JPH1123824A

JPH1123824A - カラーフィルターの製造方法とこれに用いるカラーフィルター用現像液

Info

Publication number: JPH1123824A
Application number: JP17227597A
Authority: JP
Inventors: Yoichi Otsuka; 洋一大塚
Original assignee: Sony Corp
Current assignee: Sony Corp
Priority date: 1997-06-27
Filing date: 1997-06-27
Publication date: 1999-01-29

Abstract

(57)【要約】【課題】固体撮像素子、および液晶表示素子における
現像残渣、パターンの剥離の問題を改善する。【解決手段】有機アルカリ系現像液にノニオン系の界
面活性剤が添加し、現像工程には、少なくとも２回以上
の現像処理を行い、その２回目以降の現像処理におい
て、少なくとも１回の有機アルカリ系現像液にノニオン
系の界面活性剤が添加された現像液を用いて現像処理を
行う。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、例えば電荷結合素
子いわゆるＣＣＤ（チャージ・カプルド・デバイス）に
よる固体撮像素子、および液晶表示素子（ＬＣＤ）等に
適用するカラーフィルターの製造方法とこれに用いるカ
ラーフィルター用現像液に係わる。

【０００２】

【従来の技術】例えば、ＣＣＤによる固体撮像素子、液
晶表示素子等においては、これらを構成するカラーフィ
ルターは、露光、現像処理によって、パターン形成が行
われる。

【０００３】例えばＣＣＤ型カラー固体撮像素子の例
を、その受光部の概略断面図を示す図１を参照して説明
する。この例では、ｎ型の半導体基体１の一主面側にｐ
型の第１のウエル領域２が形成され、その受光部の形成
領域に光電変換素子例えばフォトダイオードを構成する
ｎ型の不純物導入領域３が形成され、その表面にｐ型の
高濃度の正電荷蓄積領域４が形成された受光部５が形成
される。この受光部は、半導体基体１上に、水平および
垂直方向に沿ってそれぞれ多数配列形成される。そし
て、例えば共通の垂直方向に配列された受光部５に隣り
合ってＣＣＤ構成による垂直シフトレジスタが形成され
る。この垂直シフトレジスタは、第２のｐ型ウエル領域
７上に、ｎ型の転送領域８が形成され、これの上にＳｉ
Ｏ₂等の絶縁層９を介して転送電極１０が形成される。
この転送電極１０は、垂直方向に相互に絶縁された複数
組の転送電極が配置されてなり、各組の転送電極間にク
ロック電圧が印加されて、各受光部５からその受光量に
応じて発生した電荷を引出し、これを垂直方向に順次転
送するようになされている。半導体基体１の、電荷の授
受が回避されるべき部分には、ｐ型の高濃度チャネルス
トップ領域１４が形成される。

【０００４】また、この固体撮像素子の上面には、受光
部５上に受光窓１１ｗが開口されたＡｌ層等よりなる遮
光膜１１がほぼ全面的に被着形成される。更に、この遮
光膜１１上に、光透過性の平坦化膜１２が全面的に被着
形成され、この平坦化膜１２上に、カラーフィルター１
３が形成される。

【０００５】このカラーフィルター１３は、例えば図２
にその配置パターンの一例を示すように、例えば赤のフ
ィルター素体Ｒ、緑のフィルター素体Ｇおよび青のフィ
ルター素体Ｂがモザイク状にそれぞれ対応する受光部５
上に配置されて成る。

【０００６】このカラーフィルター１３は、例えば顔料
分散型フォトレジストによって形成する。このカラーフ
ィルター１３は、顔料分散型フォトレジストを公知のフ
ォトレジスト法で、各色スピンコートによるレジストコ
ート後、露光、現像処理を行うことによって形成するこ
とができる。

【０００７】このカラーフィルター１３の形成において
は、図３に示すように、現像不良によって、カラーフィ
ルター素体Ｒ、Ｇ、Ｂのパターンの近傍やこれら素体間
において現像残渣１５を生じ、これが最終的に得られる
カラーフィルターを用いた固体撮像素子および液晶表示
素子においては、画像欠陥の原因となり、歩留りを低下
させる。

【０００８】この残渣を取り除くためには、カラーフィ
ルター１３の作製工程において、純水洗浄を行うことに
よって除去する方法が採られていた。（表１）に従来に
おけるカラーフィルターの一例の現像処理および洗浄工
程を示す。

【０００９】

【表１】

【００１０】（表１）に示すように、工程１において、
基板を高速回転させ、１秒間の現像液吐出を行って、基
板全体に現像液を行き渡らせる。ここに基板とは、カラ
ーフィルター１３を形成する例えば前述した平坦化膜１
２が形成された固体撮像素子基板、あるいはガラス基板
等の基板である。この現像液には、無機現像液として
は、例えば富士フィルムオーリン社製ＣＤ等や、有機現
像液としては、例えば富士フィルムオーリン社製ＣＤ２
０００等を適用することができる。

【００１１】次に、工程２において現像液を吐出させた
状態で基板の回転数を３０ｒｐｍに落として、３秒間保
持し、その後、工程３において現像液の吐出を停止し
て、６０秒間の放置によって現像する。

【００１２】この現像処理後、工程４において、基板を
５０ｒｐｍ回転として、純水を用いて４０秒間のリンス
洗浄を行うが、このリンス洗浄は、純水に窒素ガスを混
入させたスプレー洗浄による。さらに工程５において５
００ｒｐｍで２０秒間、純水を加圧して吹きつけること
によって洗浄を行い、物理的に残渣を除去する。

【００１３】上述した方法によって、残渣を除去する工
程を経た後、工程６において、基板を３０００ｒｐｍの
高速回転を１５秒間行って、純水を振り切るいわゆるス
ピンドライ工程を行う。

【００１４】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記
（表１）に示したようにカラーフィルター１３の作製工
程において、その現像処理後に残渣を除去するために純
水をスプレーしたり、加圧して吹きつけたりすると、カ
ラーフィルター１３と、図１において示した下地膜の平
坦化膜１２との密着性が悪化して、カラーフィルター１
３が剥離する場合がある。

【００１５】特に固体撮像素子においては、カラーフィ
ルター１３のパターン寸法が液晶表示素子の場合よりも
さらに微細であるため、カラーフィルター１３の剥離の
影響は、さらに深刻である。

【００１６】そこで、本発明においては、現像処理後の
現像液の残渣の除去を効果的に行うことができ、残渣除
去工程におけるカラーフィルターの剥離を効果的に回避
することのできる現像液およびこれを用いたカラーフィ
ルターの製造方法を提供する。

【００１７】

【課題を解決するための手段】本発明のカラーフィルタ
ー用現像液は、有機アルカリ系現像液にノニオン系の界
面活性剤が添加したものとする。

【００１８】また、本発明のカラーフィルターの製造方
法としては、カラーフィルターの形成面に、カラーフォ
トレジストを塗布する工程と、カラーフォトレジストの
塗布膜に、パターン露光を行う露光工程と、現像工程と
を有し、現像工程には、少なくとも２回以上の現像処理
を行うこととし、その２回目以降の現像処理において、
少なくとも１回の有機アルカリ系現像液にノニオン系の
界面活性剤が添加された現像液を用いて現像処理を行う
ものとする。

【００１９】本発明によれば、カラーフィルターの形成
工程において、カラーフォトレジストの現像処理後に、
現像液の残渣の除去を効果的に行うことができた。

【００２０】また、本発明のカラーフィルター用の現像
液を用いてカラーフィルターを形成することによって、
カラーフィルターの現像液の残渣除去工程におけるカラ
ーフィルターの剥離を効果的に回避することができた。

【００２１】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て説明する。本発明は、固体撮像素子、および液晶表示
素子を構成する顔料系カラーフィルターを顔料分散型フ
ォトレジストで形成する際に、特に現像残渣、パターン
の剥離の問題を改善するための、カラーフィルター用現
像液とこれを用いたカラーフィルターの製造方法に関す
るものである。

【００２２】次に、本発明を前述したＣＣＤ型固体撮像
素子に適用する場合の例を説明するが、本発明はこの例
に限定されるものではなく、液晶表示素子にも適用する
ことができる。

【００２３】例えばＣＣＤ型カラー固体撮像素子の例
を、その受光部の概略断面図を示す図１を参照して説明
する。この例では、ｎ型の半導体基体１の一主面側にｐ
型の第１のウエル領域２が形成され、その受光部の形成
領域に光電変換素子例えばフォトダイオードを構成する
ｎ型の不純物導入領域３が形成され、その表面にｐ型の
高濃度の正電荷蓄積領域４が形成された受光部５が形成
される。この受光部は、半導体基体１上に、水平および
垂直方向に沿ってそれぞれ多数配列形成される。そし
て、例えば共通の垂直方向に配列された受光部５に隣り
合ってＣＣＤ構成による垂直シフトレジスタが形成され
る。この垂直シフトレジスタは、第２のｐ型ウエル領域
７上に、ｎ型の転送領域８が形成され、これの上にＳｉ
Ｏ₂等の絶縁層９を介して転送電極１０が形成される。
この転送電極１０は、垂直方向に相互に絶縁された複数
組の転送電極が配置されてなり、各組の転送電極間にク
ロック電圧が印加されて、各受光部５からその受光量に
応じて発生した電荷を引出し、これを垂直方向に順次転
送するようになされている。半導体基体１の、電荷の授
受が回避されるべき部分には、ｐ型の高濃度チャネルス
トップ領域１４が形成される。

【００２４】また、この固体撮像素子の上面には、受光
部５上に受光窓１１ｗが開口されたＡｌ層等よりなる遮
光膜１１がほぼ全面的に被着形成される。更に、この遮
光膜１１上に、光透過性の平坦化膜１２が全面的に被着
形成される。この平坦化膜１２は、プラズマＳｉＮを公
知の減圧ＣＶＤ法により成膜したり、熱硬化型アクリル
樹脂、例えばオプトマーＳＳ２２１１Ｓ（日本合成ゴム
社製）や、ポリイミド樹脂、例えばＰＩＱ−２２００
（日立化成工業株式会社製）を適用することができる。

【００２５】透明平坦化膜１２は、表面処理を行ったの
ち、この上にカラーフォトレジストによってカラーフィ
ルターを形成する。上述した熱硬化型アクリル樹脂や、
ポリイミド樹脂等の有機膜に関しては、カラーフォトレ
ジスト塗布前に公知のドライアッシャーによりアッシン
グ処理を行う。すなわち表面を１０〜３０ｎｍ程度アッ
シング除去する。これによりカラーフィルターの現像性
を改善することができる。

【００２６】このアッシング条件について以下に示す。使用アッシング装置：枚葉式マイクロ波アッシング装置パワー：５００ＷＯ₂（酸素ガス流量）：２００ＳＣＣＭステージ温度：１２０℃ 圧力：１３５Ｐａアッシング時間：１０ｓｅｃ（アクリル樹脂）２０ｓｅｃ（ポリイミド樹脂）

【００２７】カラーフィルター１３は、例えば図２にそ
の配置パターンの一例を示すように、例えば赤のフィル
ター素体Ｒ、緑のフィルター素体Ｇおよび青のフィルタ
ー素体Ｂがモザイク状にそれぞれ対応する受光部５上に
配置されて成る。

【００２８】このカラーフィルター１３は、例えば顔料
分散型フォトレジストによって形成する。これらのカラ
ーフィルター１３を構成する顔料分散型フォトレジスト
には、例えば、Ｇ（緑）にはＣＧ−６０３０Ｌ（富士フ
ィルムオーリン株式会社製）、Ｒ（赤）にはＣＲ−６２
００Ｌ、Ｂ（青）には、ＣＢ−６０３０Ｌをそれぞれ適
用することができる。

【００２９】これらのカラーフィルター１３は、顔料分
散型フォトレジストを用いてフォトレジスト法によって
形成する。それぞれの色を形成するフォトレジストの順
序は問わないが、公知のレジストコーターによるスピン
塗布によりカラーレジスト膜を形成する。

【００３０】このとき、レジストコートの前処理とし
て、平坦化膜１２として無機膜であるプラズマＳｉＮを
用いた場合には、ＨＭＤＳ（ヘキサメチルジシラザン）
ベーパーによる処理を、常圧下で６０℃に加熱したホッ
トプレート上において６０ｓｅｃ行う。一方、平坦化膜
１２として有機膜である熱硬化型アクリル樹脂や、ポリ
イミド樹脂を用いた場合には、この処理は、必要に応じ
て省略することができる。

【００３１】平坦化膜１２上にスピンコーターによりカ
ラーレジスト膜を塗布形成した後、公知のホットプレー
トによるベーク処理を例えば９０℃で６０秒間行う。こ
のベーク処理後のカラーレジスト膜の厚さは、例えば
１．５μｍ程度となる。

【００３２】次に、露光処理として、例えば公知の縮小
型露光装置（ステッパー）で、露光波長をｉ線（３６５
ｎｍ）としてカラーレジストの露光を行う。

【００３３】上述のように、各色スピンコートによるレ
ジストコート、露光処理を行った後、カラーレジストの
現像処理を行う。本発明においては、特にこの現像処理
において、有機アルカリ系現像液にノニオン系の界面活
性剤が添加されたカラーフィ１ター用現像液を用いる。

【００３４】このカラーフィルター用現像液としては、
例えば体積比で０．０１〜３（％）、好ましくは０．５
（％）程度の濃度のテトラメチルアンモニウムハイドロ
オキサイドの水溶液に、ノニオン系の界面活性剤を、テ
トラメチルアンモニウムハイドロオキサイドの水溶液に
対し、例えば体積比で０．０１〜５（％）、好ましくは
０．２５（％）程度含有したものを用いることができ
る。

【００３５】図４にカラーフィルターの現像処理および
洗浄処理を行う現像処理装置の概略図を示す。この現像
処理装置は、現像および洗浄等がなされる処理室９０を
有する。この処理室９０には被処理体９２、すなわち例
えば図１で説明した撮像素子が形成され平坦化膜１２が
形成された半導体基板１、あるいはガラス基板等の、カ
ラーフィルターを形成する基板９２が載置されて、これ
を回転することができるようにした回転基台９１が配置
される。この処理室９０には、その底部に後述する各処
理液、すなわち現像液、洗浄液等を排出する排出口が設
けられる。

【００３６】また、第１および第２のタンク６１および
６２が設けられ、これらタンク６１と６２に、それぞれ
第１の現像液６１ａと第２の現像液６２ａが収容され
る。これら第１および第２のタンク６１および６２に
は、それぞれ窒素ガス供給部６３からの窒素ガスが、フ
ィルター６３および６４を通じてバルブ６５および６６
によりその流量が制御されて供給され、窒素ガスにより
加圧された各現像液６１ａおよび６２ａが、処理室９０
の上部に配置された第１および第２の現像液吐出ノズル
８１および８２に、第１および第２の現像液供給管７１
および７２により、それぞれフィルター７３および７４
を介して、バルブ７５および７６でその流量が制御され
て供給されるようになされる。

【００３７】また、その処理室９０の上方に、第１およ
び第２の純水吐出ノズル１０１および１０２が配置さ
れ、第１の純水吐出ノズル１０１には、純水供給部１０
０からの純水がフィルター１０５を介して、バルブ１０
６によって制御されて供給されると共に、窒素ガス供給
部６３からの窒素ガスがフィルター１０７を介して、バ
ルブ１０８によって制御されて供給されるようになされ
る。

【００３８】また、第２の純水吐出ノズル１０２にも、
純水供給部１００からの純水がフィルター１０９を介し
て、バルブ１１０によって制御されて供給される。

【００３９】更に、処理室９０の下方いに被処理体９２
の下面に対して純水の吹きつけを行う第３の純水吐出ノ
ズル１０３を配置して、これに純水供給部１００からの
純水がフィルター１１１を介して、バルブ１１２によっ
て制御されて供給される。

【００４０】図４において示した現像処理装置を用い
て、カラーフィルターの現像処理および洗浄処理の工程
について以下に説明する。

【００４１】（表２）に本発明におけるカラーフィルタ
ーの一例の現像処理および洗浄工程を示す。

【００４２】

【表２】

【００４３】（表２）に示すように、工程１において、
例えば第１の現像液６１ａを第１の現像液吐出ノズル８
１から吐出させ、被処理基板９２上に送り込む。このと
き、回転基台９１により被処理基板９２を、例えば１０
００ｒｐｍで１秒間高速回転させ、被処理体全体に現像
液を行き渡らせる。

【００４４】次に、工程２において第１の現像液６１ａ
を吐出させた状態で、被処理体９２の回転数を例えば３
０ｒｐｍに落として３秒間保持し、その後、工程３にお
いて現像液の吐出を停止して、３０秒間の放置によって
現像する。

【００４５】この現像処理後、工程４において、第２回
目の現像処理を行う。この工程４においては、図４にお
いて示した第２の現像液６２ａを第２の現像液吐出ノズ
ル８２から吐出させ、被処理基板９２上に送り込む。こ
のとき、回転基台９１により被処理体９２を、例えば１
０００ｒｐｍで２秒間高速回転させ、被処理体全体に現
像液を行き渡らせるようにする。

【００４６】なお、本発明においては、この第２回目の
現像処理を行う工程４においては、必ず本発明に係る現
像液、すなわち有機アルカリ系現像液にノニオン系の界
面活性剤が添加されたカラーフィルター用現像液を用い
る。

【００４７】このカラーフィルター用現像液は、例えば
体積比で０．０１〜３（％）、好ましくは０．５（％）
の濃度のテトラメチルアンモニウムハイドロオキサイド
の水溶液に、ノニオン系の界面活性剤を、テトラメチル
アンモニウムハイドロオキサイドの水溶液に対し、例え
ば体積比で０．０１〜５（％）含有したものを適用する
ことができる。

【００４８】カラーフィルター用現像液に含有されてい
るノニオン系の界面活性剤には、例えばポリエチレン２
級アルコールエーテル、ポリオキシエチレンアルキルフ
ェニルエーテル、ポリオキシエチレンポリオキシプロピ
レンアルキルエーテル、脂肪酸アルカノールアミド、ア
ルキルアミンオキサイド等を単一で、もしくは混合して
適用することができる。次に、工程５において、現像液
の吐出を停止して、３０秒間の放置により現像する。

【００４９】次に、工程６において、回転基台９１によ
り被処理基板９２を、例えば５０ｒｐｍで回転させて４
０秒間純水にてリンス洗浄を行う。この工程５において
は、図４において示した第１の純水吐出ノズル１０１か
ら純水を窒素ガスとともに被処理体９２上にスプレーし
て洗浄を行う。また、同時に第３の純水吐出ノズル１０
３から被処理体９２の裏面に純水を吐出させて洗浄を行
う。

【００５０】さらに工程７において、回転基台９１によ
り被処理体９２を、例えば５００ｒｐｍで回転させて２
０秒間洗浄を行う。この工程６においては、第１の純水
吐出ノズル１０１からの純水の供給を停止し、これの代
わりに第２の純水吐出ノズル１０２から、純水を加圧し
て被処理基板９２上に吐出して洗浄を行う。

【００５１】上述したように第２回目の現像処理後に洗
浄を行った後、純水の供給を停止し、その後の工程８に
おいて、被処理基板９２を回転基台９１により例えば３
０００ｒｐｍで１５秒間高速回転させて純水を振り切
る、いわゆるスピンドライを行う。

【００５２】上述した実施例においては、現像処理を２
回に分けて行う場合について説明したが、本発明は、こ
の例に限定されるものではなく、３回以上現像処理を行
う場合にも適用することができる。なおこの場合には、
２回目以降の現像処理においては、少なくとも１回、本
発明による有機アルカリ系現像液にノニオン系の界面活
性剤が添加された現像液による現像処理を行うものとす
る。又、後述する現像液濃度と界面活性剤濃度により、
（表２）に示した各工程における時間、回転数等のパラ
メータは適性値に設定する。

【００５３】上述したように、カラーフィルターの形成
面に、カラーフォトレジストを塗布し、カラーフォトレ
ジストの塗布膜に、パターン露光を行った後、現像を行
う場合に、少なくとも２回以上の現像処理を行い、その
２回目以降の現像処理において、少なくとも１回の、有
機アルカリ系現像液にノニオン系の界面活性剤が添加さ
れた現像液による現像処理を行ってカラーフィルターを
製造した場合における最終的に得られるカラーフィルタ
ーの状態について図５に示す。

【００５４】図５に示すように、カラーフィルター素体
Ｒ、Ｇ、Ｂのパターンの近傍やこれら素体間における現
像残渣１５は、従来方法によってカラーフィルターの形
成を行った場合の状態図の図３に比較して著しく減少し
たことがわかる。

【００５５】次に、本発明の有機アルカリ系現像液にノ
ニオン系の界面活性剤が添加されたカラーフィルター用
現像液について、有機アルカリ系現像液にテトラメチル
ハイドロオキサイドの水溶液を適用した場合に、テトラ
メチルアンモニウムハイドロオキサイドの水溶液の濃度
（体積比）（％）とカラーフィルター１３のテストパタ
ーンの剥離の状態との関係について以下に説明する。

【００５６】図６にカラーフィルターのテストパターン
３０の配置図を示す。このテストパターン３０の縦横の
配列ピッチは例えば１４（ｍｍ）×１４（ｍｍ）とす
る。また、図６に示したフィルターのテストパターンの
拡大図４０を図７に示し、さらにこの図７に示すカラー
フィルターのテストパターンの拡大図を図８に示す。図
８に示すように、カラーフィルターのテストパターンの
最小パターンは、例えば７（μｍ）×７（μｍ）とす
る。

【００５７】カラーフィルター用現像液のテトラメチル
アンモニウムハイドロオキサイドの水溶液の濃度（％）
を変化させて、各濃度におけるカラーフィルターのテス
トパターンの剥離した個数をＧ（緑）、Ｒ（赤）、Ｂ
（青）のそれぞれのカラーフィルターについて測定し
た。これらの測定結果を図９に示す。

【００５８】なお、この場合、テストパターンの下地と
なる平坦化膜として、オプトマーＳＳ２２１１Ｓ（日本
合成ゴム社製）を用い、その他の各種製造条件について
は、上述した実施例と同様にする。

【００５９】カラーフィルターに使用するカラーフォト
レジストの色によって下地の平坦化膜との密着性が異な
るが、図９に示すように、テトラメチルアンモニウムハ
イドロオキサイド（ＴＭＡＨ）の水溶液の濃度が、体積
比で０．０１〜３％であると、カラーフィルターの剥離
が殆ど生じることがなく、良好な状態のカラーフィルタ
ーを製造することができることがわかる。

【００６０】また、本発明のカラーフィルター用現像液
の、有機アルカリ系現像液に含有されるノニオン系界面
活性剤の濃度（体積比）（％）と、最終的に得られるカ
ラーフィルターの近傍の残渣の状態との関係について以
下に説明する。なお、この場合、ノニオン系界面活性剤
にはＮＣＷ−６０１Ａ（和光純薬工業株式会社製）を用
いるものとした。

【００６１】カラーフィルター用現像液の有機アルカリ
系現像液に含有されるノニオン系界面活性剤の濃度
（％）を変化させて、各濃度におけるカラーフィルター
の近傍の０．３μｍ以上の残渣の密度を、上述したと同
様のカラーフィルターのパターンについて測定した。こ
れらの測定結果を図１０に示す。

【００６２】図１０に示すように、有機アルカリ系現像
液に含有されるノニオン系界面活性剤の濃度（％）が体
積比で０．０１（％）以上であると、カラーフィルター
の近傍の残渣の密度を著しく低減させることができるこ
とがわかる。一方、ノニオン系の界面活性剤の濃度
（％）が高くなり、５％を越えた濃度になると、現像液
を洗浄する工程において界面活性剤を完全に除去するこ
とが困難になる。よって、ノニオン系の界面活性剤の濃
度は、体積比で５％以下とすることが好ましい。

【００６３】上述した実施例においては、現像工程を２
回行う場合について説明したが、特に液晶表示素子のカ
ラーフィルターを形成する場合においては、本願発明の
現像液を用いれば、この現像処理を１回だけ行うことに
よっても、最終的に現像液の残渣を効果的に除去するこ
とができた。

【００６４】

【発明の効果】本発明の固体撮像素子、および液晶表示
素子等を構成するカラーフィルター用の現像液によれ
ば、カラーフィルターの形成工程において、カラーフォ
トレジストの現像処理後に、現像液の残渣の除去を効果
的に行うことができるようになった。

【００６５】また、本発明のカラーフィルター用の現像
液を用いてカラーフィルターを形成することによって、
カラーフィルターの現像液の残渣除去工程におけるカラ
ーフィルターの剥離を効果的に回避することができた。

【００６６】また、カラーフィルターの現像液の残渣の
低減、カラーフィルターの剥離を回避することにより、
このカラーフィルターが用いられて成る固体撮像素子、
および液晶表示素子等の歩留りの向上、画質の向上を図
ることができた。

【図面の簡単な説明】

【図１】固体撮像素子の受光部の概略断面図を示す。

【図２】カラーフィルターの構成の一例の平面図を示
す。

【図３】従来方法においてカラーフィルターを作製した
場合のカラーフィルターのパターンと残渣の状態図を示
す。

【図４】カラーフィルターの現像処理および洗浄処理を
行う装置の概略図を示す。

【図５】本発明方法においてカラーフィルターを作製し
た場合のカラーフィルターのパターンと残渣の状態図を
示す。

【図６】カラーフィルターのテストパターンを示す。

【図７】カラーフィルターのテストパターンの拡大図を
示す。

【図８】カラーフィルターの最小テストパターンの拡大
図を示す。

【図９】トリメチルアンモニウムハイドライドの濃度と
カラーフィルターのテストパターンの剥離の個数との関
係を示す。

【図１０】現像液中の界面活性剤の濃度とカラーフィル
ターのテストパターンの残渣密度との関係を示す。

【符号の説明】

１半導体基体、２第１のウエル領域、３不純物導
入領域、４正電荷蓄積領域、５受光部、６垂直シ
フトレジスタ、７第２のウエル領域、８転送領域、
９絶縁層、１０転送電極、１１遮光膜、１２平
坦化膜、１３カラーフィルター、１４チャネルストッ
プ領域、３０，４０，５０カラーフィルターパター
ン、６１第１のタンク、６１ａ第１の現像液、６２
第２のタンク、６２ａ第２の現像液、６３，６４，
７３，７４，１０５，１０７，１０９，１１１フィル
ター、６５，６６，７５，７６，１０６，１０８，１１
０，１１２バルブ、７１第１の現像液供給管、７２
第２の現像液供給管、８１第１の現像液吐出ノズ
ル、８２第２の現像液吐出ノズル、９０処理室、９
１回転基台、９２被処理基板、１００純水供給
部、１０１第１の純水吐出ノズル、１０２第２の純
水吐出ノズル、１０３第３の純水吐出ノズル

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】有機アルカリ系現像液にノニオン系の界
面活性剤が添加されたカラーフィルター用現像液。
【請求項２】上記有機アルカリ系現像液として、体積
比で０．０１〜３％の濃度のテトラメチルアンモニウム
ハイドロオキサイドの水溶液を用い、上記ノニオン系の界面活性剤の濃度が、テトラメチルア
ンモニウムハイドロオキサイドの水溶液に対し、体積比
で０．０１〜５％であることを特徴とする請求項１に記
載のカラーフィルター用現像液。
【請求項３】カラーフィルターの形成面に、カラーフ
ォトレジストを塗布する工程と、該カラーフォトレジストの塗布膜に、パターン露光を行
う露光工程と、現像工程とを有し、該現像工程は、少なくとも２回以上の現像処理を行い、
その２回目以降の現像処理において、少なくとも１回の
有機アルカリ系現像液にノニオン系の界面活性剤が添加
された現像液による現像処理を行うことを特徴とするカ
ラーフィルターの製造方法。