JPH11267407A - 発泡抑制剤 - Google Patents
発泡抑制剤Info
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- JPH11267407A JPH11267407A JP7175198A JP7175198A JPH11267407A JP H11267407 A JPH11267407 A JP H11267407A JP 7175198 A JP7175198 A JP 7175198A JP 7175198 A JP7175198 A JP 7175198A JP H11267407 A JPH11267407 A JP H11267407A
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- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
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- C04B24/12—Nitrogen containing compounds organic derivatives of hydrazine
- C04B24/128—Heterocyclic nitrogen compounds
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- C04B2103/50—Defoamers, air detrainers
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- Manufacture Of Porous Articles, And Recovery And Treatment Of Waste Products (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
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Abstract
(57)【要約】
【課題】発泡被覆材料のケミカルエンボス加工に用いら
れ、油性及び水性のいずれの発泡抑制組成物にも適用が
可能である上、優れたエンボス効果及びその効果の持続
性を有する発泡抑制剤を提供する。 【解決手段】一般式［１］ 【化１】 （Ａは炭素数１〜１８のアルキル基、ニトロ基又はハロ
ゲン原子、Ｒ1及びＲ2は、炭素数４〜１８のアルキル基
又はアルコキシアルキル基）で表されるベンゾトリアゾ
ール誘導体からなる発泡抑制剤である。
れ、油性及び水性のいずれの発泡抑制組成物にも適用が
可能である上、優れたエンボス効果及びその効果の持続
性を有する発泡抑制剤を提供する。 【解決手段】一般式［１］ 【化１】 （Ａは炭素数１〜１８のアルキル基、ニトロ基又はハロ
ゲン原子、Ｒ1及びＲ2は、炭素数４〜１８のアルキル基
又はアルコキシアルキル基）で表されるベンゾトリアゾ
ール誘導体からなる発泡抑制剤である。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は新規な発泡抑制剤に
関し、さらに詳しくは、床、天井、壁、レザー、衣服、
道路標識などに用いられる発泡被覆材料のケミカルエン
ボス加工に使用される発泡抑制剤に関するものである。
関し、さらに詳しくは、床、天井、壁、レザー、衣服、
道路標識などに用いられる発泡被覆材料のケミカルエン
ボス加工に使用される発泡抑制剤に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来、建築分野においては、床材や壁材
などとして、発泡被覆材料が多用されており、そして、
この発泡被覆材料においては、意匠性などを付与するた
めに、例えば発泡膨張部に、部分的に非膨張部分を所望
のパターン状に形成することがよく行われている。この
ような発泡膨張部に、部分的に非膨張部分をパターン状
に形成する方法の１つとして、ケミカルエンボス加工が
知られている。このケミカルエンボス加工は発泡抑制
剤、樹脂、可塑剤、溶剤、着色剤、安定剤などを混合し
た発泡抑制組成物を、未発泡の発泡性被覆材料にシルク
スクリーン印刷、ロータリースクリーン印刷、グラビア
印刷などにより、所望のパターンを印刷したのち、発泡
性被覆材料の発泡を行い、印刷された部分を非膨張部分
とする方法である。上記発泡抑制組成物としては、従
来、有機溶剤を含む油性のものが用いられ、そして、こ
の油性の発泡抑制組成物用に、無水トリメリット酸系発
泡抑制剤が工業的に広く使用されている。しかしなが
ら、近年、特に公害の規制が厳しくなり、有機溶剤の毒
性問題が提起され、人体に対する影響も甚大になってき
ている上、火災の危険性から回避するためにも有機溶剤
の使用は厳しく規制され、有機溶剤を使用しない水性の
発泡抑制組成物への移行が求められている。これまで、
広く用いられてきた無水トリメリット酸系発泡抑制剤
は、水と反応性を有することから、水性の発泡抑制組成
物への適用は、非常に困難であるという欠点を有してい
る。これに対し、トリアゾール系発泡抑制剤は、油性及
び水性のいずれの発泡抑制組成物に対しても適用可能で
あり、例えば特公昭４７−２９１８７号公報、特表平３
−５００８６４号公報、特開平５−３１８６１２号公報
などに、発泡抑制剤として、ベンゾトリアゾール、トリ
ルトリアゾール又はこれらの誘導体が開示されている。
しかしながら、上記従来のトリアゾール系発泡抑制剤
は、発泡抑制剤自体の昇華性のために、エンボス効果及
び該効果の持続性が不十分であり、その改善が要望され
ていた。
などとして、発泡被覆材料が多用されており、そして、
この発泡被覆材料においては、意匠性などを付与するた
めに、例えば発泡膨張部に、部分的に非膨張部分を所望
のパターン状に形成することがよく行われている。この
ような発泡膨張部に、部分的に非膨張部分をパターン状
に形成する方法の１つとして、ケミカルエンボス加工が
知られている。このケミカルエンボス加工は発泡抑制
剤、樹脂、可塑剤、溶剤、着色剤、安定剤などを混合し
た発泡抑制組成物を、未発泡の発泡性被覆材料にシルク
スクリーン印刷、ロータリースクリーン印刷、グラビア
印刷などにより、所望のパターンを印刷したのち、発泡
性被覆材料の発泡を行い、印刷された部分を非膨張部分
とする方法である。上記発泡抑制組成物としては、従
来、有機溶剤を含む油性のものが用いられ、そして、こ
の油性の発泡抑制組成物用に、無水トリメリット酸系発
泡抑制剤が工業的に広く使用されている。しかしなが
ら、近年、特に公害の規制が厳しくなり、有機溶剤の毒
性問題が提起され、人体に対する影響も甚大になってき
ている上、火災の危険性から回避するためにも有機溶剤
の使用は厳しく規制され、有機溶剤を使用しない水性の
発泡抑制組成物への移行が求められている。これまで、
広く用いられてきた無水トリメリット酸系発泡抑制剤
は、水と反応性を有することから、水性の発泡抑制組成
物への適用は、非常に困難であるという欠点を有してい
る。これに対し、トリアゾール系発泡抑制剤は、油性及
び水性のいずれの発泡抑制組成物に対しても適用可能で
あり、例えば特公昭４７−２９１８７号公報、特表平３
−５００８６４号公報、特開平５−３１８６１２号公報
などに、発泡抑制剤として、ベンゾトリアゾール、トリ
ルトリアゾール又はこれらの誘導体が開示されている。
しかしながら、上記従来のトリアゾール系発泡抑制剤
は、発泡抑制剤自体の昇華性のために、エンボス効果及
び該効果の持続性が不十分であり、その改善が要望され
ていた。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、このような
事情のもとで、発泡被覆材料のケミカルエンボス加工に
用いられ、油性及び水性のいずれの発泡抑制組成物にも
適用が可能である上、優れたエンボス効果及びその効果
の持続性を有する発泡抑制剤を提供することを目的とし
てなされたものである。
事情のもとで、発泡被覆材料のケミカルエンボス加工に
用いられ、油性及び水性のいずれの発泡抑制組成物にも
適用が可能である上、優れたエンボス効果及びその効果
の持続性を有する発泡抑制剤を提供することを目的とし
てなされたものである。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、前記の好
ましい性質を有する発泡抑制剤を開発すべく鋭意研究を
重ねた結果、ベンゼン環に特定の置換基を有すると共
に、１位にジアルキルアミノメチル基を有するベンゾト
リアゾール誘導体が、その目的に適合しうることを見い
出し、この知見に基づいて本発明を完成するに至った。
すなわち、本発明は、（１）一般式［１］
ましい性質を有する発泡抑制剤を開発すべく鋭意研究を
重ねた結果、ベンゼン環に特定の置換基を有すると共
に、１位にジアルキルアミノメチル基を有するベンゾト
リアゾール誘導体が、その目的に適合しうることを見い
出し、この知見に基づいて本発明を完成するに至った。
すなわち、本発明は、（１）一般式［１］
【化２】 （式中のＡは炭素数１〜１８のアルキル基、ニトロ基又
はハロゲン原子、Ｒ1及びＲ2は、それぞれ炭素数４〜１
８のアルキル基又はアルコキシアルキル基であり、それ
らはたがいに同一であってもよいし、異なっていてもよ
い）で表されるベンゾトリアゾール誘導体からなる発泡
抑制剤、を提供するものである。また、本発明の好まし
い態様は、（２）一般式［１］におけるＲ1及びＲ2が、
それぞれアルコキシ基の炭素数が１〜１４のアルコキシ
プロピル基である第（１）項記載の発泡抑制剤、（３）
一般式［１］におけるＡが炭素数４〜１８のアルキル基
である第（１）、（２）項記載の発泡抑制剤、である。
はハロゲン原子、Ｒ1及びＲ2は、それぞれ炭素数４〜１
８のアルキル基又はアルコキシアルキル基であり、それ
らはたがいに同一であってもよいし、異なっていてもよ
い）で表されるベンゾトリアゾール誘導体からなる発泡
抑制剤、を提供するものである。また、本発明の好まし
い態様は、（２）一般式［１］におけるＲ1及びＲ2が、
それぞれアルコキシ基の炭素数が１〜１４のアルコキシ
プロピル基である第（１）項記載の発泡抑制剤、（３）
一般式［１］におけるＡが炭素数４〜１８のアルキル基
である第（１）、（２）項記載の発泡抑制剤、である。
【０００５】
【発明の実施の形態】本発明の発泡抑制剤として用いら
れるベンゾトリアゾール誘導体は、一般式［１］
れるベンゾトリアゾール誘導体は、一般式［１］
【化３】 で表される構造を有するものであって、この一般式
［１］におけるＡは炭素数１〜１８のアルキル基、ニト
ロ基又はハロゲン原子を示す。ここで、炭素数１〜１８
のアルキル基は直鎖状、分岐状、環状のいずれであって
もよく、その例としては、メチル基、エチル基、ｎ−プ
ロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル
基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ヘキシル
基、オクチル基、デシル基、ドデシル基、シクロペンチ
ル基、シクロヘキシル基などが挙げられる。また、ハロ
ゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子及
びヨウ素原子が挙げられる。このＡとしては、特に炭素
数４〜１８のアルキル基が好適であり、さらに、このＡ
のベンゼン環における導入位置については特に制限はな
く、４位、５位、６位及び７位のいずれであってもよ
い。一方、一般式［１］におけるＲ1及びＲ2は、それぞ
れ炭素数４〜１８のアルキル基又はアルコキシアルキル
基を示し、これらは直鎖状、分岐状、環状のいずれであ
ってもよい。炭素数４〜１８のアルキル基の例として
は、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、
ｔｅｒｔ−ブチル基、ヘキシル基、オクチル基、デシル
基、ドデシル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基
などが挙げられる。また、炭素数４〜１８のアルコキシ
アルキル基としては、アルコキシ基の炭素数が１〜１４
のアルコキシプロピル基が好ましく、例えばブトキシプ
ロピル基、オクチルオキシプロピル基、デシルオキシプ
ロピル基などが挙げられる。このＲ1及びＲ2は、たがい
に同一であってもよいし、異なっていてもよい。本発明
の発泡抑制剤に使用される前記一般式［１］で表される
典型的なベンゾトリアゾール誘導体を第１表に示す。な
お、表におけるＡ、Ｒ1及びＲ2は、前記一般式［１］に
おける基を表す。
［１］におけるＡは炭素数１〜１８のアルキル基、ニト
ロ基又はハロゲン原子を示す。ここで、炭素数１〜１８
のアルキル基は直鎖状、分岐状、環状のいずれであって
もよく、その例としては、メチル基、エチル基、ｎ−プ
ロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル
基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ヘキシル
基、オクチル基、デシル基、ドデシル基、シクロペンチ
ル基、シクロヘキシル基などが挙げられる。また、ハロ
ゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子及
びヨウ素原子が挙げられる。このＡとしては、特に炭素
数４〜１８のアルキル基が好適であり、さらに、このＡ
のベンゼン環における導入位置については特に制限はな
く、４位、５位、６位及び７位のいずれであってもよ
い。一方、一般式［１］におけるＲ1及びＲ2は、それぞ
れ炭素数４〜１８のアルキル基又はアルコキシアルキル
基を示し、これらは直鎖状、分岐状、環状のいずれであ
ってもよい。炭素数４〜１８のアルキル基の例として
は、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、
ｔｅｒｔ−ブチル基、ヘキシル基、オクチル基、デシル
基、ドデシル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基
などが挙げられる。また、炭素数４〜１８のアルコキシ
アルキル基としては、アルコキシ基の炭素数が１〜１４
のアルコキシプロピル基が好ましく、例えばブトキシプ
ロピル基、オクチルオキシプロピル基、デシルオキシプ
ロピル基などが挙げられる。このＲ1及びＲ2は、たがい
に同一であってもよいし、異なっていてもよい。本発明
の発泡抑制剤に使用される前記一般式［１］で表される
典型的なベンゾトリアゾール誘導体を第１表に示す。な
お、表におけるＡ、Ｒ1及びＲ2は、前記一般式［１］に
おける基を表す。
【０００６】
【表１】
【０００７】前記一般式［１］で表されるベンゾトリア
ゾール誘導体の製造方法としては特に制限はなく、従来
公知の方法を用いることができる。例えば目的のベンゾ
トリアゾール誘導体に対応する１位が無置換のベンゾト
リアゾール系化合物とジアルキルアミンとを、ホルムア
ルデヒドの存在下に付加縮合させることにより、目的の
ベンゾトリアゾール誘導体を容易に製造することができ
る。本発明の発泡抑制剤の使用量としては特に制限はな
く、状況に応じて適宜選定されるが、一般的には、発泡
抑制組成物中の含有量が１〜４０重量％、好ましくは５
〜３０重量％の範囲になるように用いるのが有利であ
る。この含有量が１重量％未満では発泡抑制効果が十分
に発揮されないおそれがあるし、４０重量％を超えると
コスト的に不利になる上、発泡抑制組成物による塗布面
のブロッキング性などの問題が発生するおそれがある。
本発明の発泡抑制剤は、本発明の効果が損なわれない範
囲で、所望により、他の発泡抑制剤と併用することがで
きる。本発明の発泡抑制剤を適用する発泡性被覆材料と
しては特に限定されず、公知の材料が使用できるが、ポ
リ塩化ビニル、アクリル樹脂がこの目的には特に有効で
ある。発泡性被覆材料における発泡剤としては、アゾジ
カルボンアミド及びＮ,Ｎ−ジニトロソペンタメチレン
テトラミンが多用されている。本発明の発泡抑制剤の効
果は、以下の作用により発現されるものと推測される。
従来のトリアゾール系発泡抑制剤は昇華性が高く、発泡
剤の分解温度までの加熱中に漸次昇華されて発泡性組成
物中に拡散する量が少なくなり、ブリード又は抑制効果
不足を生ずる。これに対し、本発明の発泡抑制剤は、昇
華性が従来のトリアゾール系発泡抑制剤に比べて著しく
低いため、発泡剤の分解温度までの加熱中に発泡性組成
物中に十分拡散する。その結果、本発明の発泡抑制剤
は、従来のトリアゾール系発泡抑制剤と比較して少ない
使用量で発泡抑制効果を示し、しかもシャープなケミカ
ルエンボス効果を奏する。また本発明の発泡抑制剤は、
発泡抑制組成物中の樹脂、可塑剤、溶剤、着色剤、安定
剤などとの相溶性又は分散性に優れている。
ゾール誘導体の製造方法としては特に制限はなく、従来
公知の方法を用いることができる。例えば目的のベンゾ
トリアゾール誘導体に対応する１位が無置換のベンゾト
リアゾール系化合物とジアルキルアミンとを、ホルムア
ルデヒドの存在下に付加縮合させることにより、目的の
ベンゾトリアゾール誘導体を容易に製造することができ
る。本発明の発泡抑制剤の使用量としては特に制限はな
く、状況に応じて適宜選定されるが、一般的には、発泡
抑制組成物中の含有量が１〜４０重量％、好ましくは５
〜３０重量％の範囲になるように用いるのが有利であ
る。この含有量が１重量％未満では発泡抑制効果が十分
に発揮されないおそれがあるし、４０重量％を超えると
コスト的に不利になる上、発泡抑制組成物による塗布面
のブロッキング性などの問題が発生するおそれがある。
本発明の発泡抑制剤は、本発明の効果が損なわれない範
囲で、所望により、他の発泡抑制剤と併用することがで
きる。本発明の発泡抑制剤を適用する発泡性被覆材料と
しては特に限定されず、公知の材料が使用できるが、ポ
リ塩化ビニル、アクリル樹脂がこの目的には特に有効で
ある。発泡性被覆材料における発泡剤としては、アゾジ
カルボンアミド及びＮ,Ｎ−ジニトロソペンタメチレン
テトラミンが多用されている。本発明の発泡抑制剤の効
果は、以下の作用により発現されるものと推測される。
従来のトリアゾール系発泡抑制剤は昇華性が高く、発泡
剤の分解温度までの加熱中に漸次昇華されて発泡性組成
物中に拡散する量が少なくなり、ブリード又は抑制効果
不足を生ずる。これに対し、本発明の発泡抑制剤は、昇
華性が従来のトリアゾール系発泡抑制剤に比べて著しく
低いため、発泡剤の分解温度までの加熱中に発泡性組成
物中に十分拡散する。その結果、本発明の発泡抑制剤
は、従来のトリアゾール系発泡抑制剤と比較して少ない
使用量で発泡抑制効果を示し、しかもシャープなケミカ
ルエンボス効果を奏する。また本発明の発泡抑制剤は、
発泡抑制組成物中の樹脂、可塑剤、溶剤、着色剤、安定
剤などとの相溶性又は分散性に優れている。
【０００８】
【実施例】次に、本発明を実施例により、さらに詳細に
説明するが、本発明は、これらの例によってなんら限定
されるものではない。 実施例１ アクリル樹脂３０重量部、トルエン２５重量部、メチル
エチルケトン２５重量部及び発泡抑制剤として第１表に
示されたＮｏ.３の化合物２０重量部をミキサーで３０
分間分散し、油性の発泡抑制組成物を調製した。この発
泡抑制組成物を１３３線／インチの彫刻版にて未発泡の
塩ビ壁紙用原反に部分印刷し、発泡壁紙上に部分的に発
泡抑制部位を設け、９０℃で１分間乾燥後、２１０℃で
６０秒間加熱して発泡させ抑制効果を評価した。結果を
第２表に示す。 実施例２ 実施例１において、Ｎｏ.３の化合物の量を１５重量部
に変更した以外は、実施例１と同様にして実施した。結
果を第２表に示す。 比較例１ 実施例１において、発泡抑制剤として、Ｎｏ.３の化合
物の代わりに、ベンゾトリアゾールを使用した以外は、
実施例１と同様にして実施した。結果を第２表に示す。 比較例２ 実施例２において、発泡抑制剤として、Ｎｏ.３の化合
物の代わりに、ベンゾトリアゾールを使用した以外は、
実施例２と同様にして実施した。結果を第２表に示す。
説明するが、本発明は、これらの例によってなんら限定
されるものではない。 実施例１ アクリル樹脂３０重量部、トルエン２５重量部、メチル
エチルケトン２５重量部及び発泡抑制剤として第１表に
示されたＮｏ.３の化合物２０重量部をミキサーで３０
分間分散し、油性の発泡抑制組成物を調製した。この発
泡抑制組成物を１３３線／インチの彫刻版にて未発泡の
塩ビ壁紙用原反に部分印刷し、発泡壁紙上に部分的に発
泡抑制部位を設け、９０℃で１分間乾燥後、２１０℃で
６０秒間加熱して発泡させ抑制効果を評価した。結果を
第２表に示す。 実施例２ 実施例１において、Ｎｏ.３の化合物の量を１５重量部
に変更した以外は、実施例１と同様にして実施した。結
果を第２表に示す。 比較例１ 実施例１において、発泡抑制剤として、Ｎｏ.３の化合
物の代わりに、ベンゾトリアゾールを使用した以外は、
実施例１と同様にして実施した。結果を第２表に示す。 比較例２ 実施例２において、発泡抑制剤として、Ｎｏ.３の化合
物の代わりに、ベンゾトリアゾールを使用した以外は、
実施例２と同様にして実施した。結果を第２表に示す。
【０００９】
【表２】
【００１０】油性系で化合物Ｎｏ.３は、ベンゾトリア
ゾールと同量で優れた効果が得られるだけでなく、ベン
ゾトリアゾールより少ない量でも優れた効果が得られ
た。 実施例３ ポリアクリル樹脂エマルジョン３０重量部、ポリ塩化ビ
ニルエマルジョン３０重量部、界面活性剤１重量部、水
２０重量部及び発泡抑制剤として第１表に示されたＮ
ｏ.１の化合物２０重量部をミキサーで３０分間分散し
水性の発泡抑制組成物を調製した。この発泡抑制組成物
を１３３線／インチの彫刻版にて未発泡の塩ビ壁紙用原
反に部分印刷し、発泡壁紙上に部分的に発泡抑制部位を
設け、９０℃で１分間乾燥後、２１０℃で６０秒間加熱
して発泡させ抑制効果を評価した。結果を第３表に示
す。 実施例４ 実施例３において、発泡抑制剤として、Ｎｏ.１の化合
物の代わりに、第１表に示されたＮｏ.５の化合物を用
いた以外は、実施例３と同様にして実施した。結果を第
３表に示す。 実施例５ 実施例３において、発泡抑制剤として、Ｎｏ.１の化合
物の代わりに、第１表に示されたＮｏ.１０の化合物を
用いた以外は、実施例３と同様にして実施した。結果を
第３表に示す。 比較例３ 実施例３において、発泡抑制剤として、Ｎｏ.１の化合
物の代わりに、ベンゾトリアゾールを用いた以外は、実
施例３と同様にして実施した。結果を第３表に示す。
ゾールと同量で優れた効果が得られるだけでなく、ベン
ゾトリアゾールより少ない量でも優れた効果が得られ
た。 実施例３ ポリアクリル樹脂エマルジョン３０重量部、ポリ塩化ビ
ニルエマルジョン３０重量部、界面活性剤１重量部、水
２０重量部及び発泡抑制剤として第１表に示されたＮ
ｏ.１の化合物２０重量部をミキサーで３０分間分散し
水性の発泡抑制組成物を調製した。この発泡抑制組成物
を１３３線／インチの彫刻版にて未発泡の塩ビ壁紙用原
反に部分印刷し、発泡壁紙上に部分的に発泡抑制部位を
設け、９０℃で１分間乾燥後、２１０℃で６０秒間加熱
して発泡させ抑制効果を評価した。結果を第３表に示
す。 実施例４ 実施例３において、発泡抑制剤として、Ｎｏ.１の化合
物の代わりに、第１表に示されたＮｏ.５の化合物を用
いた以外は、実施例３と同様にして実施した。結果を第
３表に示す。 実施例５ 実施例３において、発泡抑制剤として、Ｎｏ.１の化合
物の代わりに、第１表に示されたＮｏ.１０の化合物を
用いた以外は、実施例３と同様にして実施した。結果を
第３表に示す。 比較例３ 実施例３において、発泡抑制剤として、Ｎｏ.１の化合
物の代わりに、ベンゾトリアゾールを用いた以外は、実
施例３と同様にして実施した。結果を第３表に示す。
【００１１】
【表３】
【００１２】油性系と同様、水性系においても本発明の
発泡抑制剤は優れた効果を示した。
発泡抑制剤は優れた効果を示した。
【００１３】
【発明の効果】本発明の発泡抑制剤は上述のように油
性、水性のいずれの発泡抑制組成物にも適用が可能であ
り、かつシャープな凹部を有するケミカルエンボス効果
及びその効果の持続性を有する。本発明の発泡抑制剤
は、特に水性系で使用することにより、優れた安全性及
び作業性が得られ、例えば壁紙、床材、天井材、包装
紙、ブックカバー、レザーなど多岐にわたるケミカルエ
ンボス加工の技術に広く応用することができる。
性、水性のいずれの発泡抑制組成物にも適用が可能であ
り、かつシャープな凹部を有するケミカルエンボス効果
及びその効果の持続性を有する。本発明の発泡抑制剤
は、特に水性系で使用することにより、優れた安全性及
び作業性が得られ、例えば壁紙、床材、天井材、包装
紙、ブックカバー、レザーなど多岐にわたるケミカルエ
ンボス加工の技術に広く応用することができる。
Claims (3)
- 【請求項１】一般式［１］ 【化１】 （式中のＡは炭素数１〜１８のアルキル基、ニトロ基又
はハロゲン原子、Ｒ1及びＲ2は、それぞれ炭素数４〜１
８のアルキル基又はアルコキシアルキル基であり、それ
らはたがいに同一であってもよいし、異なっていてもよ
い）で表されるベンゾトリアゾール誘導体からなる発泡
抑制剤。 - 【請求項２】一般式［１］におけるＲ1及びＲ2が、それ
ぞれアルコキシ基の炭素数が１〜１４のアルコキシプロ
ピル基である請求項１記載の発泡抑制剤。 - 【請求項３】一般式［１］におけるＡが炭素数４〜１８
のアルキル基である請求項１又は２記載の発泡抑制剤。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7175198A JPH11267407A (ja) | 1998-03-20 | 1998-03-20 | 発泡抑制剤 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7175198A JPH11267407A (ja) | 1998-03-20 | 1998-03-20 | 発泡抑制剤 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11267407A true JPH11267407A (ja) | 1999-10-05 |
Family
ID=13469559
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7175198A Pending JPH11267407A (ja) | 1998-03-20 | 1998-03-20 | 発泡抑制剤 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11267407A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1008620A3 (en) * | 1998-12-07 | 2000-11-29 | Armstrong World Industries, Inc. | Chemically embossed metallocene polyethylene foam |
| US8263313B2 (en) | 2004-08-11 | 2012-09-11 | Hitachi Chemical Company, Ltd. | Photosensitive resin composition and photosensitive film made with the same |
| EP3335895A1 (en) * | 2016-12-15 | 2018-06-20 | Ricoh Company, Ltd. | Method of forming a surface covering, apparatus for forming a surface covering and composition for forming a surface covering |
| CN115745453A (zh) * | 2021-09-02 | 2023-03-07 | 博特新材料泰州有限公司 | 一种混凝土介质传输抑制剂及其应用 |
-
1998
- 1998-03-20 JP JP7175198A patent/JPH11267407A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1008620A3 (en) * | 1998-12-07 | 2000-11-29 | Armstrong World Industries, Inc. | Chemically embossed metallocene polyethylene foam |
| US8263313B2 (en) | 2004-08-11 | 2012-09-11 | Hitachi Chemical Company, Ltd. | Photosensitive resin composition and photosensitive film made with the same |
| EP3335895A1 (en) * | 2016-12-15 | 2018-06-20 | Ricoh Company, Ltd. | Method of forming a surface covering, apparatus for forming a surface covering and composition for forming a surface covering |
| JP2018094554A (ja) * | 2016-12-15 | 2018-06-21 | 株式会社リコー | テクスチャーのある表面被覆を形成する方法、テクスチャーのある表面被覆を形成する装置、テクスチャーのある表面被覆を形成するための組成物およびテクスチャーのある表面被覆 |
| CN115745453A (zh) * | 2021-09-02 | 2023-03-07 | 博特新材料泰州有限公司 | 一种混凝土介质传输抑制剂及其应用 |
| CN115745453B (zh) * | 2021-09-02 | 2024-04-05 | 博特新材料泰州有限公司 | 一种混凝土介质传输抑制剂及其应用 |
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