JPH11255778A - シリルチオアルケン化合物及びその製造方法 - Google Patents

シリルチオアルケン化合物及びその製造方法

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JPH11255778A
JPH11255778A JP10062575A JP6257598A JPH11255778A JP H11255778 A JPH11255778 A JP H11255778A JP 10062575 A JP10062575 A JP 10062575A JP 6257598 A JP6257598 A JP 6257598A JP H11255778 A JPH11255778 A JP H11255778A
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    • C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
    • C07F7/02—Silicon compounds
    • C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
    • C07F7/12—Organo silicon halides
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
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    • C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
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    • C07F7/02—Silicon compounds
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 精密化学品分野における合成用試薬として有
用な新規なシリルチオアルケン類及びその製造方法を提
供する。 【解決手段】 白金錯体触媒の存在下、シリルスルフィ
ドとアセチレン類、又はジスルフィド化合物とジシラン
化合物とアセチレン類とを反応させて、新規なシリルチ
オアルケン類を製造し、所望に応じさらに炭化水素カル
ボニウムイオン発生剤又は脱ハロゲン化水素剤の存在下
にアルコールを反応させて、新規なシリルチオアルケン
類を製造する。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、ケイ素原子と硫黄
原子とを含み、各種化合物の製造原料として有用な新規
なシリルチオアルケン化合物及びその製造方法に関する
ものである。
【０００２】
【従来の技術】シリルチオアルケン化合物は、シリル基
と硫黄原子を含むため、これを用いて触媒の存在下で有
機ハロゲン化合物とを位置及び立体選択的カップリング
反応させることにより、炭素−炭素結合を容易に形成さ
せ、硫黄原子を含む化合物を得ることができるし、オス
ミウム酸化などにより硫黄原子を含むジオールやエノー
ルエーテルを生成しうるので、医薬、農薬のような各種
化合物の製造原料又は合成中間体として広く利用されて
いる。
【０００３】ところで、これまで、シリルチオアルケン
化合物は一般に、例えばラジカル開始剤の存在下又は光
照射下に、シリルアルキン化合物をチオール化合物と反
応させる方法、触媒の存在下でシリルアルケニルハライ
ド化合物とスタニルスルフィドとのカップリング反応な
どが提案されていたが、これらの方法に用いるシリル基
含有出発物質自体の製造が困難であって、工業的に有利
な方法とはいえない。したがって、炭化水素から直接に
得られるシリルチオアルケン化合物が要望されていた
が、これまで、このようなものは知られていなかった。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、このような
事情のもとで、精密化学品分野における合成試薬などと
して有用な新規なシリルチオアルケン化合物を、入手が
容易な原料を用い、効率よく、かつ工業的に有利に提供
することを目的としてなされたものである。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、各種有用
化合物の原料又は合成中間体として重要なシリル基及び
チオ基を有する新規なアルケン化合物を製造するため
に、鋭意研究を重ねた結果、アセチレン又はジアセチレ
ン化合物にシリルスルフィドを又はジスルフィドとジシ
ラン化合物とを反応させることにより、新規のシリルチ
オアルケン化合物を容易に製造しうることを見出し、こ
の知見に基づいて本発明をなすに至った。
【０００６】すなわち、本発明は、一般式
【化８】 （式中のｎは１又は２、Ｒはｎが１の場合は水素原子、
炭化水素基又は置換炭化水素基、ｎが２の場合は二価の
炭化水素基、Ａｒは芳香族炭化水素基又は核置換芳香族
炭化水素基、Ｘはハロゲン原子、炭化水素基又は炭化水
素オキシ基である）で表わされるシリルチオアルケン化
合物を提供すること、及びこのシリルチオアルケン化合
物を、白金錯体触媒の存在下、一般式 Ｒ−（Ｃ≡ＣＨ）n （ＩＩ） （式中のｎ及びＲは前記と同じ意味をもつ）で表わされ
るアセチレン又はジアセチレン化合物に、一般式 ＡｒＳ−ＳｉＸ3′（ＩＩＩ） （式中のＡｒは芳香族炭化水素基又は核置換芳香族炭化
水素基、Ｘ′はハロゲン原子である）で表わされるシリ
ルスルフィドを反応させる方法（以下本発明第一方法と
いう）、あるいは白金錯体触媒の存在下、一般式 ＡｒＳ−ＳＡｒ （ＩＶ） （式中のＡｒは前記と同じ意味をもつ）で表わされるジ
スルフィド化合物と、一般式 Ｘ′3Ｓｉ−ＳｉＸ′3（Ｖ） （式中のＸ′は前記と同じ意味をもつ）で表わされるジ
シラン化合物と、一般式 Ｒ−（Ｃ≡ＣＨ）n （ＶＩ） （式中のｎ及びＲは前記と同じ意味をもつ）で表わされ
るアセチレン又はジアセチレン化合物を反応させる方法
（以下本発明第二方法という）、あるいは一般式
【化９】 （式中のｎ、Ｒ、Ａｒ及びＸ′は前記と同じ意味をも
つ）で表わされるハロゲノシリルチオアルケン化合物
に、炭化水素カルボニウムイオン発生剤を反応させる方
法（以下本発明第三方法という）又は上記のハロゲノシ
リルチオアルケン化合物に、脱ハロゲン化水素の存在
下、 Ｒ′−ＯＨ （ＶＩＩＩ） （式中のＲ′は炭化水素基又は置換炭化水素基である）
で表わされるヒドロキシル化合物を反応させる方法（以
下本発明第四方法という）によって製造することができ
る。
【０００７】
【発明の実施の形態】前記一般式（Ｉ）で表わされるシ
リルチオアルケン化合物は、文献未載の新規化合物であ
る。そして、ｎが１の場合は、一般式
【化１０】 （式中のＲは水素原子、炭化水素基又は置換炭化水素基
であり、Ａｒ及びＸは前記と同じ意味をもつ）で表わさ
れるシリルチオアルケン化合物であり、ｎが２の場合
は、一般式
【化１１】 （式中のＲは二価の炭化水素基であり、Ａｒ及びＸは前
記と同じ意味をもつ）で表わされるビス（シリルチオア
ルケン）化合物である。
【０００８】前記一般式（Ｉ′）においてＲで示される
炭化水素基の例としては、メチル基、エチル基、プロピ
ル基、ブチル基のようなアルキル基や、エテニル基、プ
ロペニル基、ブテニル基のようなアルケニル基や、シク
ロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘキセニル基
のようなシクロアルキル基又はシクロアルケニル基や、
フェニル基、トリル基、キシリル基、ナフチル基のよう
なアリール基や、ベンジル基、フェネチル基のようなア
ラルキル基を挙げることができる。
【０００９】また、置換炭化水素基の例としては、例え
ば２‐クロロエチル基、３‐クロロプロピル基、４‐ブ
ロモブチル基、２‐メトキシエチル基、３‐アミノプロ
ピル基、２‐シアノエチル基、３‐シアノプロピル基、
４‐ニトロブチル基、トリブロモジメチルスルホニルブ
チル基、第三ブチルカルボニルオキシエチル基、ｐ‐ク
ロロフェニル基、ｐ‐アセチルフェニル基などのハロゲ
ノ基、アルコキシ基、アミノ基、シアノ基、ニトロ基、
アルキルカルボニルオキシ基、アシル基などで置換され
た炭化水素基を挙げることができる。
【００１０】また、Ａｒで示される芳香族炭化水素基又
は置換芳香族炭化水素基の例としては、フェニル基、４
‐クロロフェニル基、４‐ブロモフェニル基、４‐メト
キシフェニル基などを挙げることができる。
【００１１】次に、Ｘで示されるハロゲン原子として
は、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子があ
り、炭化水素基としては、メチル基、プロピル基のよう
なアルキル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基の
ようなシクロアルキル基、フェニル基、トリル基のよう
なアリール基、ベンジル基のようなアラルキル基などが
ある。また、炭化水素オキシ基の例としては、メトキシ
基、プロポキシ基、シクロヘキシルオキシ基、フェノキ
シ基、ベンジルオキシ基などを挙げることができる。
【００１２】他方、一般式（Ｉ″）においてＲで示され
る二価の炭化水素基は、メチレン基、テトラメチレン
基、ペンタメチレン基のようなアルキレン基、フェニレ
ン基、ナフタレン基のようなアリーレン基などであり、
これらは場合により官能基で置換されていてもよい。こ
の一般式（Ｉ″）中のＡｒ及びＸで示される基の例とし
ては、一般式（Ｉ′）の場合と同じものを挙げることが
できる。
【００１３】これらの一般式（Ｉ′）及び（Ｉ″）で表
わされる化合物は、前記した本発明第一方法ないし本発
明第四方法に従って製造することができる。本発明第一
方法においては、前記一般式（ＩＩ）で表わされるアセ
チレン又はジアセチレン化合物を原料として用い、これ
に前記一般式（ＩＩＩ）で表わされるシリルスルフィド
を反応させる。
【００１４】この際に用いる一般式（ＩＩ）のアセチレ
ン化合物の例としては、アセチレン、ブチン、オクチ
ン、フェニルアセチレン、プロパルギルエーテル、シク
ロヘキセニルアセチレンなどを、またジアセチレン化合
物の例としては、１，４‐ペンタジイン、１，８‐ノナ
ジイン、ジエチニルベンゼンなどをそれぞれ挙げること
ができる。また、これらのアセチレン又はジアセチレン
化合物と反応させる一般式（ＩＩＩ）のシリルスルフィ
ドの例としては、（トリクロロシリル）フェニルスルフ
ィド、（トリブロモシリル）フェニルスルフィド、（ト
リフルオロシリル）フェニルスルフィドなどがある。
【００１５】次に、本発明第二方法においては、前記の
一般式（ＩＩ）のアセチレン又はジアセチレン化合物
に、前記一般式（ＩＶ）で表わされるジスルフィド化合
物と前記一般式（Ｖ）で表わされるジシラン化合物を同
時に反応させる。この際に用いる一般式（ＩＶ）のジス
ルフィドの例としては、ジフェニルジスルフィド、ビス
（４‐クロロフェニル）ジスルフィド、ビス（４‐ブロ
モフェニル）ジスルフィド、ビス（４‐メトキシフェニ
ル）ジスルフィドなどを、また一般式（Ｖ）のジシラン
化合物の例としては、ヘキサクロロジシラン、ヘキサフ
ルオロジシラン、ヘキサブロモジシランなどをそれぞれ
挙げることができる。
【００１６】本発明第一方法及び第二方法において用い
られる白金錯体触媒としては、いわゆる低原子価の白金
錯体、特に三級ホスフィンやホスファイトを配位子とす
るゼロ価錯体が好ましいが、その他の白金錯体も用いる
ことができる。また、反応系中で容易にゼロ価白金錯体
に変換される適当な前駆錯体を用いることもできる。さ
らに、三級ホスフィンやホスファイトを含まない適当な
白金化合物と三級ホスフィンやホスファイトを反応系中
で混合し、三級ホスフィン又は三級ホスファイトを配位
子とする低原子価白金錯体を生成させてそのまま触媒と
して用いるのも有利である。これらの白金錯体におい
て、有利な性能を発揮する配位子としては、種々の三級
ホスフィンやホスファイトを挙げることができるが、い
わゆる電子供与性が極度に強いものは反応速度面で必ず
しも有利ではない。好適な配位子としては、例えばトリ
フェニルホスフィン、トリス（４‐クロロフェニル）ホ
スフィン、トリス（４‐フルオロフェニル）ホスフィ
ン、トリトリルホスフィン、ジフェニルメチルホスフィ
ン、フェニルジメチルホスフィン、ジフェニルシクロヘ
キシルホスフィン、フェニルジシクロヘキシルホスフィ
ン、１，４‐ビス（ジフェニルホスフィノ）ブタン、ト
リメチルホスファイト、トリフェニルホスファイトなど
が挙げられる。これらの配位子は単独で導入してもよい
し、２種以上を組み合わせて導入してもよい。
【００１７】このような三級ホスフィンやホスファイト
を配位子として含まない錯体としては、ビス（１，５‐
シクロオクタジエン）白金、ビス（ジベンジリデンアセ
トン）白金などが挙げられるが、これらに限定されるも
のではない。また、好適に用いられるホスフィン又はホ
スファイト錯体としては、テトラキス（トリフェニルホ
スフィン）白金、トリス（トリフェニルホスフィン）白
金、（エチレン）ビス（トリフェニルホスフィン）白金
などが挙げられる。本発明においては、この白金錯体触
媒を単独で用いてもよいし、２種以上を組み合わせて用
いてもよい。
【００１８】この本発明第一方法及び第二方法において
は、必ずしも反応溶媒を必要としないが、必要に応じ
て、溶媒中で反応を実施することができる。この溶媒と
しては通常、炭化水素系溶媒やエーテル系溶媒が用いら
れるがこれに限られることはない。また、白金錯体触媒
の使用量は、いわゆる触媒量でよく、一般的には、原料
のアセチレン化合物又はジアセチレン化合物に対して、
２０モル％以下で十分である。
【００１９】本発明第一方法においては、アセチレン化
合物又はジアセチレン化合物とシリルスルフィドとを反
応させ、本発明第二方法においては、アセチレン化合物
又はジアセチレン化合物とジスルフィド化合物とジシラ
ン化合物とを反応させるが、各原料は、一般に、化学量
論的な割合で用いるのが有利である。もちろん、化学量
論的な割合を逸脱しても、反応の生起を阻害するもので
はない。反応温度は、あまりに低温では反応が有利な速
度で進行せず、あまりに高温では触媒が分解するので、
一般的には、室温ないし３００℃の範囲から選ばれ、好
ましくは５０〜１５０℃の範囲で実施される。
【００２０】この反応は、酸素に敏感であり、反応の実
施は、窒素やアルゴン、メタンなどの不活性ガス雰囲気
下で行うのが好ましい。反応混合物からの生成物の分離
は、クロマトグラフィー、蒸留又は再結晶などによって
容易に達成される。このようにして、前記一般式（Ｉ）
で表わされるハロゲノシリルチオアルケン又はビス（ハ
ロゲノシリルチオアルケン）が得られる。
【００２１】次に本発明第三方法によれば、本発明第一
方法又は第二方法で得られた、前記一般式（ＶＩＩ）の
ハロゲノシリルチオアルケンに、カルボニウムイオン発
生剤を反応させることにより、そのハロゲン原子を炭化
水素基又は置換炭化水素基に変換することができる。こ
の際用いられるカルボニウムイオン発生剤としては、メ
チルリチウム、エチルリチウム、ブチルリチウム、フェ
ニルリチウムなどの有機リチウム化合物、又はメチルグ
リニャール、エチルグリニャール、ブチルグリニャー
ル、フェニルグリニャールなどの有機グリニャール化合
物などが用いられる。このカルボニウムイオン発生剤と
の反応は、通常エーテル系溶媒中において、−２０〜２
０℃程度の温度で実施される。
【００２２】また、本発明第四方法によれば、前記した
一般式（ＶＩＩ）のハロゲノシリルチオアルケンに、前
記一般式（ＶＩＩＩ）のヒドロキシル化合物を反応させ
ることにより、そのハロゲン原子を炭化水素オキシ基に
変換することができる。この際用いられるヒドロキシル
化合物の例としては、メチルアルコール、エチルアルコ
ール、プロピルアルコール、ブチルアルコール、フェノ
ール、ベンジルアルコールなどを挙げることができる。
この方法においては、脱ハロゲン化水素剤を用いること
が必要であるが、この脱ハロゲン化水素剤としては、ト
リメチルアミン、トリエチルアミン、ピリジンのような
有機塩基が好ましい。この方法は、通常炭化水素系溶媒
やエーテル系溶媒中において、−２０℃ないし２０℃の
温度で行われる。
【００２３】本発明第三方法及び第四方法における反応
混合物から目的化合物を分離するには、クロマトグラフ
ィー、蒸留、再結晶など慣用の分離方法を用いて行うこ
とができる。このようにして、前記一般式（Ｉ′）及び
（Ｉ″）で表わされるシリルチオアルケン化合物及びビ
ス（シリルチオアルケン）化合物を得ることができる。
本発明化合物の同定は、常法に従い、元素分析や核磁気
共鳴スペクトル（1Ｈ−ＮＭＲ、13Ｃ−ＮＭＲ）、赤外
吸収スペクトル（ＩＲ）、マススペクトルなどの測定に
よって行うことができる。
【００２４】
【実施例】次に、本発明を実施例によりさらに詳細に説
明するが、本発明は、これらの例によってなんら限定さ
れるものではない。
【００２５】実施例１ トルエン １ミリリットルに、（トリクロロシリル）フ
ェニルスルフィド １ミリモル、１‐オクチン １ミリモ
ル、触媒として（エチレン）ビス（トリフェニルホスフ
ィン）白金（５モル）％を加え、窒素雰囲気下、１１０
℃で２４時間反応させた。反応液を濃縮し、減圧下で蒸
留することにより、（Ｚ）‐２‐フェニルチオ‐１‐ト
リクロロシリル‐１‐オクテンが６７％の収率で得られ
た。この化合物は文献未載の新規物質であり、そのスペ
クトルデータ及び元素分析値は以下のとおりである。1 Ｈ−ＮＭＲ（Ｃ6Ｄ6）：δ ７．２１−７．２４（ｍ，
２Ｈ），６．８７−６．９４（ｍ，３Ｈ），５．７８
（ｓ，１Ｈ），１．９６（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝７．４Ｈ
ｚ），０．９５−１．２４（ｍ，８Ｈ），０．７９
（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝７．２Ｈｚ）13 Ｃ−ＮＭＲ（Ｃ6Ｄ6）：δ １６６．６，１３３．
０，１２９．４，１２８．５，１２７．２，１２３．
４，３８．９，３１．６，２８．５，２８．４，２２．
７，１４．２ ＩＲ（液膜）：２９６０，２９３６，２８６２，１５６
２，１４７９，１４３９，１０６９，１０２５，７４
３，６９０ｃｍ-1 元素分析値：Ｃ14Ｈ19Ｃｌ3ＳＳｉとしての 計算値：Ｃ，４７．５３；Ｈ，５．４１ 実測値：Ｃ，４７．４１；Ｈ，５．４７ ＨＲＭＳ（ＥＩ，７０ｅＶ）： 計算値：３５２．００４１ 実測値：３５２．００６２
【００２６】実施例２ トルエン ３ミリリットルに、ヘキサクロロジシラン
１．５ミリモル、ジフェニルジスルフィド １．５ミリ
モル、１‐オクチン ３ミリモル、触媒として（エチレ
ン）ビス（トリフェニルホスフィン）白金（硫黄に対
し、１．５モル％）を加え、窒素雰囲気下、１１０℃で
１２時間反応させた。反応液を濃縮し、減圧下で蒸留す
ることにより、（Ｚ）‐２‐フェニルチオ‐１‐トリク
ロロシリル‐１‐オクテンが６３％の収率で得られた。
得られた化合物のスペクトルは実施例１で得られたもの
と一致した。
【００２７】実施例３ トルエン ３ミリリットルに、ヘキサクロロジシラン
１．５ミリモル、ジフェニルジスルフィド １．５ミリ
モル、１‐オクチン ３ミリモル、触媒として（エチレ
ン）ビス（トリフェニルホスフィン）白金（硫黄に対
し、１．５モル％）を加え、窒素雰囲気下、１１０℃で
１２時間反応させた。ＮＭＲにより、（Ｚ）‐２‐フェ
ニルチオ‐１‐トリクロロシリル‐１‐オクテンが７３
％の収率で生成した。
【００２８】実施例４ 実施例３により生成した（Ｚ）‐２‐フェニルチオ‐１
‐トリクロロシリル‐１‐オクテンの反応溶液にエーテ
ル ３０ミリリットルを加え、０℃でメチルリチウム
（１モル／リットルのエーテル溶液）９ミリモルと０．
５時間反応させた。次いで、水 １０ミリリットルを加
え、反応液をエーテルで抽出し、溶媒を減圧下で除去し
たのち、残留物を蒸留することにより、（Ｚ）‐２‐フ
ェニルチオ‐１‐トリメチルシリル‐１‐オクテンが６
５％の収率で得られた。この化合物は文献未載の新規物
質であり、そのスペクトルデータは、以下のとおりであ
る。1 Ｈ−ＮＭＲ（Ｃ6Ｄ6）：δ ７．３２−７．３５（ｍ，
２Ｈ），６．９２−７．０３（ｍ，３Ｈ），６．０３
（ｓ，１Ｈ），２．２６（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝７．１Ｈ
ｚ），１．１１−１．５５（ｍ，８Ｈ），０．８１
（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝６．９Ｈｚ），０．３４（ｓ，９Ｈ）13 Ｃ−ＮＭＲ（Ｃ6Ｄ6）：δ １５３．５，１３５．
９，１３５．４，１３０．８，１２９．２，１２６．
７，４０．２，３２．０，２８．９，２８．８，２２．
９，１４．２，０．１２29 Ｓｉ−ＮＭＲ（Ｃ6Ｄ6）：−９．９ ＨＲＭＳ（ＥＩ，７０ｅＶ）：Ｃ17Ｈ28ＳＳｉとしての 計算値：２９２．１６６１ 実測値：２９２．１６５９
【００２９】実施例５ トルエン ３ミリリットルに、ヘキサクロロジシラン
１．５ミリモル、ビス（４‐クロロフェニル）ジスルフ
ィド １．５ミリモル、１‐オクチン ３ミリモル、触媒
として（エチレン）ビス（トリフェニルホスフィン）白
金（硫黄に対し、１．５モル％）を加え、窒素雰囲気
下、１１０℃で１２時間反応させた。ＮＭＲにより、
（Ｚ）‐２‐（４‐クロロフェニルチオ）‐１‐トリク
ロロシリル‐１‐オクテンが９３％の収率で生成した。
【００３０】実施例６ 実施例５により生成した（Ｚ）‐２‐（４‐クロロフェ
ニルチオ）‐１‐トリクロロシリル‐１‐オクテンの反
応溶液に、エーテルを３０ミリリットル加え、０℃でト
リエチルアミン １０ミリモル、エチルアルコール １０
ミリモルを加え、０．５時間反応させた。沈殿物をろ過
により除去したのち、反応液を濃縮し、液体クロマトグ
ラフィーにより単離精製すると、（Ｚ）‐２‐（４‐ク
ロロフェニルチオ）‐１‐トリエトキシシリル‐１‐オ
クテンが８３％の収率で得られた。この化合物は文献未
載の新規物質であり、そのスペクトルデータ及び元素分
析値は以下のとおりである。1 Ｈ−ＮＭＲ（Ｃ6Ｄ6）：δ ７．１１−７．１５（ｍ，
２Ｈ），６．９２−６．９７（ｍ，２Ｈ），５．９４
（ｓ，１Ｈ），３．９７（ｑ，６Ｈ，Ｊ＝７．０Ｈ
ｚ），２．１３（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝７．４Ｈｚ），１．２
７−１．４３（ｍ，２Ｈ），１．２５（ｔ，９Ｈ，Ｊ＝
７．０Ｈｚ），１．０５−１．２１（ｍ，６Ｈ），０．
８１（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝６．８Ｈｚ）13 Ｃ−ＮＭＲ（Ｃ6Ｄ6）：δ １５７．０，１３３．
６，１３３．４，１３３．０，１２９．３，１２６．
３，５８．８，３９．６，３１．８，２８．８，２８．
６，２２．８，１８．６，１４．２29 Ｓｉ−ＮＭＲ（Ｃ6Ｄ6）：−６１．１ ＩＲ（液膜）：２９７６，２９３０，１５８０，１４７
７，１３９０，１１６８，１０８３，９６１，８２０，
７７４ｃｍ-1 元素分析値：Ｃ20Ｈ33ＣｌＯ3ＳＳｉとしての 計算値 Ｃ，５７．６０；Ｈ，７．９７ 実測値：Ｃ，５７．６１；Ｈ，７．８０ ＨＲＭＳ（ＥＩ，７０ｅＶ）： 計算値：４１６．１６０６ 実測値：４１６．１４９６
【００３１】実施例７ 出発原料としてベンジルアセチレンを用い、これにヘキ
サクロロジシラン及びビス（４‐クロロフェニル）ジス
ルフィドとを実施例５と同じようにして反応させたの
ち、実施例６と同様にしてエチルアルコールを反応させ
ることにより、（Ｚ）‐２‐（４‐クロロフェニルチ
オ）‐３‐フェニル‐１‐トリエトキシシリル‐１‐プ
ロペンを７６％の収率で得た。この化合物は文献未載の
新規物質であり、そのスペクトルデータ及び元素分析値
は以下のとおりである。1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）：δ ７．２０−７．３３
（ｍ，７Ｈ），６．９９−６．０２（ｍ，２Ｈ），５．
６５（ｓ，１Ｈ），３．９０（ｑ，６Ｈ，Ｊ＝７．０Ｈ
ｚ），３．４５（ｓ，２Ｈ），１．２４（ｔ，９Ｈ，Ｊ
＝７．０Ｈｚ）13 Ｃ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）：δ １５６．２，１３７．
９，１３３．７，１３３．６，１３２．４，１２９．
１，１２９．０，１２８．４，１２６．６，１２５．
７，５８．７，４５．６，１８．３29 Ｓｉ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）：−６０．８ ＩＲ（液膜）：２９７６，２９２６，２８８８，１５８
２，１４７７，１３９０，１１６８，１０８３，１０１
３，９６１，８２２，７５４，６９８ｃｍ-1 元素分析値：Ｃ21Ｈ27ＣｌＯ3ＳＳｉとしての 計算値：Ｃ，５９．６２；Ｈ，６．４３ 実測値：Ｃ，５９．５５；Ｈ，６．４２ ＨＲＭＳ（ＥＩ，７０ｅＶ）： 計算値：４２２．１１３７ 実測値：４２２．１１５４
【００３２】実施例８ ベンジルアセチレンの代りにフェニルアセチレンを用
い、実施例７と同様にして、（Ｚ）‐１‐（４‐クロロ
フェニルチオ）‐１‐フェニル‐２‐トリエトキシシリ
ルエテンを６２％の収率で得た。このもののスペクトル
データ及び元素分析値は以下のとおりである。1 Ｈ−ＮＭＲ（Ｃ6Ｄ6）：δ ７．４６−７．４９（ｍ，
２Ｈ），６．７３−７．０２（ｍ，７Ｈ），６．４１
（ｓ，１Ｈ），３．９８（ｑ，６Ｈ，Ｊ＝７．０Ｈ
ｚ），１．２６（ｔ，９Ｈ，Ｊ＝７．０Ｈｚ）13 Ｃ−ＮＭＲ（Ｃ6Ｄ6）：δ １５４．２，１４０．
４，１３４．３，１３２．５，１３１．３，１３０．
７，１２９．３，１２８．９，１２８．５，１２８．
１，５９．０，１８．６ ＩＲ（液膜）：２９７６，２８８８，１５５５，１４７
７，１４４６，１３９０，１１６８，１０８１，９６
３，７７７，７５６ｃｍ-1 ＨＲＭＳ（ＥＩ，７０ｅＶ）：Ｃ20Ｈ25ＣｌＯ3ＳＳｉ
としての計算値：４０８．０９８１ 実測値：４０８．１０６４
【００３３】実施例９ ベンジルアセチレンの代りに、４‐クロロフェニルアセ
チレンを用い、実施例７と同様に反応させることによ
り、（Ｚ）‐１‐（４‐クロロフェニル）‐１‐（４‐
クロロフェニルチオ）‐２‐トリエトキシシリルエテン
を６５％の収率で得た。このもののスペクトルデータ及
び元素分析値は以下のとおりである。1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）：δ ７．４５−７．４８
（ｍ，２Ｈ），７．１５−７．１８（ｍ，２Ｈ），７．
０７−７．０８（ｍ，４Ｈ），６．１７（ｓ，１Ｈ），
３．９２（ｑ，６Ｈ，Ｊ＝７．１Ｈｚ），１．２５
（ｔ，９Ｈ，Ｊ＝７．１Ｈｚ）13 Ｃ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）：δ １５３．１，１３８．
５，１３４．７，１３３．３，１３２．５，１３１．
１，１２９．１，１２８．９，１２８．８，１２８．
３，５８．９，１８．３29 Ｓｉ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）：δ −６１．９ ＩＲ（液膜）：２９７６，２９２８，２８９０，１５９
３，１５７４，１５５５，１４７７，１３９２，１１６
８，１０９４，１０１３，９６３，８１６，７７５ｃｍ
-1 元素分析値：Ｃ20Ｈ24Ｃｌ2Ｏ3ＳＳｉとしての 計算値 Ｃ，５４．１７；Ｈ，５．４５；Ｓ，７．２３ 実測値：Ｃ，５４．４７；Ｈ，５．３９；Ｓ，７．５１ ＨＲＭＳ（ＥＩ，７０ｅＶ）： 計算値：４４２．０５９１ 実測値：４４２．０４９２
【００３４】実施例１０ ベンジルアセチレンの代りに、４‐メチルフェニルアセ
チレンを用い、実施例７と同様に反応させることによ
り、（Ｚ）‐１‐（４‐クロロフェニルチオ）‐１‐
（４‐メチルフェニル）‐２‐トリエトキシシリルエテ
ンを６０％の収率で得た。このもののスペクトルデータ
及び元素分析値は以下のとおりである。1 Ｈ−ＮＭＲ（Ｃ6Ｄ6）：δ ７．４４−７．４６（ｍ，
２Ｈ），６．９７−７．０１（ｍ，２Ｈ），６．７５−
６．７９（ｍ，４Ｈ），６．４６（ｓ，１Ｈ），４．０
０（ｑ，６Ｈ，Ｊ＝７．０Ｈｚ），１．８９（ｓ，３
Ｈ），１．２２（ｔ，９Ｈ，Ｊ＝７．０Ｈｚ）13 Ｃ−ＮＭＲ（Ｃ6Ｄ6）：δ １５４．０，１３８．
９，１３７．５，１３４．６，１３２．４，１３１．
２，１２９．２，１２９．１，１２８．９，１２８．
１，５９．０，２０．９，１８．６29 Ｓｉ−ＮＭＲ（Ｃ6Ｄ6）：−６１．４ ＩＲ（液膜）：２９７６，２９２６，２８８８，１５５
７，１５０６，１４７７，１３９０，１１６８，１０８
３，９６３，９０３，８１２，７７２ｃｍ-1 元素分析値：Ｃ21Ｈ27ＣｌＯ3ＳＳｉとしての 計算値：Ｃ，５９．６２；Ｈ，６．４３ 実測値：Ｃ，５９．８５；Ｈ，６．３２ ＨＲＭＳ（ＥＩ，７０ｅＶ）： 計算値：４２２．１１３６ 実測値：４２２．１１３５
【００３５】実施例１１ ベンジルアセチレンの代りに、５‐クロロペンチン‐１
を用い、実施例７と同様に反応させることにより、
（Ｚ）‐５‐クロロ‐２‐（４‐クロロフェニルチオ）
‐１‐トリエトキシシリル‐１‐ペンテンを７９％の収
率で得た。このもののスペクトルデータ及び元素分析値
は以下のとおりである。1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）：δ ７．２５−７．３２
（ｍ，４Ｈ），５．７４（ｓ，１Ｈ），３．８８（ｑ，
６Ｈ，Ｊ＝７．１Ｈｚ），３．４２（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝
６．５Ｈｚ），２．３４（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝７．２Ｈ
ｚ），１．８７−１．９３（ｍ，２Ｈ），１．２３
（ｔ，９Ｈ，Ｊ＝７．１Ｈｚ）13 Ｃ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）：δ １５５．５，１３３．
６，１３３．１，１３２．３，１２９．２，１２５．
６，５８．７，４３．８，３６．２，３０．９，１８．
３29 Ｓｉ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）：−６１．４ ＩＲ（液膜）：２９７６，２９２８，２８９０，１５８
０，１４７７，１４４４，１３９０，１２９４，１１６
８，１０８３，１０１３，９６３，８２０，７６４ｃｍ
-1． 元素分析値：Ｃ17Ｈ26Ｃｌ2Ｏ3ＳＳｉとしての 計算値：Ｃ，４９．８７；Ｈ，６．４０ 実測値：Ｃ，４９．５２；Ｈ，６．１０ ＨＲＭＳ（ＥＩ，７０ｅＶ）： 計算値：４０８．０７４７ 実測値：４０８．０７４６
【００３６】実施例１２ ベンジルアセチレンの代りに、５‐シアノペンチン‐１
を用い、実施例７と同様に反応させることにより、
（Ｚ）‐５‐シアノ‐２‐（４‐クロロフェニルチオ）
‐１‐トリエトキシシリル‐１‐ペンテンを８１％の収
率で得た。このもののスペクトルデータ及び元素分析値
は以下のとおりである。1 Ｈ−ＮＭＲ（Ｃ6Ｄ6）：δ ６．９３−７．０３（ｍ，
４Ｈ），５．７６（ｓ，１Ｈ），３．９２（ｑ，６Ｈ，
Ｊ＝７．０Ｈｚ），１．９１（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝７．３Ｈ
ｚ），１．３６（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．８Ｈｚ），１．１
５−１．２５（ｍ，２Ｈ），１．２１（ｔ，９Ｈ，Ｊ＝
７．０Ｈｚ）13 Ｃ−ＮＭＲ（Ｃ6Ｄ6）：δ １５４．２，１３３．
８，１３３．０，１３２．７，１２９．５，１２８．
１，１１８．８，５８．９，３７．８，２４．０，１
８．６，１５．５．29 Ｓｉ−ＮＭＲ（Ｃ6Ｄ6）：−６１．９ ＩＲ（液膜）：２９７６，２９２８，２８９０，２２５
０，１５８０，１４７７，１４４１，１３９０，１１６
８，１０８１，１０１３，９６３，８２０，７７７ｃｍ
-1 元素分析値：Ｃ18Ｈ26ＣｌＮＯ3ＳＳｉとしての 計算値：Ｃ，５４．０５；Ｈ，６．５５；Ｎ，３．５０ 実測値：Ｃ，５３．８７；Ｈ，６．５９；Ｎ，３．５９ ＨＲＭＳ（ＥＩ，７０ｅＶ）： 計算値：３９９．１０９０ 実測値：３９９．１０９７
【００３７】実施例１３ ベンジルアセチレンの代りに、６‐（ｔ‐ブチルジメチ
ルシロキシ）‐１‐ヘキシンを用い、実施例７と同様に
反応させることにより、（Ｚ）‐６‐（ｔ‐ブチルジメ
チルシロキシ）‐２‐（４‐クロロフェニルチオ）‐１
‐（トリエトキシシリル）‐１‐ヘキセンを７２％の収
率で得た。このもののスペクトルデータ及び元素分析値
は以下のとおりである。1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）：δ ７．２３−７．３２
（ｍ，４Ｈ），５．６８（ｓ，１Ｈ），３．８６（ｑ，
６Ｈ，Ｊ＝７．０Ｈｚ），３．５１（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝
６．４Ｈｚ），２．１８（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝７．４Ｈ
ｚ），１．２１−１．２５（ｍ，４Ｈ），１．２３
（ｔ，９Ｈ，Ｊ＝７．０Ｈｚ），０．８６（ｓ，９
Ｈ），０．００（ｓ，６Ｈ）13 Ｃ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）：δ １５７．５，１３３．
４，１３３．１，１３２．８，１２９．１，１２３．
９，６２．８，５８．６，３８．９，３１．９，２５．
９，２４．７，１８．３，１８．２，−５．３29 Ｓｉ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）：１８．５，−６０．７ ＩＲ（液膜）：２９３２，２１３９，１２５７，１１６
８，１０８３，１０１３，９６１，８３５，７７７ｃｍ
-1 元素分析値：Ｃ24Ｈ43ＣｌＯ4ＳＳｉ2としての 計算値：Ｃ，５５．５１；Ｈ，８．３５；Ｓ，６．１７ 実測値：Ｃ，５５．５８；Ｈ，８．４１；Ｓ，６．４０
【００３８】実施例１４ ベンジルアセチレンの代りに、４‐第三ブチルカルボニ
ルオキシブチン‐１を用い、実施例７と同様に反応させ
ることにより、（Ｚ）‐４‐（ｔ‐ブチルカルボニルオ
キシ）‐２‐（４‐クロロフェニルチオ）‐１‐（トリ
エトキシシリル）‐１‐ブテンを８７％の収率で得た。
このもののスペクトルデータ及び元素分析値は以下のと
おりである。1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）：δ ７．２４−７．３２
（ｍ，４Ｈ），５．７８（ｓ，１Ｈ），４．１２（ｔ，
２Ｈ，Ｊ＝６．３Ｈｚ），３．８６（ｑ，６Ｈ，Ｊ＝
７．１Ｈｚ），２．４９（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．３Ｈ
ｚ），１．２１（ｔ，９Ｈ，Ｊ＝７．１Ｈｚ），１．１
４（ｓ，９Ｈ）13 Ｃ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）：δ １７８．３，１５２．
５，１３３．５，１３２．８，１３２．４，１２９．
３，１２７．８，６１．９，５８．６，３８．７，３
８．２，２７．１，１８．２29 Ｓｉ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）：−６１．８ ＩＲ（液膜）：２９７６，２９３０，１７３１，１５８
４，１４７７，１３９２，１２８６，１１５６，１０８
７，９６３，８２２，７７２ｃｍ-1 元素分析値：Ｃ21Ｈ33ＣｌＯ5ＳＳｉとしての 計算値：Ｃ，５４．７０；Ｈ，７．２１ 実測値：Ｃ，５４．５４；Ｈ，７．２７ ＨＲＭＳ（ＥＩ，７０ｅＶ）： 計算値：４６０．１５０４ 実測値：４６０．１４４９
【００３９】実施例１５ ベンジルアセチレンの代りに、ｎ‐ノナ‐１，８‐ジイ
ンを用い、かつヘキサクロロジシラン及びビス（４‐ク
ロロフェニル）ジスルフィドの量をそれぞれ３ミリモル
に変えるほかは、実施例７と同様にして、（Ｚ，Ｚ）‐
１，３‐ビス（トリエトキシシリル）‐２，７‐ビス
（４‐クロロフェニルチオ）‐ノナ‐１，８‐ジエンを
６９％の収率で得た。このもののスペクトルデータ及び
元素分析値は以下のとおりである。1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）：δ ７．２３−７．２９
（ｍ，８Ｈ），５．６３（ｓ，２Ｈ），３．８７（ｑ，
１２Ｈ，Ｊ＝６．９Ｈｚ），２．０９（ｔ，４Ｈ，Ｊ＝
７．５Ｈｚ），１．３４−１．３９（ｍ，４Ｈ），１．
２３（ｔ，１８Ｈ，Ｊ＝６．９Ｈｚ），１．０２−１．
０５（ｍ，２Ｈ）13 Ｃ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）：δ １５７．４，１３３．
４，１３３．０，１３２．７，１２９．１，１２３．
９，５８．６，３９．０，２８．１，２７．９，１８．
３29 Ｓｉ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）：−６０．８ ＩＲ（液膜）：２９７６，２９３０，１５８０，１４７
７，１４４１，１３９０，１２９４，１１６８，１０７
７，１０１３，９６１，８２０，７７７，７４５ｃｍ-1 元素分析値：Ｃ33Ｈ50Ｃｌ2Ｏ6Ｓ2Ｓｉ2としての 計算値：Ｃ，５４．００；Ｈ，６．８７ 実測値：Ｃ，５４．３２；Ｈ，６．７０
【００４０】実施例１６ ベンジルアセチレンの代りに、シクロヘキセン‐１‐イ
ルアセチレンを用い、実施例７と同様に反応させること
により、（Ｚ）‐１‐（４‐クロロフェニルチオ）‐１
‐（１‐シクロヘキセンイル）‐２‐トリエトキシシリ
ルエテンを５１％の収率で得た。このもののスペクトル
データ及び元素分析値は以下のとおりである。1 Ｈ−ＮＭＲ（Ｃ6Ｄ6）：δ ６．９２−７．０５（ｍ，
４Ｈ），６．３６（ｂｓ，１Ｈ），６．２４（ｓ，１
Ｈ），３．９０（ｑ，６Ｈ，Ｊ＝７．０Ｈｚ），１．９
８−２．００（ｍ，２Ｈ），１．７４−１．７６（ｍ，
２Ｈ），１．２０（ｔ，９Ｈ，Ｊ＝７．０Ｈｚ），１．
１１−１．３１（ｍ，４Ｈ）13 Ｃ−ＮＭＲ（Ｃ6Ｄ6）：δ １５４．４，１３６．
３，１３６．２，１３２．０，１３１．８，１３０．
１，１２８．９，１２７．２，５８．９，２７．３，２
６．０，２２．９，２１．９，１８．５29 Ｓｉ−ＮＭＲ（Ｃ6Ｄ6）：−６０．９ ＩＲ（液膜）：２９７６，２９２８，１５４９，１４７
７，１３９０，１１６８，１０９３，９６３，７７４，
７１４ｃｍ-1 元素分析値：Ｃ20Ｈ29ＣｌＯ3ＳＳｉとしての 計算値：Ｃ，５８．１６；Ｈ，７．０８ 実測値：Ｃ，５８．３４；Ｈ，７．０５ ＨＲＭＳ（ＥＩ，７０ｅＶ）： 計算値：４１２．１２９４ 実測値：４１２．１３９５
【００４１】
【発明の効果】本発明によれば、同一分子内にシリル基
とチオ基を有し、精密化学品分野における合成用試薬と
して有用な新規なシリルチオアルケン類を、簡単なプロ
セスで、しかも分離精製が容易である上、安全かつ効率
よく提供することができる。
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成１１年２月８日
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正内容】
【化１】 （式中のｎは１又は２、Ｒはｎが１の場合は水素原子、
炭化水素基又は置換炭化水素基、ｎが２の場合は二価の
炭化水素基、Ａｒは芳香族炭化水素基又は核置換芳香族
炭化水素基、Ｘはハロゲン原子又はアルコキシ基であ
る）で表わされるシリルチオアルケン化合物。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正内容】
【０００６】すなわち、本発明は、一般式
【化８】 （式中のｎは１又は２、Ｒはｎが１の場合は水素原子、
炭化水素基又は置換炭化水素基、ｎが２の場合は二価の
炭化水素基、Ａｒは芳香族炭化水素基又は核置換芳香族
炭化水素基、Ｘはハロゲン原子又はアルコキシ基であ
る）で表わされるシリルチオアルケン化合物を提供する
もの、及び白金錯体触媒の存在下、一般式 Ｒ−（Ｃ≡ＣＨ）ｎ （ＩＩ） （式中のｎ及びＲは前記と同じ意味をもつ）で表わされ
るアセチレン又はジアセチレン化合物に、一般式 ＡｒＳ−ＳｉＸ′３（ＩＩＩ） （式中のＡｒは芳香族炭化水素基又は核置換芳香族炭化
水素基、Ｘ′はハロゲン原子である）で表わされるシリ
ルスルフィドを反応させるか（以下本発明第一方法とい
う）、あるいは白金錯体触媒の存在下、一般式 ＡｒＳ−ＳＡｒ （ＩＶ） （式中のＡｒは前記と同じ意味をもつ）で表わされるジ
スルフィド化合物と、一般式 Ｘ′３Ｓｉ−ＳｉＸ′３（Ｖ） （式中のＸ′は前記と同じ意味をもつ）で表わされるジ
シラン化合物と、一般式 Ｒ−（Ｃ≡ＣＨ）ｎ （ＶＩ） （式中のｎ及びＲは前記と同じ意味をもつ）で表わされ
るアセチレン又はジアセチレン化合物を反応させるか
（以下本発明第二方法という）、あるいは一般式
【化９】 （式中のｎ、Ｒ、Ａｒ及びＸ′は前記と同じ意味をも
つ）で表わされるハロゲノシリルチオアルケン化合物
に、炭化水素カルボニウムイオン発生剤を反応させるか
（以下本発明第三方法という）又は上記のハロゲノシリ
ルチオアルケン化合物に、脱ハロゲン化水素の存在下、 Ｒ′−ＯＨ （ＶＩＩＩ） （式中のＲ′は炭化水素基又は置換炭化水素基である）
で表わされるヒドロキシル化合物を反応させる（以下本
発明第四方法という）ことにより、シリルチオアルケン
化合物を製造する方法を提供するものである。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正内容】
【００１１】次に、Ｘで示されるハロゲン原子として
は、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子があ
り、アルコキシ基としては、メトキシ基、プロポキシ
基、シクロヘキシルオキシ基などがある。また、一般式
（ＩＩＩ）及び（Ｖ）におけるＸ′で示されるハロゲン
原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ
素原子を挙げることができる。

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 一般式 【化１】 （式中のｎは１又は２、Ｒはｎが１の場合は水素原子、
    炭化水素基又は置換炭化水素基、ｎが２の場合は二価の
    炭化水素基、Ａｒは芳香族炭化水素基又は核置換芳香族
    炭化水素基、Ｘはハロゲン原子、炭化水素基又は炭化水
    素オキシ基である）で表わされるシリルチオアルケン化
    合物。
  2. 【請求項２】 白金錯体触媒の存在下、一般式 Ｒ−（Ｃ≡ＣＨ）n （式中のｎは１又は２、Ｒはｎが１の場合は水素原子、
    炭化水素基又は置換炭化水素基、ｎが２の場合は二価の
    炭化水素基である）で表わされるアセチレン又はジアセ
    チレン化合物に、一般式 ＡｒＳ−ＳｉＸ′3 （式中のＡｒは芳香族炭化水素基又は核置換芳香族炭化
    水素基、Ｘ′はハロゲン原子である）で表わされるシリ
    ルスルフィドを反応させることを特徴とする、一般式 【化２】 （式中のｎ、Ｒ、Ａｒ及びＸ′は前記と同じ意味をも
    つ）で表わされるハロゲノシリルチオアルケン化合物の
    製造方法。
  3. 【請求項３】 白金錯体触媒の存在下、一般式 ＡｒＳ−ＳＡｒ （式中のＡｒは芳香族炭化水素基又は核置換芳香族炭化
    水素基である）で表わされるジスルフィド化合物と、一
    般式 Ｘ′3Ｓｉ−ＳｉＸ′3 （式中のＸ′はハロゲン原子である）で表わされるジシ
    ラン化合物と、一般式 Ｒ−（Ｃ≡ＣＨ）n （式中のｎは１又は２、Ｒはｎが１の場合は水素原子、
    炭化水素基又は置換炭化水素基、ｎが２の場合は二価の
    炭化水素基である）で表わされるアセチレン又はジアセ
    チレン化合物とを反応させることを特徴とする、一般式 【化３】 （式中のｎ、Ｒ、Ａｒ及びＸ′は前記と同じ意味をも
    つ）で表わされるハロゲノシリルチオアルケン化合物の
    製造方法。
  4. 【請求項４】 一般式 【化４】 （式中のｎは１又は２、Ｒはｎが１の場合は水素原子、
    炭化水素基又は置換炭化水素基、ｎが２の場合は二価の
    炭化水素基、Ａｒは芳香族炭化水素基又は核置換芳香族
    炭化水素基、Ｘ′はハロゲン原子である）で表わされる
    ハロゲノシリルチオアルケン化合物に、炭化水素カルボ
    ニウムイオン発生剤を反応させることを特徴とする 一般式 【化５】 （式中のＲ′は炭化水素基又は置換炭化水素基、ｎ、Ｒ
    及びＡｒは前記と同じ意味をもつ）で表わされるシリル
    チオアルケン化合物の製造方法。
  5. 【請求項５】 脱ハロゲン化水素剤の存在下、一般式 【化６】 （式中のｎは１又は２、Ｒはｎが１の場合は水素原子、
    炭化水素基又は置換炭化水素基、ｎが２の場合は二価の
    炭化水素基、Ａｒは芳香族炭化水素基又は核置換芳香族
    炭化水素基、Ｘ′はハロゲン原子である）で表わされる
    ハロゲノシリルチオアルケン化合物に、一般式 Ｒ′−ＯＨ （式中のＲ′は炭化水素基又は置換炭化水素基である）
    で表わされるヒドロキシル化合物を反応させることを特
    徴とする、一般式 【化７】 （式中のｎ、Ｒ、Ａｒ及びＲ′は前記と同じ意味をも
    つ）で表わされるシリルチオアルケン化合物の製造方
    法。
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