JPH11221660A - 真空チャンバの製造方法 - Google Patents
真空チャンバの製造方法Info
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- JPH11221660A JPH11221660A JP2242598A JP2242598A JPH11221660A JP H11221660 A JPH11221660 A JP H11221660A JP 2242598 A JP2242598 A JP 2242598A JP 2242598 A JP2242598 A JP 2242598A JP H11221660 A JPH11221660 A JP H11221660A
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Landscapes
- Furnace Details (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 溶接欠陥の発生を防止した真空チャンバの製
造方法を提供する。 【解決手段】 真空容器として使用される真空チャンバ
の製造方法においては、先ず、純アルミニウムからなる
５枚の板（側板１及び底板）を箱形状に仮組立し、砂型
２，３を側板１との間に間隙を有して配置する。そし
て、Ａｌ−Ｓｉ系アルミニウム合金の溶湯を前記間隙に
注入することにより、前記板を前記溶湯で鋳ぐるみ、純
アルミニウム合金を芯材とし、前記合金を被覆材とする
真空チャンバを製造する。
造方法を提供する。 【解決手段】 真空容器として使用される真空チャンバ
の製造方法においては、先ず、純アルミニウムからなる
５枚の板（側板１及び底板）を箱形状に仮組立し、砂型
２，３を側板１との間に間隙を有して配置する。そし
て、Ａｌ−Ｓｉ系アルミニウム合金の溶湯を前記間隙に
注入することにより、前記板を前記溶湯で鋳ぐるみ、純
アルミニウム合金を芯材とし、前記合金を被覆材とする
真空チャンバを製造する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体製造工程に
おいてウエハを収納する際に使用される真空チャンバの
製造方法に関する。
おいてウエハを収納する際に使用される真空チャンバの
製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】半導体装置の製造装置においては、ウエ
ハに膜を形成するための複数個の反応処理チャンバと、
ウエハを各反応処理チャンバ間で移動させる際に、経由
地として使用されるトランスファチャンバとが設けられ
ている。反応処理チャンバにおいては、ウエハ上にＣＶ
Ｄ（化学気相成長）又はＰＶＤ（物理的気相成長）によ
り、種々の膜を形成する。そして、反応処理チャンバか
ら別の反応処理チャンバにウエハを移載する際には、一
旦、トランスファチャンバ内にウエハを移し、その後、
目的の反応処理チャンバにウエハを移動させる。なお、
反応処理チャンバにおいては、１０-9ｔｏｒｒという高
真空が必要であるが、トランスファチャンバにおいて
は、１０-3〜１０-4程度の真空で足りる真空チャンバで
ある。
ハに膜を形成するための複数個の反応処理チャンバと、
ウエハを各反応処理チャンバ間で移動させる際に、経由
地として使用されるトランスファチャンバとが設けられ
ている。反応処理チャンバにおいては、ウエハ上にＣＶ
Ｄ（化学気相成長）又はＰＶＤ（物理的気相成長）によ
り、種々の膜を形成する。そして、反応処理チャンバか
ら別の反応処理チャンバにウエハを移載する際には、一
旦、トランスファチャンバ内にウエハを移し、その後、
目的の反応処理チャンバにウエハを移動させる。なお、
反応処理チャンバにおいては、１０-9ｔｏｒｒという高
真空が必要であるが、トランスファチャンバにおいて
は、１０-3〜１０-4程度の真空で足りる真空チャンバで
ある。
【０００３】この真空チャンバは、従来、アルミニウム
合金板を箱状に組み立て、各板を溶接により接合して組
み立てるか、又は機械加工により板からの削り出しで製
作している。
合金板を箱状に組み立て、各板を溶接により接合して組
み立てるか、又は機械加工により板からの削り出しで製
作している。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、この従
来の真空チャンバは、アルミニウム板を溶接により接合
して組み立てているため、この溶接部に欠陥が発生する
虞があるという難点がある。また、この溶接部の欠陥を
防止するためには、溶接作業に熟練が必要であるという
難点がある。
来の真空チャンバは、アルミニウム板を溶接により接合
して組み立てているため、この溶接部に欠陥が発生する
虞があるという難点がある。また、この溶接部の欠陥を
防止するためには、溶接作業に熟練が必要であるという
難点がある。
【０００５】本発明はかかる問題点に鑑みてなされたも
のであって、溶接欠陥の発生を防止した真空チャンバの
製造方法を提供することを目的とする。
のであって、溶接欠陥の発生を防止した真空チャンバの
製造方法を提供することを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明に係る真空チャン
バの製造方法は、真空容器として使用される真空チャン
バの製造方法において、アルミニウム又はアルミニウム
合金からなる５枚の板を箱形状に仮組立し、砂型を前記
板との間に間隙を有して配置し、アルミニウム又はアル
ミニウム合金の溶湯を前記間隙に注入することにより、
前記板を前記溶湯で鋳ぐるみ、前記板組成を芯材とし、
前記溶湯組成を被覆材とする真空チャンバを製造するこ
とを特徴とする。
バの製造方法は、真空容器として使用される真空チャン
バの製造方法において、アルミニウム又はアルミニウム
合金からなる５枚の板を箱形状に仮組立し、砂型を前記
板との間に間隙を有して配置し、アルミニウム又はアル
ミニウム合金の溶湯を前記間隙に注入することにより、
前記板を前記溶湯で鋳ぐるみ、前記板組成を芯材とし、
前記溶湯組成を被覆材とする真空チャンバを製造するこ
とを特徴とする。
【０００７】本発明に係る他の真空チャンバの製造方法
は、真空容器として使用される真空チャンバの製造方法
において、純アルミニウムからなる５枚の板を箱形状に
仮組立し、砂型を前記板との間に間隙を有して配置し、
Ａｌ−Ｓｉ系アルミニウム合金の溶湯を前記間隙に注入
することにより、前記板を前記溶湯で鋳ぐるみ、純アル
ミニウムを芯材とし、前記アルミニウム合金を被覆材と
する真空チャンバを製造することを特徴とする。
は、真空容器として使用される真空チャンバの製造方法
において、純アルミニウムからなる５枚の板を箱形状に
仮組立し、砂型を前記板との間に間隙を有して配置し、
Ａｌ−Ｓｉ系アルミニウム合金の溶湯を前記間隙に注入
することにより、前記板を前記溶湯で鋳ぐるみ、純アル
ミニウムを芯材とし、前記アルミニウム合金を被覆材と
する真空チャンバを製造することを特徴とする。
【０００８】本発明においては、例えば、純アルミニウ
ム板をＡｌ−Ｓｉ系合金等のアルミニウム合金の溶湯に
よる鋳ぐるみにより固定し、箱形状に組み立てるので、
溶接が不要であり、溶接に伴う欠陥が生じない。
ム板をＡｌ−Ｓｉ系合金等のアルミニウム合金の溶湯に
よる鋳ぐるみにより固定し、箱形状に組み立てるので、
溶接が不要であり、溶接に伴う欠陥が生じない。
【０００９】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施例について、
添付の図面を参照して具体的に説明する。図１は本発明
の実施例方法を示す図である。側板１（１ａ、１ｂ、１
ｃ、１ｄ）と、底板（図示せず）との５枚の板を箱形状
に組合せ、ボルトで仮止めする。これにより、５枚の板
をチャンバ形状に仮組立する。
添付の図面を参照して具体的に説明する。図１は本発明
の実施例方法を示す図である。側板１（１ａ、１ｂ、１
ｃ、１ｄ）と、底板（図示せず）との５枚の板を箱形状
に組合せ、ボルトで仮止めする。これにより、５枚の板
をチャンバ形状に仮組立する。
【００１０】この側板１及び底板からなる５枚の純アル
ミニウム板をチャンバ形状に仮組立した後、その内部に
砂型２を配置し、外部に砂型３を配置する。砂型２は直
方体形状を有し、側板１に囲まれた空間内に、各側板１
との間に適長間隔を有して離隔するように配置されてい
る。また、側板１の外側に配置される砂型３は側板１を
囲むようにして、側板１との間に適長間隔をおいて配置
されている。
ミニウム板をチャンバ形状に仮組立した後、その内部に
砂型２を配置し、外部に砂型３を配置する。砂型２は直
方体形状を有し、側板１に囲まれた空間内に、各側板１
との間に適長間隔を有して離隔するように配置されてい
る。また、側板１の外側に配置される砂型３は側板１を
囲むようにして、側板１との間に適長間隔をおいて配置
されている。
【００１１】次いで、Ａｌ−Ｓｉ系アルミニウム合金の
溶湯を、側板１と砂型２，３との間の隙間に注入し、前
記アルミニウム合金溶湯を凝固させることにより、純ア
ルミニウムからなる側板１及び底板をＡｌ−Ｓｉ系アル
ミニウム合金溶湯で鋳ぐるむ。これにより、アルミニウ
ムが芯材、アルミニウム合金が前記芯材を被覆する被覆
材となる真空チャンバが組み立てられる。なお、側板１
及び底板は、その厚さが例えば３０ｍｍであり、鋳ぐる
む部分は片面５ｍｍづつ、両面で１０ｍｍとすることが
でき、これにより、肉厚が４０ｍｍのチャンバが製造さ
れる。
溶湯を、側板１と砂型２，３との間の隙間に注入し、前
記アルミニウム合金溶湯を凝固させることにより、純ア
ルミニウムからなる側板１及び底板をＡｌ−Ｓｉ系アル
ミニウム合金溶湯で鋳ぐるむ。これにより、アルミニウ
ムが芯材、アルミニウム合金が前記芯材を被覆する被覆
材となる真空チャンバが組み立てられる。なお、側板１
及び底板は、その厚さが例えば３０ｍｍであり、鋳ぐる
む部分は片面５ｍｍづつ、両面で１０ｍｍとすることが
でき、これにより、肉厚が４０ｍｍのチャンバが製造さ
れる。
【００１２】本実施例においては、芯材となる純アルミ
ニウム板をボルトにより仮止めした後、アルミニウム合
金の溶湯でこれを鋳ぐるむことにより、前記純アルミニ
ウム板からなる側板１及び底板を固定するから、溶接に
より接合した場合の溶接欠陥が回避される。このため、
本発明によれば、従来のように、溶接作業のために熟練
者が必要であるとか、溶接欠陥の検査が必要である等の
不都合が回避される。
ニウム板をボルトにより仮止めした後、アルミニウム合
金の溶湯でこれを鋳ぐるむことにより、前記純アルミニ
ウム板からなる側板１及び底板を固定するから、溶接に
より接合した場合の溶接欠陥が回避される。このため、
本発明によれば、従来のように、溶接作業のために熟練
者が必要であるとか、溶接欠陥の検査が必要である等の
不都合が回避される。
【００１３】なお、芯材としては、純アルミニウムの外
に、ＪＩＳ ５０００系又は６０００系アルミニウム合
金がある。これらの５０００系又は６０００系アルミニ
ウム合金はＣｕ及びＺｎを含有しないため、製造が容易
である。
に、ＪＩＳ ５０００系又は６０００系アルミニウム合
金がある。これらの５０００系又は６０００系アルミニ
ウム合金はＣｕ及びＺｎを含有しないため、製造が容易
である。
【００１４】また、被覆材としては、Ａｌ−Ｓｉ系アル
ミニウム合金を使用すると、巣が発生しにくいため、好
ましい。
ミニウム合金を使用すると、巣が発生しにくいため、好
ましい。
【００１５】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
熟練作業を要することなく、欠陥がない真空チャンバを
容易に製造することができる。
熟練作業を要することなく、欠陥がない真空チャンバを
容易に製造することができる。
【図１】本発明の実施例方法を示す図である。
１，１ａ，１ｂ，１ｃ，１ｄ：側板 ２、３：砂型
Claims (3)
- 【請求項１】 真空容器として使用される真空チャンバ
の製造方法において、アルミニウム又はアルミニウム合
金からなる５枚の板を箱形状に仮組立し、砂型を前記板
との間に間隙を有して配置し、アルミニウム又はアルミ
ニウム合金の溶湯を前記間隙に注入することにより、前
記板を前記溶湯で鋳ぐるみ、前記板組成を芯材とし、前
記溶湯組成を被覆材とする真空チャンバを製造すること
を特徴とする真空チャンバの製造方法。 - 【請求項２】 真空容器として使用される真空チャンバ
の製造方法において、純アルミニウムからなる５枚の板
を箱形状に仮組立し、砂型を前記板との間に間隙を有し
て配置し、Ａｌ−Ｓｉ系アルミニウム合金の溶湯を前記
間隙に注入することにより、前記板を前記溶湯で鋳ぐる
み、純アルミニウムを芯材とし、前記アルミニウム合金
を被覆材とする真空チャンバを製造することを特徴とす
る真空チャンバの製造方法。 - 【請求項３】 前記箱形状の板に加えて、冷却パイプと
フランジ部材も共に前記溶湯で鋳ぐるむことを特徴とす
る請求項１又は２に記載の真空チャンバの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2242598A JPH11221660A (ja) | 1998-02-03 | 1998-02-03 | 真空チャンバの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2242598A JPH11221660A (ja) | 1998-02-03 | 1998-02-03 | 真空チャンバの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11221660A true JPH11221660A (ja) | 1999-08-17 |
Family
ID=12082344
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2242598A Pending JPH11221660A (ja) | 1998-02-03 | 1998-02-03 | 真空チャンバの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11221660A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE102008060683A1 (de) | 2007-12-20 | 2009-06-25 | Kurt Ansperger | Vakuumkammer zum Bedampfen oder Beschichten |
| KR20170070538A (ko) * | 2015-12-14 | 2017-06-22 | 주식회사 씨에이치솔루션 | 진공 챔버 주조 장치, 진공 챔버 제조방법과 이에 의해 제조된 진공 챔버 |
-
1998
- 1998-02-03 JP JP2242598A patent/JPH11221660A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE102008060683A1 (de) | 2007-12-20 | 2009-06-25 | Kurt Ansperger | Vakuumkammer zum Bedampfen oder Beschichten |
| DE202008017738U1 (de) | 2007-12-20 | 2010-05-27 | Ansperger, Kurt | Vakuumkammer zum Bedampfen oder Beschichten |
| KR20170070538A (ko) * | 2015-12-14 | 2017-06-22 | 주식회사 씨에이치솔루션 | 진공 챔버 주조 장치, 진공 챔버 제조방법과 이에 의해 제조된 진공 챔버 |
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