（Ｓ６２１） パターニングは通常のフォトリソ工程（リゾグラフィー
技術）により行う。次いで、Ｃｒ−Ｃｕ−Ｃｒ（クロ
ム、銅、クロム）の３層を蒸着やスパッタリングにより
成膜し（Ｓ６２２）、同様にフォトリソ工程（リゾグラ
フィー技術）によりパターニングして、あるいは電極配
線用ペーストを所定パターンで印刷して、パターニング
されたＩＴＯ膜とともに、放電用の電極配線を形成す
る。（Ｓ６２３） 次いで、ペースト状にした低融点ガラスのベタ印刷によ
り、透明誘電体層を形成して（Ｓ６２４）、前面板が得
られる。（Ｓ６２５）
【０００５】このように、ＰＤＰ用の背面板、前面板の
作製においては、フォトリソ工程（リソグラフィ技術を
伴う工程）が多くあり、これらの工程においては、基板
保持台に基板を保持し、マスクと密着させずに、マスク
と基板間に隙間をもたせ、マスクを介して平行な露光光
を基板に照射することにより、基板へのパターン露光を
行うプロキシミティー露光装置を用いて、基板のパター
ニングを行う場合が多かった。尚、この場合、露光は、
基板、マスクに自重によるたわみができるだけ発生しな
いように、基板、マスクとも面を略鉛直方向に立てた状
態で行われていた。しかし、ＰＤＰ用の基板は、対角で
１ｍを超えるような大型のものが多く、これを露光する
マスク（基板）も対角で１ｍを超えるような大型となる
ため、マスクの洗浄、検査、修正の処理における扱いが
難しく、露光に適用できるマスクの準備をうまく行うこ
とができなかった。処理毎に、マスク洗浄部、あるいは
検査修正部に、台車にてマスクを運び、人手や簡単な道
具による洗浄処理、人手による検査修正を処理を行って
いた。場合によっては、マスクを１枚づつ人手により、
マスク洗浄部や検査修正部に運び各作業を行っていた。
作製においては、フォトリソ工程（リソグラフィ技術を
伴う工程）が多くあり、これらの工程においては、基板
保持台に基板を保持し、マスクと密着させずに、マスク
と基板間に隙間をもたせ、マスクを介して平行な露光光
を基板に照射することにより、基板へのパターン露光を
行うプロキシミティー露光装置を用いて、基板のパター
ニングを行う場合が多かった。尚、この場合、露光は、
基板、マスクに自重によるたわみができるだけ発生しな
いように、基板、マスクとも面を略鉛直方向に立てた状
態で行われていた。しかし、ＰＤＰ用の基板は、対角で
１ｍを超えるような大型のものが多く、これを露光する
マスク（基板）も対角で１ｍを超えるような大型となる
ため、マスクの洗浄、検査、修正の処理における扱いが
難しく、露光に適用できるマスクの準備をうまく行うこ
とができなかった。処理毎に、マスク洗浄部、あるいは
検査修正部に、台車にてマスクを運び、人手や簡単な道
具による洗浄処理、人手による検査修正を処理を行って
いた。場合によっては、マスクを１枚づつ人手により、
マスク洗浄部や検査修正部に運び各作業を行っていた。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】上記のように、ＰＤＰ
用の背面板、前面板の作製においては、フォトリソ工程
（リソグラフィ技術を伴う工程）が多くあり、これに用
いられる大型のマスクの準備を、品質的にも十分対応で
き、且つ、効率的にできるマスクの準備方法が求められ
ていた。本発明は、ＰＤＰの大型化、量産化がますます
求められる中、ＰＤＰ用の背面板、前面板の作製におけ
る、フォトリソ工程に用いられる露光用のマスクの準備
を、品質的にも十分対応でき、且つ、効率的にできるマ
スク準備装置を提供しようとするものである。
用の背面板、前面板の作製においては、フォトリソ工程
（リソグラフィ技術を伴う工程）が多くあり、これに用
いられる大型のマスクの準備を、品質的にも十分対応で
き、且つ、効率的にできるマスクの準備方法が求められ
ていた。本発明は、ＰＤＰの大型化、量産化がますます
求められる中、ＰＤＰ用の背面板、前面板の作製におけ
る、フォトリソ工程に用いられる露光用のマスクの準備
を、品質的にも十分対応でき、且つ、効率的にできるマ
スク準備装置を提供しようとするものである。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明のマスク準備装置
は、大型のエマルジョンマスクからなる露光用マスクの
準備装置であって、マスク面を鉛直方向にしてマスクを
保管するマスク保管庫と、マスク面が鉛直方向の状態か
ら、マスク面が鉛直方向と所定の角θ１をなす傾斜した
状態へと相互にマスク保持姿勢を変えることができ、且
つマスク面を鉛直な状態で、あるいはマスク面を傾斜さ
せた状態でマスクの取り入れ、取り出しができる、マス
クを搬送するためのマスク搬送台車と、マスク面を該所
定の角度θ１に傾斜させた状態でマスクを搬送でき、マ
スク面を該所定の角度θ１に傾斜させた状態で、マスク
幅を跨ぎ、該マスク面に沿うように設けた粘着ロールに
より、マスク面の洗浄を行うマスク洗浄部と、マスク面
を該所定の角度θ１に傾斜させた状態でマスクを搬送で
き、マスク面を該所定の角度θ１に傾斜させた状態でマ
スクの凹欠陥、凸欠陥等の形状欠陥の検査修正を行うマ
スク検査修正部とを備え、マスク搬送台車とマスク洗浄
部、およびマスク洗浄部とマスク検査修正部とは、マス
ク面を所定の角度θ１に傾斜させた状態で、それぞれ、
両者間でマスクの受け渡しができるものであることを特
徴とするものである。そして、上記において、所定の角
度θ１が９０°〜７５°の範囲であることを特徴とする
ものである。そしてまた、上記において、マスク搬送台
車におけるマスクの移動は、マスクの端部を挾み、回転
するガイドロールにより行われるものであることを特徴
とするものである。また、上記において、マスク洗浄部
は、粘着ロールの位置は固定し、マスクを自動で動かし
てマスク面を洗浄するものであることを特徴とするもの
である。また、上記において、マスクの搬送は回転ロー
ルにより搬送されるものであることを特徴とするもので
ある。また、上記において、マスク洗浄部は、粘着ロー
ルを自動で動かしてマスク面を洗浄するものであること
を特徴とするものである。また、上記における粘着ロー
ルは、表面部が、天然ゴム、ウレタンゴム、シリコーン
の１つない複数により成ることを特徴とするものであ
る。
は、大型のエマルジョンマスクからなる露光用マスクの
準備装置であって、マスク面を鉛直方向にしてマスクを
保管するマスク保管庫と、マスク面が鉛直方向の状態か
ら、マスク面が鉛直方向と所定の角θ１をなす傾斜した
状態へと相互にマスク保持姿勢を変えることができ、且
つマスク面を鉛直な状態で、あるいはマスク面を傾斜さ
せた状態でマスクの取り入れ、取り出しができる、マス
クを搬送するためのマスク搬送台車と、マスク面を該所
定の角度θ１に傾斜させた状態でマスクを搬送でき、マ
スク面を該所定の角度θ１に傾斜させた状態で、マスク
幅を跨ぎ、該マスク面に沿うように設けた粘着ロールに
より、マスク面の洗浄を行うマスク洗浄部と、マスク面
を該所定の角度θ１に傾斜させた状態でマスクを搬送で
き、マスク面を該所定の角度θ１に傾斜させた状態でマ
スクの凹欠陥、凸欠陥等の形状欠陥の検査修正を行うマ
スク検査修正部とを備え、マスク搬送台車とマスク洗浄
部、およびマスク洗浄部とマスク検査修正部とは、マス
ク面を所定の角度θ１に傾斜させた状態で、それぞれ、
両者間でマスクの受け渡しができるものであることを特
徴とするものである。そして、上記において、所定の角
度θ１が９０°〜７５°の範囲であることを特徴とする
ものである。そしてまた、上記において、マスク搬送台
車におけるマスクの移動は、マスクの端部を挾み、回転
するガイドロールにより行われるものであることを特徴
とするものである。また、上記において、マスク洗浄部
は、粘着ロールの位置は固定し、マスクを自動で動かし
てマスク面を洗浄するものであることを特徴とするもの
である。また、上記において、マスクの搬送は回転ロー
ルにより搬送されるものであることを特徴とするもので
ある。また、上記において、マスク洗浄部は、粘着ロー
ルを自動で動かしてマスク面を洗浄するものであること
を特徴とするものである。また、上記における粘着ロー
ルは、表面部が、天然ゴム、ウレタンゴム、シリコーン
の１つない複数により成ることを特徴とするものであ
る。
【０００８】また、上記において、検査修正部は、マス
クの修正面側でない裏面全体に拡散光からなる検査光を
照射し、且つ、マスクの一辺を下側に水平方向に沿わ
せ、マスク面を斜めないし垂直にした状態でマスクを載
せて置くマスク載置台と、マスクの修正面側を観察する
ために、マスク載置台上に保持されて、マスクのマスク
面に沿う水平方向であるＸ方向と、Ｘ方向に直交してマ
スク面に沿うＹ方向に移動可能な顕微鏡と、マスク載置
台を保持して且つマスク載置台の高さを変える載置台制
御部とを備えたもので、前記マスク載置台は、マスクの
下側の一辺を水平方向に沿わせてマスクを移動させる水
平移動部を設けたものであることを特徴とするものであ
り、該水平移動部は、マスクの一辺を下側にし、該辺を
水平方向に沿う複数個のコロ（回転するガイドロール
等）ないしロール上に載せて移動させるものであること
を特徴とするものである。また、上記において、顕微鏡
をＸ、Ｙ移動させるＸ、Ｙ移動軸をマスク載置台上に設
けていることを特徴とするものである。また、上記にお
いて、マスク載置台は、マスクの修正面側でない裏面全
体に拡散板を介して検査光を照射するものであることを
特徴とするものである。また、上記において、顕微鏡と
一体でＸ、Ｙ移動する、腕おき台を備えていることを特
徴とするものである。また、上記において、顕微鏡の
Ｘ、Ｙ位置を数値表示するカウンターを備えていること
を特徴とするものである。また、上記において、マスク
の顕微鏡像を観察するモニターを備えていることを特徴
とするものである。
クの修正面側でない裏面全体に拡散光からなる検査光を
照射し、且つ、マスクの一辺を下側に水平方向に沿わ
せ、マスク面を斜めないし垂直にした状態でマスクを載
せて置くマスク載置台と、マスクの修正面側を観察する
ために、マスク載置台上に保持されて、マスクのマスク
面に沿う水平方向であるＸ方向と、Ｘ方向に直交してマ
スク面に沿うＹ方向に移動可能な顕微鏡と、マスク載置
台を保持して且つマスク載置台の高さを変える載置台制
御部とを備えたもので、前記マスク載置台は、マスクの
下側の一辺を水平方向に沿わせてマスクを移動させる水
平移動部を設けたものであることを特徴とするものであ
り、該水平移動部は、マスクの一辺を下側にし、該辺を
水平方向に沿う複数個のコロ（回転するガイドロール
等）ないしロール上に載せて移動させるものであること
を特徴とするものである。また、上記において、顕微鏡
をＸ、Ｙ移動させるＸ、Ｙ移動軸をマスク載置台上に設
けていることを特徴とするものである。また、上記にお
いて、マスク載置台は、マスクの修正面側でない裏面全
体に拡散板を介して検査光を照射するものであることを
特徴とするものである。また、上記において、顕微鏡と
一体でＸ、Ｙ移動する、腕おき台を備えていることを特
徴とするものである。また、上記において、顕微鏡の
Ｘ、Ｙ位置を数値表示するカウンターを備えていること
を特徴とするものである。また、上記において、マスク
の顕微鏡像を観察するモニターを備えていることを特徴
とするものである。
【０００９】尚、ここでは、マスクの正規のパターン形
状よりも凹んだ形状のものを凹欠陥と言い、正規のパタ
ーン形状より出っ張った凸状の形状のものあるいは正規
のパタ−ン以外の余分の絵柄や汚れを凸欠陥と言う。通
常、これらの欠陥は透過光で検査された場合、欠陥部が
白ないし黒に見えるので白欠陥ないし黒欠陥とも言われ
る。
状よりも凹んだ形状のものを凹欠陥と言い、正規のパタ
ーン形状より出っ張った凸状の形状のものあるいは正規
のパタ−ン以外の余分の絵柄や汚れを凸欠陥と言う。通
常、これらの欠陥は透過光で検査された場合、欠陥部が
白ないし黒に見えるので白欠陥ないし黒欠陥とも言われ
る。
【００１０】
【作用】本発明のマスク準備装置は、このような構成に
することにより、ＰＤＰの大型化、量産化がますます求
められる中、ＰＤＰ用の背面板、前面板の作製におけ
る、フォトリソ工程に用いられる露光用のマスクの準備
を、品質的にも十分対応でき、且つ、効率的にできるマ
スク準備装置の提供を可能としている。具体的には、マ
スク面を鉛直方向にしてマスクを保管するマスク保管庫
と、マスク面が鉛直方向の状態から、マスク面が鉛直方
向と所定の角θ１をなす傾斜した状態へと相互にマスク
保持姿勢を変えることができ、且つマスク面を鉛直な状
態で、あるいはマスク面を傾斜させた状態でマスクの取
り入れ、取り出しができる、マスクを搬送するためのマ
スク搬送台車と、マスク面を該所定の角度θ１に傾斜さ
せた状態でマスクを搬送でき、マスク面を該所定の角度
θ１に傾斜させた状態で、マスク幅を跨ぎ、該マスク面
に沿うように設けた粘着ロールにより、マスク面の洗浄
を行うマスク洗浄部と、マスク面を該所定の角度θ１に
傾斜させた状態でマスクを搬送でき、マスク面を該所定
の角度θ１に傾斜させた状態でマスクの凹欠陥、凸欠陥
等の形状欠陥の検査修正を行うマスク検査修正部とを備
え、マスク搬送台車とマスク洗浄部、およびマスク洗浄
部とマスク検査修正部とは、マスク面を所定の角度θ１
に傾斜させた状態で、それぞれ、両者間でマスクの受け
渡しができるものであることにより、これを達成してい
る。即ち、マスク面が鉛直方向の状態から、マスク面が
鉛直方向と所定の角θ１をなす傾斜した状態へとマスク
保持姿勢を変えることができ、且つ、マスク面を傾斜さ
せた状態でマスクを移動させて、取り入れ、取り出しが
できる、マスク搬送台車を用いていることにより、マス
ク搬送台車をマスク洗浄部に移動し、マスク面をマスク
洗浄部のマスクを移動させる平面に合わせて、保管庫か
らマスク洗浄部へのマスクの移動を行うことができ、人
手による移動の場合におけるマスクの落下事故等を防止
できるものとしている。そして、マスク洗浄部とマスク
検査修正部とは、マスク面を該所定の角度θ１に傾斜さ
せた状態でマスクを搬送でき、且つ、ガラス移動面を略
同一平面上に設けて、両者間で直接マスクの受け渡しが
できるようにしていることにより、両者の間で、マスク
の落下事故の発生は無く、作業性の良いものとしてい
る。マスク搬送台車とマスク洗浄部、マスク洗浄部とマ
スク検査修正部とを連結させてて使用でき、あたかも一
つの搬送装置において、マスクを準備する構成となり、
装置全体の設置面積を小さくできる。
することにより、ＰＤＰの大型化、量産化がますます求
められる中、ＰＤＰ用の背面板、前面板の作製におけ
る、フォトリソ工程に用いられる露光用のマスクの準備
を、品質的にも十分対応でき、且つ、効率的にできるマ
スク準備装置の提供を可能としている。具体的には、マ
スク面を鉛直方向にしてマスクを保管するマスク保管庫
と、マスク面が鉛直方向の状態から、マスク面が鉛直方
向と所定の角θ１をなす傾斜した状態へと相互にマスク
保持姿勢を変えることができ、且つマスク面を鉛直な状
態で、あるいはマスク面を傾斜させた状態でマスクの取
り入れ、取り出しができる、マスクを搬送するためのマ
スク搬送台車と、マスク面を該所定の角度θ１に傾斜さ
せた状態でマスクを搬送でき、マスク面を該所定の角度
θ１に傾斜させた状態で、マスク幅を跨ぎ、該マスク面
に沿うように設けた粘着ロールにより、マスク面の洗浄
を行うマスク洗浄部と、マスク面を該所定の角度θ１に
傾斜させた状態でマスクを搬送でき、マスク面を該所定
の角度θ１に傾斜させた状態でマスクの凹欠陥、凸欠陥
等の形状欠陥の検査修正を行うマスク検査修正部とを備
え、マスク搬送台車とマスク洗浄部、およびマスク洗浄
部とマスク検査修正部とは、マスク面を所定の角度θ１
に傾斜させた状態で、それぞれ、両者間でマスクの受け
渡しができるものであることにより、これを達成してい
る。即ち、マスク面が鉛直方向の状態から、マスク面が
鉛直方向と所定の角θ１をなす傾斜した状態へとマスク
保持姿勢を変えることができ、且つ、マスク面を傾斜さ
せた状態でマスクを移動させて、取り入れ、取り出しが
できる、マスク搬送台車を用いていることにより、マス
ク搬送台車をマスク洗浄部に移動し、マスク面をマスク
洗浄部のマスクを移動させる平面に合わせて、保管庫か
らマスク洗浄部へのマスクの移動を行うことができ、人
手による移動の場合におけるマスクの落下事故等を防止
できるものとしている。そして、マスク洗浄部とマスク
検査修正部とは、マスク面を該所定の角度θ１に傾斜さ
せた状態でマスクを搬送でき、且つ、ガラス移動面を略
同一平面上に設けて、両者間で直接マスクの受け渡しが
できるようにしていることにより、両者の間で、マスク
の落下事故の発生は無く、作業性の良いものとしてい
る。マスク搬送台車とマスク洗浄部、マスク洗浄部とマ
スク検査修正部とを連結させてて使用でき、あたかも一
つの搬送装置において、マスクを準備する構成となり、
装置全体の設置面積を小さくできる。
【００１１】また、マスク洗浄部とマスク検査修正部に
おけるマスクの搬送面の傾き（該所定角θ１に相当）を
９０°〜７５°の範囲にしておくことにより、装置自体
からの発塵物のマスクへの付着を抑えることができ、且
つ、作業者の作業性の面で好まい。尚、通常、該所定の
角θ１が８０°である場合が、発塵物のマスクへの付着
の点から最も好ましいとされている。また、このよう
に、搬送面の傾き（所定角θ１に相当）を、鉛直方向に
近い角度にしておくことにより、マスクの自重によるた
わみの影響をうけることなく、洗浄、検査修正ができ
る。
おけるマスクの搬送面の傾き（該所定角θ１に相当）を
９０°〜７５°の範囲にしておくことにより、装置自体
からの発塵物のマスクへの付着を抑えることができ、且
つ、作業者の作業性の面で好まい。尚、通常、該所定の
角θ１が８０°である場合が、発塵物のマスクへの付着
の点から最も好ましいとされている。また、このよう
に、搬送面の傾き（所定角θ１に相当）を、鉛直方向に
近い角度にしておくことにより、マスクの自重によるた
わみの影響をうけることなく、洗浄、検査修正ができ
る。
【００１２】
【発明の実施の形態】本発明のマスク準備装置の実施の
形態の１例を挙げて説明する。図１は本発明のマスク準
備装置の実施の形態の１例の全体構成を示す概略図であ
り、図２（ａ）はマスク保管庫の断面図で、図２（ｂ）
は図２（ａ）のＡ１−Ａ２位置からみた保管庫の断面図
で、図３（ａ）はマスク搬送台車の概略図で、図３
（ｂ）は（図３（ａ）のＢ１からみた図で、図３（ｃ）
は（下側の）コロ部の状態を拡大して示した図で、図４
（ａ）はマスク洗浄部の概略図で、図４（ｂ）は図４
（ａ）Ｃ１−Ｃ２からみた断面図で、図４（ｃ）は図４
（ａ）のＣ３−Ｃ４における断面図で、図５（ａ）はマ
スク検査修正部の正面図で、図５（ｂ）は図５（ａ）の
Ｄ１−Ｄ２における断面図である。図１〜図５中、１０
０はマスク準備装置、１１０はマスク保管庫、１１５は
ローラ、１１６はガイド、１１７は扉、１１９はフィル
ター、１２０はマスク搬送台車、１２１は回転軸、１２
２は運搬用ハンドル、１２３は車輪、１２３Ａは台車ス
トッパー、１２４はマスク留め、１２５はガイドロー
ル、１２５Ａはガイドロール固定部、１２７は回転スト
ッパー、１２８は位置決めピン、１３０はマスク洗浄
部、１３１は洗浄部、１３１Ａは粘着ロール、１３１Ｂ
は回転ロール、１３３回転ロール、１３４は回転ロール
駆動部、１３５はコロ（ガイドロール）、１４０はマス
ク検査修正部、１４１は顕微鏡、１４１Ａは腕置き台、
１４２はＹ方向移動台、１４３はＹ方向レール、１４３
Ａは配線収納部、１４４はＸ方向レール、１４４Ａは配
線収納部、１４５はコロ（ガイドロール）、１４６はリ
フター、１４７はカウンター、１４８は検査光（バック
ライト）、１４９はマスク載置台、１８０はマスクであ
る。図１に示すマスク準備装置１００は、ＰＤＰ用の基
板をパターニングする際に用いられる露光用マスクを準
備するための装置で、対角１ｍを超える大型のエマルジ
ョンマスクからなる露光用マスクの準備装置で、マスク
の保管、マスク洗浄、マスク検査、修正を、ほぼ一体と
なった、効率的な一貫ラインにて行うことができる。そ
して、マスクを鉛直にして保管するマスク保管庫１１０
と、マスク面が鉛直方向の状態から、マスク面を鉛直方
向と所定の角θ１をなす傾斜した状態へと、そのマスク
保持姿勢を変えることができ、且つ、マスク面を傾斜さ
せた状態でマスクを移動させて、取り入れ、取り出しが
できる、マスク搬送台車１２０と、マスク面を所定の角
度θ１に傾斜させた状態でマスクを搬送でき、マスク面
を所定の角度θ１に傾斜させた状態で、マスク幅を跨
ぎ、該マスク面に沿うように設けた粘着ロール（図４
（ｃ）の１３１Ａ）により、マスク面の洗浄を行うマス
ク洗浄部１３０と、マスク面を所定の角度θ１に傾斜さ
せた状態でマスクを搬送でき、マスク面を所定の角度θ
１に傾斜させた状態でマスクの凹欠陥、凸欠陥等の形状
欠陥の検査修正を行うマスク検査修正部１４０とを備え
ている。マスク搬送台車１２０とマスク洗浄部１３０、
およびマスク洗浄部１３０とマスク検査修正部１４０と
は、マスク面を所定の角度θ１に傾斜させた状態で、そ
れぞれ、両者間でマスクの受け渡しができるものであ
る。
形態の１例を挙げて説明する。図１は本発明のマスク準
備装置の実施の形態の１例の全体構成を示す概略図であ
り、図２（ａ）はマスク保管庫の断面図で、図２（ｂ）
は図２（ａ）のＡ１−Ａ２位置からみた保管庫の断面図
で、図３（ａ）はマスク搬送台車の概略図で、図３
（ｂ）は（図３（ａ）のＢ１からみた図で、図３（ｃ）
は（下側の）コロ部の状態を拡大して示した図で、図４
（ａ）はマスク洗浄部の概略図で、図４（ｂ）は図４
（ａ）Ｃ１−Ｃ２からみた断面図で、図４（ｃ）は図４
（ａ）のＣ３−Ｃ４における断面図で、図５（ａ）はマ
スク検査修正部の正面図で、図５（ｂ）は図５（ａ）の
Ｄ１−Ｄ２における断面図である。図１〜図５中、１０
０はマスク準備装置、１１０はマスク保管庫、１１５は
ローラ、１１６はガイド、１１７は扉、１１９はフィル
ター、１２０はマスク搬送台車、１２１は回転軸、１２
２は運搬用ハンドル、１２３は車輪、１２３Ａは台車ス
トッパー、１２４はマスク留め、１２５はガイドロー
ル、１２５Ａはガイドロール固定部、１２７は回転スト
ッパー、１２８は位置決めピン、１３０はマスク洗浄
部、１３１は洗浄部、１３１Ａは粘着ロール、１３１Ｂ
は回転ロール、１３３回転ロール、１３４は回転ロール
駆動部、１３５はコロ（ガイドロール）、１４０はマス
ク検査修正部、１４１は顕微鏡、１４１Ａは腕置き台、
１４２はＹ方向移動台、１４３はＹ方向レール、１４３
Ａは配線収納部、１４４はＸ方向レール、１４４Ａは配
線収納部、１４５はコロ（ガイドロール）、１４６はリ
フター、１４７はカウンター、１４８は検査光（バック
ライト）、１４９はマスク載置台、１８０はマスクであ
る。図１に示すマスク準備装置１００は、ＰＤＰ用の基
板をパターニングする際に用いられる露光用マスクを準
備するための装置で、対角１ｍを超える大型のエマルジ
ョンマスクからなる露光用マスクの準備装置で、マスク
の保管、マスク洗浄、マスク検査、修正を、ほぼ一体と
なった、効率的な一貫ラインにて行うことができる。そ
して、マスクを鉛直にして保管するマスク保管庫１１０
と、マスク面が鉛直方向の状態から、マスク面を鉛直方
向と所定の角θ１をなす傾斜した状態へと、そのマスク
保持姿勢を変えることができ、且つ、マスク面を傾斜さ
せた状態でマスクを移動させて、取り入れ、取り出しが
できる、マスク搬送台車１２０と、マスク面を所定の角
度θ１に傾斜させた状態でマスクを搬送でき、マスク面
を所定の角度θ１に傾斜させた状態で、マスク幅を跨
ぎ、該マスク面に沿うように設けた粘着ロール（図４
（ｃ）の１３１Ａ）により、マスク面の洗浄を行うマス
ク洗浄部１３０と、マスク面を所定の角度θ１に傾斜さ
せた状態でマスクを搬送でき、マスク面を所定の角度θ
１に傾斜させた状態でマスクの凹欠陥、凸欠陥等の形状
欠陥の検査修正を行うマスク検査修正部１４０とを備え
ている。マスク搬送台車１２０とマスク洗浄部１３０、
およびマスク洗浄部１３０とマスク検査修正部１４０と
は、マスク面を所定の角度θ１に傾斜させた状態で、そ
れぞれ、両者間でマスクの受け渡しができるものであ
る。
【００１３】マスク搬送台車１２０は、通常、マスク保
管庫１１０から、マスク面をほぼ鉛直の状態にしてマス
ク１８０を受け取り、これをマスク洗浄部１１０のマス
ク処理におけるマスク面の角度θ１やマスク検査修正部
のマスク処理におけるマスク面の角度θ１に合わせた状
態にして、これをマスク洗浄部１３０へと引き渡す。マ
スク洗浄部１３０は、処理後、マスク面の角度θ１をそ
のままにした状態で、マスク１８０をマスク検査修正部
１４０へと順に引き渡す。マスク洗浄部１３０はマスク
洗浄、マスク検査修正部１４０はマスク検査修正を行う
が、各作業をマスク面が鉛直方向から若干傾いた、マス
ク面の傾きがθ１の状態で、行えるようにしており、且
つ、各部におけるマスク１８０の受け渡しを、各部が接
近した状態にして、回転ロールないしコロ（回転するガ
イドロール）を介して行うことができるため、作業性も
良く、マスク受け渡しによるマスクの落下事故の発生を
防止できる。通常、マスク１８０は、マスク保管庫１１
０から、マスク搬送台車１２０へ送られ、マスク搬送台
車１２０にて、マスク面を、略所定の角θ１に傾斜させ
た状態で、マスク搬送台車１２０から、順に、マスク洗
浄部１３０、マスク検査修正部１４０へと順に送られる
が、マスク検査修正部１４０にて、再度洗浄処理が必要
と判断された場合には、再度マスク洗浄部１３０へマス
ク１８０を戻し、更に、マスク洗浄後、マスク検査修正
部１４０へマスク１８０を渡し、再度検査修正を行うこ
ともできる。マスク洗浄部１３０とマスク検査修正部１
４０間を交互にマスク１８０を行き来させて、洗浄処
理、検査修正処理を交互に繰り返すこともできる。ま
た、必要に応じ、マスク搬送台車１２０とマスク洗浄部
１３０間でも、相互にマスク１８０の受け渡しができ
る。
管庫１１０から、マスク面をほぼ鉛直の状態にしてマス
ク１８０を受け取り、これをマスク洗浄部１１０のマス
ク処理におけるマスク面の角度θ１やマスク検査修正部
のマスク処理におけるマスク面の角度θ１に合わせた状
態にして、これをマスク洗浄部１３０へと引き渡す。マ
スク洗浄部１３０は、処理後、マスク面の角度θ１をそ
のままにした状態で、マスク１８０をマスク検査修正部
１４０へと順に引き渡す。マスク洗浄部１３０はマスク
洗浄、マスク検査修正部１４０はマスク検査修正を行う
が、各作業をマスク面が鉛直方向から若干傾いた、マス
ク面の傾きがθ１の状態で、行えるようにしており、且
つ、各部におけるマスク１８０の受け渡しを、各部が接
近した状態にして、回転ロールないしコロ（回転するガ
イドロール）を介して行うことができるため、作業性も
良く、マスク受け渡しによるマスクの落下事故の発生を
防止できる。通常、マスク１８０は、マスク保管庫１１
０から、マスク搬送台車１２０へ送られ、マスク搬送台
車１２０にて、マスク面を、略所定の角θ１に傾斜させ
た状態で、マスク搬送台車１２０から、順に、マスク洗
浄部１３０、マスク検査修正部１４０へと順に送られる
が、マスク検査修正部１４０にて、再度洗浄処理が必要
と判断された場合には、再度マスク洗浄部１３０へマス
ク１８０を戻し、更に、マスク洗浄後、マスク検査修正
部１４０へマスク１８０を渡し、再度検査修正を行うこ
ともできる。マスク洗浄部１３０とマスク検査修正部１
４０間を交互にマスク１８０を行き来させて、洗浄処
理、検査修正処理を交互に繰り返すこともできる。ま
た、必要に応じ、マスク搬送台車１２０とマスク洗浄部
１３０間でも、相互にマスク１８０の受け渡しができ
る。
【００１４】図２に示すマスク保管庫１１０は、扉１１
７を開けた状態で、ローラ１１５を転がして、図１に示
すように、マスク搬送台車１２０との間で、マスク１８
０の出し入れを行うもので、上部にはガイド１１６が設
けられており、ガイド１１６とローラ１１５の凹部によ
りマスク１８０は垂直に保持される。
７を開けた状態で、ローラ１１５を転がして、図１に示
すように、マスク搬送台車１２０との間で、マスク１８
０の出し入れを行うもので、上部にはガイド１１６が設
けられており、ガイド１１６とローラ１１５の凹部によ
りマスク１８０は垂直に保持される。
【００１５】マスク搬送台車１２０は、図３に示すよう
に、ガイドロール固定部１２５Ａに固定された、回転す
るガイドロール１２５により、保持され、且つ、マスク
出し入れの際のマスク１８０の移動動作を行うものであ
る。上下のガイドロール固定部１２５を一平面内で支持
しながら、回転軸１２１を中心として、ガイドロール固
定部１２５Ａを回転させることにより、ガイドロール固
定部１２５Ａに固定された上下のガイドロール１２５の
位置を変化させ、ガイドロール１２５に保持されるマス
ク１８０の面角度を変えるもので、図３（ｂ）に示すよ
うに、マスク面の位置（角度θ１）は位置決めピン１２
８により固定されて決められる。図３に示すマスク搬送
台車１２０においては、位置決めピンは、マスク面が垂
直の場合と、面角度がθ１の場合にのみ嵌まるようにし
て固定されるが、必要に応じ面角度を所定の範囲内で自
由に固定できる構造としても良い。θ１としては、洗浄
した際のコミの再度の付着を防止するという点からは、
９０°〜７５°の範囲が好ましく、特に８０°が好まし
い。尚、ガイドロール固定部１２５Ａは、図３（ａ）に
示すように、複数個設けられており、マスクのサイズに
応じて、上側のガイドロール１２５の固定する位置を変
えることができるようになっている。
に、ガイドロール固定部１２５Ａに固定された、回転す
るガイドロール１２５により、保持され、且つ、マスク
出し入れの際のマスク１８０の移動動作を行うものであ
る。上下のガイドロール固定部１２５を一平面内で支持
しながら、回転軸１２１を中心として、ガイドロール固
定部１２５Ａを回転させることにより、ガイドロール固
定部１２５Ａに固定された上下のガイドロール１２５の
位置を変化させ、ガイドロール１２５に保持されるマス
ク１８０の面角度を変えるもので、図３（ｂ）に示すよ
うに、マスク面の位置（角度θ１）は位置決めピン１２
８により固定されて決められる。図３に示すマスク搬送
台車１２０においては、位置決めピンは、マスク面が垂
直の場合と、面角度がθ１の場合にのみ嵌まるようにし
て固定されるが、必要に応じ面角度を所定の範囲内で自
由に固定できる構造としても良い。θ１としては、洗浄
した際のコミの再度の付着を防止するという点からは、
９０°〜７５°の範囲が好ましく、特に８０°が好まし
い。尚、ガイドロール固定部１２５Ａは、図３（ａ）に
示すように、複数個設けられており、マスクのサイズに
応じて、上側のガイドロール１２５の固定する位置を変
えることができるようになっている。
【００１６】マスク洗浄部１３０は、図４に示すよう
に、マスクを回転ロール１３３にて搬送させながら、洗
浄部１３１中に送り込み、図４（ｃ）に示すように、粘
着ロール１３１Ａにより、その面を洗浄するものであ
る。回転ロール駆動部１３４にて、各回転ロール１３３
が回転するようになっており、マスク１８０は自動で動
かされてマスク面が洗浄される。図４（ｃ）に示すよう
に、粘着ロール１３１Ａを自動で回転させながら、マス
ク１８０の面を洗浄する。粘着ロール１３１Ｂはマスク
の裏面（ガラス面）側を回転しながら洗浄する。図４
（ｃ）においては、粘着ロール３種の粘着力の大きい順
に示すと、１３１Ｃ、１３１Ａ、１３１Ｂの順になって
おり、マスクに接する１３１Ａ、１３１Ｂは表面のゴミ
等が、洗浄中にマスクに転写せぬよう、より強い粘着力
を持つ粘着ロール１３１Ｃに移行させる。粘着ロール１
３１Ａ、１３１Ｂ、１３１Ｃの材質としては、天然ゴ
ム、ウレタンゴム、シリコーンの１つない複数により成
るものが好ましい。
に、マスクを回転ロール１３３にて搬送させながら、洗
浄部１３１中に送り込み、図４（ｃ）に示すように、粘
着ロール１３１Ａにより、その面を洗浄するものであ
る。回転ロール駆動部１３４にて、各回転ロール１３３
が回転するようになっており、マスク１８０は自動で動
かされてマスク面が洗浄される。図４（ｃ）に示すよう
に、粘着ロール１３１Ａを自動で回転させながら、マス
ク１８０の面を洗浄する。粘着ロール１３１Ｂはマスク
の裏面（ガラス面）側を回転しながら洗浄する。図４
（ｃ）においては、粘着ロール３種の粘着力の大きい順
に示すと、１３１Ｃ、１３１Ａ、１３１Ｂの順になって
おり、マスクに接する１３１Ａ、１３１Ｂは表面のゴミ
等が、洗浄中にマスクに転写せぬよう、より強い粘着力
を持つ粘着ロール１３１Ｃに移行させる。粘着ロール１
３１Ａ、１３１Ｂ、１３１Ｃの材質としては、天然ゴ
ム、ウレタンゴム、シリコーンの１つない複数により成
るものが好ましい。
【００１７】マスク検査修正部１４０は、図５に示すよ
うに、マスク１８０の修正面側でない裏面全体に拡散光
からなる検査光（バックライト）１４８を照射し、且
つ、マスク１８０の一辺を下側に水平方向に沿わせ、マ
スク面を斜めないし垂直にした状態でマスクを載せて置
くマスク載置台１４９と、マスクの修正面側を観察する
ために、マスク載置台１４９上に保持されて、マスク面
に沿う水平方向であるＸ方向と、Ｘ方向に直交してマス
ク面に沿うＹ方向に移動可能な顕微鏡１４１と、マスク
載置台を保持して且つマスク載置台の高さを変えるリフ
ター（載置台制御部）１４６とを備えている。マスク載
置台１４９は、マスク１８０の下側の一辺を水平方向に
沿わせてマスクを移動させるコロ（ガイドロール）１４
５を設けたものである。尚、図５には図示していない
が、図４に示す洗浄部１３０と同じように、マスクを搬
送させるための回転ロールが備えられている。顕微鏡１
４１をＸ、Ｙ移動させるＸ、Ｙ移動軸（Ｘ方向レール１
４４、Ｙ方向レール１４３）をマスク載置台１４９上に
設けている。顕微鏡１４１と一体でＸ、Ｙ移動する、腕
おき台１４１Ａを備えている。マスク載置台１４９は、
マスクの修正面側でない裏面全体に接し、裏面全体に拡
散板を介して検査光を照射する。また、顕微鏡１４１の
Ｘ、Ｙ位置を数値表示するカウンター１４７を備えてい
る。また、必要に応じ、マスク１８０の顕微鏡像を観察
するモニターを備えても良い。マスク検査修正部１４０
は、このような構造をしており、作業者の姿勢に無理が
なく、検査、修正作業ができるものとしている。
うに、マスク１８０の修正面側でない裏面全体に拡散光
からなる検査光（バックライト）１４８を照射し、且
つ、マスク１８０の一辺を下側に水平方向に沿わせ、マ
スク面を斜めないし垂直にした状態でマスクを載せて置
くマスク載置台１４９と、マスクの修正面側を観察する
ために、マスク載置台１４９上に保持されて、マスク面
に沿う水平方向であるＸ方向と、Ｘ方向に直交してマス
ク面に沿うＹ方向に移動可能な顕微鏡１４１と、マスク
載置台を保持して且つマスク載置台の高さを変えるリフ
ター（載置台制御部）１４６とを備えている。マスク載
置台１４９は、マスク１８０の下側の一辺を水平方向に
沿わせてマスクを移動させるコロ（ガイドロール）１４
５を設けたものである。尚、図５には図示していない
が、図４に示す洗浄部１３０と同じように、マスクを搬
送させるための回転ロールが備えられている。顕微鏡１
４１をＸ、Ｙ移動させるＸ、Ｙ移動軸（Ｘ方向レール１
４４、Ｙ方向レール１４３）をマスク載置台１４９上に
設けている。顕微鏡１４１と一体でＸ、Ｙ移動する、腕
おき台１４１Ａを備えている。マスク載置台１４９は、
マスクの修正面側でない裏面全体に接し、裏面全体に拡
散板を介して検査光を照射する。また、顕微鏡１４１の
Ｘ、Ｙ位置を数値表示するカウンター１４７を備えてい
る。また、必要に応じ、マスク１８０の顕微鏡像を観察
するモニターを備えても良い。マスク検査修正部１４０
は、このような構造をしており、作業者の姿勢に無理が
なく、検査、修正作業ができるものとしている。
【００１８】
【発明の効果】本発明は、上記のように、ＰＤＰの大型
化、量産化がますます求められる中、ＰＤＰ用の背面
板、前面板の作製における、フォトリソ工程に用いられ
る露光用のマスクの準備を、品質的にも十分対応でき、
且つ、効率的にできる、マスク準備装置の提供を可能と
した。ＰＤＰ用の基板と同様に、ＬＣＤ用の基板のフォ
トリソ工程に用いられる露光用のマスクの準備にも本発
明のマスク準備装置は適用でき、ＰＤＰやＬＣＤの量産
に対応できるものとしている。
化、量産化がますます求められる中、ＰＤＰ用の背面
板、前面板の作製における、フォトリソ工程に用いられ
る露光用のマスクの準備を、品質的にも十分対応でき、
且つ、効率的にできる、マスク準備装置の提供を可能と
した。ＰＤＰ用の基板と同様に、ＬＣＤ用の基板のフォ
トリソ工程に用いられる露光用のマスクの準備にも本発
明のマスク準備装置は適用でき、ＰＤＰやＬＣＤの量産
に対応できるものとしている。
【図１】本発明のマスク準備装置の実施の形態の１例の
示す概略構成図
示す概略構成図
【図２】マスク保管庫の概略図
【図３】マスク搬送台車の概略図
【図４】マスク洗浄部の概略図
【図５】マスク検査修正部の概略図
【図６】ＰＤＰ用基板の作製方法を説明するための工程
図
図
【図７】ＰＤＰを説明するための斜視図
１００ マスク準備装置 １１０ マスク保管庫 １１５ ローラ １１６ ガイド １１７ 扉 １１９ フィルター １２０ マスク搬送台車 １２１ 回転軸 １２２ 運搬用ハンドル １２３ 車輪 １２３Ａ 台車ストッパー １２４ マスク留め １２５ ガイドロール １２５Ａ ガイドロール固定部 １２７ 回転ストッパー １２８ 位置決めピン １３０ マスク洗浄部 １３１ 洗浄部 １３１Ａ 粘着ロール １３１Ｂ 回転ロール １３３ 回転ロール １３４ 回転ロール駆動部 １３５ コロ（ガイドロール） １４０ マスク検査修正部 １４１ 顕微鏡 １４１Ａ 腕置き台 １４２ Ｙ方向移動台 １４３ Ｙ方向レール １４３Ａ 配線収納部 １４４ Ｘ方向レール １４４Ａ 配線収納部 １４５ コロ（ガイドロール） １４６ リフター（マスク載置台制御
部） １４７ カウンター １４８ 検査光（バックライト） １４８ マスク載置台 １８０ マスク
部） １４７ カウンター １４８ 検査光（バックライト） １４８ マスク載置台 １８０ マスク
Claims (14)
- 【請求項１】 大型のエマルジョンマスクからなる露光
用マスクの準備装置であって、マスク面を鉛直方向にし
てマスクを保管するマスク保管庫と、マスク面が鉛直方
向の状態から、マスク面が鉛直方向と所定の角θ１をな
す傾斜した状態へと相互にマスク保持姿勢を変えること
ができ、且つマスク面を鉛直な状態で、あるいはマスク
面を傾斜させた状態でマスクの取り入れ、取り出しがで
きる、マスクを搬送するためのマスク搬送台車と、マス
ク面を該所定の角度θ１に傾斜させた状態でマスクを搬
送でき、マスク面を該所定の角度θ１に傾斜させた状態
で、マスク幅を跨ぎ、該マスク面に沿うように設けた粘
着ロールにより、マスク面の洗浄を行うマスク洗浄部
と、マスク面を該所定の角度θ１に傾斜させた状態でマ
スクを搬送でき、マスク面を該所定の角度θ１に傾斜さ
せた状態でマスクの凹欠陥、凸欠陥等の形状欠陥の検査
修正を行うマスク検査修正部とを備え、マスク搬送台車
とマスク洗浄部、およびマスク洗浄部とマスク検査修正
部とは、マスク面を所定の角度θ１に傾斜させた状態
で、それぞれ、両者間でマスクの受け渡しができるもの
であることを特徴とするマスク準備装置。 - 【請求項２】 請求項１において、所定の角度θ１が９
０°〜７５°の範囲であることを特徴とするマスク準備
装置。 - 【請求項３】 請求項１ないし２において、マスク搬送
台車におけるマスクの移動は、マスクの端部を挾み、回
転するガイドロールにより行われるものであることを特
徴とするマスク準備装置。 - 【請求項４】 請求項１ないし３において、マスク洗浄
部は、粘着ロールの位置は固定し、マスクを自動で動か
してマスク面を洗浄するものであることを特徴とするマ
スク準備装置。 - 【請求項５】 請求項４において、マスクの搬送は回転
ロールにより搬送されるものであることを特徴とするマ
スク準備装置。 - 【請求項６】 請求項１ないし２において、マスク洗浄
部は、粘着ロールを自動で動かしてマスク面を洗浄する
ものであることを特徴とするマスク準備装置。 - 【請求項７】 請求項４なしい６における粘着ロール
は、表面部が、天然ゴム、ウレタンゴム、シリコーンの
１つないし複数により成ることを特徴とするマスク準備
装置。 - 【請求項８】 請求項１ないし７において、検査修正部
は、マスクの修正面側でない裏面全体に拡散光からなる
検査光を照射し、且つ、マスクの一辺を下側に水平方向
に沿わせ、マスク面を斜めないし垂直にした状態でマス
クを載せて置くマスク載置台と、マスクの修正面側を観
察するために、マスク載置台上に保持されて、マスクの
マスク面に沿う水平方向であるＸ方向と、Ｘ方向に直交
してマスク面に沿うＹ方向に移動可能な顕微鏡と、マス
ク載置台を保持して且つマスク載置台の高さを変える載
置台制御部とを備えたもので、前記マスク載置台は、マ
スクの下側の一辺を水平方向に沿わせてマスクを移動さ
せる水平移動部を設けたものであることを特徴とするマ
スク準備装置。 - 【請求項９】 請求項８における水平移動部は、マスク
の一辺を下側にし、該辺を水平方向に沿う複数個のコロ
ないしロール上に載せて移動させるものであることを特
徴とするマスク準備装置。 - 【請求項１０】 請求項８ないし９において、顕微鏡を
Ｘ、Ｙ移動させるＸ、Ｙ移動軸をマスク載置台上に設け
ていることを特徴とするマスク準備装置。 - 【請求項１１】 請求項８ないし１０において、マスク
載置台は、マスクの修正面側でない裏面全体に拡散板を
介して検査光を照射するものであることを特徴とするマ
スク準備装置。 - 【請求項１２】 請求項８ないし１１において、顕微鏡
と一体でＸ、Ｙ移動する、腕おき台を備えていることを
特徴とするマスク準備装置。 - 【請求項１３】 請求項８ないし１２において、顕微鏡
のＸ、Ｙ位置を数値表示するカウンターを備えているこ
とを特徴とするマスク準備装置。 - 【請求項１４】 請求項８ないし１３において、マスク
の顕微鏡像を観察するモニターを備えていることを特徴
とするマスク準備装置。
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|---|---|---|---|
| JP1827698A JP3998790B2 (ja) | 1998-01-16 | 1998-01-16 | マスク準備装置 |
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