JPH1123483A - 半導体検査装置及び半導体検査方法 - Google Patents
半導体検査装置及び半導体検査方法Info
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- JPH1123483A JPH1123483A JP18125097A JP18125097A JPH1123483A JP H1123483 A JPH1123483 A JP H1123483A JP 18125097 A JP18125097 A JP 18125097A JP 18125097 A JP18125097 A JP 18125097A JP H1123483 A JPH1123483 A JP H1123483A
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Abstract
く且つ安定した状態で識別することができる半導体検査
装置及び半導体検査方法を得る。 【解決手段】 半導体チップ1に照明光を照射する落射
照明3、半導体チップ1をを撮像する撮像手段6、落射
照明3または撮像手段6のいずれか一方に設けられ、半
導体チップ1を構成する異なる物質によるそれぞれの反
射光量の差が大きくなる光波長領域を透過するフィルタ
手段16、撮像手段6で得られた撮像画像から半導体チ
ップ1の特定の物質からなる領域を識別する画像処理手
段9を備えた。
Description
用いて半導体の外観検査を行う半導体検査装置及び半導
体検査方法に関するものである。
12号公報に開示された従来の半導体検査装置を示す構
成図である。図において、1は被検査物である半導体チ
ップ、2は半導体チップ1を斜方から照明するリング照
明などを用いた斜方照明、3は半導体チップ1を垂直方
向から照明するための落射照明、4は落射照明3の光を
集光するレンズ、5は落射照明3からの照明光を半導体
チップ1に照射するハーフミラー、6は半導体チップ1
を撮像するための撮像手段、7は斜方照明2、落射照明
3、撮像手段6で構成された光学ヘッド、8は光学ヘッ
ド7を半導体チップ1に対して位置決めするXYZステ
ージ、9は撮像手段6より取り込まれた撮像画像を解析
する画像処理手段、10は半導体チップ1にボンディン
グされた金線のワイヤである。
チップ1を示す概略図である。図において、11はボン
ディング時に形成されたボール、12は電極面でアルミ
などでできたパッド、13はステッチ、14はリードで
ある。
ボンディングする様子を示す図である。図において、1
1aはチャンファー部、11bはつば部、15はキャピ
ラリである。キャピラリ15内には金線であるワイヤ1
0が挿入されており、このキャピラリ15をパッド12
に押しつけることによってボンディングされ、ボール1
1が形成される。ボール11は、さらに、キャピラリ先
端内面で形成されたチャンファー部11a、キャピラリ
先端平面部で形成されたつば部11bとに分けられる。
あり、照明光の反射の様子を示した図である。図におい
て、A、B、C、Dは照明光である。また図18は、こ
のボール11を撮像したときの撮像画像を示す図であ
る。
被検査物である半導体チップ1上のボール11の撮像を
して検査を行う場合について説明する。XYZステージ
8を使用して撮像手段6をボール11が存在する位置に
移動させ、斜方照明2及び落射照明3を用いてボール1
1を照明し、焦点を合わせた上でボール11のを撮像す
る。
は、上記図17のように反射する。まず、チャンファー
部11aに照射された照明光Aは、チャンファー部11
aの表面が傾斜を持った鏡面であるため入射方向に反射
されない。また、キャピラリ先端平面部によって形成さ
れたつば部11bに照射された照明光B、Cは、つば部
11b表面がフラットであるため入射方向に反射され
る。パッド12の表面に照射された照明光Eは、照明光
B及びCと同様に入射方向に反射される。
像画像は、上記図18に示すように、反射光が返ってく
るパッド12の表面及びつば部11bにおいて明るくな
り、反射光が返ってこないチャンファー部11aにおい
て暗くなる。この画像に対して、画像処理手段9を用い
てボール11の外形寸法、及び中心座標を算出するとい
った外観検査を行う。
撮像をして検査を行う場合について説明する。図19
は、リード14にワイヤ10をボンディングする様子を
示す図である。図において、13aはステッチ傾斜部、
13bはステッチ平坦部である。キャピラリ15内には
金線であるワイヤ10が挿入されており、このキャピラ
リ15をリード14に押しつけることによってボンディ
ングされ、ステッチ13が形成される。ステッチ13
は、さらに、キャピラリ先端傾斜部で形成されたステッ
チ傾斜部13aとキャピラリ先端平面部で形成されたス
テッチ平坦部13bとに分けられる。
であり、照明光の反射の様子を示した図である。図にお
いて、a、b、c、dは照明光である。また、図21
は、ステッチ13を撮像したときの撮像画像を示す図で
ある。
で行われる。このとき、ステッチ13に照射した照明光
は、上記図19のように反射する。ワイヤ10に照射さ
れた照明光aは、ワイヤ10が光軸に対して傾斜してい
るため、入射方向に反射されない。また、ステッチ13
に照射された照明光b及びcのうち、キャピラリ15の
先端傾斜部で形成されたステッチ傾斜部13aに照射さ
れた照明光bは、傾斜部であるため入射方向に反射され
ない。しかし、キャピラリ15の先端平面部で形成され
たステッチ平坦部13bに照射された照明光cは、平坦
部であるため入射方向に反射される。リード14に照射
された照明光dも同様に入射方向に反射される。
撮像画像は、上記図20に示すように、反射光の返って
こないワイヤ10及びステッチ傾斜部13aにおいて暗
くなり、反射光が返ってくるステッチ平坦部13b及び
リード14において明るくなる。この画像に対して画像
処理手段9を用いて、ステッチ13の幅、長さ、中心座
標を算出するなどの外観検査を行う。
示すようなワイヤボンディング状態を検査する装置にお
いては、パッド12に対するボール11のずれ量を計測
するため、ボール11全体をパッド12から分離、識別
する必要がある。しかし、上記従来例では、上記図18
に示す撮像画像のように、つば部11bとパッド12と
が共に反射光で明るくなり区別がつきにくく、ボール1
1全体を正確に識別、検査するのは困難であった。ま
た、上記図20におけるステッチ13の撮像画像におい
ても、ステッチ平坦部13bとリード14とが共に反射
光で明るくなって区別がつきにくく、ステッチ13全体
を正確に識別、検査することが困難であった。
検査方法では、抽出したい特定領域を識別することが困
難であり、処理の精度や安定性が悪いという問題点があ
った。
ためになされたもので、被検査物の抽出したい特定の領
域を、精度良く且つ安定した状態で識別することができ
る半導体検査装置及び半導体検査方法を得ることを目的
とする。
査装置は、複数の異なる物質からなる被検査物、この被
検査物に照明光を照射する照明手段、被検査物を撮像す
る撮像手段、照明手段または撮像手段のいずれか一方に
設けられ、被検査物の異なる物質によるそれぞれの反射
光量の差が撮像手段の受光面上で大きくなる光波長領域
を透過するフィルタ手段、撮像手段で得られた撮像画像
から被検査物の特定の物質からなる領域を識別する画像
処理手段を備えたものである。
て透過できる光波長領域を変えられるものである。
物、この被検査物に照明光を照射する照明手段、被検査
物を撮像する第一の撮像手段及び第二の撮像手段、第一
の撮像手段に設けられ被検査物の異なる物質によるそれ
ぞれの反射光量の差が第一の撮像手段の受光面上で大き
くなる光波長領域を透過する第一のフィルタ手段、第一
の撮像手段で撮像した撮像画像と、第二の撮像手段で撮
像した撮像画像との差分から被検査物の特定の領域を識
別する画像処理手段を備えたものである。
る物質によるそれぞれの反射光量のの差が第二の撮像手
段の受光面上で小さくなる光波長領域を透過する第二の
フィルタ手段を備えたものである。
物、この被検査物に照明光を照射する照明手段、被検査
物を撮像する撮像手段、照明手段または撮像手段のいず
れか一方に設けられ、被検査物の異なる物質によるそれ
ぞれの反射光量の差が撮像手段の受光面上で大きくなる
光波長領域を透過する第一のフィルタ手段、被検査物の
異なる物質によるそれぞれの反射光量の差が撮像手段の
受光面上で小さくなる光波長領域を透過する第二のフィ
ルタ手段、第一のフィルタ手段または第二のフィルタ手
段のいずれかを選択するフィルタ切り替え手段、このフ
ィルタ切り替え手段で選択された第一のフィルタ手段を
介して撮像した撮像画像とフィルタ切り替え手段で選択
された第二のフィルタ手段を介して撮像した撮像画像と
の差分から被検査物の特定の領域を識別する画像処理手
段を備えたものである。
波長領域に分光分布が集中している光源である。
物、この被検査物に照明光を照射する第一の照明手段及
び第二の照明手段、被検査物を撮像する撮像手段、第一
の照明手段に設けられ被検査物の異なる物質によるそれ
ぞれの反射光量の差が撮像手段の受光面上で大きくなる
光波長領域を透過する第一のフィルタ手段、第一の照明
手段による照明光で撮像した撮像画像と、第二の照明手
段による照明光で撮像した撮像画像との差分から被検査
物の特定の領域を識別する画像処理手段を備えたもので
ある。
る物質によるそれぞれの反射光量の差が小さくなる光波
長領域を透過する第二のフィルタ手段を備えたものであ
る。
タ手段の透過光波長領域に分光分布が集中している光源
である。
複数の異なる物質からなる被検査物に、この被検査物の
異なる物質によるそれぞれの反射光量の差が大きくなる
光波長領域の照明光を被検査物に照射する工程、被検査
物を撮像する工程、得られた撮像画像から被検査物の特
定の物質からなる領域を識別する工程を含むものであ
る。
に照明光を照射する第一の照射工程、この第一の照射工
程による照明光で被検査物を撮像する第一の撮像工程、
被検査物の異なる物質によるそれぞれの反射光量の差が
大きくなる光波長領域の照明光を被検査物に照射する第
二の照射工程、この第二の照射工程による照明光で被検
査物を撮像する第二の撮像工程、第一及び第二の撮像工
程で得られた撮像画像の差分をとることにより被検査物
の特定の領域を識別する工程を含むものである。
に、この被検査物の異なる物質によるそれぞれの反射光
量の差が大きくなる光波長領域の照明光を被検査物に照
射する第一の照射工程、この第一の照射工程による照明
光で被検査物を撮像する第一の撮像工程、被検査物の異
なる物質によるそれぞれの反射光量の差が小さくなる光
波長領域の照明光を照射する第二の照射工程、この第二
の照射工程による照明光で被検査物を撮像する第二の撮
像工程、第一及び第二の撮像工程で得られた撮像画像の
差分をとることにより被検査物の特定の領域を識別する
工程を含むものである。
半導体検査装置を示す構成図である。図において、1は
被検査物である半導体チップ、3は照明手段であり半導
体チップ1を垂直方向から照明するための落射照明、4
はレンズ、5はハーフミラー、6は半導体チップ1を撮
像するためのCCDカメラなどの撮像手段、9は撮像手
段6より取り込まれた撮像画像を解析する画像処理手
段、10は半導体チップ1にボンディングされた金線の
ワイヤ、16は落射照明3に設けられ照明光の光波長領
域を限定するフィルタ手段、17は半導体チップ1の全
領域に落射照明3からの照明光エリア及び撮像エリアを
切り替えるための光軸偏向切り替え手段である。
1を構成する、金、銀、アルミにおける光波長と反射率
との関係を示す図である。また図3は、フィルタ手段1
6に用いる青色フィルタの透過特性を示す図である。ま
た図4は、本実施の形態1による半導体検査装置でボー
ル11を撮像した撮像画像、図5は、同じく本実施の形
態1による半導体検査装置でステッチ13を撮像した撮
像画像を示す図である。
ら出射した照明光は、フィルタ手段16を介しハーフミ
ラー5によって光軸偏向切り替え手段17に入射する。
光軸偏向切り替え手段17は高速に視野の切り替えを行
うことが可能である。半導体チップ1によって反射した
反射光は、光軸偏向切り替え手段17、ハーフミラー
5、レンズ4を介して撮像手段6に入射し、撮像手段6
は半導体チップ1の撮像を行う。なお、落射照明3及び
光軸偏向切り替え手段17は、図示されない制御手段に
よって、適宜制御が行われている。
ついて、上記従来例におけるボール11の撮像及び検査
を例に説明する。ここで、ボール11は金、パッド12
はアルミを用いたとする。
金の反射率を見ると350〜500nmの光波長領域に
おいて大きな差が発生していることが分かる。即ち、3
50〜500nmの光波長領域の照明光を照射すれば、
アルミ表面による反射光量は大きく発生するが、金表面
による反射光量は少なくなる。そこで、上記図3に示す
ような、400nm〜480nmの光波長領域を透過す
る青色フィルタをフィルタ手段16として用いる。アル
ミで形成されたパッド12による照明光D(上記図1
7)の反射光は従来通り発生するが、金で形成されたボ
ール11による照明光A、B及びC(上記図17)の反
射光量は低減される。
ような、つば部11bとパッド12との区別がつかない
画像を、図4に示すような、つば部11bを含めたボー
ル11全体をパッド12から分離した画像に改善するこ
とできる。これにより、画像処理手段9は、ボール11
を容易に識別することができ、精度が高く、安定した処
理が可能となる。
撮像及び検査を例に説明する。ここで、ステッチ13は
金、リード14は銀を用いたとする。上記図2に示すよ
うに、金表面の反射率と銀表面の反射率は、350〜5
00nmの光波長領域において大きな差が発生している
ことが分かる。従って、ボール11の撮像の場合と同様
に、上記図3に示すような青色フィルタをフィルタ手段
16として用いることにより、銀で形成されたリード1
4による照明光d(上記図19)の反射光は従来通り発
生するが、金で形成されたステッチ13による照明光
a、b及びc(上記図19)の反射光量は低減される。
ようなステッチ平坦部13bとリード14との区別がつ
かない画像を、図5に示すような、ステッチ平坦部13
bを含めたステッチ13全体をリード14から分離した
画像に改善することできる。これにより、画像処理手段
9は、ステッチ13を容易に識別することができ、精度
が高く、安定した処理が可能となる。
複数の異なる物質からなる被検査物において、それぞれ
の物質の光波長領域による反射率の違いを利用して、そ
れぞれの物質による反射光量の差が、撮像手段の受光面
上で大きくなる光波長領域の照射光を照射するので、被
検査物の検査したい領域、即ち特定の物質からなる領域
を容易に識別することができ、精度が高く、安定した検
査が可能となる。
り、照射光はほぼ単色光となるので、光学系の色収差に
よる画像のぼけを小さくできる効果もある。
段16を落射照明3に設置して、照射光の光波長領域を
限定する場合について説明したが、フィルタ手段16を
撮像手段6に設け、照射光の反射光の光波長領域を限定
する構成としても、同様の効果を得ることができること
は言うまでもない。
形態2による半導体検査装置を示す構成図である。図に
おいて、3aは第一の照明手段、3bは第二の照明手段
であり、上記実施の形態1と異なって照明手段が複数設
けられている。また、51は全反射ミラーである。また
図7は、この発明の実施の形態2による半導体検査装置
でボール11を撮像した撮像画像である。
撮像及び検査を例に説明する。まず、フィルタ手段16
(上記実施の形態1と同様青色フィルタ)を備えた第一
の照明手段3aによる照射光でボール11の撮像を行
う。上記実施の形態1と同様に、上記図4に示すような
撮像画像が得られ、撮像画像は画像処理手段9内に保存
される。
照明手段3bによる照射光でボール11の撮像を行う。
第二の照明手段3bによる照射光は、光波長領域が限定
されていないため、上記従来例における図18に示すよ
うなチャンファー部11aのみの撮像画像を得ることが
できる。従って、先ほど画像処理手段9に一時保存した
青色フィルタ16による撮像画像(図4)と、光波長領
域を限定しない照射光で撮像した撮像画像(図18)と
の差分をとることにより、図7に示すような、つば部1
1bのみの画像を抽出することができる。
像画像を抽出することができれば、ボンディング時のキ
ャピラリ15のずれ量、ボール11全体のパッド12か
らのはみ出し量、及びボール11形成時のキャピラリ1
5とのずれ量を計測することができるため、これらのず
れ量をボンディング装置にフィードバックし、修正を行
うことで不良を低減することが可能となる。
上記実施の形態1のように特定の物質からなる領域を抽
出し、且つ上記従来例のように、被検査物の形状の違い
による照射光の反射方向の違いを利用して特定の領域を
抽出し、さらにこれらの差分をとるので、検査したい特
定の領域を識別することができる。
複数設け、フィルタ手段を照明手段に設けた構成につい
て説明したが、、撮像手段を複数設け、フィルタ手段を
撮像手段に設ける構成にしても良い。図8は、この発明
の実施の形態2による別の半導体検査装置を示す構成図
である。図において、6aはフィルタ手段16を備えた
第一の撮像手段、6bは第二の撮像手段である。
の撮像手段6aで撮像した撮像画像と、フィルタ手段1
6を備えていない第二の撮像手段6bで撮像した撮像画
像との差分をとれば、上記実施の形態2と同様の効果を
得ることができる。
て、光波長領域を限定しない照射光で撮像して図18に
示すような撮像画像を得たが、光波長領域を限定しない
照射光即ち通常光は、金とアルミの反射率に差がでる光
波長領域の成分も含んでいるため、上記図18におい
て、金でできたつば部11bとアルミでできたパッド1
2とにむらができ、チャンファー部11aとのコントラ
ストが悪化して、つば部11bを明瞭に抽出できなくな
ることも考えられる。そこで、本実施の形態では、第二
のフィルタ手段として、それぞれの反射光量の差が撮像
手段の受光面上で小さくなるようなフィルタを用いて、
識別したい領域をさらに明瞭に抽出するものである。
導体検査装置を示す構成図である。図において、16a
は第一の照明手段3aに設けられた第一のフィルタ手段
であり、ここでは上記実施の形態1で用いた青色フィル
タ、16bは第二の照明手段3bに設けられた第二のフ
ィルタ手段であり、ここでは青色フィルタ16aとは透
過する光波長領域が異なる赤色フィルタである。また図
10は、第二のフィルタ手段16bに用いる赤色フィル
タの透過特性を示す図である。
撮像及び検査を例に説明する。まず、上記実施の形態1
と同様の手順で、第一のフィルタ手段16aを備えた第
一の照明手段3aによる照射光で撮像を行う。第一のフ
ィルタ手段16aには青色フィルタが用いられているた
め、上記図4に示すような撮像画像が得られ、撮像画像
は画像処理手段9内に保存される。
第二の照明手段3bによる照射光で撮像を行う。ここで
第二のフィルタ手段16bとして赤色フィルタを用い
る。赤色フィルタ16bは、図10に示すように、約6
00nm以上の光波長領域を透過する。上記図2におい
て、金とアルミにおける600nm以上の光波長域の反
射率を見ると、金及びアルミともに反射率に差はなく、
金表面による反射光量もアルミ表面による反射光量もほ
ぼ同量であると言える。このため、赤色フィルタ16b
によって光波長領域を限定した照射光による撮像を行え
ば、アルミで形成されたパッド12による照明光D(上
記図17)の反射光と、金で形成されたボール11によ
る照明光B及びC(上記図17)の反射光の量はほぼ同
量となり、上記図18に示す撮像画像におけるチャンフ
ァー部11aを明瞭に浮き上がらせた撮像画像を得るこ
とができる。
処理手段9に一時保存した青色フィルタ16aによる撮
像画像と、今撮像した赤色フィルタ16bによる撮像画
像との差分をとることにより、つば部11bのみの画像
を、上記実施の形態2よりも良好に抽出することができ
る。
ば、被検査物を構成する物質のそれぞれの反射光量の差
が撮像手段の受光面で小さくなる光波長領域を透過する
第二のフィルタ手段を設けることにより、検査したい特
定の領域をさらに明瞭に抽出することができる。
複数設け、それぞれの照明手段にフィルタ手段を設けた
構成について説明したが、撮像手段を複数設け、それぞ
れの撮像手段にフィルタ手段を設ける構成にしても良
い。図11は、この発明の実施の形態3による別の半導
体検査装置を示す構成図である。図において、6aはフ
ィルタ手段16aを備えた第一の撮像手段、6bはフィ
ルタ手段16bを備えた第二の撮像手段である。
一の撮像手段6aで撮像した撮像画像と、フィルタ手段
16bを備えた第二の撮像手段6bで撮像した撮像画像
との差分をとれば、上記実施の形態3と同様の効果を得
ることができる。
明手段または撮像手段を複数設け、さらにそれぞれの照
明手段または撮像手段にフィルタ手段を設けた構成を説
明したが、本実施の形態では、フィルタ切り替え手段を
用いて、照明手段または撮像手段を上記実施の形態1と
同様に単数にするものである。
半導体検査装置を示す構成図である。図において、18
は第一のフィルタ手段16a及び第二のフィルタ手段1
6bを切り替えるフィルタ切り替え手段である。
タ手段16aを選択して、第一のフィルタ手段16aを
介した照明光による撮像画像と、フィルタ切り替え手段
18で第二のフィルタ手段16bを選択して、第二のフ
ィルタ手段16bを介した照明光による撮像画像との差
分をとれば、上記実施の形態3と同様の画像を得ること
ができる。従って、照明手段を複数設けなくても、上記
実施の形態3と同様の効果を得ることができる。
ルタ手段16a及び第二のフィルタ手段16b、さらに
これらを切り替えるフィルタ切り替え手段18を、落射
照明3側に設置した場合について説明したが、これらの
構成を撮像手段6側に設置しても、上記実施の形態4と
同様の効果が得られるのは言うまでもない。
は、透過する光波長領域がそれぞれ異なる第一のフィル
タ手段16a及び第二のフィルタ手段16bを用いて撮
像する場合について説明したが、本実施の形態のよう
に、光変調素子を用いて電気的に透過できる光波長領域
を切り替えれば、一つのフィルタ手段で、複数のフィル
タ手段を用いた上記実施の形態3及び4と同様な効果を
得ることができ、装置構成を簡略化できる効果も得られ
る。
うため、上記実施の形態4に記載の、フィルタ切り替え
手段18を用いる手法と比べて、切り替えの応答性を向
上させる効果も得られる。
に印加し、この媒体に光線が入射したとき、媒体中の超
音波によって光線の一部が回析するといういわゆる音響
光学効果を利用して透過できる光波長領域が変えられる
音響光学フィルタなどを用いることが望ましい。
おいて、落射照明3に用いる光源については述べなかっ
たが、一般的な検査装置の場合、光源にはハロゲンラン
プが用いられる。ハロゲンランプの分光分布は、図13
(a)に示すように、短波長領域では光強度が弱く、長
波長領域になるに従って光強度が強くなるという分光分
布である。一方、上記実施の形態1から3において用い
る青色フィルタは、透過光波長領域が400〜480n
mと比較的短波長領域である。従って、青色フィルタを
使用する場合に光源としてハロゲンランプを使用する
と、照射光の光強度が強くなる波長領域と、フィルタが
透過できる光波長領域とが異なるため、被検査物への照
明効率が低下するという問題点がある。
に対する光源としてメタルハライドランプを用いる。メ
タルハライドランプの分光分布は、図13(b)に示す
ように、400〜600nmの間で光強度が強くなる。
一方、青色フィルタの透過光波長領域は400〜480
nmである。従って、照射光の光強度が強くなる波長領
域と、フィルタが透過できる光波長領域とがほぼ一致し
ているため、フィルタ手段を透過する光量を増大させる
ことができ、被検査物に効率良く照明を照射することが
できる。
600nm以上であるため、ハロゲンランプで照射すれ
ば良いことが分かる。また、上記実施の形態6では、青
色フィルタに対する光源としてメタルハライドランプを
用いた例について説明したが、使用するフィルタの透過
光波長領域とほぼ一致する光波長領域を持つ光源であれ
ばこれに限るものではない。
おいて、半導体におけるワイヤボンディングの状態検査
に、本発明による検査装置及び検査方法を適用した場合
について説明してきたが、本発明の検査装置及び検査方
法は、ワイヤボンディングの状態検査に限られるもので
はない。
(Si)やガリウムヒ素(GaAs)などの半導体基板
の上に、金蒸着などで電極が形成されている。このよう
な半導体チップの外観検査を行う場合、従来の照明で
は、照射光がSiやGaAsを透過してしまい、金蒸着
による電極は検出できても、半導体チップ全体の外観は
検出できない。そこで、上記各実施の形態のように、青
色フィルタを介した照射光を照射すれば、照射光はSi
やGaAsで反射し、半導体チップ全体の外観を識別す
ることができる。
状が異なるアルミ電極が存在する半導体チップの該アル
ミ電極を検査したい場合、従来の照明で撮像すると、照
明光は金電極表面で反射してしまい、下のアルミ電極を
識別することはできない。しかし、上記各実施の形態の
ように、青色フィルタを介した照明光を照射すれば、金
電極表面では反射せずそのまま透過してアルミ電極で反
射するため、アルミ電極の形状を識別することができ
る。
れば、複数の異なる物質からなる被検査物、この被検査
物に照明光を照射する照明手段、被検査物を撮像する撮
像手段、照明手段または撮像手段のいずれか一方に設け
られ、被検査物の異なる物質によるそれぞれの反射光量
の差が撮像手段の受光面上で大きくなる光波長領域を透
過するフィルタ手段、撮像手段で得られた撮像画像から
被検査物の特定の物質からなる領域を識別する画像処理
手段を備えたので、被検査物の特定の物質からなる領域
を容易に識別することができ、精度が高く、安定した検
査ができる効果が得られる。
ルタ手段は、光変調素子を用いて透過できる光波長領域
を変えられるので、装置構成を簡略化できる効果が得ら
れる。
の異なる物質からなる被検査物、この被検査物に照明光
を照射する照明手段、被検査物を撮像する第一の撮像手
段及び第二の撮像手段、第一の撮像手段に設けられ被検
査物の異なる物質によるそれおぞれの反射光量の差が第
一の撮像手段の受光面上で大きくなる光波長領域を透過
する第一のフィルタ手段、第一の撮像手段で撮像した撮
像画像と、第二の撮像手段で撮像した撮像画像との差分
から被検査物の特定の領域を識別する画像処理手段を備
えたので、被検査物の特定の領域を容易に識別すること
ができ、精度が高く、安定した検査ができる効果が得ら
れる。
の撮像手段は、被検査物の異なる物質によるそれぞれの
反射光量の差が第二の撮像手段の受光面上で小さくなる
光波長領域を透過する第二のフィルタ手段を備えたの
で、被検査物の特定の領域を容易に識別することがで
き、精度が高く、安定した検査ができる効果が得られ
る。
の異なる物質からなる被検査物、この被検査物に照明光
を照射する照明手段、被検査物を撮像する撮像手段、照
明手段または撮像手段のいずれか一方に設けられ、被検
査物の異なる物質によるそれぞれの反射光量の差が撮像
手段の受光面上で大きくなる光波長領域を透過する第一
のフィルタ手段、被検査物の異なる物質によるそれぞれ
の反射光量の差が撮像手段の受光面上で小さくなる光波
長領域を透過する第二のフィルタ手段、第一のフィルタ
手段または第二のフィルタ手段のいずれかを選択するフ
ィルタ切り替え手段、このフィルタ切り替え手段で選択
された第一のフィルタ手段を介して撮像した撮像画像と
フィルタ切り替え手段で選択された第二のフィルタ手段
を介して撮像した撮像画像との差分から被検査物の特定
の領域を識別する画像処理手段を備えたので、被検査物
の特定の領域を容易に識別することができ、精度が高
く、安定した検査ができる効果が得られる。
手段は、フィルタ手段の透過光波長領域に分光分布が集
中している光源であるので、被検査物に効率良く照明を
照射することができる効果が得られる。
の異なる物質からなる被検査物、この被検査物に照明光
を照射する第一の照明手段及び第二の照明手段、被検査
物を撮像する撮像手段、第一の照明手段に設けられ被検
査物の異なる物質によるそれぞれの反射光量の差が撮像
手段の受光面上で大きくなる光波長領域を透過する第一
のフィルタ手段、第一の照明手段による照明光で撮像し
た撮像画像と、第二の照明手段による照明光で撮像した
撮像画像との差分から被検査物の特定の領域を識別する
画像処理手段を備えたので、被検査物の特定の領域を容
易に識別することができ、精度が高く、安定した検査が
できる効果が得られる。
の照明手段は、被検査物の異なる物質によるそれぞれの
反射光量の差が撮像手段の受光面上で小さくなる光波長
領域を透過する第二のフィルタ手段を備えたので、被検
査物の特定の領域を容易に識別することができ、精度が
高く、安定した検査ができる効果が得られる。
及び第二の照明手段は、フィルタ手段の透過光波長領域
に分光分布が集中している光源であるので、被検査物に
効率良く照明を照射することができる効果が得られる。
の発明に係る半導体検査方法は、複数の異なる物質から
なる被検査物に、この被検査物の異なる物質によるそれ
ぞれの反射光量の差が大きくなる光波長領域の照明光を
被検査物に照射する工程、被検査物を撮像する工程、得
られた撮像画像から被検査物の特定の物質からなる領域
を識別する工程を含むので、被検査物の特定の物質から
なる領域を容易に識別することができ、精度が高く、安
定した検査ができる効果が得られる。
数の異なる物質からなる被検査物に照明光を照射する第
一の照射工程、この第一の照射工程による照明光で被検
査物を撮像する第一の撮像工程、被検査物の異なる物質
によるそれぞれの反射光量のの差が大きくなる光波長領
域の照明光を被検査物に照射する第二の照射工程、この
第二の照射工程による照明光で被検査物を撮像する第二
の撮像工程、第一及び第二の撮像工程で得られた撮像画
像の差分をとることにより被検査物の特定の領域を識別
する工程を含むので、被検査物の特定の領域を容易に識
別することができ、精度が高く、安定した検査ができる
効果が得られる。
数の異なる物質からなる被検査物に、この被検査物の異
なる物質によるそれぞれの反射光量の差が大きくなる光
波長領域の照明光を被検査物に照射する第一の照射工
程、この第一の照射工程による照明光で被検査物を撮像
する第一の撮像工程、被検査物の異なる物質によるそれ
ぞれの反射光量の差が小さくなる光波長領域の照明光を
照射する第二の照射工程、この第二の照射工程による照
明光で被検査物を撮像する第二の撮像工程、第一及び第
二の撮像工程で得られた撮像画像の差分をとることによ
り被検査物の特定の領域を識別する工程を含むので、被
検査物の特定の領域を容易に識別することができ、精度
が高く、安定した検査ができる効果が得られる。
置を示す構成図である。
置を説明するための図である。
置で使用するフィルタ手段の特性を示す図である。
置で撮像した撮像画像を示す図である。
置で撮像した撮像画像を示す図である。
置を示す構成図である。
置で撮像した撮像画像を示す図である。
査装置を示す構成図である。
置を示す構成図である。
装置で使用するフィルタ手段の特性を示す図である。
検査装置を示す構成図である。
装置を示す構成図である。
装置に用いる光源の特性図である。
る。
である。
である。
である。
である。
である。
である。
である。
レンズ、5 ハーフミラー、6 撮像手段、7 光学ヘ
ッド、8 XYZステージ、9 画像処理手段、10
ワイヤ、11 ボール、12 パッド、13 ステッ
チ、14 リード、15 キャピラリ、16 フィルタ
手段、17 光軸偏向切り替え手段、18フィルタ切り
替え手段
Claims (12)
- 【請求項1】 複数の異なる物質からなる被検査物、こ
の被検査物に照明光を照射する照明手段、上記被検査物
を撮像する撮像手段、上記照明手段または上記撮像手段
のいずれか一方に設けられ、上記被検査物の異なる物質
によるそれぞれの反射光量の差が上記撮像手段の受光面
上で大きくなる光波長領域を透過するフィルタ手段、上
記撮像手段で得られた撮像画像から上記被検査物の特定
の物質からなる領域を識別する画像処理手段を備えたこ
とを特徴とする半導体検査装置。 - 【請求項2】 フィルタ手段は、光変調素子を用いて透
過できる光波長領域を変えられることを特徴とする請求
項1記載の半導体検査装置。 - 【請求項3】 複数の異なる物質からなる被検査物、こ
の被検査物に照明光を照射する照明手段、上記被検査物
を撮像する第一の撮像手段及び第二の撮像手段、上記第
一の撮像手段に設けられ上記被検査物の異なる物質によ
るそれぞれの反射光量の差が上記第一の撮像手段の受光
面上で大きくなる光波長領域を透過する第一のフィルタ
手段、上記第一の撮像手段で撮像した撮像画像と、上記
第二の撮像手段で撮像した撮像画像との差分から上記被
検査物の特定の領域を識別する画像処理手段を備えたこ
とを特徴とする半導体検査装置。 - 【請求項4】 第二の撮像手段は、被検査物の異なる物
質によるそれぞれの反射光量の差が上記第二の撮像手段
の受光面上で小さくなる光波長領域を透過する第二のフ
ィルタ手段を備えたことを特徴とする請求項3記載の半
導体検査装置。 - 【請求項5】 複数の異なる物質からなる被検査物、こ
の被検査物に照明光を照射する照明手段、上記被検査物
を撮像する撮像手段、上記照明手段または上記撮像手段
のいずれか一方に設けられ、上記被検査物の異なる物質
によるそれぞれの反射光量の差が上記撮像手段の受光面
上で大きくなる光波長領域を透過する第一のフィルタ手
段、上記被検査物の異なる物質によるそれぞれの反射光
量の差が上記撮像手段の受光面上で小さくなる光波長領
域を透過する第二のフィルタ手段、上記第一のフィルタ
手段または上記第二のフィルタ手段のいずれかを選択す
るフィルタ切り替え手段、このフィルタ切り替え手段で
選択された上記第一のフィルタ手段を介して撮像した撮
像画像と上記フィルタ切り替え手段で選択された上記第
二のフィルタ手段を介して撮像した撮像画像との差分か
ら上記被検査物の特定の領域を識別する画像処理手段を
備えたことを特徴とする半導体検査装置。 - 【請求項6】 照明手段は、フィルタ手段の透過光波長
領域に分光分布が集中している光源であることを特徴と
する請求項1から5のいずれか一項に記載の半導体検査
装置。 - 【請求項7】 複数の異なる物質からなる被検査物、こ
の被検査物に照明光を照射する第一の照明手段及び第二
の照明手段、上記被検査物を撮像する撮像手段、上記第
一の照明手段に設けられ上記被検査物の異なる物質によ
るそれぞれの反射光量の差が上記撮像手段の受光面上で
大きくなる光波長領域を透過する第一のフィルタ手段、
上記第一の照明手段による照明光で撮像した撮像画像
と、上記第二の照明手段による照明光で撮像した撮像画
像との差分から上記被検査物の特定の領域を識別する画
像処理手段を備えたことを特徴とする半導体検査装置。 - 【請求項8】 第二の照明手段は、被検査物の異なる物
質によるそれぞれの反射光量の差が撮像手段の受光面上
で小さくなる光波長領域を透過する第二のフィルタ手段
を備えたことを特徴とする請求項7記載の半導体検査装
置。 - 【請求項9】 第一及び第二の照明手段は、フィルタ手
段の透過光波長領域に分光分布が集中している光源であ
ることを特徴とする請求項7または8に記載の半導体検
査装置。 - 【請求項10】 複数の異なる物質からなる被検査物
に、この被検査物の異なる物質によるそれぞれの反射光
量の差が大きくなる光波長領域の照明光を上記被検査物
に照射する工程、上記被検査物を撮像する工程、得られ
た撮像画像から上記被検査物の特定の物質からなる領域
を識別する工程を含むことを特徴とする半導体検査方
法。 - 【請求項11】 複数の異なる物質からなる被検査物に
照明光を照射する第一の照射工程、この第一の照射工程
による照明光で上記被検査物を撮像する第一の撮像工
程、上記被検査物の異なる物質によるそれぞれの反射光
量の差が大きくなる光波長領域の照明光を上記被検査物
に照射する第二の照射工程、この第二の照射工程による
照明光で上記被検査物を撮像する第二の撮像工程、上記
第一及び第二の撮像工程で得られた撮像画像の差分をと
ることにより上記被検査物の特定の領域を識別する工程
を含むことを特徴とする半導体検査方法。 - 【請求項12】 複数の異なる物質からなる被検査物
に、この被検査物の異なる物質によるそれぞれの反射光
量の差が大きくなる光波長領域の照明光を上記被検査物
に照射する第一の照射工程、この第一の照射工程による
照明光で上記被検査物を撮像する第一の撮像工程、上記
被検査物の異なる物質によるそれぞれの反射光量の差が
小さくなる光波長領域の照明光を照射する第二の照射工
程、この第二の照射工程による照明光で上記被検査物を
撮像する第二の撮像工程、上記第一及び第二の撮像工程
で得られた撮像画像の差分をとることにより上記被検査
物の特定の領域を識別する工程を含むことを特徴とする
半導体検査方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18125097A JP3603549B2 (ja) | 1997-07-07 | 1997-07-07 | 半導体外観検査装置及び半導体外観検査方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18125097A JP3603549B2 (ja) | 1997-07-07 | 1997-07-07 | 半導体外観検査装置及び半導体外観検査方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1123483A true JPH1123483A (ja) | 1999-01-29 |
| JP3603549B2 JP3603549B2 (ja) | 2004-12-22 |
Family
ID=16097428
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP18125097A Expired - Fee Related JP3603549B2 (ja) | 1997-07-07 | 1997-07-07 | 半導体外観検査装置及び半導体外観検査方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3603549B2 (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003042971A (ja) * | 2001-07-31 | 2003-02-13 | Ibiden Co Ltd | パターン検査装置および検査方法 |
| US20120035863A1 (en) * | 2009-05-01 | 2012-02-09 | Shin-Etsu Handotai Co., Ltd. | Inspection method of soi wafer |
| CN103293170A (zh) * | 2012-03-01 | 2013-09-11 | 大日本网屏制造株式会社 | 区域分类装置、基板检查装置以及区域分类方法 |
| JP2015206752A (ja) * | 2014-04-23 | 2015-11-19 | 株式会社サキコーポレーション | 検査装置 |
-
1997
- 1997-07-07 JP JP18125097A patent/JP3603549B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003042971A (ja) * | 2001-07-31 | 2003-02-13 | Ibiden Co Ltd | パターン検査装置および検査方法 |
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| US8311771B2 (en) * | 2009-05-01 | 2012-11-13 | Shin-Etsu Handotai Co., Ltd. | Inspection method of SOI wafer |
| CN103293170A (zh) * | 2012-03-01 | 2013-09-11 | 大日本网屏制造株式会社 | 区域分类装置、基板检查装置以及区域分类方法 |
| JP2015206752A (ja) * | 2014-04-23 | 2015-11-19 | 株式会社サキコーポレーション | 検査装置 |
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