JPH11246236A - プラズマディスプレーパネル用誘電体ペースト - Google Patents
プラズマディスプレーパネル用誘電体ペーストInfo
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- JPH11246236A JPH11246236A JP10116080A JP11608098A JPH11246236A JP H11246236 A JPH11246236 A JP H11246236A JP 10116080 A JP10116080 A JP 10116080A JP 11608098 A JP11608098 A JP 11608098A JP H11246236 A JPH11246236 A JP H11246236A
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Landscapes
- Glass Compositions (AREA)
- Gas-Filled Discharge Tubes (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 一括コート法により、平滑で均一な膜厚の塗
布層が形成可能なプラズマディスプレーパネル用誘電体
ペーストを提供する。 【解決手段】 ガラス粉末、可塑剤及び溶剤からなり、
ガラス粉末１００重量部に対し、可塑剤が６〜５０重量
部、溶剤が３０〜６０重量部含有されてなり、１５０〜
７００ポイズの粘度を有することを特徴とする。
布層が形成可能なプラズマディスプレーパネル用誘電体
ペーストを提供する。 【解決手段】 ガラス粉末、可塑剤及び溶剤からなり、
ガラス粉末１００重量部に対し、可塑剤が６〜５０重量
部、溶剤が３０〜６０重量部含有されてなり、１５０〜
７００ポイズの粘度を有することを特徴とする。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、プラズマディスプレー
パネル用誘電体ペーストに関するものである。
パネル用誘電体ペーストに関するものである。
【０００２】
【従来の技術】プラズマディスプレーパネルの前面ガラ
ス板には、プラズマ放電用の電極が形成され、その上に
放電維持のための誘電体層が形成される。この誘電体層
には、高い耐電圧を有すること及び透明性に優れている
ことが要求される。
ス板には、プラズマ放電用の電極が形成され、その上に
放電維持のための誘電体層が形成される。この誘電体層
には、高い耐電圧を有すること及び透明性に優れている
ことが要求される。
【０００３】従来、このような誘電体層を形成する方法
として、ガラス粉末をペースト化した誘電体形成材料を
スクリーン印刷し、焼成する方法が知られている。
として、ガラス粉末をペースト化した誘電体形成材料を
スクリーン印刷し、焼成する方法が知られている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら上記方法
の場合、誘電体層として十分な膜厚（約３０〜４０μ
ｍ）を得るためには印刷を３〜１０回程度繰り返さなけ
ればならず作業効率が悪い。
の場合、誘電体層として十分な膜厚（約３０〜４０μ
ｍ）を得るためには印刷を３〜１０回程度繰り返さなけ
ればならず作業効率が悪い。
【０００５】そこでスクリーン印刷の代わりに、１回の
塗布によって所望の膜厚の塗布層を形成する、いわゆる
一括コート法が検討されている。
塗布によって所望の膜厚の塗布層を形成する、いわゆる
一括コート法が検討されている。
【０００６】本発明の目的は、この一括コート法によ
り、平滑で均一な膜厚の塗布層が形成可能なプラズマデ
ィスプレーパネル用誘電体ペーストを提供することであ
る。
り、平滑で均一な膜厚の塗布層が形成可能なプラズマデ
ィスプレーパネル用誘電体ペーストを提供することであ
る。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明のプラズマディス
プレーパネル用誘電体ペーストは、ガラス粉末、可塑剤
及び溶剤からなり、ガラス粉末１００重量部に対し、可
塑剤が６〜５０重量部、溶剤が３０〜６０重量部含有さ
れてなり、１５０〜７００ポイズの粘度を有することを
特徴とする。
プレーパネル用誘電体ペーストは、ガラス粉末、可塑剤
及び溶剤からなり、ガラス粉末１００重量部に対し、可
塑剤が６〜５０重量部、溶剤が３０〜６０重量部含有さ
れてなり、１５０〜７００ポイズの粘度を有することを
特徴とする。
【０００８】
【作用】本発明のペーストは、ガラス粉末、可塑剤及び
溶剤を主成分として含有する。
溶剤を主成分として含有する。
【０００９】ガラス粉末は、高い耐電圧を有する誘電体
層を形成するための成分である。ガラス粉末としては、
重量百分率でＰｂＯ ５０〜７５％（好ましくは５５〜
７０％）、Ｂ2 Ｏ3 ２〜３０％（好ましくは５〜２５
％）、ＳｉＯ2 ２〜３５％（好ましくは３〜３１
％）、ＺｎＯ＋ＣａＯ ０〜２０％（好ましくは０〜１
０％）の組成を有するガラスや、重量百分率でＰｂＯ
３０〜５５％（好ましくは４０〜５０％）、Ｂ2 Ｏ3
１０〜４０％（好ましくは１５〜３５％）、ＳｉＯ2
１〜１５％（好ましくは２〜１０％）、ＺｎＯ ０〜３
０％（好ましくは１０〜３０％）、ＢａＯ＋ＣａＯ＋Ｂ
ｉ2 Ｏ3 ０〜３０％（好ましくは３〜２０％）の組成
を有するガラスや、重量百分率でＺｎＯ ２５〜４５％
（好ましくは３０〜４０％）、Ｂｉ2 Ｏ3 １５〜３５
％（好ましくは２０〜３０％）、Ｂ2Ｏ3 １０〜３０
％（好ましくは１７〜２５％）、ＳｉＯ2 ０．５〜８
％（好ましくは３〜７％）、ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ
８〜２４％（好ましくは１０〜２０％）の組成を有する
ガラスが、５００〜６００℃の焼成で良好な流動性を示
し、また絶縁特性に優れるとともに安定であるために好
適である。
層を形成するための成分である。ガラス粉末としては、
重量百分率でＰｂＯ ５０〜７５％（好ましくは５５〜
７０％）、Ｂ2 Ｏ3 ２〜３０％（好ましくは５〜２５
％）、ＳｉＯ2 ２〜３５％（好ましくは３〜３１
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０％）の組成を有するガラスや、重量百分率でＰｂＯ
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１０〜４０％（好ましくは１５〜３５％）、ＳｉＯ2
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０％（好ましくは１０〜３０％）、ＢａＯ＋ＣａＯ＋Ｂ
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を有するガラスや、重量百分率でＺｎＯ ２５〜４５％
（好ましくは３０〜４０％）、Ｂｉ2 Ｏ3 １５〜３５
％（好ましくは２０〜３０％）、Ｂ2Ｏ3 １０〜３０
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％（好ましくは３〜７％）、ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ
８〜２４％（好ましくは１０〜２０％）の組成を有する
ガラスが、５００〜６００℃の焼成で良好な流動性を示
し、また絶縁特性に優れるとともに安定であるために好
適である。
【００１０】可塑剤は、乾燥速度をコントロールし、ま
た乾燥後の塗布層に柔軟性を持たせるための成分であ
る。一括コートを行う場合、形成される塗布層の膜厚が
厚くなるため、乾燥時にひび割れや皺が生じないように
することが重要であり、そのためにガラス粉末１００重
量部に対して６〜５０重量部、好ましくは１０〜３５重
量部の可塑剤を必要とする。可塑剤が６重量部より少な
いと乾燥速度が速くなりすぎ、また柔軟性が不足するた
めにひび割れや皺が生じ、一括コートによって平滑で均
一な膜厚の塗布層を形成できなくなる。逆に５０重量部
より多くなると焼成後に多量の泡を内包してしまい、誘
電体層の耐電圧が低下する。可塑剤としてはジメチルフ
タレート、ジエチルフタレート、ブチルベンジルフタレ
ート、ジオクチルフタレート、ジイソオクチルフタレー
ト、ジカプリルフタレート、ジブチルフタレート、アジ
ピン酸ジイソブチル、アジピン酸ジオクチル、セバシン
酸ジベンジル、セバシン酸ジオクチル、リン酸トリフェ
ニル、リン酸トリクレジル、リン酸トリオクチル、リン
酸オクチルジフェニル、トリアセチン、塩素化パラフィ
ン、ショウノウ、ヒマシ油等が使用可能であり、これら
を単独あるいは混合して使用する。上記可塑剤中、特に
ブチルベンジルフタレート、ジオクチルフタレート、ジ
イソオクチルフタレート、ジカプリルフタレート、及び
ジブチルフタレートを単独又は混合して使用することが
好ましい。
た乾燥後の塗布層に柔軟性を持たせるための成分であ
る。一括コートを行う場合、形成される塗布層の膜厚が
厚くなるため、乾燥時にひび割れや皺が生じないように
することが重要であり、そのためにガラス粉末１００重
量部に対して６〜５０重量部、好ましくは１０〜３５重
量部の可塑剤を必要とする。可塑剤が６重量部より少な
いと乾燥速度が速くなりすぎ、また柔軟性が不足するた
めにひび割れや皺が生じ、一括コートによって平滑で均
一な膜厚の塗布層を形成できなくなる。逆に５０重量部
より多くなると焼成後に多量の泡を内包してしまい、誘
電体層の耐電圧が低下する。可塑剤としてはジメチルフ
タレート、ジエチルフタレート、ブチルベンジルフタレ
ート、ジオクチルフタレート、ジイソオクチルフタレー
ト、ジカプリルフタレート、ジブチルフタレート、アジ
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ニル、リン酸トリクレジル、リン酸トリオクチル、リン
酸オクチルジフェニル、トリアセチン、塩素化パラフィ
ン、ショウノウ、ヒマシ油等が使用可能であり、これら
を単独あるいは混合して使用する。上記可塑剤中、特に
ブチルベンジルフタレート、ジオクチルフタレート、ジ
イソオクチルフタレート、ジカプリルフタレート、及び
ジブチルフタレートを単独又は混合して使用することが
好ましい。
【００１１】溶剤は、ペーストの粘度を調整するための
成分であり、その含有量はガラス粉末１００重量部に対
し、３０〜６０重量部、特に３５〜５５重量部の範囲に
あることが好ましい。溶剤が３０重量部より少ないとペ
ーストの粘度が高くなりすぎて平滑で均一な膜厚を有す
る塗布層が得にくくなり、６０重量部より多いとペース
トの粘度が低くなりすぎて所望の膜厚を得ることができ
なくなる。溶剤には、沸点が１５０℃以上のものを使用
することが好ましい。これは、一括コートによって形成
された塗布層の乾燥が約８０〜１２０℃で実施されるた
め、１５０℃以下の沸点を有する溶剤では乾燥が早くな
り過ぎて、塗布層にひび割れや皺が生じ易くなるためで
ある。このような溶剤として、例えばターピネオール、
ターピニルアセテート、ジヒドロターピネオール、ジエ
チレングリコールモノブチルエーテルアセテート、２，
２，４−トリメチル−１，３−ペンタジオールモノイソ
ブチレート等を単独又は混合して使用することができ
る。
成分であり、その含有量はガラス粉末１００重量部に対
し、３０〜６０重量部、特に３５〜５５重量部の範囲に
あることが好ましい。溶剤が３０重量部より少ないとペ
ーストの粘度が高くなりすぎて平滑で均一な膜厚を有す
る塗布層が得にくくなり、６０重量部より多いとペース
トの粘度が低くなりすぎて所望の膜厚を得ることができ
なくなる。溶剤には、沸点が１５０℃以上のものを使用
することが好ましい。これは、一括コートによって形成
された塗布層の乾燥が約８０〜１２０℃で実施されるた
め、１５０℃以下の沸点を有する溶剤では乾燥が早くな
り過ぎて、塗布層にひび割れや皺が生じ易くなるためで
ある。このような溶剤として、例えばターピネオール、
ターピニルアセテート、ジヒドロターピネオール、ジエ
チレングリコールモノブチルエーテルアセテート、２，
２，４−トリメチル−１，３−ペンタジオールモノイソ
ブチレート等を単独又は混合して使用することができ
る。
【００１２】さらに塗布層に柔軟性を付与し、乾燥後の
膜の平滑性を維持するために熱可塑性樹脂を添加するこ
とが好ましい。熱可塑性樹脂の添加量は、ガラス粉末１
００重量部に対して０〜３０重量部、特に５〜２５重量
部であることが望ましい。なお熱可塑性樹脂が３０重量
部より多いと焼成後に多量の泡を内包してしまう。熱可
塑性樹脂としてはポリブチルメタアクリレート、ポリビ
ニルブチラール、ポリメチルメタアクリレート、ポリエ
チルメタアクリレート、エチルセルロース等が使用可能
であり、これらを単独あるいは混合して使用することが
できる。
膜の平滑性を維持するために熱可塑性樹脂を添加するこ
とが好ましい。熱可塑性樹脂の添加量は、ガラス粉末１
００重量部に対して０〜３０重量部、特に５〜２５重量
部であることが望ましい。なお熱可塑性樹脂が３０重量
部より多いと焼成後に多量の泡を内包してしまう。熱可
塑性樹脂としてはポリブチルメタアクリレート、ポリビ
ニルブチラール、ポリメチルメタアクリレート、ポリエ
チルメタアクリレート、エチルセルロース等が使用可能
であり、これらを単独あるいは混合して使用することが
できる。
【００１３】なお、上記成分以外にも、例えばペースト
の流動性、焼結性或いは熱膨張係数を調整するためにセ
ラミック粉末を添加することができる。
の流動性、焼結性或いは熱膨張係数を調整するためにセ
ラミック粉末を添加することができる。
【００１４】また本発明のプラズマディスプレーパネル
用誘電体ペーストは、１５０〜７００ポイズ、好ましく
は２００〜５００ポイズの粘度を有することを特徴とす
る。ペーストの粘度をこの範囲に調整することにより、
一括コート法によって膜厚３０〜５００μｍの塗布層を
均一に形成することができる。粘度が１５０ポイズ未満
の場合、一回の塗布で所望の膜厚を有する塗布層を形成
することが困難になるため、一括コート法を採用するこ
とができず、一方、７００ポイズを超えると平滑で均一
な膜厚の塗布層を形成することが困難になってしまう。
なお本発明でいう粘度とは、２３℃、ずり速度５．７／
秒の条件で測定したときの値である。
用誘電体ペーストは、１５０〜７００ポイズ、好ましく
は２００〜５００ポイズの粘度を有することを特徴とす
る。ペーストの粘度をこの範囲に調整することにより、
一括コート法によって膜厚３０〜５００μｍの塗布層を
均一に形成することができる。粘度が１５０ポイズ未満
の場合、一回の塗布で所望の膜厚を有する塗布層を形成
することが困難になるため、一括コート法を採用するこ
とができず、一方、７００ポイズを超えると平滑で均一
な膜厚の塗布層を形成することが困難になってしまう。
なお本発明でいう粘度とは、２３℃、ずり速度５．７／
秒の条件で測定したときの値である。
【００１５】次に本発明のプラズマディスプレーパネル
用誘電体ペーストを用いて、誘電体層を形成する方法を
説明する。
用誘電体ペーストを用いて、誘電体層を形成する方法を
説明する。
【００１６】まず、プラズマディスプレーパネルに用い
られる前面ガラス板を用意する。次に本発明のペースト
を一括コート法により塗布し、膜厚３０〜５００μｍの
塗布層を形成する。なお前面ガラス板には予め電極が形
成されており、ペーストの塗布はその上に行う。続いて
塗布層を８０〜１２０℃程度の温度で乾燥させる。その
後、５００〜６００℃で５〜１５分間焼成することによ
り、膜厚２０〜１００μｍの誘電体層を形成することが
できる。
られる前面ガラス板を用意する。次に本発明のペースト
を一括コート法により塗布し、膜厚３０〜５００μｍの
塗布層を形成する。なお前面ガラス板には予め電極が形
成されており、ペーストの塗布はその上に行う。続いて
塗布層を８０〜１２０℃程度の温度で乾燥させる。その
後、５００〜６００℃で５〜１５分間焼成することによ
り、膜厚２０〜１００μｍの誘電体層を形成することが
できる。
【００１７】
【実施例】以下、本発明を実施例に基づいて詳細に説明
する。
する。
【００１８】（実施例１）表１は、本発明の実施例（試
料Ｎｏ．１）及び比較例（試料Ｎｏ．２）を示してい
る。
料Ｎｏ．１）及び比較例（試料Ｎｏ．２）を示してい
る。
【００１９】
【表１】
【００２０】ガラス粉末は以下のようにして作製した。
まず重量％でＰｂＯ ６５％、ＳｉＯ2 ２５％、Ｂ2
Ｏ3 ５％、ＣａＯ ５％の組成となるようにガラス原
料を調合し、均一に混合した後、白金ルツボに入れ、１
２５０℃で２時間溶融し、成形した。これらを粉砕、分
級し、５０％粒子径が約３μｍの粒度分布を有するガラ
ス粉末を得た。
まず重量％でＰｂＯ ６５％、ＳｉＯ2 ２５％、Ｂ2
Ｏ3 ５％、ＣａＯ ５％の組成となるようにガラス原
料を調合し、均一に混合した後、白金ルツボに入れ、１
２５０℃で２時間溶融し、成形した。これらを粉砕、分
級し、５０％粒子径が約３μｍの粒度分布を有するガラ
ス粉末を得た。
【００２１】次にこれらのガラス粉末と、可塑剤（ジブ
チルフタレートとジオクチルフタレートの混合物）、溶
剤（ターピネオールとジエチレングリコールモノブチル
エーテルアセテートの混合液）、及び熱可塑性樹脂（エ
チルセルロース）を混練し、表に示す粘度を有するよう
に調製した。なお表中、可塑剤、溶剤及び熱可塑性樹脂
はガラス粉末１００重量部に対する含有量を示してい
る。
チルフタレートとジオクチルフタレートの混合物）、溶
剤（ターピネオールとジエチレングリコールモノブチル
エーテルアセテートの混合液）、及び熱可塑性樹脂（エ
チルセルロース）を混練し、表に示す粘度を有するよう
に調製した。なお表中、可塑剤、溶剤及び熱可塑性樹脂
はガラス粉末１００重量部に対する含有量を示してい
る。
【００２２】こうして得られた各試料をガラス板上に一
括コートし、焼成後のガラス膜の平均膜厚、表面粗さ、
及び膜厚の均一性について評価した。なお図１に表面粗
さ計で測定した試料Ｎｏ．１の表面形状を、図２に試料
Ｎｏ．２の表面形状を示す。また評価結果を表に示す。
括コートし、焼成後のガラス膜の平均膜厚、表面粗さ、
及び膜厚の均一性について評価した。なお図１に表面粗
さ計で測定した試料Ｎｏ．１の表面形状を、図２に試料
Ｎｏ．２の表面形状を示す。また評価結果を表に示す。
【００２３】表から明らかなように、本発明の実施例で
あるＮｏ．１の試料は、焼成後のガラス膜の平均膜厚が
３５μｍ、表面粗さＲａが０．１２μｍ以下であった。
またガラス膜は表面形状が良好であり、均一な膜厚を有
していた。これに対して比較例である試料Ｎｏ．２は、
平均膜厚が２５μｍのガラス膜が得られたものの、表面
粗さが０．９０μｍと粗かった。しかも表面形状が悪
く、膜厚が不均一であった。
あるＮｏ．１の試料は、焼成後のガラス膜の平均膜厚が
３５μｍ、表面粗さＲａが０．１２μｍ以下であった。
またガラス膜は表面形状が良好であり、均一な膜厚を有
していた。これに対して比較例である試料Ｎｏ．２は、
平均膜厚が２５μｍのガラス膜が得られたものの、表面
粗さが０．９０μｍと粗かった。しかも表面形状が悪
く、膜厚が不均一であった。
【００２４】なお試料の粘度はハーケ社製回転粘度計を
用い、２３℃、ずり速度５．７／秒の条件で測定した。
ガラス膜の形成は、バーコーターを用い、膜厚２５０μ
ｍの塗布層が得られるように各試料をガラス板の表面に
一括コートし、１２０℃で３０分間乾燥後、５９０℃で
１０分間焼成することによって行った。ガラス膜の平均
膜厚、表面粗さ及び膜厚の均一性は、触針式表面粗さ計
（東京精密社製表面粗さ形状測定機）を用いて測定し、
評価した。
用い、２３℃、ずり速度５．７／秒の条件で測定した。
ガラス膜の形成は、バーコーターを用い、膜厚２５０μ
ｍの塗布層が得られるように各試料をガラス板の表面に
一括コートし、１２０℃で３０分間乾燥後、５９０℃で
１０分間焼成することによって行った。ガラス膜の平均
膜厚、表面粗さ及び膜厚の均一性は、触針式表面粗さ計
（東京精密社製表面粗さ形状測定機）を用いて測定し、
評価した。
【００２５】（実施例２）表２及び表３は、本発明の実
施例（試料Ｎｏ．３〜１０）及び比較例（試料Ｎｏ．１
１）を示している。
施例（試料Ｎｏ．３〜１０）及び比較例（試料Ｎｏ．１
１）を示している。
【００２６】
【表２】
【００２７】
【表３】
【００２８】Ｎｏ．３〜１１の各試料は、実施例１と同
様にして作製した。
様にして作製した。
【００２９】次に各試料について、実施例１と同様にし
て、焼成後のガラス膜の平均膜厚、表面粗さ、及び膜厚
の均一性について評価した。結果を表に示す。
て、焼成後のガラス膜の平均膜厚、表面粗さ、及び膜厚
の均一性について評価した。結果を表に示す。
【００３０】表から明らかなように、本発明の実施例で
あるＮｏ．３〜１０の各試料は、焼成後のガラス膜の平
均膜厚が２０〜５０μｍ、表面粗さＲａが０．２５μｍ
以下であった。またガラス膜は、試料Ｎｏ．１と同等の
表面形状を有しており、膜厚が均一であった。これに対
して比較例である試料Ｎｏ．１１は、平均膜厚が４０μ
ｍのガラス膜が得られたものの、表面粗さが０．５８μ
ｍと粗く、しかも形成されたガラス膜は、表面形状が悪
く、膜厚が不均一であった。
あるＮｏ．３〜１０の各試料は、焼成後のガラス膜の平
均膜厚が２０〜５０μｍ、表面粗さＲａが０．２５μｍ
以下であった。またガラス膜は、試料Ｎｏ．１と同等の
表面形状を有しており、膜厚が均一であった。これに対
して比較例である試料Ｎｏ．１１は、平均膜厚が４０μ
ｍのガラス膜が得られたものの、表面粗さが０．５８μ
ｍと粗く、しかも形成されたガラス膜は、表面形状が悪
く、膜厚が不均一であった。
【００３１】
【発明の効果】本発明のプラズマディスプレーパネル用
誘電体ペーストを用いれば、１回の塗布で所望の膜厚の
塗布層を形成する、いわゆる一括コートが可能となり、
従来の材料のように印刷、乾燥を繰り返す必要がないた
め、作業性を著しく向上させることができる。
誘電体ペーストを用いれば、１回の塗布で所望の膜厚の
塗布層を形成する、いわゆる一括コートが可能となり、
従来の材料のように印刷、乾燥を繰り返す必要がないた
め、作業性を著しく向上させることができる。
【００３２】またスクリーン印刷を用いた場合、印刷後
にスクリーンメッシュの跡が残って平滑な表面が得難
い、泡が多数残存する等の問題が生じ易いが、本発明の
ペーストは一括コート法で塗布できるためにこれらの問
題が生じ難く、平滑で均一な膜厚の塗布層を形成するこ
とができ、耐電圧が高く、十分な透明性を有する誘電体
層を形成することが可能である。
にスクリーンメッシュの跡が残って平滑な表面が得難
い、泡が多数残存する等の問題が生じ易いが、本発明の
ペーストは一括コート法で塗布できるためにこれらの問
題が生じ難く、平滑で均一な膜厚の塗布層を形成するこ
とができ、耐電圧が高く、十分な透明性を有する誘電体
層を形成することが可能である。
【図１】表面粗さ計を用いて測定した試料Ｎｏ．１の表
面形状である。
面形状である。
【図２】表面粗さ計を用いて測定した試料Ｎｏ．２の表
面形状である。
面形状である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 應治 雅彦 滋賀県大津市晴嵐２丁目７番１号 日本電 気硝子株式会社内 (72)発明者 波多野 和夫 滋賀県大津市晴嵐２丁目７番１号 日本電 気硝子株式会社内
Claims (6)
- 【請求項１】 ガラス粉末、可塑剤及び溶剤からなり、
ガラス粉末１００重量部に対し、可塑剤が６〜５０重量
部、溶剤が３０〜６０重量部含有されてなり、１５０〜
７００ポイズの粘度を有することを特徴とするプラズマ
ディスプレーパネル用誘電体ペースト。 - 【請求項２】 可塑剤が、ブチルベンジルフタレート、
ジオクチルフタレート、ジイソオクチルフタレート、ジ
カプリルフタレート、及びジブチルフタレートから選ば
れる１種又は２種以上であることを特徴とする請求項１
のプラズマディスプレーパネル用誘電体ペースト。 - 【請求項３】 溶剤が、ターピネオール、ターピニルア
セテート、ジヒドロターピネオール、ジエチレングリコ
ールモノブチルエーテルアセテート、及び２，２，４−
トリメチル−１，３−ペンタジオールモノイソブチレー
トから選ばれる１種又は２種以上であることを特徴とす
る請求項１のプラズマディスプレーパネル用誘電体ペー
スト。 - 【請求項４】 ガラス粉末１００重量部に対し、熱可塑
性樹脂が０〜３０重量部添加されてなることを特徴とす
る請求項１のプラズマディスプレーパネル用誘電体ペー
スト。 - 【請求項５】 熱可塑性樹脂が、ポリブチルメタアクリ
レート、ポリビニルブチラール、ポリメチルメタアクリ
レート、ポリエチルメタアクリレート、及びエチルセル
ロースから選ばれる１種又は２種以上であることを特徴
とする請求項４のプラズマディスプレーパネル用誘電体
ペースト。 - 【請求項６】 電極が形成されたガラス板上に一括コー
トされることを特徴とする請求項１〜５のプラズマディ
スプレーパネル用誘電体ペースト。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10116080A JPH11246236A (ja) | 1998-01-05 | 1998-04-09 | プラズマディスプレーパネル用誘電体ペースト |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10-12162 | 1998-01-05 | ||
| JP1216298 | 1998-01-05 | ||
| JP10116080A JPH11246236A (ja) | 1998-01-05 | 1998-04-09 | プラズマディスプレーパネル用誘電体ペースト |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11246236A true JPH11246236A (ja) | 1999-09-14 |
Family
ID=26347735
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10116080A Pending JPH11246236A (ja) | 1998-01-05 | 1998-04-09 | プラズマディスプレーパネル用誘電体ペースト |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11246236A (ja) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20010029403A (ko) * | 1999-09-30 | 2001-04-06 | 구자홍 | 표시소자용 유전체 조성물 |
| JP2002255587A (ja) * | 2001-03-02 | 2002-09-11 | Nippon Electric Glass Co Ltd | ガラスペースト |
| JP2002326838A (ja) * | 2001-05-08 | 2002-11-12 | Nippon Electric Glass Co Ltd | ガラスペースト |
| WO2007055323A1 (ja) * | 2005-11-11 | 2007-05-18 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | ディスプレイデバイス、ガラスリング付き通気管、リン酸系ガラスリングおよびその製造方法 |
| JP2007234285A (ja) * | 2006-02-28 | 2007-09-13 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | プラズマディスプレイパネルの製造方法およびプラズマディスプレイパネル用の誘電体ペースト |
| US7291672B2 (en) | 2003-10-27 | 2007-11-06 | Mitsu Takeda Chemicals, Inc. | Paste composition and uses thereof |
| CN101794639A (zh) * | 2010-03-16 | 2010-08-04 | 彩虹集团公司 | 一种环保型玻璃浆料及其制备方法 |
-
1998
- 1998-04-09 JP JP10116080A patent/JPH11246236A/ja active Pending
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20010029403A (ko) * | 1999-09-30 | 2001-04-06 | 구자홍 | 표시소자용 유전체 조성물 |
| JP2002255587A (ja) * | 2001-03-02 | 2002-09-11 | Nippon Electric Glass Co Ltd | ガラスペースト |
| JP2002326838A (ja) * | 2001-05-08 | 2002-11-12 | Nippon Electric Glass Co Ltd | ガラスペースト |
| US7291672B2 (en) | 2003-10-27 | 2007-11-06 | Mitsu Takeda Chemicals, Inc. | Paste composition and uses thereof |
| WO2007055323A1 (ja) * | 2005-11-11 | 2007-05-18 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | ディスプレイデバイス、ガラスリング付き通気管、リン酸系ガラスリングおよびその製造方法 |
| JPWO2007055323A1 (ja) * | 2005-11-11 | 2009-04-30 | パナソニック株式会社 | ディスプレイデバイス、ガラスリング付き通気管、リン酸系ガラスリングの製造方法 |
| US7737619B2 (en) | 2005-11-11 | 2010-06-15 | Panasonic Corporation | Display device, vent tube with glass ring, phosphate glass ring, and method of producing the same |
| JP2007234285A (ja) * | 2006-02-28 | 2007-09-13 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | プラズマディスプレイパネルの製造方法およびプラズマディスプレイパネル用の誘電体ペースト |
| CN101794639A (zh) * | 2010-03-16 | 2010-08-04 | 彩虹集团公司 | 一种环保型玻璃浆料及其制备方法 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20051118 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20060814 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20070111 |