JPH11209558A - 光重合性顔料分散剤、感光性着色組成物及び遮光層用組成物 - Google Patents

光重合性顔料分散剤、感光性着色組成物及び遮光層用組成物

Info

Publication number
JPH11209558A
JPH11209558A JP1542998A JP1542998A JPH11209558A JP H11209558 A JPH11209558 A JP H11209558A JP 1542998 A JP1542998 A JP 1542998A JP 1542998 A JP1542998 A JP 1542998A JP H11209558 A JPH11209558 A JP H11209558A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
pigment
composition
dispersant
photopolymerizable
group
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP1542998A
Other languages
English (en)
Inventor
Yoshiko Kiyohara
欣子 清原
Shunsuke Sega
俊介 瀬賀
Akira Inoue
彰 井上
Masayuki Ando
雅之 安藤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Dai Nippon Printing Co Ltd
Original Assignee
Dai Nippon Printing Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Dai Nippon Printing Co Ltd filed Critical Dai Nippon Printing Co Ltd
Priority to JP1542998A priority Critical patent/JPH11209558A/ja
Publication of JPH11209558A publication Critical patent/JPH11209558A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Optical Elements Other Than Lenses (AREA)
  • Optical Filters (AREA)
  • Polymerisation Methods In General (AREA)
  • Paints Or Removers (AREA)
  • Macromonomer-Based Addition Polymer (AREA)
  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
  • Graft Or Block Polymers (AREA)
  • Inks, Pencil-Leads, Or Crayons (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 本発明は、分散安定性が高い光重合性顔料分
散剤であって、レジスト特性の向上に有効な顔料分散レ
ジスト用分散剤、およびカラーフィルターの作製に適し
た感光性着色組成物、特に、遮光層用組成物を提供する
ことにある。 【解決手段】 本発明の光重合性顔料分散剤は、親水性
部と疎水性部とからなるブロックポリマーであって、該
ブロックポリマーがエチレン性不飽和二重結合を分子内
に少なくとも1個有するものであり、また、本発明の感
光性着色組成物は、アルカリ可溶性バインダー、光重合
性モノマー、光重合性開始剤、顔料、上記の光重合性顔
料分散剤、及び溶剤からなるものであり、さらに、本発
明の遮光層用組成物は、感光性着色組成物における顔料
として、少なくとも銅、マンガン、鉄の3種の金属を含
む複合金属酸化物からなるものとする。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、光重合性を有する
顔料分散剤に関するものであり、特に有機溶媒系におけ
る顔料分散安定性に優れており、また、UVやEBに対
する反応性を有するため、UV・EB硬化性塗料やイン
キ、ソルダーレジスト等の各種レジスト、ポリマーアロ
イの相溶化剤としても適用できる。特に、顔料分散法カ
ラーフィルターにおける着色組成物の分散剤、遮光層用
の分散剤として好適な光重合性顔料分散剤、また、該分
散剤を使用した感光性着色組成物及び遮光層用組成物に
関する。
【0002】
【従来の技術】顔料分散レジストを用いフォトリソ法に
よってカラーフィルターを作製する方法は、顔料を使用
するため、光や熱などに安定であると共にフォトリソ法
によってパターニングするため、位置精度も十分で大画
面、高精細カラーディスプレーの作製に好適な方法であ
る。しかしながら、顔料分散法で作製されたカラーフィ
ルターにおいては、顔料の分散性が不十分であると色純
度や寸法精度に問題を生じたり、消偏作用のため表示コ
ントラスト比が著しく劣化する。また、顔料の分散安定
性の悪いレジスト組成物は、カラーフィルター製造プロ
セスにおける塗布時の膜厚均一性、露光時の感度、現像
時の溶解性に悪影響を及ぼすばかりか、経時によって凝
集を起こして粘度が上昇し、ポットライフが極めて短い
という問題もある。
【0003】一般に、顔料は有機溶媒、高分子化合物等
の有機媒質中への分散性や混和性が悪いため、顔料の分
散性を高める手段として、低分子量界面活性剤、こうふ
っし界面活性剤、顔料誘導体等の分散剤が用いられてい
る。
【0004】しかし、低分子量界面活性剤は分散安定性
が低く、さらにカラーフィルターの使用中に界面活性剤
が析出してくるという問題がある。特開平4−7606
2号では、低分子量イオン性界面活性剤と同極性のイオ
ン性樹脂の組み合わせによる分散安定化が図られたが、
満足する結果が得られていないのが実情である。
【0005】高分子型界面活性剤の場合には、顔料・分
散剤・溶剤の3成分系での分散効果は優れるが、レジス
トの他成分(バインダー樹脂、多官能モノマー等)を添
加すると添加成分の種類によっては分散系が破壊され、
粘度が上昇するとか、また保存中に顔料が沈降するとい
う欠点を有する。そこで、特開平9−146272号で
は、側鎖に酸性基を有するグラフト共重合体に分散剤及
びバインダー樹脂の両方の役割を果たさせて、感光性着
色組成物中の顔料の分散安定性を改善している。
【0006】また、顔料誘導体は、その他の界面活性剤
と併用することによって、顔料の分散性を高めることが
できるが、そのもの自体に着色能力があり、分光特性が
重要視されるカラーフィルターでは使用限界がある。
【0007】従来の分散剤はいずれにしても、その分子
中に感光性基を有しないため、レジスト組成物中に、バ
インダー樹脂・分散剤等の光硬化性を持たない材料が多
量に存在することはレジストの感度を低下させる原因と
なる。また、分散剤が酸性基を有しアルカリ水溶液に可
溶な場合、露光部に存在する分散剤がアルカリ現像時に
光硬化部から溶出することにより、塗膜の基材に対する
密着性、パターン形状に悪影響を及ぼすという大きな問
題を有する。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記の従来
技術の問題点を解決するものであり、その目的は、分散
安定性が高い光重合性顔料分散剤であって、レジスト特
性の向上に有効な顔料分散レジスト用分散剤、およびカ
ラーフィルターの作製に適した感光性着色組成物、特に
遮光層用組成物を提供することにある。
【0009】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めに鋭意検討を行った結果、本発明の光重合性顔料分散
剤は、親水性部と疎水性部とからなるブロックポリマー
であって、該ブロックポリマーがエチレン性不飽和二重
結合を分子内に少なくとも1個有するものであることを
特徴とする。
【0010】上記の親水性部が、−OH基、−COOH
基、−SO3 H基、−PO3 2 基、−PO(OH)
(OR)基(Rは炭化水素基を表す)、又は低級ポリオ
キシアルキレン基から選ばれる少なくとも一つの親水性
基を少なくとも一種含有する重合体であることを特徴と
する。
【0011】上記のブロックポリマーの重量平均分子量
が5,000〜200,000、ブロックポリマーの親
水性部と疎水性部の重量比が5/95〜90/10であ
ることを特徴とする。
【0012】上記のエチレン性不飽和二重結合基導入量
が、ブロックポリマー1gあたり0.1ミリモル〜5ミ
リモルであることを特徴とする。
【0013】本発明の感光性着色組成物は、アルカリ可
溶性バインダー、光重合性モノマー、光重合性開始剤、
分散剤、顔料及び溶剤を主成分とし、該分散剤が、親水
性部と疎水性部とからなり、エチレン性不飽和二重結合
を分子内に少なくとも1個有するブロックポリマーを少
なくとも1種含むことを特徴とする。
【0014】本発明の遮光層用組成物は、アルカリ可溶
性バインダー、光重合性モノマー、光重合性開始剤、分
散剤、無機黒色顔料、及び溶剤を主成分とし、該分散剤
が、親水性部と疎水性部とからなり、エチレン性不飽和
二重結合を分子内に少なくとも1個有するブロックポリ
マーを少なくとも1種含むことを特徴とする。
【0015】上記の無機黒色顔料が、少なくとも銅、マ
ンガン、鉄を含む複合金属酸化物であることを特徴とす
る。
【0016】上記の光重合性モノマーが、3個〜6個の
反応性二重結合基を持つ多官能アクリレート、及び/ま
たは多官能メタクリレートであることを特徴とする。
【0017】上記のアルカリ可溶性バインダーの少なく
とも一部が、1gあたり反応性二重結合基を0.05ミ
リモル〜5ミリモル含み、かつ、酸価が50mgKOH
/g〜250mgKOH/gのエポキシ樹脂であること
を特徴とする。
【0018】上記のエポキシ樹脂が、ビスフェノールA
型ビニルエステルであることを特徴とする。
【0019】
【発明の実施の形態】本発明の光重合性顔料分散剤は、
親水性部と疎水性部とからなるブロックポリマーであっ
て、該ブロックポリマーがエチレン性不飽和二重結合を
分子内に少なくとも1個有するものとすることにより、
顔料の分散を安定化し、さらにレジスト特性を向上させ
ることを見出し、本発明を完成させるに至った。
【0020】光重合性顔料分散剤における親水性部とし
ては、例えば、ヒドロキシエチルアクリレート、ヒドロ
キシエチルメタクリレート{以下、この両者をヒドロキ
シエチル(メタ)アクリレートと示す。以下、同様)、
ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、ヒドロキシ
ブチル(メタ)アクリレート、N−ヒドロキシメチルア
クリルアミド、2−ヒドロキシ−3−フェノキシプロピ
ル(メタ)アクリレート等の−OH基含有モノマー、ア
クリル酸、α−、またはβ−置換アクリル酸、例えばα
−アセトキシ体、α−アセトキシメチル体、α−クロロ
体、β−クロロ体等、メタクリル酸、マレイン酸、イタ
コン酸、クロトン酸、マレイン酸の半エステル、マレイ
ン酸の半アミド、イタコン酸の半エステル、イタコン酸
の半アミド等のエチレン性不飽和カルボン酸、ビニルベ
ンゼンスルホン酸、ビニルスルホン酸、ビニルホスホ
酸、リン酸−2−(メタ)アクリロイルオキシエチル、
リン酸メチル−2−(メタ)アクリロイルオキシエチ
ル、リン酸エチル−(メタ)アクリロイルオキシエチル
等のモノマーの単独重合体、または他のエチレン性不飽
和モノマーとの共重合体、ポリ(エチレンオキシド)等
のポリ(アルキレンオキシド)が挙げられる。しかし、
これらの重合体に限定されることはなく、ポリエステ
ル、ポリウレタン等に親水性基を化学的に導入したもの
等も使用できる。
【0021】疎水部としては、アクリル酸メチル、アク
リル酸−n−ブチル、アクリル酸イソブチル、アクリル
酸−2−エチルヘキシル、アクリル酸−2−メトキシエ
チル、アクリル酸−2−エトキシエチル、ベンジルアク
リレート等のアクリル酸エステルやメタクリル酸メチ
ル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ブチル、メタク
リル酸イソブチル、メタクリル酸−t−ブチル、メタク
リル酸−2−エチルヘキシル、メタクリル酸ラウリル、
メタクリル酸トリデシル、メタクリル酸ステアリル、ベ
ンジルメタクリレート等のメタクリル酸エステル、ま
た、スチレン、α−スチレン、ビニルトルエン等の芳香
族ビニル化合物の1種又は数種の組み合わせからなる重
合体成分である。この場合もこれらの重合体に限定され
るものではなく、疎水性の高いポリエステル、ポリウレ
タン等の重合体も用いることができる。
【0022】ブロックポリマーの合成法の中で、リビン
グアニオン重合を利用するのが最も信頼し得る方法であ
るが、実験的には真空系の技術を必要とし、大量合成に
は難点が多い。ラジカル重合を用いたブロックポリマー
の合成は、末端官能性プレポリマーのカップリング法、
高分子開始剤法、イニファーター法等により行うことが
できる。
【0023】末端官能性プレポリマーは、分子中にカル
ボキシル基、ヒドロキシル基、アミノ基等の官能基を含
有する重合開始剤または連鎖移動剤を用いて合成され
る。例えば重合開始剤ではアゾビスシアノペンタン酸に
よりカルボキシル基、アゾビスシアノペンタノールによ
りヒドロキシル基、アペビスイソブチロアミジンにより
アミノ基が導入される。連鎖移動剤では、チオジグリコ
ール酸によりカルボキシル基、メルカプトエタノールに
よりヒドロキシル基、ビス−4−アミノフェニル−ジス
ルフィドによりアミノ基が導入される。この方法は、
(メタ)アクリル酸系、ビニル系等のモノマーに適用可
能であり、親水性基あるいは疎水性基を含有するプレポ
リマーを種々合成できる。
【0024】また、末端官能性プレポリマーとしては、
ポリオキシエチレンモノメチルエーテルのような片末端
ヒドロキシル基ポリマー、末端ヒドロキシル基ポリエス
テル、末端ヒドロキシル基または末端イソシアネート基
ポリウレタン等も挙げられる。
【0025】次に、互いに縮合または付加し得る官能基
を有する末端官能性プレポリマーのカップリングにより
ブロックポリマーを合成する。片末端官能性プレポリマ
ー、両末端官能性プレポリマーの組合せでAB型、AB
A型など様々なブロックポリマーを合成可能である。
【0026】但し、親水性プレポリマーと疎水性プレポ
リマーのカップリング反応の際には、親水性基の保護が
必要な場合がある。親水性基を保護したプレポリマーと
疎水性プレポリマーを反応させてブロックポリマーを合
成し、その後脱保護を行う。親水性基の保護基導入反応
及び脱保護基反応については、従来公知の方法により行
うことができる。
【0027】アゾ基またはペルオキシ基を有するポリマ
ーへのモノマー付加によりブロックポリマーを合成する
高分子開始剤法は、具体的には 上田明、永井進「高分
子」39、202(1990)、山本隆「高分子」3
5、1010(1986)の総説及びそれに引用の文献
に記載される方法に従って合成できる。また、米国特許
第3,994,994号に記載の二官能性重合開始剤を
使用する方法も挙げられる。
【0028】イニファーター法は、具体的には、大津隆
行「高分子」37、248(1988)の総説及びそれ
に引用の文献に記載される方法にしたがって合成するこ
とができる。
【0029】ブロックポリマーにおける親水性基含有量
の最適値は、親水性基の種類によって異なるが、ブロッ
クポリマーあたり1重量%〜80重量%が好ましい。親
水性基が1重量%より少ないと分散安定化が不十分とな
る。親水性基含有量が80重量%を越えると、顔料の凝
集を防ぐ効果に寄与する立体障害層が少なくなり、分散
安定性が低くなる。また、親水性基量が多すぎると高極
性溶剤のみに可溶となり、使用溶剤が著しく制限され
る。
【0030】ブロックポリマーの重量平均分子量(以
下、Mwと示す)は5,000〜200,000が好ま
しい。Mwが5,000より小さいと分散性の効果が十
分発揮されず、Mwが200,000を越えると、溶解
性が低下し、レジスト特性が悪化する。
【0031】ブロックポリマーにおける親水性部と疎水
性部との割合は、重量比が5/95〜90/10が好ま
しい。この範囲を外れると、ブロックポリマーであると
いう形態上の効果が低下する。
【0032】次に、ブロックポリマーへのエチレン性不
飽和二重結合の導入は、従来公知の方法により行われ
る。分子内にカルボキシル基を含有するブロックポリマ
ーの場合には、例えばエポキシ基を有するエチレン性不
飽和基含有化合物、ヒドロキシル基を有するエチレン性
不飽和基含有化合物等を反応させる方法が挙げられる。
このような化合物としては、例えば、グリシジル(メ
タ)アクリレート、2−メチルグリシジル(メタ)アク
リート、アリルグリシジルエーテル、アリル−2−メチ
ルグリシジルエーテル、ヒドロキシエチル(メタ)アク
リレート、ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、
ヒドロキシブチル(メタ)アクリレートなどがある。ヒ
ドロキシル基を有する場合には、例えば、イソシアネー
トエチルメタクリレート、(メタ)アクリル酸、(メ
タ)アクリル酸クロライド等のヒドロキシル基と反応し
うる官能基を有するエチレン性不飽和基含有化合物を反
応させる方法がある。
【0033】また、ブロックポリマーへのエチレン性不
飽和基導入は、エチレン性不飽和基を含有する末端官能
性プレポリマーを使用することによっても可能である。
エチレン性不飽和基を含有する末端官能性プレポリマー
としては、例えば米国特許第3,321,552号明細
書に記載のエチル−α−(ヒドロキシルエチル)アクリ
レートを縮合して得られる片末端ヒドロキシル基ポリエ
ステルがある。また、トリレンジイソシアネート、ジフ
ェニルメタンジイソシアネート等のジイソシアネートと
グリセリルメタクリレート等のようなヒドロキシル基を
2個含有するエチレン性不飽和基含有化合物単独もしく
は、それとブチレンアジペート、エチレンアジペート、
ポリテトラメチレングリコール、ポリエチレングリコー
ル等の両末端にヒドロキシル基を有するポリエステルジ
オール、ポリエーテルジオールの混合物との反応により
得られるポリウレタンがある。
【0034】エチレン性不飽和基の導入量は、ブロック
ポリマー1gあたり0.1ミリモル〜5ミリモルが好ま
しい。導入量が0.1ミリモルよりも少ないと光硬化性
が低く、塗膜密着性、レジスト特性の改善効果が小さ
い。
【0035】本発明の光重合性顔料分散剤は、種々の無
機顔料及び有機顔料に適用できる。具体的には、鉄、コ
バルト、アルミニウム、カドミウム、鉛、銅、チタン、
マグネシウム、クロム、亜鉛、アンチモン、マンガン等
の金属酸化物、及び前記金属の複合酸化物、硫酸バリウ
ム、シリカ、クロム酸亜鉛、クロム酸ストロンチウム、
カーボンブラック、金属アルミニウム、金属鉛、金属亜
鉛、塩基性硫酸鉛、水酸化アルミニウム、塩基性炭酸鉛
等の無機化合物、或いは有機顔料、例えばキナクリド
ン、フタロシアニン青、フタロシアニン緑、アゾ顔料、
イソインドリン顔料、ジオキサジン顔料などカラーイン
デックス(C.I.; The Society of Dyersand Colou
rists 社発行)のピグメントに分類される化合物が挙げ
られる。
【0036】本発明の顔料分散剤における顔料分散機構
は不明な点が多いが、顔料は、水酸基のような親水性官
能基や吸着水分等の存在により親水性の状態にあり、ブ
ロックポリマーは親水部と疎水部に分かれているため、
親水部により顔料に吸着し、疎水部が溶媒中に溶解する
ことによって分散安定化する能力が高いものと考えられ
る。しかし、顔料表面と溶媒の親水−疎水のバランス、
ブロックポリマーの溶媒に対する溶解性によって分散機
構は異なるため一概にはいえない。
【0037】顔料は通常凝集体を形成しており、顔料を
微粒子化するのは容易ではない。そのため、本発明の感
光性着色組成物は、顔料、光重合性分散剤、溶媒からな
る着色液を予め調製し、その着色液にアルカリ可溶性バ
インダー、光重合性モノマー、光重合性開始剤、溶媒を
混合して調製する。
【0038】上記着色液の調製において、本発明の分散
剤は予め微粉状の顔料等に均質に混合するか、あるいは
分散媒中に予め溶解して用い、または顔料等と非水溶媒
からなる分散系に添加して用いるのが好ましい。
【0039】また、本分散剤は、単独もしくは一般的な
低分子界面活性剤、高分子界面活性剤、顔料誘導体と混
合して用いることができる。このような分散剤として
は、市販されている(メタ)アクリル酸系(共)重合体
ポリフローNo.75、No.90、No.95(共栄
社油脂化学工業製)、メガファックF171、F17
2、F173(大日本インキ化学工業製)、フロラード
Fc430、Fc431(住友スリーエム製)、ソルス
パス12000、13240、20000、2400
0、26000、28000などの各種ソルスパース分
散剤(ゼネカ製)、ディスパースビッグ111、16
1、164、165(ビッグケミー製)等を用いること
ができる。
【0040】着色液の調製においては、いずれの分散機
を使用してもよく、例えば、ポールミル、サンドミル、
ビスコミル、ロールミル、ニーダー、アトライター、ハ
イスピードミキサー、ホモミキサー等が挙げられる。
【0041】光重合性顔料分散剤は、液状感光性組成物
の全固形分に対して、2重量%〜80重量%、好ましく
は2重量%〜40重量%添加する。2重量%よりが少な
いと分散安定性が不十分であり、経時的に粘度上昇や顔
料の沈降が生じる。但し、分散剤の最適な添加量は、使
用する顔料、溶剤、レジスト成分の組み合わせにより変
動する。また、光重合性顔料分散剤は、上述したよう
に、単独で用いても、他の非水系分散剤と併用してもよ
い。この場合の他の非水系分散剤は、本発明の分散剤の
0〜80重量%用いることができる。80重量%を越え
て使用すると、本発明の目的である感度が低下する。
【0042】本発明の光重合性顔料分散剤は、感光性着
色組成物に使用されると、分散剤以外に、バインダー樹
脂としての役割も果たし、レジストの他成分(バインダ
ー樹脂、多官能モノマー等)による粘着性を取り除く、
塗膜物性改質剤としても作用する。溶剤乾燥後の粘着性
は、カラーフィルター製造プロセスの異物の付着等によ
って欠陥が生じやすくなるため、非粘着性とすることが
好ましい。さらに、エチレン性不飽和基を含有している
ため、光硬化性を有しており、例えば顔料分散レジスト
に使用した場合、レジストの感度を向上させる。また、
光硬化性のない分散剤の欠点であった、アルカリ現像に
よる塗膜の基材密着性の低下、パターン形状の悪化を改
善することが出来る。
【0043】以下、本発明の感光性着色組成物として、
特に、遮光層用組成物である場合について詳述する。
【0044】本発明の光重合性顔料分散剤は、無機黒色
顔料を用いた遮光層用組成に対して優れた効果を示す。
これは遮光性のため膜中の露光量の低下が著しく、硬化
不足となり、非反応性成分の悪影響が出やすくなるが、
本発明の分散剤によって感度が上がるためである。既に
本発明者らが提案している、少なくとも銅、マンガン、
鉄の金属を含む複合金属酸化物微粒子を用いた遮光層用
組成物に対しては、分散性という観点では特に優れた効
果を発揮する。
【0045】本発明の遮光層用組成物における顔料は、
特開平9−25126号公報に開示される湿式法に準
じ、銅、マンガン、鉄の3種類の水溶性金属塩にアルカ
リを添加し、中和析出させ、その析出したスラリー中に
過酸化水素などの酸化剤を加え、液相中で酸化した後、
洗浄、乾燥、焼成および粉砕して製造することができ
る。
【0046】また、顔料の表面状態をより分散しやすく
するため、ジルコニウムや亜鉛の水溶性金属塩を添加す
ることもできる。
【0047】更に、ジルコニウムや亜鉛の金属酸化物を
粒子表面に多く集めるためには、銅、マンガン、鉄の水
溶性金属塩にアルカリを添加し、中和析出させ、その析
出したスラリー中に過酸化水素などの酸化剤を加え、液
相中で酸化して複合金属酸化物を作製する工程の途中、
または作製後にジルコニウム、及び亜鉛の水溶性金属塩
を添加する方法等により調製することができる。
【0048】銅、マンガン、鉄からなる複合金属酸化物
は、例えば、CuMn2 4 のMnの一部をFeによっ
て置換したもので、組成比としては、CuOが25重量
%〜40重量%、Fe2 3 が5重量%〜30重量%、
およびMn2 3 が40重量%〜60重量%の範囲のも
のが挙げられる。
【0049】ジルコニウム及び亜鉛の複合金属酸化物の
含有量は、銅、マンガン、鉄からなる複合金属酸化物に
対し、0.1重量%〜50重量%、好ましくは0.3重
量%〜10重量%である。0.1重量%未満の場合には
アルカリ可溶性バインダー等との親和性に劣るため所望
の遮光層を得ることができず、また50重量%を越える
と顔料の黒色度が大幅に低下し、カラーフィルターとし
て使用した際に現像性に劣るので好ましくない。
【0050】本発明における顔料は、少なくとも銅、マ
ンガン、鉄の3種類の金属を含む複合金属酸化物で、必
要に応じてジルコニウム、及び亜鉛の金属酸化物を添加
することができるが、コバルト、ニッケル等の金属酸化
物も含有していてもよい。
【0051】また、本発明の遮光層用組成物において使
用する黒色顔料は、粒子径、比表面積、表面水酸基量に
夫々最適値が存在する。
【0052】粒子径については、0.01μm〜0.5
μm、好ましくは0.01μm〜0.3μmの範囲にあ
ることが好ましい。粒子径が0.01μm未満では遮光
性が十分でなく、0.5μmを越えると膜面の平滑性が
損なわれたり、パターン形成精度を大幅に低減させるた
め好ましくない。
【0053】比表面積としては、15m2 /g〜40m
2 /g、好ましくは18m2 /g〜35m2 /gの範囲
である。ここで比表面積が40m2 /gを越えるものと
なるには適性粒子径以下の顔料が含まれる場合と、適性
粒子径の範囲内であっても多孔質やアモルファス構造を
とる場合とが考えられる。適性粒子径未満の場合は遮光
性が十分にとれず、また、適性粒子径の範囲内であって
も顔料が多孔質体やアモルファス構造を取る場合には、
顔料自身の凝集力が強いと同時にバインダー成分をも強
固に吸着し凝集体を形成するため、顔料の分散性が著し
く阻害され好ましくない。比表面積が15m2 /g未満
では適性粒子径以上の顔料が含まれるために好ましくな
い。
【0054】さらに、粒子径、および比表面積が適性範
囲内にある場合でも、本発明で使用される顔料は表面の
水酸基量が0.1μmol/g〜40μmol/g、好
ましくは、0.5μmol/g〜25μmol/gであ
る必要がある。表面水酸基量が0.1μmol/g未満
では、顔料表面の溶剤や分散剤に対する親和性が極端に
落ちるために顔料の凝集や析出等が起こり、40μmo
l/gを越えると、比表面積が大きすぎる場合と同様、
顔料自身の凝集力や他のバインダー成分の吸着力が強く
なりすぎるため好ましくない。
【0055】なお、本発明における顔料表面の水酸基量
は、以下の定量法で決定するものである。
【0056】(定量法)顔料2.0gに対し、0.01
Nの水酸化テトラブチルアンモニウム−エタノール溶液
30mlを添加し、1時間攪拌させて上澄み10mlを
取り、エタノール30mlを加え、0.01N過塩素酸
−エタノール溶液で定量した残留水酸化テトラブチルア
ンモニウム量を、上記0.01Nの水酸化テトラブチル
アンモニウム−エタノール溶液30ml中に含まれる水
酸化テトラブチルアンモニウム量から引いた値を顔料表
面の水酸基量とする。
【0057】このような顔料は、市販されているものと
して、例えば大日精化工業(株)製「ダイピロキサイド
TMブラック♯3950」、「ダイピロキサイドTMブ
ラック#3952」、「ダイピロキサイドTMブラック
#9550」、「ダイピロキサイドTMブラック#35
50」、BASF社製「SICOCER F Black 2904」、「SI
COCER F Black 2912」、「SICOPUR SE 1435 」等が挙げ
られる。
【0058】また、上記の条件を満たす場合でも、特に
十分な遮光性を実現するために多量の顔料を含有させる
ような場合には、顔料同士の凝集が起こりやすくなる。
そのため、本発明の遮光層用組成物では、更に、顔料粒
子表面にアルキル基やフェニル基等の疎水性基を共有結
合により導入するか、または、顔料粒子表面に遷移金属
水酸化物粒子や遷移金属酸化物粒子を被覆することによ
り、分散剤との親和性を増大させ、顔料の凝集状態を緩
和させることができる。
【0059】顔料表面に疎水性基を共有結合により導入
するには、例えば顔料表面の水酸基をシラン系、チタネ
ート系、アルミニウム系等のカップリング剤で処理する
ことによりアルキル化またはフェニル化すればよく、そ
の置換量は0.01重量%〜20重量%が適当である。
【0060】また、顔料表面を、粒子径が0.005μ
m〜0.02μmのZr、Zn、Fe、Co、又はNi
等の遷移金属水酸化物微粒子、及び/又は遷移金属酸化
物微粒子で被覆してもよい。また、遷移金属は単独でも
また複合していてもよい。
【0061】被覆方法としては、遷移金属塩水溶液中に
顔料を分散させ、アルカリ溶液を滴下させて顔料表面に
遷移金属水酸化物微粒子及び/又は遷移金属酸化物微粒
子として中和析出・沈着させる等の公知の方法で被覆す
るとよい。顔料粒子表面への被覆量としては、0.01
重量%〜20重量%である。
【0062】次に、アルカリ可溶性バインダーとして
は、顔料粒子の分散性に寄与し、光重合性モノマーや光
重合性開始剤との相性が良く、また、アルカリ現像液に
対する溶解性や有機溶剤溶解性に優れることが要求され
る。また、露光、現像を含むパターン形成工程にあって
は、特にアルカリ現像液や洗浄液に長時間曝された場合
でも基板に対する密着性に優れることが要求され、更
に、カラーフィルター部材としての強度、軟化温度等が
適当であるものが好ましい。
【0063】このようなアルカリ可溶性バインダーとし
ては、エポキシ樹脂、特に、基本骨格がビスフェノール
Aとエピクロロヒドリンとの縮合反応物であって、分子
内に2個以上含まれるエポキシ基の開環反応を利用して
グリシジルメタクリレート等により反応性二重結合基や
環状酸無水物を付加し、得られるカルボキシル基等によ
り重合開始能やアルカリ現像性を付与したものが好まし
い。例えば、ビスフェノールA型ビニルエステルが挙げ
られ、アルカリに対する耐性や基板密着性、膜強度の実
現の上で上記特性を満たすものである。
【0064】また、本発明のアルカリ可溶性バインダー
においては、更に、反応性二重結合基の導入により重合
性のバインダーとすることで形成される遮光層の各種強
度を向上させることができる。導入される反応性二重結
合基は、1gあたり0.05ミリモル〜5ミリモル、好
ましくは0.2ミリモル〜3ミリモルの範囲である。ま
た、適度なアルカリ現像液耐性を付与するためには、そ
の酸価が50mgKOH/g〜250mgKOH/g、
好ましくは60mgKOH/g〜150mgKOH/g
の範囲である。
【0065】酸価数が250mgKOH/gを越える
と、露光・現像後においてパターン解像はされるが、ア
ルカリ現像液に対する耐性がなく、現像パターン面に小
さなクラックが発生し、ここからアルカリ現像液の浸透
が急速に生じて最終的にはガラス基板面からレジスト剥
がれ(剥離)を引き起こす。また、酸価数が50mgK
OH/g未満であると、アルカリに対する溶解性が無く
なり、未露光部でも溶解が起こらず、適切なパターン形
成が行えない。
【0066】アルカリ可溶性バインダーの平均分子量
は、2000〜20,000、好ましくは3000〜1
5,000の範囲である。2000未満ではバインダー
として十分に機能せず、20,000を越えると顔料同
士の凝集物を作りやすく、顔料凝集に起因する組成物寿
命や、基板密着性、パターン形成性や塗膜の平滑性の低
下を引き起こすため好ましくない。また、アルカリ可溶
性バインダーとして、上述したエポキシ樹脂を使用する
と、遮光層用組成物中での顔料に対する分散安定化の効
果も有する。
【0067】アルカリ可溶性バインダーとして好ましい
エポキシ樹脂としては、例えば昭和高分子(株)製「ビ
スフェノールA型エポキシアクリレート、VR−60T
H、1gあたりの二重結合基0.29ミリモル、酸価7
0mgKOH/g、平均分子量7,000」、「ビスフ
ェノールA型エポキシアクリレート、VR−90TH、
1gあたりの二重結合基0.57ミリモル、酸価125
mgKOH/g、平均分子量3500」、「クレゾール
型ノボラック型エポキシアクリレート、1gあたりの二
重結合基0.6ミリモル、酸価110mgKOH/g、
平均分子量7500」、「フェノールノボラック型エポ
キシアクリレート、1gあたりの二重結合基0.6ミリ
モル、酸価120mgKOH/g、平均分子量550
0」等が挙げられる。
【0068】アルカリ可溶性バインダーは、遮光層用組
成物中の全固形分の5重量%〜80重量%、好ましくは
5重量%〜60重量%の範囲である。
【0069】本発明のアルカリ可溶性バインダーには、
例えば特願平8−95884号)に記載される高分子量
のものでも、アルカリ可溶性バインダーとして好ましい
エポキシ樹脂の作用を損なわない範囲において併用して
もよい。
【0070】次に、光重合性モノマーとしては、一つの
分子中に3個以上の二重結合官能基を持つ多官能アクリ
レートや多官能メタアクリレート(以下、アクリレート
体とメタクリレート体とを同時に示す場合(メタ)アク
リレートと称する)が好ましい。多官能(メタ)アクリ
レートにおいて、官能基数が6を越えると、膜自身が固
くなる反面、脆くなるため十分な強度が発現し得ず、4
未満では効果が不十分で、この場合も強度が不十分とな
ることが考えられるが、実使用上は3個以上の二重結合
基を有していればよい。特に5個の二重結合基を持つジ
ペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート及び
その誘導体が好ましい。
【0071】その他にも、例えば、ポリエチレングリコ
ールジ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコー
ルジ(メタ)アクリレート、トリメチロールエタントリ
アクリレート、トリメチロールプロパンジアクリレー
ト、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、
ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ペ
ンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジペン
タエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペン
タエリスリトールヘキサアクリレート、ヘキサンジオー
ルジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパント
リ(アクリロイルオキシプロピル)エーテル、トリ(ア
クリロイルオキシエチル)イソシアヌレート、トリ(ア
クリロイルオキシエチル)シアヌレート、グリセリント
リ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパンやグ
リセリン等の多官能アルコールにエチレンオキシドやプ
ロピレンオキシドを付加反応した後に(メタ)アクリレ
ート化したもの、ポリエステルアクリレート類が挙げら
れる。また、上記のアクリレート体とメタクリレート体
とはそれぞれ単独、また混合して使用してもよく、ま
た、モノマーの他にプレポリマー、即ち、2量体や3量
体も有効である。上記モノマーの含有量は、遮光層用組
成物中の全固形分の5重量%〜50重量%、好ましくは
5重量%〜40重量%の範囲である。
【0072】また、上述した本発明の光重合性顔料分散
剤は、遮光層用組成物の全固形分に対して、2重量%〜
80重量%、好ましくは2重量%〜40重量%添加す
る。2重量%よりが少ないと分散安定性が不十分であ
り、経時的に粘度上昇や顔料の沈降が生じる。また、前
述したように、光重合性分散剤に対して、0〜80重量
%の割合で、光硬化性を有しない一般的な分散剤を加え
てもよい。80重量%を越えると、本発明の主眼とする
反応性が低下し、その効果が認められなくなる。
【0073】光重合性開始剤としては、チオキサントン
系、アセトフェノン系、ベンゾフェノン系、ベンゾイン
エーテル系、パーオキシド系、ビイミダゾール系の化合
物が挙げられ、感度の向上などの必要性に応じて、アミ
ン系やキノン系の光重合促進剤の添加が有効である。
【0074】光重合開始剤や光重合促進剤の含有量は、
遮光層用組成物の全固形分の0.5重量%〜40重量
%、好ましくは5重量%〜40重量%である。
【0075】溶剤としては、遮光層用組成物の塗布適
性、アルカリ可溶性バインダー等のポリマーやモノマ
ー、光重合性顔料分散剤、光重合開始剤に対する溶解
性、ならびに顔料の分散性を考慮して、下記に示す1種
又は2種以上の溶剤を適宜選択して用いることができる
が、好ましくは多価アルコールまたはその誘導体を1種
以上含むことが望ましい。特に、顔料の分散性を考慮す
ると、20℃で水100重量部に対して20重量部以上
の溶解性を持つ多価アルコールまたはその誘導体が有効
である。
【0076】溶剤の具体例としては、エチレングリコー
ルモノメチルエーテル、エチレングリコールモノメチル
エーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエ
ーテル、グリコールモノエチルエーテルアセテート、エ
チレングリコールモノプロピルエーテル、エチレングリ
コールモノプロピルエーテルアセテート、エチレングリ
コールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノブ
チルエーテルアセテート、エチレングリコールジエチル
エーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、エ
チレングリコールイソアミルエーテル、メトキシメトキ
シエーテル、エチレングリコールモノアセテート、ジエ
チレングリコール、ジエチレングリコールモノメチルエ
ーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジ
エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジ
エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジ
エチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリ
コールジエチルエーテル、ジエチレングリコールメチル
エチルエーテル、プロピレングリコール、プロピレング
リコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモ
ノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモ
ノエチルエーテル、1−ブトキシエトキシプロパノー
ル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、3−
メチル−3−メトキシブタノール、3−メチル−3−メ
トキシブチルアセテート、メチルアミルケトン、乳酸メ
チル、乳酸エチル、メチル−α−ヒドロキシイソブチレ
ート、メチル−β−メトキシイソブチレート等が挙げら
れる。
【0077】本発明の遮光層用組成物には、以上の成分
の他に、組成物が塗布される基板との密着性を付与する
ために、組成物中にシランカップリング剤やチタネート
カップリング剤、アルミニウムカップリング剤等を添加
することができる。
【0078】また、塗膜におけるベタツキ防止は、本発
明の顔料分散剤も作用するが、更に、塗膜物性改良剤を
添加してもよく、例えば綜研化学(株)製「L−20−
3(グラフトポリマー)、二重結合基0モル%、酸価0
mgKOH/g、平均分子量56,000」、「L−4
03A、二重結合基0モル%、酸価0mgKOH/g、
平均分子量30,000」、「LH−448、二重結合
基0モル%、酸価0mgKOH/g、平均分子量30,
000」等を、遮光層用組成物の全固形分の0.1重量
%〜50重量%、好ましくは0.1重量%〜30重量%
の範囲で添加してもよい。
【0079】本発明の遮光層用組成物は、公知の方法で
基板上に塗布、および乾燥させることにより、基板上に
遮光層を形成することができる。塗布の方法の具体例と
しては、スピンナー、ホワイラーローラーコーター、カ
ーテンコーター、ナイフコーター、バーコーター、エク
ストルーダー等が挙げられ、乾燥後膜厚0.5μm〜5
μm、好ましくは0.5μm〜3μmで塗工される。
【0080】遮光層を形成した基板の露光に際しては、
光源は遮光層の感光性に応じて選択され、超高圧水銀
灯、キセノン灯、カーボンアーク灯、アルゴンレーザー
等の公知のものが使用できる。
【0081】パターン露光した遮光層を現像するための
現像液として好適に用いられるものはアルカリ水系現像
剤である。アルカリ水系現像液とは、現像を水系で行な
うため、狭義には現像時にOH- を放出する現像液であ
る。このアルカリ水系現像液のpHは、最適には7.5
〜12までの領域である。使用するアルカリ成分は、例
えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウ
ム、さらに有機アンモニウム系化合物、例えば水酸化テ
トラエチルアンモニウムで、その他、硫化物、酸化物或
いは弱酸の陰イオン(例えば、F- 、CN- 等)等によ
り加水分解されたものが挙げられる。また、このpH領
域の緩衝溶液を調製してアルカリ水系現像液として使用
してもよい。
【0082】本発明の遮光層用組成物は、透明基板上に
赤、緑および青の画素を区画するためのブラックマトリ
ックスの形成に使用され、その後公知の方法に従って、
赤、緑、青の画素が形成される。その表面にさらに透明
電極層を設けてカラーフィルタとされる。ただし、必要
に応じて、透明導電層を設ける前に保護膜が形成され
る。
【0083】以下、本発明を実施例によって具体的に説
明するが、本発明はそれらによって何ら限定されるもの
でない。実施例中の「部」は重量部を意味する。
【0084】
【実施例】(1)光重合性顔料分散剤の作製 (ブロックポリマーの合成)温度計、攪拌機、滴下ロー
ト、ガス導入管及び還流冷却器を備えたガラス製反応容
器にメタクリル酸−2−ヒドロキシエチル39部と、エ
チルセルソルブ390部とを仕込み、撹拌下に反応容器
内をアルゴンガス気流下で、80℃に加熱した。その
後、パーヘキサMC(二官能重合開始剤、日本油脂
(株)製)0.87部、エチルセルソルブ120部の混
合溶液を滴下した。30分間、80℃で反応させた後急
冷した。
【0085】次いで、反応溶液をヘキサンに滴下し、沈
殿精製を行った。減圧乾燥して得られたペルオキシ基末
端ポリメタクリル酸−2−ヒドロキシルエチル35部を
エチルセルソルブ390部に溶解し、この溶液にメタク
リル酸メチル30部を添加し、100℃に昇温し10時
間反応させた。反応溶液をヘキサンに滴下し、再沈殿精
製を行った。ろ過後、室温で減圧乾燥した。得られたポ
リマーをメチルイソブチルケトンで抽出した。メチルイ
ソブチルケトン可溶部はポリメタクリル酸に富んでお
り、これを除去し、ブロックポリマーを50部得た。
【0086】得られたブロックポリマーは、ポリメタク
リル酸−2−ヒドロキシル/ポリメタクリル酸メチル
(重量比45/55)であり、重量平均分子量は30,
000であった。
【0087】(エチレン性不飽和二重結合の導入)次
に、得られたブロックポリマー5部、メチルエチルケト
ン100部、ジメチルホルムアミド10部、ハイドロキ
ノン0.1部を温度計、撹拌機を備えたガラス製反応容
器に仕込み、ポリマーが溶解した時点でメタクリル酸エ
チルイソシアネート1.5部を添加した。撹拌下に、5
0℃で18時間反応させた。反応溶液をヘキサンに滴下
し、沈殿を精製した。
【0088】ろ過後室温で減圧乾燥し、メタクロイル基
を、ブロックポリマー1g当たり3ミリモル含有し、重
量平均分子量30,000の光重合性顔料分散剤5.5
部を得た。
【0089】以下、得られた光重合性顔料分散剤を顔料
分散レジスト用分散剤として用い、レジスト特性を評価
した。
【0090】 (実施例1) (1)黒色顔料分散液の調製 ・黒色顔料:TMブラック#3952(CuMn2 4 のMnの一部をFeに置 換した複合酸化物微粒子表面付近にZrをZrO2 換算で複合金属酸化物に対し 2.5重量%、ZnをZnO換算で1.0重量%付与した顔料;大目精化工業( 株)製) ・・・ 100重量部 ・上記で得た光重合性顔料分散剤 ・・・ 3.5重量部 ・分散剤(高分子分散剤;Disperbyk 111、ビックケミー・ジャパ ン(株)製) ・・・ 3.5重量部 ・ジエチレングリコールジメチルエーテル ・・・ 136重量部 ・乳酸エチル ・・・ 15重量部 上記の各成分を混合し、サンドミルにて十分に分散し
た。
【0091】 (2)遮光層用組成物の調製 ・(1)で作製した黒色顔料分散液 ・・・ 61重量部 ・アルカリ可溶性バインダー{昭和高分子(株)製、VR−60TH(ビスフェ ノールA型エポキシアクリレート)} ・・・ 2.8重量部 ・光重合性モノマー(ジペンタエリスリトールペンタアクリレート) ・・・ 3.5重量部 ・光重合性開始剤 ・2−ベンジルー2−ジメチルアミノ−1ー(4−モルフォリノフェニル) −プタノン) ・・・ 1.6重量部 ・4,4′−ジエチルチオキサントン ・・・ 0.3重量部 ・2,4−ジエチルチオキサントン ・・・ 0.1重量部 ・ビイミダゾール ・・・ 0.4重量部 ・ジエチレングリコルジメチルエーテル・・・ 30重量部 上記の各成分を十分に混合して、本発明の遮光層用組成
物を得た。
【0092】(3)遮光層の作製 ガラス基板上に(2)で作製した遮光層用組成物をスピ
ンコーターで塗布し、100℃で3分間乾燥させ、膜厚
約1μmの遮光層を形成した。
【0093】(4)露光、及び現像 上記の遮光層に対して、窒素気流下、超高圧水銀灯で遮
光層パターンを、露光量500mJ/cm2 、300m
J/cm2 の2通りで露光した後、1%水酸化カリウム
水溶液で現像した。
【0094】 (比較例1) (1)黒色顔料分散液の調製 ・黒色顔料:TMブラック#3952(CuMn2 4 のMnの一部をFeに置 換した複合酸化物微粒子表面付近にZrをZrO2 換算で複合金属酸化物に対し 2.5重量%、ZnをZnO換算で1.0重量%付与した顔料;大目精化工業( 株)製) ・・・ 100重量部 ・分散剤(高分子分散剤;Disperbyk 111、ビックケミー・ジャパ ン(株)製) ・・・ 7重量部 ・ジエチレングリコールジメチルエーテル ・・・ 136重量部 ・乳酸エチル ・・・ 15重量部 上記の各成分を混合し、サンドミルにて十分に分散し
た。
【0095】(2)遮光層用組成物の調製 実施例1における遮光層用組成物の調製において、その
黒色顔料分散液に代えて(1)で作製した黒色顔料分散
液を使用した以外は同様にして遮光層用組成物を調製
し、また、実施例1と同様に遮光層を作製、露光、及び
現像した。
【0096】実施例1、比較例1において、露光量を5
00mJ/cm2 、300mJ/cm2 とするそれぞれ
の場合についての現像特性(解像度:μmライン&スペ
ース解像)を比較した結果を下記の表に示す。
【0097】
【表1】
【0098】表からわかるように、本発明の実施例1に
おいては、比較例1よりも現像特性が優れていることは
明らかである。
【0099】また、比較例1で作製された遮光層は、現
像時におけるパターン形成中にパターン部(顔料凝集
部)が容易に剥離したが、実施例1で作製される遮光層
は現像時や洗浄中での剥がれや欠落は認められなかっ
た。
【0100】
【発明の効果】本発明の光重合性顔料分散剤は、塗料の
分散安定性に優れると共に、塗膜の基材密着性とパター
ン形成性に優れるものであり、感光性着色組成物、特に
遮光層用組成物における分散剤として有用である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 FI C09D 7/12 C09D 7/12 A 163/10 163/10 G02B 5/00 G02B 5/00 B 5/20 101 5/20 101 5/22 5/22 G03F 7/027 501 G03F 7/027 501 // C08F 2/44 C08F 2/44 A C09D 11/00 C09D 11/00 (72)発明者 安藤 雅之 東京都新宿区市谷加賀町一丁目1番1号 大日本印刷株式会社内

Claims (10)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 親水性部と疎水性部とからなるブロック
    ポリマーであって、該ブロックポリマーがエチレン性不
    飽和二重結合を分子内に少なくとも1個有するものであ
    ることを特徴とする光重合性顔料分散剤。
  2. 【請求項2】 親水性部が、−OH基、−COOH基、
    −SO3 H基、−PO3 2 基、−PO(OH)(O
    R)基(Rは炭化水素基を表す)、又は低級ポリオキシ
    アルキレン基から選ばれる少なくとも一つの親水性基を
    少なくとも一種含有する重合体であることを特徴とする
    請求項1記載の光重合性顔料分散剤。
  3. 【請求項3】 ブロックポリマーの重量平均分子量が
    5,000〜200,000、ブロックポリマーの親水
    性部と疎水性部の重量比が5/95〜90/10である
    ことを特徴とする請求項1又は請求項2記載の光重合性
    顔料分散剤。
  4. 【請求項4】 エチレン性不飽和二重結合基導入量が、
    ブロックポリマー1gあたり0.1ミリモル〜5ミリモ
    ルであることを特徴とする請求項1〜請求項3のいずれ
    か一つ記載の光重合性分散剤。
  5. 【請求項5】 アルカリ可溶性バインダー、光重合性モ
    ノマー、光重合性開始剤、分散剤、顔料及び溶剤を主成
    分とし、該分散剤が、親水性部と疎水性部とからなり、
    エチレン性不飽和二重結合を分子内に少なくとも1個有
    するブロックポリマーを少なくとも1種含むことを特徴
    とする感光性着色組成物。
  6. 【請求項6】 アルカリ可溶性バインダー、光重合性モ
    ノマー、光重合性開始剤、分散剤、無機黒色顔料、及び
    溶剤を主成分とし、該分散剤が、親水性部と疎水性部と
    からなり、エチレン性不飽和二重結合を分子内に少なく
    とも1個有するブロックポリマーを少なくとも1種含む
    ことを特徴とする遮光層用組成物。
  7. 【請求項7】 無機黒色顔料が、少なくとも銅、マンガ
    ン、鉄を含む複合金属酸化物であることを特徴とする請
    求項6記載の遮光層用組成物。
  8. 【請求項8】 光重合性モノマーが、3個〜6個の反応
    性二重結合基を持つ多官能アクリレート、及び/または
    多官能メタクリレートであることを特徴とする請求項
    6、または請求項7記載の遮光層用組成物。
  9. 【請求項9】 アルカリ可溶性バインダーの少なくとも
    一部が、1gあたり反応性二重結合基を0.05ミリモ
    ル〜5ミリモル含み、かつ、酸価が50mgKOH/g
    〜250mgKOH/gのエポキシ樹脂であることを特
    徴とする請求項6、または請求項7記載の遮光層用組成
    物。
  10. 【請求項10】 エポキシ樹脂がビスフェノールA型ビ
    ニルエステルであることを特徴とする請求項9記載の遮
    光層用組成物。
JP1542998A 1998-01-28 1998-01-28 光重合性顔料分散剤、感光性着色組成物及び遮光層用組成物 Pending JPH11209558A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP1542998A JPH11209558A (ja) 1998-01-28 1998-01-28 光重合性顔料分散剤、感光性着色組成物及び遮光層用組成物

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP1542998A JPH11209558A (ja) 1998-01-28 1998-01-28 光重合性顔料分散剤、感光性着色組成物及び遮光層用組成物

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH11209558A true JPH11209558A (ja) 1999-08-03

Family

ID=11888549

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP1542998A Pending JPH11209558A (ja) 1998-01-28 1998-01-28 光重合性顔料分散剤、感光性着色組成物及び遮光層用組成物

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH11209558A (ja)

Cited By (25)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001262057A (ja) * 2000-03-23 2001-09-26 C I Kasei Co Ltd 金属酸化物超微粒子を含有する塗布液組成物およびその製造方法、ならびに塗布液組成物を塗布した着色ランプ
JP2001343517A (ja) * 2000-06-01 2001-12-14 Dainippon Printing Co Ltd カラーフィルタ用顔料分散組成物とその製造方法およびディスプレー用カラーフィルタ
WO2003071356A1 (en) * 2002-02-22 2003-08-28 Sony Corporation Resist material and microfabrication method
JP2004097955A (ja) * 2002-09-10 2004-04-02 Konica Minolta Holdings Inc 高分子分散剤、それを用いた光硬化性材料及び熱硬化性材料
WO2004034391A1 (ja) * 2002-10-10 2004-04-22 Sony Corporation 光ディスク用原盤の製造方法及び光ディスクの製造方法
WO2004047096A1 (ja) * 2002-11-20 2004-06-03 Sony Corporation 光ディスク製造用原盤の作製方法及び光ディスクの製造方法
US7090784B2 (en) 1999-06-07 2006-08-15 Kabushiki Kaisha Toshiba Method for manufacturing porous structure and method for forming pattern
US7166394B2 (en) * 2000-06-01 2007-01-23 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Pigment dispersion composition for color filter, production method thereof, and color filter for display
JP2007537313A (ja) * 2004-05-11 2007-12-20 アルケマ フランス カーボンナノチューブとポリマーマトリックスとをベースにした複合材料と、その製造方法
JP2008039944A (ja) * 2006-08-02 2008-02-21 Fujifilm Corp 感光性組成物及びそれを用いた感光性転写材料、表示装置用遮光膜及びその形成方法、遮光膜付基板並びに表示装置
JP2008070822A (ja) * 2006-09-15 2008-03-27 Fujifilm Corp 硬化性組成物、カラーフィルタ及びその製造方法
KR100841188B1 (ko) 2007-03-21 2008-06-24 삼성전자주식회사 다기능 관능기 헤드를 갖는 분산제 및 이를 포함하는형광체 페이스트 조성물
WO2008102834A1 (ja) * 2007-02-22 2008-08-28 Toagosei Co., Ltd. 硬化型顔料分散剤
JP2008250273A (ja) * 2006-05-24 2008-10-16 Jsr Corp 感放射線性樹脂組成物、スペーサーおよびその形成方法
KR100866070B1 (ko) * 2001-05-21 2008-10-31 시바 홀딩 인크 개질된 블록 공중합체 분산제를 포함하는 안료 조성물, 안료 분산제 및 안료 조성물의 제조방법
JP2008540722A (ja) * 2005-05-03 2008-11-20 ロディア・シミ 両親媒性ブロック重合体によって安定化されたオルガノゾル
JP2009256636A (ja) * 2008-03-19 2009-11-05 Tokai Carbon Co Ltd 顔料分散組成物、活性エネルギー線硬化型インキ及び活性エネルギー線硬化型塗料
WO2010084913A1 (ja) * 2009-01-22 2010-07-29 日本製紙ケミカル株式会社 活性エネルギー線硬化型樹脂組成物
JP2011068823A (ja) * 2009-09-28 2011-04-07 Fujifilm Corp インク組成物及び印刷物成型体の製造方法
JP2012506935A (ja) * 2008-10-30 2012-03-22 エシロール アテルナジオナール カンパニー ジェネラーレ デ オプティック 優れた帯電防止性を有する被覆された物品を提供する導電性高分子をベースとした硬化性被覆組成物
JP2013049864A (ja) * 2005-08-03 2013-03-14 Dnp Fine Chemicals Co Ltd 重合体組成物の製造方法および重合体組成物
JP2013237804A (ja) * 2012-05-16 2013-11-28 Mitsubishi Chemicals Corp 無機化合物分散液、硬化性樹脂組成物、硬化物、tftアクティブマトリックス基板、液晶表示装置及び分散液の製造方法
JP2014025068A (ja) * 2004-04-02 2014-02-06 Dow Global Technologies Llc 両親媒性ブロックコポリマー強化熱硬化樹脂
WO2016136454A1 (ja) * 2015-02-25 2016-09-01 Dic株式会社 硬化性組成物とその硬化物、及び光学部材
JP2017014533A (ja) * 2016-10-26 2017-01-19 三菱化学株式会社 無機化合物分散液の製造方法

Cited By (43)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8043520B2 (en) 1999-06-07 2011-10-25 Kabushiki Kaisha Toshiba Method for manufacturing porous structure and method for forming pattern
US8778201B2 (en) 1999-06-07 2014-07-15 Kabushiki Kaisha Toshiba Method for manufacturing porous structure and method for forming pattern
US8435416B2 (en) 1999-06-07 2013-05-07 Kabushiki Kaisha Toshiba Method for manufacturing porous structure and method for forming pattern
US8394877B2 (en) 1999-06-07 2013-03-12 Kabushika Kaisha Toshiba Method for manufacturing porous structure and method for forming pattern
US7090784B2 (en) 1999-06-07 2006-08-15 Kabushiki Kaisha Toshiba Method for manufacturing porous structure and method for forming pattern
US7097781B2 (en) 1999-06-07 2006-08-29 Kabushiki Kaisha Toshiba Method for manufacturing porous structure and method for forming pattern
US7517466B2 (en) 1999-06-07 2009-04-14 Kabushiki Kaisha Toshiba Method for manufacturing porous structure and method for forming pattern
JP2001262057A (ja) * 2000-03-23 2001-09-26 C I Kasei Co Ltd 金属酸化物超微粒子を含有する塗布液組成物およびその製造方法、ならびに塗布液組成物を塗布した着色ランプ
JP2001343517A (ja) * 2000-06-01 2001-12-14 Dainippon Printing Co Ltd カラーフィルタ用顔料分散組成物とその製造方法およびディスプレー用カラーフィルタ
US6514644B2 (en) * 2000-06-01 2003-02-04 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Pigment dispersion composition for color filter, production method thereof, and color filter for display
US7312006B2 (en) * 2000-06-01 2007-12-25 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Pigment dispersion composition for color filter, production method thereof, and color filter for display
US7166394B2 (en) * 2000-06-01 2007-01-23 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Pigment dispersion composition for color filter, production method thereof, and color filter for display
KR100773436B1 (ko) * 2000-06-01 2007-11-05 다이니폰 인사츠 가부시키가이샤 컬러필터용 안료 분산 조성물과 그 제조 방법 및표시장치용 컬러필터
KR100866070B1 (ko) * 2001-05-21 2008-10-31 시바 홀딩 인크 개질된 블록 공중합체 분산제를 포함하는 안료 조성물, 안료 분산제 및 안료 조성물의 제조방법
US7344822B2 (en) 2002-02-22 2008-03-18 Sony Corporation Resist material and nanofabrication method
WO2003071356A1 (en) * 2002-02-22 2003-08-28 Sony Corporation Resist material and microfabrication method
US7175962B2 (en) 2002-02-22 2007-02-13 Sony Corporation Resist material and nanofabrication method
US7560220B2 (en) 2002-02-22 2009-07-14 Sony Corporation Resist material and nanofabrication method
JP2004097955A (ja) * 2002-09-10 2004-04-02 Konica Minolta Holdings Inc 高分子分散剤、それを用いた光硬化性材料及び熱硬化性材料
US7670514B2 (en) 2002-10-10 2010-03-02 Sony Corporation Method of producing optical disk-use original and method of producing optical disk
WO2004034391A1 (ja) * 2002-10-10 2004-04-22 Sony Corporation 光ディスク用原盤の製造方法及び光ディスクの製造方法
US8097189B2 (en) 2002-10-10 2012-01-17 Sony Corporation Method for manufacturing optical disc master and method for manufacturing optical disc
WO2004047096A1 (ja) * 2002-11-20 2004-06-03 Sony Corporation 光ディスク製造用原盤の作製方法及び光ディスクの製造方法
US7648671B2 (en) 2002-11-20 2010-01-19 Sony Corporation Method of making master for manufacturing optical disc and method of manufacturing optical disc
JP2014025068A (ja) * 2004-04-02 2014-02-06 Dow Global Technologies Llc 両親媒性ブロックコポリマー強化熱硬化樹脂
JP2007537313A (ja) * 2004-05-11 2007-12-20 アルケマ フランス カーボンナノチューブとポリマーマトリックスとをベースにした複合材料と、その製造方法
JP2008540722A (ja) * 2005-05-03 2008-11-20 ロディア・シミ 両親媒性ブロック重合体によって安定化されたオルガノゾル
JP2013049864A (ja) * 2005-08-03 2013-03-14 Dnp Fine Chemicals Co Ltd 重合体組成物の製造方法および重合体組成物
JP2008250273A (ja) * 2006-05-24 2008-10-16 Jsr Corp 感放射線性樹脂組成物、スペーサーおよびその形成方法
JP2008039944A (ja) * 2006-08-02 2008-02-21 Fujifilm Corp 感光性組成物及びそれを用いた感光性転写材料、表示装置用遮光膜及びその形成方法、遮光膜付基板並びに表示装置
JP2008070822A (ja) * 2006-09-15 2008-03-27 Fujifilm Corp 硬化性組成物、カラーフィルタ及びその製造方法
WO2008102834A1 (ja) * 2007-02-22 2008-08-28 Toagosei Co., Ltd. 硬化型顔料分散剤
JPWO2008102834A1 (ja) * 2007-02-22 2010-05-27 東亞合成株式会社 硬化型顔料分散剤
KR100841188B1 (ko) 2007-03-21 2008-06-24 삼성전자주식회사 다기능 관능기 헤드를 갖는 분산제 및 이를 포함하는형광체 페이스트 조성물
JP2009256636A (ja) * 2008-03-19 2009-11-05 Tokai Carbon Co Ltd 顔料分散組成物、活性エネルギー線硬化型インキ及び活性エネルギー線硬化型塗料
JP2012506935A (ja) * 2008-10-30 2012-03-22 エシロール アテルナジオナール カンパニー ジェネラーレ デ オプティック 優れた帯電防止性を有する被覆された物品を提供する導電性高分子をベースとした硬化性被覆組成物
WO2010084913A1 (ja) * 2009-01-22 2010-07-29 日本製紙ケミカル株式会社 活性エネルギー線硬化型樹脂組成物
US8748507B2 (en) 2009-01-22 2014-06-10 Nippon Paper Chemicals Co., Ltd. Active energy ray curable resin composition
JP2011068823A (ja) * 2009-09-28 2011-04-07 Fujifilm Corp インク組成物及び印刷物成型体の製造方法
JP2013237804A (ja) * 2012-05-16 2013-11-28 Mitsubishi Chemicals Corp 無機化合物分散液、硬化性樹脂組成物、硬化物、tftアクティブマトリックス基板、液晶表示装置及び分散液の製造方法
WO2016136454A1 (ja) * 2015-02-25 2016-09-01 Dic株式会社 硬化性組成物とその硬化物、及び光学部材
JPWO2016136454A1 (ja) * 2015-02-25 2017-04-27 Dic株式会社 硬化性組成物とその硬化物、及び光学部材
JP2017014533A (ja) * 2016-10-26 2017-01-19 三菱化学株式会社 無機化合物分散液の製造方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPH11209558A (ja) 光重合性顔料分散剤、感光性着色組成物及び遮光層用組成物
JPH11209554A (ja) 光重合性顔料分散剤、感光性着色組成物及び遮光層用組成物
JP2000104005A (ja) 顔料分散剤、感光性着色組成物及び遮光層用組成物
US6001533A (en) Composition for forming non-conductive light-shielding layer, and non-conductive light-shielding layer containing same
TWI421631B (zh) 感光性接枝聚合物及含其所成感光性樹脂組成物
JP2002273191A (ja) 顔料分散剤および感光性着色組成物
JP7618131B2 (ja) 共重合体、これを含む防錆コーティング組成物、分散剤およびレジスト樹脂
TW200831618A (en) Pigment dispersed composition for black matrix and photoresist including the same
JP2000104006A (ja) 顔料分散剤、感光性着色組成物及び遮光層用組成物
JP4423575B2 (ja) カラーフィルター用顔料分散組成物
TW200424219A (en) Photosensitive resin composition using photopolymer
JPH11349842A (ja) 光重合性顔料分散剤、感光性着色組成物及び遮光層用組成物
KR101642844B1 (ko) 컬러필터용 감광성 착색 조성물 및 컬러필터
JPH1090511A (ja) 非導電性遮光層用組成物、非導電性遮光層及びカラーフイルター
CN101587299B (zh) 滤色器用感光性着色组合物及滤色器
JP2002296770A (ja) 感光性着色組成物
JPH1090512A (ja) 非導電性遮光層用組成物、非導電性遮光層及びカラーフイルター
JPH10133365A (ja) 非導電性遮光層用組成物、非導電性遮光層及びカラーフイルター
JPH1046050A (ja) 顔料分散物及びそれを用いた被覆剤組成物
JPH11202123A (ja) 非導電性遮光層用組成物、非導電性遮光層、およびカラーフィルター
JPH11172150A (ja) 非導電性遮光層用組成物、非導電性遮光層、およびカラーフィルター
WO2006011446A1 (ja) カラーフィルター用組成物及びカラーフィルター
JP2002296769A (ja) 感光性着色組成物
CN115677939A (zh) 一种感光性接枝聚合物以及含有其的感光性树脂组合物
JP3590481B2 (ja) 顔料分散物及びそれを用いた被覆剤組成物