JPH11240892A - ハイドロカーボンオキシシリル基を有するトリアリールアミンの製造方法 - Google Patents
ハイドロカーボンオキシシリル基を有するトリアリールアミンの製造方法Info
- Publication number
- JPH11240892A JPH11240892A JP10180997A JP18099798A JPH11240892A JP H11240892 A JPH11240892 A JP H11240892A JP 10180997 A JP10180997 A JP 10180997A JP 18099798 A JP18099798 A JP 18099798A JP H11240892 A JPH11240892 A JP H11240892A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- compound
- triarylamine
- platinum
- reaction
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 125000005259 triarylamine group Chemical group 0.000 title claims abstract description 43
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 14
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 177
- -1 triarylamine compound Chemical class 0.000 claims abstract description 118
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims abstract description 101
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 claims abstract description 83
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 19
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 claims abstract description 13
- 150000003058 platinum compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 6
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 claims abstract description 4
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 9
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 claims description 9
- 150000004678 hydrides Chemical class 0.000 claims description 5
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims description 4
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 150000008065 acid anhydrides Chemical class 0.000 claims description 3
- 238000005660 chlorination reaction Methods 0.000 claims 1
- 125000001183 hydrocarbyl group Chemical group 0.000 claims 1
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 48
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 abstract description 38
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 abstract description 27
- 238000006459 hydrosilylation reaction Methods 0.000 abstract description 20
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 abstract description 14
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 abstract description 13
- 230000000694 effects Effects 0.000 abstract description 5
- 239000002253 acid Substances 0.000 abstract description 3
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 abstract description 2
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 2
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 abstract description 2
- KBPSATXXRVXAAJ-UHFFFAOYSA-N trimethylsilyl formate Chemical compound C[Si](C)(C)OC=O KBPSATXXRVXAAJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 2
- 125000001145 hydrido group Chemical group *[H] 0.000 abstract 2
- 238000006884 silylation reaction Methods 0.000 abstract 1
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical class CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 165
- QQQSFSZALRVCSZ-UHFFFAOYSA-N triethoxysilane Chemical compound CCO[SiH](OCC)OCC QQQSFSZALRVCSZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 46
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 36
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 23
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 23
- 239000004809 Teflon Substances 0.000 description 21
- 229920006362 Teflon® Polymers 0.000 description 21
- FSIJKGMIQTVTNP-UHFFFAOYSA-N bis(ethenyl)-methyl-trimethylsilyloxysilane Chemical compound C[Si](C)(C)O[Si](C)(C=C)C=C FSIJKGMIQTVTNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 19
- 238000000034 method Methods 0.000 description 18
- 239000000047 product Substances 0.000 description 16
- 235000011054 acetic acid Nutrition 0.000 description 15
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 13
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 12
- PKTOVQRKCNPVKY-UHFFFAOYSA-N dimethoxy(methyl)silicon Chemical compound CO[Si](C)OC PKTOVQRKCNPVKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 11
- WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N benzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1 WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 9
- 238000004817 gas chromatography Methods 0.000 description 9
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 8
- DTQVDTLACAAQTR-UHFFFAOYSA-N Trifluoroacetic acid Chemical compound OC(=O)C(F)(F)F DTQVDTLACAAQTR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000000463 material Substances 0.000 description 6
- BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N methanoic acid Natural products OC=O BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- FZJCXIDLUFPGPP-UHFFFAOYSA-N propan-2-ol;toluene Chemical compound CC(C)O.CC1=CC=CC=C1 FZJCXIDLUFPGPP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000005711 Benzoic acid Substances 0.000 description 5
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical group [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 5
- 235000010233 benzoic acid Nutrition 0.000 description 5
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 5
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 5
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 5
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 5
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 5
- YUYCVXFAYWRXLS-UHFFFAOYSA-N trimethoxysilane Chemical compound CO[SiH](OC)OC YUYCVXFAYWRXLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 4
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 4
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-N dimethylselenoniopropionate Natural products CCC(O)=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 4
- CLSUSRZJUQMOHH-UHFFFAOYSA-L platinum dichloride Chemical compound Cl[Pt]Cl CLSUSRZJUQMOHH-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 4
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 4
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 4
- OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 4-(3-methoxyphenyl)aniline Chemical compound COC1=CC=CC(C=2C=CC(N)=CC=2)=C1 OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LBSXSAXOLABXMF-UHFFFAOYSA-N 4-Vinylaniline Chemical compound NC1=CC=C(C=C)C=C1 LBSXSAXOLABXMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WFDIJRYMOXRFFG-UHFFFAOYSA-N Acetic anhydride Chemical compound CC(=O)OC(C)=O WFDIJRYMOXRFFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical class C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N Oxalic acid Chemical compound OC(=O)C(O)=O MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- TVJPBVNWVPUZBM-UHFFFAOYSA-N [diacetyloxy(methyl)silyl] acetate Chemical compound CC(=O)O[Si](C)(OC(C)=O)OC(C)=O TVJPBVNWVPUZBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 3
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- JFDZBHWFFUWGJE-UHFFFAOYSA-N benzonitrile Chemical compound N#CC1=CC=CC=C1 JFDZBHWFFUWGJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- NZNMSOFKMUBTKW-UHFFFAOYSA-N cyclohexanecarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1CCCCC1 NZNMSOFKMUBTKW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 3
- 235000019253 formic acid Nutrition 0.000 description 3
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 3
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical class CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 3
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 3
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 3
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 3
- RFFLAFLAYFXFSW-UHFFFAOYSA-N 1,2-dichlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1Cl RFFLAFLAYFXFSW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004200 2-methoxyethyl group Chemical group [H]C([H])([H])OC([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- FERIUCNNQQJTOY-UHFFFAOYSA-N Butyric acid Chemical compound CCCC(O)=O FERIUCNNQQJTOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N N-Heptane Chemical class CCCCCCC IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N Naphthalene Chemical compound C1=CC=CC2=CC=CC=C21 UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-N adipic acid Chemical compound OC(=O)CCCCC(O)=O WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001336 alkenes Chemical class 0.000 description 2
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 2
- 229940045985 antineoplastic platinum compound Drugs 0.000 description 2
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 2
- DSVRVHYFPPQFTI-UHFFFAOYSA-N bis(ethenyl)-methyl-trimethylsilyloxysilane;platinum Chemical compound [Pt].C[Si](C)(C)O[Si](C)(C=C)C=C DSVRVHYFPPQFTI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 2
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 description 2
- 125000004218 chloromethyl group Chemical group [H]C([H])(Cl)* 0.000 description 2
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- JXTHNDFMNIQAHM-UHFFFAOYSA-N dichloroacetic acid Chemical compound OC(=O)C(Cl)Cl JXTHNDFMNIQAHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SNRUBQQJIBEYMU-UHFFFAOYSA-N dodecane Chemical class CCCCCCCCCCCC SNRUBQQJIBEYMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- POULHZVOKOAJMA-UHFFFAOYSA-N dodecanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCC(O)=O POULHZVOKOAJMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 125000000816 ethylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 2
- 238000004880 explosion Methods 0.000 description 2
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 2
- 238000002290 gas chromatography-mass spectrometry Methods 0.000 description 2
- HHLFWLYXYJOTON-UHFFFAOYSA-N glyoxylic acid Chemical compound OC(=O)C=O HHLFWLYXYJOTON-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000008282 halocarbons Chemical group 0.000 description 2
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 2
- 125000005842 heteroatom Chemical group 0.000 description 2
- KQNPFQTWMSNSAP-UHFFFAOYSA-N isobutyric acid Chemical compound CC(C)C(O)=O KQNPFQTWMSNSAP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JVTAAEKCZFNVCJ-UHFFFAOYSA-N lactic acid Chemical compound CC(O)C(O)=O JVTAAEKCZFNVCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 150000002762 monocarboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 2
- JFCRMLAWUGDKSG-UHFFFAOYSA-N n-(3,4-dimethylphenyl)-n-(4-ethenylphenyl)-3,4-dimethylaniline Chemical compound C1=C(C)C(C)=CC=C1N(C=1C=C(C)C(C)=CC=1)C1=CC=C(C=C)C=C1 JFCRMLAWUGDKSG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RQNGEUBVWVMQJO-UHFFFAOYSA-N n-(4-ethenylphenyl)-4-methyl-n-(4-methylphenyl)aniline Chemical compound C1=CC(C)=CC=C1N(C=1C=CC(C=C)=CC=1)C1=CC=C(C)C=C1 RQNGEUBVWVMQJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 description 2
- JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N olefin Natural products CCCCCCCC=C JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000002524 organometallic group Chemical group 0.000 description 2
- 125000003854 p-chlorophenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(*)=C([H])C([H])=C1Cl 0.000 description 2
- 125000001037 p-tolyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(=C([H])C([H])=C1*)C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 2
- 235000019260 propionic acid Nutrition 0.000 description 2
- IUVKMZGDUIUOCP-BTNSXGMBSA-N quinbolone Chemical compound O([C@H]1CC[C@H]2[C@H]3[C@@H]([C@]4(C=CC(=O)C=C4CC3)C)CC[C@@]21C)C1=CCCC1 IUVKMZGDUIUOCP-BTNSXGMBSA-N 0.000 description 2
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 2
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 2
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 2
- WRIDQFICGBMAFQ-UHFFFAOYSA-N (E)-8-Octadecenoic acid Natural products CCCCCCCCCC=CCCCCCCC(O)=O WRIDQFICGBMAFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KLFRPGNCEJNEKU-FDGPNNRMSA-L (z)-4-oxopent-2-en-2-olate;platinum(2+) Chemical compound [Pt+2].C\C([O-])=C\C(C)=O.C\C([O-])=C\C(C)=O KLFRPGNCEJNEKU-FDGPNNRMSA-L 0.000 description 1
- VYXHVRARDIDEHS-UHFFFAOYSA-N 1,5-cyclooctadiene Chemical compound C1CC=CCCC=C1 VYXHVRARDIDEHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004912 1,5-cyclooctadiene Substances 0.000 description 1
- KQZLRWGGWXJPOS-NLFPWZOASA-N 1-[(1R)-1-(2,4-dichlorophenyl)ethyl]-6-[(4S,5R)-4-[(2S)-2-(hydroxymethyl)pyrrolidin-1-yl]-5-methylcyclohexen-1-yl]pyrazolo[3,4-b]pyrazine-3-carbonitrile Chemical compound ClC1=C(C=CC(=C1)Cl)[C@@H](C)N1N=C(C=2C1=NC(=CN=2)C1=CC[C@@H]([C@@H](C1)C)N1[C@@H](CCC1)CO)C#N KQZLRWGGWXJPOS-NLFPWZOASA-N 0.000 description 1
- NOGFHTGYPKWWRX-UHFFFAOYSA-N 2,2,6,6-tetramethyloxan-4-one Chemical compound CC1(C)CC(=O)CC(C)(C)O1 NOGFHTGYPKWWRX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005810 2,5-xylyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(=C(*)C([H])=C1C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 2-Propenoic acid Natural products OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000094 2-phenylethyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 1
- JDMMZVAKMAONFU-UHFFFAOYSA-N 2-trimethylsilylacetic acid Chemical compound C[Si](C)(C)CC(O)=O JDMMZVAKMAONFU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LQJBNNIYVWPHFW-UHFFFAOYSA-N 20:1omega9c fatty acid Natural products CCCCCCCCCCC=CCCCCCCCC(O)=O LQJBNNIYVWPHFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XRHGYUZYPHTUJZ-UHFFFAOYSA-N 4-chlorobenzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(Cl)C=C1 XRHGYUZYPHTUJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AUTRHUNDFQIUCU-UHFFFAOYSA-N 4-ethenyl-n,n-bis(4-ethenylphenyl)aniline Chemical compound C1=CC(C=C)=CC=C1N(C=1C=CC(C=C)=CC=1)C1=CC=C(C=C)C=C1 AUTRHUNDFQIUCU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CJFZVMICTVTPNG-UHFFFAOYSA-N 4-ethenyl-n-[4-[4-(4-ethenyl-n-(4-ethenylphenyl)anilino)phenyl]phenyl]-n-phenylaniline Chemical compound C1=CC(C=C)=CC=C1N(C=1C=CC(=CC=1)C=1C=CC(=CC=1)N(C=1C=CC(C=C)=CC=1)C=1C=CC(C=C)=CC=1)C1=CC=CC=C1 CJFZVMICTVTPNG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZMKSBYFFLFEYSO-UHFFFAOYSA-N 4-ethenyl-n-[4-[4-(n-(4-ethenylphenyl)anilino)phenyl]phenyl]-n-phenylaniline Chemical compound C1=CC(C=C)=CC=C1N(C=1C=CC(=CC=1)C=1C=CC(=CC=1)N(C=1C=CC=CC=1)C=1C=CC(C=C)=CC=1)C1=CC=CC=C1 ZMKSBYFFLFEYSO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004860 4-ethylphenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(=C([H])C([H])=C1*)C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- QSBYPNXLFMSGKH-UHFFFAOYSA-N 9-Heptadecensaeure Natural products CCCCCCCC=CCCCCCCCC(O)=O QSBYPNXLFMSGKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WDJHALXBUFZDSR-UHFFFAOYSA-N Acetoacetic acid Natural products CC(=O)CC(O)=O WDJHALXBUFZDSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GURLKCSHWXYLIK-UHFFFAOYSA-N C(C)OC(C=CO[SiH3])OCC Chemical compound C(C)OC(C=CO[SiH3])OCC GURLKCSHWXYLIK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AVNATDBAPGMDBJ-UHFFFAOYSA-N C=C1C=CC=CC1Cl.Cl Chemical compound C=C1C=CC=CC1Cl.Cl AVNATDBAPGMDBJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BSWCSLXZDQUTDG-UHFFFAOYSA-N CCCCCCCC[SiH](C)OC Chemical compound CCCCCCCC[SiH](C)OC BSWCSLXZDQUTDG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YQTKLYYISKLJMX-UHFFFAOYSA-N CCCCCC[SiH](OCC)OCC Chemical compound CCCCCC[SiH](OCC)OCC YQTKLYYISKLJMX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IDXHBOIIZYCLTD-UHFFFAOYSA-N CO[SiH](C)CCC(F)(F)F Chemical compound CO[SiH](C)CCC(F)(F)F IDXHBOIIZYCLTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MZYWILXIKDNWTC-UHFFFAOYSA-N CO[SiH](C)CCC1=CC=CC=C1 Chemical compound CO[SiH](C)CCC1=CC=CC=C1 MZYWILXIKDNWTC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UYXLOULABOHUAJ-UHFFFAOYSA-N CO[SiH](OC)CCC1=CC=CC=C1 Chemical compound CO[SiH](OC)CCC1=CC=CC=C1 UYXLOULABOHUAJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WWZKQHOCKIZLMA-UHFFFAOYSA-N Caprylic acid Natural products CCCCCCCC(O)=O WWZKQHOCKIZLMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005046 Chlorosilane Substances 0.000 description 1
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical class C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 1
- WHUUTDBJXJRKMK-UHFFFAOYSA-N Glutamic acid Natural products OC(=O)C(N)CCC(O)=O WHUUTDBJXJRKMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005639 Lauric acid Substances 0.000 description 1
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Malonic acid Chemical compound OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical class CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005642 Oleic acid Substances 0.000 description 1
- ZQPPMHVWECSIRJ-UHFFFAOYSA-N Oleic acid Natural products CCCCCCCCC=CCCCCCCCC(O)=O ZQPPMHVWECSIRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910007991 Si-N Inorganic materials 0.000 description 1
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910006294 Si—N Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000021355 Stearic acid Nutrition 0.000 description 1
- KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-N Terephthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(C(O)=O)C=C1 KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007983 Tris buffer Substances 0.000 description 1
- RQVFGTYFBUVGOP-UHFFFAOYSA-N [acetyloxy(dimethyl)silyl] acetate Chemical compound CC(=O)O[Si](C)(C)OC(C)=O RQVFGTYFBUVGOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CNOSLBKTVBFPBB-UHFFFAOYSA-N [acetyloxy(diphenyl)silyl] acetate Chemical compound C=1C=CC=CC=1[Si](OC(C)=O)(OC(=O)C)C1=CC=CC=C1 CNOSLBKTVBFPBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NOZAQBYNLKNDRT-UHFFFAOYSA-N [diacetyloxy(ethenyl)silyl] acetate Chemical compound CC(=O)O[Si](OC(C)=O)(OC(C)=O)C=C NOZAQBYNLKNDRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LVAMVZXECCXUGI-UHFFFAOYSA-N acetic acid;thallium Chemical compound [Tl].CC(O)=O LVAMVZXECCXUGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZOIORXHNWRGPMV-UHFFFAOYSA-N acetic acid;zinc Chemical compound [Zn].CC(O)=O.CC(O)=O ZOIORXHNWRGPMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WETWJCDKMRHUPV-UHFFFAOYSA-N acetyl chloride Chemical compound CC(Cl)=O WETWJCDKMRHUPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012346 acetyl chloride Substances 0.000 description 1
- 238000007259 addition reaction Methods 0.000 description 1
- 239000001361 adipic acid Substances 0.000 description 1
- 235000011037 adipic acid Nutrition 0.000 description 1
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000001014 amino acid Nutrition 0.000 description 1
- 150000001413 amino acids Chemical class 0.000 description 1
- 125000002029 aromatic hydrocarbon group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000002102 aryl alkyloxo group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004104 aryloxy group Chemical group 0.000 description 1
- PASDCCFISLVPSO-UHFFFAOYSA-N benzoyl chloride Chemical compound ClC(=O)C1=CC=CC=C1 PASDCCFISLVPSO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- YOMAMBOZYONBQO-UHFFFAOYSA-N benzyl(diethoxy)silane Chemical compound CCO[SiH](OCC)CC1=CC=CC=C1 YOMAMBOZYONBQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UJOQTUFWZMIROT-UHFFFAOYSA-N benzyl(dimethoxy)silane Chemical compound CO[SiH](OC)CC1=CC=CC=C1 UJOQTUFWZMIROT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GONOPSZTUGRENK-UHFFFAOYSA-N benzyl(trichloro)silane Chemical compound Cl[Si](Cl)(Cl)CC1=CC=CC=C1 GONOPSZTUGRENK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DCCGBTSDINBMJK-UHFFFAOYSA-N benzyl-methoxy-methylsilane Chemical compound CO[SiH](C)CC1=CC=CC=C1 DCCGBTSDINBMJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 1
- DVECBJCOGJRVPX-UHFFFAOYSA-N butyryl chloride Chemical compound CCCC(Cl)=O DVECBJCOGJRVPX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001244 carboxylic acid anhydrides Chemical class 0.000 description 1
- 150000001733 carboxylic acid esters Chemical class 0.000 description 1
- 238000012512 characterization method Methods 0.000 description 1
- 239000007810 chemical reaction solvent Substances 0.000 description 1
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 1
- FOCAUTSVDIKZOP-UHFFFAOYSA-N chloroacetic acid Chemical compound OC(=O)CCl FOCAUTSVDIKZOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940106681 chloroacetic acid Drugs 0.000 description 1
- KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N chlorosilane Chemical compound Cl[SiH3] KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000084 colloidal system Substances 0.000 description 1
- 229940125877 compound 31 Drugs 0.000 description 1
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 1
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 1
- VZFUCHSFHOYXIS-UHFFFAOYSA-N cycloheptane carboxylic acid Natural products OC(=O)C1CCCCCC1 VZFUCHSFHOYXIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002704 decyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- WOWBFOBYOAGEEA-UHFFFAOYSA-N diafenthiuron Chemical compound CC(C)C1=C(NC(=S)NC(C)(C)C)C(C(C)C)=CC(OC=2C=CC=CC=2)=C1 WOWBFOBYOAGEEA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001991 dicarboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
- 229960005215 dichloroacetic acid Drugs 0.000 description 1
- 235000014113 dietary fatty acids Nutrition 0.000 description 1
- PRODGEYRKLMWHE-UHFFFAOYSA-N diethoxy(2-phenylethyl)silane Chemical compound CCO[SiH](OCC)CCC1=CC=CC=C1 PRODGEYRKLMWHE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JNRFHRDCFTXALJ-UHFFFAOYSA-N diethoxy(3,3,3-trifluoropropyl)silane Chemical compound CCO[SiH](OCC)CCC(F)(F)F JNRFHRDCFTXALJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZWTJVXCCMKLQKS-UHFFFAOYSA-N diethoxy(ethyl)silicon Chemical compound CCO[Si](CC)OCC ZWTJVXCCMKLQKS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AWQTZFCYSLRFJO-UHFFFAOYSA-N diethoxy(methoxy)silane Chemical compound CCO[SiH](OC)OCC AWQTZFCYSLRFJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GAURFLBIDLSLQU-UHFFFAOYSA-N diethoxy(methyl)silicon Chemical compound CCO[Si](C)OCC GAURFLBIDLSLQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VYRWZNMSUKRSLU-UHFFFAOYSA-N diethoxy(octyl)silane Chemical compound CCCCCCCC[SiH](OCC)OCC VYRWZNMSUKRSLU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BODAWKLCLUZBEZ-UHFFFAOYSA-N diethoxy(phenyl)silicon Chemical compound CCO[Si](OCC)C1=CC=CC=C1 BODAWKLCLUZBEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FZQNBVBLHJXOEA-UHFFFAOYSA-N diethoxy(propyl)silane Chemical compound CCC[SiH](OCC)OCC FZQNBVBLHJXOEA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DGXPASZXUJQWLQ-UHFFFAOYSA-N diethyl(methoxy)silane Chemical compound CC[SiH](CC)OC DGXPASZXUJQWLQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ITKGZHIJCHURGN-UHFFFAOYSA-N dimethoxy(3,3,3-trifluoropropyl)silane Chemical compound CO[SiH](OC)CCC(F)(F)F ITKGZHIJCHURGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LLUGEIWOVBQEGY-UHFFFAOYSA-N dimethoxy(octyl)silane Chemical compound CCCCCCCC[SiH](OC)OC LLUGEIWOVBQEGY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QKOQRGFJYNZGJV-UHFFFAOYSA-N dimethoxy(phenoxy)silane Chemical compound CO[SiH](OC)OC1=CC=CC=C1 QKOQRGFJYNZGJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CIQDYIQMZXESRD-UHFFFAOYSA-N dimethoxy(phenyl)silane Chemical compound CO[SiH](OC)C1=CC=CC=C1 CIQDYIQMZXESRD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SGKDAFJDYSMACD-UHFFFAOYSA-N dimethoxy(propyl)silane Chemical compound CCC[SiH](OC)OC SGKDAFJDYSMACD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004205 dimethyl polysiloxane Substances 0.000 description 1
- RHBCYWAHUOTOJC-UHFFFAOYSA-N dimethyl(phenoxy)silicon Chemical compound C[Si](C)OC1=CC=CC=C1 RHBCYWAHUOTOJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CBWQTNMGMXZVFN-UHFFFAOYSA-N dimethyl(prop-1-en-2-yloxy)silane Chemical compound C[SiH](C)OC(C)=C CBWQTNMGMXZVFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BEHPKGIJAWBJMV-UHFFFAOYSA-N dimethyl(propoxy)silane Chemical compound CCCO[SiH](C)C BEHPKGIJAWBJMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KWKXNDCHNDYVRT-UHFFFAOYSA-N dodecylbenzene Chemical class CCCCCCCCCCCCC1=CC=CC=C1 KWKXNDCHNDYVRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 230000002708 enhancing effect Effects 0.000 description 1
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 1
- NJSUFZNXBBXAAC-UHFFFAOYSA-N ethanol;toluene Chemical compound CCO.CC1=CC=CC=C1 NJSUFZNXBBXAAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MAWLKRJXJGHDRD-UHFFFAOYSA-N ethene;platinum Chemical group [Pt].C=C MAWLKRJXJGHDRD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005670 ethenylalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 1
- CXRUQTKXYICFTG-UHFFFAOYSA-N ethoxy(dihexyl)silane Chemical compound CCCCCC[SiH](OCC)CCCCCC CXRUQTKXYICFTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DRUOQOFQRYFQGB-UHFFFAOYSA-N ethoxy(dimethyl)silicon Chemical compound CCO[Si](C)C DRUOQOFQRYFQGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OFXYZEIOUZSUOA-UHFFFAOYSA-N ethoxy(dioctyl)silane Chemical compound CCCCCCCC[SiH](OCC)CCCCCCCC OFXYZEIOUZSUOA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PVPZVPJEQJLKLJ-UHFFFAOYSA-N ethoxy-ethyl-methylsilane Chemical compound CCO[SiH](C)CC PVPZVPJEQJLKLJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FOAJCPQRBYGAKO-UHFFFAOYSA-N ethoxy-methyl-propylsilane Chemical compound CCC[SiH](C)OCC FOAJCPQRBYGAKO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CWAFVXWRGIEBPL-UHFFFAOYSA-N ethoxysilane Chemical compound CCO[SiH3] CWAFVXWRGIEBPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YSLVSGVAVRTLAV-UHFFFAOYSA-N ethyl(dimethoxy)silane Chemical compound CC[SiH](OC)OC YSLVSGVAVRTLAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229930195729 fatty acid Natural products 0.000 description 1
- 239000000194 fatty acid Substances 0.000 description 1
- 150000004665 fatty acids Chemical class 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920001002 functional polymer Polymers 0.000 description 1
- 238000007429 general method Methods 0.000 description 1
- 239000004220 glutamic acid Substances 0.000 description 1
- 235000013922 glutamic acid Nutrition 0.000 description 1
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 1
- UQEAIHBTYFGYIE-UHFFFAOYSA-N hexamethyldisiloxane Chemical compound C[Si](C)(C)O[Si](C)(C)C UQEAIHBTYFGYIE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000006038 hexenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004051 hexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- OGMDYZVGIYQLCM-UHFFFAOYSA-N hexyl(dimethoxy)silane Chemical compound CCCCCC[SiH](OC)OC OGMDYZVGIYQLCM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PNGVUGVUXITZNY-UHFFFAOYSA-N hexyl-methoxy-methylsilane Chemical compound CCCCCC[SiH](C)OC PNGVUGVUXITZNY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000005525 hole transport Effects 0.000 description 1
- 150000001261 hydroxy acids Chemical class 0.000 description 1
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 1
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 1
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 1
- QXJSBBXBKPUZAA-UHFFFAOYSA-N isooleic acid Natural products CCCCCCCC=CCCCCCCCCC(O)=O QXJSBBXBKPUZAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 150000004715 keto acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000004310 lactic acid Substances 0.000 description 1
- 235000014655 lactic acid Nutrition 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 1
- MDLRQEHNDJOFQN-UHFFFAOYSA-N methoxy(dimethyl)silicon Chemical compound CO[Si](C)C MDLRQEHNDJOFQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AJWFQJRKZHMKOC-UHFFFAOYSA-N methoxy-methyl-(2-phenylethoxy)silane Chemical compound CO[SiH](C)OCCC1=CC=CC=C1 AJWFQJRKZHMKOC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UJSHLJUYMXUGAZ-UHFFFAOYSA-N methoxy-methyl-propylsilane Chemical compound CCC[SiH](C)OC UJSHLJUYMXUGAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XLLYUERXCMQNHH-UHFFFAOYSA-N methyl(dioctoxy)silane Chemical compound CCCCCCCCO[SiH](C)OCCCCCCCC XLLYUERXCMQNHH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VZSYMWXUKVEIHW-UHFFFAOYSA-N methyl(diphenoxy)silane Chemical compound C=1C=CC=CC=1O[SiH](C)OC1=CC=CC=C1 VZSYMWXUKVEIHW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MEWMVMZALMGUJM-UHFFFAOYSA-N methyl(dipropoxy)silane Chemical compound CCCO[SiH](C)OCCC MEWMVMZALMGUJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PFAUUICEGIRNHU-UHFFFAOYSA-N methyl(phenylmethoxy)silicon Chemical compound C[Si]OCC1=CC=CC=C1 PFAUUICEGIRNHU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001570 methylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])[*:2] 0.000 description 1
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 1
- SYSQUGFVNFXIIT-UHFFFAOYSA-N n-[4-(1,3-benzoxazol-2-yl)phenyl]-4-nitrobenzenesulfonamide Chemical class C1=CC([N+](=O)[O-])=CC=C1S(=O)(=O)NC1=CC=C(C=2OC3=CC=CC=C3N=2)C=C1 SYSQUGFVNFXIIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N n-hexanoic acid Natural products CCCCCC(O)=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZOQXMEDOTSCWAG-UHFFFAOYSA-N n-phenyl-n-(2-phenylethenyl)aniline Chemical compound C=1C=CC=CC=1N(C=1C=CC=CC=1)C=CC1=CC=CC=C1 ZOQXMEDOTSCWAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004123 n-propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000000655 nuclear magnetic resonance spectrum Methods 0.000 description 1
- 125000003261 o-tolyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(*)=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- QIQXTHQIDYTFRH-UHFFFAOYSA-N octadecanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC(O)=O QIQXTHQIDYTFRH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OQCDKBAXFALNLD-UHFFFAOYSA-N octadecanoic acid Natural products CCCCCCCC(C)CCCCCCCCC(O)=O OQCDKBAXFALNLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N octane Chemical class CCCCCCCC TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004365 octenyl group Chemical group C(=CCCCCCC)* 0.000 description 1
- 125000002347 octyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- ZQPPMHVWECSIRJ-KTKRTIGZSA-N oleic acid Chemical compound CCCCCCCC\C=C/CCCCCCCC(O)=O ZQPPMHVWECSIRJ-KTKRTIGZSA-N 0.000 description 1
- 125000001181 organosilyl group Chemical group [SiH3]* 0.000 description 1
- 235000006408 oxalic acid Nutrition 0.000 description 1
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 description 1
- 125000001147 pentyl group Chemical group C(CCCC)* 0.000 description 1
- PIZSEPSUZMIOQF-UHFFFAOYSA-N platinum;2,4,6,8-tetrakis(ethenyl)-2,4,6,8-tetramethyl-1,3,5,7,2,4,6,8-tetraoxatetrasilocane Chemical compound [Pt].C=C[Si]1(C)O[Si](C)(C=C)O[Si](C)(C=C)O[Si](C)(C=C)O1 PIZSEPSUZMIOQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BUJVWPBYOKNVRO-UHFFFAOYSA-N platinum;styrene Chemical compound [Pt].C=CC1=CC=CC=C1 BUJVWPBYOKNVRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000435 poly(dimethylsiloxane) Polymers 0.000 description 1
- WYVAMUWZEOHJOQ-UHFFFAOYSA-N propionic anhydride Chemical compound CCC(=O)OC(=O)CC WYVAMUWZEOHJOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZMYXZXUHYAGGKG-UHFFFAOYSA-N propoxysilane Chemical compound CCCO[SiH3] ZMYXZXUHYAGGKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 229930195734 saturated hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 150000003335 secondary amines Chemical class 0.000 description 1
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 1
- 150000004756 silanes Chemical class 0.000 description 1
- 150000003377 silicon compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- ZMKCPQNROFSGKH-UHFFFAOYSA-J silicon(4+);tetrabenzoate Chemical compound [Si+4].[O-]C(=O)C1=CC=CC=C1.[O-]C(=O)C1=CC=CC=C1.[O-]C(=O)C1=CC=CC=C1.[O-]C(=O)C1=CC=CC=C1 ZMKCPQNROFSGKH-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- 239000002210 silicon-based material Substances 0.000 description 1
- 125000003808 silyl group Chemical group [H][Si]([H])([H])[*] 0.000 description 1
- 239000008117 stearic acid Substances 0.000 description 1
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000003944 tolyl group Chemical group 0.000 description 1
- UCSBCWBHZLSFGC-UHFFFAOYSA-N tributoxysilane Chemical compound CCCCO[SiH](OCCCC)OCCCC UCSBCWBHZLSFGC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ANELUDATZNYOPH-UHFFFAOYSA-N triethylsilyl propanoate Chemical compound CCC(=O)O[Si](CC)(CC)CC ANELUDATZNYOPH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003258 trimethylene group Chemical group [H]C([H])([*:2])C([H])([H])C([H])([H])[*:1] 0.000 description 1
- VIYXXANHGYSBLY-UHFFFAOYSA-N trimethylsilyl 2,2,2-trifluoroacetate Chemical compound C[Si](C)(C)OC(=O)C(F)(F)F VIYXXANHGYSBLY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QHUNJMXHQHHWQP-UHFFFAOYSA-N trimethylsilyl acetate Chemical compound CC(=O)O[Si](C)(C)C QHUNJMXHQHHWQP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VFFKJOXNCSJSAQ-UHFFFAOYSA-N trimethylsilyl benzoate Chemical compound C[Si](C)(C)OC(=O)C1=CC=CC=C1 VFFKJOXNCSJSAQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000026 trimethylsilyl group Chemical group [H]C([H])([H])[Si]([*])(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 229930195735 unsaturated hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Chemical class 0.000 description 1
- 125000005023 xylyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000004246 zinc acetate Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/18—Compounds having one or more C—Si linkages as well as one or more C—O—Si linkages
- C07F7/1804—Compounds having Si-O-C linkages
- C07F7/1872—Preparation; Treatments not provided for in C07F7/20
- C07F7/1876—Preparation; Treatments not provided for in C07F7/20 by reactions involving the formation of Si-C linkages
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
- Catalysts (AREA)
Abstract
ンオキシシリル基≡SiOR’(ここにR’は炭素数1
〜10の有機基を表す)を有するトリアリールアミン
を、ビニル基を有するトリアリールアミンとヒドリド
{ハイドロカーボンオキシ}シラン化合物との白金を触
媒とするヒドロシリル化反応を用いて高収率かつ高い位
置選択性で製造する方法を提供する。 【解決手段】 上記ヒドロシリル化の反応系中にカルボ
ン酸化合物を存在させる。
Description
用される正孔輸送材等に有用なハイドロカーボンオキシ
シリル基を有するトリアリールアミンの製造方法に関す
る。
て重要な材料であり、特にハイドロカーボンオキシシリ
ル基を有するものは、ハイドロカーボンオキシシリル基
を有さないものに較べて次の様な特徴を持っている。
(1)ハイドロカーボンオキシシリル基に起因する特性
が正孔輸送材の表面特性に付与される。(2)ケイ素系
材料に対する相溶性が大きい。(3)無機材料表面に対
してケイ素−酸素結合を形成して結合しやすくなる。
(4)ケイ素−酸素結合による架橋構造を形成して硬化
することが可能となる。
トリアリールアミンの製造方法としては次に挙げるもの
が一般的である。 1)有機金属試薬法:この方法にはトリアリールアミン
のハロゲン誘導体と金属マグネシウムとの反応により有
機金属試薬を調整し、これにクロロシラン又はアルコキ
シシランを反応させてケイ素−炭素結合を形成させるグ
リニャール法と、前記金属マグネシウムに代えてリチウ
ム試薬を用いる有機リチウム法がある。 2)ヒドロシリル化法:トリアリールアミンで不飽和基
を有するものとヒドリドシラン化合物とを反応させ、ケ
イ素−炭素結合を形成するヒドロシリル化法がある。 前記1)の方法では特にグリニャール法が一般的である
が、次のような問題がある。 原料となる前記ハロゲン誘導体の製造が容易でない
ため、入手しにくい。 当量反応なので合成が高コストとなる。 副生物が生じるので、精製工程が必要となる。
必要とするが、原理的には副生物もなく、工業的には理
想的な方法であり、この方法を用いた不飽和基を有する
トリアリールアミンの製造方法の報告がある。しかしな
がら、この方法でも、実際には、触媒活性が低い、選択
性が低い、また、ヒドロシリル化触媒の活性の低下を防
ぐため反応雰囲気中に酸素を添加する必要がある、等の
欠点があり、その結果として、(ア)大量の触媒を必要
とし、長い反応時間がかかる、(イ)ヒドロシリル化反
応以外の反応が併発し、ポリマー形成、酸化物の生成等
により収率が低下する、(ウ)ヒドロシリル化反応にお
ける付加の位置選択性が低く、結果的に低収率となる、
(エ)低収率の場合しばしば副生物の分離除去が困難と
なる、(オ)有機溶媒への引火、爆発等火災の危険があ
る、等の問題を有している。また、ヒドロシリル化反応
における付加の位置選択性が低いため、このような反応
で得られた不飽和基を有するトリアリールアミンは、異
性体の混合物であり、加水分解性基の分解速度、縮合速
度が異性体間で異なる、分子構造の違いに由来するイオ
ン化ポテンシャルの差によって異性体間で電荷輸送性能
が異なる、等の問題を生じていた。
法のうち、ヒドロシリル化反応によりハイドロカーボン
オキシシリル基を有するトリアリールアミンを工業的に
生産するのに適した新規な製造法を提供することを目的
とする。すなわち、ビニル基を有するトリアリールアミ
ン化合物とヒドリド{ハイドロカーボンオキシ}シラン
化合物とのヒドロシリル化反応における白金触媒の活性
を高め、また、触媒的付加反応に於ける位置選択性を高
めることにより、上記の従来の技術に示したヒドロシリ
ル化反応の問題点(ア)〜(エ)を解決し、これによ
り、より高純度の目的物の経済的かつ効率的な合成が可
能となる方法を提供することである。また、白金触媒の
活性の改善により、ヒドロシリル化反応を低酸素分圧下
あるいは不活性雰囲気下で行うことが可能となり、
(オ)のヒドロシリル化反応時の引火、爆発等の危険性
を回避できる方法を提供することである。尚、ここで位
置選択性を高めるとは、生成物であるハイドロカーボン
オキシシリル基を有するトリアリールアミンのうち、ハ
イドロカーボンオキシシリル基がエチレン基を介して芳
香環と結合した構造を有するトリアリールアミン即ち、
芳香環に対するβ−付加物を従来より効率良く生成させ
ることを意味する。
アミン構造を1分子中に少なくとも1個有する化合物で
あって、該化合物中のトリアリールアミン構造の内、少
なくとも1個は
(以下「ビニル基を有するトリアリールアミン化合物」
という。)と、下記一般式(1) HRn Si(OR’)3-n (1) (ここに、nは0、1又は2であり、Rはそれぞれ独立
に炭素数1以上10以下の有機基であり、R’はそれぞ
れ炭素数1以上10以下の炭化水素基である。)で示さ
れるヒドリド{ハイドロカーボンオキシ}シラン化合物
との白金又は白金化合物を触媒とするヒドロシリル化反
応において、カルボン酸化合物を共存させることを特徴
とするハイドロカーボンオキシシリル基を有するトリア
リールアミンの製造方法である。
化合物の構造は、前記定義に該当するものであれば格別
に限定はされない。典型的な構造としては次のものがあ
げられる。 (1)ビニル基を有するトリアリールアミン構造を1個
のみ有し、それ以外にはトリアリールアミン構造を有さ
ないもの (2)ビニル基を有するトリアリールアミン構造を2個
以上有し、それ以外にはトリアリールアミン構造を有さ
ないもの (3)ビニル基を有するトリアリールアミン構造とビニ
ル基を有さないトリアリールアミン構造の両方を有する
もの ここで、トリアリールアミン構造とは、3級アミンの3
つの結合手が全てアリール基と結合した構造のことを意
味する。ビニル基を有するトリアリールアミン構造にお
いては、ビニル基の個数は1個以上あればよい。
化合物のトリアリールアミン構造の例としては、次のよ
うなものがある。
基を明記していない結合手)は他のトリアリールアミン
構造との結合手を表している。この結合手はこれら式に
おいてはN原子に対して、例えばベンゼン環のパラの位
置に付いているが、メタの位置でもオルトの位置でもよ
いし、縮合環においてもその付く位置は特に限定されな
い。しかしパラの位置が望ましく、縮合環の場合にはN
原子からなるべく遠いほどよい。また、これらの式の内
(I)、(II)、(V)では結合手は1つであるが、こ
の結合手は式(III)、(IV)、(VI)に示されているよ
うに2又はそれ以上であってもよいし、また無くてもよ
い。結合手が無いときはトリアリールアミン構造が1つ
だけであることを示す。更に、これらアリール基のベン
ゼン環が有する水素原子は置換されていてもよく、例え
ばハロゲン原子またはメチル基等で置換されていてもよ
い。前記ビニル基を有するトリアリールアミン化合物の
分子内の少なくとも1つのトリアリールアミン構造は少
なくとも1つのビニル基が置換されている。
化合物のアリール基のうち、個々に独立したものとして
は具体的にはフェニル基;置換フェニル基、例えば、メ
チル置換フェニル基、例えばオルト−トリル基、メタ−
トリル基、パラ−トリル基、2,3−キシリル基、2,
4−キシリル基、2,5−キシリル基、2,6−キシリ
ル基、3,4−キシリル基、3,5−キシリル基、2,
3,4−トリメチルフェニル基、2,3,5−トリメチ
ルフェニル基、2,3,6−トリメチルフェニル基、
2,4,5−トリメチルフェニル基、メシチル基、3,
4,5−トリメチルフェニル基;エチル置換フェニル
基、例えば2−エチルフェニル基、3−エチルフェニル
基、4−エチルフェニル基、2,3−ジエチルフェニル
基、2,4−ジエチルフェニル基、2,5−ジエチルフ
ェニル基、2,6−ジエチルフェニル基、3,4−ジエ
チルフェニル基、3,5−ジエチルフェニル基、2,
3,4−トリエチルフェニル基、2,3,5−トリエチ
ルフェニル基、2,3,6−トリエチルフェニル基、
2,4,5−トリエチルフェニル基、2,4,6−トリ
エチルフェニル基、3,4,5−トリエチルフェニル
基;エチルメチル混合置換フェニル基、例えば3−エチ
ル−4−メチルフェニル基、3−エチル−5−メチルフ
ェニル基、2,3−ジエチル−4−メチルフェニル基、
2−エチル−3,5−ジメチルフェニル基、3,4−ジ
エチル−5−メチルフェニル基;ビニル置換フェニル
基、例えば2−ビニルフェニル基、3−ビニルフェニル
基、4−ビニルフェニル基、3,4−ジビニルフェニル
基、3,5−ジビニルフェニル基;ビニルアルキル混合
置換フェニル基、例えば3−エチル−4−ビニルフェニ
ル基、3−ビニル−5−メチルフェニル基、2,3−ジ
エチル−4−ビニルフェニル基、2−エチル−3,5−
ジビニルフェニル基、3,5−ジメチル−4−ビニルフ
ェニル基;ビフェニリル基、例えば4−ビフェニリル
基;置換ビフェニリル基、例えば2−メチル−4−ビフ
ェニリル基、4′−メチル−4−ビフェニリル基;ナフ
チル基;および置換ナフチル基、例えばメチルナフチル
基、ビニルナフチル基を例示でき、これら以外に下記の
構造式1)から8)に示される置換基を例示することが
出来る。
てもよく、例えば、ビフェニルジイル基、例えばビフェ
ニル−2,2′−ジイル基、4,4′−ジメチルビフェ
ニル−2,2′−ジイル基、4−ビニル−4′−メチル
ビフェニル−2,2′−ジイル基等ビフェニルジイル
基;複数のメチル、エチルおよびビニル置換基を有する
アリール基が互いにメチレン基、ジメチレン基、トリメ
チレン基等の炭化水素架橋基で結合したものを例示でき
る。
ールアミン化合物を具体的に示すと、1分子あたり1個
のビニル基を有するトリアリールアミン、例えば4−
(N,N−ジフェニルアミノ)スチレン、4−(N,N
−ジ(4−メチルフェニル)アミノ)スチレン、4−
(N,N−ジ(3,4−ジメチルフェニル)アミノ)ス
チレンに;1分子あたり2個のビニル基を有するトリア
リールアミン、例えばフェニルビス(4−ビニルフェニ
ル)アミン、(4−メチルフェニル)ビス(4−ビニル
フェニル)アミン、(3,4−ジメチルフェニル)ビス
(4−ビニルフェニル)アミン;1分子あたり3個のビ
ニル基を有するトリアリールアミン、例えばトリス(4
−ビニルフェニル)アミン、トリス(3−メチル−4−
ビニルフェニル)アミン、及び上記構造式1)から8)
に示した置換基を一部に有するトリアリールアミンを例
示できる。
ールアミン化合物の好ましい他の例を挙げると次のよう
なものがある。
ニル基は〜のベンゼン環に付いてもよい。その位置
はN原子に対してオルト、メタ及びパラのいずれの位置
であってもよいが、パラ位にあるのが、ヒドリド{ハイ
ドロカーボンオキシ}シラン化合物との反応が容易であ
るから好ましい。2員環以上のの場合も同様にビニル基
はどの環構成炭素構成原子に結合していてもよいが、N
原子から遠い環構成炭素構成原子に結合しているのが好
ましい。本発明に使用できるビニル基を有するトリアリ
ールアミン化合物として2つのトリアリールアミンが繋
がったものに更にトリアリールアミンが繋がった構造を
とる場合の例を式(VIII)に示す。この更に繋がったト
リアリールアミンにもビニル基が付いてもよいことは勿
論である。また、式(IX)に示すように2つのトリアリ
ールアミンの結合はナフタレンの様に縮合環構造であっ
てもよく、更にこの2つのトリアリールアミンの結合は
式(X)又は(XI)に示すようなものであってもよく、
特に限定されるものではない。以下に更に、本発明で用
いるビニル基を有するトリアリールアミン化合物の好ま
しい他の例を挙げる。
ンオキシ}シラン化合物は下記一般式(1) HSiRn (OR′)3-n (1) で示されるものであり、ケイ素原子に直接結合した水素
原子とこのケイ素原子に結合するOR′で表わされる少
なくとも1個のハイドロカーボンオキシ基を有するケイ
素化合物である。ここでハイドロカーボンオキシ基とは
一般式(1)における−OR′に相当する部分のことで
あり、炭化水素基が酸素原子を介してケイ素原子に結合
した構造をとるものである。同一のケイ素原子に互いに
異なるハイドロカーボンオキシ基が結合していても構わ
ない。式(1)においてR′は、炭素原子数1以上10
以下の炭化水素基であり;Rはそれぞれ独立に炭素数1
以上10以下の有機基である。具体的には、次のまた
はのいずれかである。 炭素数1以上10以下の炭化水素基 炭素原子および水素原子以外の異原子が結合してい
る炭化水素基であって炭素原子の合計が1以上10以下
のもの。この様な異原子の例としては、O,N,S,
F,Cl,Br,IまたはSiから選ばれる原子が挙げ
られる。該原子の該炭化水素基における結合位置は末端
基、側鎖、主鎖骨格のいずれであっても構わない。式
(1)において、n=2の場合、Rとして同一のケイ素
原子上に互に異なる炭化水素基(R)が結合していても
構わない。Rは上記炭化水素基の内アルキル基であるこ
とが好ましい。
プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、t−ブチ
ル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、デシル基
等のアルキル基、2−プロペニル基、ヘキセニル基、オ
クテニル基等のアルケニル基、ベンジル基、フェネチル
基等のアラルキル基、フェニル基、トリル基、キシリル
基等のアリール基などを例示することが出来る。
チル基、4−クロロフェニル基、トリメチルシリルメチ
ル基、2−メトキシエチル基等を挙げることができる。
ン化合物の具体例を以下に挙げるがこれらに限定される
ものではない。トリハイドロカーボンオキシシランとし
ては、トリアルコキシシラン、トリアルケノキシシラ
ン、およびトリアリーロキシシラン等があり、具体的に
はトリメトキシシラン、トリエトキシシラン、トリn−
プロポキシシラン、トリイソプロポキシシラン、トリブ
トキシシラン、トリイソプロペノキシシラン、トリフェ
ノキシシラン等が例示できる。ジハイドロカーボンオキ
シシランとしては、ジアルコキシシラン、ジアルケノキ
シシラン、およびジアリーロキシシラン等があり、具体
的にはメチルジメトキシシラン、メチルジエトキシシラ
ン、メチルジn−プロポキシシラン、メチルジイソプロ
ペノキシシラン、メチルジフェノキシシラン、エチルジ
メトキシシラン、エチルジエトキシシラン、n−プルピ
ルジメトキシシラン、n−プルピルジエトキシシラン、
メチルジオクチルオキシシラン、3,3,3−トリフル
オルプロピルジメトキシシラン、3,3,3−トリフル
オルプロピルジエトキシシラン、n−ヘキシルジメトキ
シシラン、n−ヘキシルジエトキシシラン、n−オクチ
ルジメトキシシラン、n−オクチルジエトキシシラン、
ベンジルジメトキシシラン、ベンジルジエトキシシラ
ン、フェネチルジメトキシシラン、フェネチルジエトキ
シシラン、フェニルジメトキシシラン、フェニルジエト
キシシラン等が例示できる。モノハイドロカーボンオキ
シシランとしては、モノアルコキシシラン、モノアルケ
ノキシシラン、およびモノアリーロキシシラン等があ
り、具体的にはジメチルメトキシシラン、ジメチルエト
キシシラン、ジメチルn−プロポキシシラン、ジメチル
イソプロペノキシシラン、ジメチルフェノキシシラン、
ジエチルメトキシシラン、メチルエチルエトキシシラ
ン、n−プロピル(メチル)メトキシシラン、n−プル
ピル(メチル)エトキシシラン、3,3,3−トリフル
オルプロピル(メチル)メトキシシラン、ビス(3,
3,3−トリフルオルプロピル)エトキシシラン、n−
ヘキシル(メチル)メトキシシラン、ジ(n−ヘキシ
ル)エトキシシラン、n−オクチル(メチル)メトキシ
シラン、ジ(n−オクチル)エトキシシラン、ベンジル
(メチル)メトキシシラン、フェネチル(メチル)メト
キシシラン、メチルフェニルメトキシシラン等が例示で
きる。アルコキシ基、アルケノキシ基、アラルキロキシ
基、アリーロキシ基等の2種以上の異なる構造のハイド
ロカーボンオキシ基を有するハイドロカーボンオキシシ
ランとしてはメトキシジエトキシシラン、ジエトキシプ
ロペノキシシラン、ジメトキシフェノキシシラン、ジメ
トキシベンジロキシシラン、ジフェノキシプロペノキシ
シラン、メチルメトキシフェネトキシシラン、等が例示
できる。また、これらのシラン化合物のRがクロロメチ
ル基、4−クロロフェニル基、トリメチルシリルメチル
基、2−メトキシエチル基等によって置き換えられたも
のもあげることができる。これらのビドリド{ハイドロ
カーボンオキシ}シラン化合物は、その反応性あるいは
製造しようとするハイドロカーボンオキシシリル官能性
ポリマーの用途によって選択されるものであるが、通常
は反応性を考慮してアルコキシシランが好適に使用され
る。
または白金化合物は、マイナスの電荷を帯びた錯体、0
価、2価、4価の白金化合物、担持白金微粒子及び白金
コロイドから選ぶことができる。具体的にはマイナスの
電荷を帯びた錯体としては〔Pt3 (CO)6 〕2-,
〔Pt3 (CO)6 〕2 2- ,〔Pt3 (CO)6 〕4 2-
に代表される白金カルボニルクラスターアニオン化合物
(J. Amer. Chem. Soc.,1976, 98 7225) を、0価の白
金化合物としては、白金(0)ジビニルテトラメチルジ
シロキサン錯体、白金(0)テトラビニルテトラメチル
シクロテトラシロキサン錯体、白金(0)エチレン錯
体、白金(0)スチレン錯体を、2価の白金化合物とし
てはPt(II)Cl2 ,Pt(II)Br2 ,ビス(エチ
レン)Pt(II)Cl2 、(1,5−シクロオクタジエ
ン)Pt(II)Cl2 、白金(II)アセチルアセトナー
ト、ビス(ベンゾニトリル)Pt(II)Cl2 等を、4
価の白金化合物としてはPt(IV)Cl4 ,H2 Pt
(IV)Cl6 ,Na2 Pt(IV)Cl6 、K2 Pt(I
V)Cl6 、等の化合物を例示できる。また担持白金微
粒子としては活性炭担持白金、アルミナ担持白金、シリ
カ担持白金がある。これらのうち、有機溶媒への溶解
性、触媒溶液の安定性等の使用上の観点から、特に好ま
しいものとしては、白金(0)ジビニルテトラメチルジ
シロキサン錯体と塩化白金酸のアルコール溶液を挙げる
ことができる。
る白金の量は基質の種類、反応温度、反応時間等の要素
とも関連し、一律に決めることはできないが、一般に、
基質(ヒドリド{ハイドロカーボンオキシ}シラン化合
物)1モルに対して白金10 -3モルから10-8モルの範
囲で使用でき、触媒の経済性および反応時間の観点から
は10-4モルから10-7モルの範囲で使用するのが適当
である。
a,b,c又はdのいずれかである。 a.カルボン酸(カルボキシル基を有するものであれば
特に限定されるものではない。例えば、飽和カルボン
酸、不飽和カルボン酸、モノカルボン酸、ジカルボン
酸、等が挙げられる。これらのカルボン酸におけるカル
ボキシル基以外の部分としては通常、飽和又は不飽和脂
肪族炭化水素基、芳香族炭化水素基、ハロゲン化炭化水
素基あるいは水素原子等が選択される。また、これらの
炭化水素基にはアミノ基、シリル基、水酸基等の置換基
が結合していても勿論構わない。) b.カルボン酸の酸無水物 c.カルボン酸のシリル化物 d.本発明製造方法におけるヒドロシリル化反応の際に
反応系中で分解又は反応により上記a,bあるいはcの
カルボン酸化合物を生じるもの。 本発明の製造方法において、カルボン酸化合物はヒドロ
シリル化反応が生じる際に反応系中に存在していること
が必要なので、ヒドロシリル化反応開始前ないしは該反
応の初期段階までに系中に添加する必要がある。
ボン酸化合物としては、上述のようにカルボン酸、カル
ボン酸のシリル化物、カルボン酸の酸無水物が適当であ
るが、これら以外にも反応系中での分解、あるいは反応
により上記のカルボン酸化合物を生じるものも含まれ
る。具体的には、カルボン酸としては、飽和モノカルボ
ン酸、例えばギ酸、酢酸、プロピオン酸、n−酪酸、イ
ソ酪酸、ヘキサン酸、シクロヘキサン酸、ラウリン酸、
ステアリン酸;飽和ジカルボン酸、例えばシュウ酸、ア
ジピン酸;芳香族カルボン酸、例えば安息香酸、パラ−
フタル酸;これらのカルボン酸の炭化水素基の水素原子
がハロゲン原子又はオルガノシリル基で置換されたクロ
ロ酢酸、ジクロロ酢酸、トリフルオロ酢酸、パラ−クロ
ロ安息香酸、トリメチルシリル酢酸等のカルボン酸;不
飽和脂肪酸、例えばアクリル酸、メタクリル酸、オレイ
ン酸;カルボキシル基の他にヒドロキシ基、カルボニル
基又はアミノ基をも有するもの、すなわちヒドロキシ
酸、例えば乳酸、ケト酸、例えばアセト酢酸、アルデヒ
ド酸、例えばグリオキシル酸、アミノ酸、例えばグルタ
ミン酸等の化合物を挙げることができる。
にはカルボン酸のトリアルキルシリル化物、例えばギ酸
トリメチルシリル、酢酸トリメチルシリル、プロピオン
酸トリエチリシリル、安息香酸トリメチルシリル、トリ
フルオロ酢酸トリメチルシリル;ジー、トリーまたはテ
トラカルボキシシレート、例えばジメチルジアセトキシ
シラン、ジフェニルジアセトキシシラン、メチルトリア
セトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、シリコ
ンテトラベンゾエートが例示できる。
酸、無水プロピオン酸、無水安息香酸等を例示できる。
反応系中での分解、あるいは反応により上記のカルボン
酸化合物を生じるものとしては、塩化アセチル、塩化ブ
チリル、塩化ベンゾイル等のカルボン酸ハロゲン化物、
カルボン酸金属塩、例えば酢酸亜鉛、酢酸タリウム等、
光または熱で分解するカルボン酸エステル、等えばプロ
ピオン酸(2−ニトロベンジル等を挙げることが出来
る。
又は前記カルボン酸のシリル化物から選ばれることが好
ましい。
001重量%から20重量%の範囲で添加して有効に使
用することができるが、十分な効果を挙げ、かつ効率的
に使用する目的では0.01重量%から5重量はの間で
添加することが好ましい。ここで反応系とは、本発明製
造方法に用いられるヒドリド{ハイドロカーボンオキ
シ}シラン化合物、本発明における前記ビニル基を有す
るトリアリールアミン化合物、白金又はその化合物から
なる触媒及び前記カルボン酸化合物からなる混合物をい
う。
が、適当な反応速度を達成出来ること、および反応に関
与する基質および生成物が安定に存在しうるという点か
らは30℃から250℃が最適である。
必要はないが、基質を溶解させる目的で、また反応系の
温度の制御ならびに触媒成分の添加を容易にするため炭
化水素系溶媒、含酸素有機溶媒又はシリコーン等を反応
溶媒あるいは触媒成分の溶媒として用いることができ
る。この目的のために最適な溶媒としては、飽和あるい
は不飽和の炭化水素化合物、例えばヘキサン、シクロヘ
キサン、ヘプタン、オクタン、ドデカン、ベンゼン、ト
ルエン、キシレン、ドデシルベンゼン;ハロゲン化炭化
水素化合物、例えばクロロホルム、塩化メチレン、クロ
ロベンゼン、オルト−ジクロロベンゼン;エーテル類;
エステル類;そしてシリコーン類、例えば両末端トリメ
チルシリルポリジメチルシロキサン、ヘキサメチルジシ
ロキサン等を挙げることが出来る。
オキシシリル基を有するトリアリールアミンを正孔輸送
材として使用するときは、そのイオン化ポテンシャルは
4.5eV以上6.2eV以下の範囲にあることが好まし
い。この使用目的においてはイオン化ポテンシャルが
4.5eV未満であると正孔輸送材が容易に酸化されるた
め劣化しやすく好ましくない。また、イオン化ポテンシ
ャルが6.2eVを超えると電荷発生層からの正孔注入が
起こりにくく、感度が低下するため、好ましくない。本
発明製造方法により得られるハイドロカーボンオキシシ
リル基を有するトリアリールアミンは、ハイドロカーボ
ンオキシシリル基がエチレン基を介して芳香環と結合し
た構造をとるものである。このものは芳香環に対するβ
−付加物と呼ばれるものである。尚、副生物として芳香
環に対するα−付加物も生成する。
るが、本発明はこれらに限定されるものではない。な
お、以下に示す例中の生成物の特性化の記述においてG
Cはガスクロマトグラフを、GC−MSはガスクロマト
グラフー質量分析を表す。転化率はオレフィン仕込み原
料に対する反応率を、収率は、同じくオレフィン仕込み
量に対する生成物の生成割合を意味する。これらの例で
用いた{ハイドロカーボンオキシ}シラン化合物、アル
キルシラン化合物ならびにシロキサン化合物は市販のも
のあるいは公知の方法によって合成したものである。不
飽和化合物は市販のものをそのまま用いた。つぎに実施
例及び比較例を挙げ、本発明の技術について説明する。
なお、実施例および比較例中、DTAS,DXAS,D
VBZ及びTVBZはそれぞれ次のものを表す。参考の
ため後二者の化学式を以下に示す。 DTAS:4−(N,N−ジ(4−トリル)アミノ)ス
チレン DXAS:4−(N,N−ジ(3,4−キシリル)アミ
ノ)スチレン DVBZ:N,N′−ジフェニル−N,N′−ジ(4−
ビニルフェニル)ベンジジン TVBZ:N−フェニル−N,N′,N′−トリ(4−
ビニルフェニル)ベンジジン
シシランの反応)ガラス製反応管に0.5gのDXAS
のトルエン溶液(0.1gのDXASを0.4gのトル
エンに溶解したもの)と93mgのトリエトキシシランを
とり、これに0.001mlの酢酸をマイクロシリンジで
加えた。これにジビニルテトラメチルジシロキサンの0
価白金錯体のトルエン溶液(白金含量0.4wt%)を5
マイクロリットル加えた。反応管をテフロンテープでシ
ールし、これを50℃のオイルバスに入れ30分間加熱
した。冷却後、内容物をガスクロマトグラフを用いて分
析するとDXASの転化率は99%であり、DXASへ
のトリエトキシシランのβ−付加物が90%、α−付加
物が1%の収率で生成していた。
シシランの反応)ガラス製反応管に0.5gのDXAS
のトルエン溶液(0.1gのDXASを0.4gのトル
エンに溶解したもの)と70mgのトリエトキシシランを
とり、これに0.001mlのギ酸をマイクロシリンジで
加えた。これにジビニルテトラメチルジシロキサンの0
価白金錯体のトルエン溶液(白金含量0.4wt%)を5
マイクロリットル加えた。反応管をテフロンテープでシ
ールし、これを50℃のオイルバスに入れ1時間加熱し
た。冷却後、内容物をガスクロマトグラフを用いて分析
するとDXASの転化率は98%であり、DXASへの
トリエトキシシランのβ−付加物が85%、α−付加物
が2.3%の収率で生成していた。
とトリエトキシシランの反応)ガラス製反応管に0.5
gのDXASのトルエン溶液(0.1gのDXASを
0.4gのトルエンに溶解したもの)と70mgのトリエ
トキシシランをとり、これに0.001mlのトリトリフ
ルオロ酢酸をマイクロシリンジで加えた。これにジビニ
ルテトラメチルジシロキサンの0価白金錯体のトルエン
溶液(白金含量0.2wt%)を10マイクロリットル加
えた。反応管をテフロンテープでシールし、これを50
℃のオイルバスにいれ30分間加熱した。冷却後、内容
物をガスクロマトグラフを用いて分析するとDXASの
転化率は98%であり、DXASへのトリエトキシシラ
ンのβ−付加物が77%、α−付加物が9.5%の収率
で生成していた。
トキシシランの反応)ガラス製反応管に0.5gのDX
ASのトルエン溶液(0.1gのDXASを0.4gの
トルエンに溶解したもの)と70mgのトリエトキシシラ
ンをとり、これに1.7mgの安息香酸を加えた。これに
ジビニルテトラメチルジシロキサンの0価白金錯体のト
ルエン溶液(白金含量0.2wt%)を10マイクロリッ
トル加えた。反応管をテフロンテープでシールし、これ
を50℃のオイルバスにいれ30分間加熱した。冷却
後、内容物をガスクロマトグラフを用いて分析するとD
XASの転化率は94%であり、DXASへのトリエト
キシシランのβ−付加物が86%、α−付加物が1.1
%の収率で生成していた。
るDXASとトリエトキシシランの反応)ガラス製反応
管に0.5gのDXASのトルエン溶液(0.1gのD
XASを0.4gのトルエンに溶解したもの)と70mg
のトリエトキシシランをとり、これに1.5mgメチルト
リアセトキシシランを加えた。これにジビニルテトラメ
チルジシロキサンの0価白金錯体のトルエン溶液(白金
含量0.2wt%)を10マイクロリットル加えた。反応
管をテフロンテープでシールし、これを50℃のオイル
バスにいれ30分間加熱した。冷却後、内容物をガスク
ロマトグラフを用いて分析するとDXASの転化率は9
1%であり、DXASへのトリエトキシシランのβ−付
加物が84%、α−付加物が2.7%の収率で生成して
いた。
シシランの反応)ガラス製反応管に0.5gのDXAS
のトルエン溶液(0.1gのDXASを0.4gのトル
エンに溶解したもの)と53mgのトリメトキシシランを
とり、これに0.005mlの酢酸をマイクロシリンジで
加えた。これにジビニルテトラメチルジシロキサンの0
価白金錯体のトルエン溶液(白金含量0.04wt%)を
10マイクロリットル加えた。反応管をテフロンテープ
でシールし、これを50℃のオイルバスにいれ30分間
加熱した。冷却後、内容物をガスクロマトグラフを用い
て分析するとDXASの転化率は95%であり、DXA
Sへのトリメトキシシランのβ−付加物が89.2%、
α−付加物が1.0%の収率で生成していた。
トキシシランの反応)ガラス製反応管に430mgのDX
ASのトルエン溶液(95mgのDXASを335mgトル
エンに溶解したもの)と106mgのメチルジメトキシシ
ランをとり、これに0.002mlの酢酸をマイクロシリ
ンジで加えた。これにジビニルテトラメチルジシロキサ
ンの0価白金錯体のトルエン溶液(白金含量0.4wt
%)を0.005ml加えた。反応管をテフロンテープで
シールし、これを41℃のオイルバスにいれ30分間加
熱した。冷却後、内容物をガスクロマトグラフを用いて
分析するとDXASの転化率は93%であり、DXAS
へのメチルジメトキシシランのβ−付加物が89.8
%、α−付加物が1.6%の収率で生成していた。
シシランの反応)ガラス製反応管に765mgのDTAS
のトルエン溶液(255mgのDTASを510mgのトル
エンに溶解したもの)と200mgのトリエトキシシラン
をとり、これに0.002mlの酢酸をマイクロシリンジ
で加えた。これにジビニルテトラメチルジシロキサンの
0価白金錯体のトルエン溶液(白金含量0.2wt%)を
6マイクロリットル加えた。反応管をテフロンテープで
シールし、これを50℃のオイルバスにいれ1時間加熱
した。冷却後、内容物をガスクロマトグラフを用いて分
析するとDTASの転化率は63%であり、DTASへ
のトリエトキシシランのβ−付加物が61%、α−付加
物が0.1%の収率で生成していた。
応)ガラス製反応管に0.5gのDXASのトルエン溶
液(0.1gDXAS/0.4gトルエン)と70mgの
トリエトキシシランをとり、これにシクロヘキサンカル
ボン酸0.9mgを加えた。これに塩化白金錯体のトルエ
ン溶液(白金含量0.08wt%)を10マイクロリット
ル加えた。反応管をテフロンテープでシールし、これを
50℃のオイルバスにいれ30分間加熱した。冷却後、
内容物をガスクロマトグラフを用いて分析するとDXA
Sの転化率は88%であり、DXASへのメチルジメト
キシシランのβ−付加物が68.6%、α−付加物が
2.4%の収率で生成していた。
(安息香酸を加えた場合アルゴン下での反応))アルゴン
置換したフラスコに2.5gのDXASのトルエン溶液
(0.5gのDXASを2.0gのトルエンに溶解した
もの)と350mgのトリエトキシシランをとり、2.9
mgの安息香酸を加えた。これにジビニルテトラメチルジ
シロキサンの0価白金錯体のトルエン溶液(白金含量
0.4wt%)を20マイクロリットル加えた。これを5
0℃のオイルバスにいれ30分間加熱した。冷却後、内
容物をガスクロマトグラフを用いて分析するとDXAS
の転化率は98%であり、DXASへのトリエトキシシ
ランのβ−付加物が92%、α−付加物が1.9%の収
率で生成していた。
(カルボン酸化合物を添加しない場合))ガラス製反応
管に0.5gのDXASのトルエン溶液(0.1gのD
XASを0.4gのトルエンに溶解したもの)と70mg
のトリエトキシシランをとり、これにジビニルテトラメ
チルジシロキサンの0価白金錯体のトルエン溶液(白金
含量0.04wt%)を18マイクロリットル加えた。反
応管をテフロンテープでシールし、これを50℃のオイ
ルバスにいれ30分間加熱した。冷却後、内容物をガス
クロマトグラフを用いて分析するとDXASの転化率は
20%であり、DXASへのトリエトキシシランのβ−
付加物が9.2%、α−付加物が7.8%の収率で生成
していた。
(カルボン酸化合物を添加しない場合))ガラス製反応
管に0.5gのDXASのトルエン溶液(0.1gのD
XASを0.4gのトルエンに溶解したもの)と53mg
のトリメトキシシランをとり、これにジビニルテトラメ
チルジシロキサンの0価白金錯体のトルエン溶液(白金
含量0.04wt%)を10マイクロリットル加えた。反
応管をテフロンテープでシールし、これを50℃のオイ
ルバスにいれ30分間加熱した。冷却後、内容物をガス
クロマトグラフを用いて分析するとDXASの転化率は
2.5%であり、DXASへのトリメトキシシランのβ
−付加物が1.0%、α−付加物が1.0%の収率で生
成していた。
反応(カルボン酸化合物を添加しない場合))ガラス製
反応管に430mgのDXASのトルエン溶液(95mgD
XAS/335mgトルエン)と106mgのメチルジメト
キシシランをとり、これにジビニルテトラメチルジシロ
キサンの0価白金錯体のトルエン溶液(白金含量0.4
wt%)を0.005ml加えた。反応管をテフロンテープ
でシールし、これを41℃のオイルバスにいれ30分間
加熱した。冷却後、内容物をガスクロマトグラフを用い
て分析するとDXASの転化率は51%であり、DXA
Sへのメチルジメトキシシランのα−付加物が15.4
%、β−付加物が31.9%の収率で生成していた。
応(カルボン酸化合物を添加しない場合))ガラス製反
応管に0.5gのDXASのトルエン溶液(0.1gD
XAS/0.4gトルエン)と70mgのトリエトキシシ
ランをとり、これに塩化白金錯体のエタノール−トルエ
ン混合溶液(白金含量0.08wt%)を10マイクロリ
ットル加えた。反応管をテフロンテープでシールし、こ
れを50℃のオイルバスにいれ30分間加熱した。冷却
後、内容物をガスクロマトグラフを用いて分析するとD
XASの転化率は57%であり、DXASへのトリエト
キシシランのα−付加物が16.8%、β−付加物が2
2.2%の収率で生成していた。
(カルボン酸化合物を添加しない場合))ガラス製反応
管に0.5gのDXASのトルエン溶液(0.1gのD
XASを0.4gのトルエンに溶解したもの)と70mg
のトリエトキシシランをとり、これにジビニルテトラメ
チルジシロキサンの0価白金錯体のトルエン溶液(白金
含量0.2wt%)を10マイクロリットル加えた。反応
管をテフロンテープでシールし、これを50℃のオイル
バスにいれ30分間加熱した。冷却後、内容物をガスク
ロマトグラフを用いて分析するとDXASの転化率は4
4%であり、DXASへのトリエトキシシランのα−付
加物が14%、β−付加物が16%の収率で生成してい
た。
(カルボン酸化合物を添加しない場合でアルゴン下での
反応))アルゴン置換したフラスコに2.5gのDXAS
のトルエン溶液(0.5gのDXASを2.0gのトル
エンに溶解したもの)と350mgのトリエトキシシラン
をとり、これにジビニルテトラメチルジシロキサンの0
価白金錯体のトルエン溶液(白金含量0.4wt%)を2
0マイクロリットル加えた。これを50℃のオイルバス
にいれ30分間加熱した。冷却後、内容物をガスクロマ
トグラフを用いて分析するとDXASの転化率は10%
であり、DXASへのトリエトキシシランのβ−付加物
が4.3%、α−付加物が3%の収率で生成していた。
ガラス製反応管に765mgのDTASのトルエン溶液
(255mgのDTASを510mgのトルエンに溶解した
もの)と200mgのトリエトキシシランをとり、これに
ジビニルテトラメチルジシロキサンの0価白金錯体のト
ルエン溶液(白金含量0.2wt%)を6マイクロリット
ル加えた。反応管をテフロンテープでシールし、これを
50℃のオイルバスにいれ1時間加熱した。冷却後、内
容物をガスクロマトグラフを用いて分析するとDTAS
の転化率は2.1%であり、DTASへのトリエトキシ
シランのβ−付加物及びα−付加物がそれぞれ1.0%
の収率で生成していた。
シシランの反応)ガラス製反応管に100mgのDVBZ
と90mgのトリエトキシシランおよび0.150mlのト
ルエンをとり、これに0.001mlの酢酸をマイクロシ
リンジで加えた。これにジビニルテトラメチルジシロキ
サンの0価白金錯体のイソプロピルアルコール−トルエ
ン溶液(白金含量0.04wt%)を0.006ml加え
た。反応管をテフロンテープでシールし、これを50℃
のオイルバスにいれ1時間加熱した。冷却後、内容物を
GPCを用いて分析するとDVBZの転化率は99%で
あり、モノシリル化物が17%、ジシリル化物が82%
の収率で生成していた。このサンプルの29Si−NMR
スペクトルには、α−シリル化体のピークは見られなか
った。
(カルボン酸化合物無添加の場合))ガラス製反応管に
100mgのDVBZと90mgのトリエトキシシランおよ
び0.150mlのトルエンをとり、これにジビニルテト
ラメチルジシロキサンの0価白金錯体のイソプロピルア
ルコール−トルエン溶液(白金含量0.04wt%)を
0.006ml加えた。反応管をテフロンテープでシール
し、これを50℃のオイルバスにいれ1時間加熱した。
冷却後、内容物をGPCを用いて分析するとDVBZの
転化率は76%であり、モノシリル化物が43%、ジシ
リル化物が23%、ポリマーが9.6%の収率で生成し
ていた。このサンプルの29Si−NMRによると、α−
シリル化体とβ−シリル化体の比は1:2であった。
トキシシランの反応)ガラス製反応管に100mgのDV
BZと60mgのメチルジメトキシシランおよび0.15
0mlのトルエンをとり、これに0.001mlを酢酸をマ
イクロシリンジで加えた。これにジビニルテトラメチル
ジシロキサンの0価白金錯体のイソプロピルアルコール
−トルエン溶液(白金含量0.04%)を0.006ml
加えた。反応管をテフロンテープでシールし、これを5
0℃のオイルバスにいれ1時間加熱した。冷却後、内容
物をGPCを用いて分析するとDVBZの転化率は96
%であり、モノシリル化物が31%、ジシリル化物が6
4%の収率で生成していた。このサンプルの29Si−N
MRスペクトルには、α−シリル化体のピークは見られ
なかった。
反応(カルボン酸無添加の場合))ガラス製反応管に1
00mgのDVBZと60mgのメチルジメトキシシランお
よび0.150mlのトルエンをとり、これにジビニルテ
トラメチルジシロキサンの0価白金錯体のイソプロピル
アルコール−トルエン溶液(白金含量0.04%)を
0.006ml加えた。反応管をテフロンテープでシール
し、これを50℃のオイルバスにいれ1時間加熱した。
冷却後、内容物をGPCを用いて分析するとDVBZの
転化率は62%であり、モノシリル化物が38%、ジシ
リル化物が14%、ポリマーが9%の収率で生成してい
た。このサンプルの29Si−NMRによると、α−シリ
ル化体とβ−シリル化体の比は1:2であった。
シシランの反応)ガラス製反応管に100mgのTVB
Z、120mgのトリエトキシシランおよび0.35mlの
トルエンをとり、これに0.001mlの酢酸をマイクロ
シリンジで加えた。これにジビニルテトラメチルジシロ
キサンの0価白金錯体のイソプロピルアルコール−トル
エン溶液(白金含量0.04wt%)を0.01ml加え
た。反応管をテフロンテープでシールし、これを50℃
のオイルバスにいれ2時間加熱した。冷却後、内容物を
GPCを用いて分析するとTVBZの転化率は99%で
あり、トリシリル化物が90%、ジシリル化物が8%の
収率で生成していた。このサンプルの29Si−NMRス
ペクトルには、α−シリル化体のピークは見られなかっ
た。
(カルボン酸無添加の場合))ガラス製反応管に100
mgのTVBZ、120mgのトリエトキシシランおよび
0.35mlのトルエンを加え、これにジビニルテトラメ
チルジシロキサンの0価白金錯体のイソプロピルアルコ
ール−トルエン溶液(白金含量0.04wt%)を0.0
1ml加えた。反応管をテフロンテープでシールし、これ
を50℃のオイルバスにいれ2時間加熱した。冷却後、
内容物をGPCを用いて分析するとTVBZは全く反応
していなかった。
なハイドロカーボンオキシシリル基を有するトリアリー
ルアミンをビニル基を有するトリアリールアミン化合物
とヒドリド{ハイドロカーボンオキシ}シラン化合物と
の白金を触媒とするヒドロシリル化反応を用いて高収率
かつ高い位置選択性で製造することが可能になった。
Claims (2)
- 【請求項1】 トリアリールアミン構造を1分子中に少
なくとも1個有する化合物であって、該化合物中のトリ
アリールアミン構造の内、少なくとも1個は 【化1】 の構造を有するトリアリールアミン化合物と、下記一般
式(1) HRn Si(OR’)3-n (1) (ここに、nは0、1又は2であり、Rはそれぞれ独立
に炭素数1以上10以下の有機基であり、R’はそれぞ
れ炭素数1以上10以下の炭化水素基である。)で示さ
れるヒドリド{ハイドロカーボンオキシ}シラン化合物
との白金又は白金化合物を触媒とするヒドロシリル化反
応において、カルボン酸化合物を共存させることを特徴
とするハイドロカーボンオキシシリル基を有するトリア
リールアミンの製造方法。 - 【請求項2】 前記カルボン酸化合物がカルボン酸、カ
ルボン酸のシリル化物、カルボン酸の酸無水物より選ば
れるものであり、これが反応系中に0.001重量%か
ら20重量%の範囲で含まれる請求項1又は2に記載の
ハイドロカーボンオキシシリル基を有するトリアリール
アミンの製造方法。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18099798A JP4392869B2 (ja) | 1997-12-24 | 1998-06-26 | ハイドロカーボンオキシシリル基を有するトリアリールアミンの製造方法 |
| US09/220,122 US5994573A (en) | 1997-12-24 | 1998-12-23 | Method for making triarylamine compounds having hydrocarbonoxysilyl groups |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9-355210 | 1997-12-24 | ||
| JP35521097 | 1997-12-24 | ||
| JP18099798A JP4392869B2 (ja) | 1997-12-24 | 1998-06-26 | ハイドロカーボンオキシシリル基を有するトリアリールアミンの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11240892A true JPH11240892A (ja) | 1999-09-07 |
| JP4392869B2 JP4392869B2 (ja) | 2010-01-06 |
Family
ID=26500341
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP18099798A Expired - Fee Related JP4392869B2 (ja) | 1997-12-24 | 1998-06-26 | ハイドロカーボンオキシシリル基を有するトリアリールアミンの製造方法 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5994573A (ja) |
| JP (1) | JP4392869B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN103232357A (zh) * | 2013-04-24 | 2013-08-07 | 苏州大学 | 一种制备α,β-不饱和酰胺的方法 |
Families Citing this family (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4266400B2 (ja) * | 1997-12-24 | 2009-05-20 | ダウ・コ−ニング・コ−ポレ−ション | ヒドリド{ハイドロカーボンオキシ}シラン化合物を用いる選択的ヒドロシリル化方法 |
| US6015920A (en) * | 1998-09-11 | 2000-01-18 | Ck Witco Corporation | Hydrosilation reaction process with recycle |
| EP1035126A3 (en) * | 1999-03-11 | 2002-05-29 | Crompton Corporation | Promoted hydrosilation reactions |
| JP2001002681A (ja) * | 1999-06-21 | 2001-01-09 | Dow Corning Asia Ltd | Si−C結合を介してケイ素原子に結合した置換基を有するケイ素化合物の製造方法 |
| US6337416B2 (en) * | 2000-06-12 | 2002-01-08 | Ube Industries, Ltd. | Preparation of (polycyclic secondary-amino)dialkoxysilane |
| US7365230B2 (en) * | 2004-02-20 | 2008-04-29 | E.I. Du Pont De Nemours And Company | Cross-linkable polymers and electronic devices made with such polymers |
| KR20060133056A (ko) | 2004-03-31 | 2006-12-22 | 이 아이 듀폰 디 네모아 앤드 캄파니 | 전하 수송 물질용 트리아릴아민 화합물 |
| JP2013508380A (ja) | 2009-10-19 | 2013-03-07 | イー・アイ・デュポン・ドウ・ヌムール・アンド・カンパニー | 電子用途用のトリアリールアミン化合物 |
| JP2013508375A (ja) | 2009-10-19 | 2013-03-07 | イー・アイ・デュポン・ドウ・ヌムール・アンド・カンパニー | 電子用途用のトリアリールアミン化合物 |
| JP5762932B2 (ja) * | 2010-11-30 | 2015-08-12 | 信越化学工業株式会社 | シラノール基を有するトリアリールアミン誘導体 |
Family Cites Families (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS57190043A (en) * | 1981-05-18 | 1982-11-22 | Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd | Room temperature curing composition |
| US4599394A (en) * | 1982-12-02 | 1986-07-08 | General Electric Company | Process for producing alkoxy-terminated polysiloxanes |
| US4614812A (en) * | 1985-12-31 | 1986-09-30 | Union Carbide Corporation | Novel process for promoting hydrosilation reactions using a second hydrosilane |
| JPH0826194B2 (ja) * | 1987-11-20 | 1996-03-13 | 日本合成化学工業株式会社 | 樹脂組成物 |
| US5424470A (en) * | 1994-10-27 | 1995-06-13 | Dow Corning Corporation | Unsaturated ketones as accelerators for hydrosilation |
| US5449802A (en) * | 1994-12-27 | 1995-09-12 | Dow Corning Corporation | Acetylenic alcohols and ethers as accelerators for hydrosilation |
| US5486637A (en) * | 1995-04-17 | 1996-01-23 | Dow Corning Corporation | Unsaturated alcohols as accelerators for hydrosilation |
| US5481016A (en) * | 1995-04-17 | 1996-01-02 | Dow Corning Corporation | Alcohols and silated alcohols as accelerators for hydrosilation |
| US5616763A (en) * | 1996-01-29 | 1997-04-01 | Dow Corning Corporation | Aldehydes as accelerators for hydrosilation |
-
1998
- 1998-06-26 JP JP18099798A patent/JP4392869B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 1998-12-23 US US09/220,122 patent/US5994573A/en not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN103232357A (zh) * | 2013-04-24 | 2013-08-07 | 苏州大学 | 一种制备α,β-不饱和酰胺的方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP4392869B2 (ja) | 2010-01-06 |
| US5994573A (en) | 1999-11-30 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US6048994A (en) | Selective hydrosilylation method using hydrido (hydrocarbonoxy) silane | |
| JP4540141B2 (ja) | ヒドリド{ハイドロカーボンオキシ}シラン化合物を用いたヒドロシリル化による{ハイドロカーボンオキシ}シリル基含有化合物の製造方法 | |
| US5986124A (en) | Method for making compounds containing hydrocarbonoxysilyi groups by hydrosilylation using hydrido (hydrocarbonoxy) silane compounds | |
| JPH0718077A (ja) | カルビノール・官能シロキサンの製造法 | |
| US6175031B1 (en) | Method for synthesizing silicon compounds that contain a substituent bonded to silicon through a silicon-carbon linkage | |
| JP4392869B2 (ja) | ハイドロカーボンオキシシリル基を有するトリアリールアミンの製造方法 | |
| JP3651572B2 (ja) | 部分付加環状オルガノハイドロジェンシロキサンの製造方法 | |
| US7030259B2 (en) | Process for the preparation of silicone compounds | |
| JPH11246770A (ja) | ハイドロカーボンオキシシリル官能性ポリマーの製造方法 | |
| US5504235A (en) | Method for decomposing polysiloxane | |
| JP4222662B2 (ja) | Si−C結合を介してケイ素原子に結合した官能基を有するアシロキシシラン化合物の製造方法 | |
| JP2001002681A (ja) | Si−C結合を介してケイ素原子に結合した置換基を有するケイ素化合物の製造方法 | |
| US6054602A (en) | Method of making an aromatic chlorosilane compound by a hydrosilation reaction | |
| JPH10237177A (ja) | ネットワークポリシランの製造方法 | |
| JPH0356493A (ja) | シリコンエステルの製造方法 | |
| JP4009335B2 (ja) | アクリロキシ基またはメタクリロキシ基含有有機ケイ素化合物の製造方法 | |
| JP2000159781A (ja) | Si−C結合を介してケイ素原子に結合した官能基を有するケイ素化合物の製造方法 | |
| JP4296416B2 (ja) | シリルケテンアセタール及びジシリルケテンアセタールの製造方法 | |
| JP3915875B2 (ja) | N−置換−3−シリルプロピルアミン類及びその誘導体の製造方法 | |
| JP2000256372A (ja) | ヒドロシリル化反応による脂肪族クロロシラン化合物の製造方法 | |
| JP2000256374A (ja) | Si−C結合を介してケイ素原子に結合した置換基を有するケイ素化合物類の製造方法 | |
| JP2000086675A (ja) | シランの製造法 | |
| CN113292589A (zh) | 四氢呋喃开环双硅基化反应的方法 | |
| JP2758106B2 (ja) | ポリオルガノシランの製造方法 | |
| JP3087597B2 (ja) | 含ケイ素フェノール化合物 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A711 Effective date: 20050331 |
|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20050513 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20081217 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20090106 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20090402 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20090915 |
|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20091013 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121023 Year of fee payment: 3 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131023 Year of fee payment: 4 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |