JPH11219893A - 露光装置 - Google Patents
露光装置Info
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- JPH11219893A JPH11219893A JP10023097A JP2309798A JPH11219893A JP H11219893 A JPH11219893 A JP H11219893A JP 10023097 A JP10023097 A JP 10023097A JP 2309798 A JP2309798 A JP 2309798A JP H11219893 A JPH11219893 A JP H11219893A
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- JP
- Japan
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- shutter
- flux
- exposure
- light
- blades
- Prior art date
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- Pending
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70058—Mask illumination systems
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Microscoopes, Condenser (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 露光量の制御精度を高め、生産性を向上させ
る。 【解決手段】 ２枚のシャッタ羽根４１ａ，４１ｂによ
り、光源２からの照明光のフラックス（光束）ｐをエッ
ジｐ１ 側から遮蔽することにより、照明光のフラック
ス（光束）ｐの遮蔽時間を半分とする。また、２枚のシ
ャッタ羽根４１ａ，４１ｂにより照明光のフラックス
（光束）ｐを遮蔽している状態から、互いに離れる方向
に回転させることで、照明光のフラックス（光束）ｐの
遮蔽解除に要する時間も半分とすることができる。
る。 【解決手段】 ２枚のシャッタ羽根４１ａ，４１ｂによ
り、光源２からの照明光のフラックス（光束）ｐをエッ
ジｐ１ 側から遮蔽することにより、照明光のフラック
ス（光束）ｐの遮蔽時間を半分とする。また、２枚のシ
ャッタ羽根４１ａ，４１ｂにより照明光のフラックス
（光束）ｐを遮蔽している状態から、互いに離れる方向
に回転させることで、照明光のフラックス（光束）ｐの
遮蔽解除に要する時間も半分とすることができる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体素子や液晶
表示基板等の製造に用いられる露光装置に関する。
表示基板等の製造に用いられる露光装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】半導体素子や液晶表示素子の製造にあた
っては、露光装置を用い、レチクルやフォトマスク（以
下、マスクという）に形成されたパターンの像を、フォ
トレジスト等の感光剤を塗布した半導体ウェハやガラス
プレート等の感光基板（以下、単に基板という）上に投
影露光することが行われる。このような露光装置におい
て重要な要素の一つに露光量の制御がある。露光量制御
は照明光学系中に設けられたシャッタを開閉することで
行われ、この露光量制御を精度良く行なうことで、歩留
まりを向上させることができ、生産性の向上に寄与する
ことができるため、従来よりシャッタの開閉の高速化に
対して様々な工夫が施されている。
っては、露光装置を用い、レチクルやフォトマスク（以
下、マスクという）に形成されたパターンの像を、フォ
トレジスト等の感光剤を塗布した半導体ウェハやガラス
プレート等の感光基板（以下、単に基板という）上に投
影露光することが行われる。このような露光装置におい
て重要な要素の一つに露光量の制御がある。露光量制御
は照明光学系中に設けられたシャッタを開閉することで
行われ、この露光量制御を精度良く行なうことで、歩留
まりを向上させることができ、生産性の向上に寄与する
ことができるため、従来よりシャッタの開閉の高速化に
対して様々な工夫が施されている。
【０００３】図８は、従来の露光装置に用いられている
シャッタを示す図である。このシャッタ４は、モータ４
０によって回転駆動される１枚のシャッタ羽根４１を設
けたものであり、このシャッタ羽根４１の羽根部４２，
４３によって開口部４４が開閉される。例えば開口部４
４が羽根部４２によって閉じられていないとき、露光装
置の光源から出射されたの方向からの照明光は開口部
４４を通過し、の方向へ進む。開口部４４が閉じられ
るとき、シャッタ羽根４１が例えば時計方向に回転し、
羽根部４３が開口部４４を遮蔽することで、の方向か
らの照明光は羽根部４３によって反射されの方向へ向
かう。
シャッタを示す図である。このシャッタ４は、モータ４
０によって回転駆動される１枚のシャッタ羽根４１を設
けたものであり、このシャッタ羽根４１の羽根部４２，
４３によって開口部４４が開閉される。例えば開口部４
４が羽根部４２によって閉じられていないとき、露光装
置の光源から出射されたの方向からの照明光は開口部
４４を通過し、の方向へ進む。開口部４４が閉じられ
るとき、シャッタ羽根４１が例えば時計方向に回転し、
羽根部４３が開口部４４を遮蔽することで、の方向か
らの照明光は羽根部４３によって反射されの方向へ向
かう。
【０００４】図９は、このような構成のシャッタ４を透
過する光強度の時間変化を示す説明図である。図９に示
すように、シャッタ４が開く動作を開始してから実際に
シャッタ４が開き始めるまでにはａ〜ｂの時間を要す
る。これは、例えば図１０に示すように、シャッタ４の
羽根部４２のエッジ４２ａと照明光のフラックス（光
束）ｐのエッジｐ１との間に距離ｓ１ が存在し、羽根
部４２のエッジ４２ａが照明光のフラックス（光束）ｐ
のエッジｐ１ に到達するまでに時間が必要となるため
である。次に、羽根部４２のエッジ４２ａが照明光のフ
ラックス（光束）ｐを完全に横切るのがｃの時点であ
り、照明光の強度が最大となる。
過する光強度の時間変化を示す説明図である。図９に示
すように、シャッタ４が開く動作を開始してから実際に
シャッタ４が開き始めるまでにはａ〜ｂの時間を要す
る。これは、例えば図１０に示すように、シャッタ４の
羽根部４２のエッジ４２ａと照明光のフラックス（光
束）ｐのエッジｐ１との間に距離ｓ１ が存在し、羽根
部４２のエッジ４２ａが照明光のフラックス（光束）ｐ
のエッジｐ１ に到達するまでに時間が必要となるため
である。次に、羽根部４２のエッジ４２ａが照明光のフ
ラックス（光束）ｐを完全に横切るのがｃの時点であ
り、照明光の強度が最大となる。
【０００５】一方、シャッタ４が閉じ動作を行なう場
合、シャッタ４の羽根部４３がｄの時点で閉じ動作を開
始すると、羽根部４３のエッジ４３ａがｅの時点で照明
光のフラックス（光束）ｐのエッジｐ１ に到達し、ｆ
の時点で照明光のフラックス（光束）ｐを完全に遮蔽
し、ｇの時点で羽根部４３が遮蔽完了位置に到達する。
ここで、シャッタ４の開閉による総露光量（フラックス
の総エネルギー）は同図のｂ〜ｆ時点までの台形部分の
面積となる。この総露光量を保証するために、露光量セ
ンサにより露光強度のモニタが行なわれており、規定の
露光量に達した時点でシャッタ４が閉じられるようにな
っている。
合、シャッタ４の羽根部４３がｄの時点で閉じ動作を開
始すると、羽根部４３のエッジ４３ａがｅの時点で照明
光のフラックス（光束）ｐのエッジｐ１ に到達し、ｆ
の時点で照明光のフラックス（光束）ｐを完全に遮蔽
し、ｇの時点で羽根部４３が遮蔽完了位置に到達する。
ここで、シャッタ４の開閉による総露光量（フラックス
の総エネルギー）は同図のｂ〜ｆ時点までの台形部分の
面積となる。この総露光量を保証するために、露光量セ
ンサにより露光強度のモニタが行なわれており、規定の
露光量に達した時点でシャッタ４が閉じられるようにな
っている。
【０００６】このとき、規定の露光量を検知してからシ
ャッタ４を閉じた場合、図９のｄ〜ｆの間の露光量が加
わることになり、オーバー露光となる。このオーバー露
光は、例えば微細パターンの線幅の太りあるいは細りと
なって現れるため、シャッタ４の閉じ動作開始後、ｄ〜
ｆの期間の露光量が加わることを加味して、（総露光
量）−（ｄ〜ｆの露光量）を感知した時点であるｄの時
点でシャッタ４の閉じ動作が開始されるようになってい
る。
ャッタ４を閉じた場合、図９のｄ〜ｆの間の露光量が加
わることになり、オーバー露光となる。このオーバー露
光は、例えば微細パターンの線幅の太りあるいは細りと
なって現れるため、シャッタ４の閉じ動作開始後、ｄ〜
ｆの期間の露光量が加わることを加味して、（総露光
量）−（ｄ〜ｆの露光量）を感知した時点であるｄの時
点でシャッタ４の閉じ動作が開始されるようになってい
る。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】ところで、図９に示し
たシャッタ４による露光量は、理論上のものを示したも
のであり、実際にはシャッタ４の開閉時にて例えば図１
０に示した羽根部４２，４３のエッジ４２ａ，４３ａ部
分による光の回折や、羽根部４２，４３の慣性モーメン
トの影響によりシャッタ４の回転の始まり・回転の中間
動作中・回転の終わりなどの時点で羽根部のエッジ４２
ａ，４３ａ部分の速度が一定でないことにより、結果と
して図１１に示すように、ｂの時点の直後と、ｃの時点
の直前と、ｅの時点の直後と、ｆの時点の直前にて過渡
的な湾曲部分が生じてしまうことにより、ｂ〜ｃ及びｅ
〜ｆの間の時間が長くなるため、シャッタ４の開閉によ
る露光量の誤差を生じてしまい、生産性を向上させる上
で妨げとなっている。本発明は、このような問題点に鑑
みてなされたもので、露光量の制御精度を高めることに
より、生産性を向上させることができる露光装置を提供
することを目的とする。
たシャッタ４による露光量は、理論上のものを示したも
のであり、実際にはシャッタ４の開閉時にて例えば図１
０に示した羽根部４２，４３のエッジ４２ａ，４３ａ部
分による光の回折や、羽根部４２，４３の慣性モーメン
トの影響によりシャッタ４の回転の始まり・回転の中間
動作中・回転の終わりなどの時点で羽根部のエッジ４２
ａ，４３ａ部分の速度が一定でないことにより、結果と
して図１１に示すように、ｂの時点の直後と、ｃの時点
の直前と、ｅの時点の直後と、ｆの時点の直前にて過渡
的な湾曲部分が生じてしまうことにより、ｂ〜ｃ及びｅ
〜ｆの間の時間が長くなるため、シャッタ４の開閉によ
る露光量の誤差を生じてしまい、生産性を向上させる上
で妨げとなっている。本発明は、このような問題点に鑑
みてなされたもので、露光量の制御精度を高めることに
より、生産性を向上させることができる露光装置を提供
することを目的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明においては、照明
光のフラックス（光束）に対する開閉を２枚のシャッタ
羽根により半分づつ請け負わせることで前記目的を達成
する。すなわち、本発明は、露光光源と、露光光源から
の光束をマスクに照射する照明光学系と、マスクの像を
基板上に転写する投影光学系と、露光量をモニタする光
検出器と、照明光学系内に設けられたシャッタ装置と、
光検出器によってモニタされた露光量に基づいてシャッ
タ装置を開閉制御する制御手段とを含む露光装置におい
て、シャッタ装置は各々回転軸を有する２枚のシャッタ
羽根を備えることを特徴とする。
光のフラックス（光束）に対する開閉を２枚のシャッタ
羽根により半分づつ請け負わせることで前記目的を達成
する。すなわち、本発明は、露光光源と、露光光源から
の光束をマスクに照射する照明光学系と、マスクの像を
基板上に転写する投影光学系と、露光量をモニタする光
検出器と、照明光学系内に設けられたシャッタ装置と、
光検出器によってモニタされた露光量に基づいてシャッ
タ装置を開閉制御する制御手段とを含む露光装置におい
て、シャッタ装置は各々回転軸を有する２枚のシャッタ
羽根を備えることを特徴とする。
【０００９】マスク上のパターンは、照明光学系に対し
て固定して配置された投影光学系によって、実質的に等
倍の正立正象として基板上に投影される。この場合、基
板上に照射される露光量を２枚のシャッタ羽根による開
閉によって制御することができる。本発明によると、２
枚のシャッタ羽根により、露光光源からの光束を光束の
中心を挟んで対向する周縁方向から遮蔽することによ
り、光束の遮蔽時間を半分とすることができる。また、
２枚のシャッタ羽根により光束を遮蔽している状態か
ら、互いに離れる方向に回転させることで、光束の遮蔽
解除に要する時間も半分とすることができる。その結
果、２枚のシャッタ羽根による露光量の誤差を減少させ
ることができるため、オーバー露光等を抑制することが
可能となる。この場合、２枚のシャッタ羽根を同一の方
向に回転させることにより、２枚のシャッタ羽根による
光束の遮蔽及び遮蔽解除に要する時間を短くすることが
できる。
て固定して配置された投影光学系によって、実質的に等
倍の正立正象として基板上に投影される。この場合、基
板上に照射される露光量を２枚のシャッタ羽根による開
閉によって制御することができる。本発明によると、２
枚のシャッタ羽根により、露光光源からの光束を光束の
中心を挟んで対向する周縁方向から遮蔽することによ
り、光束の遮蔽時間を半分とすることができる。また、
２枚のシャッタ羽根により光束を遮蔽している状態か
ら、互いに離れる方向に回転させることで、光束の遮蔽
解除に要する時間も半分とすることができる。その結
果、２枚のシャッタ羽根による露光量の誤差を減少させ
ることができるため、オーバー露光等を抑制することが
可能となる。この場合、２枚のシャッタ羽根を同一の方
向に回転させることにより、２枚のシャッタ羽根による
光束の遮蔽及び遮蔽解除に要する時間を短くすることが
できる。
【００１０】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の実
施の形態を説明する。図７は、本発明による露光装置の
概略説明図である。楕円鏡１内に配設された超高圧水銀
ランプ等の光源２から出射された照明光は、反射鏡３に
より反射されて露光量を制御するシャッタ４に進む。こ
のシャッタ４によって制御される露光量は、露光量セン
サ５によって検出される。シャッタ４を通過した照明光
は、レンズ６及び照度ムラを無くすためのフライズアイ
ズレンズ７を通過して、マスクブラインド８に到達す
る。マスクブラインド８は、開口Ｓの大きさを変化させ
て照明光によるマスク１２上の照明範囲を調整するもの
である。
施の形態を説明する。図７は、本発明による露光装置の
概略説明図である。楕円鏡１内に配設された超高圧水銀
ランプ等の光源２から出射された照明光は、反射鏡３に
より反射されて露光量を制御するシャッタ４に進む。こ
のシャッタ４によって制御される露光量は、露光量セン
サ５によって検出される。シャッタ４を通過した照明光
は、レンズ６及び照度ムラを無くすためのフライズアイ
ズレンズ７を通過して、マスクブラインド８に到達す
る。マスクブラインド８は、開口Ｓの大きさを変化させ
て照明光によるマスク１２上の照明範囲を調整するもの
である。
【００１１】マスクプラインド８の開口Ｓを通過した照
明光はコンデンサレンズ９を通過し反射鏡１０により、
コンデンサレンズ１１に向けて反射される。コンデンサ
レンズ１１は、マスクブラインド８の開口Ｓの像をマス
ク１２上に結像するものであり、マスク１２の所望範囲
が照明される。マスク１２の照明範囲に存在するショッ
トパターン又はアライメントマークの像は、投影レンズ
１３によりレジストが塗付された基板１４上に結像さ
れ、これにより基板１４の所望領域にマスク１２のパタ
ーン像が露光される。基板１４はＸＹステージ１５上に
真空吸着によって保持されている。このステージ１５
は、互いに直交する方向へ移動可能な一対のブロックを
重ね合せた周知の構造を有したものである。
明光はコンデンサレンズ９を通過し反射鏡１０により、
コンデンサレンズ１１に向けて反射される。コンデンサ
レンズ１１は、マスクブラインド８の開口Ｓの像をマス
ク１２上に結像するものであり、マスク１２の所望範囲
が照明される。マスク１２の照明範囲に存在するショッ
トパターン又はアライメントマークの像は、投影レンズ
１３によりレジストが塗付された基板１４上に結像さ
れ、これにより基板１４の所望領域にマスク１２のパタ
ーン像が露光される。基板１４はＸＹステージ１５上に
真空吸着によって保持されている。このステージ１５
は、互いに直交する方向へ移動可能な一対のブロックを
重ね合せた周知の構造を有したものである。
【００１２】図１は、本発明による露光装置に係るシャ
ッタの一例を示す概略図であり、図１に示すシャッタが
図８に示した従来のシャッタ４と相違する点は、２枚の
シャッタ羽根４１ａ，４１ｂを有している点である。シ
ャッタ４は、これら２枚のシャッタ羽根４１ａ，４１ｂ
によって、照明光のフラックス（光束）ｐの遮蔽（シャ
ッタ閉）及び遮蔽解除（シャッタ開）を行なう。また、
これらシャッタ羽根４１ａ，４１ｂは例えば照明光束に
対して点対称に配置され、それぞれに設けられているモ
ータ４０Ａ，４０Ｂの駆動力によってこれらのシャッタ
羽根を同一方向から見てシャッタ羽根の回転軸４０ａ，
４０ｂが、同方向（同図では時計回り）に回転駆動され
るようになっており、これによりシャッタ羽根４１ａ，
４１ｂは同方向に回転駆動される。
ッタの一例を示す概略図であり、図１に示すシャッタが
図８に示した従来のシャッタ４と相違する点は、２枚の
シャッタ羽根４１ａ，４１ｂを有している点である。シ
ャッタ４は、これら２枚のシャッタ羽根４１ａ，４１ｂ
によって、照明光のフラックス（光束）ｐの遮蔽（シャ
ッタ閉）及び遮蔽解除（シャッタ開）を行なう。また、
これらシャッタ羽根４１ａ，４１ｂは例えば照明光束に
対して点対称に配置され、それぞれに設けられているモ
ータ４０Ａ，４０Ｂの駆動力によってこれらのシャッタ
羽根を同一方向から見てシャッタ羽根の回転軸４０ａ，
４０ｂが、同方向（同図では時計回り）に回転駆動され
るようになっており、これによりシャッタ羽根４１ａ，
４１ｂは同方向に回転駆動される。
【００１３】尚、図１では、モータ４０Ａ，４０Ｂの位
置は、シャッタ羽根４１ａ，４１ｂを含むような面に対
して、同一側になく、個々のモータ４０Ａ，４０Ｂを基
準に考えると各々の回転軸の回転方向は逆方向になって
いる。しかし、シャッタ羽根４１ａ，４１ｂを例えばモ
ータ４０Ａ側から見た際には各シャッタ羽根は共に時計
回りに回転していることになる。また、モータ４０Ａ，
４０Ｂの駆動力による回転方向は、両者共に反時計方向
であってもよく、この場合には、各シャッタ羽根４１
ａ，４１ｂの羽根部４２，４３のエッジ４２ｂ，４３ｂ
とを光軸中心位置近傍で一致させるように駆動すれば良
い。
置は、シャッタ羽根４１ａ，４１ｂを含むような面に対
して、同一側になく、個々のモータ４０Ａ，４０Ｂを基
準に考えると各々の回転軸の回転方向は逆方向になって
いる。しかし、シャッタ羽根４１ａ，４１ｂを例えばモ
ータ４０Ａ側から見た際には各シャッタ羽根は共に時計
回りに回転していることになる。また、モータ４０Ａ，
４０Ｂの駆動力による回転方向は、両者共に反時計方向
であってもよく、この場合には、各シャッタ羽根４１
ａ，４１ｂの羽根部４２，４３のエッジ４２ｂ，４３ｂ
とを光軸中心位置近傍で一致させるように駆動すれば良
い。
【００１４】図２は、図１のシャッタを支持プレートに
装着させた状態を示す図であり、各モータ４０Ａ，４０
Ｂの駆動軸４０ａ，４０ｂは、開口部４４を有する支持
プレート４５に回転自在に支持されている。更に、支持
プレート４５には、各シャッタ羽根４１ａ，４１ｂを回
転自在に収容する収容溝部４６が設けられており、これ
ら収容溝部４６によって支持プレート４５からの各シャ
ッタ羽根４１ａ，４１ｂの突出が防止されるようになっ
ている。各シャッタ羽根４１ａ，４１ｂに設けられてい
る羽根部４２，４３のうち、例えば一方の羽根部４２の
エッジ４２ａと他方の羽根部４３のエッジ４３ａとが開
口部４４上で一致することにより、照明光のフラックス
ｐの遮蔽（シャッタ閉）が行なわれるようになってい
る。
装着させた状態を示す図であり、各モータ４０Ａ，４０
Ｂの駆動軸４０ａ，４０ｂは、開口部４４を有する支持
プレート４５に回転自在に支持されている。更に、支持
プレート４５には、各シャッタ羽根４１ａ，４１ｂを回
転自在に収容する収容溝部４６が設けられており、これ
ら収容溝部４６によって支持プレート４５からの各シャ
ッタ羽根４１ａ，４１ｂの突出が防止されるようになっ
ている。各シャッタ羽根４１ａ，４１ｂに設けられてい
る羽根部４２，４３のうち、例えば一方の羽根部４２の
エッジ４２ａと他方の羽根部４３のエッジ４３ａとが開
口部４４上で一致することにより、照明光のフラックス
ｐの遮蔽（シャッタ閉）が行なわれるようになってい
る。
【００１５】次に、本発明による露光装置に係るシャッ
タ４の開閉動作について説明する。まず、シャッタ４が
閉状態では、図２（ｂ）に示したように、各シャッタ羽
根４１ａ，４１ｂの羽根部４２，４３のエッジ４２ａ，
４３ａ同士が開口部４４上で一致している。この状態
で、シャッタ４の開動作が開始されると、各モータ４０
Ａ，４０Ｂの駆動力によって各シャッタ羽根４１ａ，４
１ｂが時計方向に回転する。このとき、シャッタ４の開
動作の開始と略同時に、羽根部４２，４３のエッジ４２
ａ，４３ａ間が離れるため、図３に示すように、ａｂの
時点で照明光のフラックスｐが中心部分からそのエッジ
部分ｐ１ に向けて徐々に図２（ａ）の開口部４４を通
過し始め、図３に示すｃの時点で各羽根部４２，４３の
エッジ４２ａ，４３ａが照明光のフラックスｐを完全に
横切ると、照明光の強度が最大となる。
タ４の開閉動作について説明する。まず、シャッタ４が
閉状態では、図２（ｂ）に示したように、各シャッタ羽
根４１ａ，４１ｂの羽根部４２，４３のエッジ４２ａ，
４３ａ同士が開口部４４上で一致している。この状態
で、シャッタ４の開動作が開始されると、各モータ４０
Ａ，４０Ｂの駆動力によって各シャッタ羽根４１ａ，４
１ｂが時計方向に回転する。このとき、シャッタ４の開
動作の開始と略同時に、羽根部４２，４３のエッジ４２
ａ，４３ａ間が離れるため、図３に示すように、ａｂの
時点で照明光のフラックスｐが中心部分からそのエッジ
部分ｐ１ に向けて徐々に図２（ａ）の開口部４４を通
過し始め、図３に示すｃの時点で各羽根部４２，４３の
エッジ４２ａ，４３ａが照明光のフラックスｐを完全に
横切ると、照明光の強度が最大となる。
【００１６】このとき、照明光のフラックスｐを横切る
各羽根部４２，４３のエッジ４２ａ，４３ａの速度は、
図８に示した１枚のシャッタ羽根４１に比べ倍になるた
め、図３のａｂ〜ｃの間の時間が図９のｂ〜ｃの時間に
比べ略半分の時間で済むことになる。すなわち、照明光
のフラックス（光束）ｐに対する開動作が２枚のシャッ
タ羽根４１ａ，４１ｂによって半分づつ請け負わされて
おり、これによって照明光のフラックスｐを横切る時間
が半分で済むためである。
各羽根部４２，４３のエッジ４２ａ，４３ａの速度は、
図８に示した１枚のシャッタ羽根４１に比べ倍になるた
め、図３のａｂ〜ｃの間の時間が図９のｂ〜ｃの時間に
比べ略半分の時間で済むことになる。すなわち、照明光
のフラックス（光束）ｐに対する開動作が２枚のシャッ
タ羽根４１ａ，４１ｂによって半分づつ請け負わされて
おり、これによって照明光のフラックスｐを横切る時間
が半分で済むためである。
【００１７】次に、シャッタ４の各羽根部４２，４３が
ｄの時点で閉動作を開始すると、各羽根部４２，４３の
エッジ４２ａ，４３ａが照明光のフラックスｐの遮蔽を
開始し、ｆｇの時点で照明光のフラックス（光束）ｐを
完全に遮蔽する。このｆｇの時点は、一方の羽根部４３
のエッジ４３ａと他方の羽根部４２のエッジ４２ａとが
開口部４４上で一致するタイミングであり、図７の露光
量センサ５によりシャッタ閉が感知される時点でもあ
る。このとき、照明光のフラックスｐを横切る各羽根部
４２，４３のエッジ４２ａ，４３ａの速度は、上記のシ
ャッタ開動作と同様に、図８に示した１枚のシャッタ羽
根４１に比べ倍になるため、図３のｅ〜ｆｇの間の時間
が図９のｅ〜ｆの時間に比べ略半分の時間で済むことに
なる。
ｄの時点で閉動作を開始すると、各羽根部４２，４３の
エッジ４２ａ，４３ａが照明光のフラックスｐの遮蔽を
開始し、ｆｇの時点で照明光のフラックス（光束）ｐを
完全に遮蔽する。このｆｇの時点は、一方の羽根部４３
のエッジ４３ａと他方の羽根部４２のエッジ４２ａとが
開口部４４上で一致するタイミングであり、図７の露光
量センサ５によりシャッタ閉が感知される時点でもあ
る。このとき、照明光のフラックスｐを横切る各羽根部
４２，４３のエッジ４２ａ，４３ａの速度は、上記のシ
ャッタ開動作と同様に、図８に示した１枚のシャッタ羽
根４１に比べ倍になるため、図３のｅ〜ｆｇの間の時間
が図９のｅ〜ｆの時間に比べ略半分の時間で済むことに
なる。
【００１８】このように、この例では、２枚のシャッタ
羽根４１ａ，４１ｂにより、光源２からの照明光のフラ
ックス（光束）ｐをエッジｐ１ 側から遮蔽することに
より、照明光のフラックス（光束）ｐの遮蔽時間を半分
とすることができ、また、２枚のシャッタ羽根４１ａ，
４１ｂにより照明光のフラックス（光束）ｐを遮蔽して
いる状態から、互いに離れる方向に回転させることで、
照明光のフラックス（光束）ｐの遮蔽解除に要する時間
も半分とすることができる。その結果、２枚のシャッタ
羽根４１ａ，４１ｂによる露光量の誤差を減少させるこ
とができるため、オーバー露光を抑制することが可能と
なる。
羽根４１ａ，４１ｂにより、光源２からの照明光のフラ
ックス（光束）ｐをエッジｐ１ 側から遮蔽することに
より、照明光のフラックス（光束）ｐの遮蔽時間を半分
とすることができ、また、２枚のシャッタ羽根４１ａ，
４１ｂにより照明光のフラックス（光束）ｐを遮蔽して
いる状態から、互いに離れる方向に回転させることで、
照明光のフラックス（光束）ｐの遮蔽解除に要する時間
も半分とすることができる。その結果、２枚のシャッタ
羽根４１ａ，４１ｂによる露光量の誤差を減少させるこ
とができるため、オーバー露光を抑制することが可能と
なる。
【００１９】なお、この例では、各シャッタ羽根４１
ａ，４１ｂを点対称に配置した場合について説明した
が、この例に限らず、これらシャッタ羽根４１ａ，４１
ｂを線対称となるように配置してもよいことは勿論であ
る。また、図４に示すように、各羽根部４２，４３の対
向する位置に重り４７を設けるようにしてもよい。この
重り４７を設けることで、各羽根部４２，４３の重量バ
ランスが維持され、各羽根部４２，４３の回転動作が適
切に行なわれるため、シャッタ羽根４１ａ，４１ｂを一
枚羽根としてシャッタ羽根の全長を短くすることができ
る。この場合、重り４７は、各羽根部４２，４３の重量
に釣り合った重さとすることが望ましい。
ａ，４１ｂを点対称に配置した場合について説明した
が、この例に限らず、これらシャッタ羽根４１ａ，４１
ｂを線対称となるように配置してもよいことは勿論であ
る。また、図４に示すように、各羽根部４２，４３の対
向する位置に重り４７を設けるようにしてもよい。この
重り４７を設けることで、各羽根部４２，４３の重量バ
ランスが維持され、各羽根部４２，４３の回転動作が適
切に行なわれるため、シャッタ羽根４１ａ，４１ｂを一
枚羽根としてシャッタ羽根の全長を短くすることができ
る。この場合、重り４７は、各羽根部４２，４３の重量
に釣り合った重さとすることが望ましい。
【００２０】更に、図５に示すように、各シャッタ羽根
４１ａ，４１ｂを並設させるようにしてもよい。この場
合、図示しないモータからの駆動力を駆動ギヤ４８を介
して一方の羽根部４３側に与えると共に、伝達ギヤ４９
を介して他方の羽根部４２側にその駆動力を与えるよう
にすることで、各羽根部４２，４３の開閉動作を交差さ
せずに行なわれることができると共に、上述したモータ
４０Ａ，４０Ｂを一個とすることができるので、構成の
簡素化が図れる。更にまた、図６のように、図示しない
モータからの駆動力を駆動ギヤ４８を介して一方の羽根
部４３側に与えると共に、この羽根部４３側から他方の
羽根部４２側にその駆動力を与えるようにするようにし
てもよく、こうすることで更なる構成の簡素化が図れ
る。
４１ａ，４１ｂを並設させるようにしてもよい。この場
合、図示しないモータからの駆動力を駆動ギヤ４８を介
して一方の羽根部４３側に与えると共に、伝達ギヤ４９
を介して他方の羽根部４２側にその駆動力を与えるよう
にすることで、各羽根部４２，４３の開閉動作を交差さ
せずに行なわれることができると共に、上述したモータ
４０Ａ，４０Ｂを一個とすることができるので、構成の
簡素化が図れる。更にまた、図６のように、図示しない
モータからの駆動力を駆動ギヤ４８を介して一方の羽根
部４３側に与えると共に、この羽根部４３側から他方の
羽根部４２側にその駆動力を与えるようにするようにし
てもよく、こうすることで更なる構成の簡素化が図れ
る。
【００２１】
【発明の効果】本発明によれば、２枚のシャッタ羽根に
より、露光光源からの光束を光束の中心を挟んで対向す
る周縁方向から遮蔽し、また、２枚のシャッタ羽根によ
り光束を遮蔽している状態から、互いに離れる方向に回
転させることで、光束の遮蔽及び遮蔽解除に要する時間
を共に半分とすることができる、また露光量の制御精度
を高めることができる。
より、露光光源からの光束を光束の中心を挟んで対向す
る周縁方向から遮蔽し、また、２枚のシャッタ羽根によ
り光束を遮蔽している状態から、互いに離れる方向に回
転させることで、光束の遮蔽及び遮蔽解除に要する時間
を共に半分とすることができる、また露光量の制御精度
を高めることができる。
【図１】本発明によるシャッタの一例を示す概略図。
【図２】図１のシャッタを支持プレートに装着させた状
態を示す図。
態を示す図。
【図３】図１のシャッタによる露光量を示す図。
【図４】本発明によるシャッタの他の例を示す概略図。
【図５】本発明によるシャッタの他の例を示す概略図。
【図６】本発明によるシャッタの他の例を示す概略図。
【図７】本発明による露光装置を示す概略図。
【図８】従来のシャッタの説明図。
【図９】従来のシャッタによる露光量を示す図。
【図１０】従来のシャッタの動作を説明するための図。
【図１１】従来のシャッタの動作を説明するための図。
４…シャッタ、４０Ａ，４０Ｂ…モータ、４１ａ，４１
ｂ…シャッタ羽根、４２，４３…羽根部、４２ｂ，４３
ｂ…エッジ、４４…開口部、４５…支持プレート、４６
…収容溝部、４７…重り、４８…駆動ギヤ、４９…伝達
ギヤ、ｐ…照明光のフラックス（光束）
ｂ…シャッタ羽根、４２，４３…羽根部、４２ｂ，４３
ｂ…エッジ、４４…開口部、４５…支持プレート、４６
…収容溝部、４７…重り、４８…駆動ギヤ、４９…伝達
ギヤ、ｐ…照明光のフラックス（光束）
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 ＦＩ Ｈ０１Ｌ 21/30 ５１６Ｄ
Claims (3)
- 【請求項１】 露光光源と、前記露光光源からの光束を
マスクに照射する照明光学系と、マスクの像を基板上に
転写する投影光学系と、露光量をモニタする光検出器
と、前記照明光学系内に設けられたシャッタ装置と、前
記光検出器によってモニタされた露光量に基づいて前記
シャッタ装置を開閉制御する制御手段とを含む露光装置
において、 前記シャッタ装置は各々回転軸を有する２枚のシャッタ
羽根を備えることを特徴とする露光装置。 - 【請求項２】 前記２枚のシャッタ羽根は、前記露光光
源からの光束を光束の中心を挟んで対向する周縁方向か
ら遮蔽することを特徴とする請求項１記載の露光装置。 - 【請求項３】 前記２枚のシャッタ羽根は同一の方向に
回転することを特徴とする請求項１又は２記載の露光装
置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10023097A JPH11219893A (ja) | 1998-02-04 | 1998-02-04 | 露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10023097A JPH11219893A (ja) | 1998-02-04 | 1998-02-04 | 露光装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11219893A true JPH11219893A (ja) | 1999-08-10 |
Family
ID=12100955
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10023097A Pending JPH11219893A (ja) | 1998-02-04 | 1998-02-04 | 露光装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11219893A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1291721A1 (en) * | 2001-09-07 | 2003-03-12 | ASML Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
| WO2003050621A1 (en) * | 2001-12-07 | 2003-06-19 | Motorola, Inc. | Continuously adjustable neutral density filter |
| US6741329B2 (en) | 2001-09-07 | 2004-05-25 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
| JP2008076924A (ja) * | 2006-09-25 | 2008-04-03 | Hitachi High-Technologies Corp | 露光装置、露光方法、及び表示用パネル基板の製造方法 |
| JP2020515896A (ja) * | 2017-03-31 | 2020-05-28 | シャンハイ マイクロ エレクトロニクス イクイプメント（グループ）カンパニー リミティド | シャッター装置 |
| JP2020525860A (ja) * | 2017-07-05 | 2020-08-27 | シャンハイ マイクロ エレクトロニクス イクイプメント（グループ）カンパニー リミティド | フォトリソグラフィ装置用シャッター羽根装置 |
-
1998
- 1998-02-04 JP JP10023097A patent/JPH11219893A/ja active Pending
Cited By (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1291721A1 (en) * | 2001-09-07 | 2003-03-12 | ASML Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
| US6741329B2 (en) | 2001-09-07 | 2004-05-25 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
| EP1491959A1 (en) * | 2001-09-07 | 2004-12-29 | ASML Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
| KR100551209B1 (ko) * | 2001-09-07 | 2006-02-14 | 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이. | 리소그래피장치 및 디바이스 제조방법 |
| WO2003050621A1 (en) * | 2001-12-07 | 2003-06-19 | Motorola, Inc. | Continuously adjustable neutral density filter |
| US6744494B2 (en) | 2001-12-07 | 2004-06-01 | Motorola, Inc. | Continuously adjustable neutral density area filter |
| JP2008076924A (ja) * | 2006-09-25 | 2008-04-03 | Hitachi High-Technologies Corp | 露光装置、露光方法、及び表示用パネル基板の製造方法 |
| JP2020515896A (ja) * | 2017-03-31 | 2020-05-28 | シャンハイ マイクロ エレクトロニクス イクイプメント（グループ）カンパニー リミティド | シャッター装置 |
| US10928704B2 (en) | 2017-03-31 | 2021-02-23 | Shanghai Micro Electronics Equipment (Group) Co., Ltd. | Shutter device |
| JP2020525860A (ja) * | 2017-07-05 | 2020-08-27 | シャンハイ マイクロ エレクトロニクス イクイプメント（グループ）カンパニー リミティド | フォトリソグラフィ装置用シャッター羽根装置 |
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