JPH1121333A - エポキシエステル樹脂の製造法およびそれを含む感光性樹脂組成物 - Google Patents
エポキシエステル樹脂の製造法およびそれを含む感光性樹脂組成物Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 エポキシ基、水酸基、カルボキシル基が
共存していても貯蔵安定性に優れるエポキシエステル、
およびこれを含む貯蔵安定性に優れる感光性樹脂組成物
の提供。 【解決手段】 エポキシ基とカルボキシル基とを反応さ
せてエポキシエステルを形成する工程において触媒とし
て有機硫黄化合物を使用する。
共存していても貯蔵安定性に優れるエポキシエステル、
およびこれを含む貯蔵安定性に優れる感光性樹脂組成物
の提供。 【解決手段】 エポキシ基とカルボキシル基とを反応さ
せてエポキシエステルを形成する工程において触媒とし
て有機硫黄化合物を使用する。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、印刷回路基板製造
用のレジスト材料、PDP蛍光体作成用ビヒクル材料を
含む各種画像形成用材料、コーティング材料など広範囲
に利用可能なエポキシエステルの製造法に関するもので
ある。
用のレジスト材料、PDP蛍光体作成用ビヒクル材料を
含む各種画像形成用材料、コーティング材料など広範囲
に利用可能なエポキシエステルの製造法に関するもので
ある。
【0002】
【従来の技術】エポキシ樹脂は元来、耐熱性、耐薬品
性、密着性、機械物性、電気特性等に優れるため電子材
料を含めた幅広い分野において使用されている。しか
し、上記の様な各種物性に優れるエポキシ樹脂ではある
が、ハンドリング上の欠点がないわけではない。
性、密着性、機械物性、電気特性等に優れるため電子材
料を含めた幅広い分野において使用されている。しか
し、上記の様な各種物性に優れるエポキシ樹脂ではある
が、ハンドリング上の欠点がないわけではない。
【0003】例えば、耐熱性、耐薬品性、密着性が要求
される分野である画像形成材料分野では、エポキシ樹脂
は材料としては好適であるが、実質的にはエポキシ樹脂
単独では現像することができず、現像性を有する他の樹
脂と混合して使用されるのが一般的である。この場合に
はエポキシ樹脂と他の現像性を有する樹脂の相溶性、ハ
ンドリング上の問題があり、使用上制約がある。
される分野である画像形成材料分野では、エポキシ樹脂
は材料としては好適であるが、実質的にはエポキシ樹脂
単独では現像することができず、現像性を有する他の樹
脂と混合して使用されるのが一般的である。この場合に
はエポキシ樹脂と他の現像性を有する樹脂の相溶性、ハ
ンドリング上の問題があり、使用上制約がある。
【0004】このエポキシ樹脂の欠点を補う手段とし
て、エポキシ化合物と重合性不飽和(モノ)カルボン酸
と多塩基酸無水物とを反応させて得られるカルボン酸付
加エポキシエステル樹脂を使用する方法が取られてき
た。カルボン酸付加エポキシエステル樹脂は、基本的な
構造がエポキシ樹脂に由来しているため、耐薬品性、耐
水性、機械物性等が優れており、また、光、熱いずれに
よっても硬化可能であり、かつカルボキシル基を有して
いるため、アルカリ水溶液によって現像可能であるた
め、印刷回路基板用レジスト材料を含む画像形成材料な
どの用途に広く使用されている。
て、エポキシ化合物と重合性不飽和(モノ)カルボン酸
と多塩基酸無水物とを反応させて得られるカルボン酸付
加エポキシエステル樹脂を使用する方法が取られてき
た。カルボン酸付加エポキシエステル樹脂は、基本的な
構造がエポキシ樹脂に由来しているため、耐薬品性、耐
水性、機械物性等が優れており、また、光、熱いずれに
よっても硬化可能であり、かつカルボキシル基を有して
いるため、アルカリ水溶液によって現像可能であるた
め、印刷回路基板用レジスト材料を含む画像形成材料な
どの用途に広く使用されている。
【0005】しかしながら、上記カルボン酸付加エポキ
シエステル樹脂は、その硬化物と併用される基材、充填
材との密着性は十分とはいえず、高い精度が要求される
用途、例えば電子製品材料としては、十分に満足のいく
材料とはいえない。
シエステル樹脂は、その硬化物と併用される基材、充填
材との密着性は十分とはいえず、高い精度が要求される
用途、例えば電子製品材料としては、十分に満足のいく
材料とはいえない。
【0006】また画像形成材料として使用される場合に
は、エポキシ樹脂と混合して使用するなどの方法がしば
しば用いられるが、エポキシエステル樹脂を合成する際
の触媒が残存するため、樹脂の貯蔵安定性に欠ける欠点
がある。
は、エポキシ樹脂と混合して使用するなどの方法がしば
しば用いられるが、エポキシエステル樹脂を合成する際
の触媒が残存するため、樹脂の貯蔵安定性に欠ける欠点
がある。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】そこで、上記問題点を
解決する1つの方法として、1分子中にエポキシ基及び
カルボキシル基を含有するエポキシエステルを製造し、
使用する方法が考えられる。
解決する1つの方法として、1分子中にエポキシ基及び
カルボキシル基を含有するエポキシエステルを製造し、
使用する方法が考えられる。
【0008】しかしながら、従来知られている方法で
は、エポキシエステルの合成時の触媒がエポキシ基とカ
ルボキシル基が安定に共存することを困難にするため、
このような材料を得ることが困難であった。
は、エポキシエステルの合成時の触媒がエポキシ基とカ
ルボキシル基が安定に共存することを困難にするため、
このような材料を得ることが困難であった。
【0009】また特許2593019号には、3価のリ
ン化合物を触媒としてカルボン酸付加不飽和エポキシエ
ステルを製造した後、この触媒を酸化させることにより
不活性化させ、貯蔵安定性を向上させる方法が開示され
ている。しかし、この方法では触媒を酸化させる段階で
樹脂のゲル化を招きやすい欠点を有している。さらに、
本来の反応には不要な触媒の不活性化の工程を必要と
し、工業的に十分満足できる方法ではない。
ン化合物を触媒としてカルボン酸付加不飽和エポキシエ
ステルを製造した後、この触媒を酸化させることにより
不活性化させ、貯蔵安定性を向上させる方法が開示され
ている。しかし、この方法では触媒を酸化させる段階で
樹脂のゲル化を招きやすい欠点を有している。さらに、
本来の反応には不要な触媒の不活性化の工程を必要と
し、工業的に十分満足できる方法ではない。
【0010】本発明は、こうした実情の下に、系中にエ
ポキシ基と水酸基及びカルボキシル基を含有しながら貯
蔵安定性に優れたエポキシエステル系感光性樹脂組成物
を提供し、また、そのための貯蔵安定性に優れたエポキ
シエステルおよびそのカルボン酸付加体の製造方法を提
供することを目的とするものである。
ポキシ基と水酸基及びカルボキシル基を含有しながら貯
蔵安定性に優れたエポキシエステル系感光性樹脂組成物
を提供し、また、そのための貯蔵安定性に優れたエポキ
シエステルおよびそのカルボン酸付加体の製造方法を提
供することを目的とするものである。
【0011】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、前記の課
題を解決するため鋭意研究した結果、エポキシ化合物と
カルボン酸とを反応させる際に、有機硫黄化合物を使用
することにより、エポキシエステル樹脂の合成が極めて
理想的に進行する事を見いだした。さらに、驚いたこと
には、有機硫黄化合物を触媒として使用した場合、1分
子中にエポキシ基及びカルボキシル基を共に含有するカ
ルボン酸付加エポキシエステルの、貯蔵安定性が飛躍的
に向上させられることを見いだし、本発明に至った。
題を解決するため鋭意研究した結果、エポキシ化合物と
カルボン酸とを反応させる際に、有機硫黄化合物を使用
することにより、エポキシエステル樹脂の合成が極めて
理想的に進行する事を見いだした。さらに、驚いたこと
には、有機硫黄化合物を触媒として使用した場合、1分
子中にエポキシ基及びカルボキシル基を共に含有するカ
ルボン酸付加エポキシエステルの、貯蔵安定性が飛躍的
に向上させられることを見いだし、本発明に至った。
【0012】すなわち、本発明は、(1)エポキシ基と
カルボキシル基を反応させてエポキシエステルを得る工
程において有機硫黄化合物を触媒として使用することを
特徴とする貯蔵安定性に優れたエポキシエステルの製造
法、(2)有機硫黄化合物中の硫黄の内、少なくとも1
原子が2価あるいは4価であり、かつ金属元素およびV
B族元素を含まないことを特徴とする上記(1)記載の
エポキシエステルの製造法、(3)エポキシエステルの
製造後、生じた水酸基に多塩基酸無水物を付加させてな
る、上記(1)、(2)記載のエポキシエステルのカル
ボン酸付加体の製造法、(4)上記(1)、(2)記載
の方法によって製造されるエポキシエステル、エポキシ
化合物、カルボキシル化合物を含有し、有機硫黄化合物
を含むことを特徴とする、保存安定性に優れた感光性樹
脂組成物、(5)上記(3)記載の方法によって製造さ
れるエポキシエステルのカルボン酸付加体、エポキシ化
合物を含有し、有機硫黄化合物を含むことを特徴とす
る、保存安定性に優れた感光性樹脂組成物、(6)エポ
キシ基とカルボキシル基を反応させてエポキシエステル
を得る工程において、カルボキシル基をエポキシ基に対
して当量比1未満として反応させて系中に未反応のエポ
キシ基が残存するエポキシエステルを得て、これにさら
に多塩基酸無水物を反応させてエポキシ基含有エポキシ
エステルの酸付加体を製造する際に、有機硫黄化合物を
エポキシエステルの合成反応の触媒として使用すること
を特徴とする、エポキシ基を含有しかつ保存安定性に優
れた自己硬化型カルボキシル化エポキシエステル樹脂の
製造法、(7)上記(6)記載の方法によって得られる
自己硬化型カルボキシル化エポキシエステル樹脂を含ん
でなる感光性樹脂組成物、(8)上記(4)、(5)ま
たは(7)記載の感光性樹脂組成物の硬化物、に関す
る。
カルボキシル基を反応させてエポキシエステルを得る工
程において有機硫黄化合物を触媒として使用することを
特徴とする貯蔵安定性に優れたエポキシエステルの製造
法、(2)有機硫黄化合物中の硫黄の内、少なくとも1
原子が2価あるいは4価であり、かつ金属元素およびV
B族元素を含まないことを特徴とする上記(1)記載の
エポキシエステルの製造法、(3)エポキシエステルの
製造後、生じた水酸基に多塩基酸無水物を付加させてな
る、上記(1)、(2)記載のエポキシエステルのカル
ボン酸付加体の製造法、(4)上記(1)、(2)記載
の方法によって製造されるエポキシエステル、エポキシ
化合物、カルボキシル化合物を含有し、有機硫黄化合物
を含むことを特徴とする、保存安定性に優れた感光性樹
脂組成物、(5)上記(3)記載の方法によって製造さ
れるエポキシエステルのカルボン酸付加体、エポキシ化
合物を含有し、有機硫黄化合物を含むことを特徴とす
る、保存安定性に優れた感光性樹脂組成物、(6)エポ
キシ基とカルボキシル基を反応させてエポキシエステル
を得る工程において、カルボキシル基をエポキシ基に対
して当量比1未満として反応させて系中に未反応のエポ
キシ基が残存するエポキシエステルを得て、これにさら
に多塩基酸無水物を反応させてエポキシ基含有エポキシ
エステルの酸付加体を製造する際に、有機硫黄化合物を
エポキシエステルの合成反応の触媒として使用すること
を特徴とする、エポキシ基を含有しかつ保存安定性に優
れた自己硬化型カルボキシル化エポキシエステル樹脂の
製造法、(7)上記(6)記載の方法によって得られる
自己硬化型カルボキシル化エポキシエステル樹脂を含ん
でなる感光性樹脂組成物、(8)上記(4)、(5)ま
たは(7)記載の感光性樹脂組成物の硬化物、に関す
る。
【0013】本発明においては、エポキシ基とカルボン
酸の反応が極めて当量的に進行する上、合成終了後特別
な操作を行わなくとも、貯蔵安定性に優れたエポキシエ
ステルが得られる。その効果は常温で、エポキシ基とカ
ルボン酸の反応を促進する触媒を実質的に含有しないに
匹敵する物であるため、たとえ1分子中にカルボキシル
基とエポキシ基とが存在している場合にも、非常に保存
性に優れたエポキシ基含有カルボン酸付加エポキシエス
テルを得ることができる。従って、従来、カルボン酸を
有する樹脂とエポキシ化合物とを混合し使用していた用
途、例えばレジスト材料などの場合においても、1液化
することが可能となり、使用時に生じる作業の煩雑さ、
相溶性の悪さ等の問題は生じない。
酸の反応が極めて当量的に進行する上、合成終了後特別
な操作を行わなくとも、貯蔵安定性に優れたエポキシエ
ステルが得られる。その効果は常温で、エポキシ基とカ
ルボン酸の反応を促進する触媒を実質的に含有しないに
匹敵する物であるため、たとえ1分子中にカルボキシル
基とエポキシ基とが存在している場合にも、非常に保存
性に優れたエポキシ基含有カルボン酸付加エポキシエス
テルを得ることができる。従って、従来、カルボン酸を
有する樹脂とエポキシ化合物とを混合し使用していた用
途、例えばレジスト材料などの場合においても、1液化
することが可能となり、使用時に生じる作業の煩雑さ、
相溶性の悪さ等の問題は生じない。
【0014】さらに本発明によれば、カルボン酸付加不
飽和エポキシエステルにエポキシ基を共存させることも
可能であり、従来のラジカル重合性を維持したまま、流
動性に優れ、かつ基材への密着性も良好な材料を一液で
提供することもできる。
飽和エポキシエステルにエポキシ基を共存させることも
可能であり、従来のラジカル重合性を維持したまま、流
動性に優れ、かつ基材への密着性も良好な材料を一液で
提供することもできる。
【0015】さらに、本発明の感光性樹脂組成物は、保
存性に優れているため、新たにエポキシ化合物を加え
て、耐熱性、耐薬品性等を向上させることができる。さ
らに、本発明においては水酸基、カルボキシル基、エポ
キシ基さらに不飽和基の間の比率を自由に設定すること
ができ、例えば、エポキシ基をカルボキシル基より当量
的に多く導入することにより、最終的にカルボキシル基
が硬化物中に残存しないシステムとすることも可能であ
り、硬化物の耐水性、電気特性などを向上させることが
できるという利点も持ち合わせている。
存性に優れているため、新たにエポキシ化合物を加え
て、耐熱性、耐薬品性等を向上させることができる。さ
らに、本発明においては水酸基、カルボキシル基、エポ
キシ基さらに不飽和基の間の比率を自由に設定すること
ができ、例えば、エポキシ基をカルボキシル基より当量
的に多く導入することにより、最終的にカルボキシル基
が硬化物中に残存しないシステムとすることも可能であ
り、硬化物の耐水性、電気特性などを向上させることが
できるという利点も持ち合わせている。
【0016】また、有機硫黄化合物が系中に残存するた
め、光に対する感度が高まる効果もあり、感光性樹脂組
成物として使用された場合、結果的に非常に感光性に優
れた材料を与える利点もある。
め、光に対する感度が高まる効果もあり、感光性樹脂組
成物として使用された場合、結果的に非常に感光性に優
れた材料を与える利点もある。
【0017】以下、本発明を詳細に説明する。
【0018】本発明のエポキシエステルの合成に使用さ
れるエポキシ化合物としては、クレゾールノボラック型
エポキシ樹脂やフェノールノボラック型エポキシ樹脂に
代表されるノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノール
型エポキシ樹脂、脂肪族型エポキシ樹脂、アミン型エポ
キシ樹脂、共重合型エポキシ樹脂等を使用することがで
きる。
れるエポキシ化合物としては、クレゾールノボラック型
エポキシ樹脂やフェノールノボラック型エポキシ樹脂に
代表されるノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノール
型エポキシ樹脂、脂肪族型エポキシ樹脂、アミン型エポ
キシ樹脂、共重合型エポキシ樹脂等を使用することがで
きる。
【0019】クレゾールノボラック型エポキシ樹脂の例
としては、東都化成(株)のYDCN701、YDCN
702、YDCN703、YDCN704、住友化学
(株)のESCN195HH、220HH等を挙げるこ
とができる。フェノールノボラック型エポキシ樹脂の例
としては、東都化成(株)のYDPN638、油化シェ
ルエポキシ(株)のエピコート152、エピコート15
4、日本化薬(株)のEPPN201、BREN等を挙
げることができる。ビスフェノール型エポキシ樹脂の例
としては、東都化成(株)のYD128、YD011、
YD014、YD017、YD901、YD904、油
化シェルエポキシ(株)のエピコート828、エピコー
ト1001、エピコート1004、エピコート100
7、エピコート1009、住友化学(株)のELA12
8、ESA011、ESA014、ESA017に代表
されるビスフェノールA型エポキシ樹脂、東都化成
(株)のYDF170、YDF2001、油化シェルエ
ポキシ(株)のエピコート807に代表されるビスフェ
ノールF型エポキシ樹脂、日本化薬(株)のEBPS−
300に代表されるビスフェノールS型エポキシ樹脂、
東都化成(株)のYDB400、YDB406、YDB
412、油化シェルエポキシ(株)のエピコート505
0、エピコート5051、住友化学(株)のELB24
0、ELB250に代表される臭素化エポキシ樹脂等を
挙げることができる。脂肪族型エポキシ樹脂としては、
東都化成(株)のST−1000、ST−3000に代
表される水添ビスフェノールA型エポキシ樹脂、プロピ
レングリコールポリグリシジルエーテル、ペンタエリス
リトールポリグリシジルエーテル等を挙げることができ
る。アミン型エポキシ樹脂としては、東都化成(株)の
YH−434等を挙げることができる。共重合型エポキ
シ樹脂としては、グリシジルメタクリレートとスチレン
との共重合体等を挙げることができる。これらは単独で
も2つ以上を混合しても使用することができる。本発明
に用いるエポキシ化合物としては、十分な耐熱性、耐薬
品性などの発現のため、1分子中に2個以上のエポキシ
基を有するエポキシ化合物が望ましい。
としては、東都化成(株)のYDCN701、YDCN
702、YDCN703、YDCN704、住友化学
(株)のESCN195HH、220HH等を挙げるこ
とができる。フェノールノボラック型エポキシ樹脂の例
としては、東都化成(株)のYDPN638、油化シェ
ルエポキシ(株)のエピコート152、エピコート15
4、日本化薬(株)のEPPN201、BREN等を挙
げることができる。ビスフェノール型エポキシ樹脂の例
としては、東都化成(株)のYD128、YD011、
YD014、YD017、YD901、YD904、油
化シェルエポキシ(株)のエピコート828、エピコー
ト1001、エピコート1004、エピコート100
7、エピコート1009、住友化学(株)のELA12
8、ESA011、ESA014、ESA017に代表
されるビスフェノールA型エポキシ樹脂、東都化成
(株)のYDF170、YDF2001、油化シェルエ
ポキシ(株)のエピコート807に代表されるビスフェ
ノールF型エポキシ樹脂、日本化薬(株)のEBPS−
300に代表されるビスフェノールS型エポキシ樹脂、
東都化成(株)のYDB400、YDB406、YDB
412、油化シェルエポキシ(株)のエピコート505
0、エピコート5051、住友化学(株)のELB24
0、ELB250に代表される臭素化エポキシ樹脂等を
挙げることができる。脂肪族型エポキシ樹脂としては、
東都化成(株)のST−1000、ST−3000に代
表される水添ビスフェノールA型エポキシ樹脂、プロピ
レングリコールポリグリシジルエーテル、ペンタエリス
リトールポリグリシジルエーテル等を挙げることができ
る。アミン型エポキシ樹脂としては、東都化成(株)の
YH−434等を挙げることができる。共重合型エポキ
シ樹脂としては、グリシジルメタクリレートとスチレン
との共重合体等を挙げることができる。これらは単独で
も2つ以上を混合しても使用することができる。本発明
に用いるエポキシ化合物としては、十分な耐熱性、耐薬
品性などの発現のため、1分子中に2個以上のエポキシ
基を有するエポキシ化合物が望ましい。
【0020】次に、カルボン酸を含有する化合物として
は、蟻酸、酢酸、プロピオン酸、酪酸、イソ酪酸、ラウ
リル酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸等
の脂肪族モノカルボン酸、トリイル酸、ナフトエ酸等の
芳香族モノカルボン酸、ジメチロール酢酸、ジメチロー
ルプロピオン酸、ジメチロールブタン酸、ジメチロール
酪酸、ジメチロール吉草酸、ジメチロールカプロン酸等
のジオール化合物を有するモノカルボン酸、アクリル
酸、メタクリル酸、クロトン酸、桂皮酸等の不飽和基含
有モノカルボン酸、マレイン酸、コハク酸、フタル酸、
テトラヒドロフタル酸、ヘキサヒドロフタル酸等のジカ
ルボン酸、及びトリメリット酸、ピロメリット酸等の多
価カルボン酸等を挙げることができる。本発明に用いる
カルボン酸を含有する化合物としては、モノカルボン酸
が望ましい。
は、蟻酸、酢酸、プロピオン酸、酪酸、イソ酪酸、ラウ
リル酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸等
の脂肪族モノカルボン酸、トリイル酸、ナフトエ酸等の
芳香族モノカルボン酸、ジメチロール酢酸、ジメチロー
ルプロピオン酸、ジメチロールブタン酸、ジメチロール
酪酸、ジメチロール吉草酸、ジメチロールカプロン酸等
のジオール化合物を有するモノカルボン酸、アクリル
酸、メタクリル酸、クロトン酸、桂皮酸等の不飽和基含
有モノカルボン酸、マレイン酸、コハク酸、フタル酸、
テトラヒドロフタル酸、ヘキサヒドロフタル酸等のジカ
ルボン酸、及びトリメリット酸、ピロメリット酸等の多
価カルボン酸等を挙げることができる。本発明に用いる
カルボン酸を含有する化合物としては、モノカルボン酸
が望ましい。
【0021】このエポキシ化合物とカルボン酸とのエポ
キシエステル化反応において、カルボン酸中のカルボキ
シル基/エポキシ化合物中のエポキシ基との当量比は、
要求物性、あるいは多塩基酸無水物の付加量に応じて、
任意の比率で行う事が出来る。
キシエステル化反応において、カルボン酸中のカルボキ
シル基/エポキシ化合物中のエポキシ基との当量比は、
要求物性、あるいは多塩基酸無水物の付加量に応じて、
任意の比率で行う事が出来る。
【0022】本エポキシエステル樹脂を合成する際に使
用する触媒は有機硫黄化合物である。「ビニルエステル
樹脂」(化学工業日報社、ビニルエステル樹脂研究会
編、P16)に記載されているように、有機硫黄化合物
はこれまでエポキシエステル化の反応時に、触媒として
の効果があることは知られていなかった。触媒として使
用される有機硫黄化合物は、硫黄元素を含有していれば
いかなる化合物であっても使用することができるが、製
造後の樹脂の安定性を考えると、金属元素、VB族元素
を含有しない化合物が望ましい。
用する触媒は有機硫黄化合物である。「ビニルエステル
樹脂」(化学工業日報社、ビニルエステル樹脂研究会
編、P16)に記載されているように、有機硫黄化合物
はこれまでエポキシエステル化の反応時に、触媒として
の効果があることは知られていなかった。触媒として使
用される有機硫黄化合物は、硫黄元素を含有していれば
いかなる化合物であっても使用することができるが、製
造後の樹脂の安定性を考えると、金属元素、VB族元素
を含有しない化合物が望ましい。
【0023】触媒として使用される有機硫黄化合物の例
として、ジアリルスルフィド、ジアリルジスルフィド、
チオジグリコール、1,2−ビス(2−ヒドロキシエチ
ルチオ)エタン、1,4−ビス(2−ヒドロキシエチル
チオ)ブタン、ジフェニルジスルフィド、ジベンジルジ
スルフィド、ジターシャリーブチルジスルフィド、3,
3′−ジチオジプロピオン酸、2,2′−ジチオジエタ
ノール、メチルチオプロピオン酸エチル、チオジプロピ
オン酸、チオジプロピオン酸ジオクチル、チオジプロピ
オン酸ジメチルなどのスルフィド、ジスルフィド類、
1,4−ジチアン、1,3−ジチアン、、チオフェン、
チオフェノン、1,4−チオキサン、チオナフテン、チ
アントレン、γ−チオブチロラクトン、チオテトロン
酸、チオキサンテン−9−オンなどの環状有機硫黄化合
物、ジメチルスルフォキシド、テトラメチレンスルフォ
ンなどの有機硫黄系溶剤などが、好適な例として上げら
れる。この中でも、触媒の活性の点から、硫黄が2価、
あるいは4価であることが好ましい。これらの硫黄化合
物は、エポキシエステル樹脂100重量部に対して、
0.001〜10重量部の割合で加えることができる。
として、ジアリルスルフィド、ジアリルジスルフィド、
チオジグリコール、1,2−ビス(2−ヒドロキシエチ
ルチオ)エタン、1,4−ビス(2−ヒドロキシエチル
チオ)ブタン、ジフェニルジスルフィド、ジベンジルジ
スルフィド、ジターシャリーブチルジスルフィド、3,
3′−ジチオジプロピオン酸、2,2′−ジチオジエタ
ノール、メチルチオプロピオン酸エチル、チオジプロピ
オン酸、チオジプロピオン酸ジオクチル、チオジプロピ
オン酸ジメチルなどのスルフィド、ジスルフィド類、
1,4−ジチアン、1,3−ジチアン、、チオフェン、
チオフェノン、1,4−チオキサン、チオナフテン、チ
アントレン、γ−チオブチロラクトン、チオテトロン
酸、チオキサンテン−9−オンなどの環状有機硫黄化合
物、ジメチルスルフォキシド、テトラメチレンスルフォ
ンなどの有機硫黄系溶剤などが、好適な例として上げら
れる。この中でも、触媒の活性の点から、硫黄が2価、
あるいは4価であることが好ましい。これらの硫黄化合
物は、エポキシエステル樹脂100重量部に対して、
0.001〜10重量部の割合で加えることができる。
【0024】他の触媒、例えば、一般的にエポキシエス
テルの合成に使用される4級アンモニウム塩あるいは3
級アミンを使用すると、エポキシエステル樹脂と多塩基
酸無水物との反応の際に未反応のエポキシ基とカルボン
酸あるいは酸無水物が反応し、ゲル化するなどし、目的
の樹脂を合成できないか、あるいは合成できた場合にも
保存安定性に欠ける。
テルの合成に使用される4級アンモニウム塩あるいは3
級アミンを使用すると、エポキシエステル樹脂と多塩基
酸無水物との反応の際に未反応のエポキシ基とカルボン
酸あるいは酸無水物が反応し、ゲル化するなどし、目的
の樹脂を合成できないか、あるいは合成できた場合にも
保存安定性に欠ける。
【0025】本エポキシエステル反応は、触媒として上
記の有機硫黄化合物を使用して、公知の反応条件で行う
ことができる。該反応は50℃〜160℃、好ましくは
80℃〜140℃の反応温度条件下で、カルボキシル
基、あるいはエポキシ基の反応が終了するまで行われ
る。この際、カルボン酸を含有する化合物として不飽和
基含有カルボン酸を使用する場合、反応中の不飽和二重
結合の重合によるゲル化を防止する目的で、空気を吹き
込んだり、重合禁止剤を使用するのが望ましい。重合禁
止剤の例としては、ハイドロキノン、p−トルキノン、
p−メトキシフェノール、フェノチアジン、トリフェニ
ルアンチモン、塩化銅等が挙げられる。重合禁止剤は、
エポキシエステル樹脂100重量部に対して、0.00
1〜2重量部の割合で加えることができる。
記の有機硫黄化合物を使用して、公知の反応条件で行う
ことができる。該反応は50℃〜160℃、好ましくは
80℃〜140℃の反応温度条件下で、カルボキシル
基、あるいはエポキシ基の反応が終了するまで行われ
る。この際、カルボン酸を含有する化合物として不飽和
基含有カルボン酸を使用する場合、反応中の不飽和二重
結合の重合によるゲル化を防止する目的で、空気を吹き
込んだり、重合禁止剤を使用するのが望ましい。重合禁
止剤の例としては、ハイドロキノン、p−トルキノン、
p−メトキシフェノール、フェノチアジン、トリフェニ
ルアンチモン、塩化銅等が挙げられる。重合禁止剤は、
エポキシエステル樹脂100重量部に対して、0.00
1〜2重量部の割合で加えることができる。
【0026】さらに、反応時の攪拌効率を高めるため、
予め希釈剤を反応時に加えておくことも可能である。希
釈剤としては公知の有機溶剤の内、エポキシ基、カルボ
キシル基に対して不活性なものであれば特に制約なく使
用できる。希釈剤の例としては、酢酸エチル、酢酸イソ
プロピル、セロソルブアセテート、ブチルセロソルブア
セテート等のエチレングリコールモノアルキルエーテル
アセテート類、ジエチレングリコールモノメチルエーテ
ルアセテート、カルビトールアセテート、ブチルカルビ
トールアセテート等のジエチレングリコールモノアルキ
ルエーテルアセテート類、プロピレングリコールモノア
ルキルエーテルアセテート類、ジプロピレングリコール
モノアルキルエーテルアセテート類などの酢酸エステル
類、エチレングリコールジアルキルエーテル類、メチル
カルビトール、エチルカルビトール、ブチルカルビトー
ル等のジエチレングリコールジアルキルエーテル類、ト
リエチレングリコールジアルキルエーテル類、プロピレ
ングリコールジアルキルエーテル類、ジプロピレングリ
コールジアルキルエーテル類、1,4−ジオキサン、テ
トラヒドロフランなどのエーテル類、アセトン、メチル
エチルケトン、メチルイソブチルケトン、エチルメチル
ケトン、シクロヘキサノン、ブチロラクトンなどのケト
ン類、ベンゼン、トルエン、キシレン、テトラメチルベ
ンゼン、テトラリン、オクタン、デカンなどの炭化水素
類、石油エーテル、石油ナフサ、水添石油ナフサ、ソル
ベントナフサなどの石油系溶剤、及び、ジメチルホルム
アミド、ノルマルメチルピロリドン等を挙げることがで
きる。
予め希釈剤を反応時に加えておくことも可能である。希
釈剤としては公知の有機溶剤の内、エポキシ基、カルボ
キシル基に対して不活性なものであれば特に制約なく使
用できる。希釈剤の例としては、酢酸エチル、酢酸イソ
プロピル、セロソルブアセテート、ブチルセロソルブア
セテート等のエチレングリコールモノアルキルエーテル
アセテート類、ジエチレングリコールモノメチルエーテ
ルアセテート、カルビトールアセテート、ブチルカルビ
トールアセテート等のジエチレングリコールモノアルキ
ルエーテルアセテート類、プロピレングリコールモノア
ルキルエーテルアセテート類、ジプロピレングリコール
モノアルキルエーテルアセテート類などの酢酸エステル
類、エチレングリコールジアルキルエーテル類、メチル
カルビトール、エチルカルビトール、ブチルカルビトー
ル等のジエチレングリコールジアルキルエーテル類、ト
リエチレングリコールジアルキルエーテル類、プロピレ
ングリコールジアルキルエーテル類、ジプロピレングリ
コールジアルキルエーテル類、1,4−ジオキサン、テ
トラヒドロフランなどのエーテル類、アセトン、メチル
エチルケトン、メチルイソブチルケトン、エチルメチル
ケトン、シクロヘキサノン、ブチロラクトンなどのケト
ン類、ベンゼン、トルエン、キシレン、テトラメチルベ
ンゼン、テトラリン、オクタン、デカンなどの炭化水素
類、石油エーテル、石油ナフサ、水添石油ナフサ、ソル
ベントナフサなどの石油系溶剤、及び、ジメチルホルム
アミド、ノルマルメチルピロリドン等を挙げることがで
きる。
【0027】上記希釈剤に加え、メチル(メタ)アクリ
レート、エチル(メタ)アクリレート、n−ブチルアク
リレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリ
レート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレ
ート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ペ
ンタエリスリトールジアクリレートモノステアレート
[東亜合成化学(株)製 アロニックスM−233]、
脂肪酸変性ジペンタエリスリトールポリアクリレート
〔東亜合成化学(株)製 アロニックスM−430〕、
ポリエステルアクリレート、および二塩基酸無水物と1
分子中に少なくとも1個以上の不飽和基を有するアルコ
ールとの反応物等に代表される不飽和基を含む反応性化
合物を希釈剤として共用することができる。
レート、エチル(メタ)アクリレート、n−ブチルアク
リレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリ
レート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレ
ート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ペ
ンタエリスリトールジアクリレートモノステアレート
[東亜合成化学(株)製 アロニックスM−233]、
脂肪酸変性ジペンタエリスリトールポリアクリレート
〔東亜合成化学(株)製 アロニックスM−430〕、
ポリエステルアクリレート、および二塩基酸無水物と1
分子中に少なくとも1個以上の不飽和基を有するアルコ
ールとの反応物等に代表される不飽和基を含む反応性化
合物を希釈剤として共用することができる。
【0028】また、系の安定性をさらに向上させるため
に、これらの触媒をエポキシエステル合成終了後、任意
の時点で酸化させる方法もある。この酸化反応のための
酸化剤としては、過酸化水素、過酸化ナトリウム、過酸
化バリウム、有機過酸化物等の過酸化物、過マンガン酸
ナトリウム、過マンガン酸カリウム等の過マンガン酸
塩、クロム酸ナトリウム、クロム酸カリウム等のクロム
酸塩、硝酸、硝酸カリウム等の硝酸類、酸化二窒素、三
酸化二窒素等の窒素酸化物、過塩素酸ナトリウム、過塩
素酸カリウム等の酸素塩、塩化第2鉄、硫酸銅等の金属
塩、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素等のハロゲン、空気、
酸素、オゾン等の酸素類を挙げることができる。これら
の中では過酸化水素を使用する方法が簡便で好ましい。
に、これらの触媒をエポキシエステル合成終了後、任意
の時点で酸化させる方法もある。この酸化反応のための
酸化剤としては、過酸化水素、過酸化ナトリウム、過酸
化バリウム、有機過酸化物等の過酸化物、過マンガン酸
ナトリウム、過マンガン酸カリウム等の過マンガン酸
塩、クロム酸ナトリウム、クロム酸カリウム等のクロム
酸塩、硝酸、硝酸カリウム等の硝酸類、酸化二窒素、三
酸化二窒素等の窒素酸化物、過塩素酸ナトリウム、過塩
素酸カリウム等の酸素塩、塩化第2鉄、硫酸銅等の金属
塩、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素等のハロゲン、空気、
酸素、オゾン等の酸素類を挙げることができる。これら
の中では過酸化水素を使用する方法が簡便で好ましい。
【0029】これら酸化剤の使用量は系に残存する硫黄
化合物に1モルに対して1モル〜5モル、好ましくは1
〜3モルが用いられる。1モル未満では酸化反応が十分
ではなく、効果が十分に得られない。また、5モルを越
えた場合には、不必要に多量の原料を使用することにな
り、経済的でない。
化合物に1モルに対して1モル〜5モル、好ましくは1
〜3モルが用いられる。1モル未満では酸化反応が十分
ではなく、効果が十分に得られない。また、5モルを越
えた場合には、不必要に多量の原料を使用することにな
り、経済的でない。
【0030】本発明における硫黄化合物の酸化反応は、
エポキシエステル化反応終了からカルボン酸変性エポキ
シエステル化反応終了までの間に、酸化剤を添加し、2
0℃〜160℃、好ましくは20〜130℃の範囲で行
うことができる。20℃未満の温度では反応時間があま
りにも長く、また、160℃を越える温度では、酸化操
作中にゲル化する可能性があるので好ましくない。
エポキシエステル化反応終了からカルボン酸変性エポキ
シエステル化反応終了までの間に、酸化剤を添加し、2
0℃〜160℃、好ましくは20〜130℃の範囲で行
うことができる。20℃未満の温度では反応時間があま
りにも長く、また、160℃を越える温度では、酸化操
作中にゲル化する可能性があるので好ましくない。
【0031】エポキシ化合物とカルボン酸との反応によ
って得られるエポキシエステル樹脂に、多塩基酸無水物
を反応させて、カルボン酸付加エポキシエステル樹脂を
製造することができる。本カルボン酸付加エポキシエス
テル樹脂の合成において使用される多塩基酸無水物とし
ては、無水マレイン酸、無水こはく酸、無水フタル酸、
テトラヒドロ無水フタル酸、ヘキサビロ無水フタル酸等
の2塩基酸無水物、無水トリメリット酸、無水ピロメリ
ット酸、ベンゾフェノンテトラカルボン酸無水物、5−
(テトラヒドロ−2,5−ジオキソ−3−フラニル)−
3−メチル−3−シクロヘキセン−1,2−ジカルボン
酸無水物等の多塩基酸無水物を挙げることができる。こ
れらは単独でも2つ以上を混合しても使用することがで
きる。
って得られるエポキシエステル樹脂に、多塩基酸無水物
を反応させて、カルボン酸付加エポキシエステル樹脂を
製造することができる。本カルボン酸付加エポキシエス
テル樹脂の合成において使用される多塩基酸無水物とし
ては、無水マレイン酸、無水こはく酸、無水フタル酸、
テトラヒドロ無水フタル酸、ヘキサビロ無水フタル酸等
の2塩基酸無水物、無水トリメリット酸、無水ピロメリ
ット酸、ベンゾフェノンテトラカルボン酸無水物、5−
(テトラヒドロ−2,5−ジオキソ−3−フラニル)−
3−メチル−3−シクロヘキセン−1,2−ジカルボン
酸無水物等の多塩基酸無水物を挙げることができる。こ
れらは単独でも2つ以上を混合しても使用することがで
きる。
【0032】これら酸無水物と、エポキシエステル中の
水酸基との当量比は、0.05〜1.0、より好ましく
は、0.1〜1.0である。該当量比が0.05未満で
は、例えば画像形成材料として要求されるアルカリ可溶
性が十分でない。また、1.0を越えると、多塩基酸無
水物が残存することになり、カルボン酸付加エポキシエ
ステル樹脂の保存安定性を著しく減少させる。エポキシ
エステル樹脂と多塩基酸無水物との反応は、公知の条件
で行うことができる。反応は50〜160℃、好ましく
は80〜140℃の温度範囲で行うことができる。ま
た、前記のエポキシ化合物とカルボン酸との反応の場合
と同様に、希釈剤等のような添加剤を反応系に加えるこ
とができる。該希釈剤の種類及び使用量は、エポキシエ
ステル樹脂の合成時に使用されたものと同様なものが使
用できる。
水酸基との当量比は、0.05〜1.0、より好ましく
は、0.1〜1.0である。該当量比が0.05未満で
は、例えば画像形成材料として要求されるアルカリ可溶
性が十分でない。また、1.0を越えると、多塩基酸無
水物が残存することになり、カルボン酸付加エポキシエ
ステル樹脂の保存安定性を著しく減少させる。エポキシ
エステル樹脂と多塩基酸無水物との反応は、公知の条件
で行うことができる。反応は50〜160℃、好ましく
は80〜140℃の温度範囲で行うことができる。ま
た、前記のエポキシ化合物とカルボン酸との反応の場合
と同様に、希釈剤等のような添加剤を反応系に加えるこ
とができる。該希釈剤の種類及び使用量は、エポキシエ
ステル樹脂の合成時に使用されたものと同様なものが使
用できる。
【0033】以上に述べた方法により得られるカルボン
酸変性エポキシエステル樹脂は、保存安定性に優れる。
酸変性エポキシエステル樹脂は、保存安定性に優れる。
【0034】また本発明によれば、保存安定性に優れた
エポキシ基を含有するカルボン酸付加エポキシエステル
を得ることも可能である。すなわち、エポキシ基とカル
ボン酸を反応させエポキシエステル樹脂を得る際、エポ
キシ基に対するカルボン酸の当量比が1未満であって、
未反応のエポキシ基が系中に残存しているエポキシエス
テル樹脂に多塩基酸無水物を付加させることにより目的
物を得る。この際、1分子中にエポキシ基とカルボキシ
ル基が共存することになるが、本発明によれば従来得ら
れなかったこのような樹脂も増えることが出来る。
エポキシ基を含有するカルボン酸付加エポキシエステル
を得ることも可能である。すなわち、エポキシ基とカル
ボン酸を反応させエポキシエステル樹脂を得る際、エポ
キシ基に対するカルボン酸の当量比が1未満であって、
未反応のエポキシ基が系中に残存しているエポキシエス
テル樹脂に多塩基酸無水物を付加させることにより目的
物を得る。この際、1分子中にエポキシ基とカルボキシ
ル基が共存することになるが、本発明によれば従来得ら
れなかったこのような樹脂も増えることが出来る。
【0035】次に、本発明のエポキシエステルを使用し
た感光性樹脂組成物について説明する。本組成物に含ま
れる1分子中にエポキシ基かつ/またはカルボキシル基
を含有するカルボン酸付加エポキシエステル樹脂の使用
量に、特に制限はない。
た感光性樹脂組成物について説明する。本組成物に含ま
れる1分子中にエポキシ基かつ/またはカルボキシル基
を含有するカルボン酸付加エポキシエステル樹脂の使用
量に、特に制限はない。
【0036】本発明の感光性樹脂組成物には、希釈剤と
して合成時及び或いは合成後に、重合可能な反応性希釈
剤または溶剤を加えることができる。重合可能な反応性
希釈剤としては、ビニルエーテル類、アクリレート類、
アクリルアミド類、エポキシ化合物類、オキセタン化合
物類、カーボネート化合物類等を使用することができ
る。
して合成時及び或いは合成後に、重合可能な反応性希釈
剤または溶剤を加えることができる。重合可能な反応性
希釈剤としては、ビニルエーテル類、アクリレート類、
アクリルアミド類、エポキシ化合物類、オキセタン化合
物類、カーボネート化合物類等を使用することができ
る。
【0037】ビニルエーテル類としては、トリエチレン
グリコールジビニルエーテル、ドデシルビニルエーテ
ル、シクロヘキサンジメタノールジビニルエーテル、ヒ
ドロキシブチルビニルエーテルなどの脂肪族ビニルエー
テル、またクロロエチルビニルエーテルなどと各種フェ
ノール類との反応で得られる芳香族ビニルエーテル、ヒ
ドロキシビニルエーテルなどと各種イソシアネート化合
物の反応から得られるウレタン系ビニルエーテル、ヒド
ロキシビニルエーテルなどと多価カルボン酸誘導体との
反応で得られるエステル系ビニルエーテル、各種のスチ
レン誘導体などが上げられる。
グリコールジビニルエーテル、ドデシルビニルエーテ
ル、シクロヘキサンジメタノールジビニルエーテル、ヒ
ドロキシブチルビニルエーテルなどの脂肪族ビニルエー
テル、またクロロエチルビニルエーテルなどと各種フェ
ノール類との反応で得られる芳香族ビニルエーテル、ヒ
ドロキシビニルエーテルなどと各種イソシアネート化合
物の反応から得られるウレタン系ビニルエーテル、ヒド
ロキシビニルエーテルなどと多価カルボン酸誘導体との
反応で得られるエステル系ビニルエーテル、各種のスチ
レン誘導体などが上げられる。
【0038】アクリレート類の例としては、メチル(メ
タ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、n−
ブチル(メタ)アクリレート、イソブチル(メタ)アク
リレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、
イソデシル(メタ)アクリレート、n−ラウリル(メ
タ)アクリレート、トリデシル(メタ)アクリレート、
n−ステアリル(メタ)アクリレート、メトキシポリエ
チレングリコール(メタ)アクリレート、シクロヘキシ
ル(メタ)アクリレート、テトラヒドロフルフリル(メ
タ)アクリレート、イソボロニル(メタ)アクリレー
ト、ベンジル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシエ
チル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル
(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシブチル(メタ)
アクリレート、ジメチルアミノエチル(メタ)アクリレ
ート、ジエチルアミノエチル(メタ)アクリレート、エ
チレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジエチレン
グリコールジ(メタ)アクリレート、1,4−ブタンジ
オールジ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオ
ールジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパン
トリ(メタ)アクリレート、グリセリンジ(メタ)アク
リレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレ
ート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレー
ト、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレー
ト、ペンタエリスリトールジアクリレートモノステアレ
ート[東亜合成化学(株)製 アロニックスM−23
3]、脂肪酸変性ジペンタエリスリトールポリアクリレ
ート[東亜合成化学(株)製 アロニックスM−43
0]、ポリエステルアクリレート、および二塩基酸無水
物と1分子中に少なくとも1個以上の不飽和基を有する
アルコールとの反応物等を挙げることができる。
タ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、n−
ブチル(メタ)アクリレート、イソブチル(メタ)アク
リレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、
イソデシル(メタ)アクリレート、n−ラウリル(メ
タ)アクリレート、トリデシル(メタ)アクリレート、
n−ステアリル(メタ)アクリレート、メトキシポリエ
チレングリコール(メタ)アクリレート、シクロヘキシ
ル(メタ)アクリレート、テトラヒドロフルフリル(メ
タ)アクリレート、イソボロニル(メタ)アクリレー
ト、ベンジル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシエ
チル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル
(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシブチル(メタ)
アクリレート、ジメチルアミノエチル(メタ)アクリレ
ート、ジエチルアミノエチル(メタ)アクリレート、エ
チレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジエチレン
グリコールジ(メタ)アクリレート、1,4−ブタンジ
オールジ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオ
ールジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパン
トリ(メタ)アクリレート、グリセリンジ(メタ)アク
リレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレ
ート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレー
ト、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレー
ト、ペンタエリスリトールジアクリレートモノステアレ
ート[東亜合成化学(株)製 アロニックスM−23
3]、脂肪酸変性ジペンタエリスリトールポリアクリレ
ート[東亜合成化学(株)製 アロニックスM−43
0]、ポリエステルアクリレート、および二塩基酸無水
物と1分子中に少なくとも1個以上の不飽和基を有する
アルコールとの反応物等を挙げることができる。
【0039】エポキシ化合物類としては前出のエポキシ
樹脂に類する化合物及びエチレンオキサイド、プロピレ
ンオキサイド等のオキシラン化合物が挙げられる。ま
た、オキセタン化合物類としては、3−メチル−3−ヒ
ドロキシメチルオキセタン、1,4−ビス((3−エチ
ル−3−オキセテニルメトキシ)メチルベンゼン、3−
エチル−3−ヒドロキシメチルオキセテン、オキセタン
オリゴマー等を挙げることができる。カーボネート化合
物類としては、エチレンカーボネート、プロピレンカー
ボネート等を挙げることができる。
樹脂に類する化合物及びエチレンオキサイド、プロピレ
ンオキサイド等のオキシラン化合物が挙げられる。ま
た、オキセタン化合物類としては、3−メチル−3−ヒ
ドロキシメチルオキセタン、1,4−ビス((3−エチ
ル−3−オキセテニルメトキシ)メチルベンゼン、3−
エチル−3−ヒドロキシメチルオキセテン、オキセタン
オリゴマー等を挙げることができる。カーボネート化合
物類としては、エチレンカーボネート、プロピレンカー
ボネート等を挙げることができる。
【0040】溶剤の例としては、前記溶剤に加え、メタ
ノール、エタノール、プロパノール、シクロヘキサノー
ル、エチレングリコール、プロピレングリコール、メチ
ルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ等
のエチレングリコールモノアルキルエーテル類、ジエチ
レングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコ
ールモノエチルエーテル等のジエチレングリコールモノ
アルキルエーテル類、トリエチレングリコールモノメチ
ルエーテル等のトリエチレングリコールモノアルキルエ
ーテル類、プロピレングリコールモノメチルエーテル等
のプロピレングリコールモノアルキルエーテル類、ジプ
ロピレングリコールモノエチルエーテル等のジプロピレ
ングリコールモノアルキルエーテル類などのアルコール
類を使用しても差し支えない。前記の希釈剤は、単独ま
たは2種以上の混合物として用いられ、本発明の組成物
に含まれる希釈剤の量に特に制限はない。
ノール、エタノール、プロパノール、シクロヘキサノー
ル、エチレングリコール、プロピレングリコール、メチ
ルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ等
のエチレングリコールモノアルキルエーテル類、ジエチ
レングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコ
ールモノエチルエーテル等のジエチレングリコールモノ
アルキルエーテル類、トリエチレングリコールモノメチ
ルエーテル等のトリエチレングリコールモノアルキルエ
ーテル類、プロピレングリコールモノメチルエーテル等
のプロピレングリコールモノアルキルエーテル類、ジプ
ロピレングリコールモノエチルエーテル等のジプロピレ
ングリコールモノアルキルエーテル類などのアルコール
類を使用しても差し支えない。前記の希釈剤は、単独ま
たは2種以上の混合物として用いられ、本発明の組成物
に含まれる希釈剤の量に特に制限はない。
【0041】次に重合開始剤としては、ラジカル硬化
剤、カチオン硬化剤などが使用できる。カチオン硬化剤
としては、トリフェニルヘキサフルオロアンチモネー
ト、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロホスフェ
ート、4,4′−ビス〔ビス(2−ヒドロキシエトキシ
フェニル)スルフォニオ〕フェニルスルフィドビスヘキ
サフルオロフォスフェート、ジフェニルヨードニウムヘ
キサフルオロアンチモネート、ジフェニル−4−チオフ
ェノキシフェニルスルホニウムヘキサフルオロホスフェ
ート等を挙げることができる。
剤、カチオン硬化剤などが使用できる。カチオン硬化剤
としては、トリフェニルヘキサフルオロアンチモネー
ト、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロホスフェ
ート、4,4′−ビス〔ビス(2−ヒドロキシエトキシ
フェニル)スルフォニオ〕フェニルスルフィドビスヘキ
サフルオロフォスフェート、ジフェニルヨードニウムヘ
キサフルオロアンチモネート、ジフェニル−4−チオフ
ェノキシフェニルスルホニウムヘキサフルオロホスフェ
ート等を挙げることができる。
【0042】光ラジカル重合開始剤の例としては、アセ
トフェノン系、ベンゾイン系、ベンゾフェノン系、チオ
キサトン系、リン系等を使用することができる。アセト
フェノン系の例としては、ジエトキシアセトフェノン、
2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−
1−オン、ベンジルジメチルケタール[チバガイギー
(株)製 イルガキュアー651]、2−メチル−2−
モルフォリノ(4−チオメチルフェニル)プロパン−1
−オン[チバガイギー(株)製 イルガキュアー90
7]、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−
モルホリノフェニル)−ブタノン[チバガイギー(株)
製 イルガキュアー369]等を挙げることができる。
ベンゾイン系の例としては、ベンゾイン、ベンゾインメ
チルエーテル、ベンゾインエチルエーテル等を挙げるこ
とができる。ベンゾフェノン系の例としては、ベンゾフ
ェノン、ヒドロキシベンゾフェノン、4−フェニルベン
ゾフェノン、3,3’,4,4’−テトラ(t−ブチル
パーオキシカルボニル)ベンゾフェノン[日本油脂
(株)製 BTTB]等を挙げることができる。チオキ
サントン系の例としては、2−イソプロピルチオキサン
トン、2,4−ジメチルチオキサントン、2,4−ジエ
チルチオキサントン[日本化薬(株)製 カヤキュアD
ETX]等を挙げることができる。リン系の例として
は、アシルホスフィンオキサイド[BASF(株)製
ルシチンTPO]等を挙げることができる。
トフェノン系、ベンゾイン系、ベンゾフェノン系、チオ
キサトン系、リン系等を使用することができる。アセト
フェノン系の例としては、ジエトキシアセトフェノン、
2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−
1−オン、ベンジルジメチルケタール[チバガイギー
(株)製 イルガキュアー651]、2−メチル−2−
モルフォリノ(4−チオメチルフェニル)プロパン−1
−オン[チバガイギー(株)製 イルガキュアー90
7]、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−
モルホリノフェニル)−ブタノン[チバガイギー(株)
製 イルガキュアー369]等を挙げることができる。
ベンゾイン系の例としては、ベンゾイン、ベンゾインメ
チルエーテル、ベンゾインエチルエーテル等を挙げるこ
とができる。ベンゾフェノン系の例としては、ベンゾフ
ェノン、ヒドロキシベンゾフェノン、4−フェニルベン
ゾフェノン、3,3’,4,4’−テトラ(t−ブチル
パーオキシカルボニル)ベンゾフェノン[日本油脂
(株)製 BTTB]等を挙げることができる。チオキ
サントン系の例としては、2−イソプロピルチオキサン
トン、2,4−ジメチルチオキサントン、2,4−ジエ
チルチオキサントン[日本化薬(株)製 カヤキュアD
ETX]等を挙げることができる。リン系の例として
は、アシルホスフィンオキサイド[BASF(株)製
ルシチンTPO]等を挙げることができる。
【0043】これら重合開始剤は、単独または2種以上
の混合物として用いられ、本発明の組成物に含まれる重
合開始剤の量は重合組成物中0.01〜20重量%が好
ましく、特に1〜10重量%が好ましい。添加量が0.
01未満では、十分な硬化が得にくく、物性が低下す
る。また、20重量%を超えると、材料費が高価となり
好ましくない。
の混合物として用いられ、本発明の組成物に含まれる重
合開始剤の量は重合組成物中0.01〜20重量%が好
ましく、特に1〜10重量%が好ましい。添加量が0.
01未満では、十分な硬化が得にくく、物性が低下す
る。また、20重量%を超えると、材料費が高価となり
好ましくない。
【0044】本発明の感光性組成物には、エポキシ樹
脂、メラミン樹脂、イソシアネート樹脂、オキサゾリン
樹脂に代表される種々の光または熱硬化性樹脂を併用す
ることも可能である。
脂、メラミン樹脂、イソシアネート樹脂、オキサゾリン
樹脂に代表される種々の光または熱硬化性樹脂を併用す
ることも可能である。
【0045】さらに、本発明の重合性組成物には、重合
禁止剤、充填剤、消泡剤、着色剤、レベリング剤等を加
えることができる。重合禁止剤の例としては、ハイドロ
キノン、p−トルキノン、フェノチアジン、ジケトン類
等を挙げることができる。
禁止剤、充填剤、消泡剤、着色剤、レベリング剤等を加
えることができる。重合禁止剤の例としては、ハイドロ
キノン、p−トルキノン、フェノチアジン、ジケトン類
等を挙げることができる。
【0046】充填剤の例としては、タルク、硫酸バリウ
ム、シリカ等を挙げることができる。消泡剤としてはシ
リコーンオイル等を挙げることができる。着色剤として
は、フタロシアニンブルー、ロイコ染料、、カーボンブ
ラック、酸化チタン等を挙げることができる。
ム、シリカ等を挙げることができる。消泡剤としてはシ
リコーンオイル等を挙げることができる。着色剤として
は、フタロシアニンブルー、ロイコ染料、、カーボンブ
ラック、酸化チタン等を挙げることができる。
【0047】本発明の重合性組成物は、配合成分をディ
スパー、ロールミル、リゾルバー等で均一に攪拌、練肉
することにより得られる。
スパー、ロールミル、リゾルバー等で均一に攪拌、練肉
することにより得られる。
【0048】本発明の重合性組成物をソルダーレジスト
樹脂組成物として使用する場合には、例えば以下のよう
な方法で硬化し、硬化物を得ることができる。即ち、プ
リント配線板に、スクリーン印刷法、スプレー法、カー
テンコート法、ロールコート法、ディップコート法、ド
クターナイフ法、静電塗装法等の方法により10〜20
0μmの膜厚で本発明の重合性組成物を塗布し、塗膜を
60〜110℃で乾燥させ、有機溶剤を除去する。乾燥
後、ネガフィルムを塗膜に直接に接触させ、高圧水銀
灯、メタルハライドランプ等を用いて、紫外線を照射
(露光)し、未露光部分を1〜2%程度の希アルカリ水
溶液で洗い流した(現像)後、更に諸物性の向上のため
には、紫外線の照射および/または加熱(例えば、10
0〜200℃で、30〜60分間)することによって十
分な硬化を行い、硬化皮膜を得る。
樹脂組成物として使用する場合には、例えば以下のよう
な方法で硬化し、硬化物を得ることができる。即ち、プ
リント配線板に、スクリーン印刷法、スプレー法、カー
テンコート法、ロールコート法、ディップコート法、ド
クターナイフ法、静電塗装法等の方法により10〜20
0μmの膜厚で本発明の重合性組成物を塗布し、塗膜を
60〜110℃で乾燥させ、有機溶剤を除去する。乾燥
後、ネガフィルムを塗膜に直接に接触させ、高圧水銀
灯、メタルハライドランプ等を用いて、紫外線を照射
(露光)し、未露光部分を1〜2%程度の希アルカリ水
溶液で洗い流した(現像)後、更に諸物性の向上のため
には、紫外線の照射および/または加熱(例えば、10
0〜200℃で、30〜60分間)することによって十
分な硬化を行い、硬化皮膜を得る。
【0049】
【実施例】以下、実施例により更に具体的に説明する
が、本発明はこれに限定されるものではない。なお、合
成例中の部は重量部である。
が、本発明はこれに限定されるものではない。なお、合
成例中の部は重量部である。
【0050】合成例1 クレゾールノボラック型エポキシ樹脂[東都化成(株)
製、YDCN702P、エポキシ当量203]203部
(1当量)、アクリル酸57.6部(0.8当量)、カ
ルビトールアセテート174部、重合禁止剤であるハイ
ドロキノン0.34部(0.0031mol)を、攪拌
機を備えた1L4つ口コルベンに仕込んだ。
製、YDCN702P、エポキシ当量203]203部
(1当量)、アクリル酸57.6部(0.8当量)、カ
ルビトールアセテート174部、重合禁止剤であるハイ
ドロキノン0.34部(0.0031mol)を、攪拌
機を備えた1L4つ口コルベンに仕込んだ。
【0051】次いでチオジグリコール3.4部(0.0
28mol)を仕込み120℃で3時間反応させると、
酸価が0となった。
28mol)を仕込み120℃で3時間反応させると、
酸価が0となった。
【0052】続いて、テトラヒドロ無水フタル酸77.
5部(0.51当量)を仕込み、3時間反応させ、赤外
吸収スペクトルにより、酸無水物が完全に反応したこと
を確認し、不揮発分の酸価が84.6mgKOH/gで
不揮発分66%のエポキシ基含有カルボン酸付加エポキ
シエステルを得た。
5部(0.51当量)を仕込み、3時間反応させ、赤外
吸収スペクトルにより、酸無水物が完全に反応したこと
を確認し、不揮発分の酸価が84.6mgKOH/gで
不揮発分66%のエポキシ基含有カルボン酸付加エポキ
シエステルを得た。
【0053】合成例2 合成例1において、チオジグリコール3.4部(0.0
28mol)をチオキサン5.0部(0.042mo
l)とする以外は同様にしてエポキシ基含有カルボン酸
付加エポキシエステルを得た。
28mol)をチオキサン5.0部(0.042mo
l)とする以外は同様にしてエポキシ基含有カルボン酸
付加エポキシエステルを得た。
【0054】合成例3 合成例1において、チオジグリコール3.4部(0.0
28mol)をジメチルスルホキシド4.0部(0.0
51mol)とする以外は同様にしてエポキシ基含有カ
ルボン酸付加エポキシエステルを得た。
28mol)をジメチルスルホキシド4.0部(0.0
51mol)とする以外は同様にしてエポキシ基含有カ
ルボン酸付加エポキシエステルを得た。
【0055】比較例1 合成例1において、チオジグリコール3.4部(0.0
28mol)をトリフェニルフォスフィン3.0部
(0.0115mol)とする以外は同様にして合成し
たところ、テトラヒドロ無水フタル酸の反応前にゲル化
した。
28mol)をトリフェニルフォスフィン3.0部
(0.0115mol)とする以外は同様にして合成し
たところ、テトラヒドロ無水フタル酸の反応前にゲル化
した。
【0056】比較例2 合成例1において、チオジグリコール3.4部(0.0
28mol)をジメチルベンジルアミン2.0部(0.
0148mol)とする以外は同様にしてエポキシ基含
有カルボン酸付加エポキシエステルを得た。
28mol)をジメチルベンジルアミン2.0部(0.
0148mol)とする以外は同様にしてエポキシ基含
有カルボン酸付加エポキシエステルを得た。
【0057】合成例1〜3および比較例1〜2で得られ
たカルボン酸変性エポキシエステル樹脂について、40
℃、1ケ月後の粘度変化を調べ、保存安定性を評価し
た。結果を表1に示す。
たカルボン酸変性エポキシエステル樹脂について、40
℃、1ケ月後の粘度変化を調べ、保存安定性を評価し
た。結果を表1に示す。
【0058】
【表1】
【0059】実施例 下記処方に従って、レジストインキ樹脂組成物を配合し
た。
た。
【0060】 レジストインキ樹脂組成物の調整 合成例1〜3で得られたカルボン酸付加エポキシエステルまたは比較例2で得 られたカルボン酸付加エポキシエステル樹脂 154重量部 カルビトールアセテート 18重量部 イプゾール150〔出光石油化学(株)製〕 5重量部 アロニックスM−233〔東亜合成化学(株)製〕 22重量部 カヤキュアーDETX 〔東亜合成化学(株)製〕 0.1重量部 イルガキュアー907〔チバガイギー(株)製〕 15重量部 YD901〔東都化薬(株)製〕 5重量部 EPPN201〔日本化成(株)製〕 10重量部 TEPIC(トリグリシジルエーテルイソシアヌレート) 20重量部 〔日産化学(株)製〕 ジシアンジアミド(硬化触媒) 1.0重量部 イムシルA−108〔龍森(株)製〕(充填リシカ) 60重量部 アエロジル200〔日本アエロジル(株)製〕 8重量部 硫酸バリウム 30重量部 フタロシアニングリーン(着色剤) 1.4重量部 KF−69〔信越シリコーン(株)製〕(消泡剤) 2.0重量部 ミクロエースK−1〔白石カルシウム(株)製〕 110重量部 (充填タルク) 合計 461.5重量部 上記配合組成に従ってレジストインキ組成物を配合し、
これを厚み1.6mmのプリント基板上に、スクリーン
印刷法により、180メッシュのポリエステルスクリー
ン版を用いて、25μmの厚さになるように、全面に塗
布し、塗膜を85℃で40分間乾燥し溶剤を除去した。
次いでネガマスクを介して露光量350mJ/cm2で
紫外線を照射し、30℃において1%の炭酸ナトリウム
水溶液で40秒間、2.0kg/cm2のスプレー圧で
現像し、未露光部分を溶解した。この時、未露光部の現
像性について以下の評価を行った。これらの結果は表2
に示した。
これを厚み1.6mmのプリント基板上に、スクリーン
印刷法により、180メッシュのポリエステルスクリー
ン版を用いて、25μmの厚さになるように、全面に塗
布し、塗膜を85℃で40分間乾燥し溶剤を除去した。
次いでネガマスクを介して露光量350mJ/cm2で
紫外線を照射し、30℃において1%の炭酸ナトリウム
水溶液で40秒間、2.0kg/cm2のスプレー圧で
現像し、未露光部分を溶解した。この時、未露光部の現
像性について以下の評価を行った。これらの結果は表2
に示した。
【0061】(現像性)レジストインキ組成物をプリン
ト基板上に、25μmの厚さになるように、全面に塗布
し、85℃で乾燥させた。乾燥時間の経過とレジスト被
覆の現像性の関係を調べた。すなわち、特定の乾燥時間
毎にレジスト被覆にパターンを介して露光し、前述のよ
うに炭酸ナトリウム水溶液で現像した。このようにして
未露光部が溶解できず、現像できなくなるまでの時間を
測定した。この時間の長い程、レジスト塗布後、露光ま
での時間に余裕ができ、工程管理が容易となり作業性が
改善されるとともに信頼性も向上する。
ト基板上に、25μmの厚さになるように、全面に塗布
し、85℃で乾燥させた。乾燥時間の経過とレジスト被
覆の現像性の関係を調べた。すなわち、特定の乾燥時間
毎にレジスト被覆にパターンを介して露光し、前述のよ
うに炭酸ナトリウム水溶液で現像した。このようにして
未露光部が溶解できず、現像できなくなるまでの時間を
測定した。この時間の長い程、レジスト塗布後、露光ま
での時間に余裕ができ、工程管理が容易となり作業性が
改善されるとともに信頼性も向上する。
【0062】
【表2】
【0063】現像後、160℃の熱風乾燥器で40分加
熱硬化を行ない、硬化膜を得た。この硬化膜について、
碁盤目試験による密着性試験及び260℃×10秒の半
田フロートテストによる半田耐熱性試験を行ったが、い
ずれも問題なく、十分な特性を有していることがわかっ
た。
熱硬化を行ない、硬化膜を得た。この硬化膜について、
碁盤目試験による密着性試験及び260℃×10秒の半
田フロートテストによる半田耐熱性試験を行ったが、い
ずれも問題なく、十分な特性を有していることがわかっ
た。
【0064】またこの樹脂組成物溶液を25℃下で保存
したところ、比較例2により作成した樹脂組成物は1日
後にゲル化し使用ができなくなったが、その他の樹脂組
成物は2週間後でもゲル化せず、またその硬化物は初期
のものと同等の物性を示した。
したところ、比較例2により作成した樹脂組成物は1日
後にゲル化し使用ができなくなったが、その他の樹脂組
成物は2週間後でもゲル化せず、またその硬化物は初期
のものと同等の物性を示した。
【0065】
【発明の効果】以上のように、本発明にしたがって触媒
として有機硫黄化合物を用いることによって得られるエ
ポキシエステルは、系中に硬化量のエポキシ基と水酸
基、カルボキシル基が共存しても保存安定性に優れてお
り、光または熱によって、容易に硬化させることができ
るという特徴がある。
として有機硫黄化合物を用いることによって得られるエ
ポキシエステルは、系中に硬化量のエポキシ基と水酸
基、カルボキシル基が共存しても保存安定性に優れてお
り、光または熱によって、容易に硬化させることができ
るという特徴がある。
【0066】また、本発明によれば貯蔵安定性に優れ
た、エポキシ基含有カルボン酸付加エポキシエステルの
合成が容易であり、従来得られなかったアルカリ可溶性
のレジスト材料を提供できる。その硬化物は、十分な密
着性、耐熱性等を有しているため、ソルダーレジスト材
料、PDP蛍光体作成用ビヒクル材料等、画像形成材料
として好適である。
た、エポキシ基含有カルボン酸付加エポキシエステルの
合成が容易であり、従来得られなかったアルカリ可溶性
のレジスト材料を提供できる。その硬化物は、十分な密
着性、耐熱性等を有しているため、ソルダーレジスト材
料、PDP蛍光体作成用ビヒクル材料等、画像形成材料
として好適である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 白木 寛之 大阪府大阪市淀川区十三本町2丁目17番85 号 武田薬品工業株式会社化学品カンパニ ー内
Claims (8)
- 【請求項1】 エポキシ基とカルボキシル基を反応させ
てエポキシエステルを得る工程において有機硫黄化合物
を触媒として使用することを特徴とする貯蔵安定性に優
れたエポキシエステルの製造法。 - 【請求項2】 有機硫黄化合物中の硫黄の内、少なくと
も1原子が2価あるいは4価であり、かつ金属元素およ
びVB族元素を含まないことを特徴とする請求項1記載
のエポキシエステルの製造法。 - 【請求項3】 エポキシエステルの製造後、生じた水酸
基に多塩基酸無水物を付加させてなる、請求項1〜2記
載のエポキシエステルのカルボン酸付加体の製造法。 - 【請求項4】 請求項1〜2記載の方法によって製造さ
れるエポキシエステル、エポキシ化合物、カルボキシル
化合物を含有し、有機硫黄化合物を含むことを特徴とす
る、保存安定性に優れた感光性樹脂組成物。 - 【請求項5】 請求項3記載の方法によって製造される
エポキシエステルのカルボン酸付加体、エポキシ化合物
を含有し、有機硫黄化合物を含むことを特徴とする、保
存安定性に優れた感光性樹脂組成物。 - 【請求項6】 エポキシ基とカルボキシル基を反応させ
てエポキシエステルを得る工程において、カルボキシル
基をエポキシ基に対して当量比1未満として反応させて
系中に未反応のエポキシ基が残存するエポキシエステル
を得て、これにさらに多塩基酸無水物を反応させてエポ
キシ基含有エポキシエステルのカルボン酸付加体を製造
する際に、有機硫黄化合物をエポキシエステルの合成反
応の触媒として使用することを特徴とする、エポキシ基
を含有しかつ保存安定性に優れた自己硬化型カルボキシ
ル化エポキシエステル樹脂の製造法。 - 【請求項7】 請求項6記載の方法によって得られる自
己硬化型カルボキシル化エポキシエステル樹脂を含んで
なる感光性樹脂組成物。 - 【請求項8】 請求項4、5または7記載の感光性樹脂
組成物の硬化物。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17985797A JPH1121333A (ja) | 1997-07-04 | 1997-07-04 | エポキシエステル樹脂の製造法およびそれを含む感光性樹脂組成物 |
| EP98929836A EP0995765A4 (en) | 1997-07-04 | 1998-07-03 | METHOD FOR PRODUCING EPOXYESTER RESINS AND LIGHT-COMPOSITE COMPOSITIONS THEREOF |
| PCT/JP1998/003019 WO1999001494A1 (fr) | 1997-07-04 | 1998-07-03 | Procede de production d'esters de resines epoxydes et compositions de resines photosensibles a base de tels esters |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17985797A JPH1121333A (ja) | 1997-07-04 | 1997-07-04 | エポキシエステル樹脂の製造法およびそれを含む感光性樹脂組成物 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1121333A true JPH1121333A (ja) | 1999-01-26 |
Family
ID=16073135
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17985797A Pending JPH1121333A (ja) | 1997-07-04 | 1997-07-04 | エポキシエステル樹脂の製造法およびそれを含む感光性樹脂組成物 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0995765A4 (ja) |
| JP (1) | JPH1121333A (ja) |
| WO (1) | WO1999001494A1 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100968731B1 (ko) * | 2002-07-02 | 2010-07-08 | 나가세케무텍쿠스가부시키가이샤 | 알칼리 가용성 수지 및 이를 포함하는 조성물 |
| KR20220016535A (ko) * | 2020-08-03 | 2022-02-10 | (주)디어스아이 | 식관 도료용 에폭시에스테르 수지의 합성방법 |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| TW200602427A (en) * | 2004-03-30 | 2006-01-16 | Taiyo Ink Mfg Co Ltd | Thermosetting resin composition and multilayered printed wiring board comprising the same |
Family Cites Families (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB2213487B (en) * | 1987-12-08 | 1992-01-08 | Kansai Paint Co Ltd | Method of forming a cured coating film |
| GB2235925B (en) * | 1989-09-12 | 1992-09-30 | Sericol Group Ltd | Photocurable compositions |
| US5281678A (en) * | 1990-11-20 | 1994-01-25 | W. R. Grace & Co. | Preparation of unsaturated epoxy ester resin and carboxylated unsaturated epoxy ester resin and photosensitive composition comprising the same |
| TW270123B (ja) * | 1993-07-02 | 1996-02-11 | Ciba Geigy | |
| JPH083273A (ja) * | 1994-06-16 | 1996-01-09 | Nippon Shokubai Co Ltd | ソルダーレジスト用樹脂 |
| JP3534527B2 (ja) * | 1995-04-13 | 2004-06-07 | 三井化学株式会社 | エポキシアクリレート樹脂およびその用途 |
| JPH08301977A (ja) * | 1995-04-28 | 1996-11-19 | Toagosei Co Ltd | カルボキシル基及びエチレン性不飽和基を含有する化合物の製造方法 |
-
1997
- 1997-07-04 JP JP17985797A patent/JPH1121333A/ja active Pending
-
1998
- 1998-07-03 WO PCT/JP1998/003019 patent/WO1999001494A1/ja not_active Ceased
- 1998-07-03 EP EP98929836A patent/EP0995765A4/en not_active Withdrawn
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100968731B1 (ko) * | 2002-07-02 | 2010-07-08 | 나가세케무텍쿠스가부시키가이샤 | 알칼리 가용성 수지 및 이를 포함하는 조성물 |
| KR20220016535A (ko) * | 2020-08-03 | 2022-02-10 | (주)디어스아이 | 식관 도료용 에폭시에스테르 수지의 합성방법 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP0995765A1 (en) | 2000-04-26 |
| WO1999001494A1 (fr) | 1999-01-14 |
| EP0995765A4 (en) | 2000-11-08 |
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